WO2005075193A1

WO2005075193A1 - 積層体及びその製造方法

Info

Publication number: WO2005075193A1
Application number: PCT/JP2005/001873
Authority: WO
Inventors: Junji Momoda; Shinobu Izumi; Naoto Takahashi
Original assignee: Tokuyama Corporation
Priority date: 2004-02-03
Filing date: 2005-02-02
Publication date: 2005-08-18
Also published as: US7441893B2; HUE042515T2; AU2005210427B9; AU2005210427A1; EP1714778A4; AU2005210427B2; ES2707808T3; EP1714778A1; EP1714778B1; US20070127133A1

Abstract

本発明のフォトクロミック積層体は、少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトクロミック表層部を有する光学基板と、該光学基板のフォトクロミック表層部上に形成された厚さが０．１～１００μｍの紫外線吸収膜とからなり、該紫外線吸収膜は、３６０ｎｍの光線透過率が５０％以上であり且つ３２０ｎｍの光線透過率が１０％以下であることを特徴とする。この積層体においては、発色濃度の低下を生じることなく、フォトクロミック化合物の酸化劣化が有効に防止されており、フォトクロミック耐久性が極めて高い。

Description

明細書積層体及びその製造方法

<技術分野 >

本発明は、フォトク口ミック眼鏡レンズ等のフォトク口ミック性を有する光学物品として好適な積層体に関する。

<背景技術 >

フォトク口ミズムとは、ある化合物に太陽光あるいは水銀灯の光のような紫外線を含む光を照射すると速やかに色が変わり、光の照射をやめて暗所におくと元の色に戻る可逆作用のことであり、様々な用途に応用されている。

例えば、眼鏡レンズの分野においてもフォトクロミズムが応用されており、上記のような性質を有する各種フォトク口ミック化合物を添加することによリフォ卜クロミック性を付与したプラスチックレンズが得られている。フォトク口ミツク化合物としてはフルギミド化合物、スピロォキサジン化合物、クロメン化合物等が見出されている。

フォトクロミック性を有するプラスチックレンズの製法としては、

(i)フォトク口ミック性を有しないレンズの表面にフォトク口ミック化合物を含浸させる方法（含浸法）；

(i i )モノマーにフォトクロミック化合物を溶解させそれを重合させることによリ直接フォトクロミックレンズを得る方法（練り混み法）；

(i i i )レンズ表面にフォトク口ミック性を有するコーティング層を設ける方法 (コーティング法）：

が提案されている。

これら方法で製造されるフォトク口ミックプラスチックレンズのフォトクロミック特性は、フォトクロミック化合物のマトリックスとなる樹脂（或いは原料モノマー組成物）の性質に密接に関係しており、これを利用してフォトクロミック特性を向上させるためにこれまで多くの検討がなされている。例えば、レンズ基材のガラス転移温度（T g ) を下げ、フォトクロ分子の運動を高分子中でも動きやすくする、又はマトリクス樹脂の原料モノマーとして特定の長鎖のア^^キレングリコールジメタクリレートと 3個以上のラジカル重合性基を有する多官能メタクリレー卜とを組み合わせたものを使用して高分子中の自由空間を広げてフォトク口分子の動きをしやすくする、などの手段を採用して発色濃度や退色速度といつたフォトクロミック特性が比較的良好なフォトクロミックレンズを得ることに成功している（後記先行技術 1参照）。

ところ力フォトクロミックプラスチックレンズにおいては、製法や用いるマトリックス樹脂の種類によリ程度の差はあるが、フォトクロミック化合物の光酸化による劣化に起因する耐久性の点に問題がある。例えば、先行技術 1 に示される方法においては、レンズ基材の T gを下げて、フォトクロミック化合物の含浸性を向上させているため、レンズ基材の柔軟性があまリにも高くなリ、ぞの結果、酸素の透過性が高くなつてしまい、フォトクロミック化合物が光酸化によリ劣化し易くなつている。従って、この方法で得られたフォトクロミックレンズを長期に渡って使用すると、発色前からレンズ基材が黄変着色したり、或い発色濃度が低下したりしてしまう。このようなフォトクロミック化合物の劣化 ( 、基材となるプラスチックレンズを得るためのモノマー系ゃフォトク口ミック林^ I·を工夫することによりかなリ防止することができるが（後記先行技術 2参照）、更に改善の余地がある。また、上記のコーティング法により作製したフォトクロミックレンズにおいては、フォトク口ミック化合物を含むコーティング膜の軍みが数十ミクロンと薄いため、含浸法や練リ込み法によって得られるフォトクロミックレンズに比べて耐久性は更に低くなる傾向がある。

フォトク口ミックレンズの劣化を防止し、その耐久性を向上させるナニめの方法としては、フォトクロミックレンズの表面に有機系の紫外線吸収剤を含有するコ一ティング膜を設けることが提案されている（後記先行技術 3参照）。ここで、上記紫外線吸収剤としては、具体的にはべンゾフエノン系及びべンゾ卜リアゾール系紫外線吸収剤等を使用することが示されている。

先行技術 1 ：米国特許第 5 7 3 9 2 4 3号明細書

先行技術 2 ：国際公開第 0 1 0 5 8 5 4号パンフレツト

先行技術 3 ：米国特許第 6 5 4 7 3 9 0号明細書

しかしながら、上記先行技術 3に具体的に示されている紫外線吸収斉 IJを使用してフォトクロミックレンズの表面に紫外線吸 i|Jl性コーティング膜を設けた場合には、該紫外線吸収剤がフォトク口ミック化合物の励起に有効な波長の紫外線をも吸収してしまうため、レンズの発色濃度が低下するという問題があること; ^明らかとなつた。

また、先行技術 3では、アルコキシシラン Zシリカゲルからなるシリコーンコ一ティング剤（最も汎用的なコーティング剤である）に有機系紫外線吸収き ϋを添加し、このようなコーティング剤を用いて紫外線吸収性コーティング膜を形成している。しかるに、このようなコーティング剤を用いる場合には、硬化時 (二おける紫外線吸収剤の析出によリコーティング膜白濁し、レンズの品質が低下してしまうという問題がある。また、白濁の程度小さい場合においても、長期間使用していると、コーティング膜内部から紫外^吸収剤がプリ一ドアゥトしてしまい、フォトクロミック化合物の酸化劣化を防 JLする効果が徐々に低下し、十分な耐久性向上効果が得られないという問題がある。尚、硬化時における紫外線吸収剤の析出の問題は、紫外線吸収剤の添加量を' なくすれぱ改善されるが、光学特性の点で実用上問題の無いレベルのレンズをようとする場合には紫外線吸収剤の量をかなり少なくする必要があり、結局、フォトクロミック化合物の酸 ίヒ劣化を十分に抑制することが困難となリ、満足し i=る耐久性向上効果を得ることができない。

<発明の開示 >

従って、本発明の目的は、発色濃度の低下を生じることなく、フォトクロミツク化合物の酸化劣化が有効に防止され、フォ卜クロミック耐久性の高いフ才トク口ミック製品及びその製造法を提供すること【こある。

本発明の他の目的は、紫外線吸収剤の析出 ίこよる白濁が有効に防止され、レンズ等の光学基材の光学特性を低下させること ¾ く、紫外線吸収剤によるフ才トク口ミック化合物の酸化劣化防止が有効に行わるフォトクロミック製品及びその製造法を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、長期にわたって使用された場合にも紫外線吸収剤のブリードアゥ卜が有効に抑制され、安定して紫外線吸収剤によるフォトク口ミツク化合物の酸化劣化防止が有効に行われ、フ t トク口ミック耐久性の高いフォトクロミック製品及びその製造法を提供することにある。本発明によれば、少なくとも一方の表面にフォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトク口ミック表層部を有する光学基板と、該光学基板のフオトクロミック表層部上に形成された厚さが 0 . 1〜 1 0 0 mの紫外線吸収膜とからなり、該紫外線吸収膜は、 3 6 0 n mの光線透過率が 5 0 <½以上であリ且つ 3 2 0 n mの光線透過率が 1 0 %以下であることを特徴とする積層体（以下、フォトク口ミック積層体と呼ぶことがある）が提供される。

本発明のフォトク口ミック積層体においては、

( 1 ) 前記紫外線吸収膜の 5 6 0 n mの光線透過率が 8 5 %以上であること、

( 2 ) 前記紫外線吸収膜が、チタンを含有する無機酸化物を紫外線吸収剤として含むコーティング層であること、

が好ましい。

本発明によれば、また、上記のフォトクロミック積層体からなる光学物品が提供される。

上記のフォ卜クロミック積層体は、 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収する無機化合物のコロイド粒子を紫外線吸収剤として含有するシリコーン系コーティング剤を、前記光学基板のフォトクロミック表層部上に塗布し、これを硬化させて 0 . 1〜 1 0 0 mの厚みを有する紫外線吸収膜を形成することによって製造することができる。

また、上記のフォトクロミック積層体は、 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を含有する有機系コーティング剤を、前記光学基板のフオトクロミック表層部上に塗布し、これを硬化させて 0 . 1〜 1 0 0 mの厚みを有する紫外線吸収膜を形成することによつても製造することができる。

上記のフォトクロミック積層体は、さらに、 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を、フォトク口ミック表層部上に蒸着することにより膜厚 0 . "！〜 1 jU mの紫外線吸収膜を形成することによつても製造することがでさる。

上記何れの製造方法によっても、紫外線吸収膜は、フォトクロミック表層部上に直接形成することができるし、またはプライマー層や本発明の効果を員なわない態様であれば他の機能層を介してフォトクロミック表層部上に形成することもできる。

なお、フォトク口ミック積層体に形成される紫外線吸収膜の光線透過特性は、石英ガラス上に同一組成で同一の厚さの紫外線吸収膜を形成し、石英ガラスの反射を差し引いた各波長における光透過率を測定することにより容易に確認することができる。また、フォトクロミック積層体に形成されている紫外線吸収膜の光線透過特性を、該積層体を用いて直接的に測定するには、反射法を用 IAて、該紫外線吸収膜の特定波長の光吸収を測定す礼ばよい。例えば、分光光度 "! "に、 5 ° 正反射測定装置を取り付け、アルミニウムとの相対反射率を測定し、この相対反射率から紫外線吸収膜の吸収を算出することにより、各波長の光線透過率を求めることができる。

また、本明細書において、 3 2 0 n mの^長の紫外線を選択的に吸収するとは、 3 2 0 n mの波長の紫外線の吸収強度を 1 0 0 %とした時に、 3 6 0 n mの波長の紫外線の吸収強度が 8 0 %以下、好ましぐは 6 0 %以下であることを意味する。こうした 3 2 0 n mの波長の選択的な吸收能を有する紫外線吸収剤は、吸収の極大波長が 3 0 0〜3 3 0 n mにあるものにおいて達成されることが多し、。

本発明のフォ卜クロミック積層体におし、ては、フォトクロミック表層部上に形成される紫外線吸収膜が、 0 . 1 ~ 1 0 0 mの厚みを有しているとに、所定の光線透過特性を有しているため、光学基板の基本的な光学特性を低" Fさせることなく、フォトクロミック耐久性が向上している。即ち、この紫外線収膜は、 3 2 0 n mの光線透過率が 1 0 %以下で ¾>るため、フォトクロミック菱層部に存在しているフォ卜クロミック化合物の紫^線による酸化劣化を有効に! ^止でき、フォトクロミック耐久性を向上させ得るであるが、かかる紫外線吸膜は、同時に、 3 6 0 n mでの光線透過率が 5 0 %»以上に確保されているため、フォトク口ミック反応が該紫外線吸収膜によって隨害されず、例えば発色濃度 ( 低下を有効に回避されている。従って、本発明のフォトクロミック積層体は、紫外線吸収膜が形成されているにもかかわらず、光膜射してフォトクロミック化物を発色させたときの発色濃度が、紫外線吸収膜を有しない場合と同等レベル (二ある。また、本発明のフォトクロミック積層^は、先に述べたように、 3 2 O n mの紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を含むシリコーン系コーティング剤もしくは有機系コーティング剤をフォトクロミック表層部に塗布し硬化せしめることにより、或いは該紫外線吸収剤をフォトクロミック表層部に蒸着することにより製造されるが、このような方法で紫外線吸収膜を形成することにより、紫外線吸収剤の析出による白濁や紫外線吸収剤のブリードアウトによる紫外線吸収膜の性能低下（酸化防止効果の低下）を有効に防止することができる。即ち、紫外線吸収剤の析出やブリードアウトは、前述したように、シリコーン系コーティング剤に有機系の紫外線吸収剤を添加した場合に発生するものである。従って、本発明にしたがい、チタン含有の無機酸化物などの無機化合物のコロイド粒子力《紫外線吸収剤として添加されたシリコーン系コーティング剤や、紫外線吸収剤力《添加された有機系コーティング剤（炭化水素系重合性単量体を硬化性成分とするようなコーティング剤）を用いて紫外線吸収膜を形成した場合には、紫外線吸収剤の析出による白濁は発生せず、可視光の優れた光線透過率が良好に保持され（例えば

5 6 0 n mの光線透過率は 8 5 <½以上である）、且つ紫外線吸収剤のブりードアゥトも有効に抑制され、紫外線吸収膜の性能低下を回避することができるのである。勿論、蒸着により紫外線吸収膜を形成した場合にも、同様に、紫外線吸収剤の析出やブリードアゥトは防止できる。

また、本発明においては、前記シリコーン系コーティング剤を用いて形成された紫外線吸収膜は、酸素バリアー性にも優れているため、紫外線によるフォトク口ミック化合物の酸化劣化が著しく高く、最も好適である。

本発明のフォ卜クロミック積層体は、フォトク口ミックプラスチックレンズ等のフォトクロミック光学物品として好適に使用できる。

<発明を実施するための最良の形態 >

本発明のフォトクロミック積層体は、光学基板に形成されているフォ卜クロミック表層部上に、特定の厚みと特定の光線透過性とを有する紫外線吸収 B莫を形成させたものである。

[光学基板]

光学基板は、表裏 1対の主表面を有する透明な板状体を意味し、該板 4犬体は湾曲していてもよく、その厚さも必ずしも一定である必要は無い。また、この光学基板の少なくとも一方の表面には、フォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されるフォトクロミック表層部が形^されており、このフォトクロミック表層部の存在により、所定のフォトク口ミツク反応による色の可逆変化を有するものである。このようなフォトクロミック層部は、用途に応じて、所定开状の透明板状体の全表面に形成されていてもよしゝし、一方の表面の全面に形成されていてもよいし、或いは一方の表面に部分的に形成されていてもよい。さらには、光学基材の全体が、フォトクロミック化合翻が分散した樹脂で形成され、袠面のみならず、内部においてもフォトク口ミック反応が生じるように形成されていてもよい。

本発明のフォトクロミック積層体にける光学基板として好適に使用できるものとしては、含浸法、練り込み法或い Ifcコーティング法で製造されるフォトクロミックプラスチックレンズ；ガラス等 (?>透明基材にコーティング法と同様にしてフォトクロミック性を付与したフォトクロミック光学部品が例示される。

含浸法で製造されるフォトクロミックプラスチックレンズとしては、例えば米国特許第 5 7 3 9 2 4 3号明細書（前先行技術 1 ) に開示されているものが好適に使用できる。

また、練り込み法で製造されるフォトク口ミックプラスチックレンズとしては、国際公開第 0 1 0 5 8 5 4号パンフレット（前記先行技術 2 ) に開^されている硬化体が好適に使用できる。この硬 fc体は、（A) Lスケールロックウェル硬度が 4 0以下である重合性単量体、（BO Lスケールロックウェル硬度が 6 0以上である 3官能以上の多官能重合性単量体、（C ) Lスケールロックウェル硬度が 6 0以上である 2官能性重合性単量、及びフォトクロミック化合 lを含んでなる硬化性組成物を硬化することによリ得られ、 6 0以上の硬度を有するものである。尚、上記の重合性単量体の Lスールロックゥヱル硬度とは、この単量体を単独重合して得られる重合体の硬度意味する。

コーティング法で製造されるフォトケロミックプラスチックレンズいはフォトク口ミック光学部品としては、国際開第 0 3 Z 0 1 1 9 6 7号パンフレツトに開示されている硬化性組成物からな ¾コーティング剤を用いてフォ卜クロミックコート層（フォトクロミック表層部）を形成したものが好適である。尚、この硬化性組成物は、シラノール基またはカロ水分解によりシラノール基を成する基を有するラジカル重合性単量体を含有 ~るラジカル重合性単量体と、ミン化合物と、フォトクロミック化合物とを、夫々特定量含有してなるものであり、アミン化合物が配合されていない硬化性組成物^コ一ティング剤として好適に使用できる。

フォトク口ミック化合物としては、上記 ¾学基板の製造に使用される硬ィ匕性組成物において使用可能なフルギミド化合物、スピロォキサジン化合物、クロメン化合物等の公知のフオトクロミック化合物力制限無く使用することができる。上記のフルギミド化合物、スピロォキサン化合物およびクロメン化合物としては、例えば特開平 2— 2 8 1 5 4号公報、特開昭 6 2— 2 8 8 8 3 0号報、 WO 9 4 Z 2 2 8 5 0号明細書、 W O 9 6ノ 1 4 5 9 6号明細書などに記載されている化合物が使用できる。また、特開 2001 -1 14775号、特開 2001 - 031670号、特開 2001- 01 1067号、特開 2001 - 01 1066号、特鬭 2000-347346号、特開 2000- 344762号、特開 2000- 344761号、特開 2000- 327676号、特開 2000- 327675号、特開 2000- 256347 号、特開 2000-229976号、特開 2000- 229975号、特開 2000- 229974号、特開 2000- 229973 号、特開 2000-229972号、特開 2000- 21 9687号、特開 2000-219686号、特開 2000-21 9685 号、特開平 1 1- 322739号、特開平 1 1 - 286484号、特開平 1 1 - 2791 71号、特開平 10- 298176 号、特開平 09- 218301号、特開平 09- 124645号、特開平 08- 295690号、特開平 08-1 76139 号、特開平 08- 157467号等に記載されたフォ卜クロミック化合物も使用することができる。

本発明においては、上記で示されている種のフォトク口ミック化合物 <；)中でも、フォトクロミック特性の耐久性が高く、さらに発色濃度および退色速度が良好であるという点からクロメン化合物が好適である。また、これらクロメン化合物は、本発明における紫外線吸収膜の選定【こよる発色濃度の維持の効果が顕著に発揮されることからも、好適に使用される _Q

このようなクロメン化合物の具体例としては、国際公開 0 1 Z 6 0 8 1 1号パンフレツト、米国特許 6 3 4 0 7 6 5号、 :国特許 6 5 2 5 1 9 4号記載化合物を挙げることができるが、最も好適なク口メン化合物としては、次の一般式（1 ) で示されるクロメン化合物を例示できる。

で示される基は、置換もしくは非置換の芳香族炭化水素基、または置換もしくは非置換の不飽和複素環基であリ、

R ³、 R ⁴および R ⁵は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、ァラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シァノ基、置換もしくは非置換のァリール基、ハロゲン原子、ァラルキル基、ヒドロキシル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、窒素原子をへテロ原子として有し該窒素原子とピラン環もしくは前記式（2 ) で示される基の環とが結合する置換もしくは非置換の複素環基、または該複素環基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり、

oは 0〜6の整数であり、

R ¹および R ²は、それぞれ独立に、下記式（3 ) または下記式（4 ) で表される基、或いは、置換もしくは非置換のァリール基、置換もしくは非置換のへテロァリール基、またはアルキル基である。また、 R ¹と R ²とは一緒になって、脂肪族炭化水素環もしくは芳香族炭化水素環を構成していてもよい。

…

(式中、 R ⁶は、置換もしくは非置換のァリール基、または置換もしくは非置換のへテロァリール基であり、 R ⁷は、水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子であり、 pは"！〜 3の整数である。） -(-C≡C-)-R⁸ ...(4)

Ρ'

(式中、 R⁸は、置換もしくは非置換のァリール基、または置換もしくは非置換のへテロァリール基であり、 p' は 1〜3の整数である。）

なお、上記式（3) 、上記式（4) または上述の R \ および R²における置換ァリ一ル基または置換へテロアリール基が有する置 3 基としては、 R³〜R⁴と同義の基を挙げることができる。

上記式（1 ) で示されるクロメン化合物のなかでも、発色濃度、退色速度等のフォトクロミック特性および耐久性の点から、次の (5) 〜（1 0) で示される化合物が特に好適である。

式（5) において、

R⁹、 R¹°は、それぞれ、前記式（1 ) における R ¹および R²と同義であり、 R¹¹、 R¹²は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり、

qおよび q' はそれぞれ 1 ~ 2の整数である。

式（6) において、

R¹³、 R¹⁴は、前記式（1 ) における R¹¹および R¹²と同義であり

R¹⁵、 R¹⁶は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり、

Lは下記式、

， ~f"CH ' +P+ , 个 Rip— ,

(上記式中、 Pは、酸素原子または硫黄原子であり、 R¹⁷は、炭素数 1〜 6のァルキレン基であり、 s、 s' および s" は、いずれも 1〜4の整数である。）で示されるいずれかの基であり、

rおよびは各々独立に 1または 2である。

こおいて、

R¹⁹は、前記式（1 ) における R¹および R²と同義であり、 R²¹および R²²は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり、 Vは 1又は 2である。

式（8) において、

R²³、 R²⁴は、前記式（1 ) における R¹および R²と同義であり、

R²⁵および R²⁶は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり、

wおよび w' は各々独立に 1または 2である。

式（9) において、

R²⁷、 R²⁸は、前記式（1 ) における R¹およ t^R²と同義であり、

R²⁹、 R³°、 R³¹および R³²は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり Xおよび x ' は、各々独立に 1または 2である。

式（ 1 0) において、

R³³、 R³⁴は、前記式（1 ) における R¹およ R²と同義であり、 R³⁵、 R³⁶および R³⁷は、前記式（1 ) における R⁵と同義であり、環 Qは、脂肪族炭化水素環であり、

y、 y' および y" は、各々独立に 1または 2である。本発明においては、上記式（5) 〜（1 0) で示さ札るクロメン化合物の中でも、下記構造のクロメン化合物が特に好適に使用される。

上述したフォトク口ミック化合物は適切な発色色調を発現させるため、複数の種類のものを適宜混合して使用することができる。

本発明で用いる光学基板は、上述したフォトク口ミック化合物が分散されている樹脂組成物によリフォトク口ミック表層部が形成されているが、かかる樹脂組成物におけるフォトク口ミック化合物の濃度は、良好な発色濃度が得られるという観点から 0. 002〜 20重量％の範囲であるのが好適である。

また、練り込み法により製造された光学基板は、光学基板の全体が上記の樹脂組成物により形成されているが（即ち、内部もフォトクロミック表層部と同じ組成を有している）、このような練り込み型光学基板では、一般に厚みが 2mm以上のフォトク口ミックプラスチックレンズであるとき、初期着色（光未照射状態での着色を言う）が低く良好な発色濃度が実現されるという観点から、前記樹脂組成物におけるフォトクロミック化合物の含有量は、 0. 0 1 ~ 1重量％の範囲にあることが特に好ましい。また、コーティング法や含浸法によりフォトクロミック表層部が形成される光学基板においては、特にフォトク口ミック表層部の厚みが 1 0~ 1 O O jt mであるとき、上記と同様の観点から、フォトク口ミック表層部におけるフォ卜クロミック化合物の含有量は 0. 1〜 1 5重量％の範囲であることが好ましく、またフォトク口ミック表層部の厚みが 1 0~40 ;Umである場合には、該表層部におけるフォトク口ミック化合物の含有量は 0. 1 ~5重量％であるのが特に好ましい。

本発明のフォトク口ミック積層体においては、コーティング法或いは含浸法によリフォトク口ミック表層部が形成されていることが好ましい。フォトク口ミツク化合物の酸化劣化の原因は、酸素及び有害な紫外線であるが、特にフォトクロミック化合物が分散している部分の厚みが薄いほど、酸素の拡散が:^きくなリ酸化劣化を受け易くなる。即ち、コーティング法等によりフォトクロミック表層部が形成されている光学基板の方が、練り込み法による光学基板より ^フォトク口ミック化合物の酸化劣化を生じ易いという性質を有している。本発胡は、後述する特定の光線透過特性を有する紫外線吸収膜を設けることにより、このようなフオトクロミック化合物の酸化劣化を防止するため、コーティング法等による光学基板に本発明を適用した場合に、フォトク口ミック化合物の酸化劣ィ匕を防止してフォトク口ミック耐久性を向上させるという本発明の利点が極めて: ^きいのである。

また、フォトクロミック化合物が分散された樹脂（以下、フォト^口ミック樹脂組成物と呼ぶ）には、その黄変防止や成形性の向上、さらにはフォトクロミツク化合物を添加時のフォトク口ミック化合物の耐久性の向上、発色 31度の向上、退色速度の向上等のために、それ自体公知の各種の添加剤が含まれていてもよい。このような添加剤として、界面活性剤を例示することができる。面活性剤としては、ノニオン系、ァニオン系、カチオン系の何れも使用できる力《、マトリツクスとなる樹脂成分を形成するラジカル重合性単量体への溶解性からノニオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。好適に使用できるノニオン系界面活性剤を具体的に挙げると、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール 'ペンタエリスリ I ^一ル脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリ才キシェチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンフィトステロール■フィ卜スタノール、ポリオキシエチレンポリォキシプロピレンアルキルエーテル、ポリォキシエチレンァ Jレキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油 '硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンラノリン 'ラノリンアルコール ' ミツロウ誘導体、ポリオキシエチレンアルキルァミン■脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルフエニルホルアルデヒド縮合物、単一鎖ポリオキシエチレンアルキルエーテルシリコーン鎖（ポリアルキルシロキサンユニット）を疎水基とする界面活性剤、パーフルォロアルキル基含有エステル系オリゴマーやパーフルォロアルキル基含有アルキレン ^"キサイド付加物、フッ素系脂肪族系ポリマーエステル等を挙げることができる。上述した界面活性剤は、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を混合して使用することもできる。また、フォトクロミック樹脂組成物中の界面活性剤の含有量は、一般に 0. 001〜 20重量％範囲が好ましい。

また、上記の添加剤としては、ヒンダードフエノール系酸化防止剤やィォゥ系酸化防止剤などの各種酸化防止剤、フエノール系ラジカル補足剤などの各種ラジカル捕捉剤、ヒンダードアミン系光安定剤などの各種光安定剤、ベンゾ卜リアゾール系化合物やべンゾフエノン系化合物などの紫外線吸収剤等を、それぞれ、単独または 2種以上の組み合わせで使用することもできる。この種の添加剤も、一般に、フォトクロミック樹脂組成物中に、それぞれ、 0. 001〜20重量％の量で含有していてもよい。これらの添加剤の中では、特にヒンダードアミン系光安定剤がフォトク口ミック化合物の劣化防止効果が高いという点で好適であリ、例えば、ビス（1， 2, 2, 6, 6—ペンタメチルー 4ーピペリジル）セバケ一ト、旭電化工業（株）製アデカスタブ LA— 52、 LA— 57、し A— 62、 L A— 63、 LA— 67、 LA—77、 L A— 82等のヒンダードァミン類が好適に使用される。このようなヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、 0. 1〜1 0重量％、特に 1 ~1 0重量部の範囲が最も好適である。

また、上述した各種の添加剤以外にも、フォトクロミック特性を損なわない範囲で、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤などが、フォトク口ミック樹脂組成物中に添加されていてもよい。

[紫外線吸収膜]

本発明のフォ卜クロミック積層体において、上述した光学基板のフォトクロミック表層部上に形成される紫外線吸収膜は、 0. 1〜 1 00 mの厚みを有するものでなければならない。該膜の厚さが 0. 1 m未満のときは十分な耐久性向上硬化が得られず、 1 O OjUmを超えるときは均一な厚さの膜を得るのが困難となり、厚みのばらつきなどにより積層体の光学特性が低下してしまう。また、この紫外線吸収膜は、後述するように、コーティング法或いは蒸着法によって形成されるが、特にコーティング法により形成される紫外線吸収膜では、膜の耐久性、光学特性等の点で、その厚みが 0. 5〜30 imの範囲にあることが好ましく、蒸着法により形成される紫外線吸収膜では、その厚みが 0 . 1〜 1 ju mの範囲内であることが好ましい。

また、このような紫外線吸収膜は、 3 6 0 n mの光線透通率が 5 0 %以上、好ましくは 5 5 %以上、最も好ましくは 6 0 %以上であり、 1¾時に、 3 2 0 n mの光線透過率が 1 0 <½以下、好ましくは 5 %以下、最も好ましくは 3 0/0以下にあることも重要である。即ち、前記したフォトクロミック化合物の酸化劣化は 3 2 0 n m付近の短波長の光により強く引き起こされ、他方、フ; i~トク口ミック化合物の励起は 3 6 0 n m付近の波長の光により良好に進行する二め、上記のような光線透過特性を有する紫外線吸収膜を設けることにより、発色濃度の低下を招くことなく、フォトクロミック化合物の酸化劣化を有効に防止し、フォトクロミックの耐久性を向上させることができる。例えば、紫外線吸収 8莫の 3 6 0 での光線透過率が上記範囲よりも低いときには、フォトク口ミッタ化合物の発色濃度の低下を生じてしまい、また 3 2 0 n mの光線透過率が上記 IE囲よりも高い場合には、フォトクロミック化合物の酸化劣化を有効に抑制することができず、十分なフォトクロミック耐久性向上が得られない。即ち、本発明では、紫外線吸収膜が上記のような光線透過特性を有しているため、フォトク口 Sック化合物の耐久性向上と発色濃度とを両立することが可能となるのである。

また、紫外線吸収膜中には、目視で確認できる不透明な異物（例えば紫外線吸収剤の析出物）が存在せず、透明性に優れていることが好ましい。従って、膜界面の反射があるため膜の屈折率により好適範囲は異なるが、一般に、この紫外線吸収膜の 5 6 0 n mの光線透過率は 8 5 o/o以上であること《好ましく、より好適には 9 0 %以上であることが望ましい。

[紫外線吸収膜の形成]

上述したフォトクロミック積層体は、 3 2 0 n mの波長 CO紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を使用し、紫外線吸収剤の使用量に応て、前述した膜厚の範囲内において所定の光線特性を有するような膜厚を選定 Iて、紫外線吸収膜を光学基板のフオトクロミック表層部上に形成することによ W製造される。このような製造法において採用される紫外線吸収膜の形成方法としては、特に、紫外線吸収剤の析出がなく、且つ 5 6 0 n mの光線透過率が 8 5 ^¾以上の膜が得られ、さらに、該紫外線吸収剤のブリードアゥ卜も生じ難 (A膜が得られるという点で、紫外線吸収剤を含有するシリコーン系コーティング斉を用いてのコーティング法による方法（a ) 、紫外線吸収剤を含有する有機系コ一ティング剤を用いてのコ一ティング法による方法（b ) 、及び紫外線吸収剤 0>蒸着による方法（c ) が好適に採用される。

コーティングによる方法（a ) ：

この方法では、紫外線吸収剤を含有するシリコーン系コーティング剤を、フォトク口ミック表層部に塗布し、塗布膜を硬化させることにより、紫外線吸収膜が形成される。

紫外線吸収剤としては、 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収する無機化合物のコロイド粒子が使用される。このような無機ィ匕合物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化セリゥム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン等の金属酸化物、及びこれら金属酸化物を含む複合酸化物を挙げることができる。これらの中でも着色を有しない点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸 ίヒセリウムおよびこれら金属酸化物を含む複合酸化物が好ましく、酸化チタンを含む複合金属酸化物が最も好ましい。具体的には、酸化チタン/酸化ジルコニウム Ζ酸化スズ系複合金属酸化物、酸化チタン/酸化ジルコニウム酸化珪素系複合金属酸化物が最も好ましい。複合金属酸化物においては、 ·前記例示したような 3 2 0 r» mの波長を選択的に吸収する金属酸化物の含有量が、 3 0重量％以上、より好適には 5 0重量％以上であるのが好ましく、特に、酸化チタンの含有量がこれらの量以上であるのが好ましい。このような金属酸化物又は複合酸化物のコロイド粒子は、所謂ゾルゲル法により調製可能であり、また、このようなコロイド子を含むゾルも工業的に又は試薬として入手可能である点で好適に使用される

尚、上記の無機化合物のコロイド粒子は、 3 2 0 mの波長の紫外線を選択的に吸収し得る限りにおいて、他の無機化合物成分を #立子中に少量含有していても差し支えない。

このような紫外線吸収剤のシリコーン系コーティング剤中の含有量は、得られる紫外線吸収膜の 3 6 0 n mの光線透過率及び 3 2 O n mの光線透過率が前述した範囲となるように適宜決定されるが、一般には、紫外線吸収膜中に 1 5〜9 0 重量％、より好適には 1 5〜7 0重量％の範囲で含させるのが好ましい。さらに、紫外線吸収剤を金属酸化物として用いる場合には、その含有量は 1 5〜5 0 重量％であることが最も好ましく、これら金属酸化物を含む複合酸化物として用いる場合には、その含有量は 2 5〜7 0重量％であるのが最も好ましい。

尚、かかる紫外線吸収膜の厚みは前述した範囲（0 . 1 ~ 1 0 0 / m) に設定されるが、かかる範囲において、紫外線吸収剤の量に応じて膜厚を調整することが好ましく、例えば紫外線吸収剤量が、少ない場合には膜厚を厚くし、多い場合には膜厚を薄くすることが好ましい。膜中の紫外線吸収剤量に比して、必要以上に膜厚が厚いと、紫外線吸収膜にクラック等が生じるおそれがあるからである。例えば、紫外線吸収膜中の紫外線吸収剤量（濃度）が 1 5〜7 0重量％の場合には、膜厚は 0 . 5 ~ 3 0 mの範囲、より好ましくは 1〜 1 O jt mの範囲にあるのが好適である。

また、かかる方法（a ) において用いるシリコーン系コーティング剤は、加水分解可能な有機ケィ素化合物またはその加水分解物を硬化成分として含むものである。加水分解可能な有機ゲイ素化合物またはその加水分解物としては、一般にシランカップリング剤として使用されているものが好適に使用される。このような有機ゲイ素化合物の具体例としては、 r一メタクリロイルォキシプロピルトリメトキシシラン、 r—メタクリロイルォキシプロピルトリエトキシシラン、ビニル卜リアルコキシシラン、ァリルトリアルコキシシラン、 rーグリシドォキシプ口ピルトリアルコキシシラン、；8— ( 3 , 4—エポキシシクロへキシル）ェチルトリアルコキシシラン、 rーァミノプロピルトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロボキシシラン、テトラァセトキシシラン等を例示することができる。このような有機ゲイ素化合物またはその加水分解物からなる硬化成分は、紫外線吸収膜（硬化膜）中の含有量が 1 0〜2 5 重量％となる程度の量で使用される。

また、上記のシリコーン系コーティング剤には、前述した紫外線吸収剤以外に、他の添加剤（例えば、酸、レべリング剤、硬化触媒など）や有機溶媒を含有していてもよい。

酸は、硬化成分である有機ゲイ素化合物の加水分解及び縮合を促進させるために使用されるものであり、塩酸等の鉱酸が好適に使用される。このような酸は、一般に、有機ゲイ素化合物 1モルに対して 1 〜 1 0ミリモルの量で使用される。有機溶媒は、コーティング剤の粘度を調整して塗布性を高めるために用され、或いは前述したコロイド粒子の分散媒（ゾル）として使用されるものであり、メタノール、イソプロパノール、 t一ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、ェチレングリコールモノィソプロピルエーテル、ジォキサンが好適に使朋できる。このような有機溶媒のコーティング剤中の含量は、一般に、 40~9〇重量％で &)る。

レべリング剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂 ft¾酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール'ペンタ; I：リスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸ェステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等を挙げることができる。このようなレべリング剤の含有量は、コーティング剤当リ 0. 01〜 3質量％程度である。

また、硬化触媒としては、過塩素酸、過塩素酸アンモニゥ厶、過塩素酸マグネシゥム等の過塩素酸類、 Cu (II) 、 Z n (II) 、 Co (II) 、 N i (II) 、 B e (ll) 、 Ce (lll) 、 Ta (111) 、 T i (lll) 、 Mn (lll) 、 Lョ（111) 、 C r (III) 、 V (III) 、 Co (III) 、 F e (III) 、 A I (III) 、 C e (IV) 、 Z r (IV) 、 V (IV) 等を中心原子とするァセチルァセトナート；アミン、グリシン等のアミノ酸；ルイス酸；有機金属塩；等が好適に使用される。これらの硬化触媒は、固形分当り、 0. 1〜3重量％の量でコーティング剤中に添 ΛΠされる。尚、上述したシリコーン系コーティング剤中には、得られる紫外線吸収膜の光線透過特性を損なわない範囲で、コロイダルシリカ等の無機酸化物のコロイド粒子を補強剤等として含有していてもよい。

コーティングによる方法（b) ：

この方法では、紫外線吸収剤を含有する有機系コーティング剤を用 I、てのコーティングにより、前述した紫外線吸収膜が形成される。

この有機系コーティング剤に配合される紫外線吸収剤も、 320 n の波長の紫外線を選択的に吸収するものであり、このような光線透過特性を有している限リ、例えば前記方法（a) で使用される無機化合物（特に無機酸化物:）などの無機系の紫外線吸収剤を使用することもできるし、有機系の紫外線吸収 ljを使用することもできる。し力、し、膜形成時における紫外線吸収剤の析出による白濁を防止するという点で、有機系紫外線吸収剤を用いることが好ましい。このような有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系、シァノアクリレート系、ヒドロキシベンゾエート系、ベンゾォキサジノン系および卜リアジン系等に属する化合物のうち、 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収するという条件を満足し、且つ前述した光線透過特性を有する膜を形成可能なものが単独或いは 2種以上の組み合わせで使用されるが、特に、 3 2 0 n mの短波長紫外域に大きな極大吸収を有し、且つフォトクロミック化合物の発色濃度を低下させ難いという点で、シァノアクリレート系、サリチル酸エステル系及びヒドロキシベンゾエー卜系のものが好適である。ペンゾトリアゾール系、ベンゾフエノン系の有機紫外線吸収剤の多くのものは、上記要件を満たさないものが多く、一般には単独で使用することができない。

本発明において、特に好適に使用できる有機系紫外線吸収剤の代表例としては、ェチルー 2—シァノ一3 , 3—ジフエニルァクリレート、ォクチルー 2—シァノ —3， 3—ジフエ二ルァクリレー卜、 2 '—ェチルへキシルー 2—シァノー 3， 3—ジフエ二ルァクリレート等のシァノアクリレート系紫外線吸収剤；フエニルサルチレ一卜、 p— t一ブチルフエ二ルサリシレー卜等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤： 2 , 4—ジ一 t一プチルフヱ二ルー 3 '， 5 '—ジ— t一ブチル — 4 'ーヒドロキシベンゾェ一ト等のヒドロキシベンゾエー卜系紫外線吸収剤等を挙げることができる。

これらの紫外線吸収剤の含有量も、前記した前記（a ) の方法と同様に、硬化膜の光透過特性（紫外線吸収特性）が、前述した条件を満足するように、調整され、例えば有機系コーティング剤の固形分当り 0 . 1〜 1 0重量％、好ましくは 0 . 1 ~ 5重量％の範囲に設定されるが、その使用量に応じて膜厚を調整することが好ましく、例えば該紫外線吸収剤の濃度が 0 . 1〜5重量％の場合には、形成される紫外線吸収膜の膜厚は 0 . 5〜3 0 mの範囲が好適である。

また、上記のような紫外線吸収剤が配合される有機系コーティング剤は、透明な硬化体を与える炭化水素系の重合性単量体（主骨格が炭化水素によリ形成されている重合性単量体であり、部分的であれば酸素原子、窒素原子、硫黄原子等を含んでいても良い）を硬化成分として含むものである。このような炭化水素系の重合性単量体成分としては、単官能あるいは多官能（メタ）ァクリレート化合物、単官能あるいは多官能ビニル化合物、単官能あるいは多官能エポキシ化合物、多官能ウレタン（ポリイソシァネート）化台物、単官能あるいは多官能ヒドロキシ化合物等、透明性硬化体を与えることが feflられている公知の重合性単量体（モノマー）及びこれらモノマーの混合物が特 (二制限無く使用できる。好適に使用できるモノマーを具体的に例示すると、以下のモノマーを挙げることができる。

( 1 ) 単官能あるいは多官能（メタ）ァクリレート化合物、ビニルイヒ合物

トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリァクリレート、亍トラメチロールメタントリメタクリレート、テ卜ラメチロールメタントリァクリレート、トリメチロールプロパン卜リエチレングリコールトリァクリレート、ペンタエリスリ I ^一ルテ卜ラメタクリレート、ジペンタエリスリ I ^一ルへキサァクリレート、ウレタンオリゴマーテトラァクリレート、ウレタンオリゴマーへキサメタクリレート、ウレタンオリゴマーへキサァクリレート、ポリエステルオリゴマーへキサァクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタウリレート、ビスフエノール Aジメタクリレート、 2， 2—ビス（4ーメタクリロイルォキシエトキシフエ二ル）プロパン、グリシジルメタクリレート、

平均分子量 7 7 6の 2 , 2—ビス（4ーァクリロイルォキシポリ X：チレングリコールフエニル）プロパン、平均分子量 4 7 5のメチルエーテルリエチレングリコールメタァクリレート、メチルスチレン、ビニルナフタレン、一メチルスチレンダイマー、ジァリルフタレート、ジエチレングリコ一;レビスァリル力一 Tp:ネー卜等。

( 2 ) 単官能あるいは多官能エポキシモノマー

1 , 6一へキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング' コールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、グリセ口一ルポリグリシジレエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスルトール卜リグリシジルエーテル、ビスフエノール Αジグリシジルエーテル、ビス一 2， 2—ヒドロキシシクロへキシルプロパンジグリシジルエーテル等。

( 3 ) 多官能ウレタン（ポリイソシァネート）化合物

トリレンジイソシァネート、 4， 4ージフエニルメタンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、 1， 5—ナフタレンジイソシァネート、トリジンジイソシァネ一卜、トリフエニルメタントリイソシァネート、トリス（イソシァネートフエニール）チォホスフェート、テトラメチルキシレンジイソシァネート等の芳香族ィソシァネート化合物；トリメチルへキサメチレンジィソシァネート、へキサメチレンジェソシァネー卜、ィソホロンジィソシァネー卜、水添 4 , 4ージフエニルメタンジイソシァネート、水添キシレンジイソシァネート、リジンジイソシァネート、リジンエステルトリイソシァネート、 1 , 6， 1 1 —ゥンデカントリイソシァネート、 1 , 8—ジイソシァネート一 4一イソシナネートメチルオクタン、 1 , 3， 6—へキサメチレントリイソシァネー卜、ビシクロヘプタントリイイソシァネート等の脂肪族ィソシァネート化合物と、活性水素を有する化合物とを、ィソシァネート基が残るような仕込み比で種々の方法で結合させたポリィソシァネート化合物またはポリィソシァネートオリゴマ一化合物。

( 4 ) 単官能あるいは多官能ヒドロキシ化合物

エチレングリコール、 1， 2—プロピレングリコール、 1 , 3—ブタンジォール、 1， 4—ブタンジオール、 1 , 6—へキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールなどのアルキレングリコール類；ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコ一ル、ポリテ卜ラメチレングリコールなどのポリアルキレングリコール類；ポリ（ジェチレンアジペート）、ポリ（テトラメチレンアジペート）、ポリ（へキサメチレンアジペート）、ポリ（ネオペンチレンアジペート）などのポリ（アルキレンァジペート）類；ポリ一ど一力プロラクトン、ポリ力プロラクトンジオール、ポリカプロラクトントリールなどのポリ力プロラクトン類；ポリ（1， 4ーブタンジェン）グリコール、ポリ（1， 2—ブタンジェン）グリコールなどのポリブタジエングリコール類：ポリ（へキサメチレンカーボネート）などのポリ（ァルキレンカーボネート）類；ポリエステルポリオール類； "！， 2 , 4一ブタントリオール、 1 , 2， 6—へキサントリオールなどの 3個以上のヒドロキシ基を含有するポリオール類；シリコーンポリオール等。また、上述した有機系コーティング剤は、硬化触媒を含有しているのが好適である。硬化触媒としては、ラジカル重合開始剤、光重合開始剤等が、用いる重合性単量体の反応性に応じて適宜使用される。

ラジカル重合開始剤としては、ベンゾィルバ一オキサイド、 p—クロ口べンゾィルパーォキサイド、デカノィルパーォキサイド、ラウロイルパーォキサイド、ァセチルバーォキサイド等のジァシルバ一ォキサイド： t一ブチルバーオキシ一

2—ェチルへキサノエート、 t一ブチルパーォキシジカーボネー卜、クミルパーォキシネオデカネート、 t一ブチルパーォキシベンゾエート等のパーォキシエステル：ジイソプロピルパーォキシジカーボネート、ジ一 2—ェチルへキシルバーォキシジカーボネー卜、ジー s e c一ブチルォキシカーボネート等のパー力一ポネート類； 2， 2，ーァゾビスイソプチロニトリル、 2， 2 ' ーァゾビス（4一ジメチルバレロニトリル）、 2 , 2， —ァゾビス（2—メチルプチロニトリル）、 1， 1 ' ーァゾビス（シクロへキサン一 1—カーボ二トリル）等のァゾ化合物などを例示することができる。このようなラジカル重合開始剤の使用量は、その種類、重合条件、用いる重合性単量体成分の種類や組成によって異なり、一概に限定できないが、一般には、全ラジカル重合性単量体 1 0 0重量部当り、 0 . 0 1 ~ 1 0重量部の範囲で用いるのが好適である。

光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾフエノール、ァエトフエノン 4， 4 ' ージクロ口べンゾフエノン、ジェトキシァセ卜フエノン、 2—ヒドロキシー 2—メチルー 1一フエニルプロパン一 1一オン、ベンジルメチルケタール、 1一（4一^ Γソプロピルフ工ニル）一 2—ヒドロキシー 2—メチルプロパン一 1一オン、 1 —ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2—イソプロピルチオォキサントン、ァシルフォスフインォキサイド、ジァシルフォスフィンォキサイド等を例示することができる。このような光重合開始剤は、一般に、全ラジカル重合性単量体 1 0 0重量部当り、 0 . 0 0 1〜5重量部の範囲で使用される。

また、上記以外の硬化触媒として、各種エポキシ樹脂硬化剤や各種有機ゲイ素樹脂硬化剤等を使用することもできる。このような硬化剤の具体例としては、各種の有機酸及びそれらの酸無水物；三級アミン化合物などの窒素含有有機化合物：有機錫化合物、有機亜鉛化合物などの各種金属錯化合物あるいは金属アル η キシド；アル力リ金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩等の各種塩；などが挙げらる。その際の添加量としては、重合性単量体の合計重量 1 0 0重量部当り 0 . 1 〜5重量部、特に 0 . 5〜 2重量部であるのが好適である。

更に有機系コーティング剤は、必要に応じて希釈用の有機溶媒を含有していてもよいし、紫外線吸収剤以外の安定剤等を含んでいてもよい。有機溶媒として ίまモノマー成分及び各種添加剤を溶解するものであれば特に限定されず、例えば卜ルェン、キシレン、酢酸ェチル等が使用できる。また、紫外線吸収剤以外の安剤としては、ヒンダ一ドアミン系光安定剤、ヒンダードフ Iノール系酸化防止剤、含硫黄系 2次酸化防止剤、含リン系 2次酸化防止剤、ニッケル系一重項酸素消 ¾ 剤等を挙げることができる。

上述したコーティングによる紫外線吸収膜の形成方法（a ) 及び（b ) におし、て、コーティング剤を光学基板の所定部位に塗布する方法は特に限定されず、スピンコート、ディッビング、スピンディッビング等により塗布することができる。最終的に得られる紫外線吸収膜の厚さは、スピンコートにおける回転数、コ一ティング剤の粘度等を調整することにより制御することができる。

なお、これらコーティング剤の塗布に先立ち、紫外線吸収膜と光学基板との密着性を向上させるために、光学基板表面を前処理するのが好適である。前処理としては、塩基性水溶液又は酸性水溶液による化学的処理、研磨剤を用いた研磨理、大気圧プラズマ及び低圧プラズマ等を用いたプラズマ処理、コロナ放電処理、または U Vオゾン処理等を挙げることができる。また、前処理によリプライマ一層を形成し、プライマ一層上に紫外線吸収膜を形成させることも密着性の観点わ、ら好ましい。プライマー層の形成は、必要に応じて上記のような表面処理を行なつた後、ウレタン系プライマーに代表される各種プライマー、好適には湿気硬 ί匕型のウレタン系プライマーを光学基板のフォトク口ミック表層部に塗布し硬化させればよい。このようなプライマ一層の厚みは、通常、 2〜 1 0〃m程度である ο また、光学基板表面の所定の部位に塗布されたコーティング層は、コーティング剤の種類に応じて硬化され、目的とする紫外線吸収膜を形成する。例えば、シリコーン系コーティング剤を用いた場合には（前記方法（a ) ) 、加熱縮合によリコーティング層を硬化させ、紫外線吸収膜を形成する。また、有機系コーティング剤を用いる場合には（前記方法（b ) ) 、熱重合及びノ又は光重合によリコ一ティング層を硬化させ、紫外線吸収膜が形成する。このとき、熱重合させる場合は、一般的には 4 0 ~ 2 0 0 °Cの温度で 5分〜 3 0時間加熱すればよく、光重合させるときは、窒素等の不活性雰囲気にて、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、無電極放電光源 Dまたは Vバルブ等を光源とし、 1 0 〜 2 0 0 mW/ c m ²の光線強度で 1秒〜 3 0分、光照射すればよい。

なお、これらコーティング剤を用いる場合、光学基板にコーティング剤を直接塗布するのではなく、これらコーティング剤を用いて別途に紫外線吸収膜を作製し、得られた膜を、接着剤等を用いて、光学基板表面の所定部位に接着することもできる。

蒸着による方法（c ) ：

この方法では、紫外線吸収剤を蒸着することにより、前述した紫外線吸収膜を形成する。

この方法で用いる紫外線吸収剤は、前記（a ) の方法で例示した 3 2 0 n mの波長の紫外線を選択的に吸収する無機酸化物、例えば酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン等の金属酸化物、及びこれら金属酸化物を含む複合酸化物である。このような紫外線吸収剤となる無機酸化物を、 C V D、 P V Dあるいはスパッタリング等の真空蒸着技術を用いての蒸着により膜状に形成することにより、紫外線吸収膜を形成するわけである。

かかる方法において、蒸着により形成される紫外線吸収膜（蒸着膜）の厚さを 0 . 1〜 1 i mの範囲とすることにより、前述した光線透過特性を満足させることができる。なお、蒸着により紫外線吸収膜を形成する場合には、紫外線吸収膜 (蒸着膜）の密着性を向上させるために、予め基材表面に、プライマー層としてシリコーン系コーティング膜を形成しておくのが好ましい。かかるプライマー層の厚みも 2〜 1 0 U m程度である。本発明においては、紫外線吸収膜を形成する（a ) 〜（c ) の方法の中でも、 ( a ) の方法が、得られる紫外線吸収膜（硬化膜）が硬く、緻密なことに起因して酸素バリアー性が高く、 3 2 0 n m付近の有害な紫外線を遮断する効果と相乗的に作用して、フォトクロミック化合物の酸化劣化防止効果が極めて高く、フ才トク口ミック耐久性向上効果が極めて高いという点で有利である。

上記紫外線吸収膜は、通常は単層構造として設けるが、前記 0 . 1〜 1 / m、好適には 0 . 5〜3 0 i m (蒸着法により形成される紫外線吸収膜の場合には、 0 . "！〜 1 i m) の厚さの範囲内であれば、少数層の複層構造として設けても良い。簡便に成膜でき手間とコストがかからず、また、クラックなどの外観不良 4 生じ難いという観点から、単層構造が最も好ましく、複層構造とする場合も 3；! 以内とするのが好ましい。なお、このような薄く、積層されていても少数層でる紫外線吸収膜は、レンズの反射防止処理で行われる反射防止膜、すなわち、 IS 折率の異なる金属酸化物を蒸着法等により交互に 5層〜 7層積層した膜とは明《| に異なるものである。本発明のフォトクロミック積層体は、そのままフォトクロミック光学物品として使用することが可能であるが、紫外線吸収膜が前記（a ) の方法で形成されプ:: ものでない場合には、紫外線吸収膜をハードコート材で被覆することが好ましし、。ハードコート膜で被覆することにより、表面の耐擦傷性を向上させることができる。当該ハードコート膜としては公知のものがなんら制限なく使用でき、シランカップリング剤やゲイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウム等の酸化^) のゾルを主成分とするハードコート液や、有機高分子体を主成分とするハードコ一ト液を用いて形成できる。さらに、本発明のフォトクロミック積層体の表面もしくは更にハードコート材で被覆した表面に S i 0 ₂等の金属酸化物から成る膜の蒸着や有機高分子体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の加工及び 2次処理を施すことも可能である。

このような本発明のフォトクロミック積層体においては、紫外線を含む光を照射してそのフォトク口ミック性を発現させる用途に制限なく使用できるが、例えば 3 2 0 n mの有害な光を多く含む太陽光や水銀灯を照射する用途において $f適に使用される。ぐ実施例 >

以下、本発明の優れた効果を実施例及び比較例により説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。

実施例及び比較例における光学基板の作製に、以下のフォトク口ミック化合物を用いた。

フォ卜クロミック化合物 A：

下記式で表される構造を有する化合物。

フォ卜クロミック化合物 B ：

下記式で表される構造を有する化合物。

フォ卜クロミック化合物 C：

下記式で表される化合物。

(フォトクロミック表層部を有する光学基板の製造）

レンズ基板として、ジエチレングリコールビスァリルカーボネートを重合させることにより得られたプラスチックレンズ（屈折率 = 1. 50) を用意した。湿気硬化型プライマー（竹林化学工業株式会社製プライマー P FR 4) と酢酸ェチルを重量比で 9 ： 1となるように調合し、窒素雰囲気下で均一になるまで充分に撹拌してプライマーコート液を調製した。上記のレンズ基板の表面をァセトンで十分に脱脂した後、スピンコータ（M I KAS Α製スピンコータ 1 H— DX 2) を用いて、上記のプライマーコート液をレンズ基板表面にスピンコートし、室温にて 20分で硬化してレンズ基板の表面にプライマ一層を有するレンズ基板を作製した。

また、下記配合；

2, 2—ビス（4ーメタクリロイルォキシペンタエトキシフエニル）プロパン

50重量部ポリエチレングリコールジァクリレー卜（平均分子量 532) 1 5重量部トリメチロールプロパントリメタクリレート 1 5重量部ポリエステルオリゴマーへキサァクリレート

(ダイセルユーシービー社、 EB— 1 830) 1 0重量部グリシジルメタクリレート 1 0重量部により、ラジカル重合性単量体の混合物を調製した。次いで、このラジカル重合性単量体混合物 1 00重量部に、フォトクロミック化合物 Aを 2. 35重量部、フォトク口ミック化合物 Bを 0. 2重量部及びフォトク口ミック化合 feeを

1. 6重量部加え、十分に混合した後に、さらに、

重合開始剤 0. 5重量部

ビス（1， 2， 2, 6, 6—ペンタメチルー 4ーピペリジル）セノケート

(安定剤） 5重量部一メタクリロイルォキシプロピルトリメトキシシラン

(シランカップリング剤） 7重量部を添加し、十分に混合することにより、フォトクロミック重合性組成物（フォトクロミックコート液）を調製した。尚、上記の重合開始剤としては、 1 —ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンとビス（2， 6—ジメトキシベンゾ^ Tル一 2, 4， 4一トリメチル一ペンチルフォスフィンオキサイドの混合物（重量比： 3対 1 ) を用いた。

次いで、上記のフォトクロミックコート液の約 2 gを、前述のスピンコータを用いて、レンズ基板の表面にスピンコートし、メタルハライドランプを用いて、窒素ガス雰囲気中で、 405 n mの光線強度 1 20 mW/ c m²で 3分間光照射することにより、レンズ基板表面のフォトク口ミックコート液の塗膜を硬化させ、さらに 1 1 0°Cの恒温器にて 1時間加熱処理を行うことにより、フォトクロミツクコート層（フォトク口ミック表層部）を有する光学基板（レンズ基板:）を得た。なお、得られたフォトク口ミックコート層の膜厚は 40 mであった

(実施例 1 )

上記で作製された光学基板のフォトク口ミックコート層上に、以下 O)ようにして紫外線吸収膜を形成してフォトクロミック積層体を得た。

先ず、下記処方：

rーグリシドォキシプロピルトリアルコキシシラン（GTS) 9. 1 5 g t一ブチルアルコール（T B A) 5. 6 g

ジアセトンアルコール（DA A) 2. 8 g

レべリング剤（日本ュニカー株式会社製「L 7001」） 0. 0 25 g にしたがい、各成分を混合後、 0. 05 N塩酸水溶液 2. 09 gを撹しながら滴下し、 4時間撹拌した。上記の混合液に、

アルミニウムァセチルァセトナート（A I (A c A c) 3 ) 0. 094 g イソプロピルアルコール（ I PA) 2. 8 g

エチレングリコールイソプロピルエーテル（EG i P E) 2. 8 g

を加え、 30分撹拌した。この液に、紫外線吸収剤として、

メタノール分散酸化チタン Z酸化ジルコニゥム Z酸化珪素複合金属酸化物微粒子ゾル（重量比： 65 5 30、固形分濃度 30重量％) 25. 07 g を添加し、室温にて一晩撹拌し、酸化物微粒子（紫外線吸収剤）を含む溶液を調製し、次いでこの溶液を 0. 5ミクロンのフィルターで濾過し、紫外線吸収剤を含むシリコーン系コーティング剤を調製した。このシリコーン系コーティング剤の組成を表 1に示した。

このようにして調製されたシリコーン系コーティング剤 4 gを、先に作成した光学基板のフォトク口ミックコート層の上に、前述と同様のスピンコータを用いて塗布した。スピンコート条件は 650 r pm、 1 5秒とした。

スピンコート後、 70°Cで 1 5分予備乾燥した後、 1 20°Cで 1時間本硬化を行い、 2 mの厚みの紫外線吸収膜を有するフォトク口ミック積層体を得た。このフォトク口ミック積層体の紫外線吸収特性及びフォトク口ミック特性を以下の方法で評価した。

紫外線吸収特性の評価：

上記で用いた紫外線吸収剤を含むシリコーン系コーティング剤を、石英ガラス上に、上記と全く同じ条件でスピンコートし且つ硬化させて、同一膜厚の硬化膜 (紫外線吸収膜）を作製した。この硬化膜の 320 nm， 360 nm及び 560 nmの光線透過率を測定することで、上記のフォトク口ミック積層体における紫外線吸収膜の紫外線吸収特性を評価した。 560 nmの光線透過率は 90<½で、目視で濁りは無く透明であった。また、 360 nmの光線透過率は 74%であり、 320 の光線透過率は 1 <½であった。この結果を表 2に示した。

フォトクロミック特性の評価：

得られたフォトク口ミック積層体のフォトク口ミック特性は、以下の方法で発色濃度、耐久性、黄色さを測定することで評価した。その結果は表 3に示した。

( 1 ) 発色濃度 A。（A b s. ) ；得られたフォトクロミック積層体に、浜松トニクス製のキセノンランプ L— 2480 (30 OW) SHL— 100を使用し、エア口マスフィルター（コ一二ング社製）を介して 20°C±1° で 1 20秒間光照射して発色させた。

尚、積層体表面でのビーム強度は 365 n rr* = 2. 4mWZcm²， 2 45 nm=24 iWZcm² とした。このときの最大吸収波長の吸光度を (株）大塚電子工業製の分光光度計（瞬間マレチチャンネルフォトディテクタ一 MCPD 1000)により求め、発色濃度を下記の方法で算出した。

1 20秒間光照射した後の、 590 nmでの吸光度 {s (1 20) } と、光照射していない状態での硬化体の該波長にける吸光度

{ε (0) } との差 {Α。 =ε (1 20) - ε (0) } を求めこれを発色濃度とした。この値が高いほどフォトク口ミッ性が優れているといえる。

(2) 耐久性：

光照射による発色の耐久性は、次の劣化促進試験によリ評価した。

すなわち、得られたフォトクロミック積層^を、スガ試験器（株）製キセノンウエザーメーター X 25によリ 50時促進劣化させた。この促進劣化前後での発色濃度を測定し（Α。：試験 It!の発色濃度、 A₅ 。：試験後の発色濃度）を測定し、 { (A₅。 ZA。） > 1 00}の値を残存率（％) とし、発色の耐久性の指標とした。残存率が高し、ほど発色の耐久性が高い。

(3) 黄色さ（Y I ) ；

フォトク口ミック積層体の発色前の黄色さを、上記の劣化促進試験前後で、スガ試験機（株）製の色差計（SM— 4) を用いて測定し、促進試験前の黄色さを" YIO"、試験後の黄色さを" ΥΙ50"として示した。また、劣化試験前後での黄変度（AYI=YI50— ΥΙΟ) も求めナこ。なお Y I値が高いほど、黄色さが強く、 AY I値が大きいほど、劣化誠験前後での黄変度が大きいことを示す。

(実施例 2および 3)

紫外線吸収膜の形成に用いたシリコーンコーティング剤の組成を表 1に示したように変更した以外は実施例 1と同様にしてフォトク口ミック積層体を製造し、紫外線吸収特性及びフォトク口ミック特性をの評価を行い、その結果を表 2及ぴ 3に示した。

(実施例 4)

紫外線吸収膜を以下のように変更した以外は、実施例 1と同様にしてフォトク口ミック積層体を作製した。

紫外線吸収膜形成用のコート液として、 SCし I n t e r n a t i o n a l 社製ハードコート液（製品名： 1 60— 74 NT)を用意した。このコート液は、酸化チタン含有のハードコート液で、固形分濃度は約 33重量％であり、ハードコート膜の屈折率はカタログ値で 1. 60である。このコート液 4 _gを、先に作製した光学基板のフォトク口ミックコート層の上に、前述と同様のスピンコータを用いて塗布した。スピンコート条件は 600 r pm、 10秒とした。スピンコ —ト後、 70°Cで 1 5分予備乾燥した後、 1 20°Cで 1時間本硬化を行い、フォトク口ミック積層体を得た。なお、このとき得られた紫外線吸収膜の厚みは 4. 8 μ. mであった。

このフォトク口ミック積層体の紫外線吸収特性及びフォトク口ミック特性を実施例 1と同様の方法で評価し、その結果を表 2、表 3に示した。

(実施例 5)

紫外線吸収膜を、以下のように有機系コーティング剤を用いて形成した以外【よ、実施例 1と同様にしてフォトク口ミック積層体を作製した。

2—ヒドロキシェチルメタクリレート 90重量部とウレタンオリゴマーへキサァクリレート 1 0重量部とを混合し、ラジカル重合性単量体の混合物を調製しナニ。次いで、下記処方：

上記ラジカル重合性単量体混合物 1 00重量部

ェチルー 2—シァノー 3， 3—ジフエニル 1ァクリレート

(シァノアクリレート系有機紫外線吸収剤） 1. 5重量部光重合開始剤 0. 1重量部

により、各成分を十分に混合し、有機系コ一ティング剤を調製した。尚、光重合開始剤としては、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンとビス（2， 6 —ジメトキシベンゾィルー 2， 4 , 4一トリメチルーペンチルフォスフィンォキサイドの混合物（重量比： 3対 1 ) を用いた。

上記の有機コーティング剤の約 2 gを、前述したスピンコ一タを用し、、実施例 1と全く同じ条件で光学基板のフォトク口ミックコート層の表面にスピンコートした。次いで、メタルハライドランプを用いて、窒素雰囲気中で該光学基板に 4 0 5 n mの光線強度 1 2 0 mWZ c m²で 1分間光照射し、有機コー亍ィング剤の塗膜を硬化させ、さらに 1 1 o°cの恒温器にて 1時間加熱処理を行うことによリ、フォトクロミックコート層表面に有機紫外線吸収膜を有するフォトク口ミツク積層体を得た。なお、得られた有機紫外線吸収膜の膜厚は 1 O i mであった。

(実施例 6 )

紫外線吸収膜を、以下のように金属酸化物の蒸着によって形成した以外は、実施例 1と同様にしてフォトク口ミック積層体を作製した。

先ず、汎用シリコーン系コーティング剤 (アルコキシシラン Zシリ力ゾル系； (株）トクャマ製 T S— 5 6 H ) を、先に作製された光学基板の表面にディツビングにより塗布し、 1 2 0 °Cで 2時間硬化し、プライマー層を形成した。このプライマー層の厚みは 1 . 6〃mであった。尚、上記のコーティング斉 IIには紫外線吸収剤が配合されておらず、このプライマ一層には紫外線吸収剤が存在しない。次いで、上記のプライマー層上に、蒸着法により酸化チタンの薄 B莫（紫外線吸収膜）を成膜し、フォトクロミックコート層表面に紫外線吸収膜（蒸着膜）を有するフォトクロミック積層体を得た。この蒸着膜の膜厚は 0. 2 だであった。このフォトク口ミック積層体の紫外線吸収特性及びフォトク口ミック特性を実施例 1と同様の方法で評価し、その結果を表 2、表 3に示した。

(比較例 1 )

シリコーン系コーティング剤に添加する紫外線吸収剤のゾルを、メタノール分散酸化チタン Z酸化ジルコニウム Z酸化珪素複合金属酸化物微粒子ゾル（重量比： 2 0 5 7 5、固形分濃度 3 0重量％) に変え、該シリコーン系コーティング剤の組成を表 1に示すように変更した以外は実施例 1と同様 (二してフォトク口ミック積層体を製造した。

このフォトク口ミック積層体の紫外線吸収特性及びフォトクロミック特性を実施例 1と同様の方法で評価し、その結果を表 2、表 3に示した。 (比較例 2 ：ブランク試験）

先に作製された光学基板について、フォトク口ミックコート層の表面上に何も積層させず、そのままフォトク口ミック特性を評価し、その結果を表 3に示した。尚、この光学基板の紫外線吸収特性は、各波長での光線透過率を 1 0 0 %として表 2に示した。

(比較例 3 )

実施例 6で作製されたプライマー層が表面に形成された光学基板（蒸着膜が形成される前の基板）について、紫外線吸収特性及びフォトクロミック特性を実施例 1と同様の方法で評価し、その結果を表 2、表 3に示した。尚、紫外線吸収特性は、プライマー層の特性である。

(比較例 4 )

複合金属酸化物微粒子ゾルの代わリに、同量のメタノール分散酸化珪素金属酸化物微粒子ゾル（固形分濃度 3 0重量％) を用いた以外は、実施例 1と全く同様に酸化物微粒子（紫外線吸収剤ではない）を含む溶液を調製した。

次いで、この溶液 1 0 0重量部に、さらに有機系紫外線吸収剤として、 1 . 8 重量部の 2— （5—クロロー 2 ' —ヒドロキシ一 3 ' — t—ブチゾ L ^一 5，一メチルフエニル）一べンゾトリアゾールを混合し、該有機系紫外線吸収剤が溶解するまで攪拌し、 0 . 5ミクロンのフィルタ一でこの溶液を濾過することにより、有機系紫外線吸収剤を含むシリコーン系コーティング剤を調製した。

このシリコーン系コーティング剤を用いて、実施例 1と全く同様にして厚みが 2 mの紫外線吸収膜を有するフォトク口ミック積層体を作製し、このフォトク口ミック積層体の紫外線吸収特性及びフォトクロミック特性を実施例 1と同様の方法で評価し、その結果を表 2、表 3に示した。

表 2

フェードメーター照射時間 (hr)

NO ( 3 50

YI0 AO YI50 ΔΥΙ Α50 残存率（％) 実施例 1 5.5 0.73 10.8 5.3 0.67 92 実施例 2 5.7 0.75 12.2 6.5 0.69 92 実施例 3 5.7 0.7 10.3 4.6 0.66 94 実施例 4 6.0 0.80 8.2 2.2 0.70 88 実施例 5 5.5 0.80 12 6.5 0.69 86 実施例 6 6.2 0.75 9.0 2.8 0.69 92 比較例 1 6.1 0.73 13.9 7.8 0.59 81 比較例 2 3.4 0.88 13.6 10.2 0.64 73 比較例 3 4.5 0.85 14.0 9.5 0.64 75 比較例 4 8.0 0.25 20.2 12.2 0.12 46

Claims

請求の範囲

1. 少なくとも一方の表面にフォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォ卜クロミック表層部を有する光学基板と、該光学基板のフォトク口ミック表層部上に形成された厚さが 0. 1〜 1 00 mの紫外線吸収膜とからなリ、該紫線吸収膜は、 360 n mの光線透過率が 5 0 %以上であリ且つ 320 n mの光線透過率が 1 0 %以下であることを特徴とする積層体。

2. 前記紫外線吸収膜の 560 nmの光線透過率が 85%以上である請求の範囲 1 (二記載の積層体。

3. 前記紫外線吸収膜が、チタンを含有する無機酸化物を紫外線吸収剤として含むコ一ティング層である請求の範囲 1に記載の積層体。

4. 請求の範囲 1に記載の積層体からなる光物品。

5. 少なくとも一方の表面にフォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトク口ミック表層部を有する光学基板を用意し、

320 nmの波長の紫外線を選択的に吸 1|Sする無機化合物のコロイド粒子を紫外線吸収剤として含有するシリコーン系コーティング剤を、前記光学基板のフォ卜クロミック表層部上に塗布し、これを硬ィヒさせて 0. 1〜 1 00 jt m の厚みを有する紫外線吸収膜を形成することを特徴とする請求の範囲 1の積層体の製造方法。

6. 前記シリコーン系コーティング剤を、直接またはプライマー層を介してフォトクロミック表層部上に塗布する請求の範囲 5に記載の製造方法。

7. 少なくとも一方の表面にフォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトク口ミック表層部を有する光学基板を用意し、

320 nmの波長の紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を含有する有機系コーティング剤を、前記光学基板のフォトク口ミック表層部上に塗布し、これを硬 ίヒさせて 0. 1〜 1 00 mの厚みを有する紫外線吸収膜を形成することを特徴とする請求の範囲 1の積層体の製造方法。

8. 前記シリコーン系コーティング剤を、直接またはプライマー層を介してフォトクロミック表層部上に塗布する請求の範囲フに記載の製造方法。

9. 少なくとも一方の表面にフォトク口ミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトク口ミック表層部を有する光学基板を用意し、

320 nmの波長の紫外線を選択的に吸収する紫外線吸収剤を、フォトク口ミック表層部上に蒸着することによリ膜厚 0. 1〜 1 mの紫外線吸収膜を形成することを特徴とする請求の範囲 1の積層体の製造方法。

1 0. 前記紫外線吸収剤を、直接またはプライマー層を介してフォトクロミック表層部上に蒸着する請求の範囲 9に記載の製造方法。