SU457407A1 - Photoresistance - Google Patents

Photoresistance

Info

Publication number
SU457407A1
SU457407A1 SU1899516A SU1899516A SU457407A1 SU 457407 A1 SU457407 A1 SU 457407A1 SU 1899516 A SU1899516 A SU 1899516A SU 1899516 A SU1899516 A SU 1899516A SU 457407 A1 SU457407 A1 SU 457407A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
photoresistance
concentration
change
radiation
photoconductivity
Prior art date
Application number
SU1899516A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
П.М. Валов
Б.С. Рывкин
С.М. Рывкин
И.Д. Ярошецкий
Original Assignee
Ордена Ленина Физико-Технический Институт Имени А.Ф.Иоффе
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ордена Ленина Физико-Технический Институт Имени А.Ф.Иоффе filed Critical Ордена Ленина Физико-Технический Институт Имени А.Ф.Иоффе
Priority to SU1899516A priority Critical patent/SU457407A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU457407A1 publication Critical patent/SU457407A1/en

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Description

(54) ФОТОСОПРОТИВЛЕНИЕ(54) PHOTO RESISTANCE

1one

Изобретение относитс  к технике измерени  временных и энергетических характеристик импульсов инфракрасного излучени  СО и СО лазеров ( Я 10,6 мкм и 5,3 мкм соответственно) различной дли- тепьности вплоть до длительности 5 .,The invention relates to a technique for measuring the temporal and energy characteristics of infrared radiation pulses of CO and CO lasers (I 10.6 µm and 5.3 µm, respectively) of various lengths up to a duration of 5.,

Известны различные устройства дл  измерени  временных и энергетических характеристик импульсов инфракрасного излучени  СО и СО лазеров. Одними из наиболее распространенных  вл ютс  устройства , датчики которых работают на принципе измерени  межзонной или примесной фотопроводимости.Various devices are known for measuring the temporal and energy characteristics of infrared radiation pulses of CO and CO lasers. One of the most common are devices whose sensors operate on the principle of measuring interband or impurity photoconductivity.

Однако такими устройствами невозможно измер ть импульсы ивлучени  длительностью короче 10 сек, а также их датчику часто требуетс  принудительное охлаждение . Так например, наиболее быстрые из известных в насто щее вреьет фотоприемников дл  СО -лазера - фотосопротивлени  на основе + 5Ь требуют принудительного охлаждени  и имеют разрешение не лучше 10 сек.However, such devices cannot measure pulses and radiation with a duration shorter than 10 seconds, and their sensor often requires forced cooling. Thus, for example, the fastest photo detectors for a CO laser, which are currently known, are photoresistance based on + 5L, they require forced cooling and have a resolution of no better than 10 sec.

Дл  измерени  временных и энергетических характеристик импульсов инфракрасного излучени  СО и СО лазеров с длительностью вплоть до 5-10 сек и обеспечени  возможности работы при комнатной температуре предлагаемое фотосопротивпение , служащее датчиком излучени , вьшолнено из дырочного материала с шириной запрещенной зоны, более чем в два раза превышающей энергию кванта излуче ни , примесные центры которого ионизированы , фотосопротивление дл  получени  наилучщей чувствительности при регистрации излучени  СО -лазера может быть выполнено из дырочного германи , легированного элементами Щ группы, например Gtt или I п .To measure the temporal and energy characteristics of infrared radiation pulses of CO and CO lasers with a duration of up to 5-10 seconds and to enable operation at room temperature, the proposed photoresistance, which serves as a radiation sensor, is made of a hole material with a forbidden gap width of more than two times the energy of a quantum of radiation, whose impurity centers are ionized, the photoresistance can be performed to obtain the best sensitivity when registering radiation from a CO laser EHO hole of germanium, doped elements ui group, e.g. Gtt or I p.

Claims (2)

Работа фотосопротиБлени , выполненного из материала, примесные центры которого ионизированы, основана на  влении разогревной уМ -фотопроводимости, характеристическое врем  которой - 10 сек. При этом дл  разогрева носителей предполагаетс  использовать, как наиболее эф фективные, квантовые фотопереходы между подаонами валентной аоны дырочных материалов . Под действием света, падающего на фотодатчик, мен етс , вспедствие изменени  подвижности, его сопротивление, что приводит к изменению тока в цепи. Это из- менение тока регистрируетс  по .изменению напр жени , снимаемого с нагрузочного сопоотивпени . Размеры площади датчика могут варьироватьс  в зависимости от величины п тна падающего на него излучени  Концентраци  свободных носителей материа фотосопротивлени  не должна в случае СО, лазера превышать уровень в , так как при более высоких концентраци х существует опасность по влени  тепловых сигна лов, конкурирующих с сигналами фотопроводимости . Оптимальной концентрацией с точки зрени  чувствительности дл  длины волны 10,6 мкм  вл етс  концентраци  6 10 см , Эксперимент при длительности лазерного импульса 10 сек дл  этой концентрации следующую величину относительной фотопроводимости О,1 при интенсивности падающего на образец света 1 МВТ/СМ, что неплохо согласуетс  с теоретическими оценками. Формула изобретени  1. Фотосопротивление дл  измерени  временных и энергетических х актеристик инфракрасного излучени , выполненное ив по« лупроводника с шириной запрещенной зоны более чем в два раза превышающей энергию кванта излучени , отличающеес  тем, что, с целью повышени  временного разрешени  и обеспечени  возможности ра боты при комнатной температуре, фотосопро тивление выполнено из дырочного полупроводника с ионизированными примесными центрами. The work of photoprotection made from a material whose impurity centers are ionized is based on the phenomenon of heating conductivity, the characteristic time of which is 10 seconds. In this case, in order to heat up the carriers, it is proposed to use, as the most effective, quantum phototransitions between the valence aona of the hole materials. Under the action of light incident on the photosensor, the effect of the change in mobility, its resistance, which leads to a change in the current in the circuit, changes. This change in current is recorded by the change in voltage taken from the load resistance. The dimensions of the sensor area may vary depending on the size of the spot of radiation incident on it. The concentration of free carriers of the photoresistance matter in the case of CO laser exceeds the level B, since at higher concentrations there is a danger of thermal signals competing with the photoconductivity signals . The optimum concentration from the point of view of sensitivity for a wavelength of 10.6 μm is a concentration of 6–10 cm. An experiment with a laser pulse duration of 10 s for this concentration is the following relative photoconductivity of O, 1 at an intensity of 1 MW / cm of incident light on the sample, which is not bad consistent with theoretical estimates. Claim 1. Photoresistance for measuring the temporal and energetic energies of infrared radiation, performed in the fuser with a band gap of more than two times the energy of the radiation quantum, characterized in that, in order to improve the temporal resolution and enable operation at At room temperature, the photoresistance is made of a hole semiconductor with ionized impurity centers. 2. Фотосопротивление по п. 1, о т л и чающеес  тем, что оно выполнено из оырочного германи , легированного элементами 111 группы, например G-a , I п .с концентрацией свободных носителей в диапазоне 10 - 2. The photoresistance according to claim 1, which is made from oily germanium doped with elements of 111 groups, for example G-a, I with concentration of free carriers in the range of 10 -
SU1899516A 1973-04-02 1973-04-02 Photoresistance SU457407A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1899516A SU457407A1 (en) 1973-04-02 1973-04-02 Photoresistance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1899516A SU457407A1 (en) 1973-04-02 1973-04-02 Photoresistance

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU457407A1 true SU457407A1 (en) 1976-08-25

Family

ID=20547181

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1899516A SU457407A1 (en) 1973-04-02 1973-04-02 Photoresistance

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU457407A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890012157A (en) Infrared radiation detection device
US5086342A (en) Image sensor with an avalanche diode forming an optical shutter
DE112014001833T5 (en) Semiconductor photosensor for infrared radiation
SU457407A1 (en) Photoresistance
US5621238A (en) Narrow band semiconductor detector
GB1592373A (en) Photodetector
US3443102A (en) Semiconductor photocell detector with variable spectral response
US3911465A (en) MOS photodiode
US5258619A (en) Pulsed bias radiation detector
US3813541A (en) Mos photodiode
US3493752A (en) Infrared radiation measuring system using a doped semiconductor detector element
RU2080611C1 (en) Method for determining electrophysical properties of semiconductors
SU1229700A1 (en) Apparatus for measuring time response and power characteristics of pulse electromagnetic radiation
US3217166A (en) Photosensitive semiconductor junction device having a two-dimensional response
US3597614A (en) Cadmium phosphide photoconductive infrared detector
Stöckmann On the recombination kinetics of charge carriers in photoconductors
Kulikov et al. THE STUDY OF HOMOGENEOUS AND HETEROGENEOUS SENSITIZED CRYSTALS OF CADMIUM SULFIDE. PART III. OSCILLATIONS OF EXCITED CARRIERS
US4228354A (en) Method for detecting radiation
Mantena et al. Noise in zinc-doped silicon photoconductors
Hongo et al. InSb Carrier Lifetime in High Electric Field
US7067793B2 (en) High speed self-pixelating low light level optical system
Omar et al. Magneto-Optical properties of GaP single crystal
SU458041A1 (en) Ultraviolet photoresistor
Kim et al. Near-infrared detection using pulsed tunneling junction in silicon devices
RU2113745C1 (en) Method for detection and measurement of infrared light flow