DE3541427C2 - - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Herstellung einer gedruckten Schaltung. Insbesondere
betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur
Herstellung einer gedruckten Schaltung durch bildweises
Belichten eines zwei Schichten umfassenden licht
empfindlichen Elements durch eine dichrome Maske hin
durch.
Platinen mit gedruckten Schaltungen aus mehreren
Schichten werden hergestellt unter Verwendung licht
empfindlicher Filme und zusätzlicher Plattierungsver
fahren, wie sie in den US-PS 40 54 479 und 40 54 483
beschrieben sind. In diesen Verfahren werden die leitenden
Verbindungen zwischen den Schichten dadurch herge
stellt, daß Löcher vorgebohrt werden und diese Löcher
dann auf die Muster der gedruckten Schaltungen ausge
richtet werden. Derartige Arbeitsweisen des Vorbohrens
unterliegen Beschränkungen, die durch die zwangsläufigen
Ungenauigkeiten der Ausrichtung auf die gedruckten
Schaltungen vorgegeben sind, wo die Leitungen der
Schaltungen nicht in dichten Abständen zueinander ver
laufen.
Die US-PS 41 57 407 beschreibt ein Verfahren zur Her
stellung gedruckter Schaltungen mit elektrischen
Zwischenverbindungen ohne Bohren oder Stanzen der benötigten
Löcher und ohne Anwendung des zeitraubenden Verfahrens
der chemischen Katalysierung der Löcher. Aus
mehreren Schichten bestehende Schaltungen können mittels
dieses Verfahrens bereitgestellt werden, die eine
hohe Packungsdichte mit vielen Überkreuzungspunkten und
Zwischenverbindungen aufweisen. Wenngleich das Verfahren
der US-PS 41 57 407 zur Herstellung mehrschichtiger
Schaltungen effektiv arbeitet, erfordert es im praktischen
Einsatz viele wiederholende Schritte, darunter
zweifache Ausrichtung des Bildes und Belichtung mittels
aktinischer Strahlung, zweifaches Aufbringen von fein
teiligem Metall einschließlich des Anbringens der Durch
gangslöcher, zweifache Anwendung von Wärme und zweifaches
Entfernen überschüssiger Metall-Teilchen, z. B.
durch Waschen mit Wasser und anschließendes Trocknen.
Die US-PS 44 69 777 beschreibt ein Verfahren zur Her
stellung von zweischichtigen, gedruckten Schaltungen
mit leitenden Verbindungen, wobei mindestens eine
Schicht einer photoadhäsiven Zusammenstellung auf einen
Schichtträger aufgebracht wird und das Muster einer
elektrisch leitenden Schaltung trägt. Die bildmäßige
Belichtung erfolgt durch ein Schaltbild hindurch, das
Zonen mit drei verschiedenen optischen Dichten auf
weist, nämlich Null, Grau und Opak. Nicht belichtete
Teile der lichtempfindlichen Schicht werden mittels
eines Lösungsmittels ausgewaschen. Danach wird fein
verteiltes Metall, Legierung oder Plattierungskatalysator
aufgebracht.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung
mehrschichtiger gedruckter Schaltungen mittels
einer vereinfachten Arbeitsweise verfügbar zu machen, bei
dem jeweils nur ein einziger Schritt der bildweisen
Belichtung und der Tonung stattfinden, wobei es nicht
notwendig ist, durch getonte Bereiche hindurch zu be
lichten.
Die beigefügten Zeichnungen Fig. 1A, 1B, 1C, 1D und 1E,
die einen sachlichen Teil der vorliegenden Offenbarung
bilden, zeigen Querschnitte einer einfachen, aus zwei
Schichten bestehenden gedruckten Schaltung gemäß der
vorliegenden Erfindung in verschiedenen Fertigungs
stadien.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur
Herstellung einer gedruckten Schaltung verfügbar
gemacht, bei dem
- (a) auf einen Schichtträger eine erste dauerhafte klebrige lichtempfindliche Schicht, die durch Strahlung längerer Wellenlängen härtbar ist und darauf eine zweite lichtempfindliche Schicht, die durch Strahlung kürzerer Wellenlänge härtbar ist, aufge bracht werden,
- (b) die lichtempfindlichen Schichten bildmäßig durch eine Maske oder Maskenkombination belichtet werden, die in einigen Bildbereichen nur längerwelliges Licht durchlassen, so daß nur die erste Schicht gehärtet wird und in anderen Bildbereichen auch kurzwelliges Licht durchlassen, so daß beide Schichten gehärtet werden;
- (c) die ungehärteten Bereiche der beiden Schichten mittels eines Lösungsmittels entfernt werden,
- (d) ein feinteiliges Metall, eine Legierung oder ein Plattierungs-Katalysator-Material auf die unbe deckten klebrigen Bereiche der ersten Schicht auf gebracht wird und
- (e) das metallisierte oder katalysierte Bild zur Bildung einer elektrisch leitenden Schaltung plattiert wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer
gedruckten Schaltung, z. B. zweier Schaltungsmuster mit
elektrischen Verbindungen zwischen diesen, weist wenig
stens die folgenden Schritte auf:
- (a) Auftragen zweier im Folgenden näher beschriebener lichtempfindlicher Schichten auf einen Schichtträger oder eine Schicht, der/die ein elektrisch leit fähiges Muster trägt, wobei die zweite Schicht für kurze Wellenlängen aktinischer Strahlung, UV-Strahlung, empfindlich ist und die erste Schicht klebrig ist und für längere Wellenlängen aktinischer Strahlung als die erste Schicht, z. B. sichtbares Licht, empfindlich ist;
- (b) Belichten der lichtempfindlichen Schichten mittels sichtbaren Lichts und ultravioletter Strahlung durch eine dichrome Maske, die schwarze Bereiche, gelbe Bereiche und klare Bereiche enthält;
- (c) Entfernen der ungehärteten Bereiche durch Ent wickeln mit einem Lösungsmittel für die ungehärteten Bereiche;
- (d) Auftragen eines Metalls, einer Legierung oder eines Plattierungs-Katalysator-Materials auf die klebrigen Bereiche; und
- (e) Plattieren des metallisierten oder katalysierten Bildes zur Bildung eines elektrisch leitfähigen Schaltungsmusters, das mit dem darunterliegenden Schaltungsmuster verbunden ist.
Nach dem Schritt (d) kann überschüssiges Metall, Legie
rungs- und Plattierungs-Katalysator-Material, das an
anderen Bereichen als den klebrigen Bereichen der ersten
lichtempfindlichen Schicht und insbesondere an den
gehärteten Bereichen der zweiten lichtempfindlichen oder
Oberflächen-Schicht haftet, physikalisch entfernt werden,
z. B. durch Bürsten, Fräsen, Aufspritzen von Wasser
etc., ohne die getonten klebrigen Bereiche zu beein
flussen, die sich unter der Oberfläche der zweiten
lichtgehärteten Schicht befinden. Nach dem Plattieren
des Bildes (Schritt (e)) kann die Schaltung gewünsch
tenfalls so gebürstet oder poliert werden, daß die
Schaltung in der zweiten Schicht nicht beschädigt wird.
Eine Platine mit gedruckten Schaltungen aus mehreren
Schichten mit leitfähigen Zwischenverbindungen kann aus
einer gedruckten Schaltung, die einen Weg und eine
Schaltungsschicht enthält und nach den oben beschriebenen
Schritten (a) bis (e) und einem, mehreren oder
sämtlichen der wahlweisen Schritte hergestellt wurde,
in der Weise hergestellt werden, daß das in Schritt (e)
neu plattierte Schaltungsmuster wenigstens einmal für
den nachfolgenden Verfahrensschritt (a) eingesetzt
wird.
Der in der vorliegenden Erfindung eingesetzte Schicht
träger für die gedruckte Schaltung kann ein beliebiges
Material aus der Vielzahl von Folien, Platten, Platten
aus synthetischen Harzen, laminierten Platten aus syn
thetischen Harzen oder Verbundstoffen etc. sein, die
die erforderlichen elektrischen und mechanischen Eigen
schaften, chemische Beständigkeit, Wärmebeständigkeit
etc. aufweisen. Zu Beispielen für Harze zählen Phenol-
Formaldehyd-, Epoxy- und Melamin-Harze etc. Glasplatten
und Keramik oder mit Keramik überzogene Metallplatten
sind ebenfalls brauchbar. Der Schichtträger kann
auch aus Papier, Karton, Fasermaterial einschließlich
Glasgewebe, hölzernem flächigen Material oder Phenol
harz-Laminat auf Papier-Basis bestehen, wobei eine
Papier-Grundlage ohne Harz besonders brauchbar ist für
die Herstellung gedruckter Schaltungen mit niedrigen
Kosten. Metall-Folien können verwendet werden unter der
Voraussetzung, daß das an ihnen haftende Material als
Isoliersperrschicht zwischen dem aus der Metallfolie
bestehenden Träger und der aufgebauten metallisierten
Schaltung wirkt. Ebenfalls verwendbar sind selbst
tragende lichtempfindliche Elemente, wie sie in der US-PS
40 54 479 offenbart sind. Eine gedruckte Schaltung, die
Leitungen in dichten Abständen enthalten kann, liegt
darauf vor. Die gedruckte Schaltung kann mittels in der
Fachwelt bekannter Standard-Arbeitsweisen hergestellt
werden, z. B. durch Ätzen von Kupfer auf der Substrat-
Oberfläche oder durch andere Methoden wie denjenigen,
die in der US-PS 42 34 626 beschrieben sind.
Zur Bildung der gedruckten Schaltungen mit leitfähigen
Zwischenverbindungen tragenden Platinen gemäß der
Erfindung werden zwei lichtempfindliche Schichten auf die
gedruckte Schaltungsoberfläche aufgetragen. Im allge
meinen erfolgt dies durch Laminierung der beiden Schichten
auf die gedruckte Schaltungsoberfläche oder den
Schichtträger in einem Laminierungsschritt in einem
Temperatur-Bereich von 90°C bis 125°C, vorzugsweise von
104°C bis 110°C. Die Laminierung kann auch bewerkstelligt
werden durch zwei aufeinanderfolgende Laminierungen,
wobei die erste klebrige lichtempfindliche Schicht
auf den Schichtträger oder die Schaltungsoberfläche
laminiert wird und nachfolgend die zweite lichtempfind
liche Schicht auf die erste lichtempfindliche Schicht
laminiert wird. Die Laminierung in zwei Schritten wird
weniger bevorzugt, in erster Linie deshalb, weil zwei
Schritte benötigt werden. Noch weniger bevorzugt wird
das Aufbringen der lichtempfindlichen Schichten als
Flüssigkeiten, z. B. als Lösung, Suspension etc. mittels
üblicher Arbeitsweisen, z. B. Tauchbeschichtung, Spinn
beschichtung, Rakelbeschichtung, Sprühen etc.
Der oben angeführte Arbeitsgang der Laminierung kann
mittels eines geeigneten, in der Fachwelt bekannten
Verfahrens erfolgen, z. B. einem der Verfahren, die in den
US-PS 34 69 982, 39 84 244 und 41 27 436 be
schrieben sind, auf die hier verwiesen wird.
Die Dicke der ersten lichtempfindlichen Schicht liegt
im trockenen Zustand im Bereich von 0,038 bis 0,051 mm
und die Dicke der zweiten
lichtempfindlichen Schicht liegt im trockenen Zustand
im Bereich von 0,013 bis 0,019 mm.
Wiewohl beide Schichten lichtempfindlich sind
und übliche Bestandteile für solche Schichten enthalten,
z. B. monomere Verbindungen, Bindemittel, Photo
initiatoren sowie andere bekannte Zusatzstoffe, ist die
erste Schicht, d. h. eine, der Oberflächen der gedruckten
Schaltung benachbarte Schicht, klebrig und bleibt klebrig.
Die zweite Schicht, auch wenn sie in ihrem
ursprünglichen Zustand bis zu einem gewissen Grade weich
und klebrig sein kann, ist zumindest im belichteten
Zustand hart und nicht-klebrig. Die erste klebrige
Schicht ist empfindlich für sichtbares Licht und ent
hält aus diesem Grunde wenigstens einen Sensibilisator,
der Licht in dem Spektralbereich von 400 bis 520 nm,
vorzugsweise von 460 bis 480 nm, absorbiert, sowie ein
klebriges Material oder ein klebrigmachendes Material,
um die Klebrigkeit zu erzeugen. Klebrigmachende Harze,
vorzugsweise Polyterpen-Harze, eignen sich dafür, die
erste Schicht mit dauerhafter Klebrigkeit auszustatten.
Gummen oder andere Klassen klebrig
machender Materialien, die Fachleuten bekannt sind,
können ebenfalls eingesetzt werden. Die zweite Schicht,
die für ultraviolette Strahlung empfindlich und
gegenüber sichtbarem Licht relativ unempfindlich ist,
enthält wenigstens eine Verbindung, die in dem ultra
violetten Bereich des Spektrums empfindlich ist. Die
zweite lichtempfindliche Schicht ist typischerweise
eine konventionelle Photoresist-Formulierung wie die
jenigen, die in der US-PS 34 69 982 offenbart sind. Die
erste klebrige lichtempfindliche Schicht ist typischer
weise eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die
ein elastomeres Bindemittel wie diejenigen, die in der
US-PS 44 11 980 offenbart sind, ein klebrigmachendes
Mittel und/oder überschüssige Weichmacher enthalten.
Die lichtempfindlichen Schichten werden hergestellt
durch Vermischen der Bestandteile in einem geeigneten
Lösungsmittel oder Lösungsmittelgemisch, z. B. Methylen
chlorid, Methylethylketon, Ethyl-Cellosolve® etc.
Alkohole, z. B. Methanol, Ethanol etc., können in der
Lösungsmittel-Kombination vorhanden sein. Die Klebrig
macher und Sensibilisatoren können anschließend zu den
anderen Bestandteilen hinzugefügt werden, und die
Zusammensetzung wird gründlich durchgemischt, z. B. wie
dies in dem nachstehenden Beispiel 1 beschrieben ist.
Die Zusammensetzung wird dann mit Hilfe von Standard-
Beschichtungstechniken, z. B. einer Rakel oder einem
Spinnbeschichter etc. auf eine Trägerfolie, z. B. aus
Polyethylenterephthalat oder einer anderen Kunststoff-
Folie, aufgetragen. Die Folie wird anschließend
getrocknet, im allgemeinen bei höherer Temperatur von
45°C bis 95°C, vorzugsweise bei 50°C bis 55°C. Eine
Polyethylen-Deckfolie oder eine andere bekannte Deck
folie wird auf die freie Oberfläche im allgemeinen bei
Raumtemperatur auflaminiert, wodurch ein lichtempfind
liches Element gebildet wird. Sowohl die Deckfolie als
auch die Trägerfolie sind ohne Beschädigung des licht
empfindlichen Elements entfernbar. Beim Gebrauch wird
die Deckfolie von dem klebrigen Element entfernt, und
das Element wird auf einen Schichtträger oder eine
Schaltung auf einer gedruckten Schaltungsplatine laminiert.
Dann wird die Trägerfolie entfernt, und das
zweite lichtempfindliche Element, von dem die Träger
folie entfernt wurde, wird auf die klebrige lichtempfind
liche Schicht laminiert. Wie oben erwähnt wurde,
kann ein Zweischichten-Element hergestellt werden, und
deshalb wird nur ein Laminierungsschritt benötigt.
Sobald die lichtempfindlichen Schichten auf der Ober
fläche der Schaltungsplatine vorhanden sind, werden die
Schichten der bildweisen Belichtung durch eine dichrome
oder zweifarbige (Schwarz/Gelb) Maske von einer Quelle
für ultraviolette Strahlung sowie sichtbares Licht aus
gesetzt. Die schwarzen Bereiche der Maske weise eine
hinreichende optische Dichte auf, so daß sie für jegliche
solche Strahlung undurchlässig sind. Die klaren
Bereiche der dichromen Maske sind transparent sowohl
für die ultraviolette Strahlung als auch für das sicht
bare Licht. Die dichrome Maske kann mit Hilfe von
Standard-Verfahren der Farbentwicklung hergestellt werden,
etwa derjenigen zur Herstellung substraktiver Farbfilme.
Die Farbentwicklung geeigneter Filme ist beschrieben in "The
Theory of the Photographic Process", 4. Auflage, Kapitel
12, herausgegeben von T.H. James, The Macmillan
Company, New York 1977, N.Y. (U.S.A.).
Bei der Belichtung wird die erste lichtempfindliche
Schicht polymerisiert, ausgenommen diejenigen Bereiche,
wo die Strahlung durch ein schwarzes oder gelbes Bild
maskiert wird. Weniger bevorzugt kann die Schicht auch
durch ein schwarz/klares Muster, das Schicht-zu-
Schicht-Zwischenverbindungen einschließt, vermittels
eines Filters und danach durch ein
schwarz/klares Zwischenverbindungs-Schaltungs-Muster
mittels ungefilterten Lichts belichtet werden. Geeignete
UV-Strahlungsquellen sind in den US-PS 27 60 863,
36 49 268 und 41 57 407 offenbart, worauf hier verwiesen
wird. Zur Belichtung mit sichtbarem Licht
ist ein Vacuum Printer mit einer
Lampe mit vergrößertem Bereich besonders
geeignet. Andere Quellen, die die interessierenden
Wellenlängen 360 nm und 400 bis 520 nm emittieren,
können benutzt werden.
Nach der bildmäßigen Belichtung werden die ungehärteten
Bereiche der zweiten und der ersten lichtempfindlichen
Schicht mit einem geeigneten Lösungsmittel für die
verwendeten lichtempfindlichen Zusammensetzungen entfernt.
1,1,1-Trichloroethylen ist das bevorzugte Lösungsmittel.
Zusätzliche Lösungsmittel können zur Modifizierung der
Belichtungszeit oder der Veränderung der Entwicklungs
breite zugegeben werden, z. B. Isopropanol, Ethanol,
Methanol, Carbitol®, Cellosolve® oder Heptan. Andere
Lösungsmittel sind Fachleuten bekannt. Die Entfernung
der nicht gehärteten Teile der lichtempfindlichen
Schichten erfolgt nach bekannten Arbeitstechniken, z. B.
in einer Entwicklungsapparatur, Auftreffen des Lösungs
mittels etc., in manchen Fällen unterstützt durch
leichte mechanische Einwirkung. Die den schwarzen Flächen
der Photomaske entsprechenden ungehärteten Bereiche
beider Schichten werden entfernt und bilden Löcher
oder die Bereiche, in denen die Wege gebildet werden.
Die den gelben Flächen der Photomaske entsprechenden
ungehärteten Bereiche der oberen lichtempfindlichen
Schicht werden ebenfalls entfernt, wodurch Rillen ent
stehen, in denen die Schaltungsleitungen gebildet werden.
Kein lichtgehärtetes Material wird von den Bereichen
entfernt, die den klaren Bereichen der Maske ent
sprechen.
Metall-Teilchen, Legierungs-Teilchen oder Plattierungs-
Katalysator werden auf die durch den Entwicklungs
schritt gebildeten klebrigen Bereiche sowie auf die
nicht-klebrigen Bereiche aufgebracht. Wo das lichtempfind
liche Material bis hinunter zu dem die Schaltung
tragenden Schichtträger entfernt wird (schwarze Bereiche
der Maske) sind die Kanten der ersten lichtempfind
lichen Schicht klebrig. Wo allein das lichtempfindliche
Material in der zweiten lichtempfindlichen Schicht ent
fernt wird, werden Flächen der klebrigen lichtempfind
lichen Schicht freigelegt (gelbe Bereiche der Maske).
Die Metall-Teilchen, die Legierungs-Teilchen oder der
Plattierungs-Katalysator haften an den klebrigen Bereichen,
haften jedoch nicht an den lichtgehärteten Bereichen
der zweiten Schicht (klare Bereiche der Maske).
Die geeigneten Teilchen, die anschließend stromlos
plattiert oder gelötet werden können, wie in der Fachwelt
bekannt ist, umfassen Kupfer, Zinn, Blei, Lot, Mischungen
aus Kupfer und Lot, Kupfer-Zinn-Legierung, Zinn-
Blei-Legierung, Aluminium, Gold, Silber; Metalloxide
wie Titanoxid, Kupferoxid etc. Ebenfalls geeignet sind
mit Metall beschichtete Teilchen, z. B. mit Silber
beschichtetes Glas. Die Teilchen haben einen mittleren
Durchmesser von 0,5 bis 250 µm, vorzugsweise einen
mittleren Durchmesser von 1 bis 25 µm. Kupfer-Pulver
wird bevorzugt.
Die Teilchen können mit Hilfe bekannter Verfahren auf
gebracht werden, darunter - jedoch nicht auf diese
beschränkt - die in den US-PS 30 60 024, 36 49 268 und
40 69 791 beschriebenen Tonungsverfahren. Es ist auch
möglich, die Teilchen mit Hilfe eines Fließbettes aus
Teilchen aufzutragen, wie dies von Peiffer und Woodruff
in Research Disclosure, June 1977, Nr. 15882, beschrieben
ist. Erforderlichenfalls wird ein Überschuß an
Metall-, Legierungs- oder Plattierungs-Katalysator-
Teilchen von den nicht-haftenden Bildbereichen ent
fernt. Geeignete mechanische und andere Mittel hierfür
sind in den oben genannten US-PS und der Research
Disclosure beschrieben, auf die hier Bezug genommen
wird.
Arbeitsweisen für das stromlose Plattieren sind Fach
leuten bekannt, z. B. aus der US-PS 40 54 483, auf die
verwiesen wird. Bäder zum stromlosen Plattieren sind im
Handel erhältlich. Es kann sein, daß
solche Bäder modifiziert werden müssen, um sicherzu
stellen, daß das Metall tragende biegsame Element
eine hinreichend lange Zeitspanne in dem Bad verbleibt,
z. B. 1 bis 6 h, vorzugsweise 1 bis 4 h. Für das strom
lose Plattieren geeignete Lösungen sind in der US-PS
30 95 309, insbesondere in Beispiel 2, beschrieben. Die
Temperatur des Bades für das stromlose Plattieren kann
im Bereich von 43°C bis 85°C liegen und beträgt vor
zugsweise 53°C. Es kann erwünscht sein, nach dem Plattieren
die Schaltungsschicht zu bürsten oder zu polieren,
um Schmutz oder Abscheidungen von den dielektrischen
Bereichen zu entfernen und eine glatte gleich
mäßige Oberfläche für die Laminierung einer nachfolgenden
Schaltungsschicht zu erzeugen, ohne die Unversehrtheit
der metallisierten Schaltungsleitungen zu stören.
Eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung wird in
dem nachfolgenden Beispiel 1 beschrieben.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht die Herstellung
zwei- oder mehrschichtiger gedruckter Schaltungen
mit elektrischen Zwischenverbindungen ohne das Bohren
oder Stanzen der benötigten Löcher und ohne die chemische
Katalysierung der Durchgangslöcher, die zeit
raubend ist. Das Verfahren ist einfacher als diejenigen,
die zur Zeit allgemein angewandt werden, und macht
Wiederholungsschritte bei der Herstellung einer einzigen
leitfähigen Schicht entbehrlich. Das Verfahren ist
auch brauchbar mit Belichtungen durch zwei unterschied
liche Schwarz- und Klar-Photomasken hindurch, wenngleich
letztere Arbeitsweise weniger bevorzugt ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren hängt die bild
mäßige Klebrig-Entwicklung nicht von Unterschieden in
der Klebrigkeit ab, die durch Polymerisation lichtempfind
licher Schichten entwickelt wurden, sondern von der
dauerhaften Klebrigkeit der Zusammensetzung der ersten
lichtempfindlichen Schicht und der nicht-klebrigen
Beschaffenheit der belichteten zweiten lichtempfindlichen
Schicht. Die relative Löslichkeit der zwei lichtempfind
lichen Schichten in dem Entwickler-Lösungsmittel ist
bestimmt durch das bildmäßige Lichthärten. Die nachfolgende
Entwicklung bestimmt, ob klebrige Bereiche, nicht-
klebrige Bereiche oder der Schichtträger oder die
Schaltung freigelegt werden und für das Tonen der klebrigen
Bereiche aufnahmebereit sind. Da die Klebrigkeit unab
hängig von der Lichthärtung ist, können erwünschte
Eigenschaften, etwa die Haftung durch Warmhärten, in die
dielektrischen Schichten eingearbeitet werden, ohne daß
das Photosystem beeinflußt oder verändert wird. Im
Gegensatz zu bekannten Arbeitsweisen des Tonen-Plattierens
wird die Geometrie der plattierten Wege und Schal
tungsleitungen eher durch die photo-definierte Gestalt
der Rillen und Leitungsweg-Löcher als durch die Größe
und Plazierung der Toner-Teilchen bestimmt. Aus diesem
Grunde können größere Teilchen verwendet werden, ohne
daß die Schärfe der Linien der Schaltungsleitungen
beeinflußt wird, wodurch die Plattierung vereinfacht und
die Menge der auf Nicht-Schaltungsbereiche aufgebrachten
Teilchen verringert wird.
Andere Vorteile der mittels des Verfahrens der vorlie
genden Erfindung über Schaltungen durch Aufbringen von
Metall-Teilchen auf deren Oberfläche hergestellten
Schaltungen sind:
- 1. Die Haftung der Schaltungsleitungen ist derjenigen von auf der Oberfläche befestigten zusätzlichen Schaltungen überlegen, da das Metall oder andere Teilchen innerhalb der dielektrischen Schicht abgelagert und mechanisch auf diese aufgetragen sind.
- 2. Es entfällt ein kumulativer Aufbau von Schaltungs dicken mit dem Hinzufügen zu der Schaltung, da die Schaltungsleitungen sich in den dielektrischen Schichten befinden, und der Schicht-zu-Schicht- Abstand der Schaltungsleitungen kann präzise dadurch gesteuert werden, daß die Dicke der dielek trischen Schicht gesteuert wird. Die Laminierung auf eine glatte Oberfläche verbessert die Haftung und verringert einen Einschluß von Luftblasen oder andere Defekte in der laminierten Schicht.
- 3. Die Schaltungslinien verbreitern sich nicht während des Plattierens, da der Plattierungsvorgang begrenzt ist. Weiterhin gibt es eine starke Ver minderung in bezug auf die Anzahl von Kurzschlüssen, da die Plattierung durch die Wände der Schaltung begrenzt wird. Schärfere Schaltungsleitungen mit höheren Bildverhältnissen und einer größeren Stromtransportkapazität als derjeniger ober flächenplattierter Leitungen der gleichen Breite können erhalten werden. Dies hat die Herstellung von Schaltungen mit höherer Auflösung mit mehr Vorrichtungen pro Einheitsfläche der Schaltung zur Folge.
Die folgenden Beispiele, in denen Teile und Prozent
sätze sich auf das Gewicht beziehen, erläutern die
Erfindung. Die Werte von n (Zahlenmittel des Molekular
gewichts) und w (Gewichtsmittel des Molekulargewichts)
für die Polymeren werden mittels Gelpermeationschroma
tographie unter Verwendung polymeren Standards
bestimmt, wie Fachleuten bekannt ist.
Ein zweischichtiger dichromer dielektrischer Film wird
wie folgt hergestellt:
Die folgenden Bestandteile werden, wie nachstehend auf
geführt, miteinander vermischt zur Herstellung einer
Zusammensetzung zur Bildung der ersten lichtempfindlichen
Schicht des Films, die für sichtbares Licht
empfindlich ist.
BestandteilMenge (Teile)
(A)
Bis(2-o-chlorophenyl-4,5-diphenylimidazol 0,477 Tri-(p-N,N-Dimethylaminophenyl)methan 0,026 Tri(2-Methyl-4-N,N-diethylaminophenyl)-methan 0,038 Grün-Pigment¹) 0,031 Benzotriazol 0,052 Styrol-Copolymer²) 1,55 Triethylenglycol-dimethacrylat 3,40 Di-(3-acryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von Bisphenol A 3,40 Benzophenon 1,026 N-Phenylglycin 0,120 Methylenchlorid22,210 Methanol 1,168
Bis(2-o-chlorophenyl-4,5-diphenylimidazol 0,477 Tri-(p-N,N-Dimethylaminophenyl)methan 0,026 Tri(2-Methyl-4-N,N-diethylaminophenyl)-methan 0,038 Grün-Pigment¹) 0,031 Benzotriazol 0,052 Styrol-Copolymer²) 1,55 Triethylenglycol-dimethacrylat 3,40 Di-(3-acryloxy-2-hydroxypropyl)-ether von Bisphenol A 3,40 Benzophenon 1,026 N-Phenylglycin 0,120 Methylenchlorid22,210 Methanol 1,168
(B)
Polystyrol-polyisopren-polystyrol- 5,974 Block-Copolymer, Kraton® 1107,
Shell Chemical Co., Polymers
Division, Houston, Texas (U.S.A.)
Methylenchlorid23,933
Polystyrol-polyisopren-polystyrol- 5,974 Block-Copolymer, Kraton® 1107,
Shell Chemical Co., Polymers
Division, Houston, Texas (U.S.A.)
Methylenchlorid23,933
(C)
Polymethylmethacrylat (34)/Acrylnitril (8)/ 5,974 Butadien (16)/Styrol (42)-Interpolymer
Methylenchlorid23,933 Wingtack Plus® Polyterpene Tackifying Resin, 4,787 Goodyear Chemical Co., Akron, Ohio (U.S.A.)
Polymerer Sensibilisator³) 1,915
Polymethylmethacrylat (34)/Acrylnitril (8)/ 5,974 Butadien (16)/Styrol (42)-Interpolymer
Methylenchlorid23,933 Wingtack Plus® Polyterpene Tackifying Resin, 4,787 Goodyear Chemical Co., Akron, Ohio (U.S.A.)
Polymerer Sensibilisator³) 1,915
¹) Victoria-Grün, C.I. Pigment Green 18 (Pigment
30%), in der Walzenmühle vermischt mit Methyl
methacrylat (34)/Acrylnitril (8)/Butadien (16)/-
Styrol (42)-Interpolymer;
²) α-Methylstyrol/Vinyltoluol-Harz (Erweichungspunkt 100°C; Brechungsindex 1,583; Viskosität bei 25°C für eine 65-proz. Lösung in Toluol 1,6 bis 1,9 P);
³) Terpolymer aus Methylacrylat, Methylmethacrylat und einem Farbstoff, enthaltend in statistischer Ver teilung 11,4% Methacrylat, 82,9% Methyl methacrylat und 5,7% Farbstoff, mit der Formel
²) α-Methylstyrol/Vinyltoluol-Harz (Erweichungspunkt 100°C; Brechungsindex 1,583; Viskosität bei 25°C für eine 65-proz. Lösung in Toluol 1,6 bis 1,9 P);
³) Terpolymer aus Methylacrylat, Methylmethacrylat und einem Farbstoff, enthaltend in statistischer Ver teilung 11,4% Methacrylat, 82,9% Methyl methacrylat und 5,7% Farbstoff, mit der Formel
worin w 181 000 und n 22 000 ist.
Zur Herstellung von 100 g Lösung:
Man bereitet die Lösungen (A), (B) und (C) wie oben
bezeichnet durch Auflösen der zu lösenden Stoffe in den
Lösungsmitteln unter Rühren. Man setzt das klebrig
machende Harz und den polymeren Sensibilisator zu und
dreht 16 h auf einer Rüttelmaschine in einer Flasche
von 113,4 g, die zu einem Drittel mit Kugeln
aus nichtrostendem Stahl mit einem Durchmesser von ca.
3,18 mm gefüllt ist. Die vermischte Zusammen
setzung wird auf einen Polyethylenterephthalat-Film
mit einer Dicke von 0,0025 mm, der auf
der beschichteten Seite mit Trennmittel
behandelt worden war, mittels einer Rakel von
0,33 mm mit einer Geschwindigkeit von
1,83 m/min aufgetragen und bei 49°C
getrocknet, wodurch eine trockene Schicht mit
einer Dicke von 0,038 mm gebildet wird.
Eine Polyethylenterephthalat-Deckfolie mit einer darauf
aufgebrachten Trennschicht aus Polydimethylsiloxan,
wodurch der Überzug trocken ein Überzugsgewicht von
etwa 125 mg/dm² erhielt, wurde auf die lichtempfindliche
Schicht unter 2,76 bar (2,81 kg/cm²) und
bei Raumtemperatur laminiert.
Die folgenden Bestandteile werden, wie nachstehend auf
geführt, miteinander vermischt zur Herstellung einer
Zusammensetzung zur Bildung der zweiten lichtempfindlichen
Schicht des Films, die für ultraviolette Strahlung
empfindlich ist.
BestandteileMenge (Teile)
Methylmethacrylat-Polymer der Formel -[CH₂-C(CH₃)COOCH₃] n , 8,038
in der n 400 ist;
mit einer logarithmischen Viskositätszahl von 0,20 bis 0,22
für eine Lösung von 0,25 g in 50 ml Chloroform bei 25°C,
einer Brookfield-Viskosität von 700 bis 1400 bei 25°C
für eine Lösung in Toluol, die 37,5 Gew.-% enthält;
Dichte 1,19 g/cm³.
Methylmethacrylat-Polymer der obigen Formel, worin w etwa 200 000 ist; 6,493 mit einer logarithmischen Viskositätszahl von 1,25 bis 1,50
bestimmt unter den gleichen Bedingungen wie bei dem obigen Polymer,
einer Brookfield-Viskosität von 900 bis 1850
unter den gleichen Bedingungen wie bei dem obigen Polymer,
mit der Ausnahme, daß die Lösung 17,5 Gew.-% enthält;
Dichte 1,20 g/cm³.
Trimethylolpropan-trimethacrylat 8,012 4-Morpholinobenzophenon 0,141 Tri-(2-methyl-4-N,N-diethylaminophenyl)methan 0,088 Leukokristallviolett 0,026 Grün-Pigment der ersten lichtempfindlichen Schicht 0,011 Dioctylphthalat 2,387 Triethylenglycoldiacetat 1,188 4,4′-Dichlorobenzophenon 1,105 N-Phenylglycin 0,141 Methylenchlorid66,517 Methanol 5,839
mit einer logarithmischen Viskositätszahl von 0,20 bis 0,22
für eine Lösung von 0,25 g in 50 ml Chloroform bei 25°C,
einer Brookfield-Viskosität von 700 bis 1400 bei 25°C
für eine Lösung in Toluol, die 37,5 Gew.-% enthält;
Dichte 1,19 g/cm³.
Methylmethacrylat-Polymer der obigen Formel, worin w etwa 200 000 ist; 6,493 mit einer logarithmischen Viskositätszahl von 1,25 bis 1,50
bestimmt unter den gleichen Bedingungen wie bei dem obigen Polymer,
einer Brookfield-Viskosität von 900 bis 1850
unter den gleichen Bedingungen wie bei dem obigen Polymer,
mit der Ausnahme, daß die Lösung 17,5 Gew.-% enthält;
Dichte 1,20 g/cm³.
Trimethylolpropan-trimethacrylat 8,012 4-Morpholinobenzophenon 0,141 Tri-(2-methyl-4-N,N-diethylaminophenyl)methan 0,088 Leukokristallviolett 0,026 Grün-Pigment der ersten lichtempfindlichen Schicht 0,011 Dioctylphthalat 2,387 Triethylenglycoldiacetat 1,188 4,4′-Dichlorobenzophenon 1,105 N-Phenylglycin 0,141 Methylenchlorid66,517 Methanol 5,839
Zur Herstellung von 100 g Lösung:
Man löst die Bestandteile in dem Mischlösungsmittel
durch 16 h Drehen auf einer Rüttelmaschine in einer
Flasche von 113,4 g, die zu einem Drittel mit
Kugeln aus nichtrostendem Stahl mit einem Durchmesser
von ca. 3,18 mm gefüllt ist. Die vermischte
Zusammensetzung wird auf einen Polyethylentere
phthalat-Film mit einer Dicke von 0,0025 mm
mittels einer Rakel von 0,10 mm mit
einer Geschwindigkeit von 1,83 m/min auf
getragen, behandelt und bei 120°C getrocknet, wodurch
eine trockene Schicht mit einer Dicke von 0,013 mm
gebildet wird. Eine Polyethylen-Deckfolie
wird auf die lichtempfindliche Schicht unter
2,76 bar (2,81 kg/cm²) und bei 77°C
Walzentemperatur laminiert.
Die Deckfolie auf der ersten lichtempfindlichen Schicht
wird entfernt, und die Schicht wird auf einen Schicht
träger laminiert, der aus einem Material bestehen kann,
das die erforderlichen mechanischen Eigenschaften und
einen angemessenen elektrischen Widerstand besitzt,
z. B. eine Schaltungsplatine aus Phenolharz, eine
Schaltungsplatine aus Epoxy-Harz etc. Alternativ kann die
erste lichtempfindliche Schicht auf eine vorher herge
stellte Schaltungs-Schicht mit Durchgängen und
Schaltungsleitungen laminiert werden, die nach dem erfin
dungsgemäßen Verfahren oder nach anderen Verfahren her
gestellt worden sein kann, beispielsweise durch Druck-
oder Ätz-Verfahren, in denen ein Resist auf ein Kupfer
blech aufgebracht wird und das unerwünschte Kupfer
durch chemisches Ätzen entfernt wird, durch zusätzliche
Verfahren, in denen Kupfer oder ein Katalysator bild
mäßig aufgebracht wird und stromlos plattiert wird,
wodurch eine Schaltung gebildet wird, oder durch Druck
verfahren, in denen eine leitfähige Druckfarbe durch
Siebdruck etc. aufgetragen wird. Die Polyethylentere
phthalat-Folie wird dann entfernt, und nach dem Ent
fernen der Deckfolie von der zweiten lichtempfindlichen
Schicht wird diese Schicht bei etwa 20°C auf die erste
Schicht laminiert. Das Laminat ist in Fig. 1A darge
stellt, in der der (eine gedruckte Schaltung tragende)
Schichtträger, die erste lichtempfindliche Schicht bzw.
die zweite lichtempfindliche Schicht mit 1, 2 bzw. 3
bezeichnet sind. Eine Photomaske (4 in Fig. 1B) mit
klaren (5 in Fig. 1B), undurchlässigen (6 in Fig. 1B)
und gelben (7 in Fig. 1B) Bildbereichen, die dielektrischen
Bereichen, Durchgangswegen und Schaltungsbereichen
in der gewünschten Schaltung entsprechen, wird auf
die zweite lichtempfindliche Schicht plaziert, und der
zweischichtige Film wird der Schaltung einer Lichtquelle
für Ultraviolett-Strahlung und sichtbarem Licht
ausgesetzt. Der Film wird mit etwa 100 Licht-Einheiten
belichtet, wobei ein Lichtenergie-
Integrator benutzt wird. Der Wert kann von Drucker
zu Drucker schwanken. Nach dem Entfernen der Photo
maske werden die ungehärteten Bereiche des Films durch
Sprühen mit 1,1,1-Trichloroethylen-Lösungsmittel ent
fernt. Nach der Entfernung der ungehärteten Bereiche
enthalten die dielektrischen Schichten Bereiche, in
denen die zwei Schichten vollständig entfernt sind (wo
Leitungswege erzeugt werden), Bereiche, in denen nur die
obere Schicht entfernt ist (wo Schaltungsleitungen erzeugt
werden), und Bereiche, wo beide Schichten intakt sind
(Nicht-Schaltungsflächen). Dies ist in Fig. 1C veran
schaulicht, in der ein (Leitungs-)Weg als 8 bezeichnet
ist. Auf die klebrigen Bereiche wird Kupfer-Pulver
(9 in Fig. 1D) mit einer mittleren Teilchengröße von etwa
1 µm aufgebracht, indem man das Pulver über die Ober
fläche rieseln läßt. Das Kupfer-Pulver fällt in die
Rillen und Leitungslöcher, wobei es die klebrige Unter
seite der Schaltungsleitungen und Kanten der Leitungs
weg-Löcher überzieht, wie dies in Fig. 1D dargestellt
ist. Die getonte Oberfläche wird entfettet durch
Waschen mit warmer Seifenlösung mit einem pH von etwa
9, gefolgt von Spülen mit warmem Wasser, und das getonte
Element wird abkühlen gelassen. Das getonte Element
wird 15 s in eine 1-proz. Schwefelsäure-Lösung getaucht
und dann jeweils 30 s in einem Wasser-Behälter und in
einem Behälter mit destilliertem Wasser abgespült. Das
gespülte getonte Element wird sofort in ein Kupfer-
Bad zum stromlosen Plattieren gegeben
und 2 h in diesem Plattierungsbad
belassen. Nach dem stromlosen Plattieren wird die
Schaltungsschicht (10 in Fig. 1E) gebürstet oder
poliert, um etwaigen Schmutz oder Ablagerungen zu ent
fernen und eine glatte gleichmäßige Oberfläche für die
nächste Schaltungsschicht - falls eine solche zur
Anwendung kommt - zu bereiten, ohne die Unversehrtheit
der Kupferleitungen in den Schaltungsrillen zu stören.
Dies ist in Fig. 1E veranschaulicht. Eine brauchbare
zweischichtige gedruckte Schaltung wird durch Verbinden
der ursprünglichen gedruckten Schaltung auf dem Substrat
mit der neuen Schaltung erhalten.
Beispiel 1 wird wiederholt, jedoch mit der Abweichung,
daß an Stelle des Einsatzes der Photomaske mit klaren,
undurchlässigen und gelben Bildbereichen der dielek
trische Film zwei Belichtungen durch zwei verschiedene
schwarze und klare Masken unterworfen wird. Nach dem
Laminieren auf einen Schichtträger oder auf eine vorher
hergestellte Schaltungsschicht wird der Film durch eine
Maske mit schwarzen und klaren Bildbereichen belichtet,
in dem die Leitungswege maskiert sind. Der Film wird
der Einstrahlung von etwa 50 Einheiten sichtbarem Licht
(etwa 2,3 min) unter Verwendung eines
Printers mit einer Lampe mit ausgedehntem Bereich,
die zwischen Gerät und Maske mit einem Filter
versehen ist, ausgesetzt. Die
zweite Belichtung erfolgt durch ultraviolette und sicht
bare Belichtung unter Verwendung des gleichen Printers,
wie er im Vorstehenden beschrieben wurde, jedoch ohne
das Filter, durch eine Maske mit schwarzen und klaren
Bildbereichen, worin die Leitungswege und die
Schaltungsleitungen maskiert sind. Die zweite Maske wird in
Ausrichtung mit der ersten Maske angeordnet. Die nach
dem Entwickeln, Tonen mit Kupfer-Pulver und stromlosen
Plattieren entsprechend der Beschreibung in Beispiel 1 erhaltene zweischichtige gedruckte Schaltung ist der in
Beispiel 1 beschriebenen ähnlich.
Claims (18)
1. Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung,
bei dem
- (a) auf einen Schichtträger eine erste dauerhaft klebrige lichtempfindliche Schicht, die durch Strahlung längerer Wellenlängen härtbar ist und darauf eine zweite lichtempfindliche Schicht, die durch Strahlung kürzerer Wellenlängen härtbar ist, aufge bracht werden;
- (b) die lichtempfindlichen Schichten bildmäßig durch eine Maske oder Maskenkombination belichtet werden, die in einigen Bildbereichen nur längerwelliges Licht durchlassen, so daß nur die erste Schicht gehärtet wird und in anderen Bildbereichen auch kurzwelliges Licht durchlassen, so daß beide Schichten gehärtet werden;
- (c) die ungehärteten Bereiche der beiden Schichten mittels eines Lösungsmittels entfernt werden;
- (d) ein feinteiliges Metall, eine Legierung oder ein Plattierungs-Katalysator-Material auf die unbe deckten klebrigen Bereiche der ersten Schicht auf gebracht wird und
- (e) das metallisierte oder katalysierte Bild zur Bildung einer elektrisch leitenden Schaltung plattiert wird.
2. Verfahren zur Herstellung einer mehrere Schichten
umfassenden gedruckten Schaltung mit leitenden Verbin
dungen zwischen den Schichten, dadurch gekennzeichnet,
daß eine gedruckte Schaltung nach Anspruch 1 herge
stellt wird und nach Beendigung des Schrittes (e) die
Schritte (a) bis (e) wenigstens einmal wiederholt werden,
wobei das in Schritt (e) neu plattierte Schaltungs
muster für den nachfolgenden Schritt (a) eingesetzt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
in der ersten lichtempfindlichen Schicht ein polymerer
Sensibilisator eingesetzt wird, der Licht in dem
Spektralgebiet von 400 bis 520 nm absorbiert.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die zwei lichtempfindlichen Schichten auf den Schicht
träger durch Laminieren bei Temperaturen von 90°C bis
125°C aufgebracht werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die zwei lichtempfindlichen Schichten auf den Schicht
träger in einem Laminierungsschritt aufgebracht werden.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die zwei lichtempfindlichen Schichten in zwei aufeinander
folgenden Laminierungen aufgebracht werden, wobei
die erste Schicht auf den Schichtträger und die zweite
Schicht auf die erste Schicht laminiert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die lichtempfindlichen Schichten mittels Strahlung
durch eine dichrome Maske belichtet werden, die schwarze
und gelbe Muster aufweist.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
mit sichtbarem Licht und ultravioletter Strahlung
belichtet wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
ein feinteiliges Metall aus Metallteilchen mit einem
mittleren Durchmesser von 0,5 bis 25 µm verwendet wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
als Metallteilchen Kupfer verwendet wird.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
nach dem Auftragen des Metalls, der Legierung oder des
Plattierungs-Katalysators ein etwa vorhandener Über
schuß von den nicht-klebrigen Bildbereichen entfernt
wird.
12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
nach dem Plattieren die Schaltung gebürstet oder
poliert wird.
13. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
in der ersten lichtempfindlichen Schicht ein Zusatz
stoff eingesetzt wird, der sie dauerhaft klebrig macht.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
als klebrig machender Zusatzstoff ein Polyterpen-Harz
eingesetzt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
der klebrig machende Zusatzstoff aus der Gruppe der
Gummen ausgewählt ist.
16. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Belichten der Schichten mittels aktinischer Strahlung
durch eine Maskenkombination eine Verbund-Belichtung
der Schichten ist, die nacheinander und in genauer
Ausrichtung durch zwei schwarze/klare Photomasken hin
durch erfolgt, wobei die Belichtung durch die eine
Photomaske mittels sichtbarer Strahlung und die Belichtung
durch die zweite Photomaske mittels ultravioletter und
sichtbarer Strahlung erfolgt.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß
die Belichtung durch die eine Photomaske mittels sicht
baren Lichtes durch eine gefilterte Strahlung erfolgt
und die Belichtung durch die zweite Photomaske mittels
der ungefilterten Strahlung erfolgt.
18. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Belichtung durch eine Photomaske mit Bildbe
reichen erfolgt, in denen Wege maskiert sind, und die
zweite Belichtung durch eine Photomaske mit Bildbereichen
erfolgt, in denen die Wege und Schaltungsleitungen
maskiert sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/675,229 US4631111A (en) | 1984-11-27 | 1984-11-27 | Dichromic process for preparation of conductive circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3541427A1 DE3541427A1 (de) | 1986-06-05 |
DE3541427C2 true DE3541427C2 (de) | 1988-09-01 |
Family
ID=24709578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853541427 Granted DE3541427A1 (de) | 1984-11-27 | 1985-11-23 | Dichromes verfahren zur herstellung einer leitfaehigen schaltung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4631111A (de) |
JP (1) | JPS61143740A (de) |
DE (1) | DE3541427A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19525221A1 (de) * | 1994-07-11 | 1996-01-25 | Toshiba Kawasaki Kk | Lichtempfindliches Material |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4902610A (en) * | 1985-08-02 | 1990-02-20 | Shipley Company Inc. | Method for manufacture of multilayer circuit board |
EP0390775A1 (de) * | 1987-12-15 | 1990-10-10 | Oy Partek Ab | Schleifstein |
US5068714A (en) * | 1989-04-05 | 1991-11-26 | Robert Bosch Gmbh | Method of electrically and mechanically connecting a semiconductor to a substrate using an electrically conductive tacky adhesive and the device so made |
DE3913116C1 (de) * | 1989-04-21 | 1990-11-08 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
DE3913115A1 (de) * | 1989-04-21 | 1990-10-25 | Du Pont Deutschland | Verfahren zur herstellung von elektrisch leitfaehigen mustern |
DE3913117A1 (de) * | 1989-04-21 | 1990-10-25 | Du Pont Deutschland | Verfahren zur herstellung von elektrisch leitfaehigen mustern |
US5716663A (en) * | 1990-02-09 | 1998-02-10 | Toranaga Technologies | Multilayer printed circuit |
US5266446A (en) * | 1990-11-15 | 1993-11-30 | International Business Machines Corporation | Method of making a multilayer thin film structure |
US5209817A (en) * | 1991-08-22 | 1993-05-11 | International Business Machines Corporation | Selective plating method for forming integral via and wiring layers |
US5240817A (en) * | 1991-12-20 | 1993-08-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Lamination of a photopolymerizable solder mask layer to a substate containing holes using an intermediate photopolymerizable liquid layer |
JP2000250157A (ja) | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性ハロゲン化銀写真乳剤およびこれを含有するハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2002122954A (ja) | 2000-08-08 | 2002-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性ハロゲン化銀写真乳剤、これを含有するハロゲン化銀写真感光材料および感光性ハロゲン化銀写真乳剤の感度向上方法 |
CN103687334A (zh) * | 2013-12-02 | 2014-03-26 | 深圳市景旺电子股份有限公司 | 一种解决单面开窗pcb板上防焊塞孔冒油的方法 |
JP6015969B2 (ja) | 2014-08-19 | 2016-10-26 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 回路基板の形成方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3751248A (en) * | 1971-12-27 | 1973-08-07 | Bell Telephone Labor Inc | Method of selective multilayered etching |
US4157407A (en) * | 1978-02-13 | 1979-06-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Toning and solvent washout process for making conductive interconnections |
US4411980A (en) * | 1981-09-21 | 1983-10-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of flexible circuits |
US4469777A (en) * | 1983-12-01 | 1984-09-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Single exposure process for preparing printed circuits |
US4572764A (en) * | 1984-12-13 | 1986-02-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of photoformed plastic multistrate by via formation first |
-
1984
- 1984-11-27 US US06/675,229 patent/US4631111A/en not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-11-23 DE DE19853541427 patent/DE3541427A1/de active Granted
- 1985-11-26 JP JP60263944A patent/JPS61143740A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19525221A1 (de) * | 1994-07-11 | 1996-01-25 | Toshiba Kawasaki Kk | Lichtempfindliches Material |
DE19525221C2 (de) * | 1994-07-11 | 2003-11-13 | Toshiba Kawasaki Kk | Lichtempfindliches Material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61143740A (ja) | 1986-07-01 |
US4631111A (en) | 1986-12-23 |
DE3541427A1 (de) | 1986-06-05 |
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DE2623850A1 (de) | Lichtempfindliches mehrschichtmaterial und verfahren zur bildreproduktion |
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