CN104729411B - 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪 - Google Patents

基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪 Download PDF

Info

Publication number
CN104729411B
CN104729411B CN201510102709.7A CN201510102709A CN104729411B CN 104729411 B CN104729411 B CN 104729411B CN 201510102709 A CN201510102709 A CN 201510102709A CN 104729411 B CN104729411 B CN 104729411B
Authority
CN
China
Prior art keywords
grating
speculum
light
diffraction
subdivision
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510102709.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104729411A (zh
Inventor
卢炎聪
周常河
韦春龙
余俊杰
李树斌
李民康
李燕阳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Original Assignee
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS filed Critical Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Priority to CN201510102709.7A priority Critical patent/CN104729411B/zh
Publication of CN104729411A publication Critical patent/CN104729411A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104729411B publication Critical patent/CN104729411B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Optical Transform (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

一种基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,包括线偏振光源、偏振分束器、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第一四分之一波片、第二四分之一波片、数据采集和处理及控制单元,由非偏振分束器、处于正交双频线偏振光45度放置的第一检偏器及对应的第一探测器、处于正交双频线偏振光45度放置的第二检偏器及对应的第二探测器构成的双频外差干涉光电探测单元,以及自准直装置。本发明将高密度光栅设计成负一级高衍射效率;进而采用细分光栅使得光束被标尺光栅多次衍射,并且最终垂直入射到反射镜上实现光路原路返回,通过光束多次经标尺光栅衍射,获得高光学细分倍数,从而提高光栅干涉仪的分辨率。

Description

基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪
技术领域
本发明涉及一种位移测量装置中光栅干涉仪高细分部件,特别是一种基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪。
背景技术
对微纳米精密位移测量的仪器目前主要包括两种:激光干涉仪和光栅干涉仪。激光干涉仪以波长为基准,能得到很高的分辨率,但由于波长容易受到环境、光源等因素的影响,其应用受到了限制。而光栅干涉仪刚好弥补了激光干涉仪的缺点,其以光栅周期作为基准,测量结果基本不受环境和波长的影响,已广泛应用于加工机床、机器人、生物医疗等领域。
无论是激光干涉仪还是光栅干涉仪,其分辨率大小都取决于光学细分倍数和电子细分倍数。由于电子细分受限于光学细分信号,在电子细分相同的情况下,光学细分倍数越高,其测量分辨率越高。目前典型的光栅干涉仪系统,如海德汉公司的专利US5574558,日本佳能公司的专利US5038032,美国IBM公司的专利US5442172等,其光学细分倍数并不高,一般为2或4倍。所以提高光学细分倍数有着重要的意义。本发明在光栅效率足够高的情况下理论上能无限地提高光学细分倍数,解决了目前光栅干涉仪细分倍数低的问题。
发明内容
本发明针对目前光栅干涉仪光学细分倍数低的问题,提出了一种基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,将高密度光栅设计成负一级高衍射光效率;进而采用等密度的细分光栅实现光束在两光栅之间的多次反复衍射,并且最终垂直入射到反射镜上实现光路的原路返回,通过光束多次经标尺光栅衍射从而获得很高的光学细分倍数,从而提高光栅干涉仪的分辨率。
本发明的技术解决方案:
一种基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,其特点在于,包括:线偏振光源、偏振分束器、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第一四分之一波片、第二四分之一波片、数据采集和处理及控制单元,由非偏振分束器、处于正交双频线偏振光45度放置的第一检偏器及对应的第一探测器、处于正交双频线偏振光45度放置的第二检偏器及对应的第二探测器构成的双频外差干涉光电探测单元,以及至少包括标尺衍射光栅、与该标尺衍射光栅平行的细分光栅的自准直装置,所述的第一探测器和第二探测器的输出端分别与所述的数据采集和处理及控制单元相连,
所述的线偏振光源发出正交双频偏振光束经所述的非偏振分束器分为两束,一束射入所述的第一检偏器形成干涉信号,由所述的第一探测器接收后作为双频外差干涉术的参考信号传输至数据采集和处理及控制单元,另一束经所述的偏振分束器分为透射的P光和反射的S光,所述的P光依次经所述的第一四分之一波片、第一反射镜入射到所述的标尺衍射光栅,所述的S光依次经所述的第二四分之一波片、第二反射镜入射到所述的标尺衍射光栅,经该标尺衍射光栅衍射后的两束-1级衍射光入射到所述的细分光栅,经该细分光栅衍射的-1级次光再次入射到标尺衍射光栅上,经此多次反射后,经所述的自准直装置再自准直原路返回,两束光分别依次经所述的第一反射镜、第一四分之一波片与所述的第二反射镜、第二四分之一波片变换为与原偏振态正交的两束正交双频线偏振光,经所述的偏振分束器射入所述的第二检偏器形成干涉信号,由所述的第二探测器接收后作为双频外差干涉术的测量信号传输至数据采集和处理及控制单元。
所述的自准直装置还包括第三反射镜和第四反射镜,经所述的标尺衍射光栅衍射后的两束-1级衍射光入射到所述的细分光栅,经该细分光栅衍射的-1级次光再次入射到标尺衍射光栅上,经此多次反射后,最终分别垂直入射到所述的第三反射镜和第四反射镜上后各光束再原路返回。
所述的自准直装置还包括棱镜,所述的细分光栅刻在该棱镜与所述的标尺衍射光栅的相对面上,与该细分光栅相邻的两个面镀有高反膜。
所述的自准直装置还包括棱镜,所述的细分光栅刻在该棱镜与所述的标尺衍射光栅的相对面的另一面,与该细分光栅相邻的两个面镀有高反膜。
光栅多普勒频移
式中m为衍射级次,v为速度,d为光栅周期。两边对时间求积分并整理得,
式中N为周期个数,s为光栅平移距离。m为光学细分倍数。即一束光每经过一次标尺光栅衍射则细分倍数增加m倍,当两束光频移方向相反时,光学细分倍数则增加2m倍。所以增加光栅衍射次数有利于增加光学细分倍数,以获得有效高分辨率的效果。
与现有技术相比,本发明的技术效果:
本发明采用将高密度光栅设计成负一级高衍射光效率;进而采用细分光栅配合反射镜使得光束多次经标尺光栅衍射。入射光束在标尺光栅上经过N次衍射,则对两束光分别产生正负N倍光栅多普勒频移,进而实现2N倍光学细分。若N=10,则可实现20倍的光学细分。从而获得高光学细分效果,大大有效提高光栅干涉仪光学分辨率。
附图说明
图1为采用基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪的实施例1图。
图2为细分光栅结合反射镜的工作原理图。
图3为实施例2一体式细分光栅的工作原理图。
图4为实施例3一体式细分光栅的工作原理图。
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。
如图1所示,激光器8发出正交双频线偏振光,经非偏振分束器10平分成两束光,一束通过与正交双频线偏振光45度放置的第一检偏器11后形成干涉信号,并由第一光电探测器12接收,作为双频外差干涉术的参考信号;另一束通过偏振分束器9分成透射P光和反射S光,分别由第一四分之一波片6和第二四分之一波片7变换为圆偏振光,再通过第一反射镜2和第二反射镜3入射标尺衍射光栅1。由标尺衍射光栅1衍射后的两束-1级衍射光入射到细分光栅上,细分光栅的光栅参数与标尺光栅的光栅参数完全相同,则经细分光栅衍射的-1级次光衍射方向与一开始入射到标尺光栅光束的衍射方向相同,经细分光栅衍射的-1级次光再次打到标尺光栅上,经过多次衍射后入射到第三反射镜4和第四反射镜5上,第三反射镜4和第四反射镜5的反射面与标尺光栅的夹角为入射光束在标尺光栅上的衍射角,如此可使得光束垂直入射到第三和第四反射镜上,垂直入射到第三反射镜4和第四反射镜5的光束原路返回。经过第一反射镜2和第二反射镜3,再经过第一四分之一波片6和第二四分之一波片7变换为与原偏振态正交的线偏振光,共同通过45度放置的第二检偏器14后形成干涉信号,并由第二光电探测器13接收,作为双频外差干涉术的测量信号;上述参考信号和测量信号经由数据采集和处理及控制单元15处理即可获得标尺衍射光栅1的横向位移量。
细分结构单元工作原理如图2所示。
入射光束30入射到标尺光栅1上,满足光栅方程:
d(sin(-β)-sin(θ))=mλ
式中d为标尺光栅周期,β为入射角,θ为衍射角,m为衍射级次,λ为激光波长。经标尺光栅衍射后-1级次光入射到细分光栅40上,经细分光栅衍射的-1级次光方向与入射光30平行,再次入射到标尺衍射光栅1上,如此多次反复,直至最后经标尺衍射光栅1衍射光束垂直入射到第四反射镜5上,光束原路返回形成光束32。与此类似光束31经细分光栅和第三反射镜4后形成光束33。由于光束30和光束31在标尺光栅1上的投影方向正好相反,标尺光栅移动对两束光的多普勒频移方向也相反,一束光经光栅标尺衍射N次,最后两束光频移量为2Nmv/d,m为衍射级次,v为标尺光栅速度,d为标尺光栅周期。则最后光学细分倍数为2Nm倍。
图3为实施例2一体式细分光栅的工作原理图,如图所示,细分光栅被刻于棱镜50的面53上,棱镜50的面52和面51被镀以高反膜代替图2中第三第四平面反射镜的作用。制作成一体式利于系统的稳定。此结构的细分光栅的周期与标尺光栅的周期相同。棱镜50的面54与面51的夹角为α,棱镜50的面54与面52的夹角也为α,夹角α和光束在标尺光栅的衍射角θ相等。
图4为实施例3一体式细分光栅的工作原理图,细分光栅被刻于棱镜60的面64上,棱镜60的面62和面61被镀以高反膜代替图2中第三第四平面反射镜的作用,棱镜60的面63被镀以高透膜以使光束几乎全部透过。棱镜60的面64与面61的夹角为α,棱镜60的面64与面62的夹角也为α,夹角α和光束在标尺光栅的衍射角θ相等。细分光栅的周期d0满足以下关系:
式中n1为棱镜的折射率,n0为空气中的折射率,λ为激光波长,β为入射角,θ为衍射角。

Claims (4)

1.一种基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,其特征在于,包括:线偏振光源(8)、偏振分束器(9)、第一反射镜(2)、第二反射镜(3)、第一四分之一波片(6)、第二四分之一波片(7)、数据采集和处理及控制单元(15),由非偏振分束器(10)、处于正交双频线偏振光45度放置的第一检偏器(11)及对应的第一探测器(12)、处于正交双频线偏振光45度放置的第二检偏器(14)及对应的第二探测器(13)构成的双频外差干涉光电探测单元,以及至少包括标尺衍射光栅(1)、与该标尺衍射光栅(1)平行的细分光栅(40)的自准直装置,所述的第一探测器(12)和第二探测器(13)的输出端分别与所述的数据采集和处理及控制单元(15)相连,
所述的线偏振光源(8)发出正交双频偏振光束经所述的非偏振分束器(10)分为两束,一束射入所述的第一检偏器(11)形成干涉信号,由所述的第一探测器(12)接收后作为双频外差干涉术的参考信号传输至数据采集和处理及控制单元(15),另一束经所述的偏振分束器(9)分为透射的P光和反射的S光,所述的P光依次经所述的第一四分之一波片(6)、第一反射镜(2)入射到所述的标尺衍射光栅(1),所述的S光依次经所述的第二四分之一波片(7)、第二反射镜(3)入射到所述的标尺衍射光栅(1),经该标尺衍射光栅(1)衍射后的两束-1级衍射光入射到所述的细分光栅(40),经该细分光栅(40)衍射的-1级次光再次入射到标尺衍射光栅(1)上,经此多次反射后,经所述的自准直装置再自准直原路返回,两束光分别依次经所述的第一反射镜(2)、第一四分之一波片(6)与所述的第二反射镜(3)、第二四分之一波片(7)变换为与原偏振态正交的两束正交双频线偏振光,经所述的偏振分束器(9)射入所述的第二检偏器(14)形成干涉信号,由所述的第二探测器接收后作为双频外差干涉术的测量信号传输至数据采集和处理及控制单元(15)。
2.根据权利要求1所述的基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,其特征在于,所述的自准直装置还包括第三反射镜(4)和第四反射镜(5),经所述的标尺衍射光栅(1)衍射后的两束-1级衍射光入射到所述的细分光栅(40),经该细分光栅(40)衍射的-1级次光再次入射到标尺衍射光栅(1)上,经此多次反射后,最终分别垂直入射到所述的第三反射镜(4)和第四反射镜(5)上后各光束再原路返回。
3.根据权利要求1所述的基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,其特征在于,所述的自准直装置还包括棱镜(50),所述的细分光栅(40)刻在该棱镜(50)与所述的标尺衍射光栅(1)的相对面(53)上,与该细分光栅(40)相邻的两个面(51、52)镀有高反膜。
4.根据权利要求1所述的基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪,其特征在于,所述的自准直装置还包括棱镜(60),所述的细分光栅(40)刻在该棱镜(60)与所述的标尺衍射光栅(1)的相对面的另一面(64),与该细分光栅(40)相邻的两个面(61、62)镀有高反膜。
CN201510102709.7A 2015-03-10 2015-03-10 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪 Active CN104729411B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510102709.7A CN104729411B (zh) 2015-03-10 2015-03-10 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510102709.7A CN104729411B (zh) 2015-03-10 2015-03-10 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104729411A CN104729411A (zh) 2015-06-24
CN104729411B true CN104729411B (zh) 2017-07-14

Family

ID=53453539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510102709.7A Active CN104729411B (zh) 2015-03-10 2015-03-10 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104729411B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105136022B (zh) * 2015-09-14 2017-07-14 中国科学院上海光学精密机械研究所 自准直光栅干涉仪高光学细分结构
CN107462165A (zh) * 2017-08-23 2017-12-12 中国科学院上海光学精密机械研究所 基于双光栅结构的高光学细分双频光栅干涉仪
CN107607045B (zh) * 2017-08-24 2019-12-13 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统
DE102018212719A1 (de) * 2018-07-31 2020-02-20 Dr. Johannes Heidenhain Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Optische Positionsmesseinrichtung
CN112577431B (zh) * 2019-09-29 2022-02-08 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光栅尺测量装置及测量方法
CN111207674B (zh) * 2020-01-17 2021-08-24 中北大学 一种基于单层光栅多次衍射的位移传感器
CN114111587B (zh) * 2021-11-01 2024-03-01 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种三轴高光学细分光栅尺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5038032A (en) * 1989-03-03 1991-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Encoder incorporating a displaceable diffraction grating
CN1793778A (zh) * 2004-12-24 2006-06-28 三丰株式会社 位移检测器
CN104048597A (zh) * 2014-06-13 2014-09-17 中国科学院上海光学精密机械研究所 自适应共光路光栅干涉仪及其实现方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5038032A (en) * 1989-03-03 1991-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Encoder incorporating a displaceable diffraction grating
CN1793778A (zh) * 2004-12-24 2006-06-28 三丰株式会社 位移检测器
CN104048597A (zh) * 2014-06-13 2014-09-17 中国科学院上海光学精密机械研究所 自适应共光路光栅干涉仪及其实现方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
纳米级位移分辨率双光栅系统的多普勒分析;苏绍璟;《光学 精密工程》;20040229;全文 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN104729411A (zh) 2015-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104729411B (zh) 基于高密度光栅的高分辨率光栅干涉仪
CN105004273B (zh) 一种激光干涉位移测量系统
CN104535019B (zh) 一种双衍射光栅外差干涉的滚转角测量装置及方法
CN106885535B (zh) 单频干涉直线度误差及其位置测量与补偿的装置及方法
CN104729402B (zh) 基于平面镜的高光学细分光栅干涉仪
CN108168465B (zh) 一种共光路激光外差干涉法滚转角高精度测量装置及方法
Downs et al. An unmodulated bi-directional fringe-counting interferometer system for measuring displacement
CN101691998B (zh) 二维激光自准直仪
CN105571529B (zh) 一种用于角度测量无非线性误差的激光外差干涉系统
CN102679882B (zh) 一种相位调制光栅传感器及实现测量的方法
CN103604375B (zh) 抗光学混叠的双频激光光栅干涉二维测量方法及系统
CN207180607U (zh) 一种角度补偿式激光外差干涉位移测量装置
CN107255451A (zh) 角度补偿式激光外差干涉位移测量装置及方法
CN101846506B (zh) 基于共路平行光线的滚转角测量方法
CN110360931A (zh) 一种对称式紧凑型外差干涉光栅位移测量系统
CN106338333B (zh) 基于波片偏航的高鲁棒性零差激光测振仪及四步调整法
CN103673892A (zh) 一种对称式光栅外差干涉二次衍射测量装置
CN103075969A (zh) 差动式激光干涉纳米位移测量方法及装置
CN104634254A (zh) 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统
CN106052569A (zh) 一种外差式一/二维光栅位移粗/细测量系统
CN107462165A (zh) 基于双光栅结构的高光学细分双频光栅干涉仪
CN105333815B (zh) 一种基于光谱色散线扫描的超横向分辨率表面三维在线干涉测量系统
CN102252764A (zh) 激光波长实时测量装置
CN108775878A (zh) 光栅外差干涉系统及其滚转角测量方法
CN106248195B (zh) 附加相移补偿的高鲁棒性零差激光测振仪及四步调整法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant