WO2017115733A1 - 試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラム - Google Patents

試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラム Download PDF

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chamber
sample analysis
substrate
liquid
opening
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PCT/JP2016/088569
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房俊 岡本
城野　政博
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パナソニックヘルスケアホールディングス株式会社
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    • G01N2035/00495—Centrifuges

Definitions

  • the present application relates to a sample analysis substrate, a sample analysis device, a sample analysis system, and a sample analysis system program.
  • Patent Document 1 uses a disk-shaped sample analysis substrate on which a channel, a chamber, and the like are formed, and rotates the sample analysis substrate to transfer, distribute, and mix the components in the sample solution. The technology which performs analysis etc. of this is disclosed.
  • Analysis of specific components in a sample includes an analysis method using complicated reaction steps using enzyme reaction, immune reaction, and the like. There has been a demand for a technique capable of performing an analysis method through such a complicated reaction step in a sample analysis substrate.
  • Non-limiting exemplary embodiments of the present application provide a sample analysis substrate, a sample analysis apparatus, a sample analysis system, and a sample analysis that can be applied to an analysis method in which components in a specimen are analyzed through more complicated reaction steps. Provide system programs.
  • a sample analysis substrate that transfers liquid by the rotational motion of the present disclosure includes a substrate having a rotation axis, and a first holding chamber that is located in the substrate and has a first space for holding the first liquid.
  • a reaction chamber located in the substrate and having a space for holding a liquid sample containing a specimen, and a first flow path located in the substrate and having a first opening and a second opening. The first opening and the second opening are located in the substrate, the first flow path connected to the first holding chamber and the reaction chamber, respectively, and the ligand is fixed to the liquid sample containing the specimen and the surface.
  • a main chamber having a space for holding the magnetic particles formed, and a second flow path located in the substrate and having a third opening and a fourth opening, wherein the third opening and the fourth opening Open Are each provided with a second flow path connected to the reaction chamber and the main chamber, and a magnet storage chamber located in the substrate and capable of storing a magnet, wherein the first opening has the second opening.
  • the magnet storage chamber When the second opening is positioned closer to the rotation axis than the third opening, and the magnet storage chamber has a magnet stored in the magnet storage chamber.
  • the magnetic particles in the main chamber can be captured by the magnet in the main chamber.
  • the sample analysis substrate According to the sample analysis substrate, the sample analysis apparatus, the sample analysis system, and the sample analysis system program according to one aspect of the present application, it is possible to cope with an analysis method in which components in a specimen are analyzed through complicated reaction steps.
  • FIG. 1 is an example of a schematic diagram illustrating a sandwich immunoassay method using magnetic particles.
  • FIG. 2A is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of the sample analysis system of the embodiment.
  • FIG. 2B is a schematic diagram illustrating an example of a configuration for detecting the origin of the sample analysis substrate in the sample analysis system.
  • FIG. 3A is an exploded perspective view showing an example of a sample analysis substrate.
  • FIG. 3B is a plan view showing an example of a sample analysis substrate.
  • FIG. 3C is a plan view showing a configuration relating to the transfer of the reaction liquid in the sample analysis substrate shown in FIG. 3A.
  • FIG. 3A is an example of a schematic diagram illustrating a sandwich immunoassay method using magnetic particles.
  • FIG. 2A is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of the sample analysis system of the embodiment.
  • FIG. 2B is a schematic diagram illustrating an example of a configuration for detecting the origin of the sample analysis substrate in the
  • FIG. 3D is a plan view showing a configuration relating to a siphon structure of a main chamber and a third flow path in the sample analysis substrate shown in FIG. 3A.
  • FIG. 3E is a perspective view showing an example of a method for holding a magnet of the sample analysis substrate.
  • FIG. 3F is a plan view showing a configuration related to the transfer of the cleaning liquid in the sample analysis substrate shown in FIG. 3A.
  • FIG. 3G is an enlarged plan view showing a part of the structure of the first flow path of the sample analysis substrate.
  • FIG. 3H is a plan view showing a configuration related to the transfer of the substrate solution in the sample analysis substrate shown in FIG. 3A.
  • FIG. 4 is a flowchart showing an example of the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 4 is a flowchart showing an example of the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 5 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 6 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 7 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 8 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 9 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 10 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 11 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 12 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 13 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 14 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 15 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 16 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 17 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 18 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 19 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 20 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 21 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 22 is a diagram schematically illustrating an example of the stop angle of the sample analysis substrate and the position of the liquid during the operation of the sample analysis system.
  • FIG. 23A is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 23B is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 24A is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 24B is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 24C is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 25A is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 25B is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 25C is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 26 is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 27 is a plan view showing another example of the sample analysis substrate.
  • FIG. 28A is a plan view showing another example of the reaction chamber.
  • FIG. 28B is a plan view showing another example of the reaction chamber.
  • FIG. 28C is a plan view showing another example of the reaction chamber.
  • FIG. 28D is a plan view showing another example of the reaction chamber.
  • FIG. 28E is a plan view showing another example of the reaction chamber.
  • a binding reaction between an analyte as an analysis target and a ligand that specifically binds to the analyte may be used.
  • analysis methods include immunoassay methods and genetic diagnosis methods.
  • immunoassay methods include competitive methods and non-competitive methods (sandwich immunoassay methods).
  • An example of a gene diagnosis method is a gene detection method by hybridization.
  • magnetic particles sometimes referred to as “magnetic beads”, “magnetic particles” or “magnetic beads”.
  • a sandwich immunoassay method using magnetic particles will be specifically described.
  • an antigen-antibody reaction between a primary antibody 304 immobilized on the surface of a magnetic particle 302 (hereinafter referred to as “magnetic particle-immobilized antibody 305”) and an antigen 306 as a measurement object.
  • the secondary antibody to which the labeling substance 307 is bound (hereinafter referred to as “labeled antibody 308”) and the antigen 306 are bound by an antigen-antibody reaction.
  • labeled antibody 308 the secondary antibody to which the labeling substance 307 is bound
  • a complex 310 in which the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeled antibody 308 are bound to the antigen 306 is obtained.
  • the signal based on the labeled substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 is detected, and the antigen concentration is measured according to the amount of the detected signal.
  • the labeling substance 307 include enzymes (for example, peroxidase, alkaline phosphatase, luciferase, etc.), chemiluminescent substances, electrochemiluminescent substances, fluorescent substances, etc., and dyes corresponding to the respective labeling substances 307, Signals such as luminescence and fluorescence are detected.
  • the sandwich immunoassay method using magnetic particles has been described as an example, but B / F separation is performed by immunoassay or hybridization using competitive or non-competitive methods regardless of the presence or absence of magnetic particles. Necessary for gene detection.
  • magnetic particles for example, a ligand immobilized on a solid phase composed of a material such as polystyrene or polycarbonate by physical adsorption, a ligand immobilized on a solid phase by chemical bonding, a metal composed of gold, etc.
  • SAM self-assembled monolayer
  • the magnetic particles including the composite 310 In order to sufficiently perform the B / F separation, it is preferable to wash the magnetic particles including the composite 310 with a washing solution a plurality of times. Specifically, first, in the reaction solution containing the complex 310, the unreacted antigen 306, the labeled antibody 308, and the like, only the reaction solution is removed while the complex 310 containing the magnetic particles is captured by the magnet. . Thereafter, a cleaning liquid is added to clean the composite 310, and the cleaning liquid is removed. By repeating this washing a plurality of times, B / F separation in which unreacted substances and non-specifically adsorbed substances are sufficiently removed can be achieved.
  • the complex 310 is reacted with the substrate solution, and a signal based on the labeling substance 307 is generated.
  • the remaining reaction solution is transferred to the chamber holding the complex 310 and reacts with the substrate solution, thereby causing an erroneous signal. May be generated. Measurement errors due to such signals are suppressed, and more accurate signal measurement is required.
  • a sample analysis substrate, a sample analysis device, a sample analysis system, and a program for the sample analysis system were conceived.
  • a sample analysis substrate, a sample analysis device, a sample analysis system, and a sample analysis system program according to an aspect of the present application are as follows.
  • a sample analysis substrate that transfers liquid by a rotational motion, A substrate having a rotation axis; A first holding chamber located in the substrate and having a first space for holding a first liquid; A reaction chamber located in the substrate and having a space for holding a liquid sample containing a specimen; A first flow path located in the substrate and having a first opening and a second opening, wherein the first opening and the second opening are connected to the first holding chamber and the reaction chamber, respectively.
  • the sample analysis substrate according to Item 5 wherein the non-capillary space has a portion located closer to the rotation axis than the capillary space.
  • the reaction chamber includes a first portion and a second portion;
  • the substrate has a wall portion located between the first portion and the second portion of the reaction chamber;
  • the wall portion forms a convex portion in a direction toward the rotation axis, In the first part and the second part, a part of the capillary space and the non-part on the side farther from an arc having a line segment connecting the rotation axis of the wall part closest to the rotation axis and the rotation axis.
  • Each part of the capillary space is located, Item 6.
  • a part of the capillary space that connects the first part and the second part is located in a part or all of the wall part located on the first part side, Item 8.
  • a collection chamber located in the substrate and having a space;
  • a third flow path located in the substrate and having a fifth opening and a sixth opening, wherein the fifth opening and the sixth opening are connected to the main chamber and the recovery chamber, respectively.
  • [Item 10] 10 10. The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 9, wherein the first channel is a non-capillary channel.
  • the first chamber has an outermost peripheral side surface that is located farthest from the rotation axis, and an adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface, Forming a recess in the outermost peripheral side surface and the adjacent side surface; Item 11.
  • the sample analysis substrate according to Item 10 wherein the first liquid is held by the recess when the sample analysis substrate is held at a predetermined angular position.
  • the first channel is a capillary channel.
  • Item 13 Item 13.
  • Item 14 Item 13.
  • the space of the first holding chamber includes a first portion and a second portion, and a connecting portion that is located between the first portion and the second portion and connects the first portion and the second portion.
  • the substrate has a wall portion separating the first portion and the second portion of the space of the first holding chamber;
  • the reaction chamber is located farther from the axis of rotation than the second portion of the first holding chamber;
  • the connecting portion of the space of the first holding chamber is located closer to the rotating shaft than the wall portion of the substrate; 13.
  • a fourth holding chamber located in the substrate and having a space for holding a second liquid; An eighth flow path for connecting the fourth holding chamber and the reaction chamber and transferring the second liquid;
  • the first holding chamber has an outermost peripheral side surface farthest from the rotation shaft, an adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface, and a recess formed by the outermost peripheral side surface and the adjacent side surface.
  • the fourth holding chamber has an outermost peripheral side surface farthest from the rotation axis, an adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface, and a recess formed by the outermost peripheral side surface and the adjacent side surface.
  • the adjacent side surface of the first holding chamber and the adjacent side surface of the fourth holding chamber are non-parallel when viewed from a direction parallel to the rotation axis.
  • Item 15. The sample analysis substrate according to any one of Items 1 to 14.
  • [Item 17] The sample analysis substrate according to any one of items 1 to 16, and A motor for rotating the sample analysis substrate around the rotation axis;
  • a rotation angle detection circuit for detecting a rotation angle of the rotation shaft of the motor; Based on the detection result of the rotation angle detection circuit, the drive circuit that controls the rotation angle of the motor when rotating and stopping, and the arithmetic unit, the memory, and the memory are configured to be executable by the arithmetic unit
  • a sample analysis system comprising: The program is When the sample analysis substrate in which the first liquid and the liquid sample are introduced into the first holding chamber and the Seki reaction chamber is loaded in the
  • a rotation angle detection circuit for detecting a rotation angle of the rotation shaft of the motor;
  • the drive circuit that controls the rotation angle of the motor when rotating and stopping, and the arithmetic unit, the memory, and the memory are configured to be executable by the arithmetic unit
  • the program is When the sample analysis substrate in which the first liquid and the liquid sample are introduced into the first holding chamber and the Seki reaction chamber is loaded in the sample analyzer, (A) The liquid sample in the reaction chamber is transferred to the main chamber by rotating the sample analysis substrate, (B) by rotating the sample analysis substrate, to transfer the first liquid in the first holding chamber to the reaction chamber after the step (a), (C) transferring the first liquid in the reaction chamber to the main chamber by rotating the sample analysis substrate; Sample analyzer.
  • a sample analysis substrate that transfers liquid by a rotational motion, A substrate having a rotation axis; A first holding chamber located in the substrate and having a first space for holding a first liquid; A reaction chamber located in the substrate and having a space for holding a liquid sample containing the analyte; A first flow path located in the substrate and having a first opening and a second opening, wherein the first opening and the second opening are connected to the first holding chamber and the reaction chamber, respectively.
  • a first flow path A main chamber having a space for holding a liquid sample containing the analyte and a magnetic particle having a ligand immobilized on the surface thereof, located in the substrate;
  • a second flow path located in the substrate and having a third opening and a fourth opening, wherein the third opening and the fourth opening are connected to the reaction chamber and the main chamber, respectively.
  • a magnet storage chamber located in the substrate and capable of storing magnets; With The first opening is located closer to the rotation axis than the second opening, The second opening is located closer to the rotation axis than the third opening, The magnet storage chamber is disposed at a position where, when a magnet is stored in the magnet storage chamber, the magnetic particles in the main chamber can be captured in the main chamber by the magnet.
  • a liquid feeding method using (A) introducing a first liquid and a liquid sample into the first holding chamber and the reaction chamber, respectively; (B) transferring the liquid sample in the reaction chamber to the main chamber; (C) after the step (b), transferring the first liquid in the first holding chamber to the reaction chamber; (D) transferring the first liquid in the reaction chamber to the main chamber; How to use the sample analysis substrate.
  • the sample analysis substrate, sample analysis apparatus, sample analysis system, and sample analysis system program according to the present embodiment measure signals with high accuracy even when liquid remains in the chamber that holds the reaction solution. Can do.
  • the two or more liquids held in different chambers are transferred to other chambers by various rotations of the sample analysis substrate, it is possible to more reliably prevent the liquids from being sent at unnecessary timing.
  • the liquid is a substrate solution and a cleaning liquid, but the liquid is not limited to the substrate solution and the cleaning liquid, and may be various liquids used for sample analysis.
  • FIG. 2A is a schematic diagram showing the overall configuration of the sample analysis system 501.
  • the sample analysis system 501 includes a sample analysis substrate 100 and a sample analysis device 200.
  • the sample analyzer 200 includes a motor 201, an origin detector 203, a rotation angle detection circuit 204, a control circuit 205, a drive circuit 206, and an optical measurement unit 207.
  • the motor 201 has a rotation axis A inclined from the gravity (vertical) direction G at an angle ⁇ greater than 0 ° and not more than 90 ° with respect to the turntable 201a and the gravity direction, and the sample analysis placed on the turntable 201a
  • the substrate 100 is rotated around the rotation axis A. Since the rotation axis A is inclined, in addition to the centrifugal force due to the rotation, the movement due to the gravity can be used for the transfer of the liquid in the sample analysis substrate 100.
  • the inclination angle of the rotation axis A with respect to the gravity direction G is preferably 5 ° or more, more preferably 10 ° or more and 45 ° or less, and further preferably 20 ° or more and 30 ° or less.
  • the motor 201 may be, for example, a direct current motor, a brushless motor, an ultrasonic motor, or the like.
  • the origin detector 203 detects the origin of the sample analysis substrate 100 attached to the motor 201.
  • the origin detector 203 includes a light source 203a, a light receiving element 203b, and an origin detection circuit 203c, and is arranged such that the sample analysis substrate 100 is positioned between the light source 203a and the light receiving element 203b. Is done.
  • the light source 203a is a light emitting diode
  • the light receiving element 203b is a photodiode.
  • the sample analysis substrate 100 has a marker 210 provided at a specific position.
  • the marker 210 has a light shielding property of shielding at least a part of light emitted from the light source 203a.
  • the area of the marker 210 has a low transmittance (for example, 10% or less), and the area other than the marker 210 has a high transmittance (for example, 60% or more).
  • the light receiving element 203b When the sample analysis substrate 100 is rotated by the motor 201, the light receiving element 203b outputs a detection signal corresponding to the amount of incident light to the origin detection circuit 203c. Depending on the direction of rotation, the detection signal increases or decreases at the edges 210a and 210b of the marker 210. For example, when the sample analysis substrate 100 rotates clockwise as indicated by an arrow, the origin detection circuit 203c detects a decrease in the detected light amount and outputs it as an origin signal. In the present specification, the position of the edge 210a of the marker 210 is treated as the origin position of the sample analysis substrate 100 (the angular position serving as the reference of the sample analysis substrate 100).
  • the position of a specific angle arbitrarily determined from the position of the edge 210a of the marker 210 may be determined as the origin.
  • the marker 210 has a sector shape and the central angle thereof is smaller than the angle detection accuracy necessary for sample analysis, the marker 210 itself may be determined as the origin position.
  • the origin position is used for the sample analyzer 200 to acquire information on the rotation angle of the sample analysis substrate 100.
  • the origin detector 203 may have other configurations.
  • the sample analysis substrate 100 may include an origin detection magnet, and the origin detector 203 may be a magnetic detection element that detects the magnetism of the magnet. Moreover, you may use the magnet for catching the magnetic particle mentioned later for origin detection.
  • the origin detector 203 may not be provided.
  • the rotation angle detection circuit 204 detects the angle of the rotation axis A of the motor 201.
  • the rotation angle detection circuit 204 may be a rotary encoder attached to the rotation axis A.
  • the rotation angle detection circuit 204 includes a hall element provided in the brushless motor and a detection circuit that receives an output signal of the hall element and outputs an angle of the rotation axis A. Also good.
  • the drive circuit 206 rotates the motor 201. Specifically, based on a command from the control circuit 205, the sample analysis substrate 100 is rotated clockwise or counterclockwise. Further, based on the detection results of the rotation angle detection circuit 204 and the origin detector 203 and the command from the control circuit 205, the swing and rotation of the sample analysis substrate 100 are stopped.
  • the optical measurement unit 207 detects a signal (for example, dye, luminescence, fluorescence, etc.) corresponding to the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 (FIG. 1) held on the sample analysis substrate 100.
  • a signal for example, dye, luminescence, fluorescence, etc.
  • the control circuit 205 includes a CPU provided in the sample analyzer 200, for example.
  • the control circuit 205 executes a computer program read into a RAM (Random Access Memory; not shown), and sends instructions to other circuits according to the procedure of the computer program.
  • Each circuit that receives the instruction operates as described in this specification to realize the function of each circuit.
  • the command from the control circuit 205 is sent to the drive circuit 206, the rotation angle detection circuit 204, the optical measurement unit 207, etc., as shown in FIG. 2A, for example.
  • the procedure of the computer program is shown by the flowchart in the accompanying drawings.
  • the RAM into which the computer program is read in other words, the RAM that stores the computer program may be volatile or non-volatile.
  • Volatile RAM is RAM that cannot store stored information unless power is supplied.
  • dynamic random access memory DRAM
  • the nonvolatile RAM is a RAM that can hold information without supplying power.
  • magnetoresistive RAM (MRAM), resistance change memory (ReRAM), and ferroelectric memory (FeRAM) are examples of nonvolatile RAM. In the present embodiment, it is preferable to employ a nonvolatile RAM.
  • Both volatile RAM and non-volatile RAM are non-transitory examples of computer-readable recording media.
  • a magnetic recording medium such as a hard disk or an optical recording medium such as an optical disk is an example of a computer-readable recording medium that is not temporary. That is, the computer program according to the present disclosure can be recorded on various non-transitory computer-readable media other than a medium such as the atmosphere (temporary medium) that propagates the computer program as a radio wave signal.
  • control circuit 205 is described as a separate component from the rotation angle detection circuit 204 and the origin detection circuit 203c of the origin detector 203.
  • these may be realized by common hardware.
  • a CPU computer
  • a CPU provided in the sample analyzer 200 functions as a computer program that functions as the control circuit 205, a computer program that functions as the rotation angle detection circuit 204, and a computer program that functions as the origin detection circuit 203 c of the origin detector 203. May be executed serially or in parallel. Thereby, the CPU can be apparently operated as a different component.
  • FIG. 3A is an exploded perspective view of the sample analysis substrate 100.
  • the sample analysis substrate 100 includes a rotating shaft 110 and a plate-shaped substrate 100 ′ having a predetermined thickness in a direction parallel to the rotating shaft 110.
  • the substrate 100 ′ of the sample analysis substrate 100 is composed of a base substrate 100a and a cover substrate 100b.
  • the substrate 100 ′ of the sample analysis substrate 100 has a circular shape, but may have, for example, a polygonal shape, an elliptical shape, a sector shape, or the like.
  • the substrate 100 ′ has two main surfaces 100c and 100d.
  • the main surface 100c and the main surface 100d are parallel to each other, and the thickness of the substrate 100 ′ (the distance between the two main surfaces) defined by the distance between the main surface 100c and the main surface 100d is the substrate.
  • the main surfaces 100c and 100d need not be parallel.
  • a part of two main surfaces may be non-parallel or parallel, or may be totally non-parallel.
  • FIG. 3B is a plan view of the base substrate 100a.
  • the sample analysis substrate 100 includes a first holding chamber 101, a second holding chamber 102, a third holding chamber 103, a first storage chamber 104, and a second storage chamber, which are located in the substrate 100 ′, respectively.
  • the shape of each chamber is not limited as long as it is not specifically mentioned below, and may have any shape.
  • Each chamber generally has a space defined by upper and lower surfaces parallel to the two major surfaces 100c, 100d (FIG. 3A) of the substrate 100 ', and three or more side surfaces located therebetween. Two adjacent surfaces of the upper surface, the lower surface, and the side surface may not be separated by a clear ridge line.
  • the shape of each chamber may be a flat sphere or a spheroid.
  • the sample analysis substrate 100 further includes a first flow path 111, a second flow path 112, a third flow path 113, a fourth flow path 114, a fifth flow path 115, and a sixth flow, which are located in the substrate 100 ′, respectively. It has a channel 116 and a seventh channel 117.
  • the first flow path 111 connects the first holding chamber 101 and the reaction chamber 106.
  • the second flow path 112 connects the reaction chamber 106 and the main chamber 107.
  • the third flow path 113 connects the main chamber 107 and the recovery chamber 108.
  • the fourth flow path 114 connects the first storage chamber 104 and the first holding chamber 101.
  • the fifth flow path 115 connects the second storage chamber 105 and the second holding chamber 102.
  • the sixth flow path 116 connects the second holding chamber 102 and the third holding chamber 103.
  • the seventh flow path 117 connects the third holding chamber 103 and the main chamber 107.
  • the first holding chamber 101 connected to the first storage chamber 104 via the fourth flow path 114 is connected to the reaction chamber 106 instead of the main chamber 107 by the first flow path 111.
  • the liquid transfer between the chambers through the flow path can be realized by various methods. For example, transfer by gravity and transfer by capillary force and centrifugal force by rotation can be used. Hereinafter, these two transfer methods will be described generally.
  • the liquid can move in the flow path by gravity.
  • the sample analysis substrate 100 is supported with the rotation axis 110 tilted with respect to the direction of gravity G in a range of greater than 0 degrees and less than 90 degrees.
  • the transfer source chamber in which the liquid exists is arranged at a higher position than the transfer destination chamber. “High” means being higher in the direction of gravity G.
  • the flow path capable of being transferred by gravity is not a capillary path described below.
  • the flow path that can be transferred by gravity has, for example, a thickness of 1 mm or more.
  • the channel may be a capillary channel.
  • a “capillary channel” refers to a channel having a narrow cross section that can fill at least a portion of the liquid with capillary force due to capillary action.
  • the liquid transfer through the capillary channel will be described by taking as an example a configuration having chambers A and B that are not capillary spaces, and a capillary channel that connects chamber A and chamber B.
  • air holes are provided in the chamber A and the chamber B so as not to cause a pressure difference due to the movement of the liquid, and the pressure in the two chambers is set to the pressure with the external environment. Match.
  • the liquid in the flow path is stationary due to the balance of capillary force, atmospheric pressure, and gravity, and no liquid is transferred from chamber A to chamber B. Further, by rotating the sample analysis substrate, the liquid is not transferred even when a centrifugal force less than the capillary force acts on the liquid in the channel.
  • chamber B is arranged at a position farther than chamber A with respect to the rotation axis, and the sample analysis substrate is rotated so that a centrifugal force larger than the capillary force acts on the liquid in the flow path of the capillary channel. Then, the liquid in the chamber A can be transferred to the chamber B by centrifugal force.
  • the flow channel has a thickness of 50 ⁇ m to 300 ⁇ m, for example.
  • different thicknesses can be realized by changing the depths of the spaces provided in the base substrate 100a.
  • the depth of the space provided in the base substrate 100a is made constant, and convex portions having different heights are provided at positions corresponding to the respective chambers and flow paths of the cover substrate 100b, so that the thicknesses of the respective flow paths and chambers are different. It may be allowed.
  • part or all of the flow path may constitute a capillary space so that part or all of the chamber is reliably filled with the retained liquid.
  • the thickness of the region serving as the capillary space is 50 ⁇ m to 300 ⁇ m as described above.
  • the sample analysis substrate 100 having a diameter of 60 mm can be rotated in the range of 100 rpm to 8000 rpm.
  • the rotation speed is determined according to the shape of each chamber and flow path, the physical properties of the liquid, the timing of liquid transfer and processing, and the like.
  • Hydrophilic treatment may be applied to the inner surface of the flow path or chamber in which the capillary force works and the connection portion of the chamber to which the flow path is connected.
  • Capillary force works greatly by hydrophilic treatment.
  • the hydrophilic treatment is performed, for example, by applying a nonionic, cationic, anionic or zwitterionic surfactant on the inner surface, performing corona discharge treatment, or providing physical fine irregularities. (For example, refer to JP 2007-3361 A).
  • hydrophilic treatment may be applied to these flow paths as well.
  • Each of the first holding chamber 101, the second holding chamber 102, the third holding chamber 103, the first storage chamber 104, the second storage chamber 105, the reaction chamber 106, the main chamber 107, and the recovery chamber 108 has at least one air hole. 122 is provided. Thereby, the inside of each chamber is maintained at atmospheric pressure, and each flow path can be moved by the capillary phenomenon and siphon principle. Further, the first storage chamber 104, the second storage chamber 105, and the reaction chamber 106 may be provided with an opening 123 for injecting the cleaning solution and the substrate solution. The air hole 122 may also serve as the opening 123.
  • Each of the first holding chamber 101, the second holding chamber 102, the third holding chamber 103, the first storage chamber 104, the second storage chamber 105, the reaction chamber 106, the main chamber 107, and the recovery chamber 108 includes a base substrate 100a.
  • the upper and lower portions of each space are formed by covering the base substrate 100a with the cover substrate 100b. That is, these spaces are defined by the inner surface of the substrate 100 '.
  • the first channel 111, the second channel 112, the third channel 113, the fourth channel 114, the fifth channel 115, the sixth channel 116, and the seventh channel 117 are also formed in the base substrate 100a.
  • the base substrate 100a and the cover substrate 100b define an upper surface and a lower surface, respectively.
  • the substrate 100 ′ can be made of a resin such as acrylic, polycarbonate, or polystyrene.
  • Table 1 shows the substance or liquid introduced at the start of sample analysis, the first introduction chamber, and the order in which the introduced substance or liquid is introduced into the main chamber in the sample analysis substrate 100 of the present embodiment. Shows the combination.
  • the combinations shown in Table 1 are only one example illustrated, and the substances and liquids to be introduced into the chamber and the order of introduction into the main chamber 107 are not limited to the substances and orders shown in Table 1.
  • the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308 are introduced into the reaction chamber 106, and the complex 310 is generated in the reaction chamber 106.
  • the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeled antibody 308 are arranged in advance in the reaction chamber 106 as the drying reagent 125.
  • a substrate solution is introduced into the second storage chamber 105.
  • a cleaning liquid is introduced into the first storage chamber 104. As will be described in detail below, the cleaning liquid held in the first storage chamber 104 is introduced into the main chamber 107 via the reaction chamber 106.
  • FIG. 3C to FIG. 3H for the sake of simplicity, the structure that is not related or not mentioned of the sample analysis substrate 100 is not shown.
  • reaction chamber 106 As shown in FIG. 3C, a reaction chamber 106 is provided on the sample analysis substrate 100. As described with reference to FIG. 1, the reaction chamber 106 is a reaction field in which a magnetic particle-immobilized antibody 305, a specimen containing an antigen 306, and a labeled antibody 308 are reacted to form a complex 310. .
  • the reaction chamber 106 includes a first portion 106q and a second portion 106r.
  • the first portion 106q and the second portion 106r are generally arranged in the circumferential direction around the rotation axis 11.
  • a wall portion 126 constituted by the inner surface of the substrate 100 ′ is located between the first portion 106 q and the second portion 106 r.
  • the wall portion 126 has a convex shape on the rotating shaft 110 side, and divides the first portion 106q and the second portion 106r.
  • the first portion 106q and the second portion 106r are connected to each other at a radial position connecting the rotation shaft 110 and the point 126p closest to the rotation shaft 110 of the wall portion 126.
  • the first portion 106q includes a first region 106qf that is a non-capillary space and a second region 106qe that is a capillary space.
  • the first region 106qf and the second region 106qe are connected adjacent to each other, and the mutual space is in communication.
  • the second region 106qe is a narrow region along the wall portion 126 in the first portion 106q.
  • the second region 106qe is in contact with the outermost peripheral side surface 106qa located farthest from the rotation shaft 110 among the side surfaces of the first portion 106q.
  • the first region 106qf is a sufficiently large space that can hold the specimen. In the first portion, the first region 106qf is located closer to the rotation shaft 110 than the second region 106qe.
  • the second portion 106r includes a first region 106rf that is a non-capillary space and a second region 106re that is a capillary space.
  • the first region 106rf and the second region 106re are connected adjacent to each other, and the spaces are in communication with each other.
  • the first region 106rf is located along a side surface that faces the outermost circumferential side surface 106ra that is farthest from the rotation shaft 110 among the side surfaces that define the second portion 106r. That is, the first area 106rf is located closer to the rotation shaft 110 than the second area 106re.
  • the first region 106qf of the first portion 106q is connected to the first region 106rf of the second portion 106r, and the second region 106re of the second portion 106r is connected to the second region 106re of the second portion 106r.
  • the first portion 106q and the second portion 106r are more than an arc 126ar having a radius that is a line segment connecting the point 126p closest to the rotation axis of the wall portion 126 and the rotation axis 110.
  • Each has a portion located on the far side. Specifically, a part of the first region 106qf of the first part 106q and a part of the second region 106re of the second part 106r are located outside the arc 126ar.
  • the non-capillary space and the capillary space have different thicknesses.
  • the dried reagent 125 including the dried magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeled antibody 308 is held in advance in the second region 106re of the second portion 106r.
  • the liquid containing the sample solution containing the antigen 306 is introduced into the first region 106qf of the first portion 106q of the reaction chamber 106 at the start of sample analysis.
  • the second region 106qe is filled by capillary force, and further the second region 106re of the second portion is filled.
  • the liquid and the drying reagent 125 come into contact with each other, and the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeled antibody 308 of the drying reagent 125 are eluted or dispersed in the liquid.
  • the antigen 306, the magnetic particle-immobilized antibody 305, and the labeled antibody 308 are mixed in the liquid to form the complex 310.
  • the drying reagent 125 is preferably held in the capillary space (second region 106re) of the reaction chamber 106.
  • the liquid in the non-capillary space in the reaction chamber moves to the capillary space due to the capillary force.
  • the force acting on the liquid is smaller than the centrifugal force due to the rotation of the sample analysis substrate 100.
  • all of the magnetic particle-immobilized antibody 305 in the drying reagent 125 does not move to the capillary space, but remains in the non-capillary space. Because there is a possibility.
  • the introduction of the specimen solution containing the antigen 306, the magnetic particle-immobilized antibody 305, and the labeled antibody 308 into the reaction chamber 106 is not limited thereto.
  • the sample analysis substrate 100 does not include the drying reagent 125, and at the start of sample analysis, the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308 are placed in the first region of the first portion 106q of the reaction chamber. 106qf may be introduced.
  • the sample analysis substrate 100 includes, for example, a chamber for holding the magnetic particle-immobilized antibody 305, the specimen containing the antigen 306, and the labeled antibody 308, and a flow path (for example, the chamber and the reaction chamber 106 are connected).
  • the specimen containing the antigen 306 and the labeled antibody 308 are weighed into the respective chambers, and the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the specimen containing the antigen 306 and the labeled antibody 308 injected into each chamber are transferred to the reaction chamber 106 and the reaction chamber 106. They may be mixed in to form the composite 310.
  • the solution containing the complex 310 in the reaction chamber 106 is transferred to the main chamber 107 via the second flow path 112.
  • the second flow path 112 has an opening 112g and an opening 112h.
  • the opening 112g of the second flow path 112 is the outermost peripheral side surface 106ra located on the side farthest from the rotating shaft 110 among the side surfaces defining the second region 106re of the second portion 106r of the reaction chamber 106, or the outermost peripheral side surface. It is preferable that the adjacent side surface adjacent to 106ra is provided at a position including a connection portion with the outermost peripheral side surface 106a.
  • FIG. 3C shows an example in which the opening 112g is provided in a part of the outermost peripheral side surface 106a.
  • the opening 112h of the second flow path 112 is located farther from the rotation shaft 110 than the opening 112g.
  • the opening 112h is connected to the side surface of the main chamber 107 as described below.
  • the solution containing the complex 310 in the reaction chamber 106 is subjected to centrifugal force. It is transferred to the main chamber 107 via the second flow path 112.
  • the second channel 112 may be a capillary channel or a channel that can be transferred by gravity.
  • the main chamber 107 is a place where B / F separation of the solution containing the complex 310 is performed.
  • the sample analysis substrate 100 includes a magnet storage chamber 120 located in the substrate 100 ′ and a magnet 121 disposed in the magnet storage chamber 120.
  • the magnet storage chamber 120 is located in the vicinity of the space of the main chamber 107 in the sample analysis substrate 100. More specifically, the magnet storage chamber 120 is disposed in the vicinity of the outermost peripheral side surface 107 a located farthest from the rotation shaft 110 among the plurality of side surfaces of the main chamber 107. However, the magnet storage chamber 120 in the sample analysis substrate 100 may be disposed at a position close to the upper surface or the lower surface other than the outermost peripheral side surface 107 a of the main chamber 107. That is, the position is not particularly limited as long as the magnetic particles can be captured on the wall surface of the main chamber 107 by the magnet 121 arranged in the magnet storage chamber 120.
  • the magnet 121 may be configured to be removable according to B / F separation, or may be non-detachably attached to the substrate 100 ′ from the magnet storage chamber 120, or provided on the sample analyzer 200 side. It may be configured.
  • the substrate 100 ′ may include a concave magnet storage chamber 120 having an opening 120 a on the main surface 100 c.
  • the magnet storage chamber 120 has a space in which the magnet 121 can be stored. By inserting the magnet 121 into the magnet storage chamber 120 through the opening 120a, the magnet 121 can be loaded on the substrate 100 '.
  • the opening 120a of the magnet storage chamber 120 may be provided on the main surface 100d, or may be provided on a side surface located between the two main surfaces 100c and 100d.
  • the turntable 201a of the sample analyzer 200 may include a magnet unit including the magnet 121.
  • the magnet 121 when the user arranges the sample analysis substrate 100 at a predetermined position of the turntable 201 a (magnet unit), the magnet 121 is arranged at a position where the magnetic particles can be captured on the wall surface of the main chamber 107.
  • the sample analyzer 200 may include a magnet 121 and a drive mechanism that moves the magnet 121.
  • the sample analysis substrate 100 includes a storage chamber for holding the magnet 121, and the drive mechanism inserts the magnet 121 into the storage chamber of the sample analysis substrate 100 according to B / F separation, and the magnet 121 in the storage chamber. May be taken out.
  • the complex 310 in the reaction solution and the unreacted magnetic particle-immobilized antibody 305 (hereinafter, when referring to both of these, simply Magnetic particles 311) are collected and captured on the outermost peripheral side surface 107a side by the magnetic force of the magnet 121 arranged in the vicinity of the outermost peripheral side surface 107a.
  • the space of the main chamber 107 may include a second region 107e adjacent to and connected to the first region 107f and the first region 107f.
  • the first region 107f is a non-capillary space in which a liquid can move by gravity
  • the second region 107e is a capillary space in which a capillary force works.
  • the thickness of the first region 107f is larger than the thickness of the second region 107e
  • the first region 107f has a larger space than the second region 107e.
  • the thicknesses of the first region 107f and the second region 107e are values within the above-described range described as the thickness of the flow path.
  • the second region 107e is in contact with the outermost peripheral side surface 107a, and at least a part of the first region 107f is closer to the rotating shaft 110 than the second region 107e. Further, the opening 117h of the second flow path 112 is provided on one of the side surfaces in contact with the first region 107f.
  • the liquid in the main chamber 107 is transferred to the recovery chamber 108 via the third flow path 113.
  • the opening 113g of the third flow path 113 is provided on a side surface in contact with the second region 102e so as to be connected to the space of the second region 102e.
  • the first region 107f is a space in which the liquid can move by gravity, it is possible to secure a space having a size as required.
  • the second region 107e is a capillary space, the second region 107e is always filled with a part of the liquid held in the main chamber 107. For this reason, when the 3rd flow path 113 contacts the 2nd area
  • a cleaning solution and a substrate solution are introduced into the main chamber 107, so that the main chamber 107 has a sufficient space for holding these liquids, and the held liquid is collected as necessary.
  • the reliable transfer to 108 is an important feature.
  • the third flow path 113 has an opening 113g and an opening 113h, the opening 113g is connected to the main chamber 107, and the opening 113h is connected to the recovery chamber 108.
  • the opening 113g of the third channel 113 is the outermost peripheral side surface 107a located on the side farthest from the rotation shaft 110 among the side surfaces of the main chamber 107, or an adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface 107a, and the outermost peripheral surface. It is preferable to be provided at a position including a connection portion with the side surface 107a.
  • FIG. 3D shows an example in which the opening 113g is provided on the adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface 107a. As described above, the opening 113g is connected to the second region 107e of the main chamber 107.
  • the opening 113h of the third flow path 113 is located on the side farther from the rotation shaft 110 than the opening 113g.
  • the opening 113h is the innermost peripheral side surface 108b located on the side closest to the rotating shaft 110 or the adjacent side surface adjacent to the innermost peripheral side surface 108b, and is the innermost peripheral side surface. It is preferably provided at a position close to 108b.
  • FIG. 3D shows an example in which the opening 113h is provided in a part of the innermost peripheral side surface 108b.
  • the third channel 113 can also suck the liquid held in the main chamber 107 by capillary action.
  • the thickness of the third flow path 113 is smaller than the thickness of the second region 107 e of the main chamber 107.
  • a capillary force stronger than the second region 107e of the main chamber 107 can be applied to the third channel 113, and a part of the liquid in the second region 107e of the main chamber 107 is transferred to the third channel 113. Sucked.
  • the third channel 113 can further control the movement of the liquid by the siphon principle. Therefore, as a siphon structure, the third flow path 113 has a first bent portion 113n and a second bent portion 113m.
  • the first bent portion 113n has a convex shape on the side opposite to the rotating shaft 110
  • the second bent portion 113m has a convex shape on the rotating shaft 110 side.
  • 113 n of 1st bending parts are located between the main chamber 107 located in the side near the rotating shaft 110 among the main chamber 107 and the collection
  • the principle of siphon refers to liquid feeding control based on the balance between the centrifugal force applied to the liquid by the rotation of the sample analysis substrate 100 and the capillary force of the flow path.
  • the third channel 113 is a capillary channel without a siphon structure
  • it is transferred from the reaction chamber 106 to the main chamber 107 via the second channel 112 by the centrifugal force generated by the rotation of the sample analysis substrate 100.
  • the liquid transferred to the main chamber 107 is filled in the third channel 113 by the capillary force of the third channel 113.
  • the sample analysis substrate 100 continues to rotate, the liquid is not held in the main chamber 107 but is transferred to the recovery chamber 108 via the third flow path 113.
  • the sample analysis substrate 100 is rotating at a rotation speed at which a centrifugal force stronger than the capillary force of the third channel 113 can be applied.
  • the third flow path 113 has a siphon structure
  • the liquid transferred from the reaction chamber 106 to the main chamber 107 is liquid in the third flow path 113 due to the capillary force of the third flow path 113.
  • the centrifugal force is greater than the capillary force applied to the liquid. Since this is stronger, the entire third flow path 113 is not filled with the liquid. That is, the third flow path 113 is filled with the liquid only to the same height as the distance of the liquid surface of the liquid existing in the main chamber 107 with respect to the rotation shaft 110.
  • the sample analysis substrate 100 is rotating at a rotational speed that applies a centrifugal force that is weaker than the capillary force of the third channel 113, the third channel 113 is filled with the liquid by the capillary force, and the capillary tube No further movement of the liquid by force.
  • the sample analysis substrate 100 When it is desired to transfer the liquid in the main chamber 107 to the recovery chamber 108, the sample analysis substrate 100 is rotated at a rotational speed (including a rotation stop) at which a centrifugal force equal to or lower than the capillary force of the third flow path 113 can be applied. By rotating, all of the third flow path 113 is filled with the liquid by the capillary force. Thereafter, when the sample analysis substrate 100 is rotated at a rotation speed at which a centrifugal force stronger than the capillary force of the third channel 113 can be applied, the liquid in the main chamber 107 can be transferred to the recovery chamber 108. .
  • the reaction solution, the cleaning solution, and the substrate solution can be once held in the main chamber 107.
  • B / F separation, magnetic particle cleaning and The reaction with the substrate solution can be appropriately performed.
  • the rotation shaft 110 and the innermost peripheral side surface 108b closest to the rotation shaft 110 of the recovery chamber 108 located far from the rotation shaft 110 are provided.
  • R1> R2 condition 1
  • the capillary for applying the sample analysis substrate 100 to the liquid in the third flow path 113 When rotating at a rotational speed at which a centrifugal force stronger than the force is applied, the reaction liquid or the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 can be prevented from being transferred to the recovery chamber 108 as it is.
  • the recovery chamber 108 stores a reaction liquid other than the magnetic particles 311 transferred from the main chamber 107 via the third flow path 113 and a used cleaning liquid.
  • the collection chamber 108 has a space with a capacity larger than the total amount of the above-described reaction liquid and the total used cleaning liquid according to the number of times of cleaning.
  • a main part for holding the liquid is located farther from the rotation shaft 110 than the main chamber 107.
  • the first storage chamber 104 stores a cleaning liquid used for cleaning in the B / F separation.
  • the complex 310 can be washed multiple times during the B / F separation. Therefore, the first storage chamber 104 has a space that can hold a total volume of cleaning liquid corresponding to the number of cleanings.
  • the cleaning liquid in the first storage chamber 104 is transferred to the first holding chamber 101 via the fourth flow path 114.
  • the fourth flow path 114 has an opening 114g and an opening 114h.
  • the opening 114g of the fourth flow path 114 is the outermost peripheral side surface 104a located on the side farthest from the rotation shaft 110 among the side surfaces of the first storage chamber 104, or an adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface 104a, It is preferable to be provided at a position including a connection portion with the outermost peripheral side surface 104a.
  • FIG. 3F shows an example in which the opening 114g is provided at the connection portion between the outermost peripheral side surface 104a and the adjacent side surface.
  • the opening 114h of the fourth flow path 114 is located on the side farther from the rotating shaft 110 than the opening 114g.
  • the opening 114h is connected to the side surface of the first holding chamber 101 as described below.
  • the cleaning liquid in the first storage chamber 104 is subjected to the fourth flow by centrifugal force. It is transferred to the first holding chamber 101 via the path 114.
  • the fourth channel 114 may be a capillary channel or a channel that can be transferred by gravity.
  • the first holding chamber 101 holds the entire cleaning liquid stored in the first storage chamber 104. Thereafter, in order to clean the composite 310 in the main chamber 107, a part of the cleaning liquid is transferred to the reaction chamber 106 and the rest is retained. The amount of the cleaning liquid used for one cleaning is weighed by the first flow path 111 as described below. For this reason, the first holding chamber 101 has a volume equal to or larger than the first flow path 111 and has a volume equal to or larger than the total amount of the cleaning liquid corresponding to the number of times of cleaning (for example, the first flow path 111 for two cleanings). The volume of the first flow path 111 is 3 times or more if the cleaning is performed three times.
  • the opening 114h of the fourth flow path 114 is provided on one inner peripheral side surface that opposes the outermost peripheral side surface 103a of the first holding chamber 101 with a space for holding the liquid therebetween.
  • First flow path 111 As described above, the first flow path 111 connects the first holding chamber 101 and the reaction chamber 106. For this reason, when the cleaning liquid is introduced into the first storage chamber 104, the cleaning liquid is once transferred to the reaction chamber 106 and then transferred to the main chamber 107.
  • the first flow path 111 includes a first portion 111q and a second portion 111r connected to the first portion 111q.
  • the second portion 111r is a capillary channel.
  • the first portion 111q includes an opening 111g and is connected to the first holding chamber 101.
  • a part of the first holding chamber 101 and a part of the first flow path 111 are located in the radial direction about the rotation axis 110 with the opening 111g interposed therebetween.
  • the second portion 111r has a second opening 111h and is connected to the first region 106qf of the first portion 106q of the reaction chamber 106.
  • the second opening 111h is closer to the rotating shaft 110 than the opening 112g of the second flow path 112.
  • the first portion 111q of the first flow path 111 includes a first region 111qe and a second region 111qf.
  • the first portion 111q has a shape extending in an oblique direction with respect to the radial direction of the sample analysis substrate 100.
  • the second region 111qf is located closer to the rotation shaft 110 than the first region 111qe in the first portion 111q.
  • the first region 111qe is a capillary space
  • the second region 111qf is not a capillary space that can be filled with liquid by a capillary phenomenon.
  • the thickness of the second region 111qf is larger than the thickness of the first region 111qe. For this reason, the amount of the cleaning liquid to be weighed can be increased by filling the second region 11qf with the liquid.
  • the air holes 122 are provided in the second region 111qf, and the second region 111qf also functions as an airway that ensures air movement. Specifically, by providing the second region 111qf, when bubbles are generated in the liquid held in the first region 111qe for any reason, the bubbles move to the second region 111qf, and the liquid Air bubbles inside are easily removed. Thereby, when the sample analysis substrate 100 is rotated, in particular, it is possible to suppress the bubbles from entering the second portion 111r and hindering the movement of the liquid.
  • the second region 116qf is removed.
  • One flow path 111 is filled with a cleaning liquid by capillary action.
  • the sample analysis substrate 100 is rotated at a rotation speed at which a centrifugal force stronger than the capillary force applied to the cleaning liquid in the first channel 111 is applied.
  • the cleaning liquid transferred to the first holding chamber 101 on the plane perpendicular to the rotating shaft 110 and the first flow with respect to the straight line db connecting the rotating shaft 110 and the position z, The cleaning liquid returns to the path 111.
  • the reference position z is two side surfaces s1 and s2 that are located farther from the rotation axis 110 than the space of the first holding chamber 101 or the space of the first flow path 111. , Defined by a boundary position between a surface s1 inclined toward the first holding chamber 101 side and a surface s2 inclined toward the second holding chamber side with respect to the tangential direction dt of the arc ar around the rotation axis 110. . Thereby, the cleaning liquid for one time is weighed, and the cleaning liquid is transferred to the main chamber 107. As described above, the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 is transferred to the recovery chamber 108 via the third flow path 113.
  • the second storage chamber 105 stores the substrate solution at the start of analysis using the sample analysis system. There is no restriction
  • the fifth flow path 115 connects the second storage chamber 105 and the second holding chamber 102.
  • the fifth flow path 115 extends in the radial direction about the rotation shaft 110 and is configured by a capillary path.
  • the fifth flow path 115 has an opening 115g and an opening 115h.
  • the opening 115g is the outermost peripheral side surface 105a farthest from the rotation shaft 110 or the adjacent side surface adjacent to the outermost peripheral side surface 105a among the side surfaces of the second storage chamber 105, and at a position close to the outermost peripheral side surface 105a. It is preferable to be provided.
  • an opening 115g is provided on the outermost peripheral side surface 105a.
  • the opening 115 h is connected to the second holding chamber 102.
  • the second holding chamber 102 holds the substrate solution transferred from the second storage chamber 105 during B / F separation including washing after the start of analysis using the sample analysis system.
  • the second holding chamber 102 is located farther from the rotation shaft 110 than the second storage chamber 105.
  • the second holding chamber 102 has a first outer peripheral side surface 102a1 and a second outer peripheral side surface 102a2, and a first inner peripheral side surface 102b1 and a second inner peripheral side surface 102b2, which sandwich a space for holding the substrate solution.
  • the first outer peripheral side surface 102a1 and the second outer peripheral side surface 102a2 do not overlap in the radial direction, and the first outer peripheral side surface 102a1 is located farther from the rotating shaft 110 than the second outer peripheral side surface 102a2.
  • the first inner peripheral side surface 102b1 and the second inner peripheral side surface 102b2 do not overlap in the radial direction, and the first inner peripheral side surface 102b1 is located farther from the rotating shaft 110 than the second inner peripheral side surface 102b2. .
  • the second holding chamber 102 further includes an adjacent side surface 102c adjacent to the first outer peripheral side surface 102a1 and the first inner peripheral side surface 102b1, and an adjacent side surface 102d adjacent to the second outer peripheral side surface 102a2 and the second inner peripheral side surface 102b2.
  • the space of the second holding chamber 102 is sandwiched between the adjacent side surface 102c and the adjacent side surface 102d and has a shape extending in the circumferential direction.
  • the opening 116g of the sixth flow path 116 is provided in the first inner peripheral side surface 102b1. Further, the opening 116g of the sixth flow path 116, which will be described in detail below, is located adjacent to the connection position of the adjacent side surface 102d with the second inner peripheral side surface 102b2. That is, the sixth flow path 116 is provided on the side closer to the rotating shaft 110 of the adjacent side surface 102d. With this structure, most of the space of the second holding chamber 102 is located farther from the rotating shaft 110 than the opening 116 h of the sixth flow path 116. Therefore, even when the sample analysis substrate 100 is held at various rotation angles, the substrate solution held in the second holding chamber 102 is transferred to the third holding chamber 103 via the sixth channel 116. Can be suppressed.
  • the first outer peripheral side surface 102a1 is located far from the rotating shaft 110, and the space of the second holding chamber 102 includes a convex portion 102t that protrudes toward the outer peripheral side in contact with the first outer peripheral side surface 102a1. Therefore, by holding the substrate solution in the convex portion 102t of the space of the second holding chamber 102, the liquid level of the substrate solution held in the second holding chamber 102 is separated from the opening 111g of the sixth channel 116. It is possible to suppress the transfer to the third holding chamber 103 via the sixth flow path 116 more reliably.
  • the sixth flow path 116 connects the second holding chamber 102 and the third holding chamber 103.
  • the sixth flow path 116 has an opening 116 g and an opening 116 h, and the opening 116 g is provided on the adjacent side surface 102 d of the second holding chamber 102.
  • the opening 116 h is provided on one of the side surfaces of the third holding chamber 103.
  • the sixth flow path 116 is a flow path capable of moving the liquid by gravity.
  • the third holding chamber 103 holds the substrate solution transferred from the second holding chamber 102 via the sixth channel 116.
  • the third holding chamber 103 includes a first portion 103q adjacent to the second holding chamber 102 in the circumferential direction and a second portion 103r adjacent to the seventh flow path 117 in the circumferential direction.
  • the first portion 103q and the second portion 103r are arranged in the radial direction. Further, the third holding chamber 103 is close to the adjacent side surface 101 d of the second holding chamber 102.
  • the third holding chamber 103 has an outermost peripheral side surface 103a farthest from the rotating shaft 110 and a second adjacent side surface 103c2 adjacent to the outermost peripheral side surface 103a. Further, it has an innermost peripheral side surface 103b closest to the rotating shaft 110 and a first adjacent side surface 103c1 adjacent to the innermost peripheral side surface 103b. With respect to the space of the third holding chamber 103, the first adjacent side surface 103 c 1 and the second adjacent side surface 103 c 2 are arranged on the same side, that is, the side facing the second holding chamber 102 and the seventh flow path 117. A recess 103s is formed between the first adjacent side surface 103c1 and the second adjacent side surface 103c2, and the first adjacent side surface 103c1 and the second adjacent side surface 103c2 are separated by the recess 103s.
  • the first portion 103q of the third holding chamber 103 includes an innermost peripheral side surface 103b and a first adjacent side surface 103c1, and the second portion 103r includes an outermost peripheral side surface 103a and a second adjacent side surface 103c2.
  • an opening 116h of the sixth channel 116 is provided at a position of the first adjacent side surface 103c1 close to the innermost peripheral side surface 103b.
  • the opening 117g of the seventh flow path 117 is provided at a position of the second adjacent side surface 103c2 that is separated from the outermost peripheral side surface 103a, more specifically, at a position that is closest to the rotating shaft 110. It has been.
  • the second portion 103r is a capillary space that connects the outermost peripheral side surface 103a and the portion where the opening 117g of the seventh channel 117 is located.
  • 103re may be provided. In this case, it is preferable that the capillary space 103re is located along the second adjacent side surface 103c2.
  • the seventh flow path 117 has a first portion 117q and a second portion 117r, and an opening 117g and an opening 117h. One end of the first portion 117q and one end of the second portion 117r are connected to each other.
  • the opening 117g is located at the other end of the first portion 117q, and is connected to the second adjacent side surface 103c2 of the third holding chamber 103 as described above.
  • An opening 117 h is located at the other end of the second portion 117 r and is connected to the main chamber 107.
  • the second portion 117r is a capillary channel.
  • the first portion 117q includes a first region 117qe and a second region 117qf.
  • the first portion 117q has a shape extending in the circumferential direction.
  • the second region 117qf is located closer to the rotation shaft 110 than the first region 117qe.
  • the first region 117qe is a capillary space, and the second region 117qf is not a capillary space that can be filled with liquid by capillary action.
  • the thickness of the second region 117qf is larger than the thickness of the first region 117qe, and when the first region 117qe is filled with the liquid by capillary action, the second region 117qf is not filled with the liquid.
  • An air hole 122 is provided in the second region 117qf.
  • the thickness of the first region 117qe is preferably smaller than the thickness of the capillary space 103re of the third holding chamber 103. Thereby, the seventh channel 117 can draw the substrate solution held in the capillary space 103re of the third holding chamber 103.
  • the opening 117g is located closer to the rotating shaft 110 than the opening 117h.
  • each part of the seventh flow path 117 is located at the same position as the opening 117 g from the rotation shaft 110 or opened from the rotation shaft 110. It is preferable to be located farther than 117 g. Accordingly, when a centrifugal force stronger than the capillary force applied to the substrate solution in the seventh flow path 117 is applied to the substrate solution in a state where the seventh flow path 117 is filled with the substrate solution, all of the seventh flow paths 117 are The substrate solution is transferred to the main chamber 107.
  • the total volume of the first region 117qe and the second portion 117r of the first portion 117q corresponds to the amount of the substrate solution used for the analysis, and when these portions are filled with the substrate solution by capillary force, the substrate solution is weighed. Done.
  • the second region 117qf of the first portion 117q functions as an airway. For some reason, when bubbles are generated in the substrate solution held in the first region 117qe of the first portion 117q, the bubbles move to the second region 117qf, and the bubbles in the substrate solution are easily excluded. Become. Thereby, when the sample analysis substrate 100 is rotated, in particular, it is possible to suppress the bubbles from entering the second portion 117r and hindering the movement of the substrate solution.
  • the first region 117qe and the second portion 117r of the first portion 117q have been described as a capillary space and a capillary channel, but these spaces are a space and a flow channel in which liquid moves by gravity. It may be.
  • FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the sample analysis system 501.
  • a program that defines the procedure for controlling each part of the sample analysis system 501 for operating the sample analysis system 501 is stored in, for example, the memory of the control circuit 205.
  • the execution of the program by the arithmetic unit causes the following operations. Realize. Prior to the following steps, the sample analysis substrate 100 is loaded into the sample analysis apparatus 200, and the origin of the sample analysis substrate 100 is detected.
  • a drying reagent 125 including a magnetic particle-immobilized antibody 305 and a labeled antibody 308 is held in advance.
  • the sample analysis substrate is all rotated clockwise, for example.
  • the rotation direction of the sample analysis substrate is not limited to clockwise, and may be counterclockwise.
  • the cleaning solution and the substrate solution are introduced into the first storage chamber 104 and the second storage chamber 105, respectively.
  • the substrate solution contains a substrate that generates a change in light emission, fluorescence, or absorption wavelength due to reaction with the labeling substance 307 or catalysis by the labeling substance 307.
  • the sample solution is introduced into the first portion 106 q of the reaction chamber 106.
  • the sample may be injected into the first portion 106q of the reaction chamber 106 by a syringe or the like.
  • the sample solution When the sample solution is introduced into the first portion 106q of the reaction chamber 106, the sample solution fills the first region 106qf that is the non-capillary space of the first portion 106q and the second region 106qe that is the capillary space. Since the second region 106qe is connected to the second region 106re, which is the capillary space of the second portion 106r, as shown in FIG. 6, the sample solution is sucked into these capillary spaces by the capillary force. As a result, the sample solution located in the first region 106qf of the first portion 106q moves to the second region 106re of the second portion 106r.
  • the drying reagent 125 and the sample solution come into contact with each other, the magnetic particle-immobilized antibody 30 is released into the sample solution, and the labeled antibody 308 is eluted into the sample solution.
  • the magnetic particle-immobilized antibody 305, the antigen 306 in the sample, and the labeled antibody 308 are bound by an antigen-antibody reaction, and a complex 310 is generated. Since the magnetic particle-immobilized antibody 30 in the sample solution promotes the release and elution of the labeled antibody 308, the sample analysis substrate 100 may be swung.
  • the fifth flow path 115, the fourth flow path 114, and the second flow path 112 are filled with the reaction solution including the substrate solution, the cleaning solution, and the complex 310, respectively, by capillary action.
  • Step S12 After the complex 310 is generated, the sample analysis substrate 100 is rotated, and the reaction solution containing the complex 310 is moved from the second region 106re of the second portion 106r of the reaction chamber 106 to the main chamber 107. As described above, the second flow path 112 is filled with the reaction solution by capillary action. For this reason, when a centrifugal force stronger than the capillary force applied to the reaction solution in the second flow path 112 due to the rotation of the sample analysis substrate 100 acts on the reaction solution including the complex 310 of the reaction chamber 106, the reaction solution becomes the main solution. It is transferred to the chamber 107.
  • the reaction solution transferred to the main chamber 107 is not subsequently transferred to the recovery chamber 108 in a state where the sample analysis substrate 100 is rotating. This is because, as described above, since the third flow path 113 forms a siphon, the liquid does not move in the direction toward the rotating shaft 110 against the centrifugal force against the centrifugal force. Of the reaction liquid containing the composite 310 transferred to the main chamber 107, most of the magnetic particles 311 are captured by the outermost peripheral side surface 107 a by the magnetic force of the magnet 121.
  • the rotation speed of the sample analysis substrate 100 is set such that a centrifugal force is generated by the rotation, so that a liquid such as a reaction solution does not move by gravity, and a centrifugal force stronger than the capillary force of each capillary channel can be applied. Is done.
  • this rotation speed is set for rotation using centrifugal force.
  • the rotation direction of the sample analysis substrate 100 is clockwise.
  • the cleaning liquid is transferred from the first storage chamber 104 to the first holding chamber 101 through the fourth flow path 114. Further, the substrate solution is transferred from the second storage chamber 105 to the second holding chamber 102 through the fifth flow path 115.
  • the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined first angle.
  • the predetermined first angle means that in the sample analysis substrate 100, the cleaning liquid transferred to the first holding chamber 101 exceeds the opening 111 g of the first flow path 111, and the first portion 111q, the substrate solution in the second holding chamber 102 does not contact the opening 116g of the sixth channel 116, and the reaction solution in the main chamber 107 does not contact the opening 113g of the third channel 113.
  • the angle at which contact can be made.
  • This angle depends on the shape of the second holding chamber 102, the main chamber 107, and the first holding chamber 101, the position in the substrate 100 ′, the amount of the cleaning solution, the substrate solution, and the reaction solution, the inclination angle ⁇ of the sample analysis substrate 100, and the like.
  • the gravity direction (indicated by an arrow) in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by ⁇ 1 of the sample analysis substrate 100. .
  • the reaction liquid in the main chamber 107 fills the third channel 113 by capillary force by contacting the opening 113g of the third channel 113.
  • Step S13 The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation, and acts on the reaction solution and the magnetic particles 311 (complex 310 and unreacted magnetic particles) in the main chamber 107. This centrifugal force works so that the liquid and the composite 310 move to the outermost peripheral side surface 107 a side of the main chamber 107. For this reason, the magnetic particles 311 are pressed against the outermost peripheral side surface 107a.
  • the reaction solution subjected to the centrifugal force is discharged from the third flow path 113 and transferred to the recovery chamber 108. Due to the sum of the centrifugal force and the attractive force of the magnet 121, the magnetic particles 311 are strongly pressed against the outermost peripheral side surface 107 a and captured.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 receives centrifugal force due to rotation, but remains in the first holding chamber 101 because it is pressed against the outermost peripheral side surface 101 a of the first holding chamber 101.
  • the substrate solution in the second holding chamber 102 also receives centrifugal force due to rotation, but remains in the second holding chamber 102 because it is pressed against the first outer peripheral side surface 102a1.
  • the reaction solution and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the reaction liquid moves to the recovery chamber 108 and the magnetic particles 311 remain in the main chamber 107. Even if the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the outermost peripheral side surface 107a by the attractive force received from the magnet 121.
  • the stop angle at this time may be the first angle, the second angle of the next step, or another angle.
  • Step S14 As shown in FIG. 9, when the sample analysis substrate 100 is not stopped at the second angle in the previous step, the sample analysis substrate 100 is slightly rotated and stopped at the predetermined second angle.
  • the second angle is an angle at which the cleaning liquid transferred to the first holding chamber 101 comes into contact with the opening 111 g of the first flow path 111.
  • the gravity direction is an angle within the angle range indicated by ⁇ ⁇ b> 2 of the sample analysis substrate 100.
  • the cleaning liquid comes into contact with the first portion 111q of the first channel 111 through the opening 111g, the cleaning liquid is sucked into the entire first region 111qe of the first portion 111q by the capillary force, and the first portion 111q of the first channel 111 is drawn.
  • the second portion 111r is filled with the cleaning liquid.
  • the second region 111qf is also filled with the cleaning liquid moved by gravity. Thereby, the washing
  • the first flow path 111 In order to ensure that the first flow path 111 is filled with the cleaning liquid, it may be rotated about several degrees alternately around the second angle in the clockwise direction and counterclockwise, that is, may be swung. Since capillary force acts on the first flow path 111, the cleaning liquid does not move from the second portion 111 r of the first flow path 111 to the main chamber 107 at this time.
  • Step S15 Subsequently, the sample analysis substrate 100 is rotated. The centrifugal force due to the rotation acts on the cleaning liquid in the first flow path 111 and the first holding chamber 101. As described with reference to FIG. 3G, the cleaning liquid located on the first flow path 111 side with respect to the straight line db moves to the first portion 106q of the reaction chamber 106 via the first flow path 111. Further, the cleaning liquid located on the first holding chamber 101 side with respect to the straight line db is returned to the first holding chamber 101 by centrifugal force. Accordingly, as shown in FIG. 10, only the cleaning liquid weighed by the first flow path 111 is transferred to the first portion 106 q of the reaction chamber 106.
  • the substrate solution is pressed against the first outer peripheral side surface 102a1 in the second holding chamber 102 by centrifugal force. For this reason, the substrate solution remains in the second holding chamber 102.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 is pressed against the outermost peripheral side surface 101a in the first holding chamber 101 by centrifugal force. For this reason, the cleaning liquid remains in the first holding chamber 101.
  • the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined third angle as shown in FIG.
  • the third angle is an angle at which the cleaning liquid in the first holding chamber 101 does not contact the opening 111g.
  • the gravity direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by ⁇ 3 on the sample analysis substrate 100.
  • the cleaning liquid fills the first region 106qf that is the non-capillary space of the first portion 106q and the second region 106qe that is the capillary space. Since the second region 106qe is connected to the second region 106re, which is a capillary space of the second portion 106r, the cleaning liquid is sucked into these capillary spaces by the capillary force. As a result, the cleaning liquid located in the first region 106qf of the first portion 106q moves to the second region 106re of the second portion 106r. As a result, the reaction solution remaining in the first portion 106q and the second portion 106r of the reaction chamber 106 is mixed with the cleaning liquid. That is, the reaction chamber 106 is cleaned with the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid in the reaction chamber 106 contacts the opening 112g of the second flow path 112, thereby filling the second flow path 112 by capillary action.
  • Step S16 The sample analysis substrate 100 is rotated, and the cleaning liquid is moved from the second region 106re of the second portion 106r of the reaction chamber 106 to the main chamber 107. Since the second flow path 112 is filled with the cleaning liquid, if the centrifugal force stronger than the capillary force acts on the cleaning liquid in the second flow path 112 by the rotation of the sample analysis substrate 100, the cleaning liquid is stored in the main chamber 107. It is transferred to. Accordingly, the reaction solution remaining in the first portion 106q and the second portion 106r of the reaction chamber 106 is transferred to the main chamber 107 together with the cleaning liquid. Further, the magnetic particles 311 in the main chamber 107 come into contact with the cleaning liquid, and the first cleaning is performed.
  • the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 is not subsequently transferred to the recovery chamber 108 while the sample analysis substrate 100 is rotating. This is because the third flow path 113 constitutes a siphon, so that the cleaning liquid does not move in the direction toward the rotation shaft 110 against the centrifugal force.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 and the substrate solution in the second holding chamber 102 remain in the respective chambers.
  • the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined fourth angle.
  • the fourth angle is an angle at which the cleaning liquid in the first holding chamber 101 does not contact the opening 111g and the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 can contact the opening 113g of the third flow path 113.
  • the gravity direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by ⁇ 4 on the sample analysis substrate 100.
  • the cleaning liquid in the main chamber 107 is in contact with the opening 113g of the third channel 113 and fills the third channel 113 by capillary action.
  • Step S17 The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation and acts on the cleaning liquid and the magnetic particles 311 in the main chamber 107. This centrifugal force works so that the cleaning liquid and the magnetic particles 311 move toward the outermost peripheral side surface 107 a of the main chamber 107, and the magnetic particles 311 are captured on the outermost peripheral side surface 107 a by the centrifugal force and the attractive force by the magnet 121.
  • the cleaning liquid subjected to the centrifugal force is discharged from the third flow path 113 and transferred to the recovery chamber 108. For this reason, only the cleaning liquid is discharged from the third flow path 113, and the magnetic particles 311 remain in the main chamber 107.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 and the substrate solution in the second holding chamber 102 are pressed against the outermost peripheral side surface 101a and the first outer peripheral side surface 102a1, respectively, and remain in the first holding chamber 101 and the second holding chamber 102.
  • the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped. As a result, the cleaning liquid and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the cleaning liquid moves to the recovery chamber 108 and the magnetic particles 311 remain in the main chamber 107. Even if the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the outermost peripheral side surface 107a by the attractive force received from the magnet 121.
  • the stop angle at this time may be the fourth angle or the fifth angle of the next step.
  • Step S18 As shown in FIG. 14, when not stopping at the fifth angle in the previous step, the sample analysis substrate 100 is slightly rotated and stopped at the predetermined fifth angle.
  • the fifth angle is an angle at which the cleaning liquid transferred to the first holding chamber 101 comes into contact with the opening 111 g of the first flow path 111.
  • the gravity direction is an angle within the angle range indicated by ⁇ 5 of the sample analysis substrate 100. Since the amount of the cleaning liquid remaining in the first holding chamber 101 in step S4 is different, the angle range ⁇ 5 may be different from the angle range ⁇ 2.
  • the cleaning liquid is sucked into the first flow path 111 from the first holding chamber 101 by the capillary force in the first portion 111q of the first flow path 111, and the first portion 111q and the second portion 111r of the first flow path 111 are the cleaning liquid. It is filled. Thereby, the cleaning liquid for one time is weighed again.
  • the sample analysis substrate 100 may be swung around the fifth angle so that the first flow path 111 is surely filled with the cleaning liquid. Since capillary force acts on the first flow path 111, the cleaning liquid does not move from the first flow path 111 to the reaction chamber 106 at this time.
  • Step S19 Subsequently, the sample analysis substrate 100 is rotated. The centrifugal force due to the rotation acts on the cleaning liquid in the first flow path 111 and the first holding chamber 101. Similar to the first cleaning, the cleaning liquid positioned on the first flow path 111 side moves to the first portion 106q of the reaction chamber 106 via the first flow path 111 with reference to the straight line db shown in FIG. 3G. Further, the cleaning liquid located on the first holding chamber 101 side with respect to the straight line db is returned to the first holding chamber 101 by centrifugal force. Therefore, as shown in FIG. 15, only the cleaning liquid weighed by the first flow path 111 is transferred to the first portion 106 q of the reaction chamber 106.
  • the substrate solution is pressed against the first outer peripheral side surface 102a1 in the second holding chamber 102 by centrifugal force. For this reason, the substrate solution remains in the second holding chamber 102.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 is pressed against the outermost peripheral side surface 101a in the first holding chamber 101 by centrifugal force. For this reason, the cleaning liquid remains in the first holding chamber 101.
  • the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined sixth angle.
  • the sixth angle is an angle at which the cleaning liquid in the first holding chamber 101 does not contact the opening 111g.
  • the gravity direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by ⁇ 6 on the sample analysis substrate 100.
  • the cleaning liquid is the first region 106qf that is the non-capillary space of the first portion 106q and the second space that is the capillary space.
  • the region 106qe is filled. Since the second region 106qe is connected to the second region 106re, which is a capillary space of the second portion 106r, the cleaning liquid is sucked into these capillary spaces by the capillary force. As a result, the cleaning liquid located in the first region 106qf of the first portion 106q moves to the second region 106re of the second portion 106r. As a result, the reaction solution that may remain in the first portion 106q and the second portion 106r of the reaction chamber 106 is mixed with the cleaning liquid. That is, the reaction chamber 106 is cleaned again with the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid in the reaction chamber 106 contacts the opening 112g of the second flow path 112, thereby filling the second flow path 112 by capillary action.
  • Step S20 As in the first cleaning, the sample analysis substrate 100 is rotated, and the cleaning liquid is moved from the second region 106re of the second portion 106r of the reaction chamber 106 to the main chamber 107. Since the second flow path 112 is filled with the cleaning liquid, if the centrifugal force stronger than the capillary force acts on the cleaning liquid in the second flow path 112 by the rotation of the sample analysis substrate 100, the cleaning liquid is stored in the main chamber 107. It is transferred to. Thereby, the reaction solution that may remain in the first portion 106q and the second portion 106r of the reaction chamber 106 is transferred to the main chamber 107 together with the cleaning liquid. Further, the magnetic particles 311 in the main chamber 107 come into contact with the cleaning liquid, and the second cleaning is performed.
  • the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 is not subsequently transferred to the recovery chamber 108 when the sample analysis substrate 100 is rotating as described above.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 and the substrate solution in the second holding chamber 102 remain in the respective chambers.
  • the sample analysis substrate 100 is stopped at a predetermined seventh angle.
  • the seventh angle is an angle at which the cleaning liquid in the first holding chamber 101 does not come into contact with the opening 111 g and the cleaning liquid transferred to the main chamber 107 can come into contact with the opening 113 g in the third flow path 113.
  • the gravity direction in the sample analysis system 501 projected onto a plane parallel to the sample analysis substrate 100 may be within the angle range indicated by ⁇ 7 on the sample analysis substrate 100.
  • the cleaning liquid in the main chamber 107 is in contact with the opening 113g of the third channel 113 and fills the third channel 113 by capillary action.
  • Step S21 The sample analysis substrate 100 is rotated. A centrifugal force is generated with the rotation and acts on the cleaning liquid and the magnetic particles 311 in the main chamber 107. This centrifugal force works so that the cleaning liquid and the magnetic particles 311 move toward the outermost peripheral side surface 107 a of the main chamber 107, and the magnetic particles 311 are captured on the outermost peripheral side surface 107 a by the centrifugal force and the attractive force by the magnet 121.
  • the cleaning liquid that has received the centrifugal force is discharged from the third flow path 113 and transferred to the collection chamber 108. For this reason, only the cleaning liquid is discharged from the third flow path 113, and the magnetic particles 311 remain in the main chamber 107.
  • the cleaning liquid in the first holding chamber 101 is pressed against the outermost peripheral side surface 103 a and stays in the first holding chamber 101.
  • the substrate solution is also pressed against the first outer peripheral side surface 102 a 1 and remains in the second holding chamber 102.
  • the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped. Thereby, as shown in FIG. 18, the cleaning liquid and the magnetic particles 311 are separated. Specifically, the cleaning liquid moves to the recovery chamber 108 and the magnetic particles 311 remain in the main chamber 107. Even if the rotation of the sample analysis substrate 100 stops, the magnetic particles 311 can remain in the state of being collected on the outermost peripheral side surface 107a by the attractive force received from the magnet 121.
  • the stop angle at this time may be the seventh angle or the eighth angle of the next step. B / F separation and cleaning are completed by the above steps.
  • Step S22 First, the substrate solution is moved from the second holding chamber 102 to the third holding chamber 103.
  • the sample analysis substrate 100 is slightly rotated and stopped at the predetermined eighth angle. At this time, the sample analysis substrate 100 is rotated clockwise.
  • the eighth angle is an angle at which the substrate solution in the second holding chamber 102 comes into contact with the opening 116g of the sixth flow path 116 and the entire amount of the substrate solution can move to the third holding chamber 103 by gravity.
  • the angle is approximately at which the sixth flow path 116 is disposed along the direction of gravity. Thereby, the substrate solution in the second holding chamber 102 is transferred to the third holding chamber 103.
  • the sample analysis substrate 100 is rotated clockwise so that the substrate solution comes into contact with the capillary space 103re of the second portion 103r in the third holding chamber 103 at a predetermined ninth angle. Stop.
  • the substrate solution is sucked into the capillary space 103re by the contact between the capillary space 103re and the substrate solution.
  • the substrate solution that fills the capillary space 103re is sucked into the seventh flow channel 117 from the opening 117g by the capillary force, and the first region 117qe and the second region of the first portion 117q of the seventh flow channel.
  • Portion 117r is filled with substrate solution. Thereby, the substrate solution is weighed.
  • the seventh flow path 117 In order to ensure that the seventh flow path 117 is filled with the substrate solution, it may be rotated about the ninth angle alternately about several degrees clockwise or counterclockwise, that is, may be swung. Since capillary force acts on the seventh flow path 117, the cleaning liquid does not move from the second portion 112r of the seventh flow path 117 to the main chamber 107 at this time.
  • Step S23 Subsequently, the sample analysis substrate 100 is rotated.
  • the centrifugal force due to the rotation acts on the cleaning liquid in the seventh flow path 117 and the first holding chamber 101.
  • the substrate solution in the seventh flow path 117 moves to the main chamber 107 by centrifugal force.
  • the substrate solution located closer to the third holding chamber 103 than the opening 112 g is pressed against the outermost peripheral side surface 102 a of the third holding chamber 103 by the centrifugal force, and remains in the third holding chamber 103.
  • the substrate solution moved to the main chamber 107 contains a substrate.
  • This substrate reacts with the labeling substance 307 contained in the labeling antibody 308 in the magnetic particles 311 held in the main chamber 107, or causes a change in light emission, fluorescence or absorption wavelength by the catalytic reaction of the labeling substance 307. .
  • the rotation of the sample analysis substrate 100 is stopped at the tenth angle as shown in FIG.
  • the tenth angle indicates that the main chamber 107 is optically measured so that a change in the emission, fluorescence or absorption wavelength of the substrate in the main chamber 107 can be detected, for example, the light receiving element of the optical measurement unit 207 is close to the main chamber 107. This is an angle arranged with a predetermined positional relationship with respect to the unit 207.
  • the optical measurement unit 207 performs optical measurement of the liquid held in the main chamber 107. Specifically, the optical measurement unit 207 detects a signal such as a dye, luminescence, or fluorescence of a substrate corresponding to the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 included in the magnetic particle 311. Thereby, detection of the antigen 306, determination of the concentration of the antigen 306, and the like can be performed.
  • a signal such as a dye, luminescence, or fluorescence of a substrate corresponding to the labeling substance 307 of the labeled antibody 308 bound to the complex 310 included in the magnetic particle 311.
  • Optical measurement by the optical measurement unit 207 may be performed with the sample analysis substrate 100 rotated.
  • the substrate analysis substrate 100 may be rotated to detect signals such as the dye, luminescence, and fluorescence of the substrate.
  • the first holding chamber 101 that holds the cleaning liquid is connected to the reaction chamber 106 by the first flow path 111, and the cleaning liquid weighed by the first flow path 111 is the reaction chamber.
  • the composite body 310 to be cleaned is transferred to the main chamber 107 through 106. Therefore, even when the reaction solution remains in the reaction chamber 106, it can be washed with the cleaning solution, and the remaining reaction solution is transferred to the chamber holding the complex 310 and reacted with the substrate solution. It is possible to suppress the occurrence of errors in the measurement of the specimen. Therefore, it is possible to analyze the detection of the sample with high accuracy.
  • the first holding chamber 101 in which the substrate solution is held during the B / F separation and washing process has a space extending in the circumferential direction and is adjacent to the outermost peripheral side surface. Out of the two adjacent side surfaces, the adjacent side surfaces that are adjacent to the reaction chamber 106, the first holding chamber 101 that holds the cleaning liquid, and the adjacent side surfaces that are close to the main chamber 107, are located farther from these, and An opening of the sixth flow path 116 is provided on the adjacent side. For this reason, even if the sample analysis substrate 100 is rotated at various angles, the substrate solution is unlikely to contact the opening 111g of the sixth flow path 116, and the substrate solution is prevented from being transferred to the third holding chamber 103. Can do.
  • sample analysis substrate 100 (Another embodiment of sample analysis substrate 100) Various modifications can be made to the sample analysis substrate 100 of the above embodiment.
  • reaction chamber 106 has the first portion 106q and the second portion 106r, but the first portion 106q may not be provided.
  • the reaction chamber 106 ' has only the second region 106re' of the second portion.
  • the second portion 111r of the first flow path 111 is opposed to the outermost peripheral side surface 106ra of the reaction chamber 106 'and is connected to the innermost peripheral side surface 106rb closest to the rotating shaft 110.
  • the drying reagent 125 is held in the second region 106re '.
  • the second region 106re ' may be a capillary space or a non-capillary space. Further, the drying reagent 125 may not be held in the second region 106re '.
  • the magnetic particle-immobilized antibody 305 and the labeling substance 307 may be introduced into the reaction chamber 106 ′ together with the sample solution, or they may be transferred from another chamber.
  • the second channel 112 may be a channel that can be transferred by capillary force, or may be a channel that can be transferred by gravity.
  • the reaction chamber 106 ′′ has the first region 106rf ′ and the second region 106re ′ of the second portion, and does not have the first portion.
  • the first region 106rf ' is a non-capillary space
  • the second region 106re' is a capillary space.
  • the drying reagent 125 is disposed in the second region 106re '. However, the drying reagent 125 may not be provided.
  • the second channel 112 may be a channel that can be transferred by capillary force, or may be a channel that can be transferred by gravity.
  • the first flow path 111 has a capillary space in which the cleaning liquid can be weighed, but the first flow path may not have a function of weighing.
  • the sample analysis substrate 163 shown in FIG. 24A is different from the sample analysis substrate 100 in that the first flow path 211 is a flow path capable of transferring a liquid by gravity.
  • the amount of the cleaning liquid flowing from the first holding chamber 101 to the first flow path 211 is controlled by controlling the rotation angle of the sample analysis substrate 163.
  • the cleaning liquid can be transferred to the reaction chamber 106 in batches.
  • the first holding chamber 101 has an outermost peripheral side surface 101a farthest from the rotary shaft 110 and an adjacent side surface 101c adjacent to the outermost peripheral side surface 101a, and has an opening on the rotary shaft 110 side by the outermost peripheral side surface 101a and the adjacent side surface 101c.
  • a recess space is formed.
  • the first flow path 211 is a flow path having an opening 211g and an opening 211h and capable of transferring a liquid by gravity, and the opening 211g is provided at a position near the rotating shaft 110 of the adjacent side surface 101c.
  • the opening 211h of the first flow path 211 is connected to the first region 106qf of the first portion 106q of the reaction chamber.
  • the cleaning liquid starts to flow into the first flow path 211 due to gravity, and the movement of the cleaning liquid causes The cleaning liquid is transferred until the surface of the cleaning liquid moves backward and coincides with the opening 211g. Therefore, the cleaning liquid can be transferred to the reaction chamber 106 a plurality of times by changing the angular position for holding the sample analysis substrate 163.
  • a sample analysis substrate 164 shown in FIG. 24B and a sample analysis substrate 165 shown in FIG. 24C are further modified examples of the sample analysis substrate 163, and the reaction chamber 106 ′ shown in FIG. 23A and the reaction chamber shown in FIG. It differs from the sample analysis substrate 163 in that it includes 106 ′′. Even with these sample analysis substrates, the effect of cleaning the reaction chamber described above can be obtained.
  • the first flow path may be a flow path capable of transferring liquid by capillary force.
  • the sample analysis substrates 166, 167, and 168 shown in FIGS. 25A to 25C can transfer liquid by capillary force instead of the first flow path 211 of the sample analysis substrates 163, 164, and 165 of FIGS. 24A to 24C.
  • 1st flow path 211 ' is provided.
  • the first flow path 211 ' constitutes a siphon. Due to the siphon structure, when the reaction liquid held in the reaction chamber is transferred to the main chamber, the cleaning liquid transferred from the first storage chamber 104 to the first holding chamber 101 remains as it is in the first flow path. Transfer to the reaction chamber via 211 ′ can be prevented.
  • the cleaning liquid is transferred from the first holding chamber 101 to the reaction chambers 106, 106 ′, 106 ′′ by the centrifugal force generated by the rotation of the sample analysis substrate. For this reason, it is difficult to transfer the cleaning liquid to the reaction chambers 106, 106 ', 106 "in a plurality of times.
  • a sample analysis substrate 169 shown in FIG. 26 includes a first holding chamber 133 including a first portion 133q, a second portion 133r, and a connecting portion 133p that connects the second portion 133r and the first portion 133q.
  • the second portion 133r and a part of the first portion 133q are generally arranged in the circumferential direction around the rotation shaft 110.
  • a wall portion 100f constituted by the inner surface of the substrate 100 ' is located between the second portion 133r and the first portion 133q.
  • the wall portion 100f separates the second portion 133r and the first portion 133q.
  • the connecting portion 133p is located on the same radial direction as the wall portion 100f of the substrate 100 ', and is located closer to the rotating shaft 110 than the wall portion 100f.
  • the connecting portion 133p is not filled with liquid by capillary action, and moves the liquid between the first portion 133q and the second portion 133r by gravity.
  • the second portion 133r is located on the outer side of an arc ca having a radius that is a line segment connecting the rotation shaft 110 and the point 100e closest to the rotation axis of the wall portion 100f with the rotation shaft 110 as a center (the rotation shaft 110). Part 133re (located away from). With this portion 133re, a predetermined amount of cleaning liquid used for one cleaning can be weighed.
  • the distance from the rotating shaft 110 to the opening 111g of the first flow path 111 in the second portion 133r is longer than the distance from the rotating shaft 110 to the point 100e closest to the rotating shaft of the wall portion 100f. For this reason, the cleaning liquid weighed by the portion 133re can be transferred from the first flow path 111 to the reaction chamber 106 by centrifugal force due to rotation.
  • the first portion 133q of the first holding chamber 133 includes a side portion 133qt and a bottom portion 133qs.
  • the side portion 133qt is located on the side of the first storage chamber 104 in the circumferential direction around the rotation shaft 110.
  • the bottom 133qs is located farther from the rotation shaft 110 than the first storage chamber 104. Further, a part of the side portion 133qt and the entire bottom portion 133qs of the first portion 133q are located farther from the rotation shaft 110 than the second portion 133r.
  • the side portion 133qt preferably includes a portion 133qt 'located on the rotating shaft 110 side with respect to the arc ca and a portion 133qt' 'located on the outer side. As described above, the portion 133qt 'is adjacent to the first portion 133q in the circumferential direction, and is connected to the connecting portion 133p.
  • the portion located outside the arc ca (far from the rotating shaft 110), that is, the total volume of the portion 133qt '' and the bottom 133qs is the first storage chamber. It is preferable that it is larger than the total amount of the cleaning liquid retained in 104.
  • the space of the first holding chamber 133 includes the bottom portion 133qs, when the sample analysis substrate 169 is stopped at a predetermined angle, a part of the cleaning liquid stored in the first storage chamber 104 is caused by capillary action.
  • the fourth flow path 114 is filled. Then, by rotating the sample analysis substrate 169 in a state where the fourth flow path 114 is filled with the cleaning liquid, the centrifugal liquid causes the cleaning liquid in the first storage chamber 104 to the bottom 133qs via the fourth flow path 114. Be transported.
  • the volume of the portion of the second portion 133r located outside the arc ca having a radius connecting the rotation axis 110 and the point 100e closest to the rotation axis 110 of the wall portion 100f is the first holding chamber 133. It is 1/2 or less of the volume.
  • the first portion 133q is configured to include a part of the side portion 133qt and the bottom portion 133qs. However, the first portion 133q is centered on the rotation shaft 110, and the rotation shaft 110 of the rotation shaft 110 and the wall portion 100f. What is necessary is just to include the part located in the outer side of the circular arc which makes the line segment which connects the point nearest to to the radius.
  • the cleaning liquid weighed in a certain amount fills the first flow path 111 by a capillary phenomenon, and then the sample analysis substrate 169 is more than the capillary force applied to the liquid in the first flow path 111.
  • the centrifugal force is transferred to the main chamber 107 through the first flow path 111.
  • the sample analysis substrate 169 shown in FIG. 26 includes the reaction chamber 106 shown in FIG. 3B or the like, but may include the reaction chamber 106 ′ or 106 ′′ shown in FIGS. 23A and 23B.
  • the first holding chamber 101 holds the cleaning liquid for a plurality of times, but it may include a plurality of chambers for holding the cleaning liquid for one time.
  • FIG. 27 includes a first storage chamber 104A, a third storage chamber 104B, a fourth flow path 114A, an eighth flow path 114B, a first holding chamber 101A, a fourth holding chamber 101B, and a first flow.
  • a path 111A and a tenth flow path 111B are provided.
  • the first storage chamber 104A, the fourth flow path 114A, the first holding chamber 101A and the first flow path 111A, and the third storage chamber 104B, the eighth flow path 114B, the fourth holding chamber 101B and the tenth flow path 111B In this way, the cleaning liquid for one independent time is held and transferred to the reaction chamber 106.
  • the fourth flow path 114A and the eighth flow path 114B connect the first storage chamber 104A and the third storage chamber 104B to the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B, respectively, and the first flow path 111A and the tenth flow path 114B.
  • the flow path 111B connects the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B and the reaction chamber 106.
  • the fourth channel 114A and the eighth channel 114B are capillary channels and have a siphon structure.
  • the first channel 111A and the tenth channel 111B have a structure capable of transferring a liquid by gravity.
  • the first holding chamber 101A and the first flow path 111A are located farther from the rotating shaft 110 than the first storage chamber 104A and the third storage chamber 104B, respectively.
  • the first channel 111A and the tenth channel 111B can transfer liquid by gravity.
  • the first holding chamber 101A has an outermost peripheral side surface 101Aa and an adjacent side surface 101Ac adjacent to the outermost peripheral side surface.
  • a tapered surface, a curved surface, or the like may be provided between the outermost peripheral side surface 101Aa and the adjacent side surface 101Ac for smooth corners (ridges).
  • An opening 111Ag of the first flow path 111A is disposed at an end where the outermost peripheral side surface 101Aa is not located, at both ends of the adjacent side surface 101Ac.
  • a concave portion having an opening is formed on the rotating shaft 110 side by the outermost peripheral side surface 101Aa and the adjacent side surface 101Ac, and a single cleaning liquid is held.
  • the fourth holding chamber 101B has an outermost peripheral side surface 101Ba and an adjacent side surface 101Bc adjacent to the outermost peripheral side surface.
  • a tapered surface, a curved surface, or the like may be provided between the outermost peripheral side surface 101Ba and the adjacent side surface 101Bc for smoothing the corners (ridges).
  • the opening 111Bg of the tenth flow path 111B is arranged at the end where the outermost peripheral side surface 101Ba is not located.
  • the outermost peripheral side surface 101Ba and the adjacent side surface 101Bc form a recess having an opening on the rotating shaft 110 side to hold a single cleaning liquid.
  • the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B are located in the same one of the two regions divided by a straight line connecting the center of the reaction chamber 106 and the rotating shaft 110.
  • the rotation axis 110 of the sample analysis substrate 170 is inclined at an angle greater than 0 ° and less than 90 ° with respect to the direction of gravity so that the recesses of the first holding chamber 101A and the recesses of the fourth holding chamber 101B can hold liquid. Support to do. Further, the sample analysis substrate 170 is held at a predetermined rotation angle so that the reaction chamber 1067 is positioned below the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B in the gravity direction. In this case, since the adjacent side surface 101Ac of the first holding chamber 101A and the adjacent side surface 101Bc of the fourth holding chamber 101B are non-parallel when viewed from the direction parallel to the rotation shaft 110, they are held from either one of the chambers.
  • the other chamber can hold at least a part of the cleaning liquid. Therefore, by appropriately selecting the rotation angle of the sample analysis substrate 170, the cleaning liquid can be selectively transferred from the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B to the reaction chamber 106 at different timings.
  • the angle ⁇ formed by the adjacent side surface 101Ac with respect to the straight line connecting the center of the reaction chamber 106 and the rotation shaft 110 when viewed from the direction parallel to the rotation shaft 110 is Bigger than. Therefore, the rotation angle of the sample analysis substrate 170 in which the first holding chamber 101A and the fourth holding chamber 101B are positioned below the reaction chamber 106 in the direction of gravity (P1 shown in FIG. 27 coincides with the 6 o'clock direction).
  • the adjacent side surface 101Ac is first parallel (horizontal) to the direction orthogonal to the direction of gravity, so that the inside of the first holding chamber 101A is The entire amount of the cleaning liquid can be selectively transferred to the reaction chamber 106, and then the cleaning liquid held in the fourth holding chamber 101 ⁇ / b> B can be selectively transferred to the main chamber 107.
  • each of the first portion 106q and the second portion 106r has a capillary space and a non-capillary space.
  • the capillary space and non-capillary space in the reaction chamber are not limited to this, and various modifications are possible.
  • the reaction chamber may include a first portion 106q having only the first region 106qf, and a second portion 106r having the first region 106rf and the second region 106re. That is, in the reaction chamber 106 illustrated in FIG. 3C and the like, the second region 106qe of the first portion 106q may be omitted.
  • the first region 106rf is positioned closer to the rotation shaft 110 than the second region 106re, and the first region 106rf is connected to the first region 106qf of the first portion 106q. Yes.
  • the first region 106qf and the first region 106rf are non-capillary spaces, and the second region 06re is a capillary space.
  • the second portion 106r may not include the first region 106rf.
  • the second portion 106r is configured only by the second region 106re that is a capillary space, and the second region 106re is connected to the second region 106qe of the first portion 106q.
  • the second region 106qe in the first portion 106q may include 106s that is located closer to the rotating shaft 110 than the wall portion 126 and is connected to the second portion 106r.
  • the first portion 106q may include only the first region 106qf that is a non-capillary space
  • the second portion 106r may include only the second region 106re that is a capillary space.
  • the boundary (connection portion) between the first portion 106q and the second portion 106r is located at a radial position connecting the rotation shaft 110 and the point 126p closest to the rotation shaft 110 of the wall portion 126.
  • the reaction chamber may not have the first portion.
  • the first portion 106q may include a first region 106qf and a second region 106qe, and the first region 106qf may be located closer to the rotation shaft 110 than the second region 106qe.
  • the measurement system using magnetic particles has been described.
  • the sample analysis substrate, the sample analysis device, the sample analysis system, and the sample analysis system program according to one aspect of the present application are provided with magnetic particles.
  • the target to which the primary antibody is immobilized may be a wall surface in the chamber instead of the magnetic particles. That is, when the chamber is made of a material such as polystyrene or polycarbonate, the primary antibody can be immobilized on the wall surface in the chamber by physical adsorption, and sandwiched with antigen or labeled antibody in the chamber. The reaction can be triggered.
  • a primary antibody has a functional group (for example, amino group or carboxyl group) that can bind to the primary antibody on the wall surface in the chamber, and the primary antibody can be immobilized by chemical bonding. And a sandwich-type binding reaction.
  • a primary antibody can be couple
  • the primary antibody When the primary antibody is immobilized on the wall surface of the chamber by physical adsorption or chemical bonding, it is mainly used in a system for detecting a dye, chemiluminescent or fluorescent signal. On the other hand, when the primary antibody is immobilized on a metal substrate, it is mainly used as a signal in a system for detecting an electrochemical signal (for example, current) or an electrochemiluminescence signal. In this case, the magnet 121 shown in FIG. 3B is unnecessary. Further, the reaction field for forming the complex 310 is not the reaction chamber 106 but the main chamber 107. Therefore, the primary antibody needs to be immobilized on the wall surface of the main chamber 107.
  • sample analysis substrate, sample analysis apparatus, sample analysis system, and sample analysis system program of the present disclosure can be applied not only to non-competitive methods (sandwich immunoassay methods) but also to competitive methods and gene detection methods by hybridization. It is.
  • the cleaning is performed twice, but may be performed three or more times as necessary.
  • sample analysis substrate, sample analysis apparatus, sample analysis system, and sample analysis system program disclosed in the present application can be applied to analysis of specific components in a sample using various reactions.
  • Sample analysis substrate 100 ′ Substrate 100a Base substrate 100b Cover substrate 100c, 100d Main surface 100f Wall portion 101, 101A First holding chamber 101B Fourth holding chamber 101a, 102a Outermost peripheral side surface 101c, 101d Adjacent side surface 102 Second holding chamber 103 third holding chamber 104 first storage chamber 105 second storage chamber 106 main chamber 106q first portion 106qa outermost peripheral side surface 106qe second region 106qf first region 106r second portion 106ra outermost peripheral side surface 106rb innermost peripheral side surface 106re second Area 106rf first area 107 main chamber 108 recovery chamber 110 rotating shaft 111 first flow path 112 second flow path 113 third flow path 114 first 4th channel 115 5th channel 116 6th channel 117 7th channel 120 Magnet storage chamber 121 Magnet 122 Air hole 123 Opening 125 Drying reagent 126 Wall parts 161-169 Sample analysis substrate 200 Sample analysis device 201 Motor 201a Turntable 203 Origin detector 203a Light source 203b Light receiving element

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Abstract

試料分析用基板は、基板と、第１保持チャンバー１０１と、反応チャンバー１０６と、第１および第２開口がそれぞれ第１保持チャンバーおよび反応チャンバーに接続された第１流路１１１と、メインチャンバー１０７と、第３および第４開口がそれぞれ反応チャンバー１０６およびメインチャンバー１０７に接続された第２流路１１２と、磁石を収納することが可能な磁石収納室とを備え、第１開口は、第２開口よりも回転軸に近い側に位置し、第２開口は、第３開口よりも回転軸に近い側に位置し、磁石収納室は、磁石収納室に磁石が収納された場合、磁石によってメインチャンバー中の磁性粒子をメインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されており、回転運動によって、液体の移送を行う。

Description

試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラム
　本願は、試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムに関する。
　従来、尿や血液等の検体中の特定成分を分析するために試料分析用基板を用いる技術が知られている。例えば、特許文献１は、流路・チャンバー等が形成された円盤状の試料分析用基板を用い、試料分析用基板を回転等させることで、溶液の移送、分配、混合、検体溶液中の成分の分析等を行う技術を開示している。
特表平７－５００９１０号公報
　検体中の特定成分の分析には、酵素反応、免疫反応等を用い、複雑な反応ステップを介する分析法がある。このような複雑な反応ステップを介する分析法を試料分析用基板中で行うことができる技術が求められていた。
　本願の限定的ではない例示的な実施形態は、より複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に対応できる試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムを提供する。
　本開示の回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板は、回転軸を有する基板と、前記基板内に位置し、第１液体を保持するための第１空間を有する第１保持チャンバーと、前記基板内に位置し、検体を含む液体試料を保持するための空間を有する反応チャンバーと、前記基板内に位置しており、第１開口および第２開口を有する第１流路であって、前記第１開口および前記第２開口がそれぞれ前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに接続された第１流路と、前記基板内に位置し、前記検体を含む液体試料および表面にリガンドが固定された磁性粒子を保持するための空間を有するメインチャンバーと、前記基板内に位置しており、第３開口および第４開口を有する第２流路であって、前記第３開口および前記第４開口がそれぞれ前記反応チャンバーおよび前記メインチャンバーに接続された第２流路と、前記基板内に位置し、磁石を収納することが可能な磁石収納室とを備え、前記第１開口は、前記第２開口よりも回転軸に近い側に位置し、前記第２開口は、前記第３開口よりも回転軸に近い側に位置し、前記磁石収納室は、前記磁石収納室に磁石が収納された場合、前記磁石によって前記メインチャンバー中の前記磁性粒子を前記メインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されている。
　本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムによれば、複雑な反応ステップを介して検体中の成分の分析が行われる分析法に対応できる。
図１は、磁性粒子を用いたサンドイッチイムノアッセイ法を説明する模式図の一例である。 図２Ａは、実施形態の試料分析システムの構成の一例を示す模式図である。 図２Ｂは、試料分析システムにおける試料分析用基板の原点を検出するための構成の一例を示す模式図である。 図３Ａは、試料分析用基板の一例を示す分解斜視図である。 図３Ｂは、試料分析用基板の一例を示す平面図である。 図３Ｃは、図３Ａに示す試料分析用基板のうち、反応液の移送に関する構成を示す平面図である。 図３Ｄは、図３Ａに示す試料分析用基板のうち、メインチャンバーおよび第３流路のサイフォン構造に関する構成を示す平面図である。 図３Ｅは、試料分析用基板の磁石の保持方法の一例を示す斜視図である。 図３Ｆは、図３Ａに示す試料分析用基板のうち、洗浄液の移送に関する構成を示す平面図である。 図３Ｇは、試料分析用基板の第１流路の構造の一部を拡大して示す平面図である。 図３Ｈは、図３Ａに示す試料分析用基板のうち、基質溶液の移送に関する構成を示す平面図である。 図４は、試料分析システムの動作の一例を示すフローチャートである。 図５は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図６は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図７は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図８は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図９は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１０は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１１は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１２は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１３は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１４は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１５は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１６は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１７は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１８は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図１９は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図２０は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図２１は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図２２は、試料分析システムの動作中における試料分析用基板の停止角度と液体の位置の一例を模式的に示す図である。 図２３Ａは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２３Ｂは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２４Ａは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２４Ｂは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２４Ｃは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２５Ａは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２５Ｂは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２５Ｃは、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２６は、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２７は、試料分析用基板の他の一例を示す平面図である。 図２８Ａは、反応チャンバーの他の一例を示す平面図である。 図２８Ｂは、反応チャンバーの他の一例を示す平面図である。 図２８Ｃは、反応チャンバーの他の一例を示す平面図である。 図２８Ｄは、反応チャンバーの他の一例を示す平面図である。 図２８Ｅは、反応チャンバーの他の一例を示す平面図である。
　尿や血液等の検体の成分の分析法には、分析対象物であるアナライトと、アナライトと特異的に結合するリガンドとの結合反応が用いられる場合がある。このような分析法には、例えば、免疫測定法や遺伝子診断法が挙げられる。
　免疫測定法の一例として、競合法と非競合法（サンドイッチイムノアッセイ法）が挙げられる。また、遺伝子診断法の一例として、ハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法が挙げられる。これら免疫測定法や遺伝子検出法には、例えば、磁性粒子（「磁性ビーズ」、「磁気粒子」または「磁気ビーズ」等と称することもある。）が用いられる。これら分析法の一例として、磁性粒子を用いたサンドイッチイムノアッセイ法を具体的に説明する。
　図１に示すように、まず、磁性粒子３０２の表面に固定化された一次抗体３０４（以下、「磁性粒子固定化抗体３０５」と称する。）と測定対象物である抗原３０６とを抗原抗体反応により結合させる。次に標識物質３０７が結合された２次抗体（以下、「標識抗体３０８」と称する。）と抗原３０６とを抗原抗体反応により結合させる。これにより、抗原３０６に対して磁性粒子固定化抗体３０５及び標識抗体３０８が結合した複合体３１０が得られる。
　この複合体３１０に結合した標識抗体３０８の標識物質３０７に基づくシグナルを検出し、検出したシグナルの量に応じて抗原濃度を測定する。標識物質３０７には、例えば、酵素（例えば、ペルオキシダーゼ、アルカリフォスファターゼ、ルシフェラーゼ等がある。）、化学発光物質、電気化学発光物質、蛍光物質等が挙げられ、それぞれの標識物質３０７に応じた色素、発光、蛍光等のシグナルを検出する。
　この一連の反応において、反応物である複合体３１０を得る上で、検体中の未反応物、磁性粒子等に非特異的に吸着した物質、複合体３１０の形成に関与しなかった標識抗体３０８等である未反応物を分離する必要がある。この分離をＢ／Ｆ分離（Ｂｏｕｎｄ／Ｆｒｅｅ　Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ）と呼ぶ。競合法による免疫測定法やハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法においても、同様に、Ｂ／Ｆ分離の工程が必要である。
　前述で、磁性粒子を用いたサンドイッチイムノアッセイ法を例に挙げて説明したが、Ｂ／Ｆ分離は、磁性粒子の使用の有無にかかわらず、競合法や非競合法による免疫測定法やハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法を行う場合に必要となる。磁性粒子を用いない場合は、例えば、ポリスチレンやポリカーボネートといった素材で構成された固相へ物理吸着により固定化されたリガンド、化学結合により固相に固定化されたリガンド、金等で構成された金属基板表面へ固定化（例えば、自己組織化単分子膜（ＳＡＭ：ｓｅｌｆ－Ａｓｓｅｍｂｌｅｄ　Ｍｏｎｏｌａｙｅｒ）を用いた固定化）されたリガンドを用いる場合等が挙げられる。
　Ｂ／Ｆ分離を十分に行うには、洗浄液で複合体３１０を含む磁性粒子を複数回洗浄することが好ましい。具体的には、まず、複合体３１０と、未反応の抗原３０６、標識抗体３０８等とを含む反応溶液において、磁石によって磁性粒子を含む複合体３１０を捕捉した状態で、反応溶液のみを除去する。その後、洗浄液を加えて複合体３１０を洗浄し、洗浄液を除去する。この洗浄を複数回繰り返し行うことによって、未反応物や非特異吸着物質が十分に除去されたＢ／Ｆ分離が達成され得る。
　従来、このような抗原抗体反応をさせた後、複合体３１０を洗浄する操作は分析器具を用いて操作者が手動で行ったり、複雑な機構を有する大型の分析機器によって実現されていた。このため、より簡単に洗浄を行う技術が求められていた。
　また、前述した複合体３１０の洗浄の後、複合体３１０を基質溶液と反応させ、標識物質３０７に基づくシグナルを生成させる。この際、反応液を保持していたチャンバーに液残りが生じていると、残っていた反応液が複合体３１０を保持しているチャンバーに移送され、基質溶液と反応することにより、誤ってシグナルを生成する場合がある。このようなシグナルによる測定誤差を抑制し、より精度の高いシグナルの測定が求められる。
　本願発明者らは、特許文献１に開示されるような試料分析用基板を用いて、抗原抗体反応をさせる工程及びその後の複数回の洗浄工程を可能にする技術を詳細に検討し、新規な試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムを想到した。本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、以下の通りである。
［項目１］
　回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、
　回転軸を有する基板と、
　前記基板内に位置し、第１液体を保持するための第１空間を有する第１保持チャンバーと、
　前記基板内に位置し、検体を含む液体試料を保持するための空間を有する反応チャンバーと、
　前記基板内に位置しており、第１開口および第２開口を有する第１流路であって、前記第１開口および前記第２開口がそれぞれ前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに接続された第１流路と、
　前記基板内に位置し、前記検体を含む液体試料および表面にリガンドが固定された磁性粒子を保持するための空間を有するメインチャンバーと、
　前記基板内に位置しており、第３開口および第４開口を有する第２流路であって、前記第３開口および前記第４開口がそれぞれ前記反応チャンバーおよび前記メインチャンバーに接続された第２流路と、
　前記基板内に位置し、磁石を収納することが可能な磁石収納室と、を備え、
　前記第１開口は、前記第２開口よりも回転軸に近い側に位置し、
　前記第２開口は、前記第３開口よりも回転軸に近い側に位置し、
　前記磁石収納室は、前記磁石収納室に磁石が収納された場合、前記磁石によって前記メインチャンバー中の前記磁性粒子を前記メインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されている、
　試料分析用基板。
［項目２］
　前記反応チャンバーの空間内に配置された、ドライ化試薬をさらに備え、
　前記ドライ化試薬は、前記磁性粒子を含む、項目１に記載の試料分析用基板。
［項目３］
　前記反応チャンバーは、非毛細管空間を含む、項目１または２に記載の試料分析用基板。
［項目４］
　前記反応チャンバーは、毛細管空間を含む、項目１または２に記載の試料分析用基板。
［項目５］
　前記反応チャンバーは、非毛細管空間および毛細管空間を含み、
　前記非毛細管空間に前記第１開口が接しており、
　前記毛細管空間に第３開口が接している、
　項目１または２に記載の試料分析用基板。
［項目６］
　前記非毛細管空間は、前記毛細管空間よりも回転軸に近接して位置する部分を有する、項目５に記載の試料分析用基板。
［項目７］
　前記前記反応チャンバーは第１部分および第２部分を含み、
　前記基板は前記反応チャンバーの前記第１部分と前記第２部分との間に位置する壁部分を有し、
　前記壁部分は、回転軸に向かう方向に凸部を形成し、
　前記第１部分および前記第２部分において、前記壁部分の回転軸から最も近い点と、前記回転軸とを結ぶ線分を半径とする円弧よりも遠い側に前記毛細管空間の一部および前記非毛細管空間の一部がそれぞれ位置する、
項目５に記載の試料分析用基板。
［項目８］
　前記第１部分側に位置する前記壁部分の一部又は全部には、前記第１部分と前記第２部分を接続する前記毛細管空間の一部が位置している、
　項目７に記載の試料分析用基板。
［項目９］
　前記基板内に位置しており、空間を有する回収チャンバーと、
　前記基板内に位置しており、第５開口および第６開口を有する第３流路であって、前記第５開口および前記第６開口がそれぞれ前記メインチャンバーおよび前記回収チャンバーに接続された第３流路と、
をさらに備え、
　前記第５開口は前記第６開口よりも前記回転軸に近接して位置する、
項目１から８のいずれかに記載の試料分析用基板。
［項目１０］
　前記第１流路は、非毛細管路である、項目１から９のいずれかに記載の試料分析用基板。
［項目１１］
　前記第１チャンバーは、前記回転軸から最も離れて位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面とを有し、
　前記最外周側面と前記隣接側面とで凹部を形成し、
　前記試料分析用基板を所定の角度位置で保持した場合に、前記凹部で前記第１液体を保持する、項目１０に記載の試料分析用基板。
［項目１２］
　前記第１流路は、毛細管路である、項目１から１１のいずれかに記載の試料分析用基板。
［項目１３］
前記第１流路は、サイフォン構造を有する項目１２に記載の試料分析用基板。
［項目１４］
　前記第１流路の一部は、前記第１開口を挟んで前記第１保持チャンバーの一部よりも前記回転軸に近接して位置している、項目１２に記載の試料分析用基板。
［項目１５］
　前記第１保持チャンバーの空間は、第１部分および第２部分と、前記第１部分および前記第２部分の間に位置しており前記第１部分および前記第２部分を連結する連結部分とを有し、
　前記基板は、前記第１保持チャンバーの前記空間の前記第１部分および前記第２部分を区切る壁部分を有し、
　前記反応チャンバーは前記第１保持チャンバーの前記第２部分よりも前記回転軸から遠くに位置し、
　前記第１保持チャンバーの前記空間の前記連結部分は、前記基板の前記壁部分よりも前記回転軸側に位置し、
　前記第１流路は、前記第１保持チャンバーの前記空間の前記第２部分と接続されている、項目１２に記載の試料分析用基板。
［項目１６］
　前記基板内に位置し、第２液体を保持するための空間を有する第４保持チャンバーと、
　前記第４保持チャンバーと前記反応チャンバーとを接続し、前記第２液体を移送する第８流路と、
　前記第１保持チャンバーは、前記回転軸から最も遠くに位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面と、前記最外周側面および前記隣接側面とで形成される凹部とを有し、
　前記第４保持チャンバーは、前記回転軸から最も遠くに位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面と、前記最外周側面および前記隣接側面とで形成される凹部とを有し、前記第１保持チャンバーの前記隣接側面と前記第４保持チャンバーの隣接側面とは、前記回転軸に平行な方向からみて非平行である、
項目１から１４のいずれかに記載の試料分析用基板。
［項目１７］
　項目１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板と、
　前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
を有する試料分析装置と、
を備えた試料分析システムであって、
　前記プログラムは、
　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
（ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
（ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
（ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
試料分析システム。
［項目１８］
　項目１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板を回転軸回りに回転させるモータ、
　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
を備え、
　前記プログラムは、
　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
（ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
（ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
（ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
試料分析装置。
［項目１９］
　項目１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板と、
　前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
を有する試料分析装置と、
を備えた試料分析システム用のプログラムであって、
　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
（ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
（ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
（ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
試料分析システム用プログラム。
［項目２０］
　回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、
　回転軸を有する基板と、
　前記基板内に位置し、第１液体を保持するための第１空間を有する第１保持チャンバーと、
　前記基板内に位置し、アナライトを含む液体試料を保持するための空間を有する反応チャンバーと、
　前記基板内に位置しており、第１開口および第２開口を有する第１流路であって、前記第１開口および前記第２開口がそれぞれ前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに接続された第１流路と、
　前記基板内に位置し、前記アナライトを含む液体試料および表面にリガンドが固定された磁性粒子を保持するための空間を有するメインチャンバーと、
　前記基板内に位置しており、第３開口および第４開口を有する第２流路であって、前記第３開口および前記第４開口がそれぞれ前記反応チャンバーおよび前記メインチャンバーに接続された第２流路と、
　前記基板内に位置し、磁石を収納することが可能な磁石収納室と、
を備え、
　前記第１開口は、前記第２開口よりも回転軸に近い側に位置し、
　前記第２開口は、前記第３開口よりも回転軸に近い側に位置し、
　前記磁石収納室は、前記磁石収納室に磁石が収納された場合、前記磁石によって前記メインチャンバー中の前記磁性粒子を前記メインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されている試料分析用基板を用いた送液方法であって、
（ａ）前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに第１液体および液体試料をそれぞれ導入し、
（ｂ）前記反応チャンバー中の前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送し、
（ｃ）前記工程（ｂ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を、前記反応チャンバーへ移送し、
（ｄ）前記反応チャンバー中の前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送する、
試料分析用基板の使用方法。
　以下、図面を参照しながら本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プラグラムを詳細に説明する。なお、本開示の図面において、分かり易さのため、構成要素の一部を省略したり、参照符号を省略している場合がある。
　本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、反応液を保持していたチャンバーに液残りが生じていても、精度の高いシグナルの測定を行うことができる。また、試料分析用基板の種々の回転により、異なるチャンバーに保持された２以上の液体を他のチャンバーへ移送するにあたり、不要なタイミングで送液されるのをより確実に防止することができる。例えば、１または複数のチャンバーに保持されている洗浄液を一定量秤量し、複数回に分けて、別のチャンバーへ移送することで、Ｂ／Ｆ分離を行うにあたり、他のチャンバーの保持されている基質溶液を不要なタイミングで送液されることをより確実に防止することができる。実施形態では、液体がおよび基質溶液および洗浄液であると説明するが、液体は基質溶液および洗浄液に限られず、試料分析に用いられる種々の液体であってもよい。
　図２Ａは、試料分析システム５０１の全体の構成を示す模式図である。試料分析システム５０１は、試料分析用基板１００と試料分析装置２００とを含む。
　（試料分析装置２００の構成）
　試料分析装置２００は、モータ２０１と、原点検出器２０３と、回転角度検出回路２０４と、制御回路２０５と、駆動回路２０６と、光学測定ユニット２０７とを備える。
　モータ２０１は、ターンテーブル２０１ａおよび重力方向に対して０°より大きく９０°以下の角度θで重力（鉛直）方向Ｇから傾いた回転軸Ａを有し、ターンテーブル２０１ａに載置された試料分析用基板１００を回転軸Ａ周りに回転させる。回転軸Ａが傾いていることにより、試料分析用基板１００における液体の移送に、回転による遠心力に加え、重力による移動を利用することができる。回転軸Ａの重力方向Ｇに対する傾斜角度は、５°以上であることが好ましく、１０°以上４５°以下であることがより好ましく、２０°以上３０°以下であることがさらに好ましい。モータ２０１は例えば、直流モータ、ブラシレスモータ、超音波モータ等であってよい。
　原点検出器２０３は、モータ２０１に取り付けられた試料分析用基板１００の原点を検出する。例えば、図２Ａに示すように、原点検出器２０３は、光源２０３ａ、受光素子２０３ｂおよび原点検出回路２０３ｃを含み、光源２０３ａと受光素子２０３ｂとの間に試料分析用基板１００が位置するように配置される。例えば、光源２０３ａは発光ダイオードであり、受光素子２０３ｂはフォトダイオードである。図２Ｂに示すように、試料分析用基板１００は特定の位置に設けられたマーカ２１０を有する。マーカ２１０は例えば、光源２０３ａから出射する光の少なくとも一部を遮光する遮光性を有する。試料分析用基板１００において、マーカ２１０の領域は透過率が小さく（例えば１０％以下）、マーカ２１０以外の領域では透過率が大きい（例えば６０％以上）。
　試料分析用基板１００がモータ２０１によって回転すると、受光素子２０３ｂは、入射する光の光量に応じた検出信号を原点検出回路２０３ｃへ出力する。回転方向に応じて、マーカ２１０のエッジ２１０ａおよびエッジ２１０ｂにおいて検出信号は増大または低下する。原点検出回路２０３ｃは、例えば、矢印で示すように、試料分析用基板１００が時計回りに回転している場合において、検出光量の低下を検出し、原点信号として出力する。本明細書では、マーカ２１０のエッジ２１０ａの位置を、試料分析用基板１００の原点位置（試料分析用基板１００の基準となる角度位置）として取り扱う。ただし、マーカ２１０のエッジ２１０ａの位置から任意に定められる特定の角度の位置を原点として定めてもよい。また、マーカ２１０が扇形であり、その中心角が、試料分析に必要な角度の検出精度よりも小さい場合には、マーカ２１０自体を原点位置として定めてもよい。
　原点位置は、試料分析装置２００が試料分析用基板１００の回転角度の情報を取得するために利用される。原点検出器２０３は、他の構成を備えていてもよい。例えば、試料分析用基板１００に原点検出用の磁石を備え、原点検出器２０３はこの磁石の磁気を検出する磁気検出素子であってもよい。また、後述する磁性粒子を捕捉するための磁石を原点検出に用いてもよい。また、試料分析用基板１００がターンテーブル２０１ａに特定の角度でのみ取り付け可能である場合には、原点検出器２０３はなくてもよい。
　回転角度検出回路２０４は、モータ２０１の回転軸Ａの角度を検出する。例えば、回転角度検出回路２０４は回転軸Ａに取り付けられたロータリーエンコーダであってもよい。モータ２０１がブラシレスモータである場合には、回転角度検出回路２０４は、ブラシレスモータに備えられているホール素子およびホール素子の出力信号を受け取り、回転軸Ａの角度を出力する検出回路を備えていてもよい。
　駆動回路２０６はモータ２０１を回転させる。具体的には、制御回路２０５からの指令に基づき、試料分析用基板１００を時計方向または反時計方向に回転させる。また、回転角度検出回路２０４および原点検出器２０３の検出結果および試料分析用基板１００を制御回路２０５からの指令に基づき、揺動および回転の停止を行う。
　光学測定ユニット２０７は、試料分析用基板１００に保持された複合体３１０（図１）に結合した標識抗体３０８の標識物質３０７に応じたシグナル（例えば、色素、発光、蛍光等）を検出する。
　制御回路２０５は、たとえば試料分析装置２００に設けられたＣＰＵを含む。制御回路２０５は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ；図示せず）に読み込まれたコンピュータプログラムを実行することにより、当該コンピュータプログラムの手順にしたがって他の回路に命令を送る。その命令を受けた各回路は、本明細書において説明されるように動作して、各回路の機能を実現する。制御回路２０５からの命令は、たとえば図２Ａに示されるように、駆動回路２０６、回転角度検出回路２０４、光学測定ユニット２０７等に送られる。コンピュータプログラムの手順は、添付の図面におけるフローチャートによって示されている。
　なお、コンピュータプログラムが読み込まれたＲＡＭ、換言すると、コンピュータプログラムを格納するＲＡＭは、揮発性であってもよいし、不揮発性であってもよい。揮発性ＲＡＭは、電力を供給しなければ記憶している情報を保持できないＲＡＭである。たとえば、ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ（ＤＲＡＭ）は、典型的な揮発性ＲＡＭである。不揮発性ＲＡＭは、電力を供給しなくても情報を保持できるＲＡＭである。たとえば、磁気抵抗ＲＡＭ（ＭＲＡＭ）、抵抗変化型メモリ（ＲｅＲＡＭ）、強誘電体メモリ（ＦｅＲＡＭ）は、不揮発性ＲＡＭの例である。本実施の形態においては、不揮発性ＲＡＭが採用されることが好ましい。
　揮発性ＲＡＭおよび不揮発性ＲＡＭはいずれも、一時的でない（non-transitory）、コンピュータ読み取り可能な記録媒体の例である。また、ハードディスクのような磁気記録媒体や、光ディスクのような光学的記録媒体も一時的でない、コンピュータ読み取り可能な記録媒体の例である。すなわち本開示にかかるコンピュータプログラムは、コンピュータプログラムを電波信号として伝搬させる、大気などの媒体（一時的な媒体）以外の、一時的でない種々のコンピュータ読み取り可能な媒体に記録され得る。
　本明細書では、制御回路２０５は回転角度検出回路２０４および原点検出器２０３の原点検出回路２０３ｃと別個の構成要素として説明している。しかしながら、これらは共通のハードウェアによって実現されていてもよい。たとえば、試料分析装置２００に設けられたＣＰＵ（コンピュータ）が、制御回路２０５として機能するコンピュータプログラム、回転角度検出回路２０４として機能するコンピュータプログラムおよび原点検出器２０３の原点検出回路２０３ｃとして機能するコンピュータプログラムを直列的、または並列的に実行してもよい。これにより、そのＣＰＵを見かけ上、異なる構成要素として動作させることができる。
　（試料分析用基板１００）
　[１．全体の構成]
　図３Ａは、試料分析用基板１００の分解斜視図である。試料分析用基板１００は、回転軸１１０および回転軸１１０に平行な方向に所定の厚さを有する板形状の基板１００’を備える。試料分析用基板１００の基板１００’は、ベース基板１００ａとカバー基板１００ｂによって構成されている。本実施形態では、試料分析用基板１００の基板１００’は円形形状を有しているが、例えば、多角形形状、楕円形状、扇形形状等を有していてもよい。基板１００’は、２つの主面１００ｃ、１００ｄを有している。本実施形態では、主面１００ｃおよび主面１００ｄは互いに平行であり、主面１００ｃおよび主面１００ｄの間隔で規定される基板１００’の厚さ（２つの主面の間の距離）は、基板１００’のどの位置でも同じである。しかし、主面１００ｃ、１００ｄは、平行でなくてもよい。例えば、２つの主面の一部分が非平行または平行であってもよいし、全体的に非平行であってもよい。また、基板１００’の主面１００ｃおよび１００ｄの少なくも一方に凹部ないし凸部を有する構成を備えていてもよい。
　図３Ｂは、ベース基板１００ａの平面図である。図３Ｂに示すように、試料分析用基板１００は、それぞれ基板１００’内に位置する第１保持チャンバー１０１、第２保持チャンバー１０２、第３保持チャンバー１０３、第１貯蔵チャンバー１０４、第２貯蔵チャンバー１０５、反応チャンバー１０６、メインチャンバー１０７および回収チャンバー１０８を有する。各チャンバーの形状は、以下において特に言及しない限り、制限はなく、任意の形状を有していてもよい。各チャンバーは、概ね、基板１００’の２つの主面１００ｃ、１００ｄ（図３Ａ）に平行な上面及び下面と、これらの間に位置する３以上の側面とによって規定された空間を有する。上面、下面および側面のうちの隣接する２つの面は、明瞭な稜線によって分けられていなくてもよい。例えば、各チャンバーの形状は扁平な球あるいは、回転楕円体であってもよい。
　試料分析用基板１００は、更に、それぞれ基板１００’内に位置する第１流路１１１、第２流路１１２、第３流路１１３、第４流路１１４、第５流路１１５、第６流路１１６および第７流路１１７を有する。第１流路１１１は、第１保持チャンバー１０１と反応チャンバー１０６とを接続している。第２流路１１２は、反応チャンバー１０６とメインチャンバー１０７とを接続している。第３流路１１３は、メインチャンバー１０７と回収チャンバー１０８とを接続している。第４流路１１４は、第１貯蔵チャンバー１０４と第１保持チャンバー１０１とを接続している。第５流路１１５は、第２貯蔵チャンバー１０５と第２保持チャンバー１０２とを接続している。第６流路１１６は、第２保持チャンバー１０２と第３保持チャンバー１０３とを接続している。第７流路１１７は、第３保持チャンバー１０３とメインチャンバー１０７とを接続している。このように、第４流路１１４を介して第１貯蔵チャンバー１０４に接続された第１保持チャンバー１０１は、第１流路１１１によって、メインチャンバー１０７ではなく、反応チャンバー１０６に接続されている。
　流路を介したチャンバー間の液体の移送は、種々の方法で実現することが可能である。たとえば、重力による移送、および、毛細管力と回転による遠心力とによる移送を利用することができる。以下、この２つの移送方法を概括的に説明する。
　重力による移送が可能な流路である場合、液体は流路内を重力によって移動することができる。たとえば、図２Ａに示すように、試料分析用基板１００を回転軸１１０が重力方向Ｇに対して０度より大きく９０度以下の範囲で傾けて支持する。試料分析用基板１００の回転角度を変更することにより、液体が存在する移送元のチャンバーを、移送先のチャンバーよりも高い位置に配置させる。「高い」とは重力方向Ｇでより上にあることを言う。これにより、移送元のチャンバー内の液体は、重力によって流路内を移動し、移送先のチャンバーへ移送される。重力による移送が可能な流路は、以下に説明する毛細管路ではない。重力による移送が可能な流路は、例えば１ｍｍ以上の厚さを有している。
　また、流路は毛細管路であってもよい。「毛細管路」は、毛細管現象による毛細管力により内部の少なくとも一部に液体を満たすことができる狭い断面を有する流路を指す。毛細管路による液体の移送を、毛細管空間ではないチャンバーＡおよびチャンバーＢと、チャンバーＡとチャンバーＢを接続する毛細管路の流路を有する構成を例に挙げて説明する。チャンバーＡに保持された液体は、チャンバーＡに設けられた毛細管路の開口に接触すると、毛細管力により流路内に吸引され、流路の一部または全部が液体で満たされる。流路を満たす液体の位置及び量は、流路内の液体に働く毛細管力および重力の均衡によって決定する。
　毛細管路の流路を毛細管力により液体で満たすには、液体の移動による圧力差が生じないよう、チャンバーＡとチャンバーＢに空気孔を設け、２つのチャンバー内の圧力を外部環境との圧力と一致させる。
　流路が毛細管力により液体で満されている状態では、流路内の液体は、毛細管力、大気圧および重力のバランスによって静止しており、チャンバーＡからチャンバーＢへは、液体は移送されない。また、試料分析用基板を回転させることよって、流路内の液体に毛細管力以下の遠心力が働く場合にも液体の移送は生じない。
　一方、チャンバーＢが、回転軸に対してチャンバーＡよりも遠い位置に配置されており、毛細管路の流路中の液体に毛細管力よりも大きい遠心力が働くように、試料分析用基板を回転させると、遠心力によって、チャンバーＡ中の液体をチャンバーＢに移送することができる。
　流路による移送に毛細管現象を利用する場合、流路は、例えば、５０μｍ～３００μｍの厚さを有している。厚さの異なるチャンバーの領域や流路を形成する場合、例えば、ベース基板１００ａに設ける空間の深さを異ならせることによって、異なる厚さを実現することができる。あるいは、ベース基板１００ａに設ける空間の深さは一定にし、カバー基板１００ｂの各チャンバーや流路に対応する位置に高さの異なる凸部を設けることにより、各流路およびチャンバーの厚さを異ならせてもよい。
　以下において説明するように、チャンバーの一部または全部が保持した液体で確実に満たされるように、流路の一部または全部が毛細管空間を構成していてもよい。この場合、毛細管空間となる領域の厚さは、前述したように５０μｍ～３００μｍである。
　液体を毛細管力および回転による遠心力によって移送する場合、例えば、直径６０ｍｍの試料分析用基板１００を１００ｒｐｍから８０００ｒｐｍの範囲で回転させることができる。回転速度は各チャンバーおよび流路の形状、液体の物性、液体の移送や処理のタイミング等に応じて決定される。
　毛細管力が働く流路あるいはチャンバーの内面、ならびに、流路が接続しているチャンバーの接続部分近傍の内面は、親水処理が施されていてもよい。親水処理によって毛細管力が大きく働く。親水処理は、例えば、前述した内面に、非イオン系、カチオン系、アニオン系または両イオン系の界面活性剤を塗布したり、コロナ放電処理を行ったり、物理的な微細凹凸を設けるなどによって行うことができる（例えば、特開２００７－３３６１号公報を参照。）。第１流路１１１から第７流路１１７が、毛細管現象により内部液体を満たすことができる空間である場合、これら流路にも同様に親水性処理を施してもよい。
　第１保持チャンバー１０１、第２保持チャンバー１０２、第３保持チャンバー１０３、第１貯蔵チャンバー１０４、第２貯蔵チャンバー１０５、反応チャンバー１０６、メインチャンバー１０７および回収チャンバー１０８のそれぞれには少なくとも１つの空気孔１２２が設けられている。これにより、各チャンバー内が環境下の気圧に保たれ、毛細管現象およびサイフォンの原理によって各流路を移動し得る。また、第１貯蔵チャンバー１０４、第２貯蔵チャンバー１０５および反応チャンバー１０６には、洗浄溶液および基質溶液を注入するための開口１２３が設けられていてもよい。空気孔１２２は開口１２３を兼ねていてもよい。
　第１保持チャンバー１０１、第２保持チャンバー１０２、第３保持チャンバー１０３、第１貯蔵チャンバー１０４、第２貯蔵チャンバー１０５、反応チャンバー１０６、メインチャンバー１０７および回収チャンバー１０８のそれぞれの空間は、ベース基板１００ａ内に形成され、カバー基板１００ｂでベース基板１００ａを覆うことにより、それぞれの空間の上部および下部が形成される。つまり、これらの空間は基板１００’の内面によって規定されている。第１流路１１１、第２流路１１２、第３流路１１３、第４流路１１４、第５流路１１５、第６流路１１６および第７流路１１７もベース基板１００ａに形成されており、カバー基板１００ｂでベース基板１００ａを覆うことにより、これらの流路の空間の上部および下部が形成される。本実施形態では、ベース基板１００ａおよびカバー基板１００ｂがそれぞれ上面および下面を規定する。基板１００’は、例えば、アクリル、ポリカーボネート、ポリスチレン等の樹脂によって生成され得る。
　表１は、本実施形態の試料分析用基板１００において、試料分析開始時に導入される物質または液体と、最初に導入されるチャンバー、および、導入された物質または液体がメインチャンバーへ導入する順序の組み合わせを示している。表１に示す組み合わせは、例示する１つの組み合わせに過ぎず、チャンバーに導入する物質や液体およびメインチャンバー１０７への導入順序は表１に示される物質や順序に限られない。
　表１に示すように、磁性粒子固定化抗体３０５、抗原３０６を含む検体および標識抗体３０８が反応チャンバー１０６に導入され、複合体３１０が反応チャンバー１０６で生成する。本実施形態では、このうち、磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８はドライ化試薬１２５としてあらかじめ反応チャンバー１０６内に配置されている。また、第２貯蔵チャンバー１０５には基質溶液が導入される。第１貯蔵チャンバー１０４には洗浄液が導入される。以下において詳細に説明するように、第１貯蔵チャンバー１０４に保持される洗浄液は、反応チャンバー１０６を経由してメインチャンバー１０７へ導入される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　以下、主として図３Ｃから図３Ｈを参照しながら、前述した表に示すメインチャンバー１０７への導入順に従い、複合体３１０、洗浄溶液および基質溶液に関するチャンバーおよび流路を説明する。図３Ｃから図３Ｈにおいては、分かり易さのため、試料分析用基板１００の関連しないあるいは言及しない構造は図示していない。
　［反応チャンバー１０６]
　図３Ｃに示すように、反応チャンバー１０６が試料分析用基板１００に設けられている。反応チャンバー１０６は、図１を参照して説明したように、磁性粒子固定化抗体３０５と、抗原３０６を含む検体と、標識抗体３０８とを反応させて、複合体３１０を形成させる反応場である。
　本実施の形態では、反応チャンバー１０６は、第１部分１０６ｑと、第２部分１０６ｒとを含む。
　本実施形態では、第１部分１０６ｑと第２部分１０６ｒとは、概ね、回転軸１１を中心とする円周方向に配置されている。第１部分１０６ｑと第２部分１０６ｒとの間に、基板１００’の内面によって構成される壁部分１２６が位置している。壁部分１２６は、回転軸１１０側に凸形状を有しており、第１部分１０６ｑと、第２部分１０６ｒとを区切る。第１部分１０６ｑと第２部分１０６ｒとは壁部分１２６の最も回転軸１１０に近接する点１２６ｐと回転軸１１０とを結ぶ半径上の位置において、互いに接続している。
　第１部分１０６ｑは、非毛細管空間である第１領域１０６ｑｆと、毛細管空間である第２領域１０６ｑｅとを含む。第１領域１０６ｑｆと第２領域１０６ｑｅとは隣接して接続しており、互いの空間は連通している。第２領域１０６ｑｅは第１部分１０６ｑにおいて、壁部分１２６に沿う狭い幅の領域である。第２領域１０６ｑｅは、第１部分１０６ｑの側面のうち、最も回転軸１１０から遠くに位置する最外周側面１０６ｑａに接している。一方、第１領域１０６ｑｆは、検体を保持し得る十分な大きさの空間である。第１部分において、第１領域１０６ｑｆは第２領域１０６ｑｅよりも回転軸１１０に近接して位置している。
　第２部分１０６ｒは、非毛細管空間である第１領域１０６ｒｆと、毛細管空間である第２領域１０６ｒｅとを含む。第１領域１０６ｒｆと第２領域１０６ｒｅとは隣接して接続しており、互いの空間は連通している。第１領域１０６ｒｆは、第２部分１０６ｒを規定する側面のうち、回転軸１１０から最も遠くに位置する最外周側面１０６ｒａと対向した側面に沿って位置している。つまり、第１領域１０６ｒｆは第２領域１０６ｒｅよりも回転軸１１０に近接して位置している。
　第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆは第２部分１０６ｒの第１領域１０６ｒｆと接続しており、第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅは第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅと接続している。
　図３Ｃにおいて、破線で示すように、第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒは、壁部分１２６の回転軸から最も近い点１２６ｐと、回転軸１１０とを結ぶ線分を半径とする円弧１２６ａｒよりも遠い側に位置する部分それぞれ有する。具体的には、第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆの一部および第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅの一部は円弧１２６ａｒよりも外側に位置している。
　前述したように、反応チャンバー１０６において、非毛細管空間と毛細管空間とでは、それぞれの厚さが異なっている。
　本実施形態では、乾燥させた磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８を含むドライ化試薬１２５が第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅにあらかじめ保持されている。抗原３０６を含む検体溶液を含む液体は、試料分析開始時に、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに導入される。導入した液体が、第１部分１０６ｑにおいて、第２領域１０６ｑｅと接触すると、毛細管力によって、第２領域１０６ｑｅを満たし、更に第２部分の第２領域１０６ｒｅを満たす。これにより、液体とドライ化試薬１２５が接触し、ドライ化試薬１２５の磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８が液体へ溶出または分散する。その結果、液体中で、抗原３０６、磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８が混合され、複合体３１０が形成される。
　試料分析用基板１００がドライ化試薬１２５を備える場合には、ドライ化試薬１２５は、反応チャンバー１０６の毛細管空間（第２領域１０６ｒｅ）に保持されることが好ましい。反応チャンバー内における非毛細管空間中の液体は毛細管力により毛細管空間へ移動するがこの時液体に働く力は、試料分析用基板１００の回転による遠心力に比べて小さい。このため、ドライ化試薬１２５が非毛細管空間（第１領域１０６ｑｆ）に保持されると、ドライ化試薬１２５中の磁性粒子固定化抗体３０５のすべてが毛細管空間へ移動せず、非毛細管空間に留まる可能性があるからである。
　反応チャンバー１０６への抗原３０６を含む検体溶液、磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８の導入はこれに限らない。試料分析用基板１００は、ドライ化試薬１２５を備えておらず、試料分析開始時に、磁性粒子固定化抗体３０５、抗原３０６を含む検体および標識抗体３０８を反応チャンバーの第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに導入してもよい。あるいは、試料分析用基板１００は、例えば、磁性粒子固定化抗体３０５、抗原３０６を含む検体および標識抗体３０８のそれぞれを保持するチャンバーと、それぞれのチャンバーと反応チャンバー１０６とが連結する流路（例えば、毛細管路）を備えていてもよい。抗原３０６を含む検体および標識抗体３０８をそれぞれのチャンバーに量りとり、各チャンバーに注入された磁性粒子固定化抗体３０５、抗原３０６を含む検体および標識抗体３０８を反応チャンバー１０６に移送して反応チャンバー１０６中で混合し、複合体３１０を形成させてもよい。
　［第２流路１１２］
　反応チャンバー１０６内の複合体３１０を含む溶液は、第２流路１１２を介して、メインチャンバー１０７へ移送される。第２流路１１２は、開口１１２ｇおよび開口１１２ｈを有する。第２流路１１２の開口１１２ｇは、反応チャンバー１０６の第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅを規定する側面のうち、回転軸１１０から最も遠い側に位置する最外周側面１０６ｒａ、または、最外周側面１０６ｒａに隣接する隣接側面であって、最外周側面１０６ａとの接続部分を含む位置に設けられることが好ましい。反応チャンバー１０６中の液体をメインチャンバー１０７へ移送させるにあたり、反応チャンバー１０６中に液残りが生じることを抑制できるからである。図３Ｃは、開口１１２ｇが最外周側面１０６ａの一部に設けられた例を示している。
　第２流路１１２の開口１１２ｈは、開口１１２ｇよりも回転軸１１０に対して遠くに位置している。開口１１２ｈは、以下において説明するように、メインチャンバー１０７の側面に接続されている。開口１１２ｈが開口１１２ｇよりも回転軸１１０に対して遠い側に位置していることにより、試料分析用基板１００を回転させると、反応チャンバー１０６内の複合体３１０を含む溶液は、遠心力によって、第２流路１１２を介してメインチャンバー１０７へ移送される。第２流路１１２は、毛細管路であってもよいし、重力に移送が可能な流路であってもよい。
　[メインチャンバー１０７]
　図３Ｄに示すように、メインチャンバー１０７は、複合体３１０を含む溶液のＢ／Ｆ分離を行う場である。Ｂ／Ｆ分離のために、試料分析用基板１００は、基板１００’内に位置する磁石収納室１２０と磁石収納室１２０内に配置された磁石１２１を含む。
　磁石収納室１２０は、試料分析用基板１００内において、メインチャンバー１０７の空間に近接して位置している。より具体的には、磁石収納室１２０は、メインチャンバー１０７の複数の側面のうち、回転軸１１０から最も遠くに位置する最外周側面１０７ａに近接して配置されている。ただし、試料分析用基板１００における磁石収納室１２０は、メインチャンバー１０７の最外周側面１０７ａ以外の上面や下面に近接する位置に配置してもよい。すなわち、磁石収納室１２０に配置された磁石１２１によって、メインチャンバー１０７の壁面に磁性粒子を捕捉できれば、その位置は特に限定されない。磁石１２１はＢ／Ｆ分離に応じて取外しできるように構成されていてもよいし、基板１００’に磁石収納室１２０から着脱不能に取り付けられていてもよいし、試料分析装置２００側に設けるように構成されていてもよい。
　磁石１２１を着脱可能に構成した場合には、例えば、図３Ｅに示すように、基板１００’は、主面１００ｃに開口１２０ａを有する凹状の磁石収納室１２０を備えていてもよい。磁石収納室１２０は磁石１２１を収納可能な空間を有する。開口１２０ａから磁石収納室１２０に磁石１２１を挿入することにより、磁石１２１を基板１００’に装填することができる。磁石収納室１２０の開口１２０ａは、主面１００ｄに設けてもよいし、２つの主面１００ｃ、１００ｄの間に位置する側面に設けてもよい。
　磁石１２１を試料分析装置２００側に設ける場合には、例えば、試料分析装置２００のターンテーブル２０１ａに磁石１２１を備えた磁石ユニットを備えていてもよい。この場合、使用者が試料分析用基板１００をターンテーブル２０１ａ（磁石ユニット）の所定の位置に配置すると、メインチャンバー１０７の壁面に磁性粒子を捕捉できる位置に磁石１２１が配置される。磁石１２１を試料分析装置２００に設ける他の例として、例えば、試料分析装置２００は、磁石１２１および磁石１２１を移動させる駆動機構を備えていてもよい。この場合、試料分析用基板１００は磁石１２１を保持する収納室を備え、Ｂ／Ｆ分離に応じて、駆動機構が試料分析用基板１００の収納室に磁石１２１を挿入し、収納室内の磁石１２１を取り出してもよい。
　反応液が第２流路１１２を介して、メインチャンバー１０７へ移送されると、反応液中の複合体３１０および未反応の磁性粒子固定化抗体３０５（以下、これら両方を指す場合には、単に磁性粒子３１１と呼ぶ）は、最外周側面１０７ａに近接して配置された磁石１２１の磁力によって、最外周側面１０７ａ側に集まって捕捉される。
　メインチャンバー１０７の空間は第１領域１０７ｆおよび第１領域１０７ｆに隣接し、接続されている第２領域１０７ｅを含んでいてもよい。第１領域１０７ｆは重力によって液体が移動可能な非毛細管空間であり、第２領域１０７ｅは、毛細管力が働く毛細管空間である。このため、第１領域１０７ｆの厚さは、第２領域１０７ｅの厚さよりも大きく、第１領域１０７ｆは第２領域１０７ｅよりも大きな空間を有する。第１領域１０７ｆおよび第２領域１０７ｅの厚さは、具体的には流路の厚さとして説明した前述の範囲内の値である。
　第２領域１０７ｅは最外周側面１０７ａに接しており、第１領域１０７ｆの少なくとも一部は第２領域１０７ｅよりも回転軸１１０に近接していることが好ましい。また、第２流路１１２の開口１１７ｈは、第１領域１０７ｆに接している側面の１つに設けられている。
　メインチャンバー１０７内の液体は、第３流路１１３を介して回収チャンバー１０８へ移送される。以下において説明するように、第３流路１１３の開口１１３ｇは第２領域１０２ｅの空間と接続するように第２領域１０２ｅに接する側面に設けられる。
　メインチャンバー１０７において、第１領域１０７ｆは重力によって液体が移動可能な空間であるため、必要に応じた大きさの空間を確保することが可能である。また、第２領域１０７ｅは毛細管空間であるため、メインチャンバー１０７に保持される液体の一部で必ず第２領域１０７ｅが満たされる。このため、第３流路１１３が第２領域１０７ｅと接することにより、メインチャンバー１０７内の液体を余すことなく第３流路１１３を介して回収チャンバー１０８へ移送することができる。メインチャンバー１０７には、反応液の他洗浄液および基質溶液が導入されるため、メインチャンバー１０７がこれらの液体を保持する十分な空間を有すること、および、保持した液体を必要に応じて、回収チャンバー１０８へ確実に移送できることは、重要な特徴である。
　［第３流路１１３］
　第３流路１１３は開口１１３ｇおよび開口１１３ｈを有し、開口１１３ｇがメインチャンバー１０７に接続され、開口１１３ｈが回収チャンバー１０８に接続されている。
　第３流路１１３の開口１１３ｇは、メインチャンバー１０７の側面のうち、回転軸１１０から最も遠い側に位置する最外周側面１０７ａ、または、最外周側面１０７ａに隣接する隣接側面であって、最外周側面１０７ａとの接続部分を含む位置に設けられることが好ましい。図３Ｄには、開口１１３ｇが最外周側面１０７ａに隣接する隣接側面に設けられた例を示している。前述したように開口１１３ｇはメインチャンバー１０７の第２領域１０７ｅに接続している。
　第３流路１１３の開口１１３ｈは、開口１１３ｇよりも回転軸１１０に対して遠い側に位置している。また、開口１１３ｈは、回収チャンバー１０８の側面のうち、回転軸１１０に最も近い側に位置する最内周側面１０８ｂ、または、最内周側面１０８ｂに隣接する隣接側面であって、最内周側面１０８ｂに近接する位置に設けられることが好ましい。図３Ｄでは、開口１１３ｈは、最内周側面１０８ｂの一部に設けられている例を示している。
　第３流路１１３も毛細管現象によってメインチャンバー１０７に保持された液体を吸引することが可能である。第３流路１１３の厚さは、メインチャンバー１０７の第２領域１０７ｅの厚さよりも小さい。これにより、メインチャンバー１０７の第２領域１０７ｅよりも強い毛細管力を第３流路１１３に働かせることが可能であり、メインチャンバー１０７の第２領域１０７ｅの液体の一部は第３流路１１３へ吸引される。
　第３流路１１３は、更にサイフォンの原理によって、液体の移動を制御し得る。このために、サイフォン構造として、第３流路１１３は第１屈曲部１１３ｎおよび第２屈曲部１１３ｍを有している。第１屈曲部１１３ｎは回転軸１１０と反対側に凸形状を有し、第２屈曲部１１３ｍは回転軸１１０側に凸形状を有する。第１屈曲部１１３ｎは、第３流路１１３が接続するメインチャンバー１０７と回収チャンバー１０８のうち、回転軸１１０に近い側に位置するメインチャンバー１０７と、第２屈曲部１１３ｍとの間に位置している。
　ここでいうサイフォンの原理は、試料分析用基板１００の回転により液体にかかる遠心力と流路の毛細管力とのバランスによる送液制御を言う。
　例えば、第３流路１１３がサイフォン構造を有しない毛細管路である場合、試料分析用基板１００の回転による遠心力で、反応チャンバー１０６から第２流路１１２を介してメインチャンバー１０７へ移送される過程において、メインチャンバー１０７へ移送された液体は、第３流路１１３の毛細管力により第３流路１１３内に満たされる。この状態で、試料分析用基板１００の回転が継続していると、液体は、メインチャンバー１０７中に保持されず、第３流路１１３を介して回収チャンバー１０８に移送されてしまう。この時、試料分析用基板１００は、第３流路１１３の毛細管力よりも強い遠心力をかけることができる回転速度で回転している。
　一方、第３流路１１３がサイフォン構造を有していれば、反応チャンバー１０６からメインチャンバー１０７へ移送された液体は、第３流路１１３の毛細管力により、第３流路１１３中に液体が引き込まれる。しかし、試料分析用基板１００が継続して回転し、第３流路１１３の毛細管力よりも強い遠心力をかけることができる回転速度で回転していれば、液体にかかる毛細管力よりも遠心力の方が強いため、第３流路１１３内全てを液体で満たされることはない。すなわち、第３流路１１３は、回転軸１１０に対してメインチャンバー１０７に存在する液体の液面の距離と同じ高さまでしか液体で満たされない。
　また、試料分析用基板１００が、第３流路１１３の毛細管力よりも弱い遠心力をかける回転速度で回転している場合には、毛細管力によって第３流路１１３が液体で満たされ、毛細管力によってそれ以上液体が移動することはない。
　メインチャンバー１０７中の液体を回収チャンバー１０８へ移送したい場合には、試料分析用基板１００を、第３流路１１３の毛細管力以下の遠心力をかけることができる回転速度（回転停止も含む）で回転させることで、毛細管力により第３流路１１３の全てが液体で満たされる。その後、第３流路１１３の毛細管力よりも強い遠心力をかけることができる回転速度で試料分析用基板１００を回転させると、メインチャンバー１０７内の液体を、回収チャンバー１０８へ移送させることができる。
　したがって、第３流路１１３をサイフォン構造で構成することにより、反応液、洗浄液および基質溶液をいったんメインチャンバー１０７で保持することができ、メインチャンバー１０７において、Ｂ／Ｆ分離、磁性粒子の洗浄および基質溶液との反応を適切に行うことが可能となる。
　図３Ｄに示すように、第３流路１１３がサイフォン構造を備えるために、回転軸１１０と、回転軸１１０から遠くに位置する回収チャンバー１０８の最も回転軸１１０に近い最内周側面１０８ｂとの距離をＲ１とし、回転軸１１０から、第１屈曲部１１３ｎの最も回転軸１１０から遠い側に位置する点までの距離をＲ２とした場合、Ｒ１＞Ｒ２（条件１）を満たすことが好ましい。
　また、回転軸１１０と、回転軸１１０に近くに位置するメインチャンバー１０７に保持された液体が、遠心力によって、側面に偏って保持されている場合において、回転軸１１０から液体の液面までの距離をＲ４とし、回転軸１１０から、第２屈曲部１１３ｍの最も回転軸１１０に近い側に位置する点までの距離をＲ３とした場合、Ｒ４＞Ｒ３（条件２）を満たすことが好ましい。
　第３流路１１３が条件１、２を満たしていることによって、反応チャンバー１０６から反応液をメインチャンバー１０７へ移送させる場合に、試料分析用基板１００を第３流路１１３中の液体にかかる毛細管力よりも強い遠心力が働く回転速度で回転させると、メインチャンバー１０７へ移送された反応液または洗浄液がそのまま回収チャンバー１０８へ移送されるのを防止し得る。
　［回収チャンバー１０８］
　回収チャンバー１０８は、第３流路１１３を介してメインチャンバー１０７から移送される磁性粒子３１１以外の反応液および使用済みの洗浄液を貯蔵する。回収チャンバー１０８は、前述の反応液と洗浄回数に応じた合計の使用済み洗浄液との合計量よりも大きな容量の空間を有する。回収チャンバー１０８は液体を保持する主要な部分が、メインチャンバー１０７よりも回転軸１１０に対して遠くに位置していることが好ましい。
　［第１貯蔵チャンバー１０４］
　図３Ｆを参照する。第１貯蔵チャンバー１０４は、Ｂ/Ｆ分離の際の洗浄に用いる洗浄液を貯蔵する。以下において詳細に説明するように、本実施形態の試料分析システムでは、Ｂ／Ｆ分離の際、複合体３１０を複数回洗浄することができる。このため、第１貯蔵チャンバー１０４は、洗浄回数に応じた合計容量の洗浄液を保持し得る空間を有している。
　［第４流路１１４］
　第１貯蔵チャンバー１０４の洗浄液は、第４流路１１４を介して、第１保持チャンバー１０１へ移送される。第４流路１１４は、開口１１４ｇおよび開口１１４ｈを有する。第４流路１１４の開口１１４ｇは、第１貯蔵チャンバー１０４の側面のうち、回転軸１１０から最も遠い側に位置する最外周側面１０４ａ、または、最外周側面１０４ａに隣接する隣接側面であって、最外周側面１０４ａとの接続部分を含む位置に設けられることが好ましい。図３Ｆは、開口１１４ｇが最外周側面１０４ａと隣接側面との接続部分に設けられた例を示している。
　第４流路１１４の開口１１４ｈは、開口１１４ｇよりも回転軸１１０に対して遠い側に位置している。開口１１４ｈは、以下において説明するように、第１保持チャンバー１０１の側面に接続されている。開口１１４ｈが開口１１４ｇよりも回転軸１１０に対して遠い側に位置していることにより、試料分析用基板１００を回転させると、第１貯蔵チャンバー１０４内の洗浄液は、遠心力によって、第４流路１１４を介して第１保持チャンバー１０１へ移送される。第４流路１１４は、毛細管路であってもよいし、重力に移送が可能な流路であってもよい。
　［第１保持チャンバー１０１］
　第１保持チャンバー１０１は、第１貯蔵チャンバー１０４に貯蔵されていた全洗浄液を保持する。その後、メインチャンバー１０７で複合体３１０を洗浄するために、洗浄液の一部を反応チャンバー１０６へ移送させ、残りを保持する。一回の洗浄に用いる洗浄液の量は以下において説明するように、第１流路１１１によって秤量される。このため、第１保持チャンバー１０１は、第１流路１１１以上の容積を有しており、洗浄回数分の合計の洗浄液量以上の容積（例えば、２回の洗浄であれば第１流路１１１の２倍以上の容積、３回の洗浄であれば第１流路１１１の３倍以上の容積）を有している。
　第４流路１１４の開口１１４ｈは、第１保持チャンバー１０１の最外周側面１０３ａに対して、液体を保持する空間を挟んで対向する１つの内周側面に設けられている。
　［第１流路１１１］
　前述したように、第１流路１１１は、第１保持チャンバー１０１と反応チャンバー１０６とを接続している。このため、第１貯蔵チャンバー１０４に洗浄液が導入される場合、洗浄液は、いったん、反応チャンバー１０６へ移送され、その後、メインチャンバー１０７へ移送される。
　第１流路１１１は、第１部分１１１ｑおよび第１部分１１１ｑに接続された第２部分１１１ｒを含む。第２部分１１１ｒは毛細管路である。第１部分１１１ｑは開口１１１ｇを含み、第１保持チャンバー１０１と接続されている。第１保持チャンバー１０１の一部と第１流路１１１の一部とは、開口１１１ｇを挟んで概ね回転軸１１０を中心とする半径方向に位置している。第２部分１１１ｒは、第２開口１１１ｈを有し、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆと接続されている。第２開口１１１ｈは、第２流路１１２の開口１１２ｇよりも回転軸１１０に近接している。
　第１流路１１１の第１部分１１１ｑは、第１領域１１１ｑｅおよび第２領域１１１ｑｆを含む。第１部分１１１ｑは、本実施形態では、試料分析用基板１００の半径方向に対して斜めの方向に伸びる形状を有している。第２領域１１１ｑｆは、第１部分１１１ｑにおいて第１領域１１１ｑｅよりも回転軸１１０に近接して位置している。第１領域１１１ｑｅは毛細管空間であり、第２領域１１１ｑｆは毛細管現象により液体を満たすことができる毛細管空間ではない。例えば、第２領域１１１ｑｆの厚さは、第１領域１１１ｑｅの厚さよりも大きい。このため、第２領域１１ｑｆも液体で満たすことにより、量り取る洗浄液の量を大きくすることができる。
　第２領域１１１ｑｆには空気孔１２２が設けられており、第２領域１１１ｑｆは空気の移動を確保する気道としても機能する。具体的には、第２領域１１１ｑｆが設けられることによって、何等かの理由によって第１領域１１１ｑｅに保持された液体中に気泡が生じている場合に、気泡が第２領域１１１ｑｆへ移動し、液体中の気泡が排除されやすくなる。これによって、試料分析用基板１００を回転させた場合に、特に、第２部分１１１ｒに気泡が入り込み、液体の移動が妨げられるのを抑制することができる。
　以下において詳細に説明するように、第１保持チャンバー１０１に洗浄液が保持された状態で試料分析用基板１００の回転角度を洗浄液が開口１１６ｇに接触する位置に変更すると、第２領域１１６ｑｆを除く第１流路１１１中に毛細管現象により洗浄液で満たされる。この状態で第１流路１１１内の洗浄液にかかる毛細管力よりも強い遠心力がかかる回転速度で試料分析用基板１００を回転させる。この場合、図３Ｇに示すように、回転軸１１０に垂直な平面上において、回転軸１１０と位置ｚとを結ぶ直線ｄｂを基準として、第１保持チャンバー１０１へ移送される洗浄液と、第１流路１１１へ戻る洗浄液とに分かれる。基準位置ｚは、図３Ｇに示すように、第１保持チャンバー１０１の空間または第１流路１１１の空間よりも回転軸１１０に対して遠くに位置している２つの側面ｓ１、ｓ２であって、回転軸１１０を中心とする円弧ａｒの接線方向ｄｔよりも第１保持チャンバー１０１側に傾斜している面ｓ１と第２保持チャンバー側に傾斜している面ｓ２との境界位置によって定義される。これにより、１回分の洗浄液が秤量され、メインチャンバー１０７へ洗浄液が移送される。メインチャンバー１０７に移送された洗浄液は前述したように、第３流路１１３を介して回収チャンバー１０８へ移送される。
　［第２貯蔵チャンバー１０５］
　図３Ｈを参照する。第２貯蔵チャンバー１０５は、試料分析システムを用いた分析の開始時に基質溶液を貯蔵する。第２貯蔵チャンバー１０５の形状に特に制限はなく、任意の形状を有していてもよい。
　［第５流路１１５］
　第５流路１１５は、第２貯蔵チャンバー１０５と、第２保持チャンバー１０２とを接続している。第５流路１１５は、例えば、回転軸１１０を中心とする半径方向に伸びており、毛細管路によって構成されている。第５流路１１５は、開口１１５ｇおよび開口１１５ｈを有する。開口１１５ｇは、第２貯蔵チャンバー１０５の側面のうち、回転軸１１０から最も離れた最外周側面１０５ａ、または、最外周側面１０５ａに隣接する隣接側面であって、最外周側面１０５ａに近接する位置に設けられることが好ましい。本実施形態では、最外周側面１０５ａに開口１１５ｇが設けられている。開口１１５ｈは、第２保持チャンバー１０２に接続されている。
　［第２保持チャンバー１０２］
　第２保持チャンバー１０２は、試料分析システムを用いた分析の開始後、洗浄を含むＢ／Ｆ分離の間、第２貯蔵チャンバー１０５から移送された基質溶液を保持する。第２保持チャンバー１０２は、第２貯蔵チャンバー１０５より回転軸１１０から遠くに位置している。第２保持チャンバー１０２は、基質溶液を保持する空間を挟む、第１外周側面１０２ａ１および第２外周側面１０２ａ２と、第１内周側面１０２ｂ１および第２内周側面１０２ｂ２とを有する。第１外周側面１０２ａ１と第２外周側面１０２ａ２とは、半径方向に重なっておらず、また、第１外周側面１０２ａ１は第２外周側面１０２ａ２よりも回転軸１１０から遠くに位置している。第１内周側面１０２ｂ１と第２内周側面１０２ｂ２とは半径方向に重なっておらず、また、第１内周側面１０２ｂ１は第２内周側面１０２ｂ２よりも回転軸１１０から遠くに位置している。
　第２保持チャンバー１０２は、第１外周側面１０２ａ１および第１内周側面１０２ｂ１に隣接する隣接側面１０２ｃと、第２外周側面１０２ａ２および第２内周側面１０２ｂ２に隣接する隣接側面１０２ｄとをさらに有する。第２保持チャンバー１０２の空間は、隣接側面１０２ｃおよび隣接側面１０２ｄによって挟まれ、円周方向に伸びる形状を有している。
　以下において説明するように、本実施形態では、第６流路１１６の開口１１６ｇは、第１内周側面１０２ｂ１に設けられている。また、以下において詳述する第６流路１１６の開口１１６ｇは、隣接側面１０２ｄの第２内周側面１０２ｂ２との接続位置に隣接して位置している。つまり、第６流路１１６は隣接側面１０２ｄの回転軸１１０に近い側に設けられている。この構造により、第２保持チャンバー１０２の空間の大部分は、第６流路１１６の開口１１６ｈよりも回転軸１１０から離れて位置している。このため、試料分析用基板１００が種々の回転角度で保持される場合でも第２保持チャンバー１０２に保持された基質溶液が、第６流路１１６を介して第３保持チャンバー１０３へ移送されるのを抑制することができる。
　また、第１外周側面１０２ａ１が回転軸１１０から遠くに位置しており、第２保持チャンバー１０２の空間は、第１外周側面１０２ａ１に接して外周側に突出した凸形状部分１０２ｔを含む。よって、第２保持チャンバー１０２の空間の凸形状部分１０２ｔに基質溶液が保持されることにより、第２保持チャンバー１０２に保持された基質溶液の液面を第６流路１１６の開口１１１ｇから離間させることができ、より確実に第６流路１１６を介して第３保持チャンバー１０３へ移送されるのを抑制することができる。
　［第６流路１１６］
　第６流路１１６は、第２保持チャンバー１０２と第３保持チャンバー１０３とを接続している。第６流路１１６は、開口１１６ｇおよび開口１１６ｈを有し、開口１１６ｇは第２保持チャンバー１０２の隣接側面１０２ｄに設けられている。また、開口１１６ｈは、第３保持チャンバー１０３の側面の１つに設けられている。第６流路１１６は重力によって液体の移動が可能な流路である。
　［第３保持チャンバー１０３］
　第３保持チャンバー１０３は、第６流路１１６を介して第２保持チャンバー１０２から移送される基質溶液を保持する。第３保持チャンバー１０３は第２保持チャンバー１０２と周方向において隣接する第１部分１０３ｑおよび第７流路１１７と周方向に隣接する第２部分１０３ｒを含む。第１部分１０３ｑと第２部分１０３ｒとは半径方向に配置されている。また、第３保持チャンバー１０３は、第２保持チャンバー１０２の隣接側面１０１ｄに近接している。
　第３保持チャンバー１０３は、回転軸１１０から最も離れた最外周側面１０３ａと最外周側面１０３ａに隣接する第２隣接側面１０３ｃ２を有する。また、回転軸１１０に最も近接する最内周側面１０３ｂと最内周側面１０３ｂに隣接する第１隣接側面１０３ｃ１を有する。第３保持チャンバー１０３の空間に対して、第１隣接側面１０３ｃ１および第２隣接側面１０３ｃ２は同じ側、つまり、第２保持チャンバー１０２および第７流路１１７に面する側に配置されている。第１隣接側面１０３ｃ１および第２隣接側面１０３ｃ２の間には、凹部１０３ｓが形成されており、凹部１０３ｓによって、第１隣接側面１０３ｃ１および第２隣接側面１０３ｃ２は分離している。
　第３保持チャンバー１０３の第１部分１０３ｑは、最内周側面１０３ｂおよび第１隣接側面１０３ｃ１を含み、第２部分１０３ｒは、と最外周側面１０３ａおよび第２隣接側面１０３ｃ２を含む。
　第３保持チャンバー１０３の第１部分１０３ｑにおいて、第１隣接側面１０３ｃ１の、最内周側面１０３ｂに近接する位置に第６流路１１６の開口１１６ｈが設けられている。
　また、第２部分１０３ｒにおいて、第２隣接側面１０３ｃ２の、最外周側面１０３ａから離間した位置、より具体的には、回転軸１１０に最も近接する位置において、第７流路１１７の開口１１７ｇが設けられている。以下において説明するように、第７流路１１７が毛細管路である場合には、第２部分１０３ｒは、最外周側面１０３ａと第７流路１１７の開口１１７ｇが位置する部分とを接続する毛細管空間１０３ｒｅを備えていてもよい。この場合には、毛細管空間１０３ｒｅは、第２隣接側面１０３ｃ２に沿って位置していることが好ましい。
　［第７流路１１７］
　第７流路１１７は、第１部分１１７ｑおよび第２部分１１７ｒと、開口１１７ｇおよび開口１１７ｈとを有する。第１部分１１７ｑの一端と第２部分１１７ｒの一端とは互いに接続されている。第１部分１１７ｑの他端に開口１１７ｇが位置しており、前述したように、第３保持チャンバー１０３の第２隣接側面１０３ｃ２に接続されている。第２部分１１７ｒの他端に開口１１７ｈが位置しており、メインチャンバー１０７に接続されている。第２部分１１７ｒは毛細管路である。
　第１部分１１７ｑは、第１領域１１７ｑｅおよび第２領域１１７ｑｆを含む。第１部分１１７ｑは、本実施形態では、周方向に伸びる形状を有している。第２領域１１７ｑｆは、第１領域１１７ｑｅよりも回転軸１１０に近接して位置している。第１領域１１７ｑｅは毛細管空間であり、第２領域１１７ｑｆは毛細管現象により液体を満たすことができる毛細管空間ではない。例えば、第２領域１１７ｑｆの厚さは、第１領域１１７ｑｅの厚さよりも大きく、毛細管現象によって、第１領域１１７ｑｅが液体で満たされるとき、第２領域１１７ｑｆは液体で満たされない。第２領域１１７ｑｆには空気孔１２２が設けられている。また、第１領域１１７ｑｅの厚さは、第３保持チャンバー１０３の毛細管空間１０３ｒｅの厚さよりも小さいことが好ましい。これにより、第３保持チャンバー１０３の毛細管空間１０３ｒｅに保持された基質溶液を第７流路１１７は引き込むことができる。
　開口１１７ｇは、開口１１７ｈよりも回転軸１１０に近い側に位置している。第７流路１１７中の液体を実質的に全量、第３保持チャンバー１０３に移送させるには、第７流路１１７の各部は、回転軸１１０から開口１１７ｇと同じ位置または、回転軸１１０から開口１１７ｇよりも遠くに位置していることが好ましい。これにより、第７流路１１７に基質溶液が満たされた状態で基質溶液に第７流路１１７中の基質溶液にかかる毛細管力よりも強い遠心力が働くと、第７流路１１７内のすべての基質溶液がメインチャンバー１０７へ移送される。
　第１部分１１７ｑの第１領域１１７ｑｅと第２部分１１７ｒとの合計容量が分析に用いる基質溶液の量に相当し、毛細管力によってこれらの部分が基質溶液で満たされることにより、基質溶液の秤量が行われる。
　第１流路１１１と同様、第１部分１１７ｑの第２領域１１７ｑｆは、気道として機能する。何等かの理由によって、第１部分１１７ｑの第１領域１１７ｑｅに保持された基質溶液中に気泡が生じている場合に、気泡が第２領域１１７ｑｆへ移動し、基質溶液中の気泡が排除されやすくなる。これによって、試料分析用基板１００を回転させた場合に、特に、第２部分１１７ｒに気泡が入り込み、基質溶液の移動が妨げられるのを抑制することができる。
　第７流路１１７において第１部分１１７ｑの第１領域１１７ｑｅおよび第２部分１１７ｒは、毛細管空間および毛細管路である例を説明したが、これらの空間は、重力によって液体が移動する空間および流路であってもよい。
　（試料分析システム５０１の動作）
　試料分析システム５０１の動作を説明する。図４は、試料分析システム５０１の動作を示すフローチャートである。試料分析システム５０１を動作させるための、試料分析システム５０１の各部を制御する手順を規定したプログラムが、例えば制御回路２０５のメモリに記憶されており、演算器によるプログラムの実行により、以下の動作が実現する。以下の工程に先立ち、試料分析用基板１００を試料分析装置２００に装填し、試料分析用基板１００の原点を検出する。また、反応チャンバー１０６の第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅには、磁性粒子固定化抗体３０５および標識抗体３０８を含むドライ化試薬１２５があらかじめ保持されている。以下の手順において、試料分析用基板は、例えば、すべて時計回りで回転させる。ただし、試料分析用基板の回転方向は、時計回りに限られず、半時計回りであってもよい。
　［ステップＳ１１］
　まず、図５に示すように、洗浄液および基質溶液を第１貯蔵チャンバー１０４および第２貯蔵チャンバー１０５にそれぞれ導入する。基質溶液は、標識物質３０７との反応または標識物質３０７による触媒作用によって、発光、蛍光、あるいは、吸収波長の変化を生じる基質を含む。また、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑに検体溶液を導入する。検体は、シリンジなどによって反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑに注入してもよい。
　反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑに検体溶液が導入されると、検体溶液は、第１部分１０６ｑの非毛細管空間である第１領域１０６ｑｆおよび毛細管空間である第２領域１０６ｑｅを満たす。第２領域１０６ｑｅは、第２部分１０６ｒの毛細管空間である第２領域１０６ｒｅと接続されているため、図６に示すように、毛細管力によって、検体溶液はこれらの毛細管空間に吸引される。その結果、第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに位置していた検体溶液は、第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅへ移動する。
　これにより、ドライ化試薬１２５と検体溶液とが接触し、検体溶液中に磁性粒子固定化抗体３０が放出され、標識抗体３０８が検体溶液に溶出する。検体溶液中で、磁性粒子固定化抗体３０５と、検体中の抗原３０６と、標識抗体３０８とが抗原抗体反応により結合し、複合体３１０が生成する。検体溶液中への磁性粒子固定化抗体３０が放出および標識抗体３０８の溶出を促進するため、試料分析用基板１００を揺動させてもよい。この時点で第５流路１１５、第４流路１１４および第２流路１１２は、毛細管現象によって、それぞれ、基質溶液、洗浄液および複合体３１０を含む反応液で満たされている。
　［ステップＳ１２］
　複合体３１０が生成した後、試料分析用基板１００を回転させ、複合体３１０を含む反応液を反応チャンバー１０６の第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅからメインチャンバー１０７へ移動させる。前述したように第２流路１１２は、毛細管現象によって、反応液で満たされている。このため、反応チャンバー１０６の複合体３１０を含む反応液に、試料分析用基板１００の回転により第２流路１１２内の反応液にかかる毛細管力よりも強い遠心力が働くと、反応液はメインチャンバー１０７へ移送される。メインチャンバー１０７へ移送された反応液は、試料分析用基板１００が回転している状態では、続いて回収チャンバー１０８へ移送されることはない。前述したように第３流路１１３がサイフォンを構成しているため、遠心力に逆らって、液体が第３流路１１３を回転軸１１０に向かう方向へ移動しないからである。メインチャンバー１０７へ移送された複合体３１０を含む反応液のうち、磁性粒子３１１の多くは、磁石１２１の磁力により最外周側面１０７ａに捕捉される。
　試料分析用基板１００の回転速度は、回転による遠心力が生じることにより、反応液等の液体が重力によって移動せず、各毛細管路の毛細管力よりも強い遠心力をかけられるような速度が設定される。以下、遠心力を利用する回転には、この回転速度が設定される。また、遠心力を利用する回転の場合には、本実施形態では、試料分析用基板１００の回転方向は時計回りである。
　反応液の移動と同時に、洗浄液が第１貯蔵チャンバー１０４から第４流路１１４を通って、第１保持チャンバー１０１へ移送される。また、基質溶液が第２貯蔵チャンバー１０５から第５流路１１５を通って、第２保持チャンバー１０２へ移送される。
　洗浄液、基質溶液および反応液をそれぞれすべて第１保持チャンバー１０１、第２保持チャンバー１０２およびメインチャンバー１０７およびへ移送させた後、所定の第１の角度で試料分析用基板１００を停止させる。図７に示すように、所定の第１の角度とは、試料分析用基板１００において、第１保持チャンバー１０１へ移送された洗浄液が、第１流路１１１の開口１１１ｇを超えて、第１部分１１１ｑと接触せず、かつ、第２保持チャンバー１０２内の基質溶液が、第６流路１１６の開口１１６ｇとも接触せず、かつ、メインチャンバー１０７の反応液が第３流路１１３の開口１１３ｇと接触することができる角度である。この角度は、第２保持チャンバー１０２、メインチャンバー１０７および第１保持チャンバー１０１の形状や基板１００’内における位置、洗浄液、基質溶液および反応液の量、試料分析用基板１００の傾斜角度θ等に依存する。図７に示す例では、試料分析用基板１００と平行な平面に投影された試料分析システム５０１における重力方向（矢印で示す）が、試料分析用基板１００のδ１で示す角度範囲内にあればよい。
　メインチャンバー１０７内の反応液は、第３流路１１３の開口１１３ｇと接することにより、毛細管力により、第３流路１１３を満たす。
　［ステップＳ１３］
　試料分析用基板１００を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、メインチャンバー１０７内の反応液および磁性粒子３１１（複合体３１０および未反応の磁性粒子）に働く。この遠心力は、液体および複合体３１０がメインチャンバー１０７の最外周側面１０７ａ側へ移動するように働く。このため、磁性粒子３１１は、最外周側面１０７ａに押し付けられる。
　図８に示すように、遠心力を受けた反応液は第３流路１１３から排出され、回収チャンバー１０８へ移送される。遠心力および磁石１２１の吸引力の和によって、磁性粒子３１１は最外周側面１０７ａに強く押し付けられ、捕捉される。
　その結果、反応液のみが第３流路１１３から回収チャンバー１０８へ排出され、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。第１保持チャンバー１０１内の洗浄液は、回転による遠心力を受けるが、第１保持チャンバー１０１の最外周側面１０１ａに押し付けられるため、第１保持チャンバー１０１内にとどまる。第２保持チャンバー１０２内の基質溶液も回転による遠心力を受けるが、第１外周側面１０２ａ１に押し付けられるため、第２保持チャンバー１０２内にとどまる。
　反応液の回収チャンバー１０８への移送および基質溶液のメインチャンバー１０７への移送が完了した後、試料分析用基板１００の回転を停止させる。
　これにより、反応液と磁性粒子３１１とが分離される。具体的には、反応液は、回収チャンバー１０８へ移動し、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。試料分析用基板１００の回転が停止しても磁石１２１から受ける吸引力により、磁性粒子３１１は、最外周側面１０７ａに集まったままの状態を維持し得る。この時の停止角度は、第１の角度であってもよいし、次のステップの第２の角度であってもよく、他の角度であってもよい。
　［ステップＳ１４］
　図９に示すように、前のステップで第２の角度で停止させない場合には、試料分析用基板１００を少し回転させ、所定の第２の角度で停止させる。第２の角度は第１保持チャンバー１０１へ移送された洗浄液が、第１流路１１１の開口１１１ｇと接触する角度である。例えば図９に示す例では、試料分析用基板１００のδ２で示す角度範囲内に重力方向が位置する角度である。
　洗浄液は、開口１１１ｇを介して第１流路１１１の第１部分１１１ｑと接触すると、毛細管力によって、第１部分１１１ｑの第１領域１１１ｑｅ全体に吸い込まれ、第１流路１１１の第１部分１１１ｑおよび第２部分１１１ｒが洗浄液で満たされる。また、重力によって移動した洗浄液で、第２領域１１１ｑｆも満たされる。これにより、１回分の洗浄液が秤量される。
　第１流路１１１が確実に洗浄液で満たされるように、第２の角度を中心として、時計回りおよび反時計回りに交互に数度程度回転させる、つまり揺動させてもよい。第１流路１１１には毛細管力が働くため、このとき、第１流路１１１の第２部分１１１ｒからメインチャンバー１０７へ洗浄液が移動することはない。
　［ステップＳ１５］
　続いて、試料分析用基板１００を回転させる。回転による遠心力が第１流路１１１および第１保持チャンバー１０１内の洗浄液に働く。図３Ｇを参照して説明したように、直線ｄｂを基準として第１流路１１１側に位置する洗浄液は第１流路１１１を介して反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへ移動する。また、直線ｄｂを基準として第１保持チャンバー１０１側に位置する洗浄液は、遠心力によって、第１保持チャンバー１０１へ戻される。よって、図１０に示すように、第１流路１１１によって秤量された洗浄液だけが反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへ移送される。
　基質溶液は、遠心力によって、第２保持チャンバー１０２において、第１外周側面１０２ａ１に押し付けられる。このため、基質溶液は第２保持チャンバー１０２内にとどまる。同様に第１保持チャンバー１０１内の洗浄液も遠心力によって、第１保持チャンバー１０１において、最外周側面１０１ａに押し付けられる。このため、洗浄液は第１保持チャンバー１０１内にとどまる。
　第１流路１１１内の洗浄液が反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへすべて移動した後、図１１に示すように、所定の第３の角度で試料分析用基板１００を停止させる。第３の角度は、第１保持チャンバー１０１の洗浄液が、開口１１１ｇと接触しない角度である。例えば図１１に示す例では、試料分析用基板１００と平行な平面に投影された試料分析システム５０１における重力方向が、試料分析用基板１００上においてδ３で示す角度範囲内にあればよい。
　反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑに秤量された洗浄液が導入されると、洗浄液は、第１部分１０６ｑの非毛細管空間である第１領域１０６ｑｆおよび毛細管空間である第２領域１０６ｑｅを満たす。第２領域１０６ｑｅは、第２部分１０６ｒの毛細管空間である第２領域１０６ｒｅと接続されているため、毛細管力によって、洗浄液はこれらの毛細管空間に吸引される。その結果、第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに位置していた洗浄液は、第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅへ移動する。これにより、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒに残っていた反応溶液は、洗浄液と混ざる。つまり、洗浄液によって反応チャンバー１０６が洗浄される。
　反応チャンバー１０６内の洗浄液は、第２流路１１２の開口１１２ｇと接することによって、毛細管現象により、第２流路１１２を満たす。
　［ステップＳ１６］
　試料分析用基板１００を回転させ、洗浄液を反応チャンバー１０６の第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅからメインチャンバー１０７へ移動させる。第２流路１１２が、洗浄液で満たされているため、試料分析用基板１００の回転により、第２流路１１２内の洗浄液に、毛細管力よりも強い遠心力が働くと、洗浄液はメインチャンバー１０７へ移送される。これにより、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒに残っていた反応溶液は、洗浄液と一緒にメインチャンバー１０７へ移送される。また、メインチャンバー１０７内の磁性粒子３１１が洗浄液と接触し、１回目の洗浄が行われる。
　メインチャンバー１０７へ移送された洗浄液は、試料分析用基板１００が回転している状態では、続いて回収チャンバー１０８へ移送されることはない。第３流路１１３がサイフォンを構成しているため、遠心力に逆らって、洗浄液が第３流路１１３を回転軸１１０に向かう方向へ移動しないからである。第１保持チャンバー１０１内の洗浄液および第２保持チャンバー１０２内の基質溶液はそれぞれのチャンバー内に留まったままである。
　図１２に示すように、反応チャンバー１０６の洗浄液がメインチャンバー１０７へすべて移動した後、所定の第４の角度で試料分析用基板１００を停止させる。第４の角度は、第１保持チャンバー１０１の洗浄液が、開口１１１ｇと接触せず、かつ、メインチャンバー１０７へ移送された洗浄液が、第３流路１１３の開口１１３ｇと接することのできる角度である。例えば図１２に示す例では、試料分析用基板１００と平行な平面に投影された試料分析システム５０１における重力方向が、試料分析用基板１００上においてδ４で示す角度範囲内にあればよい。
　メインチャンバー１０７内の洗浄液は、第３流路１１３の開口１１３ｇと接することによって、毛細管現象により、第３流路１１３を満たす。
　［ステップＳ１７］
　試料分析用基板１００を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、メインチャンバー１０７内の洗浄液および磁性粒子３１１に働く。この遠心力は、洗浄液及び磁性粒子３１１がメインチャンバー１０７の最外周側面１０７ａ側へ移動するように働き、磁性粒子３１１は遠心力および磁石１２１による吸引力によって最外周側面１０７ａにおいて捕捉される。
　図１３に示すように、遠心力を受けた洗浄液は第３流路１１３から排出され、回収チャンバー１０８へ移送される。このため、洗浄液のみが第３流路１１３から排出され、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。第１保持チャンバー１０１内の洗浄液および第２保持チャンバー１０２の基質溶液は、それぞれ最外周側面１０１ａおよび第１外周側面１０２ａ１に押し付けられ、第１保持チャンバー１０１および第２保持チャンバー１０２内にとどまる。
　洗浄液の回収チャンバー１０８への移送が完了した後、試料分析用基板１００の回転を停止させる。これにより、洗浄液と磁性粒子３１１とが分離される。具体的には、洗浄液は、回収チャンバー１０８へ移動し、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。試料分析用基板１００の回転が停止しても磁石１２１から受ける吸引力により、磁性粒子３１１は、最外周側面１０７ａに集まったままの状態を維持し得る。この時の停止角度は、第４の角度であってもよいし、次のステップの第５の角度であってもよい。
　［ステップＳ１８］
　図１４に示すように、前のステップで第５の角度で停止させない場合には、試料分析用基板１００を少し回転させ、所定の第５の角度で停止させる。第５の角度は第１保持チャンバー１０１へ移送された洗浄液が、第１流路１１１の開口１１１ｇと接触する角度である。例えば図１４に示す例では、試料分析用基板１００のδ５で示す角度範囲内に重力方向が位置する角度である。ステップＳ４における第１保持チャンバー１０１内に残っている洗浄液の量が異なるため、角度範囲δ５は角度範囲δ２と異なり得る。
　洗浄液は、第１流路１１１の第１部分１１１ｑにおける毛細管力によって第１保持チャンバー１０１から第１流路１１１へ吸い込まれ、第１流路１１１の第１部分１１１ｑおよび第２部分１１１ｒが洗浄液で満たされる。これにより再度１回分の洗浄液が秤量される。
　第１流路１１１が確実に洗浄液で満たされるように、第５の角度を中心として、試料分析用基板１００を揺動させてもよい。第１流路１１１には毛細管力が働くため、このとき、第１流路１１１から反応チャンバー１０６へ洗浄液が移動することはない。
　［ステップＳ１９］
　続いて、試料分析用基板１００を回転させる。回転による遠心力が第１流路１１１および第１保持チャンバー１０１内の洗浄液に働く。１回目の洗浄と同様、図３Ｇに示す直線ｄｂを基準として第１流路１１１側に位置する洗浄液は第１流路１１１を介して反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへ移動する。また、直線ｄｂを基準として第１保持チャンバー１０１側に位置する洗浄液は、遠心力によって、第１保持チャンバー１０１へ戻される。よって、図１５に示すように、第１流路１１１によって秤量された洗浄液だけが反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへ移送される。
　基質溶液は、遠心力によって、第２保持チャンバー１０２において、第１外周側面１０２ａ１に押し付けられる。このため、基質溶液は第２保持チャンバー１０２内にとどまる。同様に第１保持チャンバー１０１内の洗浄液も遠心力によって、第１保持チャンバー１０１において、最外周側面１０１ａに押し付けられる。このため、洗浄液は第１保持チャンバー１０１内にとどまる。
　図１６に示すように、第１流路１１１内の洗浄液が反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑへすべて移動した後、所定の第６の角度で試料分析用基板１００を停止させる。第６の角度は、第１保持チャンバー１０１の洗浄液が、開口１１１ｇと接触しない角度である。例えば図１６に示す例では、試料分析用基板１００と平行な平面に投影された試料分析システム５０１における重力方向が、試料分析用基板１００上においてδ６で示す角度範囲内にあればよい。
　１回目の洗浄と同様、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑに秤量された洗浄液が導入されると、洗浄液は、第１部分１０６ｑの非毛細管空間である第１領域１０６ｑｆおよび毛細管空間である第２領域１０６ｑｅを満たす。第２領域１０６ｑｅは、第２部分１０６ｒの毛細管空間である第２領域１０６ｒｅと接続されているため、毛細管力によって、洗浄液はこれらの毛細管空間に吸引される。その結果、第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに位置していた洗浄液は、第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅへ移動する。これにより、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒに残っているかもしれない反応溶液は、洗浄液と混ざる。つまり、洗浄液によって反応チャンバー１０６が再度洗浄される。
　反応チャンバー１０６内の洗浄液は、第２流路１１２の開口１１２ｇと接することによって、毛細管現象により、第２流路１１２を満たす。
　［ステップＳ２０］
　１回目の洗浄と同様、試料分析用基板１００を回転させ、洗浄液を反応チャンバー１０６の第２部分１０６ｒの第２領域１０６ｒｅからメインチャンバー１０７へ移動させる。第２流路１１２が、洗浄液で満たされているため、試料分析用基板１００の回転により、第２流路１１２内の洗浄液に、毛細管力よりも強い遠心力が働くと、洗浄液はメインチャンバー１０７へ移送される。これにより、反応チャンバー１０６の第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒに残っているかもしれない反応溶液は、洗浄液と一緒にメインチャンバー１０７へ移送される。また、メインチャンバー１０７内の磁性粒子３１１が洗浄液と接触し、２回目の洗浄が行われる。
　メインチャンバー１０７へ移送された洗浄液は、前述したように試料分析用基板１００が回転している状態では、続いて回収チャンバー１０８へ移送されることはない。第１保持チャンバー１０１内の洗浄液および第２保持チャンバー１０２内の基質溶液はそれぞれのチャンバー内に留まったままである。
　図１７に示すように、反応チャンバー１０６の洗浄液がメインチャンバー１０７へすべて移動した後、所定の第７の角度で試料分析用基板１００を停止させる。第７の角度は、第１保持チャンバー１０１の洗浄液が、開口１１１ｇと接触せず、かつ、メインチャンバー１０７へ移送された洗浄液が、第３流路１１３の開口１１３ｇと接することのできる角度である。例えば図１７に示す例では、試料分析用基板１００と平行な平面に投影された試料分析システム５０１における重力方向が、試料分析用基板１００上においてδ７で示す角度範囲内にあればよい。
　メインチャンバー１０７内の洗浄液は、第３流路１１３の開口１１３ｇと接することによって、毛細管現象により、第３流路１１３を満たす。
　［ステップＳ２１］
　試料分析用基板１００を回転させる。回転にともない遠心力が発生し、メインチャンバー１０７内の洗浄液および磁性粒子３１１に働く。この遠心力は、洗浄液及び磁性粒子３１１がメインチャンバー１０７の最外周側面１０７ａ側へ移動するように働き、磁性粒子３１１は遠心力および磁石１２１による吸引力によって最外周側面１０７ａにおいて捕捉される。
　遠心力を受けた洗浄液は第３流路１１３から排出され、回収チャンバー１０８へ移送される。このため、洗浄液のみが第３流路１１３から排出され、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。第１保持チャンバー１０１内の洗浄液は、最外周側面１０３ａに押し付けられ、第１保持チャンバー１０１内にとどまる。基質溶液も第１外周側面１０２ａ１に押し付けられ、第２保持チャンバー１０２内にとどまる。
　洗浄液の回収チャンバー１０８への移送が完了した後、試料分析用基板１００の回転を停止させる。これにより、図１８に示すように、洗浄液と磁性粒子３１１とが分離される。具体的には、洗浄液は、回収チャンバー１０８へ移動し、磁性粒子３１１はメインチャンバー１０７にとどまる。試料分析用基板１００の回転が停止しても磁石１２１から受ける吸引力により、磁性粒子３１１は、最外周側面１０７ａに集まったままの状態を維持し得る。この時の停止角度は、第７の角度であってもよいし、次のステップの第８の角度であってもよい。以上の工程によりＢ／Ｆ分離および洗浄が完了する。
　［ステップＳ２２］
　基質溶液をまず第２保持チャンバー１０２から第３保持チャンバー１０３へ移動させる。図１９に示すように、前のステップで第８の角度で停止させない場合には、試料分析用基板１００を少し回転させ、所定の第８の角度で停止させる。この時、試料分析用基板１００は、時計回りに回転させる。第８の角度は第２保持チャンバー１０２内の基質溶液が第６流路１１６の開口１１６ｇと接触し、かつ、基質溶液の全量が重力によって第３保持チャンバー１０３へ移動し得る角度である。概ね第６流路１１６が重力方向に沿って配置される角度である。これにより、第２保持チャンバー１０２内の基質溶液が第３保持チャンバー１０３へ移送される。
　次に図２０に示すように、試料分析用基板１００を時計回りに回転させ、第３保持チャンバー１０３内において、基質溶液が第２部分１０３ｒの毛細管空間１０３ｒｅと接触する所定の第９の角度で停止させる。毛細管空間１０３ｒｅと基質溶液との接触により、毛細管空間１０３ｒｅに基質溶液が吸引される。図２１に示すように、毛細管空間１０３ｒｅを満たした基質溶液は、毛細管力によって、開口１１７ｇから第７流路１１７に吸い込まれ、第７流路の第１部分１１７ｑの第１領域１１７ｑｅおよび第２部分１１７ｒが基質溶液で満たされる。これにより、基質溶液が秤量される。
　第７流路１１７が確実に基質溶液で満たされるように、第９の角度を中心として、時計回りおよび反時計回りに交互に数度程度回転させる、つまり揺動させてもよい。第７流路１１７には毛細管力が働くため、このとき、第７流路１１７の第２部分１１２ｒからメインチャンバー１０７へ洗浄液が移動することはない。
　［ステップＳ２３］
　続いて、試料分析用基板１００を回転させる。回転による遠心力が第７流路１１７および第１保持チャンバー１０１内の洗浄液に働く。第７流路１１７内の基質溶液は、遠心力によって、メインチャンバー１０７へ移動する。開口１１２ｇよりも第３保持チャンバー１０３側に位置している基質溶液は、遠心力によって、第３保持チャンバー１０３の最外周側面１０２ａへ押し付けられ、第３保持チャンバー１０３内に留まる。
　メインチャンバー１０７へ移動した基質溶液には基質が含まれている。この基質は、メインチャンバー１０７に保持されている磁性粒子３１１中の標識抗体３０８に含まれる標識物質３０７と反応し、あるいは、標識物質３０７の触媒反応によって、発光、蛍光あるいは吸収波長の変化を生じる。
　基質溶液のメインチャンバー１０７への移送が完了した後、図２２に示すように、試料分析用基板１００の回転を第１０の角度で停止させる。第１０の角度は、光学測定ユニット２０７の受光素子が、メインチャンバー１０７と近接する等、メインチャンバー１０７内の基質の発光、蛍光あるいは吸収波長の変化が検出できるように、メインチャンバー１０７が光学測定ユニット２０７に対して所定の位置関係で配置される角度である。
　［ステップＳ２４］
　光学測定ユニット２０７は、メインチャンバー１０７に保持された液体の光学的測定を行う。具体的には、光学測定ユニット２０７は、磁性粒子３１１に含まれる複合体３１０に結合した標識抗体３０８の標識物質３０７に応じた基質の色素、発光、蛍光等のシグナルを検出する。これにより、抗原３０６の検出、抗原３０６の濃度の定量等を行うことができる。
　光学測定ユニット２０７による光学的測定は、試料分析用基板１００を回転させた状態で行ってもよい。この場合、ステップＳ２１において、基質溶液のメインチャンバー１０７への移送が完了した後、試料分析用基板１００を回転した状態で、基質の色素、発光、蛍光等のシグナルを検出してもよい。
　このように本実施形態によれば、洗浄液を保持する第１保持チャンバー１０１は第１流路１１１によって、反応チャンバー１０６に接続されており、第１流路１１１によって秤量された洗浄液は、反応チャンバー１０６を介して洗浄すべき複合体３１０が保持されたメインチャンバー１０７へ移送される。したがって、反応チャンバー１０６に反応液が残っている場合でも、洗浄液によって洗浄することが可能となり、残っていた反応液が複合体３１０を保持しているチャンバーに移送され、基質溶液と反応することにより、検体の測定に誤差が生じるのを抑制することができる。よって、精度の高い検体の検出の分析を行うことができる。
　また、本実施形態によれば、Ｂ／Ｆ分離及び洗浄工程中、基質溶液が保持される第１保持チャンバーは１０１、円周方向に伸びる形状の空間を有し、かつ最外周側面に隣接する２つの隣接側面のうち、反応チャンバー１０６、洗浄液を保持する第１保持チャンバー１０１およびメインチャンバー１０７に近接する隣接側面と対向し、これらからより遠くに位置する隣接側面であって、回転軸１１０に近接する側に第６流路１１６の開口が設けられている。このため、種々の角度で試料分析用基板１００を回転させても、基質溶液が第６流路１１６の開口１１１ｇに接しにくく、基質溶液が第３保持チャンバー１０３へ移送されるのを抑制することができる。
　（試料分析用基板１００の他の形態例）
　上記実施形態の試料分析用基板１００には種々の改変が可能である。
　［反応チャンバー１０６の他の例］
　上記実施形態において、反応チャンバー１０６は、第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒを有していたが、第１部分１０６ｑはなくてもよい。
　図２３Ａに示す試料分析用基板１６１において、反応チャンバー１０６’は第２部分の第２領域１０６ｒｅ’のみを有している。第１流路１１１の第２部分１１１ｒは、反応チャンバー１０６’の最外周側面１０６ｒａに対向し、回転軸１１０に最も近接する最内周側面１０６ｒｂに接続されている。第２領域１０６ｒｅ’にはドライ化試薬１２５が保持されている。第２領域１０６ｒｅ’は毛細管空間であってもよいし、非毛細管空間であってもよい。また、ドライ化試薬１２５が第２領域１０６ｒｅ’に保持されていなくてもよい。この場合、磁性粒子固定化抗体３０５および標識物質３０７は検体溶液と一緒に反応チャンバー１０６’に導入してもよいし、別のチャンバーからこれらを移送させてもよい。
　このような構造の反応チャンバー１０６’を備えている場合でも、洗浄液が反応チャンバー１０６’を介してメインチャンバー１０７へ移送されるため、洗浄液によって反応チャンバー１０６’を洗浄する効果を得ることができる。この構成の場合、試料分析システム５０１の前述した動作のうち、ステップＳ１６、および、ステップＳ２０を省略することができる。また、第２流路１１２は毛細管力による移送が可能な流路であってもよいし、重力による移送が可能な流路であってもよい。
　また、図２３Ｂに示す試料分析用基板１６２において、反応チャンバー１０６’’は第２部分の第１領域１０６ｒｆ’と第２領域１０６ｒｅ’とを有しており、第１部分を有していない。第１領域１０６ｒｆ’は非毛細管空間であり、第２領域１０６ｒｅ’は毛細管空間である。図２３Ｂに示す例では、ドライ化試薬１２５が第２領域１０６ｒｅ’に配置されている。しかし、ドライ化試薬１２５は備えていなくてもよい。
　このような構造の反応チャンバー１０６’’を備えている場合でも、洗浄液が反応チャンバー１０６’’を介してメインチャンバー１０７へ移送されるため、洗浄液によって反応チャンバー１０６’’を洗浄する効果を得ることができる。この構成の場合、試料分析システム５０１の前述した動作のうち、ステップＳ１６、および、ステップ２０を省略することができる。また、第２流路１１２は毛細管力による移送が可能な流路であってもよいし、重力による移送が可能な流路であってもよい。
　［第１流路１１１の他の例］
　上記実施形態において、第１流路１１１は、洗浄液を秤量することができる毛細管空間を有していたが、第１流路は秤量する機能を備えていなくてもよい。
　図２４Ａに示す試料分析用基板１６３は、第１流路２１１が重力による液体の移送が可能な流路である点で、試料分析用基板１００と異なる。
　第１流路２１１が秤量する機能を備えていない場合、試料分析用基板１６３の回転角度を制御することによって、第１保持チャンバー１０１から第１流路２１１へ流れる洗浄液の量を制御し、複数回に分けて洗浄液を反応チャンバー１０６へ移送することができる。
　第１保持チャンバー１０１は回転軸１１０から最も遠い最外周側面１０１ａおよび、最外周側面１０１ａに隣接する隣接側面１０１ｃを有し、最外周側面１０１ａおよび隣接側面１０１ｃによって、回転軸１１０側に開口を有する凹部の空間を形成している。第１流路２１１は開口２１１ｇおよび開口２１１ｈを有する重力による液体の移送が可能な流路であり、開口２１１ｇは隣接側面１０１ｃの回転軸１１０に近い側の位置に設けられている。第１流路２１１の開口２１１ｈは反応チャンバーの第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆに接続されている。
　前述したように、第１保持チャンバー１０１内に保持された洗浄液が開口２１１ｇに接する角度で試料分析用基板１６３を保持した場合、重力によって洗浄液が第１流路２１１へ流れはじめ、洗浄液の移動によって洗浄液の表面が後退し、開口２１１ｇに一致する位置するまで洗浄液が移送される。したがって、試料分析用基板１６３を保持する角度位置を異ならせることによって、複数回洗浄液を反応チャンバー１０６へ移送させることができる。
　図２４Ｂに示す試料分析用基板１６４および図２４Ｃに示す試料分析用基板１６５は、試料分析用基板１６３のさらに変形例であり、図２３Ａで示した反応チャンバー１０６’および図２３Ｂで示した反応チャンバー１０６’’を備えている点で、試料分析用基板１６３とは異なる。これらの試料分析用基板であっても、前述した反応チャンバーを洗浄する効果を得ることができる。
　第１流路は毛細管力により液体を移送可能な流路であってもよい。図２５Ａから図２５Ｃに示す試料分析用基板１６６、１６７、１６８は、図２４Ａから図２４Ｃの試料分析用基板１６３、１６４、１６５の第１流路２１１に替えて、毛細管力により液体を移送可能な第１流路２１１’を備えている。この場合、第１流路２１１’はサイフォンを構成していることが好ましい。サイフォン構造を有していることによって、反応チャンバー中に保持された反応液をメインチャンバーへ移送させる際、第１貯蔵チャンバー１０４から第１保持チャンバー１０１へ移送された洗浄液が、そのまま第１流路２１１’を介して反応チャンバーへ移送されるのを防ぐことができる。
　この構成によれば、試料分析用基板の回転による遠心力によって第１保持チャンバー１０１から反応チャンバー１０６、１０６’、１０６’’へ洗浄液を移送させる。このため、洗浄液を複数回に分けて反応チャンバー１０６、１０６’、１０６’’へ移送することは難しい。
　［第１保持チャンバーおよび第１流路の他の例］
　上記実施形態では、第１流路１１１によって洗浄液を秤量していたが、第１保持チャンバーによって洗浄液を秤量してもよい。図２６に示す試料分析用基板１６９は、第１部分１３３ｑと、第２部分１３３ｒと、第２部分１３３ｒおよび第１部分１３３ｑとを接続する連結部分１３３ｐとを含む第１保持チャンバー１３３を備える。
　本実施形態では、第２部分１３３ｒと第１部分１３３ｑの一部とは、概ね、回転軸１１０を中心とする円周方向に配置されている。第２部分１３３ｒと第１部分１３３ｑとの間に、基板１００’の内面によって構成される壁部分１００ｆが位置している。壁部分１００ｆは、第２部分１３３ｒと第１部分１３３ｑを区切る。連結部分１３３ｐは基板１００’の壁部分１００ｆと同じ半径方向上に位置し、かつ、壁部分１００ｆよりも回転軸１１０側に位置している。連結部分１３３ｐは、毛細管現象によって液体で満たされることはなく、重力によって第１部分１３３ｑと第２部分１３３ｒとの間で液体を移動させる。
　第２部分１３３ｒは、回転軸１１０を中心とし、回転軸１１０と壁部分１００ｆの回転軸に最も近い点１００ｅとを結ぶ線分を半径とする円弧ｃａよりも、外側に位置する（回転軸１１０から離れて位置する）部分１３３ｒｅを含む。この部分１３３ｒｅによって、１回の洗浄に使う所定の量の洗浄液を量り取ることができる。
　また、回転軸１１０から第２部分１３３ｒにおける第１流路１１１の開口１１１ｇまでの距離は、回転軸１１０から壁部分１００ｆの回転軸に最も近い点１００ｅまでの距離よりも長い。このため、部分１３３ｒｅによって量り取られた洗浄液は回転による遠心力によって第１流路１１１から反応チャンバー１０６へ移送させることができる。
　第１保持チャンバー１３３の第１部分１３３ｑは、側部１３３ｑｔと底部１３３ｑｓを含む。側部１３３ｑｔは、回転軸１１０を中心とする円周方向において、第１貯蔵チャンバー１０４の側方に位置している。底部１３３ｑｓは、第１貯蔵チャンバー１０４よりも回転軸１１０から遠くに位置している。また、第１部分１３３ｑの、側部１３３ｑｔの一部および底部１３３ｑｓの全体は、第２部分１３３ｒよりも回転軸１１０から遠くに位置している。
　側部１３３ｑｔは、好ましくは、円弧ｃａよりも回転軸１１０側に位置する部分１３３ｑｔ’および外側に位置する部分１３３ｑｔ’’を含む。部分１３３ｑｔ’は、前述したように、第１部分１３３ｑと円周方向に隣接しており、連結部分１３３ｐと接続している。
　第１保持チャンバー１３３の第１部分１３３ｑのうち、円弧ｃａよりも外側（回転軸１１０から遠く）に位置する部分、つまり、部分１３３ｑｔ’’と底部１３３ｑｓとの合計の容積は、第１貯蔵チャンバー１０４に保持される洗浄液の全量よりも大きいことが好ましい。
　第１保持チャンバー１３３の空間が底部１３３ｑｓを含むことで、試料分析用基板１６９が所定の角度で停止されている状態では、第１貯蔵チャンバー１０４に貯蔵されていた洗浄液の一部が毛細管現象により第４流路１１４を満たす。そして、第４流路１１４に洗浄液が満たされた状態で試料分析用基板１６９を回転させることで、その遠心力によって第１貯蔵チャンバー１０４中の洗浄液は第４流路１１４を介して底部１３３ｑｓへ移送される。
　試料分析用基板１６９が所定の角度で保持されると、重力によって、第１保持チャンバー１３３の底部１３３ｑｓへ移送された洗浄液の一部が連結部分１３３ｐを通って第２部分１３３ｒへ流れ、第２部分１３３ｒの少なくとも一部を満たす。その後、試料分析用基板１００を回転させると、第２部分１３３ｒを満たしている洗浄液に遠心力が働き、回転軸１１０と、壁部分１００ｆの回転軸１１０に最も近い点１００ｅとを結ぶ線分を半径とする円弧ｃａ（図２６中、破線で示している）と、第２部分１３３ｒの洗浄液の液面とが一致するように、第２部分１３３ｒに保持されていた洗浄液のうち、余分な量が第１部分１３３ｑへ戻される。これによって、洗浄液の所定量が量り取られる。第２部分１３３ｒの、回転軸１１０と、壁部分１００ｆの回転軸１１０に最も近い点１００ｅとを結ぶ線分を半径とする円弧ｃａより外側に位置する部分の容積は、第１保持チャンバー１３３の容積の１／２以下である。
　図２６では第１部分１３３ｑとして、側部１３３ｑｔの一部および底部１３３ｑｓを含む構成を示したが、第１部分１３３ｑは、回転軸１１０を中心とし、回転軸１１０と壁部分１００ｆの回転軸１１０に最も近い点とを結ぶ線分を半径とする円弧よりも外側に位置する部分を含めばよい。
　第１保持チャンバー１３３において、一定量が量り取られた洗浄液は、毛細管現象により第１流路１１１を満たし、その後、試料分析用基板１６９を第１流路１１１内部の液体にかかる毛細管力よりも大きい遠心力をかけることができる回転数で回転させることで、その遠心力により第１流路１１１を通ってメインチャンバー１０７へ移送される。
　図２６に示す試料分析用基板１６９は図３Ｂ等に示す反応チャンバー１０６を備えているが、図２３Ａおよび図２３Ｂに示す反応チャンバー１０６’または１０６’’を備えていてもよい。
　［洗浄液を保持するチャンバーの他の例］
　上記実施形態では、複数回分の洗浄液を第１保持チャンバー１０１が保持していたが、１回分の洗浄液を保持する複数のチャンバーを備えていてもよい。
　図２７に示す試料分析用基板１７０は、第１貯蔵チャンバー１０４Ａ、第３貯蔵チャンバー１０４Ｂ、第４流路１１４Ａ、第８流路１１４Ｂ、第１保持チャンバー１０１Ａ、第４保持チャンバー１０１Ｂ、第１流路１１１Ａおよび第１０流路１１１Ｂを備える。
　第１貯蔵チャンバー１０４Ａ、第４流路１１４Ａ、第１保持チャンバー１０１Ａおよび第１流路１１１Ａと、第３貯蔵チャンバー１０４Ｂ、第８流路１１４Ｂ、第４保持チャンバー１０１Ｂおよび第１０流路１１１Ｂとは、独立した１回分の洗浄液の保持し、反応チャンバー１０６へ移送する経路を構成している。
　第４流路１１４Ａおよび第８流路１１４Ｂは、第１貯蔵チャンバー１０４Ａおよび第３貯蔵チャンバー１０４Ｂと第１保持チャンバー１０１Ａおよび第４保持チャンバー１０１Ｂとをそれぞれ接続し、第１流路１１１Ａおよび第１０流路１１１Ｂは、第１保持チャンバー１０１Ａおよび第４保持チャンバー１０１Ｂと反応チャンバー１０６とを接続している。
　第４流路１１４Ａおよび第８流路１１４Ｂは毛細管路であり、サイフォン構造を備えている。一方、第１流路１１１Ａおよび第１０流路１１１Ｂは重力によって液体を移送することができる構造を有している。また、第１保持チャンバー１０１Ａおよび第１流路１１１Ａは、それぞれ第１貯蔵チャンバー１０４Ａおよび第３貯蔵チャンバー１０４Ｂよりも回転軸１１０から遠くに位置している。第１流路１１１Ａおよび第１０流路１１１Ｂは、重力によって液体を移送することが可能である。
　第１保持チャンバー１０１Ａは、最外周側面１０１Ａａおよび最外周側面に隣接する隣接側面１０１Ａｃを有する。最外周側面１０１Ａａと隣接側面１０１Ａｃとの間に角（稜）を滑らかにするためのテーパー面、曲面等が設けられていてもよい。隣接側面１０１Ａｃの両端のうち、最外周側面１０１Ａａが位置していない端に第１流路１１１Ａの開口１１１Ａｇが配置されている。最外周側面１０１Ａａおよび隣接側面１０１Ａｃによって、回転軸１１０側に開口を有する凹部が形成され１回分の洗浄液が保持される。
　同様に、第４保持チャンバー１０１Ｂは、最外周側面１０１Ｂａおよび最外周側面に隣接する隣接側面１０１Ｂｃを有する。最外周側面１０１Ｂａと隣接側面１０１Ｂｃとの間に角（稜）を滑らかにするためのテーパー面、曲面等が設けられていてもよい。隣接側面１０１Ｂｃの両端のうち、最外周側面１０１Ｂａが位置していない端に第１０流路１１１Ｂの開口１１１Ｂｇが配置されている。最外周側面１０１Ｂａおよび隣接側面１０１Ｂｃによって、回転軸１１０側に開口を有する凹部が形成され１回分の洗浄液が保持される。
　図２７に示すように、反応チャンバー１０６の中心と回転軸１１０を結ぶ直線で分けられる２つの領域の同じ一方に第１保持チャンバー１０１Ａ、第４保持チャンバー１０１Ｂは位置している。
　第１保持チャンバー１０１Ａの凹部および第４保持チャンバー１０１Ｂの凹部が液体を保持し得るように、試料分析用基板１７０の回転軸１１０が重力方向に対して０°より大きく９０°以下の角度で傾斜するように支持する。また、反応チャンバー１０６７が重力方向において、第１保持チャンバー１０１Ａ、第４保持チャンバー１０１Ｂよりも下方に位置するように、試料分析用基板１７０を所定の回転角度で保持する。この場合、第１保持チャンバー１０１Ａの隣接側面１０１Ａｃと第４保持チャンバー１０１Ｂの隣接側面１０１Ｂｃとが回転軸１１０に平行な方向から見て非平行であることによって、いずれか一方のチャンバーから保持されている洗浄液の全量が、重力によって反応チャンバー１０６へ移送されても、他方のチャンバーは洗浄液の少なくとも一部を保持し得る。このため、試料分析用基板１７０の回転角度を適切に選択することにより、第１保持チャンバー１０１Ａ、第４保持チャンバー１０１Ｂから、異なるタイミングで選択的に洗浄液を反応チャンバー１０６へ移送することができる。
　図２７に示される例では、回転軸１１０に平行な方向から見て、反応チャンバー１０６の中心と回転軸１１０を結ぶ直線に対して隣接側面１０１Ａｃがなす角度αは、隣接側面１０１Ｂｃがなす角度βよりも大きい。このため、第１保持チャンバー１０１Ａ、第４保持チャンバー１０１Ｂが重力方向において反応チャンバー１０６よりも下方に位置するような試料分析用基板１７０の回転角度（図２７に示すＰ１が６時の方向に一致する回転角度）から反時計方向に試料分析用基板１７０を回転させた場合、先に隣接側面１０１Ａｃが重力方向に直交する方向と平行(水平方向)になることによって、第１保持チャンバー１０１Ａ内の洗浄液の全量を選択的に反応チャンバー１０６へ移送させることができ、その後、第４保持チャンバー１０１Ｂに保持された洗浄液を選択的にメインチャンバー１０７へ移送させることができる。
　［反応チャンバーの他の例］
　図３Ｃ等を参照して説明した試料分析用基板１００の反応チャンバー１０６は、第１部分１０６ｑおよび第２部分１０６ｒのそれぞれが、毛細管空間と非毛細管空間を有していた。反応チャンバーにおける毛細管空間と非毛細管空間はこれに限られず、種々の変形が可能である。
　図２８Ａに示すように、例えば、反応チャンバーは、第１領域１０６ｑｆのみを有する第１部分１０６ｑと、第１領域１０６ｒｆおよび第２領域１０６ｒｅを有する第２部分１０６ｒを含んでいてもよい。つまり、図３Ｃ等に示す反応チャンバー１０６において、第１部分１０６ｑの第２領域１０６ｑｅはなくてもよい。この場合、第２部分１０６ｒは、第１領域１０６ｒｆが第２領域１０６ｒｅよりも回転軸１１０に近接して位置しており、第１領域１０６ｒｆが第１部分１０６ｑの第１領域１０６ｑｆと接続している。第１領域１０６ｑｆおよび第１領域１０６ｒｆが非毛細管空間であり、第２領域０６ｒｅが毛細管空間である。
　また図２８Ｂに示すように、第２部分１０６ｒは、第１領域１０６ｒｆを含んでいなくてもよい。この場合、第２部分１０６ｒは毛細管空間である第２領域１０６ｒｅのみによって構成され、第２領域１０６ｒｅは、第１部分１０６ｑの第２領域１０６ｑｅと接続されている。第１部分１０６ｑにおける第２領域１０６ｑｅは、壁部分１２６の周囲に加えて、壁部分１２６より回転軸１１０側に位置し、第２部分１０６ｒと接続される１０６ｓを含んでいてもよい。
　また、図２８Ｄに示すように、第１部分１０６ｑは非毛細管空間である第１領域１０６ｑｆのみを含み、第２部分１０６ｒは毛細管空間である第２領域１０６ｒｅのみを含んでいてもよい。この場合、壁部分１２６の最も回転軸１１０に近接する点１２６ｐと回転軸１１０とを結ぶ半径上の位置において、第１部分１０６ｑと第２部分１０６ｒとの境界（接続部分）が位置する。
　更に、図２８Ｅに示すように、反応チャンバーは第１部分を有していなくてもよい。この場合、第１部分１０６ｑは、第１領域１０６ｑｆおよび第２領域１０６ｑｅを含み、第１領域１０６ｑｆが第２領域１０６ｑｅよりも回転軸１１０に近接して位置していてもよい。
　［その他の変形例］
　本実施形態では、磁性粒子を用いた測定系を想定した説明を行ったが、本願の一態様に係る試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、磁性粒子を用いた測定系に限定されるものではない。例えば、１次抗体が固定化される対象は、磁性粒子に替えて、チャンバー内の壁面であってもよい。すなわち、チャンバーがポリスチレンやポリカーボネートといった素材で構成されている場合には、チャンバー内の壁面に物理吸着により１次抗体を固定化させることができ、チャンバー内で抗原や標識抗体とのサンドイッチ型の結合反応をせしめることができる。また、チャンバー内の壁面に１次抗体と結合可能な官能基（例えば、アミノ基やカルボキシル基）を有し、化学結合により１次抗体を固定化させることができ、チャンバー内で抗原や標識抗体とのサンドイッチ型の結合反応をせしめることができる。また、チャンバー内の壁面に金属基板を備える構成であれば、例えば、ＳＡＭを用いて１次抗体を金属基板に結合して固定化させることができ、チャンバー内で抗原や標識抗体とのサンドイッチ型の結合反応をせしめることができる。一次抗体をチャンバー壁面に物理吸着または化学結合で固定化させる場合は、主に色素、化学発光または蛍光のシグナルを検出する系に使用される。一方、一次抗体を金属基板に固定化させる場合は、シグナルとして、主に電気化学的シグナル（例えば、電流）、電気化学発光のシグナルを検出する系に使用される。この場合、図３Ｂに示した磁石１２１は不要である。また、複合体３１０形成の反応場は反応チャンバー１０６ではなく、メインチャンバー１０７になる。したがって、一次抗体は、メインチャンバー１０７の壁面に固定化する必要がある。
　また、本開示の試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、非競合法（サンドイッチイムノアッセイ法）だけでなく、競合法、ハイブリダイゼーションによる遺伝子検出法にも適用可能である。
　上記実施形態では、Ｂ／Ｆ分離の洗浄の例を説明したが、本実施形態の試料分析用基板、試料分析装置及び試料分析システムは、洗浄液以外の溶液を、前述したように複数回に分けて同じチャンバーへ導入する種々の試料分析方法へ適用可能である。また、上記実施形態では、液体のチャンバーへの導入を続けて行っているが、試料分析用基板の回転および停止の制御と、停止時の角度の制御を適切に行うことにより、間に他の工程を含めることも可能である。
　また、上記実施形態では２回洗浄を行っているが、必要に応じて３回以上行ってもよい。
　本願に開示された試料分析用基板、試料分析装置、試料分析システムおよび試料分析システム用プログラムは、種々の反応を利用した検体中の特定成分の分析に適用可能である。
１００　　　　試料分析用基板
１００' 基板
１００ａ　　　ベース基板
１００ｂ　　　カバー基板
１００ｃ、１００ｄ　　　主面
１００ｆ　　　壁部分
１０１、１０１Ａ　　第１保持チャンバー
１０１Ｂ　　　第４保持チャンバー
１０１ａ、１０２ａ　　　最外周側面
１０１ｃ、１０１ｄ　　　隣接側面
１０２　　　　第２保持チャンバー
１０３　　　　第３保持チャンバー
１０４　　　　第１貯蔵チャンバー
１０５　　　　第２貯蔵チャンバー
１０６　　　　メインチャンバー
１０６ｑ　　　第１部分
１０６ｑａ　　最外周側面
１０６ｑｅ　　第２領域
１０６ｑｆ　　第１領域
１０６ｒ　　　第２部分
１０６ｒａ　　最外周側面
１０６ｒｂ　　最内周側面
１０６ｒｅ　　第２領域
１０６ｒｆ　　第１領域
１０７　　　　メインチャンバー
１０８　　　　回収チャンバー
１１０　　　　回転軸
１１１　　　　第１流路
１１２　　　　第２流路
１１３　　　　第３流路
１１４　　　　第４流路
１１５　　　　第５流路
１１６　　　　第６流路
１１７　　　　第７流路
１２０　　　　磁石収納室
１２１　　　　磁石
１２２　　　　空気孔
１２３　　　　開口
１２５　　　　ドライ化試薬
１２６　　　　壁部分
１６１～１６９　　　　試料分析用基板
２００　　　　試料分析装置
２０１　　　　モータ
２０１ａ　　　ターンテーブル
２０３　　　　原点検出器
２０３ａ　　　光源
２０３ｂ　　　受光素子
２０３ｃ　　　原点検出回路
２０４　　　　回転角度検出回路
２０５　　　　制御回路
２０６　　　　駆動回路
２０７　　　　光学測定ユニット
２１０　　　　マーカ
２１０ａ　　　エッジ
２１０ｂ　　　エッジ
３０２　　　　磁性粒子
３０４　　　　一次抗体
３０５　　　　磁性粒子固定化抗体
３０６　　　　抗原
３０７　　　　標識物質
３０８　　　　標識抗体
３１０　　　　複合体
３１１　　　　磁性粒子
５０１　　　　試料分析システム

Claims (20)

  1. 　回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、
    　回転軸を有する基板と、
    　前記基板内に位置し、第１液体を保持するための第１空間を有する第１保持チャンバーと、
    　前記基板内に位置し、検体を含む液体試料を保持するための空間を有する反応チャンバーと、
    　前記基板内に位置しており、第１開口および第２開口を有する第１流路であって、前記第１開口および前記第２開口がそれぞれ前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに接続された第１流路と、
    　前記基板内に位置し、前記検体を含む液体試料および表面にリガンドが固定された磁性粒子を保持するための空間を有するメインチャンバーと、
    　前記基板内に位置しており、第３開口および第４開口を有する第２流路であって、前記第３開口および前記第４開口がそれぞれ前記反応チャンバーおよび前記メインチャンバーに接続された第２流路と、
    　前記基板内に位置し、磁石を収納することが可能な磁石収納室と、
    を備え、
    　前記第１開口は、前記第２開口よりも前記回転軸に近い側に位置し、
    　前記第２開口は、前記第３開口よりも前記回転軸に近い側に位置し、
    　前記磁石収納室は、前記磁石収納室に磁石が収納された場合、前記磁石によって前記メインチャンバー中の前記磁性粒子を前記メインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されている、
    　試料分析用基板。
  2. 　前記反応チャンバーの空間内に配置された、ドライ化試薬をさらに備え、
    　前記ドライ化試薬は、前記磁性粒子を含む、請求項１に記載の試料分析用基板。
  3. 　前記反応チャンバーは、非毛細管空間を含む、請求項１または２に記載の試料分析用基板。
  4. 　前記反応チャンバーは、毛細管空間を含む、請求項１または２に記載の試料分析用基板。
  5. 　前記反応チャンバーは、非毛細管空間および毛細管空間を含み、
    　前記非毛細管空間に前記第１開口が接しており、
    　前記毛細管空間に前記第３開口が接している、
    　請求項１または２に記載の試料分析用基板。
  6. 　前記非毛細管空間は、前記毛細管空間よりも回転軸に近接して位置する部分を有する、請求項５に記載の試料分析用基板。
  7. 　前記前記反応チャンバーは第１部分および第２部分を含み、
    　前記基板は前記反応チャンバーの前記第１部分と前記第２部分との間に位置する壁部分を有し、
    　前記壁部分は、前記回転軸に向かう方向に凸部を形成し、
    　前記第１部分および前記第２部分において、前記壁部分の前記回転軸から最も近い点と、前記回転軸とを結ぶ線分を半径とする円弧よりも遠い側に前記毛細管空間の一部および前記非毛細管空間の一部がそれぞれ位置する、
    請求項５に記載の試料分析用基板。
  8. 　前記第１部分側に位置する前記壁部分の一部又は全部には、前記第１部分と前記第２部分を接続する前記毛細管空間の一部が位置している、
    　請求項７に記載の試料分析用基板。
  9. 　前記基板内に位置しており、空間を有する回収チャンバーと、
    　前記基板内に位置しており、第５開口および第６開口を有する第３流路であって、前記第５開口および前記第６開口がそれぞれ前記メインチャンバーおよび前記回収チャンバーに接続された第３流路と、
    をさらに備え、
    　前記第５開口は前記第６開口よりも前記回転軸に近接して位置する、
    請求項１から８のいずれかに記載の試料分析用基板。
  10. 　前記第１流路は、非毛細管路である、請求項１から９のいずれかに記載の試料分析用基板。
  11. 　前記第１保持チャンバーは、前記回転軸から最も離れて位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面とを有し、
    　前記最外周側面と前記隣接側面とで凹部を形成し、
    　前記試料分析用基板を所定の角度位置で保持した場合に、前記凹部で前記第１液体を保持する、請求項１０に記載の試料分析用基板。
  12. 　前記第１流路は、毛細管路である、請求項１から１１のいずれかに記載の試料分析用基板。
  13. 前記第１流路は、サイフォン構造を有する請求項１２に記載の試料分析用基板。
  14. 　前記第１流路の一部は、前記第１開口を挟んで前記第１保持チャンバーの一部よりも前記回転軸に近接して位置している、請求項１２に記載の試料分析用基板。
  15. 　前記第１保持チャンバーの空間は、第１部分および第２部分と、前記第１部分および前記第２部分の間に位置しており前記第１部分および前記第２部分を連結する連結部分とを有し、
    　前記基板は、前記第１保持チャンバーの前記空間の前記第１部分および前記第２部分を区切る壁部分を有し、
    　前記反応チャンバーは前記第１保持チャンバーの前記第２部分よりも前記回転軸から遠くに位置し、
    　前記第１保持チャンバーの前記空間の前記連結部分は、前記基板の前記壁部分よりも前記回転軸側に位置し、
    　前記第１流路は、前記第１保持チャンバーの前記空間の前記第２部分と接続されている、請求項１２に記載の試料分析用基板。
  16. 　前記基板内に位置し、第２液体を保持するための空間を有する第４保持チャンバーと、
    　前記４保持チャンバーと前記反応チャンバーとを接続し、前記第２液体を移送する第８流路と、
    　前記第１保持チャンバーは、前記回転軸から最も遠くに位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面と、前記最外周側面および前記隣接側面とで形成される凹部とを有し、
    　前記第４保持チャンバーは、前記回転軸から最も遠くに位置する最外周側面と、前記最外周側面に隣接する隣接側面と、前記最外周側面および前記隣接側面とで形成される凹部とを有し、前記第１保持チャンバーの前記隣接側面と前記第４保持チャンバーの隣接側面とは、前記回転軸に平行な方向からみて非平行である、
    請求項１から１４のいずれかに記載の試料分析用基板。
  17. 　請求項１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板と、
    　前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
    　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
    　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
    　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
    を有する試料分析装置と、
    を備えた試料分析システムであって、
    　前記プログラムは、
    　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
    （ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
    （ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
    （ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
    試料分析システム。
  18. 　請求項１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板を回転軸回りに回転させるモータ、
    　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
    　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
    　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
    を備え、
    　前記プログラムは、
    　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
    （ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
    （ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
    （ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
    試料分析装置。
  19. 　請求項１から１６のいずれかに記載の試料分析用基板と、
    　前記試料分析用基板を前記回転軸周りに回転させるモータ、
    　前記モータの回転軸の回転角度を検出する回転角度検出回路、
    　前記回転角度検出回路の検出結果に基づき、前記モータの回転および停止時の回転角度を制御する駆動回路、および
    　演算器、メモリおよびメモリに記憶され、前記演算器に実行可能なように構成されたプログラムを含み、前記プログラムに基づき、前記モータ、前記回転角度検出回路および前記駆動回路の動作を制御する制御回路
    を有する試料分析装置と、
    を備えた試料分析システム用のプログラムであって、
    　前記第１保持チャンバーおよび関反応チャンバーに前記第１液体および前記液体試料が導入された試料分析用基板が前記試料分析装置に装填された場合において、
    （ａ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記反応チャンバーの前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送させ、
    （ｂ）前記試料分析用基板を回転させることによって、前記工程（ａ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を前記反応チャンバーへ移送させ、
    （ｃ）前記試料分析用基板を回転させることにより、反応チャンバーの前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送させる、
    試料分析システム用プログラム。
  20. 　回転運動によって、液体の移送を行う試料分析用基板であって、
    　回転軸を有する基板と、
    　前記基板内に位置し、第１液体を保持するための第１空間を有する第１保持チャンバーと、
    　前記基板内に位置し、アナライトを含む液体試料を保持するための空間を有する反応チャンバーと、
    　前記基板内に位置しており、第１開口および第２開口を有する第１流路であって、前記第１開口および前記第２開口がそれぞれ前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに接続された第１流路と、
    　前記基板内に位置し、前記アナライトを含む液体試料および表面にリガンドが固定された磁性粒子を保持するための空間を有するメインチャンバーと、
    　前記基板内に位置しており、第３開口および第４開口を有する第２流路であって、前記第３開口および前記第４開口がそれぞれ前記反応チャンバーおよび前記メインチャンバーに接続された第２流路と、
    　前記基板内に位置し、磁石を収納することが可能な磁石収納室と、
    を備え、
    　前記第１開口は、前記第２開口よりも回転軸に近い側に位置し、
    　前記第２開口は、前記第３開口よりも回転軸に近い側に位置し、
    　前記磁石収納室は、前記磁石収納室に磁石が収納された場合、前記磁石によって前記メインチャンバー中の前記磁性粒子を前記メインチャンバー内に捕捉することができる位置に配置されている試料分析用基板を用いた送液方法であって、
    （ａ）前記第１保持チャンバーおよび前記反応チャンバーに第１液体および液体試料をそれぞれ導入し、
    （ｂ）前記反応チャンバー中の前記液体試料を前記メインチャンバーへ移送し、
    （ｃ）前記工程（ｂ）の後に、前記第１保持チャンバーの前記第１液体を、前記反応チャンバーへ移送し、
    （ｄ）前記反応チャンバー中の前記第１液体を、前記メインチャンバーへ移送する、
    試料分析用基板の使用方法。
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