JP2001059159A - Vacuum evaporation equipment - Google Patents

Vacuum evaporation equipment

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JP2001059159A
JP2001059159A JP11234279A JP23427999A JP2001059159A JP 2001059159 A JP2001059159 A JP 2001059159A JP 11234279 A JP11234279 A JP 11234279A JP 23427999 A JP23427999 A JP 23427999A JP 2001059159 A JP2001059159 A JP 2001059159A
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Japan
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pipe
reaction furnace
vacuum
reaction
exhaust gas
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JP11234279A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirohide Yamaguchi
博英 山口
Muneyoshi Shioda
宗義 塩田
Hiroshige Murata
裕茂 村田
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve safety by inhibiting the adhesion or deposition of by- products to or onto the inside of an exhaust gas pipe and also to thoroughly clean the inside of the pipe at the time of equipment cleaning by filling the pipe with water, or the like, up to a position right short of a reaction furnace body. SOLUTION: In this vacuum evaporation equipment, a metallic compound its introduced together with carrier gas into a reaction furnace 2 via a supply pipe 1, and, while performing suction by means of a vacuum pump 3, a film of the metallic compound is laminated on the surface of a vapor deposition substrate (S) by vacuum evaporation reaction in the reaction furnace 2. In the vacuum evaporation equipment, a descending inclined pipe 8 is used as a pipe for exhausting the waste gas after reaction discharged from the reaction furnace 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術の分野】本発明は、真空雰囲気内に
おいて化学反応により被蒸着物の表面に高純度の金属化
合物膜又は単体の金属膜を形成する真空蒸着装置に係
り、特に反応済みの排ガスを排出する配管内壁に副生成
物が付着又は堆積することを抑制することができる真空
蒸着装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum deposition apparatus for forming a high-purity metal compound film or a single metal film on the surface of an object to be deposited by a chemical reaction in a vacuum atmosphere. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a vacuum evaporation apparatus capable of suppressing by-products from adhering or accumulating on an inner wall of a pipe for discharging water.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、真空蒸着を行う装置は、図6
に示すように、原料となる有機金属や金属ハロゲン化物
を、供給用配管1を介してキャリヤガスと共に、被蒸着
物Sを入れた反応炉2の底部から流入するように構成し
た装置である。この反応炉2内は、真空ポンプ3により
真空状態にすると共に、この反応炉2内の加熱器4の加
熱等により前記有機金属や金属ハロゲン化物をガス化し
て反応炉2内で真空蒸着反応を完成させて被蒸着物Sの
表面に金属化合物膜又は単体の金属膜を積層する装置が
一般に用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an apparatus for performing vacuum deposition is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the apparatus is configured such that an organic metal or a metal halide as a raw material flows in through a supply pipe 1 together with a carrier gas from the bottom of a reaction furnace 2 in which a substance S to be deposited is placed. The inside of the reaction furnace 2 is evacuated by a vacuum pump 3, and the organic metal or metal halide is gasified by heating a heater 4 in the reaction furnace 2 to perform a vacuum deposition reaction in the reaction furnace 2. An apparatus that completes and deposits a metal compound film or a single metal film on the surface of the object S is generally used.

【0003】この真空蒸着装置は、その反応後に固形、
或いは液状の副生成物や余剰反応物の発生を伴うことが
ある。また、反応後の排ガスは、排ガス処理装置5で後
処理するために、反応炉2の上部から排ガス用配管6に
より排出処理していた。
[0003] This vacuum deposition apparatus, after the reaction, solid,
Alternatively, a liquid by-product or an excess reactant may be generated. Further, the exhaust gas after the reaction was discharged from the upper part of the reaction furnace 2 by an exhaust gas pipe 6 for post-processing by the exhaust gas treatment device 5.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の真
空蒸着装置では、原料となる有機金属や金属ハロゲン化
物からの排ガス等が、排ガス用配管6を通る際に温度の
低下等によって、この排ガス用配管6の内部において固
化し、又は液化してこの排ガス用配管6を詰まらせると
いう問題があった。
However, in the above-mentioned conventional vacuum vapor deposition apparatus, the temperature of the exhaust gas from the organic metal or metal halide used as a raw material when passing through the exhaust gas pipe 6 decreases. There is a problem that the exhaust gas pipe 6 is clogged by solidification or liquefaction inside the pipe 6 for exhaust gas.

【0005】また、図7に示すように、排ガス用配管6
が水平配置6aから垂直配置6bに垂下するように配管
された位置は、この垂直配置6bの手前の水平配置6a
に滞留した副生成物Fがトラップバルブ7へ向けて落下
し、その衝撃により発火することがあった。
[0005] As shown in FIG.
Is arranged so as to hang down from the horizontal arrangement 6a to the vertical arrangement 6b.
The by-product F stayed at the container may fall toward the trap valve 7 and be ignited by the impact.

【0006】なお、このような従来の真空蒸着装置の問
題を解消するために、例えば温度の低下を防止するため
に排ガス用配管6の周辺に加熱手段を設ける等の対策が
とられてきたが、このような手段はコスト負担が大き
く、しかも品質管理上の問題があった。
Incidentally, in order to solve such a problem of the conventional vacuum vapor deposition apparatus, measures have been taken, for example, to provide a heating means around the exhaust gas pipe 6 in order to prevent a temperature drop. However, such means has a large cost burden and has a problem in quality control.

【0007】一方、図8に示すように、真空蒸着装置の
排ガス用配管6内に水を充填して水洗浄する際に、従来
の水平配置6aと垂直配置6bの排ガス用配管6との組
み合わせから成る装置では、垂直配置6bの排ガス用配
管6の下部から水分を充填していき、その管内部を洗浄
していた。しかし、反応炉2内は水分を嫌うため、排ガ
ス用配管6から水が浸入しないように、反応炉2の側面
から水平に突出した水平配置6aの排ガス用配管6には
水を充填して洗浄することができず、その部分の洗浄が
不十分になるという問題もあった。
On the other hand, as shown in FIG. 8, when filling the exhaust gas pipe 6 of the vacuum evaporation apparatus with water and washing with water, a combination of the conventional horizontal arrangement 6a and the vertical arrangement 6b of the exhaust pipe 6 is used. In the apparatus composed of the above, water was filled from the lower part of the exhaust gas pipe 6 in the vertical arrangement 6b to clean the inside of the pipe. However, since the inside of the reaction furnace 2 dislikes water, the exhaust gas pipe 6 in a horizontal arrangement 6a protruding horizontally from the side of the reaction furnace 2 is filled with water and washed so that water does not enter from the exhaust gas pipe 6. There was also a problem that the cleaning could not be performed sufficiently.

【0008】本発明は、かかる問題点を解決するために
創案されたものである。すなわち、本発明の目的は、排
ガス用配管内に副生成物が付着又は堆積することを抑制
して安全性を高め、また装置洗浄時に水等を配管の反応
炉体の寸前まで充填して管内部を十分に洗浄することが
できる真空蒸着装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve such a problem. That is, an object of the present invention is to improve the safety by suppressing the by-products from adhering or accumulating in the exhaust gas pipe, and to fill the pipe with water or the like just before the reactor body of the pipe when cleaning the apparatus. An object of the present invention is to provide a vacuum deposition apparatus capable of sufficiently cleaning the inside.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、反応炉
(2)内に、金属化合物をキャリヤガスと共に供給用配
管(1)を介して導入し、真空ポンプ(3)で吸引しな
がら前記反応炉(2)内で真空蒸着反応により被蒸着物
(S)の表面に前記金属化合物膜を積層する真空蒸着装
置において、前記反応炉(2)から排出される反応済み
の排ガスを外部へ排気する配管が、勾配を有する傾斜配
管(8)であることを特徴とする真空蒸着装置が提供さ
れる。前記傾斜配管(8)は、トラップバルブ(7)へ
向けて下向きに勾配を有する配管である。
According to the present invention, a metal compound is introduced into a reaction furnace (2) together with a carrier gas through a supply pipe (1), and is sucked by a vacuum pump (3). In a vacuum deposition apparatus for stacking the metal compound film on the surface of the object to be deposited (S) by a vacuum deposition reaction in the reaction furnace (2), the reacted exhaust gas discharged from the reaction furnace (2) is sent to the outside. A vacuum evaporation apparatus is provided, wherein the exhaust pipe is an inclined pipe (8) having a gradient. The inclined pipe (8) is a pipe having a downward slope toward the trap valve (7).

【0010】上記発明の構成によれば、反応後の排ガス
は、トラップバルブ(7)へ向けて下向きに傾斜した傾
斜配管(8)を経由して排気されるため、この傾斜配管
(8)内部において生成する副生成物(F)が、下方の
トラップバルブ(7)方向へ滑り落ちやすいので、この
副生成物(F)が管内壁に付着又は堆積することがな
い。なお、トラップバルブ(7)に副生成物(F)があ
る程度溜まったらこれを除去する。また、本発明の真空
蒸着装置は、従来の装置のように排ガス用配管が水平配
置と垂直配置との組み合わせではないため、水平配置の
配管に副生成物(F)が滞留、堆積することがなく、こ
の堆積した副生成物(F)が垂直配置の配管内を落下す
ることがない。この落下による衝撃で副生成物(F)が
爆発することがない。更に、真空蒸着装置を水洗浄する
ときは、傾斜配管(8)内に水を反応炉(2)の炉体寸
前まで充填しても、この水が反応炉(2)内へ浸入しな
いので、この傾斜配管(8)内を十分に水洗浄すること
ができる。
According to the configuration of the present invention, the exhaust gas after the reaction is exhausted through the inclined pipe (8) inclined downward toward the trap valve (7). Since the by-product (F) generated in step (1) tends to slide down toward the trap valve (7) below, the by-product (F) does not adhere or accumulate on the inner wall of the tube. If a certain amount of by-product (F) accumulates in the trap valve (7), it is removed. Further, in the vacuum evaporation apparatus of the present invention, since the exhaust gas pipe is not a combination of the horizontal arrangement and the vertical arrangement as in the conventional apparatus, the by-product (F) may stay and accumulate in the horizontally arranged pipe. In addition, the deposited by-product (F) does not fall in the vertically arranged pipe. The by-product (F) does not explode due to the impact of this drop. Further, when the vacuum evaporation apparatus is washed with water, even if water is filled in the inclined pipe (8) up to just before the furnace body of the reaction furnace (2), this water does not enter the reaction furnace (2). The inside of the inclined pipe (8) can be sufficiently washed with water.

【0011】また、連結する前記傾斜配管(8)の各傾
斜角の角度差(α)は、50度以内になるようにする。
或いは、前記傾斜配管(8)を連結する部分(10)は
カーブするように連結する。
The angle difference (α) between the respective inclination angles of the inclined pipes (8) to be connected is set to be within 50 degrees.
Alternatively, the portion (10) connecting the inclined pipes (8) is connected in a curved manner.

【0012】このように構成すれば、傾斜配管(8)の
連結部分(9)は、各傾斜角の角度差(α)が50度以
内という緩やかな角度変化になるため、この折れ曲がっ
た連結部分(9)の管内壁面に副生成物(F)が衝突し
て付着、堆積することを抑制する。また、傾斜配管
(8)のカーブした連結する部分(10)は、この曲が
った管内壁面を副生成物(F)が滑りやすいので、この
連結する部分(10)に副生成物(F)が付着し堆積す
ることを抑制する。
According to this structure, the connecting portion (9) of the inclined pipe (8) has a gradual angle change in which the angle difference (α) between the respective inclination angles is within 50 degrees. The by-product (F) is prevented from colliding with and adhering to and accumulating on the inner wall surface of the pipe (9). In the curved connecting portion (10) of the inclined pipe (8), the by-product (F) is liable to slide on the bent pipe inner wall surface. It prevents adhesion and deposition.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面を参照して説明する。なお、各図において共通
の部材には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
図1は本発明の真空蒸着装置を示すものである。この図
に示すように、本発明の真空蒸着装置は、原料となる有
機金属や金属ハロゲン化物を、供給用配管1を介してキ
ャリヤガスと共に、被蒸着物Sを入れた反応炉2の底部
から流入するように構成した装置である。この反応炉2
内に設けた加熱器4の加熱等により有機金属や金属ハロ
ゲン化物をガス化して反応炉2内で真空蒸着反応を完成
させて被蒸着物Sの表面に金属化合物膜又は単体の金属
膜を積層する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, common members are denoted by the same reference numerals, and duplicate description is omitted.
FIG. 1 shows a vacuum deposition apparatus of the present invention. As shown in this figure, the vacuum evaporation apparatus of the present invention is configured such that an organic metal or a metal halide as a raw material is supplied together with a carrier gas through a supply pipe 1 from the bottom of a reaction furnace 2 in which an object S is placed. It is a device configured to flow in. This reactor 2
The organic metal or metal halide is gasified by heating of a heater 4 provided therein, and a vacuum deposition reaction is completed in the reaction furnace 2 to deposit a metal compound film or a single metal film on the surface of the deposition target S. I do.

【0014】このような反応後の排ガスは、排ガス処理
装置5で後処理するために、反応炉2の上部から排ガス
用の傾斜配管8により排出処理していた。本発明の傾斜
配管8をトラップバルブ7へ向けて下向きに傾斜して配
置した理由は、排ガスが固化又は液化して副生成物Fと
して管内部に付着したり、堆積していくことを抑制する
ためである。また、本発明では従来の装置のように垂直
配置の排ガス用配管を装置に組み込まないようにして管
内に滞留した副生成物Fの落下衝撃による発火を防止す
るためである。
The exhaust gas after such a reaction is discharged from the upper part of the reaction furnace 2 by an inclined pipe 8 for exhaust gas in order to post-process the exhaust gas in the exhaust gas treatment device 5. The reason why the inclined pipe 8 of the present invention is arranged to be inclined downward toward the trap valve 7 is that exhaust gas is prevented from solidifying or liquefying and adhering or accumulating as by-products F inside the pipe. That's why. Further, in the present invention, a vertically arranged exhaust gas pipe as in the conventional apparatus is not incorporated in the apparatus to prevent the by-product F staying in the pipe from being ignited by a drop impact.

【0015】図1において、反応炉2の左側位置に垂直
方向に配置されているように図示された傾斜配管8は、
垂直状態ではなく図示面の表面から裏面方向(又はその
逆方向)にかけて勾配を有するように配管してある。同
様に、真空ポンプ3の右側の垂直方向に配置されている
ように図示された各傾斜配管8も垂直状態ではなく、図
示面の表面から裏面方向(又はその逆方向)にかけて勾
配を有するように配管されたものである。
In FIG. 1, the inclined pipe 8 illustrated as being vertically disposed at the left side of the reaction furnace 2 includes:
The pipes are arranged so as to have a gradient not from the vertical state but from the front side of the illustrated surface to the back surface direction (or the reverse direction). Similarly, each of the inclined pipes 8 illustrated as being disposed in the vertical direction on the right side of the vacuum pump 3 is not in a vertical state, but has a gradient from the front surface of the illustrated surface to the rear surface direction (or the reverse direction). It has been plumbed.

【0016】図2は傾斜配管の連結部分を示す部分拡大
断面図である。傾斜配管8の連結部分9は、各傾斜配管
8の傾斜角の角度差αが50度以内になるように連結す
ることが望ましい。このように角度差αを50度以内に
するのは、傾斜配管8の連結部分9の角度変化を緩やか
にすることにより、配管の曲がった連結部分9において
副生成物Fが管内壁面に衝突して付着し堆積することを
抑制するためである。なお、このような連結部分9の角
度差αは、真空蒸着装置の各装置の配置状態、排ガスの
種類、即ち真空蒸着する化合物の種類又は管内部におけ
る流速等の要因により決定される。
FIG. 2 is a partially enlarged sectional view showing a connecting portion of the inclined pipe. The connecting portions 9 of the inclined pipes 8 are desirably connected so that the angle difference α between the inclination angles of the inclined pipes 8 is within 50 degrees. The reason why the angle difference α is set within 50 degrees is that the by-product F collides with the pipe inner wall surface at the bent connection part 9 of the pipe by making the angle change of the connection part 9 of the inclined pipe 8 gentle. This is for suppressing adhesion and deposition. The angle difference α of the connecting portion 9 is determined by factors such as the arrangement state of each device of the vacuum vapor deposition device, the type of exhaust gas, that is, the type of the compound to be vacuum-deposited, or the flow rate inside the pipe.

【0017】図3は本発明の傾斜配管の他の実施の形態
を示す部分拡大断面図である。この図に示すように、こ
の傾斜配管8の勾配角度は、排気方向へ下向きに10度
から80度の勾配を持たせたものである。傾斜配管8の
傾斜角度は、排気方向へ水平に対して約10度から80
度程度までの傾斜角のいずれでもよい。これは傾斜配管
8を水平配置又は垂直配置に配管しなければよいことを
意味する。なお、傾斜配管8の勾配角は限定していない
が、トラップバルブ7方向へ下向きに勾配を持たせて配
管し、傾斜配管8内部において副生成物Fが滑りやすく
なり、この副生成物Fが付着又は堆積を抑制することが
できる角度であればよい。また、個々の傾斜配管8の傾
斜角度は、各装置の配置状態や排ガスの種類等の種々の
要因により決定される。
FIG. 3 is a partially enlarged sectional view showing another embodiment of the inclined pipe of the present invention. As shown in this figure, the inclination angle of the inclined pipe 8 is set to have a gradient of 10 degrees to 80 degrees downward in the exhaust direction. The inclination angle of the inclined pipe 8 is about 10 degrees to 80 degrees with respect to the horizontal in the exhaust direction.
Any inclination angle up to about degrees may be used. This means that the inclined pipe 8 need not be arranged in a horizontal or vertical arrangement. Although the inclination angle of the inclined pipe 8 is not limited, the inclined pipe 8 is piped so as to have a downward slope in the direction of the trap valve 7, and the by-product F becomes slippery inside the inclined pipe 8, and this by-product F Any angle may be used as long as the angle can suppress adhesion or deposition. The inclination angle of each inclined pipe 8 is determined by various factors such as the arrangement state of each device and the type of exhaust gas.

【0018】図4は傾斜配管内に水を充填して洗浄する
状態を示す部分拡大断面図である。真空蒸着装置を水洗
浄する際に、本発明の傾斜配管8は従来の水平配置と垂
直配置の配管といった区別がなくなり、水分を嫌う反応
炉2の炉体の寸前まで、傾斜配管8の下部から水分を充
填していくことができるため、この傾斜配管8を十分に
水洗浄することができる。
FIG. 4 is a partially enlarged sectional view showing a state in which the inclined pipe is filled with water for cleaning. When the vacuum evaporation apparatus is washed with water, the inclined pipe 8 of the present invention is no longer distinguished from the conventional horizontal and vertical pipes, and from the bottom of the inclined pipe 8 until just before the furnace body of the reaction furnace 2 that dislikes moisture. Since the water can be filled, the inclined pipe 8 can be sufficiently washed with water.

【0019】図5は傾斜配管の連結部分をカーブした状
態を示す部分拡大断面図である。傾斜配管8を連結する
部分10は、カーブするように連結することもできる。
このように連結する部分10に緩やかなカーブを形成す
ると、副生成物Fが管内を円滑に移動できるため、副生
成物Fの付着や堆積を抑制することができる。なお、連
結する部分10のカーブ曲率についても、真空蒸着装置
の各装置の配置状態、排ガスの種類や管内部における流
速等の要因により決定される。
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing a state where the connecting portion of the inclined pipe is curved. The part 10 connecting the inclined pipes 8 may be connected in a curved manner.
If a gentle curve is formed in the connecting portion 10 as described above, the by-product F can move smoothly in the pipe, and thus the adhesion and deposition of the by-product F can be suppressed. Note that the curve curvature of the connecting portion 10 is also determined by factors such as the arrangement state of each device of the vacuum vapor deposition device, the type of exhaust gas, and the flow velocity inside the pipe.

【0020】なお、上記発明の実施の形態では、真空蒸
着装置の排ガス処理用の配管について、その内壁面に副
生成物が付着又は堆積することを抑制するために傾斜配
管を採用した構成について説明してある。しかし、各種
プラントにおいて排ガスを処理する直前の配管であっ
て、副生成物が付着又は堆積しやすい化学工学装置であ
れば、上述した真空蒸着反応の装置に限定されない。
In the embodiment of the present invention, a configuration in which an inclined pipe is adopted for a pipe for exhaust gas treatment of a vacuum evaporation apparatus to suppress by-products from adhering or depositing on the inner wall surface will be described. I have. However, the piping is not limited to the above-described vacuum vapor deposition reaction apparatus as long as it is a pipe just before treating the exhaust gas in various plants and is a chemical engineering apparatus to which by-products easily adhere or deposit.

【0021】[0021]

【発明の効果】上述したように、本発明の真空蒸着装置
は、排気方向へ傾斜した傾斜配管の内部において副生成
物が下方へ滑り落ちやすくしてあるため、これらの配管
内壁面に副生成物が付着し堆積することを抑制すること
ができる。しかも、このように副生成物が滞留して堆積
することがないので、副生成物が配管内を落下してその
衝撃で爆発することがなく安全性が高い。
As described above, in the vacuum evaporation apparatus according to the present invention, by-products are liable to slide down inside inclined pipes inclined in the exhaust direction. It is possible to suppress the adhesion and deposition of the object. In addition, since the by-products do not stay and accumulate in this way, the by-products do not fall in the pipe and do not explode due to the impact, so that the safety is high.

【0022】また、本発明の真空蒸着装置を水洗浄する
際に、反応炉に損傷を加えることなく、この反応炉体の
寸前までの配管内部を水洗浄することができるので、化
学反応を安定した状態で実施することができる。
Further, when the vacuum evaporation apparatus of the present invention is washed with water, the inside of the pipe just before the reactor can be washed with water without damaging the reactor, thereby stabilizing the chemical reaction. It can be performed in a state where it has been done.

【0023】更に、傾斜配管の連結部分を緩やかな角度
変化又はカーブするように連結したものは、副生成物の
管内壁面への衝突による付着又は堆積を抑制することが
できる、等の優れた効果がある。
Further, the connecting portion of the inclined pipe which is connected so as to have a gentle angle change or curve can suppress the adhesion or accumulation of by-products on the inner wall of the pipe due to collision. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の傾斜配管を有する真空蒸着装置の全体
構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a vacuum evaporation apparatus having an inclined pipe according to the present invention.

【図2】勾配を有する傾斜配管の連結部分を示す部分拡
大断面図である。
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a connection portion of a sloped pipe having a slope.

【図3】傾斜配管内を副生成物が滑り落ちる状態を示す
部分拡大断面図である。
FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which a by-product slides down an inclined pipe.

【図4】傾斜配管内に水を充填して洗浄する状態を示す
部分拡大断面図である。
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which water is filled in an inclined pipe to be washed.

【図5】傾斜配管の連結部分をカーブした状態を示す部
分拡大断面図である。
FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a connecting portion of the inclined pipe is curved.

【図6】従来の水平配置と垂直配置の配管の組み合わせ
から成る真空蒸着装置の全体構成図である。
FIG. 6 is an overall configuration diagram of a conventional vacuum evaporation apparatus including a combination of horizontal and vertical pipes.

【図7】従来の副生成物が水平配置の配管の途中で堆積
し、また垂直配置の配管内を落下する状態を示す部分拡
大断面図である。
FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which a conventional by-product accumulates in the middle of a horizontally arranged pipe and drops in a vertically arranged pipe.

【図8】従来の垂直配置の配管のみに水を充填して洗浄
する状態を示す部分拡大断面図である。
FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which only conventional vertically arranged pipes are filled with water for cleaning.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 供給用配管 2 反応炉 3 真空ポンプ 7 トラップバルブ 8 傾斜配管 S 被蒸着物 F 副生成物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Supply piping 2 Reactor 3 Vacuum pump 7 Trap valve 8 Inclined pipe S Deposit to be deposited F By-product

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 裕茂 東京都江東区豊洲3丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター基盤技術研究所内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Murata 3-1-1-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反応炉(2)内に、金属化合物をキャリ
ヤガスと共に供給用配管(1)を介して導入し、真空ポ
ンプ(3)で吸引しながら前記反応炉(2)内で真空蒸
着反応により被蒸着物(S)の表面に前記金属化合物膜
を積層する真空蒸着装置において、 前記反応炉(2)から排出される反応済みの排ガスを外
部へ排気する配管が、勾配を有する傾斜配管(8)であ
ることを特徴とする真空蒸着装置。
1. A metal compound is introduced into a reaction furnace (2) together with a carrier gas through a supply pipe (1), and is vacuum-deposited in the reaction furnace (2) while being sucked by a vacuum pump (3). In a vacuum deposition apparatus for laminating the metal compound film on the surface of the object to be deposited (S) by a reaction, a pipe for exhausting the reacted exhaust gas discharged from the reaction furnace (2) to the outside is a sloped pipe having a gradient. (8) A vacuum deposition apparatus, characterized in that:
【請求項2】 前記傾斜配管(8)が、トラップバルブ
(7)へ向けて下向きに勾配を有する配管であることを
特徴とする請求項1の真空蒸着装置。
2. The vacuum evaporation apparatus according to claim 1, wherein the inclined pipe is a pipe having a downward slope toward the trap valve.
【請求項3】 連結する前記傾斜配管(8)の傾斜角の
角度差(α)が、50度以内であることを特徴とする請
求項1又は2の真空蒸着装置。
3. The vacuum deposition apparatus according to claim 1, wherein an angle difference (α) between the inclination angles of the inclined pipes (8) to be connected is within 50 degrees.
【請求項4】 前記傾斜配管(8)を連結する部分(1
0)が、カーブしていることを特徴とする請求項1又は
2の真空蒸着装置。
4. A part (1) for connecting said inclined pipe (8).
The vacuum deposition apparatus according to claim 1, wherein 0) is curved.
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