DE19654007A1 - Apparatus for cathode sputtering for use in coating installations - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Ka thodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat mittels einer in einer Vakuumkammer ein bringbaren Zerstäubungskathode, die mit Bezug auf die Mittelachse der Zerstäubungskathode Polschuhe, ein Tar get und mindestens einen konzentrisch angeordneten Ma gneten bzw. Ringmagneten aufweist.The invention relates to a device for Ka sputtering for the production of layers a substrate by means of a in a vacuum chamber bringable sputtering cathode, which with respect to the Central axis of the sputtering cathode pole shoes, a tar get and at least one concentrically arranged dimension gneten or has ring magnets.
Es ist bereits eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die statische Beschichtung scheibenförmiger Sub strate mittels eines Plasmas in einer Vakuumkammer mit mindestens einer Öffnung bekannt (DE 43 15 023 A1), welche durch Auflegen einer Zerstäubungskathode von außen verschließbar ist. Zwischen der Kathode und der Kammerwand sind ein elastischer Vakuumdichtring sowie eine ringförmige Anode vorgesehen, die die Öffnungen radial von außen umgeben, wobei die Anode auf ihrer zur Kathode hin zeigenden Seite eine ebene Kontaktfläche aufweist. Die bekannte Zerstäubungskathode besteht aus einem scheibenförmigen, ferromagnetischen Joch und einer Kühlplatte. Zwischen beiden ist ein scheibenför miger Isolator eingelegt. Vor der Kühlplatte befindet sich das zu zerstäubende Target, während auf der Rück seite der Kühlplatte in einer Nut ein ringförmig ange ordneter Magnet eingelegt ist. Durch den ringförmig an geordneten Magneten wird ein Gegenmagnetfeld erzeugt, welches den Verlauf der Magnetfeldlinien beeinflußt. Hierdurch erhält der Verlauf der Magnetfeldlinien einen annähernd parallelen bzw. linsenförmigen oder konvexen Verlauf.It is already a cathode sputtering device for the static coating of disc-shaped sub strate using a plasma in a vacuum chamber at least one opening is known (DE 43 15 023 A1), which by placing a sputtering cathode of is closable on the outside. Between the cathode and the Chamber wall are an elastic vacuum sealing ring as well an annular anode is provided covering the openings surrounded radially from the outside, with the anode on its to Side facing cathode a flat contact surface having. The known sputtering cathode consists of a disc - shaped, ferromagnetic yoke and a cooling plate. There is a disc-shaped between the two Insulator inserted. Located in front of the cooling plate the target to be atomized while on the back side of the cooling plate in a groove in a ring ordered magnet is inserted. Through the ring orderly magnets, a counter magnetic field is generated, which influences the course of the magnetic field lines. This gives the course of the magnetic field lines one approximately parallel or lenticular or convex Course.
Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die Eisenkerne derart anzuordnen oder das Magnetfeld derart zu gestalten, daß die Targetausbeute verbessert wird und gleichzeitig eine hohe Gleichmäßigkeit in der Schichtdicke erzielt wird.In contrast, the invention is based on the object to arrange the iron cores or the magnetic field to be designed in such a way that the target yield is improved is and at the same time high uniformity in the Layer thickness is achieved.
Gelöst wird die Aufgabe erfindungsgemäß dadurch, daß das Joch geteilt und rotationssymmetrisch ausgebildet ist und daß im Bereich des Ringmagneten mindestens ein ein veränderbares Magnetfeld erzeugendes Teil oder ein drehbarer Eisenkern vorgesehen ist.According to the invention, the object is achieved in that the yoke divided and rotationally symmetrical is and that in the area of the ring magnet at least one a changeable magnetic field generating part or a rotatable iron core is provided.
Ferner ist es vorteilhaft, daß das Joch stufenförmig ausgebildet ist.It is also advantageous that the yoke is stepped is trained.
Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß im Bereich der Jochplatte oder im Bereich des Außenumfangs der Jochplatte mindestens der Ringmagnet vorgesehen ist, wobei zwischen dem Target oder zwischen der Targetrück seite und der Jochplatte mindestens eine erste Ringspule und/oder ein Eisenkern vorgesehen ist.An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that in the area the yoke plate or in the area of the outer circumference of the Yoke plate at least the ring magnet is provided, being between the target or between the target back side and the yoke plate at least a first Annular coil and / or an iron core is provided.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß im Bereich des Außenumfangs des Targets der erste Eisenkern und im Bereich des Kühlkopfs der zweite Eisenkern vorgesehen ist.In a further embodiment of the invention, it is advantageous liable that in the area of the outer circumference of the target first iron core and in the area of the cooling head the second Iron core is provided.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungs gemäßen Lösung ist schließlich vorgesehen, daß die bei den Eisenkerne etwas oberhalb der oberen Begrenzung oder der Rückseite des Targets vorgesehen sind. According to a preferred embodiment of the Invention appropriate solution is finally provided that the at the iron cores a little above the upper limit or the back of the target are provided.
Von besonderer Bedeutung ist für die vorliegende Erfin dung, daß die beiden Eisenkerne auf der gleichen Querebene angeordnet sind.Is of particular importance for the present inventor that the two iron cores are on the same Transverse plane are arranged.
Im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen Ausbildung und Anordnung ist es von Vorteil, daß die beiden Eisen kerne auf der gleichen Querebene zwischen einer ersten oder zweiten Jochplatte und der Rückseite des Targets angeordnet sind.In connection with the training according to the invention and arrangement it is advantageous that the two irons nuclei on the same transverse plane between a first one or second yoke plate and the back of the target are arranged.
Vorteilhaft ist es ferner, daß der im Bereich des Außenumfangs des ersten und/oder zweiten Jochs vorge sehene Ringmagnet zwischen der unteren bzw. ersten Jochplatte und der oberen bzw. zweiten Jochplatte vor gesehen ist.It is also advantageous that the in the area of Pre-perimeter of the first and / or second yoke see ring magnet between the lower or first Yoke plate and the upper or second yoke plate is seen.
Außerdem ist es vorteilhaft, daß die beiden Eisenkerne und der Ringmagnet konzentrisch zur Mittelachse der Zerstäubungskathode angeordnet sind.It is also advantageous that the two iron cores and the ring magnet concentric to the central axis of the Atomizing cathode are arranged.
Hierzu ist es vorteilhaft, daß der Ringmagnet einen Außendurchmesser aufweist, der in etwa gleich, etwas kleiner oder etwas größer als der Außendurchmesser des ersten Eisenkerns ist.For this purpose, it is advantageous that the ring magnet has a Has outer diameter that is approximately the same, somewhat smaller or slightly larger than the outside diameter of the first iron core.
Ferner ist es vorteilhaft, daß in einem zwischen Target und mindestens einer Jochplatte vorgesehenen Isolator und/oder dem Target Ringkammern zur Aufnahme der Eisen kerne vorgesehen sind.It is also advantageous that in a between target and at least one yoke plate provided isolator and / or the target ring chambers for receiving the iron cores are provided.
Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß die zwei Eisenkerne unterschiedlich große Durchmesser aufweisen. An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that the two Iron cores have different diameters.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß der zweite Eisenkern einen kleineren Außen durchmesser aufweist als der erste Eisenkern.In a further embodiment of the invention, it is advantageous sticks that the second iron core has a smaller exterior diameter than the first iron core.
Wie zuvor beschrieben, gewährleistet die Ausbildung, daß der Ringmagnet eine in Richtung des Substrats zei gende N/S-Polung aufweist.As previously described, the training ensures that the ring magnet shows one in the direction of the substrate has the N / S polarity.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß ein Abschirmteil zwischen den beiden Eisen kernen vorgesehen ist.In a further embodiment of the invention, it is advantageous sticks that a shielding part between the two irons cores is provided.
Eine zusätzliche Möglichkeit gemäß einer Weiterbildung der erfindungsgemäßen Antriebsvorrichtung besteht darin, daß das Abschirmteil zwischen einer der Joch platten und dem Target vorgesehen ist.An additional option according to further training the drive device according to the invention in that the shielding part between one of the yokes plates and the target is provided.
Von Vorteil ist es ferner, daß das Abschirmteil zwi schen einer der Jochplatten und/oder einem Isolator und dem Target vorgesehen ist.It is also advantageous that the shielding part between one of the yoke plates and / or an insulator and the target is provided.
Eine wesentliche, vorteilhafte Ausführungsform erreicht man dadurch, daß die beiden Jochplatten mit Bezug auf die Mittelachse mit Abstand zueinander angeordnet sind.An essential, advantageous embodiment is achieved one in that the two yoke plates refer to the center axis are spaced apart.
Vorteilhaft ist es außerdem, daß der Abstand zwischen den beiden Jochplatten in etwa der Höhe des Ringmagne ten entspricht.It is also advantageous that the distance between the two yoke plates at about the height of the ring magnet corresponds to ten.
Ferner ist es vorteilhaft, daß die beiden Jochplatten unterschiedlich große Außendurchmesser aufweisen bzw. in Form einer Treppenstufe angeordnet sind.It is also advantageous that the two yoke plates have different outer diameters or are arranged in the form of a step.
Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß die im Außendurchmesser kleinere Jochplatte mit dem Kühlfinger und die im Außendurchmesser größere Jochplatte mit dem Polschuh mittel- oder unmittelbar verbunden ist.An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that the im Outer diameter of the smaller yoke plate with the cooling finger and the larger yoke plate with the outer diameter Pole shoe is connected directly or indirectly.
Hierzu ist es vorteilhaft, daß im Bereich eines Pol schuhs ein ein veränderbares Magnetfeld erzeugendes Teil bzw. ein Eisenkern vorgesehen ist.For this purpose, it is advantageous that in the area of a pole shoes a variable magnetic field Part or an iron core is provided.
Außerdem ist es vorteilhaft, daß das ein Magnetfeld er zeugende Teil bzw. der Eisenkern an der Mittelachse des Polschuhs drehbar angeordnet ist.It is also advantageous that he has a magnetic field Constructive part or the iron core on the central axis of the Pole is rotatably arranged.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß der Eisenkern an einem mit der Mittelachse drehbar verbundenen Tragarm befestigt ist.In a further embodiment of the invention, it is advantageous adheres to the iron core at one with the central axis rotatably connected support arm is attached.
Ferner ist es vorteilhaft, daß der Tragarm in etwa parallel zur Oberfläche der ersten und/oder zweiten Jochplatte angeordnet ist und an seinem äußeren, freien Ende den Eisenkern trägt.It is also advantageous that the support arm approximately parallel to the surface of the first and / or second Yoke plate is arranged and on its outer, free End carries the iron core.
Von Vorteil ist es ferner, daß der Eisenkern mittels einer Antriebsvorrichtung um eine Mittelachse antreib bar ist.It is also advantageous that the iron core by means of drive a drive device about a central axis is cash.
Vorteilhaft ist es außerdem, daß der an die Eisenkerne angelegte Strom in Abhängigkeit eines Zeitfaktors ver änderbar ist.It is also advantageous that the iron cores applied current depending on a time factor ver is changeable.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß der an die Eisenkerne angelegte Strom bzw. die Stromzufuhr zu den Eisenkernen über eine Steuer kurve bzw. über ein vorab festgelegtes Programm steuer bar ist und die Stromleitungen hierzu über einen Strom teiler mit einem Rechner in Wirkverbindung stehen.In a further embodiment of the invention, it is advantageous liable that the current applied to the iron cores or the power supply to the iron cores via a tax curve or via a predetermined program tax bar and the power lines for this via a current are in active connection with a computer.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung sind in den Patentansprüchen und in der Beschreibung erläutert und in den Figuren dargestellt, wobei bemerkt wird, daß alle Einzelmerkmale und alle Kombinationen von Einzel merkmalen erfindungswesentlich sind. Es zeigt:Further advantages and details of the invention are in the claims and explained in the description and shown in the figures, it being noted that all individual features and all combinations of individual features are essential to the invention. It shows:
Fig. 1 eine Schnittdarstellung eines Targets mit mehreren konzentrisch angeordneten Spulen und einem Ring aus Permanent magneten, Fig. 1 is a sectional view of the magnet of a target with a plurality of concentrically arranged coils and a ring of permanent,
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines treppenförmig ausgebildeten Jochs, Fig. 2 is a schematic representation of a step-shaped yoke,
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines Polschuhs mit den entsprechenden Ma gnetfeldlinien, Figure 3 is a schematic representation gnetfeldlinien. A pole piece with the corresponding Ma,
Fig. 4 bis 7 vier schematische Darstellungen eines treppenförmig ausgebildeten Jochs mit verschiedenen Anordnungen der Spulen bzw. der Eisenkerne bzw. des Abschirm teils. Fig. 4 to 7 four schematic representations of a stepped yoke with various arrangements of the coils or the iron cores or the shielding part.
Es ist eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat, bei spielsweise einer Compact Disk 27, dargestellt. Für den Prozeßablauf kann die mit 2 bezeichnete Zerstäubungs kathode in eine Kammerwand 1 der Vorrichtung zur Katho denzerstäubung eingesetzt werden. Die Kathode besteht aus einem scheibenförmigen, ferromagnetischen, ersten, unteren Joch 21' (I) und einem mit Abstand dazu ange ordneten, zweiten bzw. oberen Joch 21 (II). Das erste Joch 21' hat einen Durchmesser, der größer ausgebildet ist als der Durchmesser des zweiten Jochs 21.A device for cathode sputtering for the production of layers on a substrate, for example a compact disk 27 , is shown. For the process flow, the atomization cathode denoted by 2 can be used in a chamber wall 1 of the device for cathode atomization. The cathode consists of a disk-shaped, ferromagnetic, first, lower yoke 21 '(I) and a second or upper yoke 21 (II) arranged at a distance from it. The first yoke 21 ′ has a diameter that is larger than the diameter of the second yoke 21 .
Wie aus den Fig. 1 und 2 hervorgeht, sind die beiden Joche 21, 21' in Form einer Treppenstufe rotationssym metrisch zu einer Längsmittelachse 44 der Zerstäubungs kathode 2 angeordnet und weisen untereinander einen ausreichend großen Abstand auf, so daß in diesen Zwi schenraum ein ringförmig angeordneter Magnet 9 eben falls rotationssymmetrisch zur Längsmittelachse 44 mit entsprechender Höhe des Zwischenraums angeordnet werden kann. Dieser ringförmig angeordnete Magnet 9 weist mit Bezug auf ein Target 8 eine N/S-Polung auf.As shown in FIGS. 1 and 2 can be seen, the two yokes 21, 21 'in the form of a stair step rotationssym metric to a longitudinal central axis 44 of the sputtering cathode 2 arranged and have each other at a sufficiently large distance so that c region in this interim an annularly arranged magnet 9 even if it can be arranged rotationally symmetrically to the longitudinal central axis 44 with a corresponding height of the intermediate space. This ring-shaped magnet 9 has an N / S polarity with respect to a target 8 .
Die im Außendurchmesser kleinere bzw. innere Joch platte 21 ist mit einem Kühlfinger 74 und die im Außen durchmesser größere Jochplatte 21' mit einem Pol schuh 14 mittel- oder unmittelbar verbunden.The outer diameter smaller or inner yoke plate 21 is directly or indirectly connected to a cooling finger 74 and the outer diameter larger yoke plate 21 'with a pole shoe 14 .
Im Bereich der Jochplatten 21, 21' ist z. B. in Fig. 3 ein ein veränderbares Magnetfeld erzeugendes Teil bzw. eine oder mehrere Magnetspulen 76, 77 vorgesehen.In the area of the yoke plates 21 , 21 'z. For example, in FIG. 3 a part generating a changeable magnetic field or one or more magnetic coils 76 , 77 are provided.
Die beiden in Fig. 1 dargestellten Magnetspulen 76, 77 liegen auf einer gleichen Querebene unterhalb der un teren, horizontal verlaufenden Ebene der Joch platte 21'.The two magnet coils 76 , 77 shown in FIG. 1 lie on the same transverse plane below the lower, horizontal plane of the yoke plate 21 '.
Im Bereich des Außenumfangs 55 des Targets 8 kann die erste Magnetspule 76 und im Bereich des Kühlfingers bzw. Kühlkopfs 74 die zweite Magnetspule 77 vorgesehen sein. Die beiden Magnetspulen 76, 77 sind etwas ober halb einer oberen Begrenzung 57 oder der Rückseite 40 des Targets 8 vorgesehen. Es ist dabei vorteilhaft, wenn der im Bereich des Außenumfangs des ersten und/oder zweiten Jochs 21, 21' vorgesehene, ringförmig angeordnete Magnet 9 zwischen der oberen bzw. zweiten Jochplatte 21 und der unteren bzw. ersten Joch platte 21' vorgesehen ist und die beiden Magnetspu len 76, 77 und der ringförmig angeordnete Magnet 9 kon zentrisch zur Mittelachse 44 der Zerstäubungskathode 2 angeordnet sind.The first magnet coil 76 can be provided in the area of the outer circumference 55 of the target 8 and the second magnet coil 77 can be provided in the area of the cooling finger or cooling head 74 . The two magnetic coils 76 , 77 are provided somewhat above half an upper boundary 57 or the rear 40 of the target 8 . It is advantageous if the provided in the region of the outer periphery of the first and / or second yoke 21 , 21 ', arranged in a ring-shaped magnet 9 between the upper or second yoke plate 21 and the lower or first yoke plate 21 ' is provided and the both Magnetspu len 76 , 77 and the ring-shaped magnet 9 are arranged con centrically to the central axis 44 of the sputtering cathode 2 .
Die Zerstäubungskathode 2 weist ferner eine Kühl platte 7 auf. Zwischen dem Joch 21' und der Kühl platte 7 ist ein Isolator 6 eingeklemmt und mittels Schraubenbolzen 91 gesichert.The sputtering cathode 2 also has a cooling plate 7 . Between the yoke 21 'and the cooling plate 7 , an insulator 6 is clamped and secured by means of bolts 91 .
Vor der Kühlplatte 7 ist das zu zerstäubende Target 8 angeordnet. Auf der Rückseite der Kühlplatte 7 befindet sich eine bzw. zwei Ringnuten 86 zur Aufnahme einer in neren und einer äußeren Magnetspule 76, 77, die, wie bereits erwähnt, konzentrisch zur Mittelachse 44 des Targets 8 angeordnet sind.The target 8 to be atomized is arranged in front of the cooling plate 7 . On the back of the cooling plate 7 there is one or two annular grooves 86 for receiving an inner and an outer magnetic coil 76 , 77 which, as already mentioned, are arranged concentrically to the central axis 44 of the target 8 .
Das Joch bzw. der Isolator 6 und die Kühlplatte 7 wer den durch Schrauben 91 und den Kühlfinger 74 gesichert. Die Schraube 91 bzw. eine Schraube 73 ist in vorteil hafter Weise durch den Isolator 6 gegen das Joch iso liert.The yoke or the insulator 6 and the cooling plate 7 who secured by screws 91 and the cooling finger 74 . The screw 91 or a screw 73 is iso liert advantageously by the insulator 6 against the yoke.
An die Magnetspulen 76, 77 kann über elektrische Lei tungen 78, 79 eine Stromversorgung angeschlossen wer den, die zur Erzeugung des Magnetfelds dient.To the magnetic coils 76 , 77 lines 78 , 79 can be connected to a power supply via electrical lines, which is used to generate the magnetic field.
Der Magnet 9 ist an das Joch 21 und/oder 21' und den Polschuh 14 zur Leitung des magnetischen Flusses ange koppelt und bildet somit den kompletten Magnetfeldein schluß.The magnet 9 is coupled to the yoke 21 and / or 21 'and the pole piece 14 for guiding the magnetic flux and thus forms the complete magnetic field circuit.
Das untere Ende des Polschuhs 14 bildet einen Flansch 88, an den die Außenmaske bzw. eine Anode 4 an geschlossen ist. Die Höhe des Polschuhs 14 und/oder die Höhe der Anode 4 ist veränderbar.The lower end of the pole piece 14 forms a flange 88 to which the outer mask or an anode 4 is closed. The height of the pole piece 14 and / or the height of the anode 4 can be changed.
Am unteren Ende der Anode 4 befindet sich das Sub strat 27, das gemeinsam mit der Anode 4 und der Target oberfläche den Targetraum einschließt.At the lower end of the anode 4 is the sub strate 27 , which together with the anode 4 and the target surface includes the target space.
Im Bereich der Mittelachse 44 der Zerstäubungskathode 2 befindet sich eine Bohrung 67, die sich durch die ge samte Vorrichtung erstreckt und zur Aufnahme einer Hohlschraube 20 und des Kühlfingers 74 dient. Der Kühl finger 74 kann mit einer in der Zeichnung nicht darge stellten Kühlleitung verbunden sein.In the region of the central axis 44 of the sputtering cathode 2 there is a bore 67 which extends through the entire device and serves to receive a banjo bolt 20 and the cooling finger 74 . The cooling finger 74 may be connected to a cooling line not shown in the drawing.
An das obere Ende der Hohlschraube 20 schließt sich in axialer Richtung berührungsfrei das zweite Joch 21 mit einer Jochplatte an.The second yoke 21 with a yoke plate adjoins the upper end of the hollow screw 20 in the axial direction without contact.
Am oberen Ende des Kühlkopfs bzw. des Kühlfingers 74 ist mittels eines Flansches 22 das zweite Joch 21 (II) befestigt, während das erste Joch 21' (I) an den Pol schuh 14 angeschlossen ist und mittels Schrau ben 73, 73' gesichert werden kann.At the upper end of the cooling head or the cooling finger 74 , the second yoke 21 (II) is fastened by means of a flange 22 , while the first yoke 21 '(I) is connected to the pole shoe 14 and is secured by means of screws 73 , 73 ' can.
An die Stirnseite bzw. an das untere Ende eines Gewin deteils 90 des Kühlfingers 74 ist eine Mittelmaske bzw. eine Mittelanode 26 lösbar angeschlossen. Die Mittel anode 26 reicht bis in die zentrische Vertiefung des Targets 8, welches an der Vorderseite des Targets vor gesehen ist, und bildet mit ihrem unteren Ende mit der Außenanode 4 bzw. Außenmaske eine ringförmige Fläche für die Maskierung des Substrats 27.A center mask or a center anode 26 is detachably connected to the end face or to the lower end of a threaded part 90 of the cooling finger 74 . The center anode 26 extends into the central recess of the target 8 , which is seen in front of the target, and forms with its lower end with the outer anode 4 or outer mask an annular surface for masking the substrate 27 .
Der Abstand zwischen dem ringförmig angeordneten Magne ten 9 und der Mittelachse 44 ist je nach Ausführungs form veränderbar. Auf jeden Fall liegt der ringförmig angeordnete Magnet 9 zwischen der Mittelachse 44 und dem Polschuh 14. Wie aus Fig. 1 hervorgeht, kann ein Abschirmteil 75 zwischen den beiden Spulen 76, 77 vor gesehen sein. Ferner ist es möglich, daß das Abschirm teil 75 zwischen einer der Jochplatten 21, 21' und dem Target 8 vorgesehen ist. Das Abschirmteil 75 wirkt ein mal als Eisenkern für die Spulen 76, 77 und verstärkt deren Magnetfeld, und gleichzeitig schirmt es einen Targetraum 84 gegenüber den Kurzschlußfeldlinien des Magneten 9 ab, so daß man mit relativ geringen Strömen mittels der Spulen eine Feldveränderung vornehmen kann. Hierzu kann das Abschirmteil 75 zwischen einer der Jochplatten 21, 21' und/oder dem Isolator 6 sowie dem Target 8 vorgesehen sein. Der Magnet 9 dient zur Erzeu gung des Magnetron-Magnetfelds. Auf der rechten Seite gemäß Fig. 3 haben Feldlinien 71 der Kathode bzw. des Sputter-Magnetrons einen konvexen bzw. abgeflachten oder in etwa parallelen Verlauf zur Targetrückseite. Dies wird in vorteilhafter Weise auch durch das Ab schirmteil 75 bewirkt. Eine derartige Anordnung eignet sich insbesondere bei einem nicht-ferromagnetischen Me talltarget, z. B. einem Gold- bzw. Aluminium-Target.The distance between the annularly arranged magnet 9 and the central axis 44 can be changed depending on the design. In any case, the ring-shaped magnet 9 lies between the central axis 44 and the pole piece 14 . As is apparent from Fig. 1, a shield 75 may be between the two coils 76, 77 to be seen before. It is also possible that the shielding part 75 is provided between one of the yoke plates 21 , 21 'and the target 8 . The shielding part 75 acts once as an iron core for the coils 76 , 77 and strengthens their magnetic field, and at the same time shields a target space 84 from the short-circuit field lines of the magnet 9 , so that a field change can be carried out by means of the coils with relatively low currents. For this purpose, the shielding part 75 can be provided between one of the yoke plates 21 , 21 'and / or the insulator 6 and the target 8 . The magnet 9 is used to generate the magnetron magnetic field. On the right side according to FIG. 3, field lines 71 of the cathode or the sputter magnetron have a convex or flattened or approximately parallel course to the rear of the target. This is also advantageously effected by the shield part 75 . Such an arrangement is particularly suitable for a non-ferromagnetic Me talltarget, z. B. a gold or aluminum target.
Etwas unterhalb des ringförmig angeordneten Magneten 9 befinden sich die beiden Magnetspulen 76, 77. Der ring förmig angeordnete Magnet 9 kann aus zahlreichen ein zelnen, ringförmig angeordneten Magneten gebildet sein.The two magnet coils 76 , 77 are located somewhat below the ring-shaped magnet 9 . The ring-shaped magnet 9 can be formed from numerous individual, ring-shaped magnets.
Je nach Ausführung des Targets 8, das beispielsweise als Aluminium-Target oder als Goldtarget ausgebildet sein kann, kann neben dem ersten ringförmig angeord neten Magneten 9 mindestens ein weiterer in der Zeich nung nicht dargestellter, ringförmig angeordneter Ma gnet in der Nähe des Magneten 9 vorgesehen sein, um die absolute Feldstärke zu erhöhen.Depending on the design of the target 8 , which can be formed, for example, as an aluminum target or as a gold target, in addition to the first ring-shaped magnet 9, at least one further ring-shaped magnet not shown in the drawing can be provided near the magnet 9 to increase the absolute field strength.
Wie aus Fig. 1 hervorgeht, weist der äußere, ringförmig angeordnete Magnet einen größeren Abstand zur Target rückseite 40 auf als die beiden Magnetspulen 76, 77.As can be seen from FIG. 1, the outer, ring-shaped magnet is at a greater distance from the target rear side 40 than the two magnet coils 76 , 77 .
Die in Fig. 3 dargestellten Magnetspulen 76, 77 dienen zur Variation des Hauptmagnetfelds und können beliebig gepolt sein.The magnetic coils 76 , 77 shown in FIG. 3 serve to vary the main magnetic field and can be polarized in any way.
Wie aus Fig. 1 hervorgeht, ist der an die Spulen 76, 77 angelegte Strom I in Abhängigkeit eines Zeitfaktors veränderbar. Der an die Spulen 76, 77 angelegte Strom I bzw. die Stromzufuhr zu den Spulen ist über eine Steu erkurve bzw. über ein vorab festgelegtes Programm in einem Rechner 82 steuerbar, und die Stromleitungen 78, 79 stehen hierzu über einen Stromteiler 80 mit einem Rechner 82 in Wirkverbindung. Hierdurch ist eine ge zielte Beeinflussung der Targetoberfläche über den ge samten Sputterprozeß möglich, und gleichzeitig wird si chergestellt, daß auf dem Substrat 27 eine sehr gleich mäßige Schichtdicke erzielt wird, wobei die Schicht dickenabweichung zwischen ± 2% bis 3% liegen kann. Die Stromversorgung der Spulen erfolgt wie erwähnt in Abhängigkeit eines Zeitfaktors. Die erforderliche Steu erkurve läßt sich empirisch ermitteln. Somit kann je weils für ein entsprechendes Target, z. B. ein Gold- oder Al-Target, eine für die Stromversorgung optimale Steuerkurve ermittelt werden.As can be seen from FIG. 1, the current I applied to the coils 76 , 77 can be changed as a function of a time factor. The current I applied to the coils 76 , 77 or the current supply to the coils can be controlled via a control curve or via a predetermined program in a computer 82 , and the power lines 78 , 79 are connected to a computer via a current divider 80 82 in operative connection. This makes it possible to influence the target surface in a targeted manner over the entire sputtering process, and at the same time ensures that a very uniform layer thickness is achieved on the substrate 27 , the layer thickness deviation being between ± 2% to 3%. As mentioned, the coils are powered depending on a time factor. The required control curve can be determined empirically. Thus, each for a corresponding target, for. B. a gold or Al target, an optimal control curve for the power supply can be determined.
Besonders vorteilhaft ist es auch, daß das Joch, wie bereits erwähnt, nicht einteilig ausgebildet ist, son dern geteilt wurde und aus zwei einzelnen Teilen, also einer oberen und einer unteren Jochplatte 21, 21', be steht, die aus zwei rotationssymmetrischen Scheiben be stehen und mit Abstand zueinander angeordnet sein kön nen, so daß mindestens ein Magnet 9 zwischen diesen vorgesehen werden kann.It is also particularly advantageous that the yoke, as already mentioned, is not formed in one piece, but was divided and consists of two individual parts, ie an upper and a lower yoke plate 21 , 21 ', which consists of two rotationally symmetrical disks stand and can be arranged at a distance from each other, so that at least one magnet 9 can be provided between them.
In den Fig. 4 bis 6 sind weitere Ausführungsbei spiele der Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat 27 ge zeigt, in denen die Jochplatten 21, 21' bzw. der Pol schuh 14 und die Spulen 76, 77 auch anders ausgebildet bzw. angeordnet sein können.In Figs. 4 to 6 further Ausführungsbei are games of the device for cathode sputtering for producing coatings on a substrate 27 ge shows where the yoke plates 21, 21 'and the pole shoe 14 and the coils 76, 77 also formed differently or can be arranged.
Gemäß Fig. 4 sind die Jochplatten 21, 21' ebenfalls stufenartig ausgebildet, wobei die obere Jochplatte ge mäß Fig. 4 mit ihrem inneren Rand an die Hohl schraube 20 und der außenliegende Rand über den ring förmig angeordneten Magneten 9 an den innenliegenden Rand der unteren, stufenartig versetzten, ersten Joch platte 21' angeschlossen ist. Der äußere Rand der er sten Jochplatte 21' ist an den Polschuh 14 angeschlos sen.According to FIG. 4, the yoke plates 21, 21 'is also formed step-like manner, wherein the upper yoke plate accelerator as Fig. 4 screw with its inner edge to the hollow 20 and the outer edge on the ring-shaped arrangement of magnets 9 at the inner edge of the lower , staggered, first yoke plate 21 'is connected. The outer edge of the most yoke plate 21 'is connected to the pole shoe 14 .
Die erste Spule 76, die im Durchmesser größer ist als die zweite Spule 77, befindet sich oberhalb der oberen Jochplatte 21 zwischen dem außenliegenden Rand der obe ren Jochplatte 21 und dem außenliegenden Rand der un teren Jochplatte, während die zweite im Durchmesser kleinere Spule 77 sich unterhalb der oberen Joch platte 21 zwischen dem innenliegenden Rand der unteren Jochplatte 21' und der Hohlschraube 20 befindet. Die übrige Anordnung dieser Vorrichtung entspricht der An ordnung der Vorrichtung gemäß Fig. 1.The first coil 76 , which is larger in diameter than the second coil 77 , is located above the upper yoke plate 21 between the outer edge of the upper yoke plate 21 and the outer edge of the lower yoke plate, while the second coil 77, which is smaller in diameter Below the upper yoke plate 21 between the inner edge of the lower yoke plate 21 'and the banjo bolt 20 is located. The remaining arrangement of this device corresponds to the arrangement of the device according to FIG. 1st
Im Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5 sind die Jochplat ten 21, 21' ebenfalls geteilt, und diese sind ebenfalls als ringförmige Jochplatten 21, 21' mit unterschiedlich großem Durchmesser ausgebildet, wobei beide Jochplatten auf einer mit Bezug auf die Standfläche der Vorrichtung horizontalen Ebene angeordnet sind, die die Mittel achse 44 in einem rechten Winkel schneidet.In the exemplary embodiment of FIG. 5, the Jochplat are ten 21, 21 'is also divided, and these are likewise an annular yoke plates 21, 21' formed with different large-diameter, both of yoke plates are arranged on a horizontal with respect to the footprint of the device plane that intersects the central axis 44 at a right angle.
Zwischen den beiden Jochplatten 21, 21' liegt der ring förmige Magnet 9.The ring-shaped magnet 9 lies between the two yoke plates 21 , 21 '.
Die beiden ringförmig angeordneten Spulen 76, 77 um geben den Abschirmteil 75 und befinden sich gemäß Fig. 5 im Targetraum 84.The two coils 76 , 77 arranged in a ring form the shielding part 75 and are located in the target space 84 according to FIG. 5.
Das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6 unterscheidet sich vom Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5 nur dadurch, daß ein zweites Abschirmteil 75' mit zwei ringförmigen Spu len 76', 77' in der gleichen Anordnung gemäß Fig. 5 sich außerhalb des Targetraums 84 befindet.The embodiment according to FIG. 6 differs from the embodiment according to FIG. 5 only in that a second shielding part 75 'with two annular spools 76 ', 77 'in the same arrangement according to FIG. 5 is located outside the target space 84 .
Die zusätzliche Schirmplatte 75 im Targetraum 84 oder außerhalb des Targetraums 84 mit den beiden Spulen 76, 77 bzw. 76', 77' dient dazu, das Magnetfeld gezielt und noch optimaler zu beeinflussen. Hierdurch wird die Lin senform der Flußlinien (vgl. Magnetfeld 42) beeinflußt. Durch die linsenförmige Ausbildung des Magnetfelds 42 gemäß Fig. 3 wird der Einschluß der Elektronen auf dem Target 8 bewirkt, die zum Ionisieren der Argonatome dienen, die mittels des Magnetfelds über dem Target 8 gehalten werden, somit in der optimalen Weise nicht auf die Anode abfließen können und dadurch auch mehrmals an der Ionisation teilnehmen. Hierdurch wird also zusätz lich gewährleistet, daß eine gleichmäßige Schichtdicke auf der Oberfläche des Substrats 27 erreicht wird.The additional shield plate 75 in the target space 84 or outside of the target space 84 with the two coils 76 , 77 and 76 ', 77 ' serves to influence the magnetic field in a targeted and even more optimal manner. This affects the Lin senform of the flux lines (see. Magnetic field 42 ). The lens-shaped formation of the magnetic field 42 according to FIG. 3 causes the inclusion of the electrons on the target 8 , which serve to ionize the argon atoms which are held above the target 8 by means of the magnetic field and thus do not flow off to the anode in the optimal manner can participate in the ionization several times. This also ensures additional Lich that a uniform layer thickness is achieved on the surface of the substrate 27 .
Durch diese beschriebene Anordnung wird unter Berück sichtigung der Strom-Zeit-Funktion (f(I) = I(t)) eine optimale Schichtdicken-Gleichmäßigkeit erreicht. Bei dieser Anordnung wird, wie bereits erwähnt, der Strom in Abhängigkeit der Targetoberfläche variiert. Durch unterschiedliches Belegen der Spulen 76, 77 mit Strom erreicht man, daß das Plasma radial oberhalb der Tar getoberfläche 41 verschoben werden kann. Das heißt, daß das Plasma mit Bezug auf die Oberfläche des Targets 8 entweder nach links oder rechts verschoben wird. Hier durch kann die Oberflächenschicht des Substrats 27 ge zielt besputtert bzw. aufgebaut werden.By this arrangement described, an optimal layer thickness uniformity is achieved taking into account the current-time function (f (I) = I (t) ). With this arrangement, as already mentioned, the current is varied depending on the target surface. By covering the coils 76 , 77 differently with current, the plasma can be shifted radially above the target surface 41 . That is, the plasma is shifted either left or right with respect to the surface of the target 8 . Here, the surface layer of the substrate 27 can be sputtered or built up in a targeted manner.
Die gestufte Ausbildung der Jochplatten 21, 21' ermög licht einen sehr einfachen, kostengünstigen Aufbau der Kathode insgesamt und auch den Einsatz eines einfachen, ringförmig angeordneten Magneten, der z. B. als Quader magnet und nicht als Ringmagnet ausgebildet sein kann und auf einfache Weise zwischen die Jochplatten 21, 21' gesetzt werden kann. Ringmagneten sind aufwendiger und daher auch teurer als Quadermagneten.The stepped design of the yoke plates 21 , 21 'enables light, a very simple, inexpensive construction of the cathode as a whole and also the use of a simple, ring-shaped magnet which, for. B. can be designed as a cuboid magnet and not as a ring magnet and can be easily placed between the yoke plates 21 , 21 '. Ring magnets are more complex and therefore also more expensive than rectangular magnets.
Gemäß Fig. 4 sind die Spulen 76, 77 weiter entfernt vom Target 8 als die Spulen der Beispiele gemäß Fig. 5 und 6. Die Spulen gemäß Fig. 1 müssen daher größer ausge bildet sein und mit mehr Strom beschickt werden als die Spulen 76, 77 der Beispiele gemäß Fig. 5 und 6. Man kann gemäß Fig. 1 das Plasma ebenso hin- und herschie ben wie bei den anderen Ausführungsbeispielen, wobei der Energieaufwand gemäß Fig. 1 etwas höher ist.According to FIG. 4, the coils 76 , 77 are further away from the target 8 than the coils of the examples according to FIGS. 5 and 6. The coils according to FIG. 1 must therefore be larger and be supplied with more current than the coils 76 77 of the examples according to FIGS. 5 and 6. According to FIG. 1, the plasma can be shifted back and forth in the same way as in the other exemplary embodiments, the energy expenditure according to FIG. 1 being somewhat higher.
Die einzelnen Spulen sind unterschiedlich stark beein flußbar und können je nach Ausführungsbeispiel gekop pelt oder nicht gekoppelt sein. Die Spulen 76, 77 gemäß Fig. 1 können z. B. in Reihe geschaltet werden.The individual coils can be influenced to different extents and, depending on the exemplary embodiment, can be coupled or not coupled. The coils 76 , 77 of FIG. 1 can, for. B. connected in series.
Erfindungswesentlich ist es, daß durch die Verwendung der Spulen gemäß Fig. 1, die zum Beispiel unter dem Target oder auch an anderer Stelle, wie bereits erläu tert, angebracht worden sind, das Magnetfeld im Target raum gezielt beeinflußt und variiert werden kann, so daß man, wie bereits erläutert, das Plasma radial von innen nach außen verschieben kann. Hierdurch erreicht man, daß der Erosionsgraben radial über das Target ver schoben werden kann, womit man die Möglichkeit hat, einmal einen sehr breiten Erosionsgraben, indem man das Magnetfeld kontinuierlich variiert, oder zwei Erosions gräben nebeneinander zu erzeugen, indem man das Magnet feld stufenweise hin- und herschaltet.It is essential to the invention that by using the coils according to FIG. 1, which have been attached, for example, under the target or elsewhere, as already explained, the magnetic field in the target space can be specifically influenced and varied, so that one can, as already explained, shift the plasma radially from the inside to the outside. This ensures that the erosion trench can be pushed radially over the target, which gives you the opportunity to create a very wide erosion trench by continuously varying the magnetic field, or to create two erosion trenches next to one another by gradually moving the magnetic field towards it - and switched.
Die Schichtdicken-Gleichmäßigkeit kann, wie bereits er wähnt, dadurch erreicht werden, daß ein sich zeitlich änderndes Magnetfeld der Kathode hinzugefügt wird. Die ses variable Magnetfeld dient der Schichtdicken-Opti mierung über einen Beschichtungszyklus. Hier wird eine empirisch zu definierende Strom-Zeit-Funktion erstellt.The layer thickness uniformity can, as he already did believes to be achieved in that a temporally changing magnetic field is added to the cathode. The This variable magnetic field is used for layer thickness opti lubrication over a coating cycle. Here is one current-time function to be defined empirically.
Die im Targetinnenraum 84 vorgesehenen Spulen 76, 77 dienen hauptsächlich dazu, das Magnetfeld im Target raum zu beeinflussen. Um das Magnetfeld außerhalb des Targetraums 84 zu beeinflussen, werden gemäß Fig. 6 die zusätzlichen Spulen 76', 77' und das Schirmblech 75' vorgesehen.The coils 76 , 77 provided in the target interior 84 serve mainly to influence the magnetic field in the target space. In order to influence the magnetic field outside the target space 84 , the additional coils 76 ', 77 ' and the shield plate 75 'are provided according to FIG. 6.
In den Ausführungsbeispielen kann auch das Joch 21, 21' vertikal mit Bezug auf die Mittellinie 44 geteilt wer den. Hierdurch kann der Magnet 9 so angeordnet werden, daß der magnetische Fluß gezielt auf die Hohl schraube 20 und auf den Polschuh 14 verteilt werden kann. Hierdurch kann man ein homogenes, horizontales Magnetfeld im Targetraum 84 erhalten. Dieses Magnetfeld ist dann ebenfalls durch die Spulen 76, 77, wie bereits erläutert, gezielt beeinflußbar.In the exemplary embodiments, the yoke 21 , 21 'can also be divided vertically with respect to the center line 44 . As a result, the magnet 9 can be arranged so that the magnetic flux can be selectively distributed on the hollow screw 20 and on the pole piece 14 . This enables a homogeneous, horizontal magnetic field to be obtained in the target space 84 . This magnetic field can then also be specifically influenced by the coils 76 , 77 , as already explained.
Wie aus Fig. 3 hervorgeht, ist der Radius R9 zwischen der Mittellinie 44 und dem Magneten 9 veränderbar oder so einstellbar, daß sich ein optimales Magnetfeld 42 gemäß Fig. 3 einstellen kann.As can be seen from FIG. 3, the radius R 9 between the center line 44 and the magnet 9 can be changed or adjusted so that an optimal magnetic field 42 according to FIG. 3 can be established.
In Fig. 7 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel darge stellt, wobei das Joch 21, 21' ebenfalls geteilt und rotationssymmetrisch ausgebildet ist und wobei im Be reich des Ringmagneten 9 mindestens ein ein veränder bares Magnetfeld erzeugendes Teil oder ein drehbarer Eisenkern 80, 82, 83, 85 vorgesehen ist.In Fig. 7 a further embodiment is Darge, wherein the yoke 21 , 21 'is also divided and rotationally symmetrical and in the area of the ring magnet 9 at least one changeable magnetic field generating part or a rotatable iron core 80 , 82 , 83 , 85 is provided.
11
Kammerwand
Chamber wall
22nd
Zerstäubungskathode bzw. Sputter-Magnetron
(Zerstäubungs-Magnetron)
Sputtering cathode or sputtering magnetron (sputtering magnetron)
44th
Anode
anode
55
Schraube
screw
66
Isolator
insulator
77
Kühlplatte
Cooling plate
88th
Target
Target
99
ringförmig angeordneter Magnet
R9 ring-shaped magnet
R 9
Radius zwischen Mittellinie Radius between the center line
4444
und Magnet and magnet
99
1414
Polschuh
Pole piece
2020th
Hohlschraube
Banjo bolt
2121
obere, zweite Jochplatte
upper, second yoke plate
2121
' untere, erste Jochplatte
'' lower, first yoke plate
2222
Flansch
flange
2626
Mittelmaske bzw. Mittelanode
Middle mask or middle anode
2727
Substrat
Substrate
4040
Targetrückseite
Target back
4141
Targetoberfläche
Target surface
4242
Magnetfeld
Magnetic field
4444
Mittelachse bzw. Längsmittelachse
Central axis or longitudinal central axis
5555
Außenumfang des Targets Outer periphery of the target
88th
5757
Begrenzung
Limitation
6767
Bohrung
drilling
7171
Feldlinien
Field lines
7373
Schraube
screw
7373
' Schraube
'Screw
7474
Kühlfinger, Kühlkopf
Cold finger, cooling head
7575
Abschirmteil
Shielding part
7575
' zweites Abschirmteil, Schirmteil
'' second shielding part, shielding part
7676
erste Spule I bzw. Spule oder ringförmig angeordnete
Spule, Magnetspule oder drehbarer Eisenkern
first coil I or coil or ring-shaped coil, magnetic coil or rotatable iron core
7676
' ringförmige Spulen
'' ring-shaped coils
7777
zweite Spule I bzw. Spule oder ringförmig angeordnete
Spule, Magnetspule
second coil I or coil or ring-shaped coil, magnetic coil
7777
' ringförmige Spulen
'' ring-shaped coils
7878
elektrische Leitung
electrical line
7979
elektrische Leitung
electrical line
8080
Stromteiler
Current divider
8282
Rechner
computer
8484
Targetraum
Target space
8585
drehbarer Eisenkern (ein veränderbares Magnetfeld
erzeugendes Teil)
rotatable iron core (a part generating a changeable magnetic field)
8686
Ringkammer bzw. Ringnuten
Annular chamber or annular grooves
8787
Eisenkern
Iron core
8888
Flansch
flange
8989
Antriebsvorrichtung
Drive device
9090
Gewindeteil
Threaded part
9191
Schraube
screw
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19962890A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Multi Media Machinery Gmbh | Apparatus for cathodic sputtering used in production of layers on substrate in vacuum chamber has components made of non-magnetic material arranged outside of apparatus, sputtering cathode, yoke, pole piece and substrate to be coated |
| DE10138156A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-27 | Singulus Technologies Ag | Magnetron sputtering system, e.g. for CD or DVD manufacture, has magnetic device for displacing or spreading plasma rings over front of target |
| CN102296273A (en) * | 2010-06-24 | 2011-12-28 | 上海子创镀膜技术有限公司 | Rotating cathode drive system for vacuum magnetron sputtering coating film |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4315023A1 (en) * | 1993-05-06 | 1994-11-10 | Leybold Ag | Cathodic sputtering device |
| US5512150A (en) * | 1995-03-09 | 1996-04-30 | Hmt Technology Corporation | Target assembly having inner and outer targets |
-
1996
- 1996-12-21 DE DE1996154007 patent/DE19654007A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4315023A1 (en) * | 1993-05-06 | 1994-11-10 | Leybold Ag | Cathodic sputtering device |
| US5512150A (en) * | 1995-03-09 | 1996-04-30 | Hmt Technology Corporation | Target assembly having inner and outer targets |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19962890A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Multi Media Machinery Gmbh | Apparatus for cathodic sputtering used in production of layers on substrate in vacuum chamber has components made of non-magnetic material arranged outside of apparatus, sputtering cathode, yoke, pole piece and substrate to be coated |
| DE10138156A1 (en) * | 2001-08-03 | 2003-02-27 | Singulus Technologies Ag | Magnetron sputtering system, e.g. for CD or DVD manufacture, has magnetic device for displacing or spreading plasma rings over front of target |
| DE10138156B4 (en) * | 2001-08-03 | 2007-11-22 | Singulus Technologies Ag | Magnetron sputtering system with multiple plasma rings, method for sputtering a target and use of the system or process |
| CN102296273A (en) * | 2010-06-24 | 2011-12-28 | 上海子创镀膜技术有限公司 | Rotating cathode drive system for vacuum magnetron sputtering coating film |
| CN102296273B (en) * | 2010-06-24 | 2013-06-05 | 上海子创镀膜技术有限公司 | Rotating cathode drive system for vacuum magnetron sputtering coating film |
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