DE1643765A1 - Strahlungsempfindliches Material - Google Patents
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Description
AGFA-GEVAERT^G 164376S
Ss/Pb . 29.0ez.B67
Die vorliegende Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Material, das licht- und wärmeempfindliche Substanzen enthält,
die bei ihrer Zersetzung Produkte liefern, deren Eigenschaften für die Herstellung sichtbarer oder entwickelbarer latenter
Bilder interessant sind.
Es ist bekannt, a.B. nach der britischen Patentschrift 900 536,
der Arbeit in J. Phot. Sei., Bd. 12, 1964, Seiten 189 - 190
sowie aus der veröffentlichten niederländischen Patentanmeldung 651 6925 photolytisch instabile Verbindungen, die bei Belichtung Säure bilden, für photographische Zwecke zu verwenden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die bekannten strahlungsempfindlichen
Materialien der oben beschriebenen Art zu verbessern und ein Aufzeichnungsmaterial zu schaffen, das für
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die Aufzeichnung von Informationen mittels elektromagnetischer
Strahlung oder Wärme geeignet iat.
Es wurde nun ein strahlungsempfindlichee, eine photolyeierbare
Verbindung enthaltendes Material gefunden, das gekennzeichnet ist durch den Gehalt an einer Verbindung mit wenigstens einem
Kohlenstoff-Atom, an das wenigstens drei als EBctronenakzeptoren
wirkende Gruppen gebunden sind und einer Substanz, die unter der Wirkung von Radikalen, die während der Belichtung gebildet
werden, chemisch verändert wird.
Beispiele für solche als Elektronenakzeptoren wirkende Gruppen sind ^CO, ..SO2, C H, -NO2, -H5 und -J. Die genannten Verbindungen
entsprechen im einzelnen folgender allgemeinen Formel:
X G ζ
I T
worin bedeuten:
X, Y und Z = Acyl, z.B. eine Carbonsäure- oder Sulfonsäureacylgruppe,
eine Cyangruppe, eine Hitrogruppe, eine Azidogruppe, Jod, eine gegebenenfalls substituierte
Carbamylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte SuIfanylgruppe oder X und T bilden
zusammen einen Kern, der 2 als Elektronenakzeptoren wirkende Gruppen enthält und mit dem
Kohlenstoff atom verbunden 1st, das den Substituenten
Z trägt;
R = Wasserstoff, -N5, ein gegebenenfalls substituierter
Alkylrest, ein gegebenenfalls substituierte Aryl-
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rest oder ein gegebenenfalls substituierter heterocyclischer
Rest.
Sie Symbole I,T und Z in der obigen Allgemeinen Formel stellen
R1 vorzugsweise folgende Gruppen dar: -CO-R1, -SO2R1, -1CO-N ,
R1 -CN oder -HO2, worin R1 für einen gegebenenfalls substituierten
Alkylrest, einen gegebenenfalls substituierten Arylrest oder einen gegebenenfalls substituierten heterocyclischen Rest steht.
Neue zur Anwendung gemäß der vorliegenden Erfindung geeignete lichtempfindliche Verbindungen lassen sich durch folgende allgemeine
Formel kennzeichnen:
0 Rj 0 R1,. 4 P
!«III.·. I
R* — C — C — C — vN/_ λ — Kn
ι η— ι c.
worin bedeuten:
R1 1 und Rf 2 = ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest, ein
gegebenenfalls substituierter Arylrest oder ein gegebenenfalls substituierter heterocyclischer
Rest;
RX = ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest oder
ein gegebenenfalls substituierter Arylrest;
R' % Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
4
Arylrest;
Rl a Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
Rl a Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
Alkylrest und
n= 1 oder 2.
n= 1 oder 2.
Eine lange aliphatische Kette in der Struktur der obigen Verbindungen
macht die Verbindungen in hydrophilen Eolloldschichten
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z.B.in Gelatineschichten diffusionsfest. Für dieaen Zweck
haben sich Verbindungen als geeignet erwiesen, in denen
wenigstens ein aliphatischer Rest eine Kette ron 5 bis 20 C-Atomen enthält.
wenigstens ein aliphatischer Rest eine Kette ron 5 bis 20 C-Atomen enthält.
In der folgenden Tabelle 1 sind einige für das erfindungsgemäße
Materials besonders geeignete Verbindungen aufgezeichnet.
O2K-/ VV-CO-CH'
J \ -CO-CH-CO- / \
J V
SO
^Co-CH-CO-HH-/
SO2-/
f Vy.-CO-CH-CO-HH-/ \y-NO
98f7+/?296
10. 11.
O2H-
so.
-CO-CH-CO-NH-
SO9
CO-CH-CO-HH-β \
SOo
•CO-CH-CO-NH-
SO9
Η,Ο
-CO-CH-CO-H
SO9
t *
0-(CHg)15-CH3
\y-CO-CH-CO-HH-</
ι SO9
109317/22 9
13. // % -CO-CH-CO- //
Sie Herstellung der Verbindung 1 wird in der Zeitschrift
J. Gen. Chem. USSR (1956) 26, 657 beschrieben. Eine Beschreibung ■r der Herstellung der Verbindung 2 enthält die Zeitschrift BuI. Soc. ChIm. Trance (1964) S. 413.
J. Gen. Chem. USSR (1956) 26, 657 beschrieben. Eine Beschreibung ■r der Herstellung der Verbindung 2 enthält die Zeitschrift BuI. Soc. ChIm. Trance (1964) S. 413.
Die Verbindungen 3 bis 11 können dadurch hergestellt werden,
daß man ein p^-Halogenketoacetamid mit eines SuIf inat, z.B.
Natriumsulfinat, in einem unpolaren Lösungsmittel, z.B. Dimethylformamid reagieren läßt.
daß man ein p^-Halogenketoacetamid mit eines SuIf inat, z.B.
Natriumsulfinat, in einem unpolaren Lösungsmittel, z.B. Dimethylformamid reagieren läßt.
Verbindung 12 läßt sich nach dem in Solei. Head. lank. USSR
171 (1966) 869-71 beschriebenen Verfahren herstellen.
Verbindung 13 kann nach der in J. Chem. Soc.'101. S. 997
beschriebenen Methode hergestellt werden.
Im folgenden soll die Herstellung geeigneter photoljsierbarer
Verbindungen näher erläutert werden.
Ä'quimolare Mengen eines /9-Ketoäthylesters und einer Imlnorerbindung
werden am Rückfluß mit Xylol erhitzt, während man das bei der
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Kondensationsreaktion entstehende Äthanol abdestillieren lädt.
Nach. Beendigung der Reaktion wird das Xylol abdestilliert und
4er Rückstand ««kristallisiert.
Genauere Angaben über diese Arbeitsweise werden im Zusammenhang
mit der Herstellung von Benzoylacetanilid in Org. Synth. Coll. YoI. III 108 gegeben.
Daa Ketoacetamid wird in Chloroform gelöst und die Lösung anschließend
tropfenweise mit Sulfurylchlorid oder Brom versetzt. Anschließend erhitst man unter Rühren 1 bis 2 Stunden am Rückfluß,
destilliert das Chloroform ab und kristallisiert den Rückstand um.
Das oC -Halogenketoacetamid wird zusammen mit einer ein- bis
zweifachen molaren Menge von SuIfinat in Dimethylformamid
gelöst. Das Reaktlonsgemisch wird bei 40 bis 800C 3 bis 5
Stunden gerührt, anschließend in Eiswasser abgegossen und darin
durch einstündiges Rühren fein verteilt. Sie Fällung wird schließlich filtriert, mit Wasser gewaschen, getrocknet und
umkrietallisiert.
Herstellung der Verbinden/? 9 aus obiger Tabelle
1) Furoyl-2-acetanilid
182 g A'thylfuroylacetat und 93 g Anilin werden in Xylol am Rückfluß erhitst, wobei man das entstehende Äthanol abdeetilliert.
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Nachdem der Alkohol abdestilliert let, entfernt man das
Xylol in Vakuum und kristallisiert aus Tetrachlorkohlenstoff um. Schmelzpunkt: 1040C.
2) U-Chlorfuroyl-2-acetanilid
90 g Furoyl-2-acetanilid in 600 ml wasserfreiem Chloroform werden
innerhalb von 10 Minuten tropfenweise unter Rühren bei Raumtemperatur mit 56,7 Sulfurylchlorid versetzt. Das Reaktionsgemisch wird 2 Stunden weitergerUhrt und das Chloroform schließlich
entfernt. Die entstandene Fällung kristallisiert man aus ^ Methanol um. Schmelzpunkt: 1330C.
3) et-Ehenyleulfonylfuroyl-2-acetanilid
5,3 goC-Chlorfuroyl-2-acetanllid werden in 75 ml Dimethylformamid
4 Stunden zusammen mit 6,56 Natriumphenylsulfinat gerührt. Bas
Reaktionsgemisch gießt man in 500 ml Eiswasser. Sie Fällung
wird schließlich abgesaugt, mit Wasser gewaschen und in einem Exekkator getrocknet. Ausbeute: 6 g Schmelzpunkt: 1610C.
Die folgende Tabelle gibt einen Oberblick über die Reaktionsbedingungen,
die Reinigungemethoden und die Schmelzpunkte der " Verbindungen«ausgenommen die Verbindung 9. Bas verwendete Lösungsmittel
ist Birnethy!formamid.
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109817/2?i"i6
der
Tabelle 1
Tabelle 1
Hole Art der Reaktions- Reaktions- Schmelz-SuIfinat
Halogen- zeit (h) temperatur punkt verbindung C
Reinigung
CJ
CO
OO
CO
OO
10
11
1,2
1,2
1,2
-Br -Cl -Cl -Cl
-cr
-Cl -Cl -Cl
80
80
80
70
40
40
50
70
80
80
70
40
40
50
70
175 155 218
133 170 153 125 100
mit Isopropylather gewaschen
mit Wasser gewaschen aus Aceton umkristallisiert aus Äthanol umkristallisiert
mit Methanol gewaschen mit Wasser gewaschen mit Wasser gewaschen aus Äthanol unkrlstallisiert
Die folgende Tabelle 3 enthält Beispiele für Verbindungen, die der oben an zweiter Stelle genannten allgemeinen Formel
entsprechen.
-CO-CH-CO
WV I
SO
-CO-CH-CQHH-SO2-
O2N- / \\ -CO-CH-COlH-
-O
SO2-
\-CO-CH-CO]IH-
SO,
H3CO-
SO2-
A-G
- 10 -
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-CO-CH-COHH-/
8. H3C-CO-CH-COH^ 2
j ^^C9H
έο,,-<Γ\2
2 W
O-(CH2)15-CH3
9. ^ ^y-CO-CH-COHH-,
Der im folgenden gebrauchte Ausdruck "photolysierbar", der auf
die Verbindungen bezogen ist, die wenigstens 1 Kohlenstoffatom
mit wenigstens 3 als Elektronenakzeptoren wirkenden Gruppen enthalten, bedeutet, daß diese Verbindungen unter der Wirkung
von Licht aus dem Wellenlängenbereich von 230 mn bis 400 nm ■ersetzt werden können. Bei der Belichtung mit elektromagnetischer
Strahlung werden die Verbindungen also einer Photolyse unterworfen,
bei der an den belichteten Stellen des Aufzeichnungselementes eine sichtbare oder chemisch oder physikalisch erfaßbare
Veränderung auftritt. Dabei bewirkt eine bildweise Erwärmung den gleichen Effekt wie die bildweise Belichtung, so daß
die durch die eingangs genannte allgemeine Formel charakterisierten Verbindungen nicht nur als lichtempfindlich sondern
auch als wärmeempfindlich bezeichnet werden können.
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Die genannten Verbindung sind zur Verwendung in einem Aufzeichnungsmaterial
geeignet, in den eine bildweiee Modifikation
des pH·β, eine Farbänderung oder eine chemische
Äaktion verursacht, in deren Folge die Transparenz, die Löslichkeit in einer geeigneten Flüssigkeit oder der hydrophobe
bzw. hydrophile Charakter der Aufzeichnungsschicht verändert wird.
Sie bildweise Erzeugung einer aktiven Methylenverbindung ergibt
dabei die Möglichkeit zu einer bildweisen Farbreaktion, z.B., mit einem Diazoniumsalz. Sie bildweise Änderung der Azidität
fc kann zur bildweisen Katalyse einer Vernetzungereaktion, einer Polymerisations- oder Härtungsreaktion verwendet werden oder
man kann sie zu einer pH-abhängigen Farbreaktion benutzen.
Sie Säurekatalyse von Yernetzungs-, Polymerisat ions- oder
Härtungereaktionen läßt sich für die Herstellung von Flachdruckformen, Siebdruckformen oder Resistbildern verwenden.
Hierzu werden die belichteten oder unbelichteten Stellen eines Aufzeichnungsmaterial entfernt, das entweder die photolyeierbaren
Substanzen in einem Polymeren enthält, oder das, wie W in den Beispielen gezeigt, mit einer Schicht der phoiolyeierbaren
Substanz ausgerüstet ist.
Auf Grund ihrer Eigenschaft auf photolytisehern Wege Radikale
zu bilden, können die obengenannten Verbindungen ferner als Photoinitiatoren für Radikalpolymerisationreaktionen, z.B.
von Vinylmonomeren, eingesetzt werden.
des erfindungsgemä£en photolysierbaren Materials näher beschrieben
werden.
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Ein für den Flachdruck geeignetes licht- und wärmeempfindliches
Aufzeichnungsmaterial kann dadurch hergestellt werden, daß man eine lösung der photolysierbaren Verbindung auf ©inen hydrophilen
oder hydrophilisieren Schichtträger aufträgt, z.B. auf eine Alluminiumfolie oder ein Aluminium kaschiertes Papier oder
auf eine Harzunterlage. Hach der Trocknung und bildweisen Belichtung mit Licht und/oder Wärme kann die Aufzeichnungsschicht
bildweise mit einer wäßrigen Satriumhydroxydlösung entfernt
werden, wobei je nach der Art der photolysierbaren Verbindung
ein negatives oder ein positives Bild zurückbleibt.
Photolyslerbare Verbindungen, die sich für die Herstellung eines
negativen Bildes eignen (d.h., eines Bildes, bei dem die unbelichteten Stellen der Aufzeichnungsschicht mit Hatrlumhydroxyd
entfernt werden) sind die Verbindungen 2 bis 10 aus der obigen
Tabelle 1.
Photolysierbare Verbindungen, geeignet für die Herstellung positiver Bilder nach dem oben genannten Verfahren (d.h, von
Bildern, in denen die belichteten Schichtstellen mit Natriumhydroxidlösung
entfernt werden) sind die Verbindungen 1 und 11.
Ein licht- und wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das
sich zur Erzeugung von Resistbildern eignet, enthält eine Aufzeichnungsschicht, die aus einer Mischung einer der genannten
photolyeierbaren Verbindungen mit einem Monomeren besteht, das
in Anwesenheit der photolytisch oder thermoIytisch gebildeten
Radikale polymerisiert werden kann. Damit läßt sich durch bildweise Belichtung mit Ultra-Violett ein Polymerbild erzeugen.
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Dee Monomere an den unbelichteten Stellen kann schließlich
selektiv entfernt werden, beispielsweise durch Obertragen auf ein Empfangsblatt oder durch Auswaschen Bit einem geeigneten
Lösungsmittel. Es ist außerdem möglich ein Polymerbild durch bildweise Erwärmung zu erhalten. Z.B. durch Erwärmung einer
Aufzeichnungsschicht, in der das Monomere mit einer oder mehreren Substanzen vermischt ist, die elektromagnetische Strahlung absorbieren
und wenigstens einen feil dieser absorbierten Strahlung in Wärme umwandelt. Für diesen Zweck geeignete Substanzen sind
in der veröffentlicht en niederländischen Patentanmeldung
6 606 719 beschrieben.
Eine weitere Möglichkeit zur Herstellung eines.licht- oder
wärmeempflndlichen Aufzeichnungsmaterials, das sich zur Ereszeugung
von Resiefcbildern eignet, besteht darin, auf einen
geeigneten Schifetträger ein polymeres Material aufzutragen, das sich durch Einwirkung von Wasserstoff ionen vernetzen läßt.
Ein geeignetes Material dieser Art wird in der veröffentlichten niederländischen Patentanmeldung 6 516 925 beschrieben. Gemäß
der voliegenden Erfindung kann hierfür die Terbindung 1 aus
!Tabelle 1 verwendet werden, die bei Belichtung mit UV-Licht ein Radikal liefert, das mit Wasser Wasserstoff ionen bildet
unter deren Einfluß das in der obengenannten Anmeldung beschriebene polymere Material unlöslich wird.
Nach einer vierten Möglichkeit läßt sich ein licht- und wärmeempfindliches
Aufzeichnungsmaterial, das sichtbare Bilder ergibt, herstellen. Biese Arbeitsweise beruht auf der pH-Änderung der
Aufzeichnungsschicht. Sie Aufzeichnungsschicht wird hergestellt
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indem «an auf einen geeigneten Schichtträger eine Mischung
aufträgt, die au« einer photolyeierbaren Verbindung, z.B.
aus der Verbindung 1, aus einer Spur Wasser und einem pH-Indikator besteht, der bei einer Verschiebung des pH seine
Farbe ändert. Zusammen mit dem pH-Indikator kann auch eine
Base verwendet werden, durch die ein basisches Medium erze agt wird, dessen Basissität im Laufe der Belichtung der
erwähnten Verbindung vermindert oder neutralisiert wird. Selbstverständlich kann die Aufzeichnungsschicht auch nach
der Belichtung mit dem pH-Indikator, dem Wasser sowie mit der Base behandelt werden. Hinsichtlich der Verwendung eines
pH-Indikators zur Sichtbarmachung eines durch entstehende Säure verursachten Bildes sei auf"die britische Patentschrift
1 070 863 verwiesen, die Angaben über geeignete pH-Indikatoren und Arbeitsweisen enthält.
Palis die photolysierbaren Verbindungen für ein Aufzeichnungsverfahren
verwendet werden sollen dem eine Farbreaktion zugrunde liegt, dann inkorporiert man sie vorzugsweise einem porösen
Schichtträger, z.B. Papier oder einer hydrophilen Eolloidschicht,
z.B. einer Schicht, die eine wasserlösliche polymere
enthält
pyrrolidon'. Die Aufzeichnungsschicht enthält vor der Belichtung zweckmäßigerweise etwas Wasser. Aufzeichnungsschichten auf der Basis vernetzbarer Polymerer können die photolytischen Verbindungen in dem trockenen Bindermaterial in Konzentrationen zwischen 2 und 20 Gew.^ enthalten.
pyrrolidon'. Die Aufzeichnungsschicht enthält vor der Belichtung zweckmäßigerweise etwas Wasser. Aufzeichnungsschichten auf der Basis vernetzbarer Polymerer können die photolytischen Verbindungen in dem trockenen Bindermaterial in Konzentrationen zwischen 2 und 20 Gew.^ enthalten.
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Eine Lösung von 1g»- -Phenylsulfonylbensoylacetanilid in
50 ecm Aceton wird so auf eine aufgerauhte Aluminiumfolie geschichtet, daß auf 1 m 1,15 g des trockenen Produktes
kommen.
Die trockene Schicht wird 10 Minuten im Kontakt durch eine
transparente Strichvorlage mit einer Quecksilberhochdrucklampe (80 Watt) belichtet und anschließend mittels eines
Wattebausches mit 0,2 n wäßrigen Hatriumhydroxyd abgerieben.
Dabei werden die unbelichteten Stellen der Aufzeichnungsschicht entfernt. Vor dem Einreiben mit einer lipophilen
Offset-Druckfarbe hydrophiliert man die freigelegten Stellen der Aluminiumfolie mit einer 1 jiigen wäßrigen Phosphorsäurelösung.
Man gelangt auf diese Weise zu einem negativen Bild.
Beispiel 1 wird wiederholt mit dem Unterschied, daß diesmal oL -Phenylsulfonylbenzoylacetanilid und oc-Phenylsulfonyldibenzoylmethan
in gleicher Konzentration verwandt werden. Die Qualität der so hergestellten Druckplatte entspricht der nach
Beispiel 1 hergestellten.
decylozyphenyl)-cyclophenylacetamid in 50 ecm Aceton wird so
2 auf eine aufgerauhte Aluminiumfolie geschichtet, daß auf 1 m
1,5 g des trockenen Prodtuktes haften. Die getrocknete lichtempfindliche
Schicht belichtet man in Kontakt 10 Minuten durch A-8 32* 1088 17/2*9.8
eine transparente Strichvorlage und reibt sie anschließend mit O12 η wäßrigem Natriumhydroxyd ab. Dabei werden die
belichteten Stellen der Aufzeichnungsschicht entfernt und es entsteht ein positives Bild.
Sie entwickelte Platte hydrophiliert man an den belichteten
Stellen mit einer 1 #igen wäßrigen Lösung von Mononatriumphosphat und reibt sie schließlich mit einer fetten Offset-Druekfarbe
ein.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Aktivität der in Tabelle verzeichneten Verbindungen als Photoinitiatoren.
In einem Borsilicat-Glasrohr wurden 10 ecm Methylmethacrylat
in 10 ecm Benzol gelöst. Anschließend würde die photolyeierbare Verbindung in der angegebenen Menge zugefügt, 30 Minuten
lang Stickstoff eingeblasen und anschließend das Rohr verschlossen. Das verschlossene Rohr wurde mit einer 300 Watt-Quecksilberhochdrucklampe
aus einem Abstand von 18 cm belichtet. Bach der angegebenen Reaktionszeit wurde das Polymere in Methanol
gefällt und ausgewogen.
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Verb, der Konzentration Reaktionszeit Jt des Polymeren
Tabelle 1 Mol/Liter (h)
5,1CT3 1 11,3
2 20,2
3 24,1
4 28,5
5 , 29,2 10~2 5 27,7
10"3 1 8,5
2 11
3 12,8
4 14,5
5 16,4 Vergleich 2 1,48
5 3,7
109817/2296
A-G 324 - 18 -
A-G 324 - 18 -
Claims (13)
1. Strahlungsempfindliches Material, gekennzeichnet durch
den Gehalt an einer photolysierbaren Verbindung mit wenigstens 1 Kohlenstoffatom, an das wenigstens 3 als Elektronenakzeptoren
wirkende Gruppen gebunden sind und einer Substanz, die unter der Wirkung von Radikalen, die während der Belichtung gebildet
werden, chemisch verändert wird.
2. Aufzeichnungsmaterial, gekennzeichnet durch den Gehalt an einer photolysierbaren Verbindung mit wenigstens 1 Kohlenstoffatom,
an das wenigstens 5 als Elektronenakzeptoren wirkende Gruppen gebunden sind.
3. Strahlungsempfindliches Material oder Aufzelchnunsmaterial
nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch den Gehalt an einer
photolysierbaren Verbindung folgender allgemeiner Formel
I—C—-Z
worin bedeuten:
X, Y und Z = eine Acylgruppe, eine Qyangruppe, eine Hltrogruppe,
eine Azidogruppen Jod, eine gegebenenfalls substituierte Carbamy!gruppe, eine gegebenenfalls
substituierte Sulfamylgruppe oder X und T bilden zusammen einen Kern, der 2 als Elektronenakzeptoren
wirkend· Gruppen enthält mnd mit dem Kohlenstoffatom
verbunden ist, das den Substituenten Z trägt.
109817/2296
A-G 524- - 19 -
INSPECTED
XO
R = Wasserstoff, -N,, ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest, ein gegebenenfalls substituierter Arylrest
oder ein gegebenenfalls substituierter heterocyclischer Rest.
4. Strahlungsempfindliches Material oder Aufzeichnungsmaterial
nach einem der Ansprüche 1 oder 2, gekennzeichnet durch den Gehalt an einer photIyeierbaren Verbindung folgender allgemeiner
Formel
» x—l—z
worin bedeuten:
X, T und Z = eine Cyangruppe, eine Nitrogruppe, -CO-R1, -SO2R1
oder -CO-F , worin R1 für einen gegebenenfalls
substituierten Alkylrest, einen gegebenenfalls substituierten Arylrest oder einen gegebenenfalls
substituierten heterocyclischen Rest steht; R = Wasserstoff, -N,, ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest,
ein gegebenenfalls substituierter Arylrest oder ein " gegebenenfalls substituierter heterocyclischer Rest.
5. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufzeichnungsschicht
des Materials die photolyeierbarβ Verbindung
und einen pH-Indikator enthält.
6. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach einem der
Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufzeichnunge·
A-G 324 - 20 -
1 0 9 8 1 7 / 2 ;: μ 5
schicht eine Base enthält.
7. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungematerial nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennseichnet, daß die Aufaeichnungsschicht
ein hydrophiles Bindemittel enthält.
8. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufzeichnungsschicht
ein Diazoniumsalz enthält.
9. Strahlungsempfindliches Material oder Aufzeichnungsschicht, gekennzeichnet durch den Gehalt an einem Vinylmonomeren und
einer photolysierbaren Verbindung entsprechend den Ansprüchen
2, 3 oder 4.
10. Chemische Verbindung der allgemeinen Formel
0 R', 0 RJ-
N I * Il I-7
H1-C-C-C- (N)n-1 - R'2
SO2-R«3
worin bedeuten:
R1. und R'p = Je ein gegebenenfalls substituierter Alkylreet,
ein gegebenenfalls substituierter Arylrest, ein
gegebenenfalls substituierter heterocyclischer
Rest;
R' » ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest, ein
R' » ein gegebenenfalls substituierter Alkylrest, ein
gegebenenfalls substituierter Arylrest; R' = Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
Alkylreetj
R'c = Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
R'c = Wasserstoff oder ein gegebenenfalls substituierter
Alkylrest und A-Q 324 - 21 -
1 0981 7/2296
η = 1 oder 2
11. Chemische Verbindung nach. Anspruch 10, worin wenigstens
eine der Gruppen R'-j.R'gi R*3 oder R1,- einen geradkettigen
aliphatischen Rest mit 5 bis 20 C-Atomen darstellt oder
enthält.
12. Chemische Verbindung nach den Ansprüchen 10 oder 11, worin R1, einen Arylrest bedeutet.
13. Verfahren zur Herstellung einer chemischen Verbindung entsprechend
der allgemeinen formel aus Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man ein ol-Halogen-ketoacetaaid in
einem dipolar en aprotischen Lösungsmittel mit einem SuIf inat
reagieren lädt.
14· Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß als
aprotisches lösungsmittel Dimethylformamid verwendet wird.
13. Verfahren nach den Ansprüchen 13 oder H, dadurch gekennzeichnet,
daß als SuIfinat Natriumsulfinat verwendet wird.
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