JP2000093967A - 液体処理方法及び液体処理装置 - Google Patents
液体処理方法及び液体処理装置Info
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- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の液体処理装置では、プラズマを発生さ
せる為に非常に高い電圧を必要とし、エネルギーコスト
が高くなるという問題がある。そこで、印加電力量を低
減すべく印加電圧値を低く抑え、被処理液を電気化学的
に効率良く浄化殺菌処理することのできる処理方法及び
装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 管型電極１２から気体を処理槽１６内に
注入して、気泡１７を形成する。これにより電極１１，
１２間は被処理液１０と共に気体が介在した状態とな
る。蓋電極１１と管型電極１２の間に印加する高電圧パ
ルスは、低い電圧であってもプラズマを発生し、被処理
液１０が電気化学的に処理される。
せる為に非常に高い電圧を必要とし、エネルギーコスト
が高くなるという問題がある。そこで、印加電力量を低
減すべく印加電圧値を低く抑え、被処理液を電気化学的
に効率良く浄化殺菌処理することのできる処理方法及び
装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 管型電極１２から気体を処理槽１６内に
注入して、気泡１７を形成する。これにより電極１１，
１２間は被処理液１０と共に気体が介在した状態とな
る。蓋電極１１と管型電極１２の間に印加する高電圧パ
ルスは、低い電圧であってもプラズマを発生し、被処理
液１０が電気化学的に処理される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理液を電気化
学的に処理する液体処理方法及び液体処理装置に関する
ものであり、詳細には下水，屎尿，食品工場や化学工場
等から排出される産業排水，或いは廃棄物埋立て地から
の浸出水等、またこれらの二次処理水等に対して電気化
学的処理を施す方法及び装置に関するものである。
学的に処理する液体処理方法及び液体処理装置に関する
ものであり、詳細には下水，屎尿，食品工場や化学工場
等から排出される産業排水，或いは廃棄物埋立て地から
の浸出水等、またこれらの二次処理水等に対して電気化
学的処理を施す方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】下水や産業排水等に対して浄化処理が実
施されているが、近年、水道水源の微量汚染物質による
汚染が問題となってきており、窒素，燐の除去を目的と
した従来の高度処理に加えて、脱臭，脱色，殺菌，微量
汚染物質の除去等を目的とした処理方法の導入が進めら
れようとしている。また廃棄物埋立地由来の浸出水から
ダイオキシン類や内分泌攪乱物質が検出され、これらの
除去も要望されている。
施されているが、近年、水道水源の微量汚染物質による
汚染が問題となってきており、窒素，燐の除去を目的と
した従来の高度処理に加えて、脱臭，脱色，殺菌，微量
汚染物質の除去等を目的とした処理方法の導入が進めら
れようとしている。また廃棄物埋立地由来の浸出水から
ダイオキシン類や内分泌攪乱物質が検出され、これらの
除去も要望されている。
【０００３】この様な社会状況の下、微量汚染物質を除
去する等して水を再利用可能とする処理法が種々提案さ
れている。
去する等して水を再利用可能とする処理法が種々提案さ
れている。
【０００４】該処理法としては、活性炭処理法，膜分離
処理法，電気化学的処理法等があり、実用化が進められ
ているが、上記活性炭処理法は、有機性の汚染物質を吸
着除去するものであって、殺菌作用がなく、また頻繁な
活性炭の交換が必要であるという問題がある。上記膜分
離処理法は除菌可能であり、水処理という観点から優れ
た方法であるが、維持管理が煩雑でまたコストが高くつ
き、加えて使用済みの処理膜等といった廃棄物が生じる
問題がある。
処理法，電気化学的処理法等があり、実用化が進められ
ているが、上記活性炭処理法は、有機性の汚染物質を吸
着除去するものであって、殺菌作用がなく、また頻繁な
活性炭の交換が必要であるという問題がある。上記膜分
離処理法は除菌可能であり、水処理という観点から優れ
た方法であるが、維持管理が煩雑でまたコストが高くつ
き、加えて使用済みの処理膜等といった廃棄物が生じる
問題がある。
【０００５】これらの処理法に対し上記電気化学的処理
法は、汚濁物質の分解率が高く、脱臭，脱色，殺菌作用
に優れる上、二次的な廃棄物も生じず、好ましい処理方
法である。該電気化学的処理法は、被処理液に対して通
電を行ってプラズマを発生させ（放電現象）、このプラ
ズマ発生に伴って生じる衝撃波，紫外線，ラジカル，ま
た急激な電界の変化によって、被処理液中の汚濁成分を
分解除去し、また微生物の細胞膜等を破壊して殺菌する
という浄化殺菌処理法であり、これにより被処理液の消
毒，殺菌，脱色，脱臭，有機物の分解，透明度の改善，
ＢＯＤやＣＯＤの低減，有機性汚泥の減容化等を図るこ
とができる。
法は、汚濁物質の分解率が高く、脱臭，脱色，殺菌作用
に優れる上、二次的な廃棄物も生じず、好ましい処理方
法である。該電気化学的処理法は、被処理液に対して通
電を行ってプラズマを発生させ（放電現象）、このプラ
ズマ発生に伴って生じる衝撃波，紫外線，ラジカル，ま
た急激な電界の変化によって、被処理液中の汚濁成分を
分解除去し、また微生物の細胞膜等を破壊して殺菌する
という浄化殺菌処理法であり、これにより被処理液の消
毒，殺菌，脱色，脱臭，有機物の分解，透明度の改善，
ＢＯＤやＣＯＤの低減，有機性汚泥の減容化等を図るこ
とができる。
【０００６】この様な電気化学的液体処理法の装置とし
ては、例えば特開昭６１−１３６４８４号公報に示され
る装置が知られており、図３は該装置を示す断面図であ
る。
ては、例えば特開昭６１−１３６４８４号公報に示され
る装置が知られており、図３は該装置を示す断面図であ
る。
【０００７】該液体処理装置の処理槽３９は長方形の箱
型容器となっており、磁器やコンクリート等の絶縁性物
質で構成されている。該処理槽３９の内面には導電性の
板状体３８が設けられ、該板状体３８の内側空間に被処
理液１０が充満されている。処理槽３９底部の板状体３
８には導電性の凸板３７が立設して接合されており、ま
たこれら板状体３８や凸板３７の間には電極３６が設け
られ、上記板状体３８，凸板３７と電極３６が上記被処
理液１０に浸漬した状態で間隔を開けて位置している。
型容器となっており、磁器やコンクリート等の絶縁性物
質で構成されている。該処理槽３９の内面には導電性の
板状体３８が設けられ、該板状体３８の内側空間に被処
理液１０が充満されている。処理槽３９底部の板状体３
８には導電性の凸板３７が立設して接合されており、ま
たこれら板状体３８や凸板３７の間には電極３６が設け
られ、上記板状体３８，凸板３７と電極３６が上記被処
理液１０に浸漬した状態で間隔を開けて位置している。
【０００８】上記凸板３７，板状体３８と上記電極３６
間に高電圧を印加すると、プラズマが発生し、これら凸
板３７，板状体３８，電極３６間に介在する上記被処理
液１０が電気化学的に浄化殺菌処理される。
間に高電圧を印加すると、プラズマが発生し、これら凸
板３７，板状体３８，電極３６間に介在する上記被処理
液１０が電気化学的に浄化殺菌処理される。
【０００９】図４は他の従来の電気化学的液体処理装置
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【００１０】該液体処理装置の処理槽４０は円筒形をし
ており、該処理槽４０内に被処理液１０が充満されてい
る。上記処理槽４０の両端には平板型の＋電極２１と−
電極２２が備えられており、これら電極２１，２２に高
電圧を印加することによってプラズマを発生させ、処理
槽４０内の被処理液１０を浄化殺菌処理する。
ており、該処理槽４０内に被処理液１０が充満されてい
る。上記処理槽４０の両端には平板型の＋電極２１と−
電極２２が備えられており、これら電極２１，２２に高
電圧を印加することによってプラズマを発生させ、処理
槽４０内の被処理液１０を浄化殺菌処理する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の液体処理装置においては、プラズマを発生させる為に
非常に高い電圧を必要とし、エネルギーコストが高くな
るという問題がある。
の液体処理装置においては、プラズマを発生させる為に
非常に高い電圧を必要とし、エネルギーコストが高くな
るという問題がある。
【００１２】昨今、浄化殺菌処理の必要な被処理液量が
増加していることから、印加電力量を低減し、消費エネ
ルギー量を削減することは大きな関心事である。
増加していることから、印加電力量を低減し、消費エネ
ルギー量を削減することは大きな関心事である。
【００１３】そこで本発明においては、印加電力量を低
減すべく印加電圧値を低く抑え、被処理液を電気化学的
に効率良く浄化殺菌処理することのできる液体処理方法
及び液体処理装置を提供することを目的とする。
減すべく印加電圧値を低く抑え、被処理液を電気化学的
に効率良く浄化殺菌処理することのできる液体処理方法
及び液体処理装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液体処理方
法は、アノード電極とカソード電極に電圧を印加して、
該アノード電極とカソード電極間に存在する被処理液を
電気化学的に処理する液体処理方法であって、前記アノ
ード電極と前記カソード電極間に気体を介在させること
を要旨とする。
法は、アノード電極とカソード電極に電圧を印加して、
該アノード電極とカソード電極間に存在する被処理液を
電気化学的に処理する液体処理方法であって、前記アノ
ード電極と前記カソード電極間に気体を介在させること
を要旨とする。
【００１５】上記従来の液体処理法の様に電極間が被処
理液で満たされた状態では、プラズマを発生させる為に
は極めて高い電圧を印加しなければならないが、上記被
処理液と共に気体を介在させれば印加電圧を低くするこ
とができるということを本発明者らは見出し、本発明に
至った。つまり前述の様にアノード電極と前記カソード
電極間に気体を介在させることにより、印加電圧を低く
することができ、これにより消費電力量の低減、エネル
ギーコストの低減を図ることができる。
理液で満たされた状態では、プラズマを発生させる為に
は極めて高い電圧を印加しなければならないが、上記被
処理液と共に気体を介在させれば印加電圧を低くするこ
とができるということを本発明者らは見出し、本発明に
至った。つまり前述の様にアノード電極と前記カソード
電極間に気体を介在させることにより、印加電圧を低く
することができ、これにより消費電力量の低減、エネル
ギーコストの低減を図ることができる。
【００１６】介在する上記気体としては、例えば前記被
処理液中に気泡として介在させる様にすると良く、この
様に気泡とすることにより、両電極には常に被処理液が
当接している状態となり、電極を被処理液によって冷却
することができる。尚気体中に電極が露出した場合で
は、被処理液による冷却が期待されないから、放電現象
により電極が過熱し、電極成分が溶出する等、電極が消
耗する懸念がある。
処理液中に気泡として介在させる様にすると良く、この
様に気泡とすることにより、両電極には常に被処理液が
当接している状態となり、電極を被処理液によって冷却
することができる。尚気体中に電極が露出した場合で
は、被処理液による冷却が期待されないから、放電現象
により電極が過熱し、電極成分が溶出する等、電極が消
耗する懸念がある。
【００１７】更に本発明においては、前記被処理液が処
理系を移動し、前記気体介在部を通過した後、処理系外
に排出されることが好ましい。
理系を移動し、前記気体介在部を通過した後、処理系外
に排出されることが好ましい。
【００１８】プラズマは上記両電極間の気体介在部に発
生するから、該気体介在部を被処理液が通過する様にす
ることにより、該被処理液に電気化学的処理を効率良く
施すことができる。
生するから、該気体介在部を被処理液が通過する様にす
ることにより、該被処理液に電気化学的処理を効率良く
施すことができる。
【００１９】加えて本発明においては、前記気体が、酸
素及び／またはオゾンを含有することが好ましい。
素及び／またはオゾンを含有することが好ましい。
【００２０】気体にオゾンを含有させることにより、上
記被処理液にオゾンを作用させることができ、上記電気
化学的処理と共にオゾン浄化処理を併せて実施すること
ができる。
記被処理液にオゾンを作用させることができ、上記電気
化学的処理と共にオゾン浄化処理を併せて実施すること
ができる。
【００２１】また気体に酸素を含有させることにより、
上記被処理液に対して酸化分解による浄化処理を併せて
行うことができる。
上記被処理液に対して酸化分解による浄化処理を併せて
行うことができる。
【００２２】本発明に係る液体処理装置は、処理漕にア
ノード電極とカソード電極を備えた液体処理装置であっ
て、前記アノード電極と前記カソード電極間に被処理液
と共に気体を介在させるように構成したものであること
を要旨とする。
ノード電極とカソード電極を備えた液体処理装置であっ
て、前記アノード電極と前記カソード電極間に被処理液
と共に気体を介在させるように構成したものであること
を要旨とする。
【００２３】プラズマは上記両電極間に発生するもので
あるが、前述の様に電極間に気体を介在させることによ
って、従来の装置よりも低い印加電圧でプラズマを発生
させることができ、従って少ない消費電力量で被処理液
を電気化学的に処理することができる。
あるが、前述の様に電極間に気体を介在させることによ
って、従来の装置よりも低い印加電圧でプラズマを発生
させることができ、従って少ない消費電力量で被処理液
を電気化学的に処理することができる。
【００２４】更に本発明の装置においては、前記アノー
ド電極と前記カソード電極のうちの一方に気体流入口、
他方に気体放出口を設け、前記気体流入口から供給され
た気体を前記アノード電極と前記カソード電極間に導い
た後、前記気体放出口から系外に放出する様に構成した
ものであることが好ましい。
ド電極と前記カソード電極のうちの一方に気体流入口、
他方に気体放出口を設け、前記気体流入口から供給され
た気体を前記アノード電極と前記カソード電極間に導い
た後、前記気体放出口から系外に放出する様に構成した
ものであることが好ましい。
【００２５】この様に電極に気体流入口と気体放出口を
設けることにより、気体は両電極間を渡ることとなり、
従って両電極間に安定して気体を介在させることができ
る。そしてこの様に気体が安定して介在し、介在しない
状態がほとんど生じないから、プラズマ発生に必要な印
加電圧も安定して低く抑えることができる。
設けることにより、気体は両電極間を渡ることとなり、
従って両電極間に安定して気体を介在させることができ
る。そしてこの様に気体が安定して介在し、介在しない
状態がほとんど生じないから、プラズマ発生に必要な印
加電圧も安定して低く抑えることができる。
【００２６】加えて本発明においては、前記気体放出口
が前記被処理液の排出口であることが好ましい。即ち前
記気体放出口が気体及び被処理液（処理済液）の排出口
となっていることが好ましい。
が前記被処理液の排出口であることが好ましい。即ち前
記気体放出口が気体及び被処理液（処理済液）の排出口
となっていることが好ましい。
【００２７】プラズマ放電現象は気体流入口の電極と気
体放出口の電極との間で生じるが、前記気体放出口を前
記被処理液の排出口とすることにより、被処理液が必ず
プラズマの発生している箇所を通過する様になり、被処
理液の処理効率が高くなる。
体放出口の電極との間で生じるが、前記気体放出口を前
記被処理液の排出口とすることにより、被処理液が必ず
プラズマの発生している箇所を通過する様になり、被処
理液の処理効率が高くなる。
【００２８】また本発明において、被処理液中における
上記気体の形成する気泡の体積が、変更制御可能である
ことが好ましい。
上記気体の形成する気泡の体積が、変更制御可能である
ことが好ましい。
【００２９】気泡体積の大小によって、プラズマの出現
比率を制御することができ、よってプラズマ発生により
起こる被処理液の消毒，殺菌，脱色，脱臭，有機物の分
解，透明度の改善，ＢＯＤやＣＯＤの低減，汚泥の減容
化等の程度を制御することができる。従って被処理液に
対して過剰処理することによる処理エネルギーの無駄や
処理不十分を防ぎ、消毒等の処理程度を最適に実施する
ことができる。尚気泡の径は約0.1 〜10mm程度が適当で
ある。
比率を制御することができ、よってプラズマ発生により
起こる被処理液の消毒，殺菌，脱色，脱臭，有機物の分
解，透明度の改善，ＢＯＤやＣＯＤの低減，汚泥の減容
化等の程度を制御することができる。従って被処理液に
対して過剰処理することによる処理エネルギーの無駄や
処理不十分を防ぎ、消毒等の処理程度を最適に実施する
ことができる。尚気泡の径は約0.1 〜10mm程度が適当で
ある。
【００３０】また前記アノード電極と前記カソード電極
に印加する電圧がパルス状であり、該印加電圧のデュー
ティー比，振幅，パルス長のうち少なくとも１つが変更
制御可能であることが好ましく、この場合も上記と同様
にプラズマの出現比率を制御することができ、よって被
処理液について消毒等の処理程度を最適に実施すること
ができる。
に印加する電圧がパルス状であり、該印加電圧のデュー
ティー比，振幅，パルス長のうち少なくとも１つが変更
制御可能であることが好ましく、この場合も上記と同様
にプラズマの出現比率を制御することができ、よって被
処理液について消毒等の処理程度を最適に実施すること
ができる。
【００３１】
【発明の実施の形態及び実施例】図１は本発明の一実施
例に係る液体処理装置を示す断面図であり、図２は該液
体処理装置の底面図である。尚図１は図２に示すＡ−Ａ
線断面図である。
例に係る液体処理装置を示す断面図であり、図２は該液
体処理装置の底面図である。尚図１は図２に示すＡ−Ａ
線断面図である。
【００３２】上記液体処理装置の処理槽１６は、円筒形
の容器胴部１３と、該容器胴部１３の底側開口部を閉鎖
する底蓋１４と、上記容器胴部１３の上側開口部を閉鎖
する円錐形の蓋兼アノード電極（以下、蓋電極と称する
ことがある）１１とにより形成されている。上記容器胴
部１３には被処理液注入口１５が設けられ、また上記蓋
電極１１の円錐の頂点部分には排出口（気体放出口）１
１ａが設けられており、該排出口１１ａから処理済液や
気体が排出される様になっている。また底蓋１４のほぼ
中心位置に円筒形状の管型電極（気体流入口）１２が貫
通して設けられており、該管型電極１２から気体を注入
できる様になっている。尚図中、１２ａは管型電極１２
の気体取入口、１２ｂは処理槽内開口部である。
の容器胴部１３と、該容器胴部１３の底側開口部を閉鎖
する底蓋１４と、上記容器胴部１３の上側開口部を閉鎖
する円錐形の蓋兼アノード電極（以下、蓋電極と称する
ことがある）１１とにより形成されている。上記容器胴
部１３には被処理液注入口１５が設けられ、また上記蓋
電極１１の円錐の頂点部分には排出口（気体放出口）１
１ａが設けられており、該排出口１１ａから処理済液や
気体が排出される様になっている。また底蓋１４のほぼ
中心位置に円筒形状の管型電極（気体流入口）１２が貫
通して設けられており、該管型電極１２から気体を注入
できる様になっている。尚図中、１２ａは管型電極１２
の気体取入口、１２ｂは処理槽内開口部である。
【００３３】上記容器胴部１３及び上記底蓋１４はアク
リル製であって、電気絶縁性を示す。また上記蓋電極１
１及び管型電極１２はステンレス鋼製であって、良好な
導電性を示す。上記蓋電極１１は蓋であると共にアノー
ド電極としての役割を担い、また上記管型電極１２は気
体の流入管であると共にカソード電極としての役割を担
っている。
リル製であって、電気絶縁性を示す。また上記蓋電極１
１及び管型電極１２はステンレス鋼製であって、良好な
導電性を示す。上記蓋電極１１は蓋であると共にアノー
ド電極としての役割を担い、また上記管型電極１２は気
体の流入管であると共にカソード電極としての役割を担
っている。
【００３４】上記蓋電極１１（アノード電極）と上記管
型電極１２（カソード電極）には電力印加手段（図示せ
ず）が接続されており、高電圧パルスが印加可能となっ
ている。尚該電力印加手段は、高電圧パルスの波形に関
してデューティ比，振幅，パルス長のうち少なくとも１
つが変更制御可能なものである。
型電極１２（カソード電極）には電力印加手段（図示せ
ず）が接続されており、高電圧パルスが印加可能となっ
ている。尚該電力印加手段は、高電圧パルスの波形に関
してデューティ比，振幅，パルス長のうち少なくとも１
つが変更制御可能なものである。
【００３５】次に動作について説明する。
【００３６】被処理液１０を被処理液注入口１５から処
理槽１６内に注入し、処理槽１６内部を満たす。また管
型電極１２から気体（例えば酸素等）を上記処理槽１６
内に注入し、管型電極１２の処理槽内開口部１２ｂから
気泡（酸素等の気体）１７を形成する。これにより電極
１１，１２間は被処理液１０と共に気体（気泡１７）が
介在した状態（被処理液と気体の混合状態）となる。尚
被処理液１０は次々と注入口１５から注入され、処理槽
１６内を移動し、上記気体介在部を経て、排出口１１ａ
から排出される。
理槽１６内に注入し、処理槽１６内部を満たす。また管
型電極１２から気体（例えば酸素等）を上記処理槽１６
内に注入し、管型電極１２の処理槽内開口部１２ｂから
気泡（酸素等の気体）１７を形成する。これにより電極
１１，１２間は被処理液１０と共に気体（気泡１７）が
介在した状態（被処理液と気体の混合状態）となる。尚
被処理液１０は次々と注入口１５から注入され、処理槽
１６内を移動し、上記気体介在部を経て、排出口１１ａ
から排出される。
【００３７】上記蓋電極１１と上記管型電極１２の間に
高電圧パルスを印加すると、放電現象が生じてプラズマ
を発生し、該電極１１，１２間における気体と混合状態
の被処理液１０が、プラズマ発生に伴って発生したラジ
カルや衝撃波等に曝されて電気化学的に処理される。
高電圧パルスを印加すると、放電現象が生じてプラズマ
を発生し、該電極１１，１２間における気体と混合状態
の被処理液１０が、プラズマ発生に伴って発生したラジ
カルや衝撃波等に曝されて電気化学的に処理される。
【００３８】この様に被処理液に気体が介在した状態の
場合では、被処理液のみの場合に比べて低い電圧でプラ
ズマを発生させることができ、よって低エネルギーで効
率良く消毒，殺菌，脱色，有機物の分解，透明度の改
善，ＢＯＤやＣＯＤの低減を行うことができる。また被
処理液が有機性汚泥を含有する場合では、汚泥の減容化
を行い得る。そして電気化学的処理の施された処理済液
は排出口１１ａから排出される。
場合では、被処理液のみの場合に比べて低い電圧でプラ
ズマを発生させることができ、よって低エネルギーで効
率良く消毒，殺菌，脱色，有機物の分解，透明度の改
善，ＢＯＤやＣＯＤの低減を行うことができる。また被
処理液が有機性汚泥を含有する場合では、汚泥の減容化
を行い得る。そして電気化学的処理の施された処理済液
は排出口１１ａから排出される。
【００３９】また管型電極１２の開口部１２ｂから流入
された気泡１７は、蓋電極１１が円錐形であるからその
頂部の排出口１１ａにスムーズに向かい、放出される。
された気泡１７は、蓋電極１１が円錐形であるからその
頂部の排出口１１ａにスムーズに向かい、放出される。
【００４０】尚蓋電極１１の排出口１１ａと管型電極１
２の開口部１２ｂとの間の距離を約３０mmとした場合
に、印加する高電圧パルスを周波数６０Hz，振幅２０kV
p-p とすると、プラズマの発生頻度が高く、被処理液に
対して効果的に電気化学的処理を施すことができること
を実験により確認している。
２の開口部１２ｂとの間の距離を約３０mmとした場合
に、印加する高電圧パルスを周波数６０Hz，振幅２０kV
p-p とすると、プラズマの発生頻度が高く、被処理液に
対して効果的に電気化学的処理を施すことができること
を実験により確認している。
【００４１】以上の様に、本発明に係る液体処理装置及
び方法に関して、実施例を示す図面を参照しつつ具体的
に説明したが、本発明はもとより図示例に限定される訳
ではなく、前記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を
加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本
発明の技術的範囲に包含される。
び方法に関して、実施例を示す図面を参照しつつ具体的
に説明したが、本発明はもとより図示例に限定される訳
ではなく、前記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を
加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本
発明の技術的範囲に包含される。
【００４２】例えば上記実施例では気体を被処理液中に
気泡として介在させる様にしたが、これに限らず、一方
の電極を気体中に露出させ、他方の電極を被処理液に浸
漬させる様にして、電極間に気体と被処理液を介在させ
る様にしても良い。
気泡として介在させる様にしたが、これに限らず、一方
の電極を気体中に露出させ、他方の電極を被処理液に浸
漬させる様にして、電極間に気体と被処理液を介在させ
る様にしても良い。
【００４３】
【発明の効果】本発明に係る液体処理方法や液体処理装
置によれば、プラズマ発生に必要な印加電圧を低くする
ことができ、よって消費電力量を低減し、エネルギーコ
ストを低くして、効率良く被処理液を電気化学的に浄化
殺菌処理することができる。
置によれば、プラズマ発生に必要な印加電圧を低くする
ことができ、よって消費電力量を低減し、エネルギーコ
ストを低くして、効率良く被処理液を電気化学的に浄化
殺菌処理することができる。
【図１】本発明の一実施例に係る液体処理装置を示す断
面図。
面図。
【図２】図１に示す液体処理装置の底面図。
【図３】従来の液体処理装置を示す断面図。
【図４】他の従来の液体処理装置を示す断面図。
１１ 蓋電極 １１ａ 排出口 １２ 管型電極 １２ｂ 処理槽内開口部 １３ 容器胴部 １４ 底蓋 １５ 被処理液注入口 １６ 処理槽 １７ 気泡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 足立 成人 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目３番１号 株式会社神戸製鋼所高砂製作所内 (72)発明者 三浦 雅彦 神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会 社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 Ｆターム(参考） 4D061 AA08 AB01 AB15 AB18 AC03 AC06 AC08 BA13 BB01 BB04 BB07 BB16 BB34 BD03 BD06
Claims (6)
- 【請求項１】 アノード電極とカソード電極に電圧を印
加して、該アノード電極とカソード電極間に存在する被
処理液を電気化学的に処理する液体処理方法において、 前記アノード電極と前記カソード電極間に気体を介在さ
せることを特徴とする液体処理方法。 - 【請求項２】 前記被処理液は処理系を移動し、前記気
体介在部を通過した後、処理系外に排出される請求項１
に記載の液体処理方法。 - 【請求項３】 前記気体が、酸素及び／またはオゾンを
含有する請求項１または２に記載の液体処理方法。 - 【請求項４】 処理漕にアノード電極とカソード電極を
備えた液体処理装置において、 前記アノード電極と前記カソード電極間に被処理液と共
に気体を介在させるように構成したものであることを特
徴とする液体処理装置。 - 【請求項５】 前記アノード電極と前記カソード電極の
一方に気体流入口、他方に気体放出口が設けられ、 前記気体流入口から供給された気体を前記アノード電極
と前記カソード電極間に導いた後、前記気体放出口から
系外に放出する様に構成したものである請求項４に記載
の液体処理装置。 - 【請求項６】 前記気体放出口が前記被処理液の排出口
である請求項５に記載の液体処理装置。
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|---|---|---|---|
| JP27214698A JP4041224B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 液体処理方法及び液体処理装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27214698A JP4041224B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 液体処理方法及び液体処理装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000093967A true JP2000093967A (ja) | 2000-04-04 |
| JP4041224B2 JP4041224B2 (ja) | 2008-01-30 |
Family
ID=17509735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27214698A Expired - Fee Related JP4041224B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 液体処理方法及び液体処理装置 |
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| WO2012157248A1 (ja) | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
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| US9828261B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-11-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment unit, toilet seat with washer, washing machine, and liquid treatment apparatus |
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| WO2018143458A1 (ja) | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 日本スピンドル製造株式会社 | 液中プラズマ装置 |
| WO2018173485A1 (ja) | 2017-03-21 | 2018-09-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 液体処理装置 |
| CN109231514A (zh) * | 2018-09-07 | 2019-01-18 | 河北地质大学 | 实验室环境安全控制系统 |
| US10723638B2 (en) | 2017-12-01 | 2020-07-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment device |
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| JP6722903B2 (ja) | 2017-06-01 | 2020-07-15 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 空間改質装置 |
-
1998
- 1998-09-25 JP JP27214698A patent/JP4041224B2/ja not_active Expired - Fee Related
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