TWI850175B - 光路轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置 - Google Patents

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Abstract

一種光路轉折元件,包含主體、光線吸收膜層以及消光結構。主體具有光學表面,其包含入射面、反射面以及出射面。光線由入射面進入光路轉折元件。反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面離開光路轉折元件。光線吸收膜層用於降低反射率。光線吸收膜層與至少部分光學表面相鄰設置,且光線吸收膜層與主體實體接觸。消光結構與至少部分光學表面相鄰設置。消光結構使光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構與主體一體成型。

Description

光路轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置
本揭示係關於一種光路轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置,特別是一種適用於電子裝置的光路轉折元件及成像鏡頭模組。
隨著科技日新月異,具有高光學品質的鏡頭儼然成為不可或缺的一環。並且,配備光學鏡頭的電子裝置的應用範圍更加廣泛,對於光學鏡頭的要求也是更加多樣化。
然而,近年來傳統的光學鏡頭已難以滿足多元化發展下的電子產品的高光學品質需求,特別是在具有光軸轉折配置的光學鏡頭內部的非成像反射光會造成光學品質不佳。已知的具有光軸轉折配置的光學鏡頭其內部常會形成易產生非成像反射光的配置,故無法滿足目前日漸嚴格的光學品質市場需求。因此,如何改良光學鏡頭的光軸轉折元件來避免產生非成像反射光,以滿足現今對電子裝置高規格的需求,已成為目前相關領域的重要議題。
本揭示提供一種光路轉折元件、成像鏡頭模組以及電子裝置。其中,光路轉折元件具有能夠降低反射率的消光結構或光線吸收膜層,藉此避免雜散光於光路轉折元件的內部反射,從而滿足高成像品質的需求。
本揭示提供一種光路轉折元件,包含一主體、一光線吸收膜層以及一消光結構。主體具有一光學表面,且光學表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光線由入射面進入光路轉折元件。反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面離開光路轉折元件。光線吸收膜層用於降低反射率。光線吸收膜層與至少部分光學表面相鄰設置,且光線吸收膜層與光路轉折元件的主體實體接觸。消光結構與至少部分光學表面相鄰設置。消光結構使光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構與光路轉折元件的主體一體成型。
本揭示另提供一種光路轉折元件,包含一主體以及一光線吸收膜層。主體具有一光學表面,且光學表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光線由入射面進入光路轉折元件。反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面離開光路轉折元件。光線吸收膜層用於降低反射率。光線吸收膜層與至少部分光學表面相鄰設置,且光線吸收膜層與光路轉折元件的主體實體接觸。光線吸收膜層自光學表面朝遠離光路轉折元件的方向上依序包含第一抗反射膜以及吸光膜。第一抗反射膜用以降低反射率,吸光膜包含一金屬層,且金屬層的主要成分為鉻(Cr)金屬。
本揭示又另提供一種光路轉折元件,包含一主體以及一光線吸收膜層。主體具有一反射面,其用於反射一光線,以使光線的行進方向改變。光線吸收膜層用於降低反射率。光線吸收膜層與至少部分光學表面相鄰設置,且光線吸收膜層與光路轉折元件的主體實體接觸。光線吸收膜層包含一吸光膜,且吸光膜包含一金屬層以及一氧化金屬層。金屬層的主要成分為鉻金屬。氧化金屬層的主要成分為MO y,其中M為鉭(Ta)金屬、鈦(Ti)金屬和鉻金屬中的任一者,且y滿足下列條件:y ≤ 1。
本揭示再另提供一種光路轉折元件,包含一主體以及一消光結構。主體具有一光學表面,且光學表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光線由入射面進入光路轉折元件。反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面離開光路轉折元件。消光結構與至少部分光學表面相鄰設置。消光結構使光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構與光路轉折元件的主體一體成型。至少部分光學表面的邊緣具有一階差結構,且階差結構使光學表面相對於其周邊的區域凸起或凹陷。
本揭示提供一種成像鏡頭模組,包含前述的光路轉折元件、一第一透鏡組以及一成像面。第一透鏡組設置於光路轉折元件的物側,且第一透鏡組包含一第一透鏡以及一第一遮光件。第一透鏡包含一第一光學有效部,且光線通過第一光學有效部。第一遮光件具有一第一通光孔,第一通光孔與光路轉折元件對應設置,且光線通過第一通光孔。成像面接收來自於光路轉折元件的光線。第一通光孔為第一透鏡組中的最小通光孔,第一通光孔的最小孔徑為φ1,第一通光孔與光路轉折元件之間的最短垂直距離為D1,較佳地,其滿足下列條件:
0.2 ≤ φ1/(D1+1) ≤ 9。
本揭示提供一種電子裝置,其包含前述的光路轉折元件。
根據以上所揭露之光路轉折元件、成像鏡頭模組與電子裝置,藉由光線吸收膜層或消光結構的設置,有助於降低反射率,以避免雜散光(非成像光)於光路轉折元件的內部反射。
當0.2 ≤ φ1/(D1+1) ≤ 9滿足上述條件時,可有效阻擋雜散光。
本揭示的一實施例揭露一種光路轉折元件,可應用於成像鏡頭模組以及電子裝置。藉由光路轉折元件的設置,可使空間配置更加靈活,有利於壓縮成像鏡頭模組的體積。
光路轉折元件的主體可為稜鏡或反射鏡。主體可具有光學表面,且光學表面可包含入射面、反射面以及出射面。光線由入射面進入光路轉折元件。反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面離開光路轉折元件。反射面可鍍有反射膜以反射光線,其中反射膜的成分可包含鋁。此外,入射面和出射面可進行抗反射處理,如設置由高折射率層與低折射率層堆疊而形成的抗反射膜,或者設置具有漸變折射率的蛾眼抗反射結構層,但本揭示並不以上述抗反射處理為限。
光路轉折元件可包含用於降低反射率的光線吸收膜層。光線吸收膜層與至少部分光學表面相鄰設置,且光線吸收膜層與光路轉折元件的主體實體接觸。光線吸收膜層可定義出反射面的面積範圍,並可減少雜散光產生。其中,光路轉折元件的光線吸收膜層可與反射面相鄰設置。藉此,可減少反射面周邊所產生的雜散光。
光路轉折元件可包含消光結構。消光結構與至少部分光學表面相鄰設置。消光結構使光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構與光路轉折元件的主體一體成型。光線吸收膜層可設置於消光結構上。凹凸起伏的表面輪廓有助於破壞雜散光線的反射路徑。其中,光路轉折元件的消光結構可與反射面相鄰設置。藉此,可減少反射面周邊所產生的雜散光。
本揭示的消光結構之凹凸起伏可為規則設置或不規則設置。規則設置的消光結構例如為條狀或者錐狀的凸起或凹陷,不規則設置的消光結構例如為磨砂表面,因此消光結構的具體態樣並非用以限制本揭示。規則設置的消光結構有助於提升品質穩定性。
光線吸收膜層可包含吸光膜。吸光膜可包含金屬層,且金屬層的主要成分為鉻(Cr)金屬。吸光膜可呈現深色外觀,其可吸收可見光以降低反射率。
吸光膜可進一步包含氧化金屬層,而有助於提升吸光膜的消光性質。吸光膜可由金屬層與氧化金屬層交替堆疊而成。氧化金屬層的主要成分可為MO y。其中,M可為鉭(Ta)金屬、鈦(Ti)金屬和鉻金屬中的任一者,且y可滿足下列條件: y ≤ 1。
光路轉折元件的光線吸收膜層可進一步包含第一抗反射膜。第一抗反射膜用以降低反射率。第一抗反射膜可避免雜散光於光路轉折元件的內部反射。具體來說,第一抗反射膜可包含一第一高折射率層與一第一低折射率層。第一高折射率層的折射率大於第一低折射率層,且第一高折射率層與第一低折射率層交替堆疊。第一高折射率層的主要成分可為TiO 2(二氧化鈦),且第一低折射率層的主要成分可為SiO 2(二氧化矽)。第一抗反射膜利用薄膜干涉原理降低反射率。藉此,可避免雜散光於光路轉折元件的內部反射。其中,光線吸收膜層的第一抗反射膜以及吸光膜可自光學表面朝遠離光路轉折元件的方向上依序排列。或者也可以說,第一抗反射膜可相對吸光膜靠近光路轉折元件的主體。
光路轉折元件的光線吸收膜層可進一步包含中介層。中介層可設置於第一抗反射膜與吸光膜之間。中介層的主要成分可與第一高折射率層的主要成分或第一低折射率層的主要成分相同。藉此,可提高吸光膜的連接穩定性。其中,中介層的主要成分可為SiO 2
光路轉折元件的光線吸收膜層可進一步包含第二抗反射膜。第二抗反射膜可相對吸光膜遠離光路轉折元件的主體,且第二抗反射膜可包含第二高折射率層以及第二低折射率層。第二高折射率層可與第二低折射率層交替堆疊。第二高折射率層的主要成分可為TiO 2,且第二低折射率層的主要成分可為SiO 2。第二抗反射膜可避免雜散光線於光路轉折元件的外表面反射,也可作為吸光膜的保護層來避免吸光膜氧化。
光路轉折元件的材料可為塑膠。藉此,有助於大量生產。
光路轉折元件的至少部分光學表面的邊緣可具有階差結構。階差結構使光學表面相對其周邊的區域凸起或凹陷。階差結構有助於提升光學表面的成型品質。請參照圖9、圖14與圖23,係繪示有階差結構314。
光路轉折元件的光學表面之邊緣輪廓可具有多個突出部。其中,入射面、反射面以及出射面其中任一者的邊緣輪廓可具有多個突出部。突出部使光學表面的局部邊緣輪廓朝遠離光學表面中心的方向延伸。藉此,有助於提升成像品質。其中,反射面的邊緣輪廓可具有多個突出部,且突出部使反射面的局部邊緣輪廓朝遠離反射面中心的方向延伸。請參照圖13、圖14與圖17,係分別繪示有突出部315、316。
光路轉折元件更可包含第二反射面。第二反射面用於反射光線,以使光線的行進方向改變。藉此,有助於成像鏡頭模組的微型化設計。
本揭示的另一實施例揭露一種成像鏡頭模組,包含上述之光路轉折元件、第一透鏡組以及成像面。第一透鏡組設置於光路轉折元件的物側,且第一透鏡組包含第一透鏡以及第一遮光件。第一透鏡包含一第一光學有效部,且光線可通過第一光學有效部。第一遮光件具有第一通光孔。第一通光孔與光路轉折元件對應設置,且光線可通過第一通光孔。第一通光孔為第一透鏡組中的最小通光孔。成像面接收來自於光路轉折元件的光線。第一遮光件可為鏡筒、遮光片、間隔環或固定環等具有通光孔的不透光元件。
本揭示的成像鏡頭模組中,第一通光孔的最小孔徑為φ1,第一通光孔與光路轉折元件之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:0.2 ≤ φ1/(D1+1) ≤ 9。藉此,有助於有效阻擋雜散光。請參照圖3、圖21與圖31,係繪示有參數φ1與D1。
本揭示的成像鏡頭模組可進一步包含第二透鏡組。第二透鏡組設置於光路轉折元件的像側,且第二透鏡組包含第二透鏡以及第二遮光件。第二透鏡包含第二光學有效部,且光線可通過第二光學有效部。第二遮光件具有第二通光孔。第二通光孔與光路轉折元件對應設置,且光線可通過第二通光孔。第二通光孔為第二透鏡組中的最小通光孔。第二遮光件可為鏡筒、遮光片、間隔環或固定環等具有通光孔的不透光元件。第二透鏡組可相對成像面移動,以提供成像鏡頭模組光學影像穩定或者自動對焦功能。由於使用光路轉折元件的成像鏡頭模組可能有較長的光程,因此透過第一遮光件、光線吸收膜層、第二遮光件的多次遮光,可減少雜散光線到達成像面的機率。
本揭示的成像鏡頭模組中,第二通光孔的最小孔徑為φ2,第二通光孔與光路轉折元件之間的最短垂直距離為D2,其可滿足下列條件: 0.3 ≤ φ2/(D2+1) ≤ 12。藉此,能有效阻擋雜散光。請參照圖3與圖31,係繪示有參數φ2與D2。
本揭示的成像鏡頭模組可進一步包含第二光路轉折元件。第二光路轉折元件設置於第二透鏡組的像側。第二光路轉折元件用於反射光線至成像面。使用多個光路轉折元件多次摺疊光線,係有助於成像鏡頭模組的微型化設計。其中,第二光路轉折元件也可設置有光線吸收膜層。當成像鏡頭模組包含多個光路轉折元件時,光線吸收膜層可優先設置於與透鏡組距離較近的光路轉折元件。
本揭示的又另一實施例揭露一種電子裝置,包含上述之光路轉折元件。
本揭示的光路轉折元件中,所述一物件的主要成分表示此成分在此物件中所占重量百分比大於50 wt%。舉例來說,當描述到光線吸收膜層的吸光膜包含金屬層,且金屬層的主要成分為鉻金屬,則代表鉻金屬在金屬層中所占重量百分比大於50 wt%,例如金屬層為60 wt%鉻金屬與40 wt%鎳所組成之合金。
上述本揭示所揭露的光路轉折元件、成像鏡頭模組以及電子裝置中的各技術特徵皆可組合配置,而達到對應之功效。
根據上述實施方式,以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。
<第一實施例>
請參照圖1至圖6,其中圖1繪示依照本揭示第一實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖,圖2為圖1之成像鏡頭模組的分解示意圖,圖3為圖1之成像鏡頭模組的剖切示意圖,圖4為圖1之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖,圖5為圖4之光路轉折元件沿線5-5的剖切示意圖,且圖6為圖5之光路轉折元件沿線6-6的剖切示意圖。為清楚示意配置上的相對關係,部分元件被省略或被簡化處理。
本實施例的成像鏡頭模組1沿光路的行進方向依序包含第一透鏡組10、光路轉折元件30、第二透鏡組20、第二光路轉折元件40以及成像面50。
第一透鏡組10設置於光路轉折元件30的物側。第一透鏡組10包含第一透鏡110以及第一遮光件120。圖3繪示出單片第一透鏡110,但第一透鏡110的數量並不以此為限。第一透鏡110包含第一光學有效部111,且光線能通過第一光學有效部111。第一遮光件120例如但不限於是固定環,其具有第一通光孔121。其中,第一遮光件120亦可為鏡筒、遮光片或間隔環等實體為不透光之元件。第一通光孔121與光路轉折元件30對應設置,且光線可通過第一通光孔121。第一通光孔121為第一透鏡組10中的最小通光孔。
第二透鏡組20設置於光路轉折元件30的像側。第二透鏡組20包含第二透鏡210以及第二遮光件220。圖3繪示出多片第二透鏡210,但第二透鏡210的數量並不以此為限。各個第二透鏡210包含第二光學有效部211,且光線能通過第二光學有效部211。第二遮光件220例如但不限於是遮光片,其具有第二通光孔221。其中,第二遮光件220亦可為鏡筒、間隔環或固定環等實體為不透光之元件。第二通光孔221與光路轉折元件30對應設置,且光線可通過第二通光孔221。第二通光孔221為第二透鏡組20中的最小通光孔。第二透鏡組20可相對成像面50移動,以提供成像鏡頭模組1具有光學影像穩定或者自動對焦功能。
光路轉折元件30設置於第一透鏡組10和第二透鏡組20之間。進一步來說,光路轉折元件30可包含作為玻璃製稜鏡的主體39,其設置於第一透鏡組10的像側且設置於第二透鏡組20的物側。主體39具有光學表面310,且光學表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30。
在本實施例中,光路轉折元件30更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與至少部分光學表面310相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30的主體39實體接觸。詳細來說,光線吸收膜層320與光學表面310的反射面312相鄰設置,且光線吸收膜層320與光學表面310以外的主體39之其他表面區域實體接觸。
在本實施例中,光線吸收膜層320包含吸光膜321。吸光膜321包含金屬層,且金屬層的主要成分為鉻金屬。吸光膜321可呈深色外觀且可吸收可見光。
在本實施例中,光線吸收膜層320更包含第一抗反射膜322。如圖6所示,第一抗反射膜322相對吸光膜321靠近光路轉折元件30的主體39。第一抗反射膜322包含第一高折射率層與第一低折射率層,且第一高折射率層與第一低折射率層交替堆疊。第一高折射率層的主要成分可為TiO 2,且第一低折射率層的主要成分可為SiO 2
在本實施例中,光線吸收膜層320更包含中介層323。如圖6所示,中介層323設置於第一抗反射膜322與吸光膜321之間。中介層323的主要成分與第一高折射率層的主要成分或第一低折射率層的主要成分相同。
在本實施例中,光線吸收膜層320更包含第二抗反射膜324。如圖6所示,第二抗反射膜324相對吸光膜321遠離光路轉折元件30的主體39。第二抗反射膜324包含第二高折射率層與第二低折射率層,且第二高折射率層與第二低折射率層交替堆疊。第二高折射率層的主要成分可為TiO 2,且第二低折射率層的主要成分可為SiO 2
在本實施例中,光路轉折元件30更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30的主體39一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為不規則設置,如磨砂表面。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且光線吸收膜層320和消光結構330皆與光學表面310的反射面312相鄰設置。
第二光路轉折元件40設置於第二透鏡組20的像側,其用於反射光線至成像面50,以使光線的行進方向改變。如圖3所示,光路沿第一光軸OA1經過第一透鏡組10以及光路轉折元件30的入射面311至反射面312上。反射面312將光路由第一光軸OA1轉折至第二光軸OA2。光路沿第二光軸OA2經過出射面313以及第二透鏡組20至第二光路轉折元件40的反射面412。反射面412將光路由第二光軸OA2轉折至第三光軸OA3。光路沿第三光軸OA3離開第二光路轉折元件40至成像面50上。
圖1至圖3繪示出第二光路轉折元件40的光學表面上沒有設置光線吸收膜層,但本揭示並不以此為限。在其他實施例中,第二光路轉折元件的光學表面(例如反射面412)也可設置有光線吸收膜層。
在本實施例揭示的第一透鏡組10中,第一通光孔121的最小孔徑為φ1,第一通光孔121與光路轉折元件30之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:φ1 = 4.82 公釐(mm);D1 = 1.81 mm;且φ1/(D1+1) = 1.72。
在本實施例揭示的第二透鏡組20中,第二通光孔221的最小孔徑為φ2,第二通光孔221與光路轉折元件30之間的最短垂直距離為D2,其滿足下列條件:φ2 = 4.79 mm;D2 = 5.1 mm;且φ2/(D2+1) = 0.79。
<第二實施例>
請參照圖7至圖10,其中圖7繪示依照本揭示第二實施例的光路轉折元件的立體示意圖,圖8為圖7之光路轉折元件另一側的立體示意圖,圖9為圖8之光路轉折元件的局部A的放大示意圖,且圖10為圖7之光路轉折元件沿線10-10的剖切示意圖。本實施例的光路轉折元件30a可應用於圖1之成像鏡頭模組1。進一步來說,光路轉折元件30a可用來替換圖1中的光路轉折元件30或第二光路轉折元件40。
光路轉折元件30a可包含作為塑膠製稜鏡的主體39a,且主體39a具有光學表面310。光學表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30a。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30a。
在本實施例中,光路轉折元件30a更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與至少部分光學表面310相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30a的主體39a實體接觸。詳細來說,光線吸收膜層320與光學表面310的入射面311、反射面312以及出射面313相鄰設置,且光線吸收膜層320與光學表面310以外的主體39a之其他表面區域實體接觸。
在本實施例中,光路轉折元件30a更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30a的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30a的主體39a一體成型。進一步來說,可透過射出成型製程使主體39a與消光結構330一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為規則設置,如圖9中所示之陣列式排列的多個四角錐狀凸起。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且光線吸收膜層320和消光結構330皆與光學表面310的反射面312相鄰設置。
在本實施例中,光路轉折元件30a的至少部分光學表面310的邊緣具有階差結構314。階差結構314使光學表面310相對周邊的區域凸起。如圖9所示,反射面312的邊緣具有階差結構314,且反射面312相對周邊的消光結構330凸起。
<第三實施例>
請參照圖11至圖15,其中圖11繪示依照本揭示第三實施例的光路轉折元件的立體示意圖,圖12為圖11之光路轉折元件另一側的立體示意圖,圖13為圖11之光路轉折元件的局部B的放大示意圖,圖14為圖12之光路轉折元件的局部C的放大示意圖,且圖15為圖11之光路轉折元件沿線15-15的剖切示意圖。
本實施例的光路轉折元件30b可應用於圖1之成像鏡頭模組1。進一步來說,光路轉折元件30b可用來替換圖1中的光路轉折元件30或第二光路轉折元件40。
光路轉折元件30b可包含作為塑膠製稜鏡的主體39b,且主體39b具有光學表面310。光學表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30b。
在本實施例中,光路轉折元件30b更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與至少部分光學表面310相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30b的主體39b實體接觸。詳細來說,光線吸收膜層320與光學表面310的入射面311、反射面312以及出射面313相鄰設置,且光線吸收膜層320與光學表面310以外的主體39b之其他表面區域均實體接觸。
在本實施例中,光路轉折元件30b更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30b的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30b的主體39b一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為規則設置,如圖11中所示之按固定間隔線性排列的多個條狀凹陷。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且光線吸收膜層320和消光結構330皆與光學表面310的反射面312和出射面313相鄰設置。
在本實施例中,光路轉折元件30b的至少部分光學表面310的邊緣具有階差結構314。階差結構314使光學表面310相對周邊的區域凸起。如圖14所示,反射面312的邊緣具有階差結構314,且反射面312相對周邊的消光結構330凸起。
在本實施例中,光路轉折元件30b的光學表面310之邊緣輪廓具有多個突出部315、316。突出部315、316使光學表面310的局部邊緣輪廓朝遠離光學表面310中心的方向延伸。如圖13所示,出射面313的邊緣輪廓具有突出部315。突出部315使出射面313的局部邊緣輪廓朝遠離出射面313中心的方向延伸。如圖14所示,反射面312的邊緣輪廓具有突出部316。突出部316使反射面312的局部邊緣輪廓朝遠離反射面312中心的方向延伸。突出部315、316分別使出射面313和反射面312的邊緣輪廓呈現波浪狀。
<第四實施例>
請參照圖16至圖18,其中圖16繪示繪示依照本揭示第四實施例的成像鏡頭模組的剖切示意圖,圖17為圖16之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖,且圖18為圖17之光路轉折元件沿線18-18的剖切示意圖。
本實施例的成像鏡頭模組1a沿光路的行進方向依序包含第一透鏡組10、光路轉折元件30c、第二透鏡組20、第二光路轉折元件40以及成像面50。
第一透鏡組10設置於光路轉折元件30c的物側。第一透鏡組10包含第一透鏡110以及第一遮光件120。圖16繪示出單片第一透鏡110,但第一透鏡110的數量並不以此為限。第一透鏡110包含第一光學有效部111,且光線能通過第一光學有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121與光路轉折元件30c對應設置,且光線可通過第一通光孔121。
第二透鏡組20設置於光路轉折元件30c的像側。第二透鏡組20包含第二透鏡210以及第二遮光件220。圖16繪示出多片第二透鏡210,但第二透鏡210的數量並不以此為限。各個第二透鏡210包含第二光學有效部211,且光線能通過第二光學有效部211。第二遮光件220具有第二通光孔221。第二通光孔221與光路轉折元件30c對應設置,且光線可通過第二通光孔221。第二透鏡組20可相對成像面50移動,以提供成像鏡頭模組1a具有光學影像穩定或者自動對焦功能。
光路轉折元件30c設置於第一透鏡組10和第二透鏡組20之間。進一步來說,光路轉折元件30c設置於第一透鏡組10的像側且設置於第二透鏡組20的物側。光路轉折元件30c可包含作為平面反射鏡的主體39c,且主體39c具有反射面312,但不包含入射面311以及出射面313。換句話說,光路轉折元件30c的光學表面為單一表面(反射面312)。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。此外,反射面312鍍有反射膜3121以反射光線,且反射膜3121的主要成分可包含鋁。
在本實施例中,光路轉折元件30c更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與反射面312相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30c的主體39c實體接觸。
在本實施例中,光路轉折元件30c的反射面312的邊緣輪廓具有多個突出部316。突出部316使反射面312的局部邊緣輪廓朝遠離反射面312中心的方向延伸。
第二光路轉折元件40設置於第二透鏡組20的像側,其用於反射光線至成像面50,以使光線的行進方向改變。如圖16所示,光路沿第一光軸OA1經過第一透鏡組10至光路轉折元件30c的反射面312上。反射面312將光路由第一光軸OA1轉折至第二光軸OA2。光路沿第二光軸OA2經過第二透鏡組20至第二光路轉折元件40的反射面412。反射面412將光路由第二光軸OA2轉折至第三光軸OA3。光路沿第三光軸OA3離開第二光路轉折元件40至成像面50上。
<第五實施例>
請參照圖19至圖28,其中圖19繪示依照本揭示第五實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖,圖20為圖19之成像鏡頭模組的分解示意圖,圖21為圖19之成像鏡頭模組的剖切示意圖,圖22為圖19之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖,圖23為圖22之光路轉折元件的局部D的放大示意圖,圖24和圖25為圖22之光路轉折元件沿線24-24的剖切示意圖,圖26為圖22之光路轉折元件沿線26-26的剖切示意圖,圖27為圖26之光路轉折元件的局部E的放大示意圖,且圖28為圖25之光路轉折元件沿線28-28的剖切示意圖。
本實施例的成像鏡頭模組2沿光路的行進方向依序包含第一透鏡組10、光路轉折元件30d、成像面50以及固定件60。第一透鏡組10和光路轉折元件30d承載於固定件60上。
第一透鏡組10設置於光路轉折元件30d的物側。第一透鏡組10包含第一透鏡110以及第一遮光件120。圖21繪示出多片第一透鏡110,但第一透鏡110的數量並不以此為限。各個第一透鏡110包含第一光學有效部111,且光線能通過第一光學有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121與光路轉折元件30d對應設置,且光線可通過第一通光孔121。第一通光孔121為第一透鏡組10中的最小通光孔。
光路轉折元件30d設置於第一透鏡組10和成像面50之間。進一步來說,光路轉折元件30d設置於第一透鏡組10的像側。光路轉折元件30d可包含作為塑膠製稜鏡的主體39d,且主體39d具有光學表面310。光學表面310包含入射面311、反射面312、反射面312d以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30d。反射面312、312d用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30d。在本實施例中,反射面312鍍有反射膜以反射光線,且反射膜的主要成分可包含鋁。反射面312d藉由全內反射使光線的行進方向改變。
在本實施例中,光路轉折元件30d更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與至少部分光學表面310相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30d的主體39d實體接觸。詳細來說,光線吸收膜層320與光學表面310的入射面311、反射面312、312d以及出射面313相鄰設置,且光線吸收膜層320與光學表面310以外的主體39d之其他表面區域實體接觸。
在本實施例中,光線吸收膜層320包含吸光膜321。吸光膜321包含金屬層,且金屬層的主要成分為鉻金屬。吸光膜321可呈深色外觀且可吸收可見光。
在本實施例中,光線吸收膜層320更包含第一抗反射膜322。如圖28所示,第一抗反射膜322相對吸光膜321靠近光路轉折元件30d的主體39d。第一抗反射膜322包含第一高折射率層與第一低折射率層,且第一高折射率層與第一低折射率層交替堆疊。第一高折射率層的主要成分可為TiO 2,且第一低折射率層的主要成分可為SiO 2
在本實施例中,光線吸收膜層320更包含中介層323。如圖28所示,中介層323設置於第一抗反射膜322與吸光膜321之間。中介層323的主要成分與第一高折射率層的主要成分或第一低折射率層的主要成分相同。
在本實施例中,光路轉折元件30d更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30d的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30d的主體39d一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為規則設置,如按固定間隔線性排列的多個條狀凹陷。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且光線吸收膜層320和消光結構330皆與光學表面310的反射面312相鄰設置。
在本實施例中,光路轉折元件30d的至少部分光學表面310的邊緣具有階差結構314。階差結構314使光學表面310相對周邊的區域凹陷。如圖23所示,反射面312的邊緣具有階差結構314,且反射面312相對周邊的消光結構330凹陷。
在本實施例中,光路轉折元件30d之主體39d的通光區域具有多個突出部317。如圖27所示,突出部317使光路轉折元件30d之主體39d的局部截面的邊緣輪廓呈現波浪狀,而有助於減少雜散光。
如圖21所示,光路沿第一光軸OA1經過第一透鏡組10以及光路轉折元件30d的入射面311至反射面312上。反射面312將光路由第一光軸OA1轉折至第二光軸OA2。光路沿第二光軸OA2行進至反射面312d,且反射面312d將光路由第二光軸OA2轉折至第三光軸OA3。光路沿第三光軸OA3行進至另一反射面312d,且反射面312d將光路由第三光軸OA3轉折至第四光軸OA4。光路沿第四光軸OA4行進至另一反射面312,且反射面312將光路由第四光軸OA4轉折至第五光軸OA5。光路沿第五光軸OA5離開光路轉折元件30d至成像面50。簡而言之,光線於光路轉折元件30d內進行四次反射,其中在反射面312d發生全內反射。
在本實施例揭示的第一透鏡組10中,第一通光孔121的最小孔徑為φ1,第一通光孔121與光路轉折元件30d之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:φ1 = 4.85 mm;D1 = 1.11 mm;且φ1/(D1+1) = 2.30。
<第六實施例>
請參照圖29至圖35,其中圖29繪示依照本揭示第六實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖,圖30為圖29之成像鏡頭模組的分解示意圖,圖31為圖29之成像鏡頭模組的剖切示意圖,圖32為圖29之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖,圖33為圖32之光路轉折元件的局部F的放大示意圖,圖34為圖32之光路轉折元件沿線34-34的剖切示意圖,且圖35為圖34之光路轉折元件沿線35-35的剖切示意圖。
本實施例的成像鏡頭模組3沿光路的行進方向依序包含第一透鏡組10、光路轉折元件30e、第二透鏡組20以及成像面50。
第一透鏡組10設置於光路轉折元件30e的物側。第一透鏡組10包含第一透鏡110以及第一遮光件120。圖31繪示出多片第一透鏡110,但第一透鏡110的數量並不以此為限。各個第一透鏡110包含第一光學有效部111,且光線能通過第一光學有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121與光路轉折元件30e對應設置,且光線可通過第一通光孔121。第一通光孔121為第一透鏡組10中的最小通光孔。
第二透鏡組20設置於光路轉折元件30e的像側。第二透鏡組20包含第二透鏡210以及第二遮光件220。圖31繪示出多片第二透鏡210,但第二透鏡210的數量並不以此為限。各個第二透鏡210包含第二光學有效部211,且光線能通過第二光學有效部211。第二遮光件220具有第二通光孔221。第二通光孔221與光路轉折元件30e對應設置,且光線可通過第二通光孔221。第二通光孔221為第二透鏡組20中的最小通光孔。
光路轉折元件30e設置於第一透鏡組10和第二透鏡組20之間。進一步來說,光路轉折元件30e設置於第一透鏡組10的像側且設置於第二透鏡組20的物側。光路轉折元件30e可包含作為塑膠製稜鏡的主體39e,且主體39e具有光學表面310。光學表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30e。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30e。
在本實施例中,光路轉折元件30e更包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與至少部分光學表面310相鄰設置,且光線吸收膜層320與光路轉折元件30e的主體39e實體接觸。詳細來說,光線吸收膜層320與光學表面310的入射面311及反射面312相鄰設置,且光線吸收膜層320與光學表面310以外的主體39e之其他表面區域實體接觸。
在本實施例中,光線吸收膜層320包含吸光膜,且吸光膜包含金屬層3211以及氧化金屬層3212,且吸光膜321可由金屬層3211與氧化金屬層3212堆疊而成。金屬層3211的主要成分為鉻金屬,氧化金屬層3212的主要成分為MO y。其中,M為鉭金屬、鈦金屬和鉻金屬中的任一者,且y滿足下列條件:y ≤ 1。吸光膜321可呈深色外觀且可吸收可見光。
在本實施例中,光路轉折元件30e更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30e的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30e的主體39e一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為規則設置,如按固定間隔線性排列的多個條狀凹陷。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且消光結構330與光學表面310的反射面312相鄰設置。
如圖31所示,光路沿第一光軸OA1經過第一透鏡組10以及光路轉折元件30e的入射面311至反射面312上。反射面312將光路由第一光軸OA1轉折至第二光軸OA2。光路沿第二光軸OA2經過出射面313以及第二透鏡組20至成像面50上。
在本實施例揭示的第一透鏡組10中,第一通光孔121的最小孔徑為φ1,第一通光孔121與光路轉折元件30e之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:φ1 = 1.96 mm;D1 = 1.11 mm;且φ1/(D1+1) = 0.93。
在本實施例揭示的第二透鏡組20中,第二通光孔221的最小孔徑為φ2,第二通光孔221與光路轉折元件30e之間的最短垂直距離為D2,其滿足下列條件:φ2 = 3.92 mm;D2 = 0.14 mm;且φ2/(D2+1) = 3.44。
<第七實施例>
請參照圖36至圖45,其中圖36繪示依照本揭示第七實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖,圖37為圖36之成像鏡頭模組的剖切示意圖,圖38為圖37之成像鏡頭模組的第一光路轉折元件的示意圖,圖39為圖38之第一光路轉折元件的立體示意圖,圖40為圖39之第一光路轉折元件另一側的立體示意圖,圖41為圖39之第一光路轉折元件的局部G的放大示意圖,圖42為圖40之第一光路轉折元件另一側的局部H的放大示意圖,圖43為圖37之成像鏡頭模組的第二光路轉折元件的示意圖,圖44為圖43之第二光路轉折元件的立體示意圖,且圖45為圖44之第二光路轉折元件另一側的立體示意圖。
本實施例的成像鏡頭模組4沿光路的行進方向依序包含光路轉折元件30f、第二光路轉折元件40f、第一透鏡組10以及成像面50。
第一透鏡組10包含第一透鏡110以及第一遮光件120。圖37繪示出多片第一透鏡110,但第一透鏡110的數量並不以此為限。各個第一透鏡110包含第一光學有效部111,且光線能通過第一光學有效部111。第一遮光件120具有第一通光孔121。第一通光孔121與第二光路轉折元件40f對應設置,且光線可通過第一通光孔121。
光路轉折元件30f和第二光路轉折元件40f設置於第一透鏡組10的物側。進一步來說,光路轉折元件30f設置於第一透鏡組10的物側且設置於第二光路轉折元件40f的物側。此外,第二光路轉折元件40f設置於光路轉折元件30f和第一透鏡組10之間。進一步來說,第二光路轉折元件40f設置於第一透鏡組10的物側且設置於光路轉折元件30f的像側。光路轉折元件30f和第二光路轉折元件40f可各自包含作為玻璃片或塑膠片的主體39f和49f。
光路轉折元件30f的主體39f和第二光路轉折元件40f的主體49f各自具有光學表面310,且光學表面310包含入射面311、反射面312以及出射面313。光線由入射面311進入光路轉折元件30f(或第二光路轉折元件40f)。反射面312用於反射光線,以使光線的行進方向改變。光線由出射面313離開光路轉折元件30f(或第二光路轉折元件40f)。反射面312鍍有反射膜3121以反射光線,且反射膜3121的主要成分可包含鋁。在本實施例中,光路轉折元件30f的反射面312在近光軸處,且第二光路轉折元件40f的反射面312在離軸處。
在本實施例中,光路轉折元件30f和第二光路轉折元件40f各自包含用於降低反射率的光線吸收膜層320。光線吸收膜層320與光路轉折元件30f的主體39f或第二光路轉折元件40f的主體49f實體接觸。
在本實施例中,光路轉折元件30f更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使光路轉折元件30f的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與光路轉折元件30f的主體39f一體成型。在本實施例中,消光結構330的凹凸起伏為規則設置。如圖39和圖41所示,消光結構330包含圍繞反射面312排列的多個條狀凹陷。如圖40和圖42所示,消光結構330進一步包含圍繞出射面313排列的多個條狀凸起。光線吸收膜層320設置於消光結構330上,且消光結構330與反射面312和出射面313相鄰設置。
在本實施例中,第二光路轉折元件40f更包含消光結構330,且消光結構330與至少部分光學表面310相鄰設置。消光結構330使第二光路轉折元件40f的表面輪廓具有凹凸起伏,且消光結構330與第二光路轉折元件40f的主體49f一體成型。如圖45所示,消光結構330包含圍繞出射面313排列的多個條狀凹陷。
如圖37所示,光路經過光路轉折元件30f至第二光路轉折元件40f的反射面312上。反射面312將光路轉折,以使光路經過第二光路轉折元件40f的入射面311以及光路轉折元件30f的出射面313至光路轉折元件30f的反射面312。光路轉折元件30f的反射面312將光路再次轉折,以使光路經過光路轉折元件30f的出射面313、第二光路轉折元件40f的出射面313以及第一透鏡組10至成像面50上。
<第八實施例>
請參照圖46,係繪示依照本揭示第八實施例的一種電子裝置之一側的立體示意圖。
在本實施例中,電子裝置200為一智慧型手機。電子裝置200包含取像裝置100、取像裝置100a、取像裝置100b以及取像裝置100c。取像裝置100、取像裝置100a、取像裝置100b與取像裝置100c係皆配置於電子裝置200的同一側。取像裝置100包含本揭示第一實施例之成像鏡頭模組1,且取像裝置100可因光路轉折元件的設置而可成為一折疊光學系統。取像裝置100亦包含本揭示其他實施例之成像鏡頭模組2~4,本揭示不以此為限。並且,取像裝置100a、取像裝置100b與取像裝置100c皆可包含本揭示的成像鏡頭模組且皆可具有與取像裝置100類似的結構配置之折疊光學系統,在此不再加以贅述。
取像裝置100為具有光路轉折元件(例如第一實施例之光路轉折元件30以及第二光路轉折元件40)的一超望遠取像裝置,取像裝置100a為一望遠取像裝置,取像裝置100b為一廣角取像裝置,且取像裝置100c為一超廣角取像裝置。本實施例之取像裝置100、取像裝置100a、取像裝置100b與取像裝置100c具有相異的視角,使電子裝置200可提供不同的放大倍率,以達到光學變焦的拍攝效果。具體來說,取像裝置100的視角可為5度至30度,取像裝置100a的視角可為30度至60度,取像裝置100b的視角可為65度至90度,且取像裝置100c的視角可為93度至175度。取像裝置的具體視角僅作為舉例說明,本揭示並不以此為限。
上述電子裝置200以包含多個取像裝置100、100a、100b、100c為例,但取像裝置的數量與配置並非用以限制本揭示。當使用者拍攝被攝物時,電子裝置200利用取像裝置100、取像裝置100a、取像裝置100b或取像裝置100c聚光取像。
<第九實施例>
請參照圖47至圖49,其中圖47繪示依照本揭示第九實施例的一種電子裝置之一側的立體示意圖,圖48繪示圖47之電子裝置之另一側的立體示意圖,且圖49繪示圖47之電子裝置的系統方塊圖。
在本實施例中,電子裝置300為一智慧型手機。電子裝置300包含取像裝置100、取像裝置100d、取像裝置100e、取像裝置100f、取像裝置100g、取像裝置100h、閃光燈模組301、對焦輔助模組302、影像訊號處理器303(Image Signal Processor)、顯示模組304以及影像軟體處理器305。取像裝置100、取像裝置100d及取像裝置100e係皆配置於電子裝置300的同一側。對焦輔助模組302可採用雷射測距或飛時測距(Time of Flight,ToF)模組,但本揭示並不以此為限。取像裝置100f、取像裝置100g、取像裝置100h及顯示模組304係皆配置於電子裝置300的另一側,並且顯示模組304可為使用者介面,以使取像裝置100f、取像裝置100g及取像裝置100h可作為前置鏡頭以提供自拍功能,但本揭示並不以此為限。並且,取像裝置100、取像裝置100d、取像裝置100e、取像裝置100f、取像裝置100g及取像裝置100h皆可包含本揭示的光路轉折元件。詳細來說,取像裝置100、取像裝置100d、取像裝置100e、取像裝置100f、取像裝置100g及取像裝置100h各可包含本揭示之成像鏡頭模組、一驅動裝置、一電子感光元件以及一影像穩定模組,並且各可包含光路轉折元件。
取像裝置100為一望遠取像裝置,取像裝置100d為一廣角取像裝置,取像裝置100e為一超廣角取像裝置,取像裝置100f為一廣角取像裝置,取像裝置100g為一超廣角取像裝置,且取像裝置100h為一飛時測距取像裝置。本實施例之取像裝置100、取像裝置100d與取像裝置100e具有相異的視角,使電子裝置300可提供不同的放大倍率,以達到光學變焦的拍攝效果。另外,取像裝置100h係可取得影像的深度資訊。上述電子裝置300以包含多個取像裝置100、100d、100e、100f、100g、100h為例,但取像裝置的數量與配置並非用以限制本揭示。
當使用者拍攝被攝物306時,電子裝置300利用取像裝置100、取像裝置100d或取像裝置100e聚光取像,啟動閃光燈模組301進行補光,並使用對焦輔助模組302提供的被攝物306之物距資訊進行快速對焦,再加上影像訊號處理器303進行影像最佳化處理,來進一步提升折疊光學系統所產生的影像品質。對焦輔助模組302可採用紅外線或雷射對焦輔助系統來達到快速對焦。此外,電子裝置300亦可利用取像裝置100f、取像裝置100g或取像裝置100h進行拍攝。顯示模組304可採用觸控螢幕,配合影像軟體處理器305的多樣化功能進行影像拍攝以及影像處理(或可利用實體拍攝按鈕進行拍攝)。經由影像軟體處理器305處理後的影像可顯示於顯示模組304。
本揭示的取像裝置並不以應用於智慧型手機為限。取像裝置更可視需求應用於移動對焦的系統,並兼具優良像差修正與良好成像品質的特色。舉例來說,取像裝置可多方面應用於三維(3D)影像擷取、數位相機、行動裝置、數位平板、智慧型電視、網路監控設備、行車記錄器、倒車顯影裝置、多鏡頭裝置、辨識系統、體感遊戲機與穿戴式裝置等電子裝置中。前揭電子裝置僅是示範性地說明本揭示的實際運用例子,並非限制本揭示之取像裝置的運用範圍。
雖然本揭示以前述之較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本揭示,任何熟習相像技藝者,在不脫離本揭示之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本揭示之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
1、1a、2、3、4:成像鏡頭模組 10:第一透鏡組 110:第一透鏡 111:第一光學有效部 121:第一通光孔 120:第一遮光件 30、30a、30b、30c、30d、30e、30f:光路轉折元件 39、39a、39b、39c、39d、39e、39f、49f:主體 310:光學表面 311:入射面 312、312d:反射面 3121:反射膜 313:出射面 314:階差結構 315、316、317:突出部 320:光線吸收膜層 321:吸光膜 3211:金屬層 3212:氧化金屬層 322:第一抗反射膜 323:中介層 324:第二抗反射膜 330:消光結構 20:第二透鏡組 210:第二透鏡 211:第二光學有效部 220:第二遮光件 221:第二通光孔 40、40f:第二光路轉折元件 412:反射面 50:成像面 60:固定件 200、300:電子裝置 100、100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g、100h:取像裝置 301:閃光燈模組 302:對焦輔助模組 303:影像訊號處理器 304:顯示模組 305:影像軟體處理器 306:被攝物 OA2:第二光軸 OA3:第三光軸 OA4:第四光軸 OA5:第五光軸
圖1繪示依照本揭示第一實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖。 圖2為圖1之成像鏡頭模組的分解示意圖。 圖3為圖1之成像鏡頭模組的剖切示意圖。 圖4為圖1之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖。 圖5為圖4之光路轉折元件沿線5-5的剖切示意圖。 圖6為圖5之光路轉折元件沿線6-6的剖切示意圖。 圖7繪示依照本揭示第二實施例的光路轉折元件的立體示意圖。 圖8為圖7之光路轉折元件另一側的立體示意圖。 圖9為圖8之光路轉折元件的局部A的放大示意圖。 圖10為圖7之光路轉折元件沿線10-10的剖切示意圖。 圖11繪示依照本揭示第三實施例的光路轉折元件的立體示意圖。 圖12為圖11之光路轉折元件另一側的立體示意圖。 圖13為圖11之光路轉折元件的局部B的放大示意圖。 圖14為圖12之光路轉折元件的局部C的放大示意圖。 圖15為圖11之光路轉折元件沿線15-15的剖切示意圖。 圖16繪示繪示依照本揭示第四實施例的成像鏡頭模組的剖切示意圖。 圖17為圖16之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖。 圖18為圖17之光路轉折元件沿線18-18的剖切示意圖。 圖19繪示依照本揭示第五實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖。 圖20為圖19之成像鏡頭模組的分解示意圖。 圖21為圖19之成像鏡頭模組的剖切示意圖。 圖22為圖19之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖。 圖23為圖22之光路轉折元件的局部D的放大示意圖。 圖24和圖25為圖22之光路轉折元件沿線24-24的剖切示意圖。 圖26為圖22之光路轉折元件沿線26-26的剖切示意圖。 圖27為圖26之光路轉折元件的局部E的放大示意圖。 圖28為圖25之光路轉折元件沿線28-28的剖切示意圖。 圖29繪示依照本揭示第六實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖。 圖30為圖29之成像鏡頭模組的分解示意圖。 圖31為圖29之成像鏡頭模組的剖切示意圖。 圖32為圖29之成像鏡頭模組的光路轉折元件的立體示意圖。 圖33為圖32之光路轉折元件的局部F放大示意圖。 圖34為圖32之光路轉折元件沿線34-34的剖切示意圖。 圖35為圖34之光路轉折元件沿線35-35的剖切示意圖。 圖36繪示依照本揭示第七實施例的成像鏡頭模組的立體示意圖。 圖37為圖36之成像鏡頭模組的剖切示意圖。 圖38為圖37之成像鏡頭模組的第一光路轉折元件的示意圖。 圖39為圖38之第一光路轉折元件的立體示意圖。 圖40為圖39之第一光路轉折元件另一側的立體示意圖。 圖41為圖39之第一光路轉折元件的局部G放大示意圖。 圖42為圖40之第一光路轉折元件另一側的局部H的放大示意圖。 圖43為圖37之成像鏡頭模組的第二光路轉折元件的示意圖。 圖44為圖43之第二光路轉折元件的立體示意圖。 圖45為圖44之第二光路轉折元件另一側的立體示意圖。 圖46繪示依照本揭示第八實施例的一種電子裝置之一側的立體示意圖。 圖47繪示依照本揭示第九實施例的一種電子裝置之一側的立體示意圖。 圖48繪示圖47之電子裝置之另一側的立體示意圖。 圖49繪示圖47之電子裝置的系統方塊圖。
30:光路轉折元件 39:主體 311:入射面 312:反射面 313:出射面 320:光線吸收膜層 330:消光結構

Claims (31)

  1. 一種光路轉折元件,包含:一主體,具有一光學表面,且該光學表面包含:一入射面,一光線由該入射面進入該光路轉折元件;一反射面,用於反射該光線以使該光線的行進方向改變;以及一出射面,該光線由該出射面離開該光路轉折元件;以及一消光結構,與至少部分的該光學表面相鄰設置;其中,該消光結構使該光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,該消光結構的凹凸起伏為規則設置,且該消光結構與該光路轉折元件的該主體一體成型。
  2. 如請求項1所述之光路轉折元件,更包含一光線吸收膜層,其中該光線吸收膜層用於降低反射率,該光線吸收膜層與至少部分的該光學表面相鄰設置,且該光線吸收膜層與該光路轉折元件的該主體實體接觸。
  3. 如請求項2所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層與該反射面相鄰設置。
  4. 如請求項1所述之光路轉折元件,其中至少部分的該光學表面的邊緣具有一階差結構,該階差結構使該光學表面相對於其周邊的區域凸起或凹陷。
  5. 如請求項2所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層包含一吸光膜,該吸光膜包含一金屬層,且該金屬層的主要成分為鉻(Cr)金屬。
  6. 如請求項5所述之光路轉折元件,其中該吸光膜更包含一氧化金屬層,該氧化金屬層的主要成分為MOy,其中M為鉭(Ta)金屬、鈦(Ti)金屬和鉻(Cr)金屬中的任一者,且y滿足下列條件:y
    Figure 113100750-A0305-02-0031-1
    1。
  7. 如請求項5所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層更包含一第一抗反射膜,該第一抗反射膜相對該吸光膜靠近該光路轉折元件的該主體,該第一抗反射膜包含一第一高折射率層以及一第一低折射率層,該第一高折射率層的折射率大於該第一低折射率層,且該第一高折射率層與該第一低折射率層交替堆疊。
  8. 如請求項7所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層更包含一中介層,該中介層設置於該第一抗反射膜與該吸光膜之間,該中介層的主要成分與該第一高折射率層的主要成分或該第一低折射率層的主要成分相同。
  9. 如請求項8所述之光路轉折元件,其中該中介層的主要成分為SiO2
  10. 如請求項7所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層更包含一第二抗反射膜,該第二抗反射膜相對該吸光膜遠離該光路轉折元件的該主體,該第二抗反射膜包含一第二高折射率層以及一第二低折射率層,該第二高折射率層的折射率大於該第二低折射率層,且該第二高折射率層與該第二低折射率層交替堆疊。
  11. 如請求項1所述之光路轉折元件,其中該消光結構與該反射面相鄰設置。
  12. 如請求項1所述之光路轉折元件,其中該光路轉折元件的材料為塑膠。
  13. 如請求項1所述之光路轉折元件,其中該入射面、該反射面和該出射面其中任一者的邊緣輪廓具有多個突出部,該些突出部使該光學表面的局部邊緣輪廓朝遠離該光學表面中心的方向延伸。
  14. 如請求項1所述之光路轉折元件,更包含一第二反射面,該第二反射面用於反射該光線以使該光線的行進方向改變。
  15. 一種成像鏡頭模組,包含:如請求項1所述之光路轉折元件;一第一透鏡組,設置於該光路轉折元件的物側,該第一透鏡組包含:一第一透鏡,包含一第一光學有效部,該光線通過該第一光學有效部;以及一第一遮光件,具有一第一通光孔,該第一通光孔與該光路轉折元件對應設置,且該光線通過該第一通光孔;以及一成像面,用於接收該光線;其中,該第一通光孔為該第一透鏡組中的最小通光孔,該第一通光孔的最小孔徑為φ1,該第一通光孔與該光路轉折元件之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:0.2
    Figure 113100750-A0305-02-0032-2
    φ1/(D1+1)
    Figure 113100750-A0305-02-0032-3
    9。
  16. 如請求項15所述之成像鏡頭模組,更包含:一第二透鏡組,設置於該光路轉折元件的像側,該第二透鏡組包含: 一第二透鏡,包含一第二光學有效部,該光線通過該第二光學有效部;以及一第二遮光件,具有一第二通光孔,該第二通光孔與該光路轉折元件對應設置,且該光線通過該第二通光孔;其中,該第二通光孔為該第二透鏡組中的最小通光孔,該第二通光孔的最小孔徑為φ2,該第二通光孔與該光路轉折元件之間的最短垂直距離為D2,其滿足下列條件:0.3
    Figure 113100750-A0305-02-0033-4
    φ2/(D2+1)
    Figure 113100750-A0305-02-0033-5
    12。
  17. 如請求項16所述之成像鏡頭模組,更包含一第二光路轉折元件,該第二光路轉折元件設置於該第二透鏡組的像側。
  18. 一種光路轉折元件,包含:一主體,具有一光學表面,且該光學表面包含:一入射面,一光線由該入射面進入該光路轉折元件;一反射面,用於反射該光線以使該光線的行進方向改變;以及一出射面,該光線由該出射面離開該光路轉折元件;以及一消光結構,與至少部分的該光學表面相鄰設置,該消光結構使該光路轉折元件的表面輪廓具有凹凸起伏,該消光結構的凹凸起伏為規則設置,且該消光結構與該光路轉折元件的該主體一體成型;其中,至少部分的該光學表面的邊緣具有一階差結構,該階差結構使該光學表面相對於其周邊的區域凸起或凹陷。
  19. 如請求項18所述之光路轉折元件,更包含: 一光線吸收膜層,用於降低反射率,該光線吸收膜層與至少部分的該光學表面相鄰設置,該光線吸收膜層與該光路轉折元件的該主體實體接觸,該光線吸收膜層自該光學表面朝遠離該主體的方向上依序包含一第一抗反射膜以及一吸光膜,該第一抗反射膜用以降低反射率,且該吸光膜包含一金屬層。
  20. 如請求項19所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層與該反射面相鄰設置。
  21. 如請求項19所述之光路轉折元件,其中該金屬層的主要成分為鉻(Cr)金屬。
  22. 如請求項21所述之光路轉折元件,其中該吸光膜更包含一氧化金屬層,該氧化金屬層的主要成分為MOy;其中,M為鉭(Ta)金屬、鈦(Ti)金屬和鉻(Cr)金屬中的任一者,且y滿足下列條件:y
    Figure 113100750-A0305-02-0034-6
    1。
  23. 如請求項19所述之光路轉折元件,其中該第一抗反射膜包含一第一高折射率層以及一第一低折射率層,該第一高折射率層的折射率大於該第一低折射率層,且該第一高折射率層與該第一低折射率層交替堆疊。
  24. 如請求項23所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層更包含一中介層,該中介層設置於該第一抗反射膜與該吸光膜之間,該中介層的主要成分與該第一高折射率層的主要成分或該第一低折射率層的主要成分相同。
  25. 如請求項23所述之光路轉折元件,其中該光線吸收膜層更包含一第二抗反射膜,該第二抗反射膜相對該吸光膜遠離該光路轉折元件的該主體,該第二抗反射膜包含一第二高折射率層以及一第二低折射率層,該第二高折 射率層的折射率大於該第二低折射率層,且該第二高折射率層與該第二低折射率層交替堆疊。
  26. 如請求項18所述之光路轉折元件,其中該消光結構與該反射面相鄰設置。
  27. 如請求項18所述之光路轉折元件,其中該反射面的邊緣輪廓具有多個突出部,該些突出部使該反射面的局部邊緣輪廓朝遠離該光學表面中心的方向延伸。
  28. 一種成像鏡頭模組,包含:如請求項18所述之光路轉折元件;一第一透鏡組,設置於該光路轉折元件的物側,該第一透鏡組包含:一第一透鏡,包含一第一光學有效部,該光線通過該第一光學有效部;以及一第一遮光件,具有一第一通光孔,該第一通光孔與該光路轉折元件對應設置,且該光線通過該第一通光孔;以及一成像面,用於接收該光線;其中,該第一通光孔為該第一透鏡組中的最小通光孔,該第一通光孔的最小孔徑為φ1,該第一通光孔與該光路轉折元件之間的最短垂直距離為D1,其滿足下列條件:0.2
    Figure 113100750-A0305-02-0035-7
    φ1/(D1+1)
    Figure 113100750-A0305-02-0035-8
    9。
  29. 如請求項28所述之成像鏡頭模組,更包含:一第二透鏡組,設置於該光路轉折元件的像側,該第二透鏡組包含: 一第二透鏡,包含一第二光學有效部,該光線通過該第二光學有效部;以及一第二遮光件,具有一第二通光孔,該第二通光孔與該光路轉折元件對應設置,且該光線通過該第二通光孔;其中,該第二通光孔為該第二透鏡組中的最小通光孔,該第二通光孔的最小孔徑為φ2,該第二通光孔與該光路轉折元件之間的最短垂直距離為D2,其滿足下列條件:0.3
    Figure 113100750-A0305-02-0036-9
    φ2/(D2+1)
    Figure 113100750-A0305-02-0036-10
    12。
  30. 如請求項29所述之成像鏡頭模組,更包含一第二光路轉折元件,該第二光路轉折元件設置於該第二透鏡組的像側。
  31. 一種電子裝置,包含如請求項1或請求項18所述之光路轉折元件。
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