JP2000080117A - オレフィン重合用触媒成分の製造方法 - Google Patents
オレフィン重合用触媒成分の製造方法Info
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- JP2000080117A JP2000080117A JP25086898A JP25086898A JP2000080117A JP 2000080117 A JP2000080117 A JP 2000080117A JP 25086898 A JP25086898 A JP 25086898A JP 25086898 A JP25086898 A JP 25086898A JP 2000080117 A JP2000080117 A JP 2000080117A
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- zirconium dichloride
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オレフィンの重合に用いた場合に、嵩密度が
高く、微粉も少ない重合体を製造することができる、重
合活性が高い固体触媒成分の製造方法の提供。 【解決手段】(A)メタロセン系遷移金属化合物と活性
化剤とを接触させる工程 (B)上記(A)で得られた接触生成物にα−オレフィ
ンを接触させる工程 (C)上記(B)で得られた接触生成物にメタロセン系
遷移金属化合物を添加する工程、を含むオレフィン重合
用触媒成分の製造方法。活性化剤としては、アルミニウ
ムオキシ化合物、ルイス酸、メタロセン系遷移金属化合
物と反応してこれをカチオンに変換することが可能なイ
オン性化合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上
の化合物、又はイオン交換性層状珪酸塩を用いるのが好
ましい。
高く、微粉も少ない重合体を製造することができる、重
合活性が高い固体触媒成分の製造方法の提供。 【解決手段】(A)メタロセン系遷移金属化合物と活性
化剤とを接触させる工程 (B)上記(A)で得られた接触生成物にα−オレフィ
ンを接触させる工程 (C)上記(B)で得られた接触生成物にメタロセン系
遷移金属化合物を添加する工程、を含むオレフィン重合
用触媒成分の製造方法。活性化剤としては、アルミニウ
ムオキシ化合物、ルイス酸、メタロセン系遷移金属化合
物と反応してこれをカチオンに変換することが可能なイ
オン性化合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上
の化合物、又はイオン交換性層状珪酸塩を用いるのが好
ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン重合用
の触媒成分の製造方法に関する。詳しくは、スラリー重
合、気相重合等に適用した場合、オレフィン重合体を高
い収率で、かつ優れた粒子性状、粉体性状で得ることが
できる触媒成分の製造方法に関する。
の触媒成分の製造方法に関する。詳しくは、スラリー重
合、気相重合等に適用した場合、オレフィン重合体を高
い収率で、かつ優れた粒子性状、粉体性状で得ることが
できる触媒成分の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オレフィンを重合してオレフィン重合体
を製造するにあたり、触媒として(1)メタロセン系遷
移金属化合物および(2)アルミノキサンからなる触媒
を用いる方法が提案されている(特公平4−12283
号公報、特開平2−167307号公報等)。これらの
触媒を用いた重合方法は、チタン化合物あるいはバナジ
ウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる、いわ
ゆるチーグラー・ナッタ触媒を用いる方法と比較して遷
移金属一原子あたりの重合活性が高く、また分子量分布
や組成分布がシャープな重合体が得られるという特徴が
あるとされている。
を製造するにあたり、触媒として(1)メタロセン系遷
移金属化合物および(2)アルミノキサンからなる触媒
を用いる方法が提案されている(特公平4−12283
号公報、特開平2−167307号公報等)。これらの
触媒を用いた重合方法は、チタン化合物あるいはバナジ
ウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる、いわ
ゆるチーグラー・ナッタ触媒を用いる方法と比較して遷
移金属一原子あたりの重合活性が高く、また分子量分布
や組成分布がシャープな重合体が得られるという特徴が
あるとされている。
【0003】またメタロセン系遷移金属化合物およびア
ルミノキサンの一方あるいは両方をシリカ、アルミナ等
の無機酸化物又は有機物に担持させた触媒も提案されて
いる(特開昭60−35007号公報、同61−108
610号公報、同61−276805号公報、および同
61−296008号公報等)。また、先に本発明者ら
は高活性かつ粒子性状に優れた触媒およびこれを用いた
オレフィンの重合方法を提案している(特開平7−22
8621号公報、同9−278818号公報、同9−3
19119号公報等)。
ルミノキサンの一方あるいは両方をシリカ、アルミナ等
の無機酸化物又は有機物に担持させた触媒も提案されて
いる(特開昭60−35007号公報、同61−108
610号公報、同61−276805号公報、および同
61−296008号公報等)。また、先に本発明者ら
は高活性かつ粒子性状に優れた触媒およびこれを用いた
オレフィンの重合方法を提案している(特開平7−22
8621号公報、同9−278818号公報、同9−3
19119号公報等)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これらの技術はそれぞ
れ有効なものであるが、更に粒子性状が優れ、かつ重合
活性の良好な触媒の開発が望まれていた。
れ有効なものであるが、更に粒子性状が優れ、かつ重合
活性の良好な触媒の開発が望まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するためにメタロセン系触媒の調製方法につい
て検討を重ねた結果、このメタロセン系触媒成分を特定
の工程に従って製造することにより、この目的を達成で
きることを見出して本発明を完成するに至った。
的を達成するためにメタロセン系触媒の調製方法につい
て検討を重ねた結果、このメタロセン系触媒成分を特定
の工程に従って製造することにより、この目的を達成で
きることを見出して本発明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明の要旨は、下記工程(A)〜
(C)を含むオレフィン重合用触媒成分の製造方法、に
存している。 (A)メタロセン系遷移金属化合物と活性化剤とを接触
させる工程 (B)上記(A)で得られた接触生成物にα−オレフィ
ンを接触させる工程 (C)上記(B)で得られた接触生成物にメタロセン系
遷移金属化合物を添加する工程
(C)を含むオレフィン重合用触媒成分の製造方法、に
存している。 (A)メタロセン系遷移金属化合物と活性化剤とを接触
させる工程 (B)上記(A)で得られた接触生成物にα−オレフィ
ンを接触させる工程 (C)上記(B)で得られた接触生成物にメタロセン系
遷移金属化合物を添加する工程
【0007】また、本発明の他の要旨は、活性化剤がア
ルミニウムオキシ化合物、ルイス酸、及びメタロセン系
遷移金属化合物と反応してこれをカチオンに変換するこ
とが可能なイオン性化合物からなる群から選ばれる1種
又は2種以上の化合物、又は活性化剤がイオン交換性層
状珪酸塩である上記のオレフィン重合用触媒成分の製造
方法、前記イオン交換性層状珪酸塩が、塩類処理又は酸
処理を行うことによって得られた、水分含量が4重量%
以下のイオン交換性層状珪酸塩であること、該イオン交
換性層状珪酸塩の形状が、平均粒径5〜1000μmの
球状粒子であること、またそのイオン交換性層状珪酸塩
の粒子が、微小圧縮試験器で測定した粒子の圧壊強度が
0.2MPa以上のものであること、を特徴とする前記
のオレフィン重合用触媒成分の製造法にも存している。
ルミニウムオキシ化合物、ルイス酸、及びメタロセン系
遷移金属化合物と反応してこれをカチオンに変換するこ
とが可能なイオン性化合物からなる群から選ばれる1種
又は2種以上の化合物、又は活性化剤がイオン交換性層
状珪酸塩である上記のオレフィン重合用触媒成分の製造
方法、前記イオン交換性層状珪酸塩が、塩類処理又は酸
処理を行うことによって得られた、水分含量が4重量%
以下のイオン交換性層状珪酸塩であること、該イオン交
換性層状珪酸塩の形状が、平均粒径5〜1000μmの
球状粒子であること、またそのイオン交換性層状珪酸塩
の粒子が、微小圧縮試験器で測定した粒子の圧壊強度が
0.2MPa以上のものであること、を特徴とする前記
のオレフィン重合用触媒成分の製造法にも存している。
【0008】更に、本発明の別の要旨は、前記工程
(A)を不活性炭化水素溶媒中で行うこと、工程(B)
を有機アルミニウム化合物の存在下で行うこと、及び工
程(A)〜(C)に続いて、工程(D)として溶媒を除
去・乾燥して固体触媒成分を得る工程を行うこと、を特
徴とする前記のオレフィン重合用触媒成分の製造方法、
にも存している。
(A)を不活性炭化水素溶媒中で行うこと、工程(B)
を有機アルミニウム化合物の存在下で行うこと、及び工
程(A)〜(C)に続いて、工程(D)として溶媒を除
去・乾燥して固体触媒成分を得る工程を行うこと、を特
徴とする前記のオレフィン重合用触媒成分の製造方法、
にも存している。
【0009】
【発明の実施の形態】<メタロセン系遷移金属化合物>
本発明のオレフィン重合用触媒成分の調製方法に用いら
れるメタロセン系遷移金属化合物は、置換されていても
よい1個もしくは2個のシクロペンタジエニル環(以下
「Cp環」と記す)を含有する配位子と長周期表の3〜
6族の遷移金属原子とからなる有機金属化合物、又はそ
のカチオン型錯体である。(ここで用いる原子の周期律
表は、1989年にIUPACにより推奨された18族
方式に基づくものである。) このようなメタロセン系遷移金属化合物として好ましい
ものは、下記一般式(1)又は(2)で表される化合物
である。
本発明のオレフィン重合用触媒成分の調製方法に用いら
れるメタロセン系遷移金属化合物は、置換されていても
よい1個もしくは2個のシクロペンタジエニル環(以下
「Cp環」と記す)を含有する配位子と長周期表の3〜
6族の遷移金属原子とからなる有機金属化合物、又はそ
のカチオン型錯体である。(ここで用いる原子の周期律
表は、1989年にIUPACにより推奨された18族
方式に基づくものである。) このようなメタロセン系遷移金属化合物として好ましい
ものは、下記一般式(1)又は(2)で表される化合物
である。
【0010】
【化1】 R1 m (C5 R2 a )(C5 R3 b )MX1 X2 (1) (C5 R2 5)MX3 X4 X5 (2)
【0011】式(1)及び(2)の各記号の意味は次の
通りである。 R1 :炭素、ケイ素、ゲルマニウム等の長周期表の第1
4族元素を含む共有結合架橋基であり、2個のシクロペ
ンタジエニル環を結合するもの C5 R2 a 、C5 R3 b :それぞれ置換基を有していて
もよいシクロペンタジエン環(Cp環)。R2 又はR3
は、それぞれ全てが同一である必要はない
通りである。 R1 :炭素、ケイ素、ゲルマニウム等の長周期表の第1
4族元素を含む共有結合架橋基であり、2個のシクロペ
ンタジエニル環を結合するもの C5 R2 a 、C5 R3 b :それぞれ置換基を有していて
もよいシクロペンタジエン環(Cp環)。R2 又はR3
は、それぞれ全てが同一である必要はない
【0012】R2 、R3 :それぞれ独立して、水素原
子、ハロゲン原子、珪素含有基、炭素原子数1〜20の
炭化水素基もしくはハロゲン含有炭化水素基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基からなる群から選ば
れる、Cp環に結合した原子又は原子団であって、2個
のR2 およびR3 がCp環上の隣接する2個の炭素原子
に結合している場合は、そのω末端で互いに結合して環
を形成してもよい
子、ハロゲン原子、珪素含有基、炭素原子数1〜20の
炭化水素基もしくはハロゲン含有炭化水素基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基からなる群から選ば
れる、Cp環に結合した原子又は原子団であって、2個
のR2 およびR3 がCp環上の隣接する2個の炭素原子
に結合している場合は、そのω末端で互いに結合して環
を形成してもよい
【0013】m:0又は1 a、b:R2 、R3 の数を表す4又は5の整数であっ
て、それぞれm=0のときは5、m=1のときは4であ
る M:チタン、ジルコニウム、及びハフニウムからなる群
から選ばれる遷移金属原子 X1 〜X5 :それぞれ独立してハロゲン原子、水素原
子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミド基、トリフルオロメタンスル
ホン酸基からなる群から選ばれる原子または置換基
て、それぞれm=0のときは5、m=1のときは4であ
る M:チタン、ジルコニウム、及びハフニウムからなる群
から選ばれる遷移金属原子 X1 〜X5 :それぞれ独立してハロゲン原子、水素原
子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミド基、トリフルオロメタンスル
ホン酸基からなる群から選ばれる原子または置換基
【0014】式(1)において、R1 は炭素、ケイ素、
ゲルマニウム等の長周期表の第14族元素を含む共有結
合架橋基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基
のようなアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン
基、イソプロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフ
ェニルメチリデン基のようなアルキリデン基、ジメチル
シリレン基、ジエチルシリレン基、ジプロピルシリレン
基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン
基、メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン
基、メチルイソプロピルシリレン基、メチル−t−ブチ
ルシリレン基のようなケイ素含有架橋基、ジメチルゲル
ミレン基、ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレ
ン基、ジイソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミ
レン基、メチルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲ
ルミレン基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル
−t−ブチルゲルミレン基のようなゲルマニウム含有架
橋基等、アルキルホスフィニル基、イミノ基等が挙げら
れる。これらのうち、アルキレン基、アルキリデン基、
およびケイ素含有架橋基等が特に好ましく用いられる。
ゲルマニウム等の長周期表の第14族元素を含む共有結
合架橋基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基
のようなアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン
基、イソプロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフ
ェニルメチリデン基のようなアルキリデン基、ジメチル
シリレン基、ジエチルシリレン基、ジプロピルシリレン
基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン
基、メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン
基、メチルイソプロピルシリレン基、メチル−t−ブチ
ルシリレン基のようなケイ素含有架橋基、ジメチルゲル
ミレン基、ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレ
ン基、ジイソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミ
レン基、メチルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲ
ルミレン基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル
−t−ブチルゲルミレン基のようなゲルマニウム含有架
橋基等、アルキルホスフィニル基、イミノ基等が挙げら
れる。これらのうち、アルキレン基、アルキリデン基、
およびケイ素含有架橋基等が特に好ましく用いられる。
【0015】C5 R2 a 、C5 R3 b はそれぞれ置換基
を有していてもよいシクロペンタジエン環(Cp環)で
あり、R2 、R3 はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、珪素含有基、炭素原子数1〜20の炭化水素
基または炭素原子数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基からな
る群から選ばれる、Cp環に結合した原子又は原子団で
ある。なおR2 又はR3は、それぞれ全てが同一である
必要はない。
を有していてもよいシクロペンタジエン環(Cp環)で
あり、R2 、R3 はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、珪素含有基、炭素原子数1〜20の炭化水素
基または炭素原子数1〜20のハロゲン含有炭化水素
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基からな
る群から選ばれる、Cp環に結合した原子又は原子団で
ある。なおR2 又はR3は、それぞれ全てが同一である
必要はない。
【0016】この具体例としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等の珪素含
有基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−ノニル基、n
−デシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、ナフ
チル基等の炭素原子数1〜20の炭化水素基、またはモ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオ
ロメチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、ペン
タフルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−
フルオロフェニル基、モノクロロメチル基、モノブロモ
メチル基、などの炭素原子数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、4−メチル
フェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基等のアリール
オキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジシクロヘ
キシルアミノ基、ピリジル基、インドリル基等のアミノ
基等があげられる。これらのうち特に好ましいのは、水
素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基、n−ブチル基、シクロヘキシル基等の炭素原
子数1〜6のアルキル基もしくはシクロアルキル基、又
はフェニル基である。
素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等の珪素含
有基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−ノニル基、n
−デシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基、ナフ
チル基等の炭素原子数1〜20の炭化水素基、またはモ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオ
ロメチル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、ペン
タフルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−
フルオロフェニル基、モノクロロメチル基、モノブロモ
メチル基、などの炭素原子数1〜20のハロゲン含有炭
化水素基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、4−メチル
フェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基等のアリール
オキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジシクロヘ
キシルアミノ基、ピリジル基、インドリル基等のアミノ
基等があげられる。これらのうち特に好ましいのは、水
素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基、n−ブチル基、シクロヘキシル基等の炭素原
子数1〜6のアルキル基もしくはシクロアルキル基、又
はフェニル基である。
【0017】また、ここで2個のR2 およびR3 がCp
環上の隣接する2個の炭素原子に結合している場合は、
そのω末端で互いに結合して環を形成してもよく、その
具体例としては、炭素原子数4〜7の環状基、即ちイン
デニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル
基、オクタヒドロフルオレニル基、アズレニル基、テト
ラヒドロアズレニル基等が挙げられる。
環上の隣接する2個の炭素原子に結合している場合は、
そのω末端で互いに結合して環を形成してもよく、その
具体例としては、炭素原子数4〜7の環状基、即ちイン
デニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル
基、オクタヒドロフルオレニル基、アズレニル基、テト
ラヒドロアズレニル基等が挙げられる。
【0018】mは2個のシクロペンタジエニル環を架橋
基R1 を介して結合しない場合は0であり、結合する場
合は1である。a、bはR2 、R3 の数を表す4又は5
の整数であって、それぞれm=0のときは5、m=1の
ときは4である。
基R1 を介して結合しない場合は0であり、結合する場
合は1である。a、bはR2 、R3 の数を表す4又は5
の整数であって、それぞれm=0のときは5、m=1の
ときは4である。
【0019】X1 〜X5 はそれぞれ独立して水素原子、
塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル
基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−ノニル
基、n−デシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基
等の炭素原子数1〜20の炭化水素基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、ペンタメ
チルフェノキシ基等のアリールオキシ基、ジメチルアミ
ド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジ
フェニルアミド基、ジシクロヘキシルアミド基等のアミ
ド基、トリフルオロメタンスルホン酸基からなる群から
選ばれる原子または置換基を示す。
塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル
基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−ノニル
基、n−デシル基、フェニル基、4−メチルフェニル基
等の炭素原子数1〜20の炭化水素基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、ペンタメ
チルフェノキシ基等のアリールオキシ基、ジメチルアミ
ド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジ
フェニルアミド基、ジシクロヘキシルアミド基等のアミ
ド基、トリフルオロメタンスルホン酸基からなる群から
選ばれる原子または置換基を示す。
【0020】これらの中では、水素原子、塩素原子、メ
チル基、エチル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド
基、およびトリフルオロメタンスルホン酸基が好まし
い。このような本発明に用いられるメタロセン系遷移金
属化合物の具体例として、下記の化合物を挙げることが
できる。
チル基、エチル基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド
基、およびトリフルオロメタンスルホン酸基が好まし
い。このような本発明に用いられるメタロセン系遷移金
属化合物の具体例として、下記の化合物を挙げることが
できる。
【0021】(1)アルキル基、シクロアルキル基、ま
たはフェニル基でモノ置換されたペンタジエニル基を有
するもの ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ビス(n−プロピルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(i−
プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(i−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(t−ブチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビ
ス(シクロペンチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(シクロヘキシルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(フェニルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(ベンジルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
ライド
たはフェニル基でモノ置換されたペンタジエニル基を有
するもの ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ビス(n−プロピルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(i−
プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(i−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(t−ブチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビ
ス(シクロペンチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(シクロヘキシルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(フェニルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(ベンジルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
ライド
【0022】(2)アルキル基、シクロアルキル基、ま
たはフェニル基でジ置換以上(トリ、テトラ、ペンタ置
換)されたペンタジエニル基を有するもの ビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(1,3−ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1,
2,3−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(1,2,4−トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1−エチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロライド、ビス(1−n−プロピル−3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(1−i−プロピル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1−n−
ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(1−i−ブチル−3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1−t−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、ビス(1−シクロヘキシル
−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド
たはフェニル基でジ置換以上(トリ、テトラ、ペンタ置
換)されたペンタジエニル基を有するもの ビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(1,3−ジメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1,
2,3−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(1,2,4−トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(ペンタメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1−エチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロライド、ビス(1−n−プロピル−3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(1−i−プロピル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1−n−
ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(1−i−ブチル−3−メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(1−t−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、ビス(1−シクロヘキシル
−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド
【0023】(3)Cp環上の隣接する2個の炭素原子
に結合した置換基が環を形成しているもの ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ビス(2−メチルインデニル)ジル
コニウムジクロライド、ビス(2,4−ジメチルインデ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(2−メチル−
4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウ
ムジクロライド、シクロペンタジエニルフルオレニルジ
ルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルオクタ
ヒドロインデニルジルコニウムジクロライド、ビス(ア
ズレニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(4H−
5,6,7,8−テトラヒドロアズレニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(2−メチル−4H−5,6,
7,8−テトラヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロ
ライド
に結合した置換基が環を形成しているもの ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ビス(2−メチルインデニル)ジル
コニウムジクロライド、ビス(2,4−ジメチルインデ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(2−メチル−
4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウ
ムジクロライド、シクロペンタジエニルフルオレニルジ
ルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルオクタ
ヒドロインデニルジルコニウムジクロライド、ビス(ア
ズレニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(4H−
5,6,7,8−テトラヒドロアズレニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ビス(2−メチル−4H−5,6,
7,8−テトラヒドロアズレニル)ジルコニウムジクロ
ライド
【0024】(4)m=1、即ち架橋基を有するもの ジメチルシランジイルビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(2−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイルビス(3−メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシランジイルビス(3―エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
ビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(3−ト
リメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイルビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(2−メ
チルインデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチル
シランジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジ
イルビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ
インデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシラ
ンジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(2−メチル−4−ナフチルインデニル)ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシランジイルビス(4,5−ベンゾインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、1,2−エタンジイルビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2−メ
チルインデニル)ジルコニウムジクロライド、1,2−
エタンジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2
−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス
(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(2−メチル−4−フェニル
インデニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリ
デンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(2
−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス
(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド
ルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(2−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシランジイルビス(3−メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシランジイルビス(3―エチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイル
ビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(3−ト
リメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシランジイルビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス(2−メ
チルインデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチル
シランジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジ
イルビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ
インデニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシラ
ンジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシランジイルビス
(2−メチル−4−ナフチルインデニル)ジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシランジイル(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
ジメチルシランジイルビス(4,5−ベンゾインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、1,2−エタンジイルビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2−メ
チルインデニル)ジルコニウムジクロライド、1,2−
エタンジイルビス(2−メチル−4−フェニルインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2
−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス
(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(2−メチル−4−フェニル
インデニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリ
デンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(2
−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデンビス
(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド
【0025】また、これらの化合物の遷移金属原子がチ
タン又はハフニウムで置換されたメタロセン系遷移金属
化合物を用いてもよく、またその「ジクロライド」部分
の塩素原子の一方又は両方が水素原子、メチル基、ジエ
チルアミド基、メトキシド基等に置き換わった化合物も
用いられる。
タン又はハフニウムで置換されたメタロセン系遷移金属
化合物を用いてもよく、またその「ジクロライド」部分
の塩素原子の一方又は両方が水素原子、メチル基、ジエ
チルアミド基、メトキシド基等に置き換わった化合物も
用いられる。
【0026】上記の化合物中では、ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(エ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(n−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1,3−ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(1−エチル−3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1−n−ブチル
−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジクロ
ライド、ビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ビス(4,5,6,7−テトラヒド
ロインデニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(2−
メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジ
ルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
1,2−エタンジイルビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2−メチル
インデニル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタ
ンジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、イソプロピリデンビス(2−メチルイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(2−メ
チル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、及びこれらの化合物の遷移金属
原子がハフニウムに置き換わったもの、又は「ジクロラ
イド」部分の塩素原子の両方が水素原子、メチル基、ジ
エチルアミド基に置換したジヒドリド体、ジメチル体、
ビス(ジエチルアミド)体が好ましい。
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(エ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ビス(n−ブチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1,3−ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(1−エチル−3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(1−n−ブチル
−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロライド、ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジクロ
ライド、ビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ビス(4,5,6,7−テトラヒド
ロインデニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(2−
メチル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジ
ルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイルビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
1,2−エタンジイルビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、1,2−エタンジイルビス(2−メチル
インデニル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタ
ンジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、1,2−エタンジイル
ビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、イソプロピリデンビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロライド、イソプロピリデンビス(2−メチルイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、イソプロピリデンビス(2−メ
チル−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロライド、及びこれらの化合物の遷移金属
原子がハフニウムに置き換わったもの、又は「ジクロラ
イド」部分の塩素原子の両方が水素原子、メチル基、ジ
エチルアミド基に置換したジヒドリド体、ジメチル体、
ビス(ジエチルアミド)体が好ましい。
【0027】なお、これらのメタロセン系遷移金属化合
物に不斉炭素が生じる場合には、特に記載がない場合、
立体異性体の一つまたはその二つ以上の混合物(ラセミ
体を含む)を示す。また、式(2)で示されるメタロセ
ン系遷移金属化合物の例としては、下記の化合物を挙げ
ることができる。
物に不斉炭素が生じる場合には、特に記載がない場合、
立体異性体の一つまたはその二つ以上の混合物(ラセミ
体を含む)を示す。また、式(2)で示されるメタロセ
ン系遷移金属化合物の例としては、下記の化合物を挙げ
ることができる。
【0028】シクロペンタジエニルトリメチルチタン、
シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、メチルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン、イソプロピルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン、1,2−ジメチル
シクロペンタジエニルトリメチルチタン、ペンタメチル
シクロペンタジエニルトリメチルチタン、ペンタメチル
シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、インデニル
トリエチルチタン、2−メチルインデニルトリエチルチ
タン、2,4−ジメチルインデニルトリエチルチタン、
テトラヒドロインデニルトリエチルチタン、2−メチル
テトラヒドロインデニルトリエチルチタン、及びそのチ
タン原子がジルコニウム又はハフニウムに置き換わった
化合物。これらの化合物のチタンに結合しているアルキ
ル基の少なくとも一つがハロゲン原子、アルコキシ基、
アリールオキシ基に置換した化合物も用いることができ
る。
シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、メチルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン、イソプロピルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン、1,2−ジメチル
シクロペンタジエニルトリメチルチタン、ペンタメチル
シクロペンタジエニルトリメチルチタン、ペンタメチル
シクロペンタジエニルトリプロピルチタン、インデニル
トリエチルチタン、2−メチルインデニルトリエチルチ
タン、2,4−ジメチルインデニルトリエチルチタン、
テトラヒドロインデニルトリエチルチタン、2−メチル
テトラヒドロインデニルトリエチルチタン、及びそのチ
タン原子がジルコニウム又はハフニウムに置き換わった
化合物。これらの化合物のチタンに結合しているアルキ
ル基の少なくとも一つがハロゲン原子、アルコキシ基、
アリールオキシ基に置換した化合物も用いることができ
る。
【0029】<活性化剤>本発明において活性化剤とし
て用いられる化合物は、(イ)アルミニウムオキシ化合
物(ロ)ルイス酸及び(ハ)メタロセン系遷移金属化合
物と反応してこれをカチオンに変換する事が可能なイオ
ン性化合物、からなる群から選ばれる少なくとも1種の
化合物、又はイオン交換性層状珪酸塩である。
て用いられる化合物は、(イ)アルミニウムオキシ化合
物(ロ)ルイス酸及び(ハ)メタロセン系遷移金属化合
物と反応してこれをカチオンに変換する事が可能なイオ
ン性化合物、からなる群から選ばれる少なくとも1種の
化合物、又はイオン交換性層状珪酸塩である。
【0030】アルミニウムオキシ化合物としては、一般
式(R−Al−O)n で示されるような環状化合物や、
一般式R(R−Al−O)n AlR2 で示されるような
鎖状化合物が用いられる。ここでRは一般に、炭素原子
数1〜8のアルキル基であり、nは1〜20前後の整数
である。このような化合物は、トリアルキルアルミニウ
ムの有機溶媒(例:ベンゼン)溶液と水とを接触させた
り、トリアルキルアルミニウムを例えば硫酸銅水和物等
の水和塩と接触させる事により得ることができる。
式(R−Al−O)n で示されるような環状化合物や、
一般式R(R−Al−O)n AlR2 で示されるような
鎖状化合物が用いられる。ここでRは一般に、炭素原子
数1〜8のアルキル基であり、nは1〜20前後の整数
である。このような化合物は、トリアルキルアルミニウ
ムの有機溶媒(例:ベンゼン)溶液と水とを接触させた
り、トリアルキルアルミニウムを例えば硫酸銅水和物等
の水和塩と接触させる事により得ることができる。
【0031】ルイス酸としてはマグネシウム含有ルイス
酸、アルミニウム含有ルイス酸、ホウ素含有ルイス酸な
どが挙げられ、特にホウ素含有ルイス酸が好ましい。ホ
ウ素含有ルイス酸の具体例としてはトリフルオロボラ
ン、トリフェニルボラン、トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボラン等が挙げられ、特にトリス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボランが好ましい。
酸、アルミニウム含有ルイス酸、ホウ素含有ルイス酸な
どが挙げられ、特にホウ素含有ルイス酸が好ましい。ホ
ウ素含有ルイス酸の具体例としてはトリフルオロボラ
ン、トリフェニルボラン、トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボラン等が挙げられ、特にトリス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボランが好ましい。
【0032】メタロセン系遷移金属化合物と反応してこ
れをカチオンに変換することが可能なイオン性化合物
は、カチオン性化合物とアニオン性化合物とからなる塩
であり、前記メタロセン系遷移金属化合物と反応するこ
とにより、これをカチオン化し、このカチオンとアニオ
ン部とがイオン対を形成することによりカチオンを安定
化させる働きを示す。これらの化合物の中で好ましく用
いられるのはホウ素原子を含有するイオン性化合物であ
り、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウ
ムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フ
ェロセニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレー
トなどが挙げられ、特にN,N−ジメチルアニリニウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好まし
い。
れをカチオンに変換することが可能なイオン性化合物
は、カチオン性化合物とアニオン性化合物とからなる塩
であり、前記メタロセン系遷移金属化合物と反応するこ
とにより、これをカチオン化し、このカチオンとアニオ
ン部とがイオン対を形成することによりカチオンを安定
化させる働きを示す。これらの化合物の中で好ましく用
いられるのはホウ素原子を含有するイオン性化合物であ
り、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウ
ムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フ
ェロセニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレー
トなどが挙げられ、特にN,N−ジメチルアニリニウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレートが好まし
い。
【0033】イオン交換性層状珪酸塩は、イオン結合等
によって構成される面が互いに弱いイオン結合力等で平
行に積み重なった結晶構造をとる珪酸塩化合物であり、
含有するイオンが交換可能なものを言う。イオン交換性
層状珪酸塩は、天然には主に粘土鉱物の主成分として産
出されるが、これら、イオン交換性層状珪酸塩は天然の
ものに限らず、人工合成物であってもよい。
によって構成される面が互いに弱いイオン結合力等で平
行に積み重なった結晶構造をとる珪酸塩化合物であり、
含有するイオンが交換可能なものを言う。イオン交換性
層状珪酸塩は、天然には主に粘土鉱物の主成分として産
出されるが、これら、イオン交換性層状珪酸塩は天然の
ものに限らず、人工合成物であってもよい。
【0034】このようなイオン交換性層状珪酸塩の具体
例としては、ディッカイト、ナクライト、カオリナイ
ト、アノーキサイト、メタハロイサイト、ハロイサイト
等のカオリン族、クリソタイル、リザルダイト、アンチ
ゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイ
ト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ベン
トナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等のスメク
タイト族、バーミキュライト等のバーミキュライト族、
イライト、セリサイト、海緑石等の雲母族、アタパルジ
ャイト、セピオライト、パリゴルスカイト、パイロフィ
ライト、タルク、緑泥石群、アロフェン、イモゴライト
等が挙げらる。これらは混合層を形成していてもよい。
例としては、ディッカイト、ナクライト、カオリナイ
ト、アノーキサイト、メタハロイサイト、ハロイサイト
等のカオリン族、クリソタイル、リザルダイト、アンチ
ゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイ
ト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ベン
トナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等のスメク
タイト族、バーミキュライト等のバーミキュライト族、
イライト、セリサイト、海緑石等の雲母族、アタパルジ
ャイト、セピオライト、パリゴルスカイト、パイロフィ
ライト、タルク、緑泥石群、アロフェン、イモゴライト
等が挙げらる。これらは混合層を形成していてもよい。
【0035】これらの中では、モンモリロナイト、ザウ
コナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイ
ト、ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、
テニオライト等のスメクタイト族、バーミキュライト
族、及び雲母族が好ましい。これらのイオン交換性層状
珪酸塩は特に処理を行うことなくそのまま用いてもよい
し、ボールミル、篩粉等の造粒・分級処理や、塩酸、硫
酸、リン酸等の無機酸やギ酸、酢酸、安息香酸等の有機
酸あるいはヘテロポリ酸のようなポリ酸類との接触によ
る酸処理等の処理を行った上で用いてもよい。また単独
で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
コナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイ
ト、ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、
テニオライト等のスメクタイト族、バーミキュライト
族、及び雲母族が好ましい。これらのイオン交換性層状
珪酸塩は特に処理を行うことなくそのまま用いてもよい
し、ボールミル、篩粉等の造粒・分級処理や、塩酸、硫
酸、リン酸等の無機酸やギ酸、酢酸、安息香酸等の有機
酸あるいはヘテロポリ酸のようなポリ酸類との接触によ
る酸処理等の処理を行った上で用いてもよい。また単独
で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
【0036】上記のイオン交換性層状珪酸塩は、そのイ
オン交換性を利用して層間の陽イオンを他の陽イオンと
交換することが出来る。具体的には層間に存在するNa
+ 、Li+ 等のアルカリ金属イオンを、他の陽イオンを
持つ塩類、酸、アルカリ、有機化合物等との処理によっ
て置換する。
オン交換性を利用して層間の陽イオンを他の陽イオンと
交換することが出来る。具体的には層間に存在するNa
+ 、Li+ 等のアルカリ金属イオンを、他の陽イオンを
持つ塩類、酸、アルカリ、有機化合物等との処理によっ
て置換する。
【0037】このイオン交換の方法は特に限定されず、
例えば、塩類、酸、アルカリまたは有機化合物の水溶液
に前記イオン交換性層状珪酸塩を分散させて撹拌するこ
とによりイオン交換を行うことができる。この際、塩
類、酸、アルカリまたは有機化合物の濃度、温度、処理
時間等を選択することによりイオン交換量を所望の値に
調整することが出来る。
例えば、塩類、酸、アルカリまたは有機化合物の水溶液
に前記イオン交換性層状珪酸塩を分散させて撹拌するこ
とによりイオン交換を行うことができる。この際、塩
類、酸、アルカリまたは有機化合物の濃度、温度、処理
時間等を選択することによりイオン交換量を所望の値に
調整することが出来る。
【0038】こうしたイオン交換処理に用いる酸類は上
述の酸処理用の酸を用いることができる。また、塩化ア
ンモニウム、硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩類で
処理した上、加熱する事によっても層間の陽イオンが交
換できる。また、2〜14族原子から選ばれた少なくと
も一種の原子を含む陽イオンと、少なくとも一種の陰イ
オンとからなる塩類をイオン交換処理に用いることもで
き、このような塩類としては、マグネシウム、アルミニ
ウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コ
バルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム、スズ等の
塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸塩、硝酸塩、塩素酸
塩、過塩素酸塩が挙げられる。
述の酸処理用の酸を用いることができる。また、塩化ア
ンモニウム、硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩類で
処理した上、加熱する事によっても層間の陽イオンが交
換できる。また、2〜14族原子から選ばれた少なくと
も一種の原子を含む陽イオンと、少なくとも一種の陰イ
オンとからなる塩類をイオン交換処理に用いることもで
き、このような塩類としては、マグネシウム、アルミニ
ウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コ
バルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム、スズ等の
塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸塩、硝酸塩、塩素酸
塩、過塩素酸塩が挙げられる。
【0039】また、イオン交換可能な有機化合物として
は、モノブチルアンモニウムイオン、ジブチルアンモニ
ムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、テトラブチ
ルアンモウムイオン、アニリニウムイオン、ジメチルア
ニリニウムイオン、テトラフェニルホスホニウムイオ
ン、テトラブチルホスホニウムイオン等の少なくとも一
つの炭化水素置換基を有するアンモニウムイオンやホス
ホニウムイオン等を有する有機化合物が挙げられる。ま
た、ポルフィリン、クラウンエーテル錯塩等の有機金属
化合物も導入可能である。
は、モノブチルアンモニウムイオン、ジブチルアンモニ
ムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、テトラブチ
ルアンモウムイオン、アニリニウムイオン、ジメチルア
ニリニウムイオン、テトラフェニルホスホニウムイオ
ン、テトラブチルホスホニウムイオン等の少なくとも一
つの炭化水素置換基を有するアンモニウムイオンやホス
ホニウムイオン等を有する有機化合物が挙げられる。ま
た、ポルフィリン、クラウンエーテル錯塩等の有機金属
化合物も導入可能である。
【0040】なお、処理条件を選択することによって、
層構造中の原子を交換することも可能である。これらの
イオン交換性層状珪酸塩を本発明方法に用いて得られた
触媒成分を重合に用いる際には、使用する重合装置に応
じてどのような形状で使用してもかまわない。特に気相
重合法、スラリー重合法等に適用する場合には、平均粒
径が5μmから1000μmの球状粒子に造粒して使用
することにより、触媒及び得られる重合体の嵩密度を高
くすることが出来るので運転面で有利である。粒子径は
20〜100μmであるのが、更に好ましい。
層構造中の原子を交換することも可能である。これらの
イオン交換性層状珪酸塩を本発明方法に用いて得られた
触媒成分を重合に用いる際には、使用する重合装置に応
じてどのような形状で使用してもかまわない。特に気相
重合法、スラリー重合法等に適用する場合には、平均粒
径が5μmから1000μmの球状粒子に造粒して使用
することにより、触媒及び得られる重合体の嵩密度を高
くすることが出来るので運転面で有利である。粒子径は
20〜100μmであるのが、更に好ましい。
【0041】このようなイオン交換性層状珪酸塩の粒子
は、微小圧縮試験器で測定した圧壊強度が0.2MPa
以上のものであると更に好ましい。また、これらのイオ
ン交換性層状珪酸塩は、メタロセン系遷移金属化合物と
反応させる前に、例えば200℃で減圧乾燥させて、水
分含量を4重量%以下としておくと、含まれる水分によ
って触媒活性が阻害されることもなく好ましい。
は、微小圧縮試験器で測定した圧壊強度が0.2MPa
以上のものであると更に好ましい。また、これらのイオ
ン交換性層状珪酸塩は、メタロセン系遷移金属化合物と
反応させる前に、例えば200℃で減圧乾燥させて、水
分含量を4重量%以下としておくと、含まれる水分によ
って触媒活性が阻害されることもなく好ましい。
【0042】<固体担体>本発明においては、工程
(A)において、メタロセン系遷移金属化合物と活性化
剤とを接触させる際に、固体担体を共存させてもよい。
ここで用いる固体担体としては、特に限定はされず、例
えばSiO2 、Al2 O3 、MgO、ZrO2、TiO
2 、B2 O3 、CaO、ZnO、BaO等の金属酸化物
又はこれらの混合物等の無機化合物、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等の重合体粒子等の有機物
が例示できる。これらの中では特にSiO2 、Al2 O
3 あるいはこれらの混合物が好適である。
(A)において、メタロセン系遷移金属化合物と活性化
剤とを接触させる際に、固体担体を共存させてもよい。
ここで用いる固体担体としては、特に限定はされず、例
えばSiO2 、Al2 O3 、MgO、ZrO2、TiO
2 、B2 O3 、CaO、ZnO、BaO等の金属酸化物
又はこれらの混合物等の無機化合物、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等の重合体粒子等の有機物
が例示できる。これらの中では特にSiO2 、Al2 O
3 あるいはこれらの混合物が好適である。
【0043】<工程(A):メタロセン系遷移金属化合
物と活性化剤との接触>メタロセン系遷移金属化合物と
活性化剤との接触処理の方法は特に限定されないが、例
えば窒素等の不活性ガス雰囲気下、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン等のパラフィン系炭化水素やベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒のような不活
性炭化水素溶媒中で行うのが好ましい。接触条件は特に
制限されないが、例えば接触温度は−20℃から150
℃の間で行うのが一般的であり、特に室温から溶媒の沸
点の間で行うのがよく、接触時間は数分から数時間の範
囲が一般的である。また、活性化剤としてイオン交換性
層状珪酸塩を用いる場合、この活性化剤とメタロセン系
遷移金属化合物との量的比率は、活性化剤1gに対し
て、メタロセン系遷移金属化合物1μmol〜1000
μmolの量とするのが好ましい。
物と活性化剤との接触>メタロセン系遷移金属化合物と
活性化剤との接触処理の方法は特に限定されないが、例
えば窒素等の不活性ガス雰囲気下、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン等のパラフィン系炭化水素やベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒のような不活
性炭化水素溶媒中で行うのが好ましい。接触条件は特に
制限されないが、例えば接触温度は−20℃から150
℃の間で行うのが一般的であり、特に室温から溶媒の沸
点の間で行うのがよく、接触時間は数分から数時間の範
囲が一般的である。また、活性化剤としてイオン交換性
層状珪酸塩を用いる場合、この活性化剤とメタロセン系
遷移金属化合物との量的比率は、活性化剤1gに対し
て、メタロセン系遷移金属化合物1μmol〜1000
μmolの量とするのが好ましい。
【0044】<工程(B):α−オレフィンとの接触>
上記工程(A)で得られた接触生成物に、次いでα−オ
レフィンを接触させる。この工程は通常炭化水素溶媒中
のスラリー状態で行われる。炭化水素溶媒の種類は特に
限定されず、例えば前述の接触処理工程の際に用いられ
る炭化水素溶媒がそのまま使用できる。
上記工程(A)で得られた接触生成物に、次いでα−オ
レフィンを接触させる。この工程は通常炭化水素溶媒中
のスラリー状態で行われる。炭化水素溶媒の種類は特に
限定されず、例えば前述の接触処理工程の際に用いられ
る炭化水素溶媒がそのまま使用できる。
【0045】α−オレフィンとしては、エチレン、プロ
ピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3
−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、4
−メチル−1−ペンテン、ビニルシクロアルカン、スチ
レンあるいはこれらの誘導体やそれらの混合物等のオレ
フィン類が用いられる。
ピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3
−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、4
−メチル−1−ペンテン、ビニルシクロアルカン、スチ
レンあるいはこれらの誘導体やそれらの混合物等のオレ
フィン類が用いられる。
【0046】この接触処理によってα−オレフィンの重
合が進行するが、この時の温度としては、−50〜10
0℃、好ましくは0〜100℃とするのがよく、時間は
0.1〜100時間、好ましくは0.1〜20時間とす
るのがよい。また、重合量としては、固体担体成分1g
に対して0.01〜1000gとするのが好ましく、特
に0.1〜100g、中でも1〜50gが好ましい。
合が進行するが、この時の温度としては、−50〜10
0℃、好ましくは0〜100℃とするのがよく、時間は
0.1〜100時間、好ましくは0.1〜20時間とす
るのがよい。また、重合量としては、固体担体成分1g
に対して0.01〜1000gとするのが好ましく、特
に0.1〜100g、中でも1〜50gが好ましい。
【0047】またα−オレフィンとしてエチレンを用い
た場合、得られるポリエチレンの重量平均分子量として
は30000以上が好ましく、50000以上が特に好
ましい。本工程においては、例えば下記式(3)で示さ
れる有機アルミニウム化合物を必要に応じて添加しても
よい。
た場合、得られるポリエチレンの重量平均分子量として
は30000以上が好ましく、50000以上が特に好
ましい。本工程においては、例えば下記式(3)で示さ
れる有機アルミニウム化合物を必要に応じて添加しても
よい。
【0048】
【化2】 R4 c AlX6 3-c (3)
【0049】(但し、式(3)において、R4 は炭素原
子数1〜20の炭化水素基、X6 はハロゲン原子、水素
原子、アルコキシ基またはアミド基からなる群から選ば
れる原子又は置換基を示し、cは0<c≦3の数であ
る。)
子数1〜20の炭化水素基、X6 はハロゲン原子、水素
原子、アルコキシ基またはアミド基からなる群から選ば
れる原子又は置換基を示し、cは0<c≦3の数であ
る。)
【0050】このような有機アルミニウム化合物として
は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ブチルア
ルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム等のトリ
アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のアル
キルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウム
クロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド等の
ハロゲン含有アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニ
ウムメトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシド
等のアルキルアルミニウムアルコキシド、ジエチルアル
ミニウム(ジエチルアミド)、ジイソブチルアルミニウ
ム(ジエチルアミド)等のアルキルアルミニウムアミド
が挙げられる。
は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ブチルア
ルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム等のトリ
アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のアル
キルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウム
クロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド等の
ハロゲン含有アルキルアルミニウム、ジエチルアルミニ
ウムメトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシド
等のアルキルアルミニウムアルコキシド、ジエチルアル
ミニウム(ジエチルアミド)、ジイソブチルアルミニウ
ム(ジエチルアミド)等のアルキルアルミニウムアミド
が挙げられる。
【0051】これらの有機アルミニウム化合物は単独で
使用しても良いし、例えばトリエチルアルミニウムとト
リイソブチルアルミニウムとを併用したり、あるいはト
リアルキルアルミニウムとハロゲン含有アルキルアルミ
ニウムとを併用するように、2種以上のものを併用して
も良い。また、この他に、メチルアルミノキサンのよう
なアルミノキサン等も使用できる。
使用しても良いし、例えばトリエチルアルミニウムとト
リイソブチルアルミニウムとを併用したり、あるいはト
リアルキルアルミニウムとハロゲン含有アルキルアルミ
ニウムとを併用するように、2種以上のものを併用して
も良い。また、この他に、メチルアルミノキサンのよう
なアルミノキサン等も使用できる。
【0052】<工程(C):メタロセン系遷移金属化合
物の追加>本発明では上記の工程(B)で得られた接触
生成物に、更にメタロセン系遷移金属化合物を添加す
る。ここで用いられるメタロセン系遷移金属化合物は既
に例示した物から適宜選択すればよく、前記工程(A)
で用いた物と同じでも、異なっていても構わない。
物の追加>本発明では上記の工程(B)で得られた接触
生成物に、更にメタロセン系遷移金属化合物を添加す
る。ここで用いられるメタロセン系遷移金属化合物は既
に例示した物から適宜選択すればよく、前記工程(A)
で用いた物と同じでも、異なっていても構わない。
【0053】その添加量は工程(A)で使用した量に対
して0.1〜1000倍、好ましくは0.2〜100倍
程度とするのがよい。メタロセン系遷移金属化合物の添
加方法は特に限定されないが、工程(B)で得られた接
触生成物に、これを粉体のまま添加する方法、炭化水素
等の溶媒に溶解して添加する方法、また工程(B)の生
成物を乾燥、粉末とした後、上記のいずれかの方法によ
り添加する方法等がある。これらのうち、溶媒の存在下
で添加する方法が均一な混合ができるので好ましい。
して0.1〜1000倍、好ましくは0.2〜100倍
程度とするのがよい。メタロセン系遷移金属化合物の添
加方法は特に限定されないが、工程(B)で得られた接
触生成物に、これを粉体のまま添加する方法、炭化水素
等の溶媒に溶解して添加する方法、また工程(B)の生
成物を乾燥、粉末とした後、上記のいずれかの方法によ
り添加する方法等がある。これらのうち、溶媒の存在下
で添加する方法が均一な混合ができるので好ましい。
【0054】<工程(D):溶媒の除去・乾燥>メタロ
セン系遷移金属化合物を添加・混合して得た触媒成分
は、そのまま用いてもよいが、溶媒を用いた場合は、こ
れを除去して乾燥粉体として用いるのがより好ましい。
乾燥は一般に減圧あるいは乾燥不活性ガス流通下、0℃
〜100℃の温度で行われる。
セン系遷移金属化合物を添加・混合して得た触媒成分
は、そのまま用いてもよいが、溶媒を用いた場合は、こ
れを除去して乾燥粉体として用いるのがより好ましい。
乾燥は一般に減圧あるいは乾燥不活性ガス流通下、0℃
〜100℃の温度で行われる。
【0055】<触媒成分としての使用>本発明方法によ
って得られた触媒成分はα−オレフィンの重合に用いら
れる。α−オレフィンとしては、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メ
チル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン等のい
わゆるオレフィン類、ビニルシクロヘキサン等のビニル
シクロアルカン、エチリデンノルボルネン誘導体、スチ
レンあるいはスチレン誘導体等の芳香族ビニル化合物等
が挙げられる。またこれらのモノマーの単独重合、共重
合のいずれにも用いることができる。
って得られた触媒成分はα−オレフィンの重合に用いら
れる。α−オレフィンとしては、エチレン、プロピレ
ン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メ
チル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン等のい
わゆるオレフィン類、ビニルシクロヘキサン等のビニル
シクロアルカン、エチリデンノルボルネン誘導体、スチ
レンあるいはスチレン誘導体等の芳香族ビニル化合物等
が挙げられる。またこれらのモノマーの単独重合、共重
合のいずれにも用いることができる。
【0056】重合は、例えばブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等のパラフィ
ン系炭化水素やα―オレフィン等の液状媒体中や、ある
いは実質的に溶媒や単量体の液相が存在しない状態で気
相重合により行うのが好ましい。気相重合は、例えば流
動床、攪拌床、攪拌・混合機を備えた攪拌流動床等の反
応装置を用いて行うことができる。重合温度、重合圧力
等の条件も特に限定されないが、重合温度は一般に−5
0〜200℃、好ましくは0〜100℃であり、また重
合圧力は通常、1〜200kg/cm2 G、好ましくは
1〜50kg/cm2 Gの範囲である。
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等のパラフィ
ン系炭化水素やα―オレフィン等の液状媒体中や、ある
いは実質的に溶媒や単量体の液相が存在しない状態で気
相重合により行うのが好ましい。気相重合は、例えば流
動床、攪拌床、攪拌・混合機を備えた攪拌流動床等の反
応装置を用いて行うことができる。重合温度、重合圧力
等の条件も特に限定されないが、重合温度は一般に−5
0〜200℃、好ましくは0〜100℃であり、また重
合圧力は通常、1〜200kg/cm2 G、好ましくは
1〜50kg/cm2 Gの範囲である。
【0057】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれら
の実施例によって限定されるものではない。なお、以下
の触媒成分の調製および重合はすべて精製窒素雰囲気下
で行った。また溶媒はモレキュラーシーブ13Xで脱水
精製した上で使用した。
説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれら
の実施例によって限定されるものではない。なお、以下
の触媒成分の調製および重合はすべて精製窒素雰囲気下
で行った。また溶媒はモレキュラーシーブ13Xで脱水
精製した上で使用した。
【0058】<測定方法> (1)平均粒径 平均粒径の測定は、(株)セイシン企業製のレーザー回
折法による粒度分布測定装置(「LMS−24」、光
源:半導体レーザー(波長670nm))を用いて行っ
た。測定はエタノールを分散媒として用い、屈折率1.
33、形状係数1.0として粒径分布および平均粒径を
算出した。
折法による粒度分布測定装置(「LMS−24」、光
源:半導体レーザー(波長670nm))を用いて行っ
た。測定はエタノールを分散媒として用い、屈折率1.
33、形状係数1.0として粒径分布および平均粒径を
算出した。
【0059】(2)圧壊強度 圧壊強度は、島津製作所(株)製微小圧壊試験器「MC
TM−500」を用いて、任意の10個以上の粒子の圧
壊強度を測定し、その平均値を圧壊強度として算出し
た。 (3)水分含量 水分含量は、水分計気化装置を用い、カールフィッシャ
ー滴定法により行った。用いた試料は窒素雰囲気下で取
り扱い、温度200℃、滴定速度0.2μg/秒となっ
た時点を滴定の終点とした。
TM−500」を用いて、任意の10個以上の粒子の圧
壊強度を測定し、その平均値を圧壊強度として算出し
た。 (3)水分含量 水分含量は、水分計気化装置を用い、カールフィッシャ
ー滴定法により行った。用いた試料は窒素雰囲気下で取
り扱い、温度200℃、滴定速度0.2μg/秒となっ
た時点を滴定の終点とした。
【0060】<実施例1> (1)触媒成分の調製 乾燥窒素流通下、80℃で2時間乾燥した1.5Lのオ
ートクレーブ中にヘプタン600mlを加え、撹拌しな
がら温度を30℃にコントロールした。活性化剤として
は、硝酸クロムにより雲母中のナトリウムイオンをクロ
ムイオンに交換する塩類処理を行った3価クロムイオン
交換型合成雲母の造粒品(平均粒径35μm、圧壊強度
2.5MPa)を、予め200℃で2時間減圧乾燥して
水分含量を0.5wt%としたものを10.0g用い、更
にメタロセン系遷移金属化合物としてビス(n−ブチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド39m
gの200mlヘプタン溶液を加え、窒素で約0.5k
g/cm2 G(ゲージ圧)に加圧した後、30℃で10
分間攪拌した。その後、トリエチルアルミニウムのヘプ
タン溶液(トリエチルアルミニウムとして1.1g相
当)を添加した後、60℃まで昇温し、その温度を保っ
て10分間攪拌した。内圧が0.2kg/cm 2 Gにな
るまで窒素をパージして、工程(A)を終了した。
ートクレーブ中にヘプタン600mlを加え、撹拌しな
がら温度を30℃にコントロールした。活性化剤として
は、硝酸クロムにより雲母中のナトリウムイオンをクロ
ムイオンに交換する塩類処理を行った3価クロムイオン
交換型合成雲母の造粒品(平均粒径35μm、圧壊強度
2.5MPa)を、予め200℃で2時間減圧乾燥して
水分含量を0.5wt%としたものを10.0g用い、更
にメタロセン系遷移金属化合物としてビス(n−ブチル
シクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド39m
gの200mlヘプタン溶液を加え、窒素で約0.5k
g/cm2 G(ゲージ圧)に加圧した後、30℃で10
分間攪拌した。その後、トリエチルアルミニウムのヘプ
タン溶液(トリエチルアルミニウムとして1.1g相
当)を添加した後、60℃まで昇温し、その温度を保っ
て10分間攪拌した。内圧が0.2kg/cm 2 Gにな
るまで窒素をパージして、工程(A)を終了した。
【0061】工程(A)に引き続いて、エチレンを0.
45L/分の割合で系内へ供給した。エチレンの供給は
積算供給量が仕込んだ合成雲母に対して約7倍量に達す
るまで継続した。供給終了後、オートクレーブを冷却し
ながらエチレンをパージして工程(B)を終了した。エ
チレンのパージ後、内容物をオートクレーブの抜き出し
ラインより窒素で十分置換された内容積2Lのフラスコ
に抜き出し、ヘプタン500mlでオートクレーブを洗
浄して洗液をフラスコに加えた。フラスコを静置して固
体分が沈降した後、フラスコ内の上澄み液950mlを
デカンテーションにより除去した。残ったスラリーにメ
タロセン系遷移金属化合物であるビス(n−ブチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド361mg
を固体状態で添加し、15分間室温にて攪拌した後、得
られた固体を70℃で2時間減圧乾燥を行い、工程
(C)及び(D)を完了して触媒成分を得た。
45L/分の割合で系内へ供給した。エチレンの供給は
積算供給量が仕込んだ合成雲母に対して約7倍量に達す
るまで継続した。供給終了後、オートクレーブを冷却し
ながらエチレンをパージして工程(B)を終了した。エ
チレンのパージ後、内容物をオートクレーブの抜き出し
ラインより窒素で十分置換された内容積2Lのフラスコ
に抜き出し、ヘプタン500mlでオートクレーブを洗
浄して洗液をフラスコに加えた。フラスコを静置して固
体分が沈降した後、フラスコ内の上澄み液950mlを
デカンテーションにより除去した。残ったスラリーにメ
タロセン系遷移金属化合物であるビス(n−ブチルシク
ロペンタジエニル)ハフニウムジクロライド361mg
を固体状態で添加し、15分間室温にて攪拌した後、得
られた固体を70℃で2時間減圧乾燥を行い、工程
(C)及び(D)を完了して触媒成分を得た。
【0062】(2)オレフィンの重合 窒素流通下、100℃で30分間乾燥しておいたステン
レス製の容量3.0Lのオートクレーブ中に室温でヘプ
タン1500ml、上記(1)で製造した触媒成分を
0.8g(合成雲母として0.1g相当)、トリエチル
アルミニウムのヘプタン溶液(トリエチルアルミニウム
280mg相当)、及び1−ブテン80mlを導入し
た。温度を80℃に昇温するのと同時に、全圧が22k
g/cm2 Gになるまでエチレンを仕込んで重合を開始
した。全圧を22kg/cm2 Gに維持して1時間重合
を行った後、系を冷却しエチレンをパージして重合体の
スラリーを抜き出し、濾過した。得られた重合体を10
0℃で12時間乾燥して、180.3gのエチレン/1
−ブテン共重合体を得た。結果を表1に示す。
レス製の容量3.0Lのオートクレーブ中に室温でヘプ
タン1500ml、上記(1)で製造した触媒成分を
0.8g(合成雲母として0.1g相当)、トリエチル
アルミニウムのヘプタン溶液(トリエチルアルミニウム
280mg相当)、及び1−ブテン80mlを導入し
た。温度を80℃に昇温するのと同時に、全圧が22k
g/cm2 Gになるまでエチレンを仕込んで重合を開始
した。全圧を22kg/cm2 Gに維持して1時間重合
を行った後、系を冷却しエチレンをパージして重合体の
スラリーを抜き出し、濾過した。得られた重合体を10
0℃で12時間乾燥して、180.3gのエチレン/1
−ブテン共重合体を得た。結果を表1に示す。
【0063】<実施例2>窒素流通下、100℃で30
分間乾燥しておいたステンレス製の容量1.5Lのオー
トクレーブ中に、乾燥した塩化ナトリウム100gを導
入して、温度を50℃に昇温した。温度が安定したとこ
ろで、トリエチルアルミニウムのヘプタン溶液(トリエ
チルアルミニウム50mg相当)、及び実施例1(1)
で調製した触媒成分0.64g(合成雲母として0.0
8g相当)を導入し、系内をエチレンで置換した後、温
度を85℃に昇温するのと同時に、全圧が0.69MP
a−Gになるまでエチレンを仕込んで重合を開始した。
全圧を0.69MPa−Gに維持して、85℃にて70
分間重合を行った。その後、塩化ナトリウムを水洗によ
って除去して重合体を得た。この重合体を、50℃で6
時間常圧で、更に80℃で3時間減圧乾燥して、10
5.9gのポリエチレンを得た。結果を表1に示す。
分間乾燥しておいたステンレス製の容量1.5Lのオー
トクレーブ中に、乾燥した塩化ナトリウム100gを導
入して、温度を50℃に昇温した。温度が安定したとこ
ろで、トリエチルアルミニウムのヘプタン溶液(トリエ
チルアルミニウム50mg相当)、及び実施例1(1)
で調製した触媒成分0.64g(合成雲母として0.0
8g相当)を導入し、系内をエチレンで置換した後、温
度を85℃に昇温するのと同時に、全圧が0.69MP
a−Gになるまでエチレンを仕込んで重合を開始した。
全圧を0.69MPa−Gに維持して、85℃にて70
分間重合を行った。その後、塩化ナトリウムを水洗によ
って除去して重合体を得た。この重合体を、50℃で6
時間常圧で、更に80℃で3時間減圧乾燥して、10
5.9gのポリエチレンを得た。結果を表1に示す。
【0064】<比較例1> (1)触媒成分の調製 メタロセン系遷移金属化合物であるビス(n−ブチルシ
クロペンタジエニル)ハフニウムジクロライドを、エチ
レンと接触する前に、全量の390mg添加し、デカン
テーション後においては添加しなかった(工程(C)を
行わなかった)こと以外は、実施例1の(1)と同様に
して触媒成分を調製した。 (2)オレフィン重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
クロペンタジエニル)ハフニウムジクロライドを、エチ
レンと接触する前に、全量の390mg添加し、デカン
テーション後においては添加しなかった(工程(C)を
行わなかった)こと以外は、実施例1の(1)と同様に
して触媒成分を調製した。 (2)オレフィン重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0065】<比較例2> (1)触媒の調製 実施例1と同様に工程(A)を行った後、工程(B)を
行うことなく、内容物をオートクレーブ下部の抜き出し
ラインより窒素で充分置換された内容積2Lのフラスコ
に抜き出し、ヘプタン500mlでオートクレーブを洗
浄し洗液をフラスコに加えた。フラスコを静置して固体
分が沈降した後、フラスコ内の上澄み液950mlをデ
カンテーションにより除去した。得られたスラリーを7
0℃で2時間減圧乾燥を行い、触媒成分を調製した。 (2)オレフィンの重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
行うことなく、内容物をオートクレーブ下部の抜き出し
ラインより窒素で充分置換された内容積2Lのフラスコ
に抜き出し、ヘプタン500mlでオートクレーブを洗
浄し洗液をフラスコに加えた。フラスコを静置して固体
分が沈降した後、フラスコ内の上澄み液950mlをデ
カンテーションにより除去した。得られたスラリーを7
0℃で2時間減圧乾燥を行い、触媒成分を調製した。 (2)オレフィンの重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0066】<実施例3> (1)触媒成分の調製 ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジ
クロライドの代わりにビス(1−n−ブチル−3−メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド
を、工程(A)において35mg、工程(C)において
311mg用いたこと以外は、実施例1(1)と同様に
して触媒成分を調製した。 (2)オレフィンの重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
クロライドの代わりにビス(1−n−ブチル−3−メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド
を、工程(A)において35mg、工程(C)において
311mg用いたこと以外は、実施例1(1)と同様に
して触媒成分を調製した。 (2)オレフィンの重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0067】<比較例3> (1)触媒成分の調製 ビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライドの添加を、エチレン接触
前に全量の346mg添加し、デカンテーション後には
添加しなかった(工程(C)を行わなかった)こと以外
は、実施例3(1)と同様にして触媒成分を調製した。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
ル)ジルコニウムジクロライドの添加を、エチレン接触
前に全量の346mg添加し、デカンテーション後には
添加しなかった(工程(C)を行わなかった)こと以外
は、実施例3(1)と同様にして触媒成分を調製した。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0068】<実施例4> (1)触媒の調製 ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジ
クロライドの代わりにビス(2−メチル−4,5,6,
7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライ
ドを、工程(A)において34mg、工程(C)におい
て308mg用いたこと以外は、実施例1(1)と同様
にして触媒成分を調製した。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
クロライドの代わりにビス(2−メチル−4,5,6,
7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライ
ドを、工程(A)において34mg、工程(C)におい
て308mg用いたこと以外は、実施例1(1)と同様
にして触媒成分を調製した。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0069】<比較例4> (1)触媒の調製 ビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライドの添加を、エチレン
接触前に全量の342mg添加し、デカンテーション後
には添加しなかった(工程(C)を行わなかった)こと
以外は、実施例4(1)と同様にして触媒成分を調製し
た。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
デニル)ジルコニウムジクロライドの添加を、エチレン
接触前に全量の342mg添加し、デカンテーション後
には添加しなかった(工程(C)を行わなかった)こと
以外は、実施例4(1)と同様にして触媒成分を調製し
た。 (2)重合 上記(1)で製造した触媒成分を用い、実施例1(2)
と同様に重合を行った。結果を表1に示す。
【0070】
【表1】
【0071】<結果の評価>表1の結果から、本発明方
法を用いて調製された触媒成分を用いて製造された重合
体は、比較例の方法によって得られた重合体よりも、収
量が多く、また嵩密度も高くなっていることが判る。
法を用いて調製された触媒成分を用いて製造された重合
体は、比較例の方法によって得られた重合体よりも、収
量が多く、また嵩密度も高くなっていることが判る。
【0072】
【発明の効果】本発明方法によれば、重合活性が高い固
体触媒成分が得られ、これを用いてオレフィンの重合を
行うことにより、嵩密度が高く、微粉も少ない重合体を
製造することができる。
体触媒成分が得られ、これを用いてオレフィンの重合を
行うことにより、嵩密度が高く、微粉も少ない重合体を
製造することができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J028 AA02A AB00A AB01A AB02A AC01A AC10A AC20A AC28A BA01A BA02A BC04A BC05A BC06A BC07A BC12A BC13A BC15A BC16A BC17A BC18A BC19A BC24A BC25A BC27A BC28A CA14A CA15A CA16A CA19A CA25A CA26A CA27A CA28A CA29A CA30A CA35A CA42A CA44A CA49A CB30A CB77A DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DB03A DB08A EB01 EB02 EB04 EB05 EB08 EB09 EB10 EB18 EB21 FA02 FA04 GA09 GB01 4J100 AA02P AA02Q AA03P AA03Q AA04P AA04Q AA07P AA07Q AA16P AA16Q AA17P AA17Q AA18P AA18Q AA20P AA20Q AB00P AB00Q AB02P AB02Q AU21P AU21Q CA01 CA04 FA02 FA10
Claims (9)
- 【請求項1】 下記工程(A)〜(C)を含むオレフィ
ン重合用触媒成分の製造方法。 (A)メタロセン系遷移金属化合物と活性化剤とを接触
させる工程 (B)上記(A)で得られた接触生成物にα−オレフィ
ンを接触させる工程 (C)上記(B)で得られた接触生成物にメタロセン系
遷移金属化合物を添加する工程 - 【請求項2】 活性化剤がアルミニウムオキシ化合物、
ルイス酸、及びメタロセン系遷移金属化合物と反応して
これをカチオンに変換することが可能なイオン性化合物
からなる群から選ばれる1種又は2種以上の化合物であ
る請求項1に記載のオレフィン重合用触媒成分の製造方
法。 - 【請求項3】 活性化剤がイオン交換性層状珪酸塩であ
る請求項1に記載のオレフィン重合用触媒成分の製造方
法。 - 【請求項4】 イオン交換性層状珪酸塩が、塩類処理又
は酸処理を行うことによって得られた、水分含量が4重
量%以下のイオン交換性層状珪酸塩である請求項3に記
載のオレフィン重合用触媒成分の製造法。 - 【請求項5】 イオン交換性層状珪酸塩の形状が、平均
粒径5〜1000μmの球状粒子である請求項3又は4
に記載のオレフィン重合用触媒成分の製造方法。 - 【請求項6】 イオン交換性層状珪酸塩の粒子が、微小
圧縮試験器で測定した粒子の圧壊強度が0.2MPa以
上のものである請求項5に記載のオレフィン重合用触媒
成分の製造法。 - 【請求項7】 工程(A)を不活性炭化水素溶媒中で行
う請求項1〜6のいずれか1項に記載のオレフィン重合
用触媒成分の製造方法。 - 【請求項8】 工程(B)を有機アルミニウム化合物の
存在下で行う請求項1〜7のいずれか1項に記載のオレ
フィン重合用触媒成分の製造法。 - 【請求項9】 工程(A)〜(C)に続いて、下記工程
(D)を行う請求項7又は8に記載のオレフィン重合用
触媒成分の製造方法。(D) 溶媒を除去・乾燥して固
体触媒成分を得る工程
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25086898A JP2000080117A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | オレフィン重合用触媒成分の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25086898A JP2000080117A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | オレフィン重合用触媒成分の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000080117A true JP2000080117A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17214213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25086898A Pending JP2000080117A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | オレフィン重合用触媒成分の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000080117A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001192414A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | エチレン・α−オレフィン共重合体及びそれからなるフィルム |
JP2001192413A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | エチレン・α−オレフィン共重合体及びそれからなるフィルム |
WO2002022693A1 (fr) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Japan Polychem Corporation | Catalyseur pour polymerisation d'olefines |
JP2002275206A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Japan Polychem Corp | オレフィン重合用触媒及びそれを用いたオレフィンの重合方法 |
JP2005538244A (ja) * | 2002-07-15 | 2005-12-15 | バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 触媒組成物の製造方法 |
JP2008525275A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-17 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | キャップおよび密閉具 |
JP2017165916A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 日本ポリエチレン株式会社 | エチレン系マクロモノマーの製造方法 |
-
1998
- 1998-09-04 JP JP25086898A patent/JP2000080117A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001192414A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | エチレン・α−オレフィン共重合体及びそれからなるフィルム |
JP2001192413A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-07-17 | Japan Polychem Corp | エチレン・α−オレフィン共重合体及びそれからなるフィルム |
WO2002022693A1 (fr) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Japan Polychem Corporation | Catalyseur pour polymerisation d'olefines |
US6677411B2 (en) | 2000-09-13 | 2004-01-13 | Japan Polychem Corporation | Component of catalyst for olefin polymerization |
JP2002275206A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Japan Polychem Corp | オレフィン重合用触媒及びそれを用いたオレフィンの重合方法 |
JP2005538244A (ja) * | 2002-07-15 | 2005-12-15 | バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 触媒組成物の製造方法 |
JP2008525275A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-17 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | キャップおよび密閉具 |
JP4714223B2 (ja) * | 2004-12-22 | 2011-06-29 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | キャップおよび密閉具 |
JP2017165916A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 日本ポリエチレン株式会社 | エチレン系マクロモノマーの製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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