.XI.1962 dla zastrz. 1, 3-5 26.111.1963 dla zastrz. 4 i 6 Niemiecka Republika Federalna Opublikowano: 28.11.1967 53078 KI. 32 b , 23/00^7* MKP C03c 1^00 TJKD 666.1.05 Twórcawynalazku i Dr Erich Salzle, Regensburg (Niemiecka Republika wlasciciel patentu Federalna) Sposób polerowania przedmiotów ze szkla przez zanurzanie w kapieli polerowniczej z kwasu siarkowego, zawierajacego kwas fluorowodorowy Polerowanie przedmiotów ze szkla krysztalo¬ wego zwlaszcza z olowianego szkla krysztalowego, dotychczas odbywa sie za pomoca wodnych roz¬ tworów kwasu siarkowego zawierajacego kwas fluorowodorowy w koszach o wielkich okach z miedzi lub sztucznego tworzywa, przy czym kosze wypelnione przedmiotami przeznaczonymi do po¬ lerowania, najpierw zanurza sie równomiernie do kapieli polerowniczej a nastepnie wyjete z tej kapieli zanurza sie do goracej kapieli wodnej.W kapieli wodnej zmywa sie produkty reakcji, powstale w kapieli polerowniczej przylegajace do powierzchni szkla. Czesto jest rzecza konieczna czynnosc te powtarzac, az do osiagniecia pozada¬ nego polysku na powierzchni i krawedziach szli¬ fów przedmiotów polerowanych. Przy tym sposo¬ bie nie mozna uniknac przenoszenia znacznej ilosci wody z kapieli wodnej do kapieli polerowniczej przez co obniza sie czynnosc polerowania i kon¬ centracji kapieli polerowniczej a wiec jej sku¬ tecznosc (aktywnosc). Dlatego tez konieczne jest kapiel polerownicza od czasu do czasu z powro¬ tem podniesc do najkorzystniejszego stezenia przez dodatek kwasu fluorowodorowego i (albo) kwasu siarkowego.Przy czym nalezy jednak uwzglednic fakt, ze w miare przedluzania sie procesu polerowania objetosc kapieli polerowniczej znacznie sie po¬ wieksza. Jest konieczne w pewnych odstepach czasu znaczne ilosci cieczy usunac z kapieli po¬ lo 15 20 25 lerowniczej i odrzucic jako kwas zuzyty, wzgled¬ nie przerobic go. Kapiel musi byc potem odno¬ wiona. To oznacza, ze wykorzystanie kwasu fluo¬ rowodorowego i siarkowego w kapieli polerowni¬ czej jest stosunkowo niedostateczne i z tego po¬ wodu zuzycie kwasu jest znaczne.Przeróbka wysoko stezonych i zawierajacych fluor zuzytych kwasów odpadowych nastrecza wiele trudnosci i wymaga duzych kosztów, dlatego tez zuzyte kwasy czesto odprowadzane sa do rzek.To sa wady zarówno technologiczne jak równiez gospodarcze znanego sposobu polerowania. Rów¬ niez znaczne ilosci wody z plukania zawierajace kwas fluorowodorowy i siarkowy sa tracone.Wynalazek dotyczy sposobu polerowania przed¬ miotów ze szkla krysztalowego lub olowiowego szkla krysztalowego, przy którym nie wystepuja trudnosci i wady znanego sposobu polerowania i który pozwala otrzymac bez braków polerowane szklane przedmioty w sposób bardzo ekonomicz¬ ny, bez koniecznosci kosztownej przeróbki pro¬ duktów odpadowych.Zgodnie ze sposobem wedlug wynalazku stosuje sie znana kapiel polerownicza z kwasu^ siarka¬ wego zawierajacego kwas fluorowodorowy, którego zawartosc wynosi T—10%, jednak produktów reakcji nie splukuje sie woda, lecz przedmioty powleczone produktami reakcji zanurza sie w ka¬ pieli z kwasu siarkowego, którego stezenie jest tak wysokie, ze kwas dziala odciagajaco na wode. 53078ll^KEw. oczyszczeniu, zawartosc goli w kapieli kwasu siar¬ kowego wynosi na ogól ponizej 1/10%.Po powtórnym zanurzeniu przedmiotów polero¬ wanych w kapieli polerowniczej a nastepnie w kapieli z kwasu siarkowego i osiagnieciu pozada¬ nego polysku na powierzchniach i krawedziach, wystarczy polerowane przedmioty splukac jedno¬ razowo woda i nastepnie osuszyc. lesli kapiel polerownicza jest wzbogacona sola¬ mi to znaczy produktami reakcji, to dzialanie po¬ lerujace kapieli jest niedokladne.Wedlug znanego sposobu polerowania równiez sole daja sie tylko z trudem usunac albo w ogóle nie daja sie rozpuscic lub zmyc w zwyklej kapieli wodnej, przez co utrudniona jest czynnosc pole¬ rowania. W przeciwienstwie do tego udaje sie usuwac powloke solna z przedmiotów polerowa¬ nych zgodnie z wynalazkiem w kapieli kwasu siarkowego równiez przy calkowitym nasyceniu kapieli polerowniczej produktami reakcji. Odno¬ wienie kapieli polerowniczej na skutek tego wzbogacenia w sole które w znanych sposobach zmuszaja równiez do ich odnowienia, w sposobie wedlug wynalazku nie jest konieczne.Jesli porównac zuzycie kwasów w znanych spo¬ sobach i zuzycie w sposobie wedlug wynalazku to okazuje sie, ze zgodnie z wynalazkiem w po¬ równaniu z dotychczas znanymi sposobami po¬ lerowania oszczednosc kwasu siarkowego wyno¬ si 80 do 85% i kwasu fluorowodorowego — 45 do 60% i odpad zuzytego kwasu siarkowego albo nie nastapi albo stezenie wlasciwe uzyska sie przez odparowanie wody.Dalej udalo sie stwierdzic, ze przy zawartosci w kapieli polerowniczej róznych soli metali ciez¬ kich, zwlaszcza chlorków i siarczanów zelaza, siarczanu cynkowego, siarczanu miedziowego, siar¬ czanu srebrowego, nadmanganianu potasowego, kwasu chromowego lub równiez nadtlenku wo¬ doru tworzy sie powloka solna, która tak slabo przylega do powierzchni szkla, ze juz przy po¬ ruszaniu przedmiotów polerowanych w kapieli polerowniczej, w znacznym stopniu odpada.Na skutek tego w czasie czynnosci zanurzania do kapieli polerowniczej mozna osiagnac daleko posuniete polerowanie tak, ze liczba zmiennych czynnosci to jest zanurzania do kapieli polerow¬ niczej i do kapieli kwasu siarkowego moze byc znacznie zmniejszona. W wyiatkowych przypad¬ kach jest nawet mozliwe osiagnac wystarczajacy i bezbledny polysk przez jednorazowe zmienne czynnosci. Mechanizm dzialania tych dodatków nie jest w pelni wyjasniony, jednak mozna przy¬ jac, ze chodzi o dzialanie powierzchniowe i zja¬ wisko zaktywowania.Wynika stad, ze zmniejszenie liczby koniecz¬ nych zmiennych czynnosci tego rodzaju prowa¬ dzenia procesu, zgodnie ze sposobem wedlug wy¬ nalazku wykazuje jeszcze dalsze dodatkowe do¬ niosle gospodarcze korzysci. Tak wiec wydatki na odciaganie i przerób oparów zawierajacych fluor, wydzielajacych sie z kapieli kwasu siar¬ kowego i regeneracjom zwiazków fluoru dla po¬ nownego zastosowania ich do kapieli polerowni¬ czej mozna zredukowac do minimum, zdolnosc przeróbcza tych kapali polerowniczych wybitnie wzrasta, kwasy w kapieli polerowniczej i kapieli kwasu siarkowego sa lepiej wykorzystane i przy odpowiednim prowadzeniu procesu optymalne 5 stezenie w obu kapielach moze byc utrzymane bez specjalnych dodatkowych operacji technolo¬ gicznych.Wprawdzie jesli przy mechanicznym polerowa¬ niu powierzchni szklanych znane bylo dodawanie 10 tego rodzaju soli metali do srodków polerujacych, to nie mozna bylo wyciagac zadnych wniosków co do polerowania przez zanurzanie, poniewaz miedzy mechanicznym polerowaniem i zastosowa¬ na do tego celu zawiesina a miedzy sposobem 15 chemicznego polerowania za pomoca kwasu siar¬ kowego, zawierajacego kwas fluorowodorowy nie ma zadnych zbieznosci.Ustalona do zastosowania zawartosc dodatków soli metali ciezkich zalezy od skladu i powierz- 20 chni szkla przeznaczonego do polerowania. Na¬ lezy równiez uwzglednic rodzaj pozadanego po¬ lysku. Jesli zastosowac wysokie stezenie dodat¬ ków, to przy minimalnej liczbie zmiennych czyn¬ nosci osiaga sie kontury o bardzo ostrych kra- 25 wedziach. Obróbka w kapieli kwasu siarkowego jest wtedy wlasciwie tylko konieczna aby rów¬ niez wypolerowac te miejsca przedmiotów, któ¬ rymi bezposrednio stykaja sie ze soba wzgled¬ nie przylegaja do zbiornika. 30 Przy stezeniu powyzszych dodatków nie otrzy¬ muje sie tak dobrych krawedzi i polysk odpo¬ wiada polyskowi uzyskiwanemu dawniej w zna¬ ny sposób.Liczba koniecznych zmiennych czynnosci zanu¬ rzania w kapieli polerowniczej i w kapieli kwa¬ su siarkowego na ogól obniza sie wraz ze zwiek¬ szajacym sie stezeniem dodatków. Zasadniczo wiec jest mozliwe uzyskac pozadany polysk juz przez jednokrotne zanurzenie w kapieli polerow¬ niczej, jednak w takim przypadku kierowanie pro¬ cesem polerowania jest szczególnie trudne tak, ze w praktyce, w dogodny sposób pracuje sie z tego powodu przy nizszych stezeniach dodat¬ ków przy zastosowaniu czestszych zmiennych czynnosci zanurzania. Po ostatnim zanurzeniu w kapieli polerowniczej, przedmioty polerowane za¬ nurza sie jak wyzej w kapieli kwasu siarkowego, aby usunac resztki powloki _ solnej i nastepnie obmywa w kapieli wodnej aby usunac resztki kwasu i na koniec suszy.Sposób wedlug wynalazku bedzie blizej wyjas¬ niony przez przytoczone ponizej przyklady, co nie zmierza do jakiegokolwiek ograniczenia wy-r 55 nalazku.Przyklad L< Ustawia sie trzy kwasoodpor- ne koryta jedno obok drugiego ogrzewane nie¬ zaleznie kazde oddzielnie z dostosowanym odpo¬ wiednio urzadzeniem wyciagowym do oparów. oo W pierwszym korycie znajduje sie kapiel pole¬ rownicza w postac^ $5%-Q3K£go kwasu siarkowego z zawartoscia 5% kwasu fluorowodorowego. W drugim korycie^znajduje sie kapiel z kwasu siarkowego w postaci 67°/o-owego roztworu. Trze- 05 cle koryto zawiera wode i sluzy do splukiwania 45 503 Jest przeto istotne, ze kwas siarkowy jest co najmniej 66%-owy, to znaczy jest w poblizu punk¬ tu eutektycznego czterowodzianu i dwuwodzianu kwasu siarkowego.Porowata powloka produktów reakcji na po¬ wierzchni szkla sklada sie miedzy innymi z siar¬ czanów, krzemianów itp. Powloka ta zawiera równiez male ilosci kwasu fluorowodorowego z kapieli polerowniczej. Kwas fluorowodorowy w stosunkowo wysoko stezonej kapieli kwasu siar¬ kowego w obecnosci krzemionki zamienia sie cze¬ sciowo na czterofluorek krzemu, który ulatnia sie jako gaz, przy czym powoduje odpryskiwanie powloki powstalej z "produktów reakcji przylega¬ jacej do powierzchni.To odpryskiwanie powloki jest wspierane rów¬ niez przez inne przemiany w powloki solne, które wywiazuje sie pod wplywem odwadniajacego dzia¬ lania wysoko stezonego kwasu siarkowego. W ten sposób osiaga sie to, ze powloka z soli odpryskuje z polerowanych przedmiotów w kapieli kwasu siarkowego bez koniecznosci ich plukania tak, ze szklane przedmioty moga byó ponownie zanu¬ rzone do kapieli polerowniczej.Najbardziej istotna zaleta sposobu wedlug wy¬ nalazku polega na tym, ze zastosowanie wysoko stezonego kwasu siarkowego, jako drugiej kapieli, przy ponownym zanurzaniu przedmiotów do ka¬ pieli polerowniczej nie wprowadza sie do wody tak, ze praktycznie stezenie tej kapieli moze wiec byc utrzymane stale przez bardzo dlugi okres pracy.Dalsza zaleta sposobu wynalazku polega na tym, ze na skutek unikniecia stalego rozcienczania ka¬ pieli polerowniczej odpada koniecznosc odciagania zuzytych kwasów i zwiazanych z tym problemów, zwlaszcza zagadnienie scieków. W ciagu dluzszego okresu pracy kapieli polerowniczej wystepuje je¬ dynie wzglednie nieznaczne zwiekszenie objetosci, które spowodowane jest przenoszeniem kwasu siarkowego z drugiej kapieli do kapieli polerow¬ niczej. Zwiazane z tym zmniejszenie stezenia kwasu fluorowodorowego moze byc latwo wyrów¬ nane przez dodanie wysokostezonego kwasu fluo¬ rowodorowego albo kwasu fluorosulfonowego. Wy¬ nika stad, ze zuzyty kwas odpowiada stosowne¬ mu powiekszeniu objetosci i uzupelnieniu zawar¬ tosci kwasu fluorowodorowego. Przypadajace w ten sposób ilosci sa znikomo male w przeciwien¬ stwie do stale przypadajacej ilosci zuzytego kwasu wedlug znanego sposobu.Ulatniajace sie z drugiej kapieli to znaczy z kapieli odsalajacej, opary zawierajace fluor mo¬ ga byc odciagane i oczyszczane za pomoca od¬ powiedniego urzadzenia absorpcyjnego i czesci fluorowe z powrotem odzyskiwane. W oparach tych znajduje sie prawie cala ilosc fluoru, który zostal pobrany z kapieli polerowniczej. Kwas flu¬ orowodorowy regenerowany w zwykly sposób moze byc z powrotem wprowadzony do kapieli polerowniczej.Stosownie do sposobu wedlug wynalazku nale¬ zy temperature kapieli polerowniczej utrzymywac w granicach 40—60°C. Wyzsza temperatura jest bezcelowa, poniewaz w przeciwnym razie straty 53078 4 kwasu fluorowodorowego na skutek jego lotnosci beda zbyt duze i nawet wystepuje wytrawienie powierzchni szklanych.Temperatura drugiej kapieli to jest kapieli od- 5 salajacej albo kapieli kwasu siarkowego utrzymy¬ wana jest najkorzystniej w okolo 60°C albo nieco powyzej.W tej temperaturze ulatniaja sie szybko i bez reszty zwiazki fluorowe, wprowadzane z kapieli 30 polerowniczej. Lepkosc wysoko stezonego kwasu siarkowego jest przy tym tak mala, ze ciecz ka¬ pieli szybko splywa z przedmiotów i dlatego tyl¬ ko wzglednie male ilosci kwasu siarkowego z ka¬ pieli odsalajacej jest wprowadzana do kapieli po- 15 lerowniczej. Ta ilosc w przyblizeniu odpowiada zuzyciu kwasu siarkowego do utworzenia soli na powierzchni szkla w kapieli polerowniczej.Okazalo sie celowe ogrzewanie obu kapieli to znaczy kapieli polerowniczej i kapieli kwasu siar- ^ kowego niezaleznie jednej od drugiej i utrzymy¬ wanie temperatury w kapieli kwasu siarkowego wyzej o 10 do 20° od temperatury kapieli pole¬ rowniczej. Przez to ulatwia sie nie tylko odpry¬ skiwanie powloki solnej lecz równiez umozliwia 25 sie uregulowanie procesu polerowania w taki sposób, ze ilosc kwasu siarkowego do kapieli po¬ lerowniczej wystarcza akurat do odnowienia w tej ostatniej ilosci kwasu siarkowego.Ilosc cieczy, która sciekla z przedmiotów pole- 30 rowanych jest zalezna od lepkosci cieczy, zas lep¬ kosc cieczy daje sie dokladnie ustalic wraz z tem¬ peratura. Przez odpowiednie warunki pracy, któ¬ re daja sie latwo uregulowac przez dobór tem¬ peratury, moze byc utrzymana zdolnosc dzialania 35 obu kapieli w ciagu bardzo dlugiego czasu bez dodatków wzglednie za pomoca minimalnych do¬ datków dla zachowania stalego stezenia kapieli.Kapiel polerownicza celowo sklada sie z wod¬ nego roztworu kwasu siarkowego o srednim ste- 40 zeniu, na przyklad z 50 do 60%-owego kwasu siarkowego z zawartoscia przede wszystkim 5 do 7% kwasu fluorowodorowego. Kwas fluorowodo¬ rowy moze byc wprowadzony do kwasu siarko¬ wego jako taki w kazdy znany sposób albo jako 45 kwas fluorosulfonowy.Wystepujace obnizenie stezenia drugiej kapieli na skutek dluzszego uzywania mozna poprawic w dogodny sposób, unikajac zwiekszenia objetosci, przez dodanie oleum i (albo) kwasu siarkowego 50 wysoko stezonego (96—98°/o-owego) lub przez jed¬ no lub dwugodzinne ogrzewanie w temperaturze 110—150°C, w czasie którego odparowuje sie wode.Produkty reakcji, powstajace w kapieli pole- 55 rowniczej a odpryskujace ze szklanych powierz¬ chni w drugiej kapieli sa w stosunkowo wysoko stezonym kwasie siarkowym prawie nierozpusz¬ czalne i osiadaja na dnie. Odpryskiwanie produk¬ tów reakcji jest tak daleko posuniete, ze swoiste 60 oczyszczanie przedmiotów szklanych przez ponow¬ ne umieszczanie ich w kapieli polerowniczej nie jest konieczne. Jesli po pewnym czasie kapiel z kwasu siarkowego wzbogaci sie nadmiernie w so¬ le, to mozna je w prosty sposób wydzielic przez 65 oziebianie kapieli do 0° lub ponizej. Po takim53078 8 polerowanych przedmiotów po zakonczeniu cale¬ go procesu polerowniczego.Temperatura kapieli polerowniczej i kapieli kwasu siarkowego wynosi 59—60°C i kapiel wod¬ na utrzymywana jest w temperaturze okolo 40°C.Przedmioty szklane zanurza sie do kapieli po¬ lerowniczej i porusza dotad, az na ich powierz¬ chni wystapi znana powloka solna. To trwa przecietnie 10 do 20 sekund. Nastepnie wyciaga sie przedmioty z kapieli polerowniczej, pozwala obcieknac zanurza w kapieli kwasu siarkowego i w niej obraca sie. W stezonym kwasie siarko¬ wym powloka solna odpada z powierzchni szkla w ciagu 3 do 5 sekund. Wtedy przedmioty z po¬ wrotem wyciaga sie z kapieli kwasu siarkowego a po obcieknieciu przenosi bezposrednio ponow¬ nie do kapieli polerowniczej.Cala operacje zaleznie od rodzaju szkla powta¬ rza sie kilkakrotnie. Na ogól wystarczy 10 do 18- -krotny cykl obróbki w kapieli polerowniczej i z kwasu siarkowego. Po ostatnim zanurzeniu do kapieli kwasu siarkowego przedmioty zanurza sie w kapieli wodnej w trzecim korycie, aby uwol¬ nic je od przylepionego kwasu siarkowego.Przyklad II. W taki sam sposób jak w przykladzie 1 przedmioty szklane o skomplikowa¬ nych ksztaltach traktuje sie w kapielach o na¬ stepujacym skladzie: a) kapiel polerownicza: 55%-owy kwas siarkowy 5% kwasu fluorowodorowego temperatura 50°C, b) kapiel kwasu siarkowego: 68%-owy kwas siarkowy temperatura 60—65°C.Przyklad III. W taki sam sposób jak opi¬ sano dla przykladu 1 obrabia sie szklo obciagane (warstwowe) z bardzo cienka, bezbarwna powlo¬ ka szklana w kapielach o nastepujacym skladzie: a) kapiel polerownicza: 52°/o-owy kwas siarkowy 2—3°/o kwasu fluorowodorowego temperatura 50—55°C, b) kapiel z kwasu siarkowego: 67%-owy kwas siarkowy temperatura 55—60°C.Przyklad IV. Jako kapiel polerownicza sto¬ suje sie 55%-owy kwas siarkowy z zawartoscia 5% kwasu fluorowodorowego. Kapiel zawiera chlorki zelaza, które dodaje sie w postaci stalej lub nasyconego roztworu. Zawartosc soli w ka¬ pieli wynosi okolo 8%. Druga kapiel stanowila 67%-owy kwas siarkowy o temperaturze 68°C.Trzecie koryto zawieralo wode do plukania o temperaturze okolo 46°C.Obróbke prowadzi sie jak podano dla przy¬ kladu 1. Okazalo sie, ze tworzaca sie powloka solna slabo przylega i przez obracanie przedmio¬ tów w kapieli polerowniczej w duzym stopniu odpadala.Przyklad V. Jako kapiel polerownicza sto¬ suje sie 58%-owy kwas siarkowy z zawartoscia 7% kwasu fluorowodorowego o temperaturze 60°C. Kapiel zawiera jeszcze siarczany zelaza a mianowicie do stezenia soli 15%. 5 Druga kapiel stanowila 69% kwas siarkowy o temperaturze 70°C.Trzecia kapiel zawierala wode do mycia o tem¬ peraturze okolo 50°C.Równiez w tym przypadku obróbka odpowia- 10 dala wskazówkom przykladu 1 i okazalo sie, ze polerowanie nastepowalo bardzo szybko a pow¬ stala powloka solna odparowala w znacznym stopniu juz przy poruszaniu przedmiotów w ka¬ pieli polerowniczej. 15 PLNovember 1962 for claims 1, 3-5 on 26.111.1963 for claims 4 and 6 German Federal Republic Published: 28.11.1967 53078 KI. 32 b, 23/00 ^ 7 * MKP C03c 1 ^ 00 TJKD 666.1.05 Inventor and Dr. Erich Salzle, Regensburg (German Federal Republic patent holder) Method for polishing glass workpieces by immersion in a sulfuric acid polishing bath containing hydrofluoric acid Polishing objects made of crystal glass, in particular lead crystal glass, have hitherto been carried out with aqueous solutions of sulfuric acid containing hydrofluoric acid in baskets with large eyes made of copper or plastic, the baskets filled with objects to be polished, first dipped evenly into the polishing bath, and then removed from the bath, it is immersed in a hot water bath. In the water bath, reaction products, formed in the polishing bath, adhering to the glass surface are washed off. It is often necessary to repeat this operation until the desired gloss is achieved on the surface and edges of the poles of the polished objects. With this method, it is not possible to avoid the transfer of a significant amount of water from the water bath to the polishing bath, which reduces the polishing and concentration activity of the polishing bath and thus its effectiveness (activity). Therefore, it is necessary to increase the polishing bath from time to time to the most favorable concentration by adding hydrofluoric acid and / or sulfuric acid; however, it should be taken into account that as the polishing process is prolonged, the volume of the polishing bath significantly increases bigger. It is necessary at certain intervals to remove considerable amounts of liquid from the field bath and discard it as spent acid or to process it. The bath must then be renewed. This means that the use of hydrofluoric and sulfuric acid in the polishing bath is relatively inadequate, and therefore the consumption of acid is considerable. The processing of highly concentrated and fluorine-containing waste acids is difficult and costly, and therefore the used acids are They are often discharged into rivers. These are both technological and economic disadvantages of the known polishing method. Equally significant amounts of rinse water containing hydrofluoric acid and sulfuric acid are lost. The invention relates to a method of polishing crystal glass or lead crystal glass without the difficulties and disadvantages of the known polishing process and which allows polished glass objects to be obtained without deficiencies. in a very economical manner, without the need for expensive treatment of the waste products. The method of the invention uses the known polishing bath of sulfuric acid containing hydrofluoric acid, the content of which is T10%, but the reaction products are not rinsed water, but the articles coated with the reaction products are immersed in a bath of sulfuric acid, the concentration of which is so high that the acid has an effect on the water. 53078ll ^ KEw. After cleaning, the content of the hairs in the sulfuric acid bath is generally less than 1/10%. After re-immersing the polished objects in the polishing bath and then in the sulfuric acid bath and achieving the desired gloss on the surfaces and edges, the polished objects suffice. rinse once with water and then dry. If the polishing bath is enriched with salts, i.e. reaction products, the polishing action of the bath is inaccurate. According to the known method of polishing, also the salts can only be removed with difficulty, or they cannot be dissolved or washed away in a simple water bath. the polishing process is difficult. In contrast, it is possible to remove the salt coating from the polished articles according to the invention in a sulfuric acid bath also with complete saturation of the polishing bath with reaction products. It is not necessary to renew the polishing bath as a result of this enrichment in salts, which in known methods also force their renewal, in the method according to the invention it is not necessary. If one compares the consumption of acids in the known methods and the consumption in the method according to the invention, it turns out that With the invention, compared to the previously known polishing methods, the saving of sulfuric acid is 80 to 85% and of hydrofluoric acid - 45 to 60%, and the waste of the spent sulfuric acid will either not occur or the actual concentration will be obtained by evaporation of the water. it can be stated that when the polishing bath is filled with various salts of heavy metals, especially iron chlorides and sulfates, zinc sulfate, copper sulfate, silver sulfate, potassium permanganate, chromic acid or also hydrogen peroxide, a salt film is formed, which it adheres so poorly to the glass surface that even when moving polished objects in the polishing bath, As a result, during the dipping operation into the polishing bath, a far-reaching polishing step can be achieved, so that the number of variable steps, i.e., dipping into the polishing bath and the sulfuric acid bath, can be significantly reduced. In exceptional cases, it is even possible to achieve a sufficient and flawless gloss by one-off variable operation. The mechanism of action of these additives is not fully understood, but it may be assumed that it is a surface effect and an activation phenomenon. It follows that the number of necessary variables for this type of process has been reduced in accordance with the method of The invention has further additional economic advantages. Thus, the expenses for the extraction and processing of fluorine-containing vapors emitted from the sulfuric acid bath and the regeneration of fluorine compounds for their re-use in the polishing bath can be reduced to a minimum, the processing capacity of these polishing drips increases significantly, acids in the bath polishing and sulfuric acid baths are better utilized and, if the process is properly carried out, the optimal concentration in both baths can be maintained without any special additional technological steps. Indeed, if in the course of mechanical polishing of glass surfaces it was known to add such metal salts to the polishing agents no conclusions could be drawn regarding dip-polishing, since there is no coincidence between the mechanical polishing and the slurry used for the purpose and the chemical polishing process with sulfuric acid containing hydrofluoric acid. behind the value of the additions of the heavy metal salt depends on the composition and surface of the glass to be polished. Also consider the type of gloss you want. If a high concentration of additives is used, contours with very sharp edges are achieved with a minimum number of variable activity. Treatment in a sulfuric acid bath is then actually only necessary in order to also polish those parts of the objects which are in direct contact with each other or adhere to the tank. 30 With the concentration of the above additives, such good edges are not obtained and the gloss corresponds to the gloss obtained in the past in a known manner. The number of variables necessary for dipping in the polishing bath and in the sulfuric acid bath generally decreases with increasing amounts. ¬ with an increasing concentration of additives. In principle, therefore, it is possible to obtain the desired gloss already by a single dipping in the polishing bath, but in this case it is particularly difficult to direct the polishing process, so that in practice it is convenient to work for this reason with lower additive concentrations at the use of more frequent variable descent activities. After the final immersion in the polishing bath, the polished objects are immersed as above in a sulfuric acid bath to remove the remnants of the salt coating and then washed in a water bath to remove acid residues and finally dried. The method according to the invention will be explained in more detail by The examples given below are not intended to limit the invention in any way. Example L <Three acid-resistant troughs are arranged next to each other, each separately heated, with a suitable fume extraction device. In the first channel there is a polishing bath in the form of 5% -3K2 sulfuric acid with 5% hydrofluoric acid. The second trough contains a sulfuric acid bath in the form of a 67% solution. The third trough contains water and serves to rinse 45 503 It is therefore essential that the sulfuric acid is at least 66% by weight, that is, it is near the eutectic point of the sulfuric acid tetrahydrate and dihydrate. The surface of the glass consists of, inter alia, sulphates, silicates, etc. This coating also contains small amounts of hydrofluoric acid from the polishing bath. The hydrofluoric acid in a relatively highly concentrated sulfuric acid bath in the presence of silica is partially converted into silicon tetrafluoride, which volatilizes as a gas, causing the coating of the reaction products adhering to the surface to chip off. This chipping of the coating is promoted. also by other transformations into salt coatings, which take place under the dehydrating effect of highly concentrated sulfuric acid. In this way, it is achieved that the salt coating splashes off the polished objects in a sulfuric acid bath without having to rinse them so that glass objects may be re-immersed in the polishing bath. The most significant advantage of the method according to the invention is that the use of highly concentrated sulfuric acid as a second bath, when the objects are dipped back into the polishing bath, it is not put into the water so that practically the concentration of this bath can therefore be maintained constantly for very much long service life. A further advantage of the process of the invention is that by avoiding a constant dilution of the polishing bath, the need to extract spent acids and the associated problems, in particular the problem of waste water, is eliminated. During the longer period of operation of the polishing bath, only a relatively slight increase in volume occurs due to the transfer of sulfuric acid from the second bath to the polishing bath. The reduction in the concentration of hydrofluoric acid associated therewith can easily be compensated for by the addition of highly concentrated hydrofluoric acid or fluorosulfonic acid. It follows that the consumed acid corresponds to the appropriate increase in volume and make up the hydrofluoric acid content. The amounts thus accrued are negligibly small as opposed to the constant amount of acid consumed according to the known method. Evaporating from the second bath, that is, from the desalination bath, the fluorine-containing vapors can be extracted and treated with a suitable absorption device. and back-recovered fluorine parts. These vapors contain almost all of the fluoride that was taken from the polishing bath. The conventionally regenerated hydrofluoric acid may be returned to the polishing bath. According to the method of the invention, the temperature of the polishing bath should be kept in the range of 40-60 ° C. Higher temperature is pointless, otherwise the loss of hydrofluoric acid due to its volatility will be too great and even etching of the glass surfaces occurs. The temperature of the second bath, i.e. the salvation bath or the sulfuric acid bath, is preferably kept at around 60 ° C. ° C or slightly higher. At this temperature, the fluorinated compounds introduced from the polishing bath evaporate quickly and completely. The viscosity of the highly concentrated sulfuric acid is so low that the bath liquid quickly drains off the objects and therefore only relatively small amounts of sulfuric acid from the desalination bath are fed into the burnishing bath. This amount approximately corresponds to the consumption of sulfuric acid to form a salt on the glass surface in the polishing bath. It has proved to be expedient to heat the two baths, that is, the polishing bath and the sulfuric acid bath, independently of one another, and to keep the temperature in the sulfuric acid bath higher by 10 to 20 ° from the temperature of the polishing bath. This makes it easier not only to chip off the salt coating, but also to regulate the polishing process in such a way that the amount of sulfuric acid in the polishing bath is just sufficient to regenerate the last amount of sulfuric acid in the latter. polished is dependent on the viscosity of the liquid, and the viscosity of the liquid can be accurately adjusted with the temperature. By appropriate working conditions, which can be easily regulated by the choice of temperature, the operability of both baths can be maintained for a very long time without additives or with the use of minimal additives to maintain a constant concentration of the bath. from an aqueous solution of medium sulfuric acid, for example 50 to 60% sulfuric acid with predominantly 5 to 7% hydrofluoric acid. The hydrofluoric acid may be introduced into the sulfuric acid as such in any known manner or as fluorosulfonic acid. The subsequent reduction in the concentration of the second bath due to prolonged use can be improved conveniently, avoiding an increase in volume, by adding oleum and / or highly concentrated sulfuric acid 50 (96-98% strength) or by heating for one or two hours at 110-150 ° C, during which the water is evaporated. Reaction products, formed in the polarizing bath and flaking off from the glass surfaces in the second bath, they are almost insoluble in the relatively highly concentrated sulfuric acid and settle to the bottom. The chipping of the reaction products is so far advanced that specific cleaning of the glass objects by returning them to the polishing bath is not necessary. If, after some time, the sulfuric acid bath becomes excessively enriched in the salt, it can be easily separated by cooling the bath to 0 ° or less. After such polished objects after the end of the entire polishing process. The temperature of the polishing bath and the sulfuric acid bath is 59-60 ° C and the water bath is kept at a temperature of about 40 ° C. The glass objects are immersed in the polishing bath and it moves until the familiar salt coating appears on their surface. It takes 10 to 20 seconds on average. Then items are taken out of the polishing bath, allowed to drip, immersed in a bath of sulfuric acid and rotated in it. In concentrated sulfuric acid, the salt coating will peel off the glass surface in 3 to 5 seconds. Then the items are taken back from the sulfuric acid bath and, after dripping, they are transferred directly back to the polishing bath. The entire operation, depending on the type of glass, is repeated several times. In general, a 10 to 18-times treatment cycle in a polishing bath and with sulfuric acid is sufficient. After the final immersion into the sulfuric acid bath, the objects are immersed in a water bath in a third trough to free them from sticking sulfuric acid. In the same way as in example 1 glass objects of complex shapes are treated in baths of the following composition: a) polishing bath: 55% sulfuric acid 5% hydrofluoric acid temperature 50 ° C, b) sulfuric acid bath : 68% sulfuric acid temperature 60-65 ° C. Example III. In the same way as described for example 1, coated glass is treated with a very thin, colorless glass coating in baths of the following composition: a) polishing bath: 52% o-oic sulfuric acid 2-3 ° / hydrofluoric acid temperature 50-55 ° C, b) sulfuric acid bath: 67% sulfuric acid temperature 55-60 ° C. Example IV. The polishing bath used is 55% sulfuric acid with 5% hydrofluoric acid. The bath contains iron chlorides, which are added as a solid or saturated solution. The bath has a salt content of about 8%. The second bath was 67% sulfuric acid at 68 ° C. The third trough contained rinsing water at a temperature of about 46 ° C. The treatment was carried out as described for Example 1. It turned out that the salt film that formed was weakly adherent and by rotating the workpieces in the polishing bath, it largely fell off. EXAMPLE 5 58% sulfuric acid with 7% hydrofluoric acid at 60.degree. C. is used as the polishing bath. The bath also contains iron sulphates, up to a salt concentration of 15%. 5 The second bath was 69% sulfuric acid at a temperature of 70 ° C. The third bath contained washing water at a temperature of about 50 ° C. Again, the treatment followed the indications of example 1 and the polishing was found to be very quick. and the resulting salt coating evaporated to a considerable extent already when the objects were moved in the polishing bath. 15 PL