NO764338L - - Google Patents

Info

Publication number
NO764338L
NO764338L NO764338A NO764338A NO764338L NO 764338 L NO764338 L NO 764338L NO 764338 A NO764338 A NO 764338A NO 764338 A NO764338 A NO 764338A NO 764338 L NO764338 L NO 764338L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
group
hydrogen
formula
mol
phenyl
Prior art date
Application number
NO764338A
Other languages
English (en)
Inventor
A P Gates
S C Hinch
C V Withers
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of NO764338L publication Critical patent/NO764338L/no

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/44—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by —CHO groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/49—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups
    • C07C205/56—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups having nitro groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C47/00—Compounds having —CHO groups
    • C07C47/20—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C47/24—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C57/00—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C57/30—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings
    • C07C57/42—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings having unsaturation outside the rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/58—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/64—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/66—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/68—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings the oxygen atom of the ether group being bound to a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

Fotopolymeriserbart materiale.
Foreliggende oppfinnelse vedrorer fotopolymeriserbare materia-ler .
Det er kjent mange lysfolsomme blandinger som er basert på i oppiosnihgsmidler opploselige, lysfolsomme polymerer, såsom polyvinylcinnamat.
Slike komposisjoner som eksempelvis påfores i form av et tynt lag på et egnet substrat til å gi en trykkplate eller en fotore-sist utviser ulempene ved at etter at herdingsreaksjonen har funnet sted som folge av påvirkning av aktinisk bestråling er det nodvendig med et kostbart og muligens toksisk og/eller brennbart opplosningsmiddel for å fjerne de uherdede arealer.
Det er en hensikt med foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe et fotopolymeriserbart materiale som i dets uherdede tilstand er opploselig i en vandig opplosning av uorganiske salter.
I henhold til et trekk ved foreliggende oppfinnelse er det tilveiebragt et fotopolymeriserbart materiale som omfatter en polymer innbefattende et antall strukturelle enheter representert ved formelen (I):
hvori R betyr et hydrogenatom eller en metylgruppe,
R 2 betyr et hydrogenato'm, en alkylgruppe eller substituert alkylgruppe, en aryl- eller substituert arylgruppe eller en heterocyklisk-eller substituert heterocyklisk gruppe,
3 4 5-
R , R og R , som kan være like eller forskjellige represen-terer hver hydrogen, halogen, en cyano-, alkyl-, aryl-, alkoksy-, aryloksy-, aralkyl-, aralkoksy- eller alkoksykarbonylgruppe, Z betyr en hydroksylgruppe eller en estergruppe og a er et heltall storre eller lik 1.
I henhold til en foretrukket utfbreisesform av oppfinnelsen innbefatter også polymeren et antall strukturelle enheter med formelen (II):
hvori t}~ betyr en hydroksylgruppe, en estergruppe eller ha-15 6 logen, R - R har de tidligere angitte betydninger, R har den samme betydningen som angitt for R 3 - R 5, og b er enten
0 eller et heltall storre eller lik 1.
1 henhold til et ytterligere trekk ved oppfinnelsen innbefatter polymeren også et antall strukturelle enheter med formelen
(III) :
hvori R 1 har de tidligere angitte betydninger og R 7 er en alkyl- eller substituert alkylgruppe, en aryl- eller substituert arylgruppe, en heterocyklisk- eller substituert heterocyklisk gruppe, og Z betyr en hydroksylgruppe, en estergruppe eller et halogenatom.
I henhold til et ytterligere foretrukket trekk innbefatter polymeren også strukturelle enheter avledet fra minst en annen umettet addisjonspolymeriserbar monomer.
I formlene I og II kan R 2 eksempelvis være:
fenyl, 2-nitrofenyl, 3-nitrofenyl, 4-nitrofenyl, 2-aminofenyl, 3-aminofenyl, 4-aminofenyl,
2-azidofenyl, 3-azidofenyl, 4-azidofenyl,
2-bromfenyl, 3-bromfenyl, 4-bromfenyl,
2- klorfenyl , 3-klorfe.nyl j 4-klorfenyl,
4-fenylfenyl, 2-metoksyfenyl,
3- metoksyfenyl, 4-metoksyfenyl, 3,4-metylendioksyfenyl, 2- metylfenyl, 3-metylfenyl, 4-metylfenyl, 2-etylfenyl, 3- etylfenyl, 4-etylfenyl-, 4-isopropylfenyl, 3 ,4-diklorfenyl, 2,4-diklorfenyl, 2,4-dinitrofenyl, 2-nitro-5-klorfenyl, 2-3-
dimetoksyfenyl, 3,4-dimetoksyfenyl, 2,4-dimetoksyfenyl, 2,5-dimetoksyfenyl, 3,5-dimetoksyfenyl, 2-etoksyfenyl, 3,4-dietoksy-fenyl, 4-dimetylaminofenyl, 4-dietylaminofenyl, 1-naftyl, 2-naftylj2-etoksy-l-naftyl, 2-metoksy-l-naftyl, 4,8-dimetoksy-1-naf tyl, 2 , 7-dimetoksy-l-naf tyl, l-4-dimetoksy-2-naf tyl ,• 6-metoksy-2-naftyl, 4-klor-l-naftyl, 2-klor-l-naftyl, 4-brom-l-naftyl , 5-brom-l-naftyl, l-brom-2-naftyl, 5-brom-2-naftyl, 4-nitro-l-naftyl, 1-nitro-2-naftyl, 9-antranyl, 10-metyl-9-antranyl, 2-furyl, 5-metyl-2-furyl, 5-br.om-2-furyl , 5-klor-2-furyl, 5-jod-2-furyl, 5-nitro-2-furyl, 2-tienyl, 5-brom-2-tienyl , 3,4-diklor-2-tienyl, 5-nitro-2-tienyl, l-metyl-2-pyrrolyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl,•6-metyl-2-pyridyl, 4-maleimidofenyl eller 4-acetamidofenyl.
Spesielt foretrukne polymerer er disse hvor R 2i formel I be-' 3 4 5 2
tyr fenyl og R , R og R betyr hydrogen, R betyr 2 -nitro-3 4 5 2 3 fenyl og R , R og R hydrogen, R betyr 3-nitrofenyl og R ,
4 5 2 3 4
R og R betyr hydrogen, R betyr fenyl, R betyr klor og R
5 2 3
og R betyr hydrogen, eller R betyr 4-nitrofenyl, R betyr
4 5
klor og R og R betyr hydrogen, og polymerer i henhold til formel II, spesielt når b = 0, R<2>R<5>og R<6>betyr hydrogen,
2 5 6 2
R og R betyr hydrogen og R betyr metyl, R betyr fenyl og R"*, og R^ betyr hydrogen, R^ betyr 4-metoksyf enyl, R betyr
6 2
hydrogen og R betyr en cyanogruppe, R betyr 4-klor-fenyl,
5 6 2 5
R. hydrogen og R fenyl, R betyr 4-metylfenyl, R hydrogen
6 2 '5
og R en fenoksygruppe, R betyr 4-azidofenyl, R hydrogen
6 2 5 6
og R en cyanogruppe og R betyr 2-furyl, R. og R hydrogen, og polymerer ifolge formel II når b = 1, R 2betyr fenyl,
R^, R^ og R^ betyr hydrogen og R^ en cyanogruppe, R^ betyr fenyl , R^, R^ og R^ betyr hydrogen og R^ betyr en etoksykar-2 3 4 5 bonylgruppe, og R betyr fenyl, R og R betyr hydrogen, R betyr metyl og R en cyanogruppe, samt polymerer ifolge forr-7 1 7
mel III hvori R betyr metyl og Z betyr hydroksyl, R betyr
1 7 1 heptyl og Z betyr en hydroksylgruppe, R betyr etyl. og Z 7 1
klor, samt R betyr triklormetyl og Z en hydroksylgruppe.
I det tilfellet hvor polymeren også innbefatter strukturelle enheter avledet fra andre umettede addisjonspblyeriserbare monomerer kan denne være akryl- eller metakrylsyre, et akrylat i eller metakrylat, et hydroksyakrylat eller metakrylat, akrylamid eller et substituert akrylamid, metakrylamid eller et substituert metakrylamid, akrylonitril, metakrylonitril, vinylklorid, vinylacetat, styren eller substituert styren, såsom oc-metylstyren, 4-klorstyren eller p-metoksystyren, en vinyleter såsom isobutylvinyleter, 2-klorvinyleter eller fenyl-vinyleter, en alifatisk dien såsom kloropren, butadien eller heksadien. Tilstedeværelsen av slike strukturelle enheter kan gi visse fordelaktige egenskaper, såsom bedre trykkfarge-resep-tivitet, bedre abrasjonsmotstandsevne under trykking og/eller bedre lysfølsomhet..
Polymeren i materialet i henhold til foreliggende oppfinnelse kan fremstilles ved å omsette en polymer av 2,3-epoksypropylakrylat eller 2,3-epoksypropylmetakrylat (enten en-homopolymer eller kopolymer av 2,3-epoksypropylakrylat eller metakrylat med en av de foran nevnte monomerer) med en etylenisk umettet di-karboksylsyre med formelen
hvori a og R 2 - R 5 er.som tidligere angitt. Strålingsfol-somheten for polymeren i materialet ifolge foreliggende oppfinnelse tilveiebringes av dobbeltbindinger og alkaliopplose-ligheten tilveiebringes av ikke-omsatte karboksylgrupper.
Under passende betingelser kan imidlertid den nevnte reaksjon utfores slik at ikke alle epoksygruppene i polymeren erholdt fra 2,3-epoksypropylakrylatet eller metakrylatet omsettes med dikarboksylsyren. Det er da mulig å omsette disse uomsatte enheter med en etylenisk umettet enverdig karboksylsyre, eller halogenid derav, med formelen
2 6
hvori b og R - R har de tidligere angitte betydninger , hvor det erholdes • strukturelle enheter ifolge formel II og/eller med en mettet karboksylsyre eller halogenid derav, med formelen
7 7
R - COOH, hvori R har den tidligere angitte betydning, hvorved, det erholdes en strukturell, enhet med formel III. De strukturelle enheter med formel II gir forbedret strålingsf61-somhet uten endret alkaliopplosélighet og de strukturelle enheter av formel III gir forbedret trykkfargereseptivitet.
Omsetningen av epoksygruppene med syrer eller syrehalogenider gir strukturelle enheter inneholdende sekundære hydroksylgrup-per eller halogenatomer (representert av Z og Z i formlene I, II og III). I de'tilfeller hvor sekundære hydro ksylgrupper dannes kan disse fordelaktig omsettes med karboksylsyrer eller estere under dannelse av derivater derav, såsom syre-halogenidet eller anhydridet, hvorved de sekundære hydroksyl-grupper omdannes til estergrupper. Ved omsetning av de sekundære hydroksy.lgrupper med syrene som anvendes for å fremstille de strukturelle enheter av formel II (eller ester som danner derivater av slike syrer) erholdes det foroket strålningsf61-somhet, mens anvendelse av syrer som benyttes til å gi strukturelle enheter med formel III (eller ester som danner derivater av slike syrer) vil gi foroket blekkreseptivitet.
Således ved å variere reaktantene og reaksjonsbetingelsene
er det mulig å fremstille fotopolymeriserbare.materialer med varierende egenskaper med hensyn til alkaliopplosélighet, strå-lingsf 61 somhet , trykkfargereseptivitet og abrasjonsmotstandsevne.
Fargestoffer, pigmenter, leukofarger, plastiseringsmidler og/ eller sensibilisatorer kan innbefattes i det polymeriserbare materiale som kan belegges på et egnet substrat., eksempelvis aluminium;til å gi en strålingsfolsom plate for en etterføl-gende eksponering.
De etterfølgende eksempler illustrerer oppfinnelsen og enkelte av polymerene og karboksylsyrene som anvendes i eksemplene ble fremstilt som vist i de etterfølgende synteser.
Syntese Al
Poly- ( 2, 3- epoksypropyl- metakrylat)
a, a<1->azodiisobutyronitril (8g) ble blandet med 2,3-epoksy-propyImetakrylat (200 g) og langsomt satt til 2-butanon (400 ml) under en nitrogenatmosfære ved 70°C. Denne temperatur ble bibeholdt i 3 timer og deretter bket til 86°C i 2 timer. Den
avkjolte oppløsning ble fortynnet med 2 butanon (1400 ml), helt i 40 - 60°C petroleumeter (12 1) og produktet oppsamlet og tbrket til å gi 195 g poly-(2 ,3-epoksypropyl-metakrylat) med en epoksydekvivalent på.158,7.
Syntese A2
Poly-( 2, 3- epoksypropvlakrylat)
a, a'-azodiisobutyronitril (0,36 g) ble blandet med 2,3-epoksypropylakrylat (18,0 g) og opplosningen langsomt satt til en blanding av 2-butanon (60 ml) og etanol (20 ml) under en nitrogenatmosfære ved 60°C og denne temperatur ble bibeholdt i 1 time;og deretter hevet til 70°C i 2 timer og deretter til 80°C i ytterligere 2 timer. Den avkjolte opplbsning ble fortynnet med 2-butanon (100 ml), helt i 40 - 60°C petroleter (1 1) og det erholdte produkt oppsamlet og tbrket til å gi 17,2 g poly-(2,3-epoksypropylakrylat) med en epoksydekvivalentvekt på 132 ,30-.
Syntese A3
Poly- ( 2. 3- epoksypropylmetakrylat- ko- dodecylmetakrylat)
En blanding av 2,3-epoksypropylmetakrylat (16,63 g), dodecylmetakrylat (3,31 g), dodecyltiol (0,4 g) og a,a'-azodiiso-butyronitril (0,8 g) ble polymerisert i 2-butanon (50 ml)
ved fremgangsmåten beskrevet i syntese Al til å gi 15,2 g av den bnskede kopolymer med en epoksydekvivalentvekt på 178,2.
Syntese A4
Poly-( 2, 3- epdksypropylmetakrylat- ko- styren)
En blanding av 2,3-epoksypropylmetakrylat (18,49 g), styren (1,51 g) , dodecyltiol (0,8 g) og a ,a1-azodiisobutyronitril (1 g) ble polymerisert i 2-butanon (50 ml) ved metoden beskrevet under syntese Al til å gi 18,4 g av den bnskede kopolymer med en epoksydekvivalentvekt på 171.
Syntese A5
Poly- ( 2, 3- epoksypropylakrylat- ko- akrylonitril)
En blanding av 2,3-epoksypropylakrylat (20 g), akrylonitril (0,92 g), dodecyltiol (0,4 g) og a,a<1->azodiisobutyronitril (0,8 g) ble polymerisert i en blanding av 2-butanon (50 ml)
<p>g etanol (20 ml) ved hjelp av metoden beskrevet i syntese A2 til å gi 20,1 g av den bnskede kopolymer med en epoksydekvivalentvekt på 145.. •
Syntese Bl
(i) 3-nitrocinnamaldehyd ble fremstilt ved Claisen-Schmidt-kondensasjon av 3-nitrobenzaldehyd med acetaldehyd på folgende måte.
En opplosning av 3-nitrobenzaldehyd (80 g, 0,53 mol) i . etanol (1,6 1) ble behandlet med vann (1,8 1). Acetaldehyd (36 ml, 0,644 mol) ble tilsatt etterfulgt av en 10%'ig vandig opplosning av natriumhydroksyd (56ml) og blandingen omrort ved 5 timer ved 20°C. Blandingen ble dekantert og residuet kokt med 25%'ig eddiksyre (2 1), avkjolt og det erholdte råprodukt (13,7 g) oppsamlet og anvendt uten ytterligere rensning, på folgende måte. (ii) 3-nitrocinnamylidenmalonsyre ble fremstilt ved å omsette 3-nitrocinnamaldehyd (13,7 g) med malonsyre (8,05 g, 0,077 mol) i iseddik (20 ml) ved 100°C i 6 timer. Etter avkjoling ble produktet oppsamlet, vasket og tbrket til å gi 8,9 g av det bnskede sluttprodukt, smp. 185 - 187°C.
Syntese B2
Cinnamylidenmalonsyre ble fremstilt ved å omsette cinnamaldehyd (125 g, 0,95 mol) med malonsyre (104 g, 1 .mol) i iseddik
(200 ml) i henhold til metoden beskrevet under syntese
Bl(ii), smp. 206 - 208°C.
Syntese B3
2-nitrocinnamylidenmalonsyre ble fremstilt ved å omsette 2-nitrocinnamaldehyd (100 g, 0,614 mol) med malonsyre (100 g, 0,96 mol) i iseddik (95 ml) i henhold til metoden beskrevet i syntese Bl, smp. 185 - 187°C.
Syntese B4
(i) (3-klorcinnamaldehyd ble fremstilt på folgende måte. Fosforylklorid (24 ml, 0,26 mol) ble langsomt tilsatt vannfri dimetylformamid (40 ml) som ble holdt ved en temperatur på
0°C og den erholdte opplosning omrort i 30 min.. Acetofenon (24 g, 0,2 mol) ble også opplost i vannfri dimetylformamid (25 ml) og blandingen langsomt tilsatt fosforylkloridopplbs-ningen. Under omrbring fikk reaksjonsblandingen nå romtem-peratur og omrbringen ble fortsatt i ytterligere 2 timer og deretter helt i en omrbrt opplosning av natriumacetat (300 g)
i vann (750 ml). Etter omrbring i 30 min. ble den bnskede forbindelse ekstrahert med eter og eterfasen tbrket over magnesiumsulfat og deretter fjernet og det ble erholdt 28,8 g av det bnskede råprodukt som ble anvendt uten ytterligere rensning på folgende måte.
(ii)Y_^lor^innamyli^enmal°nsyre ble fremstilt ved å omsette P-klorcinnamaldehyd (16,65 g) med malonsyre ilO, 4 g, 0,1 mol)
i iseddik (10 ml) i henhold til metoden, beskrevet i syntese Bl (ii) til å gi 7,5 g av det bnskede sluttprodukt, smp. 158 - 160°C (spaltning).
Syntese B5
(i) .4-nitro-(3-klorcinnamaldehyd ble fremstilt ved en modifi-kasjon av fremgangsmåten beskrevet i syntese B4(i) til å gi den bnskede forbindelse som ble omkrystallisert fra etanol, smp. 72 - 74°C. (ii) 4-nitro-y-klorcinnamylidenmalonsyre ble fremstilt ved å omsette 4-nitro-p-cinnamaldehyd (80 g, 0,39 mol) med malon-
syre (41 g, 0,4 mol) i iseddik (50 ml) ved 100°C i 6 timer.
Den avkjolte opplosning ble helt i en 10%'ig vandig opplosning
av natriumhydroksyd (300 ml), ekstrahert med eter og den van-
dige fase surgjort med en 30%'ig saltsyreopplosning (300 ml)
til å gi den bnskede forbindelse, smp. 173 - 175°C. •
Syntese Cl
Cinnamyliden-a-cyanoeddiksyre ble fremstilt ved å omsette cinnamaldehyd (252 ml, 2,0 mol) med azeotropisk tbrket cyanoeddiksyre (170 g, 2,0 mol) i iseddik (50 ml) ved 100°C i 2 timer. Toluen (130 ml) ble tilsatt og vann fjernet ved azeotropisk destillasjon i 5 timer. Toluenet ble fradestil-
lert og reaksjonsblandingen avkjblt og det erholdte krystal-linske produkt oppsamlet, vasket med kald iseddik og deretter med varmt vann^og det ble erholdt 235 g av det bnskede sluttprodukt, smp. 210 - 212°C.
Syntese C2
4-klor-a-fenylkanelsyre ble fremstilt ved å omsette 4-klor-benzaldehyd (35 g, 0,25 mol) med fenyleddiksyre (37,4 g,
0,275 mol) i iseddiksyre (20 ml) ved 100°C i 6 timer. Etter avkjbling ble produktet oppsamlet, vasket og tbrket,og det ble erholdt 31,0 g av det bnskede sluttprodukt, smp. 204 - 206°C.
Syntese C3
4-metyl-oc-fenoksykanelsyre ble fremstilt ved å omsette 4-metylbenzaldehyd (120 g, 1 mol) med fenoksyeddiksyre (167 g, 1,1 mol) i en blanding av eddiksyreanhydrid (250 ml, 2,5 mol) og trietylamin (101 ml, 1 mol) ved 140°C i 5 timer. Den avkjolte,dyp rode opplosning ble helt i 5 1 av en blan-
ding av 1 volumdel konsentrert saltsyre og 4 volumdeler vann og den erholdte olje ble fraskilt, vasket med vann og deretter med en 20%'ig (vekt/volum) opplosning av kaliumbisulfit (1 1) til å gi et råprodukt som ble oppsamlet, vasket og omkrystallisert fra vandig etanol til å gi 22 g av den bnskede forbindelse, smp.
188 - 190°C.
Syntese C4
4-azido-a-cyanokanelsyre ble fremstilt i henhold til metoden beskrevet i eksempel 3 i britisk patent nr. 1.377.747, smp. 160 - 161°C (spaltning).
Syntese C5
Etylhydrogencinnamylidenmalonat ble fremstilt ved å omsette cinnamaldehyd (31,6 ml, 0,2633 mol) med etylkaliummalonat (35,7 g, 0,26 mol) i iseddik (5,5 ml) ved 100°C i 6 timer. Etter avkjbling ble produktet oppsamlet, vasket med litt kald eddiksyre og deretter opplost i vann, ekstrahert med eter og den vandige fase surgjort med fortynnet eddiksyre til å gi
.25,3 g av den bnskede sluttforbindelse.
Syntese C6
(3-(2-furyl)-akrylsyre ble fremstilt i henhold til metoden beskrevet i Organic Syntheses, Collective Vol. III, side 425, 1955, smp. 140 - 141°C.
Syntese C7
a-cyano-p-metylcinnamylideneddiksyre ble fremstilt ved å omsette benzylidenaceton (49 g,.0,33 mol) med etylcyanoacetat (38 g, 0,33 mol) ved at det som katalysator ble anvendt en blanding av ammoniumacetat (5 g) og eddiksyre (15 g) i ben-zen (250 ml). Reaksjonsblandingen ble kokt under tilbakelbp og vannetble fjernet fra reaksjonen ved azeotropisk destillasjon i lbpet av 5 timer. Den avkjolte opplosning ble vasket med vann, tbrket over magnesiumsulfat og opplbsningsmidlet avdampet til å gi en guli krystallinsk masse.
En opplosning av kaliumhydroksyd (7,0 g) i metanol (350 ml) ble tilsatt og blandingen kokt under tilbakelbp i 6 timer, avkjblt og helt i 30%'ig saltsyre (400 ml); og det dannede presipitat oppsamlet og omkrystallisert fra vandig etanol til å gi 12,34 g av det bnskede sluttprodukt, smp. 116 - 118°C
Eksempel 1
( i) Fremstilling av en fotosensitiv, alkalisk opploseliq harpiks
5 g (0,032 mol) av polymeren fremstilt under syntese Al ble opplost i 2-butanon (100 ml) og blandet med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (9,17 g, 0,04 2 mol) og benzyltrietylammoniumklorid (0,4 g). Blandingen ble oppvarmet ved 80°C i 5 timer og deretter avkjolt og presipitert i vann (2 1)... Den erholdte . lysegule, lysfolsomme polymer ble frafiltrert og tbrket i luft ved 40°C til å gi 10,4 g av den bnskede pdlymer. Syreekvivalen-ten var 492.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
2 g av den lysfolsomme polymeren ble opplost i 2-butanon (100 ml) og ble belagt ved hjelp av en horisontal virvler på ..et ark av kornet og anodisert aluminium og deretter tbrket ved oppvarm-ning til 80°C i 2 min.. Eksponering av den erholdte lysfolsomme plate til en 4000 watt pulserende xenonlampe igjennom en negativ i 2 min., etterfulgt ved dypping i en 5,7%'ig vandig.opplosning av natriummetasilikat resulterte i en trykkplate fra hvilken mange gode kopier kunne tas.
Eksempel 2
( i) Fremstilling av en fotosensitiv, alkaliopplbselig harpiks
5 g (0,032 mol) av polymeren fremstilt under syntese Al ble opplost i 2-butanon (100 ml) og behandlet med 3-nitrocinnamylidenmalonsyre (syntese Bl) (10,78 g, 0,41 mol) og benzyltrietylammoniumklorid (0,4 g) og blandingen oppvarmet til 80°C i 4 timer. Cinnamyliden-oc-cyanoeddiksyre (syntese Cl)
(25,47 g, 0,128 mol) og benzyltrietylammoniumklorid (0,4 g)'
ble tilsatt og oppvarmningenfortsatt i ytterligere 2 timer.
Den avkjolte reaksjonsblanding ble fortynnet med et tilsvarende volum 2-butanon, filtrert og filtratet helt i 1,1,1-triklor-etan (IL), hvorved polymeren falt ut som et flokkulert, gult presipitat som ble oppsamlet på ét filter, og tbrket ved avsugning og gjenopplbst i aceton (100 ml). Denne opplosning ble helt i en blanding av vann (2L) og konsentrert saltsyre (150 ml), og den presipiterte harpiks oppsamlet, vasket og tbrket til å gi 9,63 g av det bnskede produkt med en absorpsjonstopp ved 317 nm og en syreekvivalent på 446,3.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotosensitive harpiks og 0,3 g 2,6-dianisyl-4-fenyltiapyriliumperklorat ble opplost i 2-butanon • (100 ml), filtrert og påfbrt ved hjelp av en horisontal virvler på overflaten av et ark av elektrokornet og anodisert aluminium i en mengde på lg/m 2 . Etter tbr-
king ved 80°C i 2 min. ble den erholdte lysfolsomme plate eksponert i 40 s i en trykkramme i kontakt med en negativ under anvendelse av en 4000 watt pulserende xenonlampe i en avstand av 0,65 m. Den eksponerte plate ble fremkalt ved å vaske den med en 5,7%'ig vandig opplosning av natriummetasilikat, etterfulgt med vansking av vann og deretter svertet med trykk-sverte.
Eksempel 3
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Ved å anvende fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble 5 g (0,032 mol) poly-(2,3-époksypropylmetakrylat) (syntese Al) omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (8,9 g, 0,041 mol) i 2 timer og deretter med 4-klor-a-rfenylkanelsyre (syntese C2) (16,5 g, 0,064 mol) i ytterligere 4 timer til
å gi 10,5 g av det bnskede sluttprodukt med en maksimal absorpsjon ved 319 nm og en syreekvivalent på 490,4.
( ii) Fremstilling av en trykkplate ( a)
3 g av den ovenfor erholdte lysfolsomme harpiks og 0,3 g
1,2-benzantrakinon ble opplost i- 2-butanon (100 ml), filtrert og påfbrt ved hjelp av en virvler på overflaten av et ark av elektrokornet og anodisert aluminium i en mengde på 1 g/m 2. Etter tbrking ble den erholdte lysfolsomme plate eksponert i
4 s gjennom en "Stouffer" gråkile og fremkalt på samme måte som beskrevet i eksempel 2 (ii) og det ble erholdt en trykkplate hvor gråkilens 6 trinn var fullt ut herdet og trykkfarge-mottakelig.
( iii) Fremstilling av en trykkplate ( b)
Eksempel 3 (ii) ble gjentatt bortsett fra at krystallfiolett farge (0,06 g) ytterligere ble innbefattet i belegningsopp-lbsningen. Nærværet av fargen i det eksponerte, lysfolsomme belegg viste seg å fremme fjernelse av de uherdede, alkaliopp-lbslige arealer og ga et klart definert, synlig bilde med for--bket kontrast når fremkallingen skred frem.
Eksempel 4
( i) Fremstilling av en fotofblsom., alkaliopplbselig harpiks
Under anvendelse av fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i)
ble 5 g (0,032 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat) (syntese Al) omsatt med 2-nitrocinnamylidenmalonsyre (syntese B3)
(10,78 g, 0,41 mol) i 2 .timer og deretter med 4-metyl-oc-fenoksykanelsyre (syntese C3) (16,25 g, 0,064 mol) i ytterligere 4 timer til å gi 8 g av det bnskede produkt med en absorpsjonstopp ved 330 nm, en syreekvivalent på 485,2 og
som inneholdt 2,9 % N.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g eosin
ble opplost i 2-butanon (100 ml), filtrert og påfbrt et ark av elektrokornet og anodisert aluminium til å gi en lysfblsom plate som ble eksponert i 2 min. og behandlet som vist i eksempel 2 (ii), og det ble erholdt en trykkplate av hby kvalitet.
Eksempel 5
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Under anvendelse av fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i)
ble 5 g (0,032 mol) poly- (2 , 3-epoksypropylmetakrylat) , (syntese Al) omsatt med Y-^l°rcinnamyli^enmalonsyre (syntese B4^,
(10,35 g, 0,041 mol) i 3' timer og deretter med 4-azido-oc-cyanokanelsyre (syntese C4) (17,55 g, 0,082 mol) i ytterligere 3 timer til å gi 8,4 g av den blandede esterharpiks med en maksimal absorpsjon ved 327 n.m. , og en syreekvi valent på 558.5 og som inneholdt 1,95% N.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,03 g, eosin ble opplost i 2-butanon (100 ml) og påfbrt et ark av elektrokornet aluminium til å gi en lysfblsom plate som ble eksponert i. 2 min. og behandlet som angitt i eksempel 2 (ii), og det ble erholdt en trykkplate med hby kvalitet.
Eksempel 6
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Under anvendelse av fremgangsmåten i henhold til eksempel 2
(i) ble 5 g (0,032 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat)
(syntese Al) omsatt med 4-nitro-y-clorcinnamylidenmalonsyre (syntese B5) (12,2,g, 0,041 mol) i 5 timer og deretter med et.ylhydrogencinhamylidenmalonat (syntese C5) (9,68 g, 0,39 mol) i ytterligere 1 time til å gi 10,025 g av den bnskede blandede esterharpiks med den maksimale absorpsjon ved 34 7 nm og en syreekvivalent på 493,4 og som inneholdt 2,0% N.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g eosin ble opplost i 2-butanon (100 ml), filtrert og påfbrt
et ark av elektrokornet og anodisert aluminium til å gi eh lysfblsom plate som ble eksponert og behandlet i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 2 (ii), og det ble erholdt en trykkplate av hby kvalitet.
Eksempel 7
( i) Fremstilling av en fotofblsom, . alkaliopplbselig harpiks
Under anvendelse av fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble 5 g (0,032 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat) (syntese Al) omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (8,94 g, 0,041 mol) i 2 timer og deretter med akrylsyre (9,16 g, 0,126 mol) i ytterligere 4 timer til å gi 12,15 g av den bnskede blandede esterharpiks med en syreekvivalent på 501,0.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g eosin
ble opplost i 2-butanon (100 ml) og den filtrerte opplosning ble påfbrt et ark av elektrokornet og anodisert aluminium.
Den erholdte lysfolsomme plate ble eksponert il min. og behandlet som angitt i eksempel 2 (ii);og det ble erholdt en trykkplate av hby kvalitet.
Eksempel 8
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Under anvendelse av fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble
5 g (0,029 mol epoksyd) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat-ko-styren) (syntese A4) omsatt med cinnamylidéniiialonsyre (syntese B2) (8,28 g, 0,038 mol) i 2 timer og deretter med (3-(2-furyl)-akrylsyre (syntese C6) (17,4 g, 0,176 mol) i ytterligere 4 timer til å gi 10,6 g av den bnskede blandede esterharpiks med en syreekvivalent på 469,8.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g eosin ble opplost i 2-butanon (100 ml) og opplbsningen filtrert og påfbrt ved hj ei av en virvler på et ark av elektrokornet og anodisert aluminium til å gi en lysfblsom plate som ble eksponert i 1 min. og behandlet som angitt i eksempel 2 (ii) til å gi en trykkplate av hby kvalitet.
Eksempel 9
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Ved å anvende fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble 5 g
(0,034 mol epoksyd) poly-(2,3-epoksypropylakrylat-ko-akrylonitril) (syntese A5) omsatt med cinnamyliden-malonsyre
(syntese B2) (8,28 g, 0,038 mol) i 4 timer og deretter med oc-cyano-(3-metylcinnamyliden-eddiksyre (syntese Cl) (16,19 g, 0,076 mol) i ytterligere 2 timer til å gi 9,8 g' av den bnskede blandede esterharpiks med den maksimale absorpsjon ved 321 nm, samt en syreekvivalent på 531.1.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g 1 ,2-benzantrakinon ble opplost i 2-butanon (100 ml) og oppløs-ningen filtrert og påfbrt ved hjelp av en virvler på et ark av elektrokornet og anodisert aluminium og tbrket til å gi en fblsom plate som ble eksponert som beskrevet i eksempel 2 (ii). Den eksponerte plate ble deretter oppskåret i 3 like deler,
en del ble behandlet med 5,7%'ig vandig natriummetasilikatopplbsning, vasket og innsvertet. En del ble behandlet, med en 2,5. %'ig vandig opplosning av natriumhydroksyd, vasket og innsvertet;og den siste ble behandlet med en 0,033 molar opplosning av trinatriumfosf.at, vasket og svertet. Alle de tre plater hadde tilsvarende trykningsegenskaper.
Eksempel 10
. ( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
5 g (0,028 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat-ko-dodecylmetakrylat) (syntese A3) ble omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (13,74 g, 0,063 mol) i 6 timer ved 80°C under anvendelse av trietylamin (0,125 ml) som katalysator for forestringen. Den erholdte homoesterharpiks ble isolert ved fremgangsmåten beskrevet i eksempel 1 (i) til å gi 8,8 g av det bnskede sluttprodukt, med en syreekvivalent på 461.6.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
3 g av den ovenfor erholdte fotofblsomme harpiks og 0,3 g eosin ble opplost i 2-butanon (100 ml) og opplbsningen ble filtrert og påfbrt et ark av elektrokornet og anodisert aluminium til å gi en lysfblsom plate som ble eksponert i 1 min., fremkalt i en 5,7%'ig vandig natriummetasilikatopplbsning og vasket med vann. Det ble erholdt et hydrofobt, blekkreseptivt bildeareale som folge av innarbeidelsen av dodecylmetakrylat-enheter i substrat-polymerkjeden. Den innfargede plate hadde utmerkede trykkegenskaper.
Eksempel 11
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Ved å anvende fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble 5 g
(0,032 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat) (syntese Al) omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (8,94 g,
0,041 mol) i 2 timer og deretter med oktansyre (18,14 g , 0,126 mol) i 4 timer til å gi 10,8 g av den bnskede blandede esterharpiks med en syreekvivalent på 613,6.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
En trykkplate ble fremstilt i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 1 (ii) og den viste å ha tilsvarende egenskaper som folge av innarbeidelse av oktanoatestergrupper i den fotofblsomme harpiks.
Eksempel 12
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
5 g (0,032 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat (syntese Al)
og benzyltrietylammoniumbromid (0,2 g) ble opplost i 2-butanon (100 ml), behandlet med propionylklorid (0,29 g, 0,0032 mol) og oppvarmet til 80°C i 1 time. Cinnamylidenmalonsyre (13,74 g, 0,063 mol) og benzyltrietylammoniumbromid (0,4 g) ble tilsatt og oppvarmningen fortsatt i ytterligere 5 timer, og det der-ved erholdte produkt isolért som beskrevet i eksempel 2 (i) til å gi 9,1 g av den bnskede blandede esterharpiks med en syreekvivalent på 4 22 ,9 og et klorinnhold på 1,97 vekt-%..
( ii) Fremstilling av en trykkplate ,
En trykkplate ble fremstilt i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 10 (ii), og den ga mange tilfredsstillende kopier uten tegn på slitasje.
Eksempel 13
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Ved å anvende fremgangsmåten vist i eksempel 2 (i) ble 5 g
(0,038 mol epoksyd) poly-(2,3-epoksypropylakrylat) (syntese A2) omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2) (17,0 g, 0,075 mol)
i 2,25 timer og deretter med eddiksyre (8,9 ml, 9,388 g, 0,156
mol) i ytterligere 3,5 timer til å gi 10,5 g av den bnskede
blandede esterharpiks med en syreekvivalent på 443,1.
( ii) Fremstilling av en trykkplate ( a)
En trykkplate ble fremstilt i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 4 (ii) og med denne var det mulig å fremstille mange avtrykk av hby kvalitet uten tegn på billedsli-tasje.
( iii) Fremstilling av en trykkplate ( b)
Et stykke av den lysfolsomme plate som ble fremstilt som ovenfor angitt ble eksponert i 15 min. med en 250 watts glbdelampe i en avstand av 0,5 m og deretter fremkalt og innsvertet som
beskrevet i eksempel 2 (ii) til å gi en trykkplate av hby kvalitet.
( iv) Fremstilling av en trykkplate ( c)
Et ytterligere stykke av den ovenfor beskrevne lysfolsomme plate ble eksponert ved hjelp av en argonionelaser som av-
gir stråling i det ultrafiolette området og gitt en eksponering på 50 mjoules/cm 2og det ble erholdt en trykkplate av hby kvalitet.
Eksempel 14
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
Ved å anvende fremgangsmåten som beskrevet i eksempel 2 (i) ble 15 g (0,096 mol) poly-(2,3-epoksypropylmetakrylat) (syntese Al) omsatt med cinnamylidenmalonsyre (syntese B2)
(26,8, 0,123 mol) i 4 timer og deretter med trikloreddiksyre (30 g, 0,18 mol) i ytterligere 2 timer til å gi 31 g av den bnskede blandede ester med en syreekvivalent på 544,1.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
En .trykkplate ble fremstilt i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel 4 (ii) og med denne kunne det fremstilles kopier av hby kvalitet.
Eksempel 15
( i) Fremstilling av en fotofblsom, alkaliopplbselig harpiks
10 g av forbindelsen i henhold til eksempel 14 ble opplost
i 2-butanon (100 ml) og behandlet med eddiksyréanhydrid (0,23 g, 0,00225 mol) i 4 timer til å gi 9,8 g av det acety-lerte produkt.
( ii) Fremstilling av en trykkplate
En trykkplate ble fremstilt i henhold til fremgangsmåten beskrevet i eksempel. 4 (ii) og denne hadde et ekstremt hydrofobt billedareale og det var mulig å fremstille mange kopier uten noe som helst tegn på slitasje.

Claims (8)

1. Fotopolymeriserbart materiale, karakterisert ved at det omfatter en polymer innbefattende et antall strukturelle enheter representert ved formelen
(I):
hvori R^" betyr et hydrogenatom eller en metylgruppe, R 2betyr et hydrogenatom, en alkyl- eller substituert alkylgruppe, en aryl- eller substituert arylgruppe eller én hetero-3 4 5 cyklisk eller substituert heterocyklisk gruppe, R , R og R som kan være like eller forskjellige betyr hver et hydrogenatom, et halogenatom, en cyano-, alkyl-, aryl-, alkoksy-, aryloksy-, aralkyl-, aralkoksy- eller alkoksykarbonylgruppe, Z betyr en hydroksylgruppe eller en estergruppe og a er et heltall storre eller lik 1.
2. Polymeriserbart materiale ifolge krav 1, karakterisert ved at i formel I, 2 3 4 5 (i) betyr R fenyl og R , R og R hydrogen, 2 3-45 (ii) R betyr 2-nitrofenyl og R , R og R hydrogen, (iii) R 2 betyr 3-nitrofenyl og R 3 , R 4 og R 5 hydrogen, 2 3-45 (iv) R betyr fenyl, R klor og R og R hydrogen, eller (v) R 2 betyr. 4-nitrofenyl, R 3 betyr klor og R 4 og R 5 hydrogen.
3. Polymeriserbart materiale ifolge krav 1 eller 2, karakterisert ved at polymeren ytterligere innbefatter strukturelle enheter med formelen (II):
hvori Z?~ betyr en hydroksylgruppe, en estergruppe eller et halogenatom, R" <*> " R -har den samme betydning som angitt i 6 3 5 formel I, R har den samme betydning som R - R 1 formel I og b er 0 eller et heltall storre eller lik 1.
4. Polymeri serbar t materiale ifolge-.krav 3, karakterisert ved at i formel II: (i) b er O, og R 2 , R 5 og R 6 betyr hydrogen, (ii) b er 0, R 2 • og R 5 betyr hydrogen og R 6betyr metyl, 2 5 6 (iii) b er 0, R betyr fenyl og R og R hydrogen, 2 5 (iv) b er 0, R betyr 4-metoksyfenyl, R betyr hydrogen og R en cyanogruppe, (v) b betyr 0, R 4-klorf enyl,. R hydrogen og R en fenyl-gruppe, 2 5 6 (vi) ,b betyr 0, R\ 4-metylfenyl, R hydrogen og R en fenoksygruppe, 2 5 6 (vii) b betyr 0, R 4-azidofenyl, R hydrogen og R en cyanogruppe , 2 5 6 (viii) b betyr 0, R 2-furyl og R og R hydrogen, (ix) b betyr 1, R 2 fenyl, R 3 , R og R 5 hydrogen og R er en cyanogruppe, (x) b betyr 1, R2 fenyl, R3, R4 og R^ hydrogen og R6 betyr en etoksykarbonylgruppe, eller (xi) b betyr 1, R2 fenyl, R3 og R4 hydrogen, R5 metyl og R6 en cyanogruppe.
5. Fotopolymeriserbart materiale ifolge kravene 1-4, karakterisert ved at det ytterligere innbefatter et antall strukturelle enheter med formelen III: ;hvori R" <*> " og z'}~ har den samme betydning som angitt i forbin-deise med formel II og R <7> betyr en alkyl- eller substituert alkylgruppe, en aryl- eller substituert arylgruppe, eller én heterocyklisk- eller substituert heterocyklisk gruppe.
6. Fotopolymeriserbart materiale ifolge krav 5, karakterisert ved at i formel III, (i) betyr R 7 en metylgruppe og Z 1 en hydroksylgruppe, (ii) R 7 betyr en heptylgruppe og Z 1 betyr en hydroksylgruppe, (iii) R 7 betyr en etylgruppe og Z 1 betyr klor, eller (iv) R 7 betyr en triklormetylgruppe og Z 1 betyr en hydroksylgruppe.
7. Fotbpolymeriserbart.jnateriale ifolge kravene 1-6 karakterisert ved at polymeren ytterligere innbefatter et antall strukturelle enheter avledet fra en umettet, addisjonspolymeriserbar monomer.■
8. Fotopolymeriserbart materiale ifolge krav 7, karakterisert ved at den polymeriserbare monomer er dodecylmetakrylat, styren eller akrylonitril.
NO764338A 1975-12-23 1976-12-22 NO764338L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB52522/75A GB1572441A (en) 1975-12-23 1975-12-23 Photopolymerisable polymers with free carboxyl groups and printing plates therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO764338L true NO764338L (no) 1977-06-24

Family

ID=10464243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO764338A NO764338L (no) 1975-12-23 1976-12-22

Country Status (27)

Country Link
US (1) US4263394A (no)
JP (1) JPS5286488A (no)
AT (1) AT348552B (no)
AU (1) AU510145B2 (no)
BE (1) BE849803A (no)
BR (1) BR7608579A (no)
CA (1) CA1107444A (no)
CH (1) CH629314A5 (no)
CS (1) CS212783B2 (no)
DE (1) DE2658272A1 (no)
DK (1) DK579976A (no)
ES (1) ES454521A1 (no)
FI (1) FI64863C (no)
FR (1) FR2336707A1 (no)
GB (1) GB1572441A (no)
IE (1) IE44405B1 (no)
IT (1) IT1065419B (no)
KE (1) KE3336A (no)
LU (1) LU76465A1 (no)
MW (1) MW5276A1 (no)
NL (1) NL7614259A (no)
NO (1) NO764338L (no)
NZ (1) NZ182955A (no)
PL (1) PL103094B1 (no)
SE (1) SE424642B (no)
ZA (1) ZA767635B (no)
ZM (1) ZM15276A1 (no)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4343888A (en) 1980-05-01 1982-08-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates
US4284710A (en) 1980-05-01 1981-08-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers
US4592816A (en) * 1984-09-26 1986-06-03 Rohm And Haas Company Electrophoretic deposition process
DE3528929A1 (de) * 1985-08-13 1987-02-26 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE69605909D1 (de) * 1995-04-27 2000-02-03 Minnesota Mining & Mfg Negativ arbeitende unbehandelte reproduktionsschichten
US5910395A (en) * 1995-04-27 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
US6159658A (en) * 1996-03-19 2000-12-12 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition with polymer having an ionic group and having a polymerizable group in the side chain and printing plate materials
AU2001248201B2 (en) * 2000-04-13 2006-12-14 Hsc Research And Development Limited Partnership Compounds for modulating cell proliferation
CA2407755A1 (en) * 2002-10-11 2004-04-11 The Hospital For Sick Children Inhibition of vegf secretion
CA2533287A1 (en) * 2003-07-30 2005-02-10 The Hospital For Sick Children Compounds for modulating cell proliferation
JP2007530455A (ja) * 2004-03-26 2007-11-01 エイチエスシー リサーチ アンド ディベロップメント リミテッド パートナーシップ 細胞増殖を調節する化合物
US8778568B2 (en) * 2010-12-14 2014-07-15 General Electric Company Optical data storage media and methods for using the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3993684A (en) * 1971-08-20 1976-11-23 Western Litho Plate & Supply Co. Monomeric compounds
US3799915A (en) * 1971-08-20 1974-03-26 Western Litho Plate & Supply Photopolymers
US4065430A (en) * 1973-02-13 1977-12-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Functional group containing polymer and method of preparing the same

Also Published As

Publication number Publication date
ZA767635B (en) 1977-11-30
FR2336707B1 (no) 1983-04-29
ZM15276A1 (en) 1978-03-21
LU76465A1 (no) 1977-06-15
FI763683A (no) 1977-06-24
FI64863B (fi) 1983-09-30
AT348552B (de) 1979-02-26
PL103094B1 (pl) 1979-05-31
US4263394A (en) 1981-04-21
CS212783B2 (en) 1982-03-26
ATA964076A (de) 1978-07-15
GB1572441A (en) 1980-07-30
SE424642B (sv) 1982-08-02
FR2336707A1 (fr) 1977-07-22
IE44405L (en) 1977-06-23
DE2658272A1 (de) 1977-07-14
BR7608579A (pt) 1977-12-27
DK579976A (da) 1977-06-24
IT1065419B (it) 1985-02-25
KE3336A (en) 1983-11-04
ES454521A1 (es) 1977-12-01
NZ182955A (en) 1979-04-26
NL7614259A (nl) 1977-06-27
CH629314A5 (de) 1982-04-15
JPS5286488A (en) 1977-07-18
MW5276A1 (en) 1978-02-08
IE44405B1 (en) 1981-11-18
SE7614315L (sv) 1977-06-24
AU2081876A (en) 1978-06-29
BE849803A (fr) 1977-06-23
AU510145B2 (en) 1980-06-12
CA1107444A (en) 1981-08-18
FI64863C (fi) 1984-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3849137A (en) Lithographic printing plates and photoresists comprising a photosensitive polymer
US4736055A (en) Oxime sulfonates containing reactive groups
CA1168792A (en) Mixture which is polymerizable by radiation, and radiation-sensitive copying material prepared therewith
US4496447A (en) Aromatic-aliphatic ketones useful as photoinitiators
CA1267656A (en) Photoinitiators for photopolymerization of unsaturated systems
US5200299A (en) Quinoline and acridine compounds effective as photoinitiators and containing polymerizable (meth)acryloyl substituents
EP0125140B1 (en) Improvements in or relating to radiation sensitive plates
NO764338L (no)
JP2013530994A (ja) チオキサントン−４−カルボン酸エステル及び製造方法並びに光開始剤組成物及び応用
EP0520574B1 (en) Thioxanthone derivatives
CN110330501B (zh) 长波长香豆素肟酯类化合物及其制备和应用
JPH0764839B2 (ja) 新規なキサントンおよびチオキサントン、それらの製造方法ならびに中間体
US2824084A (en) Light-sensitive, unsaturated polymeric maleic and acrylic derivatives
US5330877A (en) Photosensitive compositions containing stilbazolium groups
US2816091A (en) Polymeric chalcones and their use as light-sensitive polymers
CN110551098B (zh) 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
US5834157A (en) 2-acylamino-9-arylacridines, process for their preparation and photosensitive mixtures containing them
CN115583931B (zh) 醚官能化香豆素肟酯类化合物及其制备和应用
JPH02292278A (ja) 感光性ビス‐トリクロロメチル‐ｓ‐トリアジン類、それらの製造方法およびそれらの化合物を含有する感光性組成物
JP3302759B2 (ja) 光重合開始剤
FI62911C (fi) Ljuskaensliga material
US4569901A (en) Poly(N-benzyl acrylamide) polymer containing negative photoresist compositions
US5358999A (en) Process for preparation of photosensitive compositions of stilbazolium quaternary
WO2020252628A1 (zh) 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
JPS5869208A (ja) 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法