DE102018125631A1 - Schichtsystem, Rollelement und Verfahren - Google Patents

Schichtsystem, Rollelement und Verfahren Download PDF

Info

Publication number
DE102018125631A1
DE102018125631A1 DE102018125631.0A DE102018125631A DE102018125631A1 DE 102018125631 A1 DE102018125631 A1 DE 102018125631A1 DE 102018125631 A DE102018125631 A DE 102018125631A DE 102018125631 A1 DE102018125631 A1 DE 102018125631A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
protective layer
layer system
amorphous carbon
doped
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102018125631.0A
Other languages
English (en)
Inventor
Ricardo Henrique Brugnara
Nazlim Bagcivan
Edgar Schulz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schaeffler Technologies AG and Co KG
Original Assignee
Schaeffler Technologies AG and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schaeffler Technologies AG and Co KG filed Critical Schaeffler Technologies AG and Co KG
Priority to DE102018125631.0A priority Critical patent/DE102018125631A1/de
Priority to EP19768704.9A priority patent/EP3867421A1/de
Priority to US17/283,187 priority patent/US11739426B2/en
Priority to KR1020217002565A priority patent/KR20210075061A/ko
Priority to PCT/DE2019/100786 priority patent/WO2020078505A1/de
Priority to CN201980051468.4A priority patent/CN112534084A/zh
Publication of DE102018125631A1 publication Critical patent/DE102018125631A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/046Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with at least one amorphous inorganic material layer, e.g. DLC, a-C:H, a-C:Me, the layer being doped or not
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C23C14/025Metallic sublayers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/323Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one amorphous metallic material layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/343Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one DLC or an amorphous carbon based layer, the layer being doped or not
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/347Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with layers adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/44Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by a measurable physical property of the alternating layer or system, e.g. thickness, density, hardness
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/30Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Schichtsystem (1) umfassend eine reibungs- und verschleißreduzierende Schutzschicht (2), wobei die Schutzschicht (2) dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff (4) aufweist. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Rollelement (8), insbesondere eine Kurvenrolle (8), wobei auf der Lauffläche (9) des Rollelements (8) und/oder auf einer oder mehreren Seitenflächen (10, 11) des Rollelements (8) ein Schichtsystem (1) ausgebildet ist. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Außenring und ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems (1).

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Schichtsystem, umfassend ein Substrat und eine auf dem Substrat angeordnete reibungs- und verschleißreduzierende Schutzschicht. Weitere Gegenstände der Erfindung sind ein Rollelement, insbesondere eine Kurvenrolle und ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems.
  • Beschichtungen für tribologisch beanspruchte Oberflächen sind aus dem Stand der Technik in vielfältigen Ausführungsformen bekannt. Ein Anwendungsgebiet von erheblicher technologischer Bedeutung ist hierbei die Reibungs- und Verschleißreduzierung in Verbrennungsmotoren. Die hohe dynamische Belastung der an der Kraftübertragung beteiligten Komponenten und deren gegeneinander gleitenden Oberflächen erfordern überaus leistungsfähige Beschichtungen von hoher Härte und Langlebigkeit. Als eine besonders vorteilhafte Klasse von Schichtsystemen haben sich in dieser Hinsicht amorphe Kohlenstoffschichten erwiesen. Insbesondere die sogenannten diamantartigen Kohlenstoffschichten (diamond-like carbon, DLC) werden erfolgreich bei der Beschichtung von Teilen des Kurbeltriebs, der Ventilsteuerung oder auch des Kraftstoffeinspritzsystems bei Dieselmotoren eingesetzt.
  • Im Vergleich zu Graphit, der aus kristallinen Schichten sp2-hybridisierter Kohlenstoffatome aufgebaut ist und Diamant, einem Kristall aus tetraedrisch koordiniertem sp3-hybridisiertem Kohlenstoff, liegt beim amorphen Kohlenstoff eine Mischung aus sp2-hybridsierten und sp3-hybridisierten Kohlenstoff-Atomen vor, wobei ein Teil des Kohlenstoffs mit weiteren Elementen, insbesondere mit Wasserstoff verbunden sein kann. Bezüglich der mechanischen Eigenschaften können die amorphen Kohlenstoff-Phasen als ein amorphes Netzwerk aus Kohlenstoffatomen mit einer Mischung dreier verschiedener Bindungstypen angesehen werden: die Bindungen zwischen zwei sp2-hybridisierten Kohlenstoffatomen („graphitähnliche“ Bindungen), Bindungen zwischen sp3-hybridisierten Kohlenstoffatomen („diamantähnliche“ Bindungen) und Kohlenstoff-Wasserstoff-Bindungen. Bei einem signifikanten Anteil an sp3-hybridisiertem Kohlenstoff werden die zugehörigen KohlenstoffSchichten als „diamantartig“ bezeichnet, wobei die Bezeichnung „diamantartiger Kohlenstoff“ (auch „diamantähnlicher Kohlenstoff“) als Sammelbegriff für ein breites Spektrum verschiedener Kohlenstoffbeschichtungen verwendet wird (zur Einteilung und Nomenklatur siehe VDI-Richtlinie 2840 „Kohlenstoffschichten - Grundlagen, Schichttypen und Eigenschaften“). Der diamantartige Charakter, insbesondere die hohe Härte und der hohe Elastizitätsmodul dieser Schichten ergibt sich aus dem Anteil an sp3-Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen., Bei einem hohen Anteil an sp3-hybridisiertem Kohlenstoff, tritt eine spezifische Form des DLC auf, der sogenannte tetraedrische amorphe Kohlenstoff. Bei Beschichtungen wird hier zwischen tetraedrischen wasserstofffreien amorphen Kohlenstoffschichten (abgekürzt ta-C) und tetraedrischen wasserstoffhaltigen amorphen Kohlenstoffschichten (ta-C:H) unterschieden (siehe dazu VDI-Richtlinie 2840").
  • Die Anwendung solcher Beschichtungen auf Motorelemente wie Einspritzdüsen, Tassenstößel oder Kolbenbolzen verleihen den Bauteilen hervorragende Reibungseigenschaften, geringe Adhäsion, hohe Oberflächenhärte und bieten einen erhöhten Schutz gegen abrasiven Verschleiß. Gegenüber Diamantschichten, deren Wachstum sehr hohe Temperaturen erfordert, besitzen amorphe Kohlenstoffschichten darüber hinaus den Vorteil, dass sie bei niedrigeren Temperaturen und daher entsprechend wirtschaftlicher hergestellt werden können. Zu den Nachteilen amorpher Kohlenstoffschichten zählen dagegen eine geringe mechanische Zähigkeit und hohe Druckeigenspannungen. Insbesondere letztere stellen beispielsweise einen begrenzenden Faktor für die Schichtdicke dar und erschweren es zudem, amorphe Kohlenstoffschichten in stabiler Weise auf gekrümmte Flächen aufzubringen.
  • Aus der DE 10 2004 041 235 A1 in diesem Zusammenhang eine verschleißfeste Beschichtung aus wasserstofffreiem tetraedrischen amorphen Kohlenstoff bekannt. In der WO 2017/148582 wird eine Beschichtung mit einer wasserstofffreien amorphen Kohlenstoffschicht und einer Haftschicht aus Zirkonium beschrieben. Die Druckschrift DE 10 2004 043 550 A1 beschreibt eine Beschichtung mit einer wasserstofffreien, tetraedrischen amorphen Kohlenstoff enthaltenden Funktionsschicht und in der Gebrauchsmusterschrift AT 14701 U1 wird eine Beschichtungsquelle bzw. ein Target (Spendermaterial) beschrieben, das aus dotiertem Kohlenstoff besteht.
  • Vor diesem Hintergrund stellt sich die Aufgabe, ein Schichtsystem zur Verfügung zu stellen, das einen niedrigen Reibungskoeffizienten, hohe Verschleißbeständigkeit und niedrige Eigenspannung aufweist und das sich zur Beschichtung von gekrümmten Flächen, insbesondere von Motorkomponenten eignet.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch ein Schichtsystem umfassend eine reibungs- und verschleißreduzierende Schutzschicht, wobei die Schutzschicht dotierten tetraedrischen amorphem Kohlenstoff aufweist.
  • Für die Herstellung von tetraedrischem amorphem Kohlenstoff ist es notwendig, einen hohen Anteil von sp3-hybridisierten Kohlenstoffatomen zu erzeugen. Der für die Hybridisierung notwendige Elektronenübergang wird dabei durch das Einbringen von Energie angeregt, wobei diese Energie dem Kohlenstoff durch Wechselwirkung mit energiereichen Partikeln, die beispielsweise bei einem Lichtbogenverdampfen oder einer Sputterdeposition, bei ionengestützten Beschichtungsverfahren oder plasmabasierten Verfahren zugeführt werden. Die Einwirkung dieser energiereichen Teilchen führt jedoch gleichzeitig zu Verzerrungen der Struktur des Kohlenstoffnetzwerks und erzeugt hohe mechanische Druckeigenspannungen, die insbesondere einen limitierenden Faktor für die Schichtdicke darstellen. Zusätzlich ist die Haftung der mechanisch verspannten Schichten auf einem Substrat vermindert, da die Spannungen dazu tendieren, die Schicht zu deformieren, so dass es unter tribologischer Belastung zu einer Ablösung oder einem Aufreißen der Schicht kommen kann. Das Aufbringen der Schicht auf gekrümmte Bauteilflächen wird zusätzlich dadurch erschwert, dass der Schicht durch die geometrische Form des Substrats eine vorgegebene Deformation aufgezwungen wird. Durch die erfindungsgemäße Dotierung des tetraedrischen amorphen Kohlenstoffs lässt sich eine wesentliche Reduktion der Druckeigenspannungen erreichen und so ein Schichtsystem herstellen, das auch auf gekrümmten Flächen eine ausreichende Schichtdicke und eine gute Haftfestigkeit aufweist. Durch die ausgezeichneten reibungs- und verschleißmindernden Eigenschaften des tetraedrischen amorphen Kohlenstoffs sind solche Beschichtungen in besonderer Weise für tribologisch stark beanspruchte Flächen von Motorteilen, wie beispielsweise den Oberflächen von Rollelementen in der Ventilsteuerung geeignet.
  • Vorzugsweise liegt die Dicke der Schutzschicht im Bereich von 0,1 µm bis maximal 45 µm, vorzugsweise im Bereich von 0,1 µm bis 15 µm, besonders bevorzugt im Bereich von 0,1 µm bis 10 µm und ganz besonders bevorzugt im Bereich von 0,1 µm bis 5 µm.
  • Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Schutzschicht einen oder mehrere der folgenden Dotierstoffe auf: Chrom, Molybdän, Wolfram, Silizium, Kupfer, Niob, Zirkonium, Vanadium, Nickel, Eisen, Silber, Hafnium, Fluor, Sauerstoff, Wasserstoff, Bor, Stickstoff. Insbesondere die Dotierung mit Metallen hat sich als eine wirksame Maßnahme zur Reduzierung der Druckeigenspannungen herausgestellt. Neben der Reduzierung der Druckeigenspannungen lassen sich durch geeignet gewählte Dotierelemente weitere Eigenschaften der Schutzschicht gezielt verbessern. Insbesondere die Dotierung mit Fluor, Silizium und/oder Kupfer führt zu einer erheblichen Verbesserung der tribologischen Eigenschaften der tetraedrischen amorphen Kohlenstoffschichten. Die Dotierung mit Silizium und Wasserstoff erzeugt eine Schutzschicht, die beim Gleitkontakt mit Stahl einen Reibungskoeffizienten aufweist, der durch Feuchtigkeit nur unbeträchtlich reduziert wird. Weiterhin weisen mit Silizium und Wasserstoff versetzte tetraedrische amorphe Kohlenstoffschichten eine erhöhte thermische Stabilität auf. Die Dotierung mit Bor in Verbindung mit Fluor erzeugt Schutzschichten, die eine Kombination aus hoher Härte und hydrophoben Eigenschaften zeigen und die Zugabe von Wolfram kann zu einer signifikanten Reibungsreduzierung führen. Ein weiterer möglicher Dotierstoff ist Stickstoff, um der Schutzschicht einen geringeren Reibungskoeffizienten und eine verlängerte Lebensdauer zu verleihen.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung enthält die Schutzschicht den Dotierstoff oder die Dotierstoffe in einer jeweiligen Konzentration im Bereich von 0,05 at.-% bis 15 at.-%. Vorzugsweise liegt die jeweilige Konzentration im Bereich von 0,2 at.-% bis 10 at.-% und besonders bevorzugt im Bereich von 0,2 at.-% bis 5 at.-%.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist das Schichtsystem eine Haftschicht auf, wobei die Haftschicht zwischen einem Substrat und der Schutzschicht anzuordnen ist. Um ein Ablösen der Schutzschicht durch die Druckeigenspannungen der tetraedrischen amorphen Kohlenstoffschicht zu verhindern, lässt sich die Adhäsion an einem Substrat mit einer geeignet gewählten Haftschicht zwischen dem Substrat und der Schutzschicht verbessern.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Haftschicht Chrom und/oder Titan und/oder Wolfram und/oder Zirkonium und/oder Molybdän und/oder Chromnitrid und/oder Titannitrid und/oder Wolframnitrid und/oder Molybdännitrid und oder Zirkoniumnitrid auf. Durch das Aufbringen einer Haftschicht aus den vorgenannten Materialien lässt sich die Haftfestigkeit der Schutzschicht auf dem Substrat deutlich verbessern und so für die Anwendung bei Bauteilen unter tribologischer Belastung nutzbar machen. Durch eine metallische Haftschicht, vorzugsweise aus Titan oder Chrom, lässt sich insbesondere die Adhäsion auf Stahl deutlich verbessern.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Haftschicht eine Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 2,0 µm auf. Vorzugsweise liegt die Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 1,0 µm, besonders bevorzugt im Bereich von 0,001 µm bis 0,5 µm.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist das Schichtsystem eine Zwischenschicht auf, wobei die Zwischenschicht zwischen der Haftschicht und der Schutzschicht angeordnet ist und insbesondere eine Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 1,0 µm aufweist. Durch die Zwischenschicht lässt sich vorteilhafterweise die Adhäsion zwischen der Schutzschicht und der Haftschicht verbessern und kann sowohl Metalle, Übergangsmetalle oder Nichtmetalle enthalten. Die Zwischenschicht kann in einem getrennten Wachstumsschritt abgeschieden werden oder beispielsweise durch Karbidbildung an der Grenzfläche zwischen Haftschicht und Kohlenstoffschicht erzeugt werden. Vorzugsweise liegt die Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 0,5 µm, besonders bevorzugt im Bereich von 0,001 µm bis 0,05 µm.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung besteht die Schutzschicht aus dotiertem tetraedrischem amorphem Kohlenstoff. Bei dieser Ausführungsform wird die tetraedrische amorphe Kohlenstoffschicht direkt auf einem Substrat aufgebracht und das Schichtsystem weist keine zusätzliche Haft- oder Zwischenschicht auf. Auf diese Weise lässt sich vorteilhafterweise eine besonders einfache Prozessführung realisieren, ohne dass für die Herstellung der Schutzschicht getrennte Wachstumsschritte für unterschiedliche Schichten notwendig sind.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist die Schutzschicht eine oder mehrere Teilschichten aus dotiertem tetraedrischem amorphem Kohlenstoff und eine oder mehrere Teilschichten aus undotiertem tetraedrischem amorphem Kohlenstoff auf, wobei die dotierten und undotierten Teilschichten einander abwechseln. Durch die Struktur aus alternierend dotierten und undotierten Schichten lassen sich die mechanischen Eigenschaften gezielt positiv beeinflussen. So wird beispielsweise bei einer derartig geschichteten Struktur die Ausbreitung von Materialrissen unterdrückt und so die Zähigkeit der Schutzschicht verbessert. Die Eigenschaften der Mehrschichtstruktur können durch den Dotierungsgrad und die Anzahl und Dicke der Teilschichten beeinflusst werden.
  • Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung enthält die Schutzschicht Sauerstoff in einer Konzentration im Bereich von 0,1 at.-% bis 3,0 at.-% und/oder enthält Wasserstoff mit einem Stoffmengenanteil im Bereich von 0,1 bis 15 at.-% und/oder enthält sp3-hybridisierten Kohlenstoff mit einem Stoffmengenanteil von mindestens 25 % und/oder weist eine Härte auf, die größer als 30 GPa ist. Die Angabe der Härte bezieht sich auf eine Messung mittels Nanoindentierung gemäß DIN EN ISO 14577.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Rollelement, insbesondere eine Kurvenrolle, beispielweise eine Nockenrolle, wobei auf einer Lauffläche des Rollelements und/oder auf einer oder mehreren Seitenflächen des Rollelements eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Schichtsystems ausgebildet ist. Derartige Rollelemente werden im Ventiltrieb von Verbrennungsmotoren eingesetzt, beispielsweise als Teil eines Rollenschlepphebels. Der Schlepphebel dient bei Verbrennungsmotoren als Übertragungselement zwischen Nocken und Stößelstange. Der Abgriff am Nocken erfolgt im Falle von Rollenschlepphebeln über Kurvenrollen bzw. Nockenrollen. Durch Aufbringen des erfindungsgemäßen Schichtsystems auf die Oberfläche lassen sich Verschleißerscheinungen aufgrund der tribologischen Beanspruchung der Rollenfläche vorteilhafterweise vermindern sowie die Reibverlusten reduzieren.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtsystems wobei auf einem Substrat eine dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff aufweisende Schutzschicht aufgebracht wird, wobei die Schutzschicht durch physikalische Gasphasenabscheidung mittels Lichtbogenverdampfen (Are-Verfahren) und/oder durch Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern (englisch: High Power Impulse Magnetron Sputtering, HiPIMS, oder High Power Pulsed Magnetron Sputtering, HPPMS) aufgebracht wird, wobei mindestens ein Dotierstoff über eine Gasphase in die Schutzschicht eingebracht wird und/oder ein Targetmaterial (Spendermaterial) aus dotiertem Kohlenstoff eingesetzt wird und/oder der mindestens eine Dotierstoff durch Co-Sputtern in die Schutzschicht eingebracht wird.
  • Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung sollen nachfolgend anhand des in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiels erläutert werden. Hierin zeigt:
    • 1a ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 1 b ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 2a ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Haftschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 2b ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Haftschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 3a ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Zwischenschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 3b ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Zwischenschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 4a ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Haftschicht und einer Zwischenschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 4b ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems mit einer Haftschicht und einer Zwischenschicht auf einem Substrat in einer schematischen Darstellung;
    • 5 ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Rollelements in einer schematischen Darstellung;
  • In dem in 1a dargestellten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems 1 besteht dieses aus der Schutzschicht 2, die aus einer homogenen Schicht aus dotiertem tetraedrischem amorphen Kohlenstoff 4 gebildet ist, die unmittelbar auf einem Substrat 3 aufgebracht ist.
  • Bei dem in 1b dargestellten Ausführungsbeispiel besteht die Schutzschicht 2 aus einer Abfolge von mehreren Teilschichten 4a, 5 wobei unmittelbar auf dem Substrat 3 zunächst eine Teilschicht 4a aus einem dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff 4 aufgebracht ist, auf der wiederum eine Teilschicht 5 aus einem undotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff angeordnet ist. Der Wechsel aus dotierten und undotierten Teilschichten 4a, 5 setzt sich bis zur obersten Teilschicht fort. Bei den hier und in den 2b, 3b und 4b dargestellten Schichtsystemen 1 handelt es sich um beispielhafte Darstellungen. Die Abfolge aus dotierten und undotierten Teilschichten 4a, 5 kann im Prinzip eine beliebige Anzahl von Teilschichten 4a, 5 enthalten.
  • In dem in 2a dargestellten Ausführungsbeispiel ist zwischen dem Substrat 3 und der Schutzschicht 2 eine Haftschicht 6 angeordnet, die die Anbindung der Schutzschicht 2 an das Substrat 3 verbessert und zusammen mit der Schutzschicht 2 das Schichtsystem 1 bildet.
  • In dem in 2b dargestellten Ausführungsbeispiel ist zwischen der Schutzschicht 2, die eine abwechselnde Abfolge von Teilschichten 4a aus einem dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff 4 und von Teilschichten 5 aus einem undotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff umfasst, und dem Substrat 3 eine Haftschicht 6 angeordnet.
  • In dem in 3a dargestellten Ausführungsbeispiel ist zwischen einem Substrat 3 und der Schutzschicht 2 aus dotiertem tetraedrischem amorphen Kohlenstoff 4 eine Zwischenschicht 7 angeordnet, die zusammen mit der Schutzschicht 2 das Schichtsystem 1 bildet.
  • In dem in 3b dargestellten Ausführungsbeispiel ist zwischen einer Schutzschicht 2, welche eine abwechelnde Abfolge von Teilschichten 4a aus einem dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff 4 und von Teilschichten 5 aus einem undotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff aufweist, eine Zwischenschicht 7 angeordnet, die zusammen mit den Teilschichten 4a, 5 das, auf dem Substrat 3 aufgebrachte Schichtsystem 1 bildet.
  • In dem in 4a dargestellten Ausführungsbeispiel sind zwischen dem Substrat 3 und der Schutzschicht 2 aus dotiertem tetraedrischem amorphen Kohlenstoff 4 eine Haftschicht 6 und eine Zwischenschicht 7 angeordnet, die zusammen mit der Schutzschicht 2 das Schichtsystem 1 bilden. Die Haftschicht 6 verbessert dabei die Anbindung der Zwischenschicht 7 an das Substrat 3, während die Zwischenschicht 7 wiederum als Haftvermittler zwischen der Haftschicht 6 und der Schutzschicht 2 fungiert. Die Zwischenschicht 7 kann beim Herstellungsprozess entweder separat nach der Haftschicht 6 und vor der Schutzschicht 2 abgeschieden werden oder beispielsweise durch eine Reaktion zwischen der Haftschicht 6 und der Schutzschicht 2 oder durch eine Implantation von Kohlenstoff in die Haftschicht 6 gebildet werden.
  • In dem in 4b dargestellten Ausführungsbeispiel sind zwischen der Schutzschicht 2, welche eine abwechselnde Abfolge von Teilschichten 4a aus einem dotierten tetraedrischem amorphen Kohlenstoff 4 und von Teilschichten 5 aus einem undotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff aufweist, eine Haftschicht 6 und eine Zwischenschicht 7 angeordnet, die analog zu 4a die Anbindung an das Substrat 3 verbessern.
  • Bei dem in 5 dargestellten Rollelement 8 ist die Lauffläche 9 mit dem erfindungsgemäßen Schichtsystem 1 versehen, um die reibungs- und verschleißmindernden Eigenschaften der Schutzschicht 2 für den Einsatz des Rollelements 8 als Teil der Ventilsteuerung eines Verbrennungsmotors nutzbar zu machen. Optional können auch die Seitenflächen 10, 11 mit dem erfindungsgemäßen Schichtsystem 1 versehen sein.
  • Das vorstehend beschriebene Rollelement 8 ist insbesondere eine Kurvenrolle 8, wobei auf der Lauffläche 9 des Rollelements 8 und/oder auf einer oder mehreren Seitenflächen 10, 11 des Rollelements 8 eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Schichtsystems 1 ausgebildet ist.
  • Die vorstehend beschriebenen Schichtsysteme 1 und das vorstehend beschriebene Rollelement 8 können mit einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt werden, bei dem auf einem Substrat 3 oder der Lauffläche 9 und/oder den Seitenflächen 10, 11, eine Schutzschicht 2 umfassend dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff 4 aufgebracht wird, wobei die Schutzschicht 2 durch physikalische Gasphasenabscheidung mittels Lichtbogenverdampfen und/oder Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern aufgebracht wird, wobei mindestens ein Dotierstoff über eine Gasphase in die Schutzschicht eingebracht wird und/oder ein Target aus dotiertem Kohlenstoff eingesetzt wird und/oder der mindestens eine Dotierstoff durch Co-Sputtern in die Schutzschicht 2 eingebracht wird.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Schichtsystem
    2
    Schutzschicht
    3
    Substrat
    4
    dotierter tetraedrisch amorpher Kohlenstoff
    5
    undotierter tetredrisch amorpher Kohlenstoff
    6
    Haftschicht
    7
    Zwischenschicht
    8
    Rollelement
    9
    Lauffläche
    10
    erste Seitenfläche
    11
    zweite Seitenfläche
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102004041235 A1 [0005]
    • WO 2017/148582 [0005]
    • DE 102004043550 A1 [0005]
    • AT 14701 U1 [0005]
  • Zitierte Nicht-Patentliteratur
    • DIN EN ISO 14577 [0018]

Claims (13)

  1. Schichtsystem (1), umfassend eine reibungs- und verschleißreduzierende Schutzschicht (2), dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) dotierten tetraedrischen amorphen Kohlenstoff (4) aufweist.
  2. Schichtsystem (1) gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) einen oder mehrere der folgenden Dotierstoffe aufweist: Chrom, Molybdän, Wolfram, Silizium, Kupfer, Niob, Zirkonium, Vanadium, Nickel, Eisen, Silber, Hafnium, Fluor, Sauerstoff, Wasserstoff, Bor, Stickstoff.
  3. Schichtsystem (1) gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) den Dotierstoff oder die Dotierstoffe in einer Konzentration im Bereich von 0,05 at.-% bis 15 at.-% enthält.
  4. Schichtsystem (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Schichtsystem (1) eine Haftschicht (6) aufweist, wobei die Haftschicht (6) zwischen einem Substrat (3) und der Schutzschicht (2) anzuordnen ist.
  5. Schichtsystem (1) gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (6) Chrom und/oder Titan und/oder Wolfram und/oder Zirkonium und/oder Molybdän und/oder Chromnitrid und/oder Titannitrid und/oder Wolframnitrid und/oder Molybdännitrid und/ oder Zirkoniumnitrid aufweist.
  6. Schichtsystem (1) gemäß Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (6) eine Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 2,0 µm aufweist.
  7. Schichtsystem (1) gemäß einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Schichtsystem (1) eine Zwischenschicht (7) aufweist, wobei die Zwischenschicht (7) zwischen der Haftschicht (6) und der Schutzschicht (2) angeordnet ist und insbesondere eine Schichtdicke im Bereich von 0,001 µm bis 1,0 µm aufweist.
  8. Schichtsystem (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) aus dotiertem tetraedrischen amorphen Kohlenstoff (4) besteht.
  9. Schichtsystem (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) eine oder mehrere Teilschichten (4a) aus dotiertem tetraedrischen amorphen Kohlenstoff (4) und eine oder mehrere Teilschichten (5) aus undotiertem tetraedrischen amorphen Kohlenstoff aufweist, wobei die dotierten und undotierten Teilschichten (4a, 5) einander abwechseln.
  10. Schichtsystem (1) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht (2) Sauerstoff in einer Konzentration im Bereich von 0,1 at.-% bis 3,0 at.-% enthält und/oder Wasserstoff in einer Konzentration im Bereich von 0,1 at.-% bis 15 at.-% enthält und/oder sp3hybridisierten Kohlenstoff mit einem Stoffmengenanteil von mindestens 25 % enthält und/oder eine Härte aufweist, die größer als 30 GPa ist.
  11. Rollelement (8), insbesondere eine Kurvenrolle (8), dadurch gekennzeichnet, dass auf der äußeren Lauffläche (9) des Rollelements (8) und/oder auf einer oder mehreren Seitenflächen (10, 11) des Rollelements (8) ein Schichtsystem (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10 ausgebildet ist.
  12. Außenring (8), dadurch gekennzeichnet, dass auf einem äußeren Durchmesser des Außenrings, und/oder auf einer oder mehreren Seitenflächen (10, 11) des Außenrings (8) ein Schichtsystem (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10 ausgebildet ist.
  13. Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass auf einem Substrat (3) eine dotierte tetraedrische amorphe Kohlenstoff (4) aufweisende Schutzschicht (2) aufgebracht wird, wobei die Schutzschicht (2) durch physikalische Gasphasenabscheidung mittels Lichtbogenverdampfen und/oder Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern aufgebracht wird, wobei mindestens ein Dotierstoff über eine Gasphase in die Schutzschicht eingebracht wird und/oder ein Target aus dotiertem Kohlenstoff eingesetzt wird und/oder der mindestens eine Dotierstoff durch Co-Sputtern in die Schutzschicht (2) eingebracht wird.
DE102018125631.0A 2018-10-16 2018-10-16 Schichtsystem, Rollelement und Verfahren Withdrawn DE102018125631A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018125631.0A DE102018125631A1 (de) 2018-10-16 2018-10-16 Schichtsystem, Rollelement und Verfahren
EP19768704.9A EP3867421A1 (de) 2018-10-16 2019-09-02 Bauteil, insbesondere für ein ventiltriebsystem, und verfahren zur herstellung eines solchen bauteils
US17/283,187 US11739426B2 (en) 2018-10-16 2019-09-02 Component, in particular for a valve train system, and method for producing a component of this type
KR1020217002565A KR20210075061A (ko) 2018-10-16 2019-09-02 특히, 밸브 트레인 시스템을 위한 구성요소, 및 이러한 구성요소를 제조하기 위한 방법
PCT/DE2019/100786 WO2020078505A1 (de) 2018-10-16 2019-09-02 Bauteil, insbesondere für ein ventiltriebsystem, und verfahren zur herstellung eines solchen bauteils
CN201980051468.4A CN112534084A (zh) 2018-10-16 2019-09-02 特别是用于配气机构系统的部件以及生产这种部件的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018125631.0A DE102018125631A1 (de) 2018-10-16 2018-10-16 Schichtsystem, Rollelement und Verfahren

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102018125631A1 true DE102018125631A1 (de) 2020-04-16

Family

ID=67953506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102018125631.0A Withdrawn DE102018125631A1 (de) 2018-10-16 2018-10-16 Schichtsystem, Rollelement und Verfahren

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11739426B2 (de)
EP (1) EP3867421A1 (de)
KR (1) KR20210075061A (de)
CN (1) CN112534084A (de)
DE (1) DE102018125631A1 (de)
WO (1) WO2020078505A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112481591A (zh) * 2020-11-11 2021-03-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 自适应耐高低温循环低摩擦功能防护涂层及其制法与应用
WO2023275109A1 (de) * 2021-06-29 2023-01-05 Robert Bosch Gmbh VERSCHLEIßSCHUTZBESCHICHTETES METALLBAUTEIL
DE102022213858A1 (de) 2022-12-19 2024-06-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Sensorisches schichtsystem und verwendungen hiervon

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024503785A (ja) 2021-06-09 2024-01-29 エルジー エナジー ソリューション リミテッド バッテリーセル固定装置及びそれを含む電解液含浸装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007010595B4 (de) * 2006-04-27 2013-08-29 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Auf amorphem Kohlenstoff basierende, harte mehrlagige Schicht
DE102012007796A1 (de) * 2012-04-20 2013-10-24 Amg Coating Technologies Gmbh Beschichtung enthaltend Si-DLC, DLC und Me-DLC und Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen
DE102014217040A1 (de) * 2014-08-27 2016-03-03 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Beschichtung für Metallbauteile, Verfahren zum Beschichten eines Metallbauteils, Kolben für Verbrennungskraftmaschinen und Kfz
EP2759620B1 (de) * 2011-09-22 2016-07-20 NTN Corporation Hartschicht, aus der hartschicht geformter körper und wälzlager
WO2017148582A1 (de) * 2016-03-01 2017-09-08 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Wasserstofffreie kohlenstoffbeschichtung mit zirkonium haftschicht
DE102018102073A1 (de) * 2017-02-01 2018-08-02 GM Global Technology Operations LLC Diamantähnliche kohlenstoffbeschichtung (diamond-like carbon coating; dlc) für einspritzanwendungen für ethanolhaltige kraftstoffgemische

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT14701B (de) 1902-09-29 1904-01-11 Moritz Brief Sicherheitsschnellsieder.
JP3555844B2 (ja) * 1999-04-09 2004-08-18 三宅 正二郎 摺動部材およびその製造方法
CN1138020C (zh) * 1999-09-29 2004-02-11 永源科技股份有限公司 阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法
DE102004041234A1 (de) 2004-08-26 2006-03-02 Ina-Schaeffler Kg Verschleißfeste Beschichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE102004041235A1 (de) * 2004-08-26 2006-03-02 Ina-Schaeffler Kg Verschleißfeste Beschichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE102004043550B4 (de) 2004-09-09 2012-02-16 Schaeffler Technologies Gmbh & Co. Kg Verschleißfeste Beschichtung, ihre Verwendung und Verfahren zur Herstellung derselben
JP5503145B2 (ja) * 2005-08-18 2014-05-28 スルザー メタプラス ゲーエムベーハー 四面体炭素層および軟質外層を備える層状構造によって被覆された基板
DE102007054181A1 (de) * 2007-11-14 2009-05-20 Schaeffler Kg Korrosionsfeste Beschichtung sowie Herstellverfahren hierfür
DE102010062114B4 (de) * 2010-11-29 2014-12-11 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung
US20120164454A1 (en) 2010-12-27 2012-06-28 Chien-Min Sung Diamond Protected Devices and Associated Methods
JP2012202522A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Tpr Co Ltd ピストンリング
EP2628817B1 (de) * 2012-02-15 2016-11-02 IHI Hauzer Techno Coating B.V. Beschichteter Artikel aus Martensitstahl und Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Artikels aus Stahl
DE102012219930A1 (de) * 2012-10-31 2014-04-30 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung
WO2014132923A1 (ja) * 2013-02-28 2014-09-04 株式会社ニコン 摺動膜、摺動膜が形成された部材、及びその製造方法
FR3008905B1 (fr) 2013-07-25 2017-01-13 Hydromecanique & Frottement Piece mecanique revetue d'une couche de carbone amorphe en vue de son glissement vis-a-vis d'un autre composant moins dur
US9476485B2 (en) 2014-03-14 2016-10-25 Ford Global Technologies, Llc Diamond-like carbon coating on chain guides and tensioning arms for internal combustion engines
BR102014007893B1 (pt) 2014-04-02 2022-03-22 Mahle International Gmbh Elemento deslizante, motor de combustão interna e processo de obtenção de elemento deslizante
DE102014209309A1 (de) 2014-05-16 2015-12-03 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Bauteil, Verwendung eines Bauteils sowie Verfahren zur Herstellung eines verschleißbeständigen und reibungsreduzierenden Bauteils
US9984915B2 (en) 2014-05-30 2018-05-29 Infineon Technologies Ag Semiconductor wafer and method for processing a semiconductor wafer
AT14701U1 (de) * 2015-03-19 2016-04-15 Plansee Composite Mat Gmbh Beschichtungsquelle zur Herstellung dotierter Kohlenstoffschichten
JP6684270B2 (ja) 2015-04-22 2020-04-22 東洋炭素株式会社 炭素蒸発源
DE102015208644A1 (de) 2015-05-11 2016-11-17 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Bauteil, Verwendung des Bauteils sowie Verfahren zur Herstellung des Bauteils
DE102016202149A1 (de) 2016-02-12 2017-08-17 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Seilscheibenlageranordnung

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007010595B4 (de) * 2006-04-27 2013-08-29 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Auf amorphem Kohlenstoff basierende, harte mehrlagige Schicht
EP2759620B1 (de) * 2011-09-22 2016-07-20 NTN Corporation Hartschicht, aus der hartschicht geformter körper und wälzlager
DE102012007796A1 (de) * 2012-04-20 2013-10-24 Amg Coating Technologies Gmbh Beschichtung enthaltend Si-DLC, DLC und Me-DLC und Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen
DE102014217040A1 (de) * 2014-08-27 2016-03-03 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Beschichtung für Metallbauteile, Verfahren zum Beschichten eines Metallbauteils, Kolben für Verbrennungskraftmaschinen und Kfz
WO2017148582A1 (de) * 2016-03-01 2017-09-08 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Wasserstofffreie kohlenstoffbeschichtung mit zirkonium haftschicht
DE102018102073A1 (de) * 2017-02-01 2018-08-02 GM Global Technology Operations LLC Diamantähnliche kohlenstoffbeschichtung (diamond-like carbon coating; dlc) für einspritzanwendungen für ethanolhaltige kraftstoffgemische

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112481591A (zh) * 2020-11-11 2021-03-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 自适应耐高低温循环低摩擦功能防护涂层及其制法与应用
CN112481591B (zh) * 2020-11-11 2023-03-24 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 自适应耐高低温循环低摩擦功能防护涂层及其制法与应用
WO2023275109A1 (de) * 2021-06-29 2023-01-05 Robert Bosch Gmbh VERSCHLEIßSCHUTZBESCHICHTETES METALLBAUTEIL
DE102022213858A1 (de) 2022-12-19 2024-06-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Sensorisches schichtsystem und verwendungen hiervon

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020078505A1 (de) 2020-04-23
US20210348279A1 (en) 2021-11-11
US11739426B2 (en) 2023-08-29
EP3867421A1 (de) 2021-08-25
KR20210075061A (ko) 2021-06-22
CN112534084A (zh) 2021-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2646597B1 (de) Gleitelement, insbesondere kolbenring, mit einer beschichtung
EP3091100B1 (de) Gleitelement, insbesondere kolbenring, mit einer beschichtung sowie verfahren zur herstellung eines gleitelements
DE102018125631A1 (de) Schichtsystem, Rollelement und Verfahren
EP2464761B1 (de) Kolbenring mit einer beschichtung.
DE69819995T2 (de) Kolbenring
DE69815014T2 (de) Kolbenring
DE112012001018T5 (de) Kolbenring
EP2912207B1 (de) Bauteil mit einer beschichtung und verfahren zu seiner herstellung
DE102013200846A1 (de) Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung
DE102010002687A1 (de) Verfahren zur Beschichtung zumindest der Innenfläche eines Kolbenrings sowie Kolbenring
AT511605B1 (de) Kohlenstoffbasierende beschichtung
DE102006052869A1 (de) PVD-Hartstoffbeschichtung von Kettengelenkteilen
DE102014213822A1 (de) Gleitelement, insbesondere Kolbenring, und Verfahren zur Herstellung desselben
DE112014005504T5 (de) Kolbenring
DE102012207814A1 (de) Bauelement, insbesondere ein Gleitelement
DE102008040768A1 (de) Verschleißschutzschichtanordnung sowie Bauelement mit einer Verschleißschutzschichtanordnung
DE102013209863A1 (de) Beschichtetes Bauteil
DE202006020978U1 (de) PVD-Hartstoffbeschichtung von Kettengelenkteilen
DE102012207813A1 (de) Gleitkörper mit Beschichtung
DE102006027502A1 (de) Verschleißfeste Beschichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
DE102017205028A1 (de) Verschleißschutzbeschichtetes metallisches Bauteil hieraus bestehende Bauteilanordnung
EP3963121B1 (de) Verfahren zum beschichten einer mechanisch hochbelasteten oberfläche eines bauteils sowie beschichtetes bauteil selbst
EP2813720B1 (de) Lagersystem
DE102017102059A1 (de) Schichtsystem und Bauteil
DE102020205537A1 (de) Verschleißschutzbeschichtetes Bauteil sowie Verfahren zum Beschichten desselben

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R118 Application deemed withdrawn due to claim for domestic priority