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2005-03-30 |
2012-12-01 |
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Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
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TWI394004B
(zh)
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適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型光阻組成物
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CN1955845B
(zh)
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适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
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(zh)
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適用於酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大光阻組成物
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适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
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(zh)
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2006-06-09 |
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適合作為酸產生劑之鹽及含該鹽之化學放大正型光阻組成物
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(zh)
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適用為酸產生劑之鹽及含該鹽之化學放大正型阻劑組成物
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(zh)
*
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2006-08-18 |
2013-10-21 |
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適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型正光阻組成物
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(en)
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2006-08-18 |
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Salts of perfluorinated sulfoacetic acids
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(zh)
*
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2006-08-22 |
2013-07-21 |
Sumitomo Chemical Co |
適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型正型光阻組成物
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(ja)
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化学放大型抗蚀剂组合物
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(zh)
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化學放大型阻劑組成物
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ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
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化学放大型抗蚀剂组合物
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化学放大型抗蚀剂组合物
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化学増幅型レジスト組成物
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住友化学株式会社 |
化学増幅型レジスト組成物
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ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
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レジスト処理方法
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感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法
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レジストパターンの製造方法
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化学増幅型フォトレジスト組成物
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化学増幅型フォトレジスト組成物
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住友化学株式会社 |
盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
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Salt and photoresist composition containing the same
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TWI460151B
(zh)
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鹽及含有該鹽之光阻組成物
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CN101898984A
(zh)
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2009-05-28 |
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住友化学株式会社 |
盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物
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JP6009730B2
(ja)
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2009-05-28 |
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住友化学株式会社 |
酸発生剤用の塩及びレジスト組成物
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Salt and photoresist composition containing the same
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(en)
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2009-06-12 |
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Sumitomo Chemical Company, Limited |
Salt and photoresist composition containing the same
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JP6030818B2
(ja)
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2009-06-23 |
2016-11-24 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物の酸発生剤用の塩
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JP5783687B2
(ja)
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2009-06-23 |
2015-09-24 |
住友化学株式会社 |
樹脂及びレジスト組成物
|
JP5319418B2
(ja)
*
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2009-06-24 |
2013-10-16 |
住友化学株式会社 |
レジストパターンの製造方法、及びこれから得られるレジストパターン
|
JP5319419B2
(ja)
*
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2009-06-24 |
2013-10-16 |
住友化学株式会社 |
レジストパターンの製造方法、及びこれから得られるレジストパターン
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JP5689253B2
(ja)
*
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2009-06-24 |
2015-03-25 |
住友化学株式会社 |
化学増幅型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
JP5580674B2
(ja)
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2009-07-14 |
2014-08-27 |
住友化学株式会社 |
新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法
|
JP5658932B2
(ja)
*
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2009-07-14 |
2015-01-28 |
住友化学株式会社 |
新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法
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KR101744715B1
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2009-07-16 |
2017-06-08 |
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
염 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물
|
JP5992658B2
(ja)
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2009-07-17 |
2016-09-14 |
住友化学株式会社 |
塩及びレジスト組成物
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KR101699082B1
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2009-07-27 |
2017-01-23 |
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 |
화학 증폭형 레지스트 조성물 및 그것에 사용되는 염
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JP2011059672A
(ja)
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2009-08-11 |
2011-03-24 |
Sumitomo Chemical Co Ltd |
フォトレジスト組成物
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JP2011057663A
(ja)
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2009-08-11 |
2011-03-24 |
Sumitomo Chemical Co Ltd |
化合物及びフォトレジスト組成物
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JP5580558B2
(ja)
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2009-08-21 |
2014-08-27 |
住友化学株式会社 |
フォトレジスト組成物
|
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2009-08-31 |
2017-04-12 |
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
수지, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법
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(en)
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2009-09-16 |
2011-05-16 |
Sumitomo Chemical Co |
Photoresist composition
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2009-09-16 |
2011-04-20 |
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光致抗蚀剂组合物
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JP5621431B2
(ja)
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2009-09-17 |
2014-11-12 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
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JP5556522B2
(ja)
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2009-09-17 |
2014-07-23 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
|
JP5621432B2
(ja)
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2009-09-17 |
2014-11-12 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物
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2009-09-17 |
2015-10-11 |
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光阻組成物
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2009-09-25 |
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レジスト組成物
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2009-10-01 |
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금호석유화학 주식회사 |
술포니움 염의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 술포니움 염
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KR101115576B1
(ko)
*
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2009-10-01 |
2012-03-06 |
금호석유화학 주식회사 |
술포니움 염의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 술포니움 염
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TWI476172B
(zh)
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鹽及含有該鹽之光阻組成物
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2009-11-18 |
2017-08-25 |
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
염 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물
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2009-11-18 |
2015-02-21 |
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鹽及含有該鹽之光阻組成物
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(ja)
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化学増幅型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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塩、酸発生剤及びレジスト組成物
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(zh)
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2010-06-29 |
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鹽、酸產生劑及光阻組成物
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(ja)
*
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化合物、樹脂及びレジスト組成物
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光阻組成物
|
JP5953670B2
(ja)
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2010-08-27 |
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住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
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(ko)
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2010-08-30 |
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 |
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JP5750346B2
(ja)
|
2010-10-06 |
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住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
JP5879834B2
(ja)
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2010-11-15 |
2016-03-08 |
住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5961363B2
(ja)
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC |
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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(ja)
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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(ja)
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2011-02-25 |
2016-07-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
JP5829940B2
(ja)
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2011-02-25 |
2015-12-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5829939B2
(ja)
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2011-02-25 |
2015-12-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5947051B2
(ja)
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2011-02-25 |
2016-07-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP6034025B2
(ja)
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2011-02-25 |
2016-11-30 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5898520B2
(ja)
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2011-02-25 |
2016-04-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5898521B2
(ja)
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2011-02-25 |
2016-04-06 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法
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JP6022788B2
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2011-04-07 |
2016-11-09 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5934536B2
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2011-04-07 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP6005964B2
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2011-04-07 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5852490B2
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2011-04-07 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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住友化学株式会社 |
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-04-20 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5990041B2
(ja)
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP6013797B2
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP5977594B2
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2011-07-19 |
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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び、フォトマスクの製造方法
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富士フイルム株式会社 |
化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
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パターン形成方法
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2013-01-11 |
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信越化学工業株式会社 |
パターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
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Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device
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富士フイルム株式会社 |
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光阻組成物、化合物及光阻圖案的製造方法
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富士胶片株式会社 |
抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的制造方法
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住友化学株式会社 |
塩、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2015-12-31 |
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Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
光致抗蝕劑組合物、包含光致抗蝕劑組合物的經塗佈基板及形成電子裝置的方法
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2015-12-31 |
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Rohm And Haas Electronic Materials Llc |
光酸產生劑
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2020-05-28 |
후지필름 가부시키가이샤 |
전자 재료 제조용 약액의 제조 방법, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 전자 재료 제조용 약액, 용기, 및 품질 검사 방법
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JP7316022B2
(ja)
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2016-05-13 |
2023-07-27 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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TWI738775B
(zh)
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2016-05-13 |
2021-09-11 |
日商住友化學股份有限公司 |
光阻組成物及製造光阻圖案之方法
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JP6969889B2
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2016-05-13 |
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住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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2016-06-28 |
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東京応化工業株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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JP6848697B2
(ja)
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2016-06-30 |
2021-03-24 |
住友化学株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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JP7081413B2
(ja)
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2017-10-05 |
2022-06-07 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
JP7283883B2
(ja)
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2017-11-09 |
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住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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CN114380722B
(zh)
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2021-12-30 |
2023-06-30 |
宁波南大光电材料有限公司 |
一种磺酰氟烷烃酯的快速水解方法
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