KR20230056324A - Leveling apparatus of substrate treating equipment - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a leveling apparatus for a substrate treatment facility, capable of adjusting leveling between a fixed body and a moving body of a substrate treatment facility. The leveling apparatus includes: a table unit installed in a moving body to be liftable; a lifting unit lifting the table unit; a lifting guide unit guiding the lifting movement of the table unit; a first leveling unit leveling one end of the table unit; a second leveling unit leveling the other end of the table unit; and a leveling guide unit guiding the leveling movement of the first leveling unit through lifting movement. Therefore, in accordance with the present invention, the leveling apparatus includes the first leveling unit, the second leveling unit and the leveling guide unit with respect to a lifting axis of the lifting unit and individually levels one end and the other end of the table unit, thereby providing an effect of preventing the leveling unit from wobbling or twisting in case of an external force occurring to the substrate treatment facility while improving leveling precision.

Description

기판 처리 설비의 레벨링 장치{LEVELING APPARATUS OF SUBSTRATE TREATING EQUIPMENT}Leveling device of substrate processing equipment {LEVELING APPARATUS OF SUBSTRATE TREATING EQUIPMENT}

본 발명은 기판 처리 설비의 레벨링 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 처리 설비의 고정체와 이동체 사이의 레벨링을 조절하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a leveling device of a substrate processing facility, and more particularly, to a leveling device of a substrate processing facility that adjusts leveling between a stationary body and a movable body of the substrate processing facility.

일반적으로, 웨이퍼는 사진 공정, 이온확산 공정, 식각 공정, 박막증착 공정 등 제반 공정들을 반복적으로 수행하여 반도체 장치인 칩(Chip)으로 제조되는데, 이와 같은 공정 중에서 박막증착 공정은 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 공정으로, 박막증착 방법에 따라 크게 물리기상증착방법과 화학기상증착 방법으로 나누어지며, 최근에는 기체상태의 화합물을 분해한 후 화학적 반응에 의해 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 화학기상증착 방법이 널리 사용되고 있다.In general, a wafer is manufactured into a semiconductor device chip by repeatedly performing various processes such as a photo process, an ion diffusion process, an etching process, and a thin film deposition process. Among these processes, the thin film deposition process forms a thin film on the wafer. The forming process is largely divided into physical vapor deposition method and chemical vapor deposition method according to the thin film deposition method. It is widely used.

특히, 이러한 화학기상증착 방법은 다시 박막을 형성시키기 위해서 화학 반응이 발생되는 조건 즉, 압력과 온도와 주입되는 에너지에 따라 크게 대기압에서 화학기상증착이 이루어지는 AP CVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)와 저압에서 화학기상증착이 이루어지는 LP CVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 및 저압상태에서 플라즈마에 의해 화학기상증착이 이루어지는 PE CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등으로 나누어진다.In particular, this chemical vapor deposition method is AP CVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) in which chemical vapor deposition is performed at atmospheric pressure largely depending on the conditions in which a chemical reaction occurs to form a thin film, that is, pressure, temperature, and injected energy, and low pressure It is divided into LP CVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition), in which chemical vapor deposition is performed, and PE CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), in which chemical vapor deposition is performed by plasma under low pressure.

이러한 박막 증착 공정을 포함하는 다수의 공정을 위한 반도체 제조 설비들은 각 설비마다 각각 서로 다른 반도체 공정을 수행하기 때문에 각 반도체 공정을 원활하게 수행하기 위해서는 각 반도체 공정에 따라 반응가스, 반응온도, 반응압력 등 공정을 진행하기 위한 여러 가지 조건들을 충족시켜야 한다.Since semiconductor manufacturing facilities for multiple processes including the thin film deposition process perform different semiconductor processes for each facility, in order to smoothly perform each semiconductor process, the reaction gas, reaction temperature, and reaction pressure are required according to each semiconductor process. Several conditions must be met for the process to proceed.

예를 들면, 프로세스 챔버 내부로 소정의 반응가스를 공급해줌과 동시에 프로세스 챔버의 상측과 하측으로 각각 소정 주파수의 전원을 공급해줌으로써 챔버내 플라즈마가 발생되도록 하여 소정 반도체 공정을 수행하는 반도체 제조설비 같은 경우에, 상측과 하측으로 공급되는 전원이 상호 단락되지 않도록 하는 단락방지 조건과, 웨이퍼를 가열시켜 주는 히터의 수평유지 조건이 충족되어야 한다.For example, in the case of a semiconductor manufacturing facility that performs a predetermined semiconductor process by supplying a predetermined reaction gas into the process chamber and simultaneously supplying power of a predetermined frequency to the upper and lower sides of the process chamber to generate plasma in the chamber In this case, a short-circuit prevention condition for preventing power supplied to the upper and lower sides from being short-circuited and a leveling condition for a heater that heats the wafer must be satisfied.

특히, 반도체 소자를 제조하는 공정에서 유전체층 및 금속층을 포함하는 다양한 층이 반도체 기판 위에 증착되며, 이러한 층들은 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; CVD)과 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)에 의해 증착된다.In particular, in the process of manufacturing a semiconductor device, various layers including a dielectric layer and a metal layer are deposited on a semiconductor substrate, and these layers are deposited by Chemical Vapor Deposition (CVD) and Physical Vapor Deposition. .

CVD 공정을 수행하는 장비는 반응챔버 내에 열을 발생하기 위하여 램프모듈 또는 히터가 구비되며, 특히 히터를 열원으로 사용하는 CVD 장비는 히터의 레벨을 조절하기 위한 장치가 마련된다.Equipment performing the CVD process is provided with a lamp module or a heater to generate heat in the reaction chamber, and in particular, a device for adjusting the level of the heater is provided in the CVD equipment using the heater as a heat source.

즉, 히터를 열원으로 사용하는 CVD 장비에서 균일한 박막 두께를 얻기 위해서는 히터블록과 샤워헤드 사이의 간격을 재조정하고 히터블록이 어느 한 쪽으로 기울어지지 않고 평평함을 유지하도록 하는 레벨링(Leveling)작업을 실시하여야 한다.In other words, in order to obtain a uniform thin film thickness in CVD equipment using a heater as a heat source, readjust the gap between the heater block and the showerhead and perform a leveling operation to keep the heater block flat without tilting to either side. shall.

종래의 히터의 레벨을 조절하기 위한 장치는 간격조절볼트와 너트, 또는 간격조절볼트와 플레이트가 면접촉하기 때문에 히터블록 레벨 조절 시 진동 및 소음이 발생할 뿐만 아니라 레벨 조절로 인한 마모로 레벨 조절장치를 자주 교체하여야 하는 번거로움이 있었다.In the conventional device for adjusting the level of the heater, vibration and noise occur when adjusting the level of the heater block because the spacing adjusting bolt and nut, or the spacing adjusting bolt and the plate are in surface contact, and the level adjusting device is worn due to level adjusting. It was a hassle to replace frequently.

여기에서, 프로세스 챔버 내부의 하측에 설치되는 히터에는 다수의 웨이퍼가 안착될 수 있으며, 웨이퍼의 막질 형성에 영향을 끼치는 요소로서 가스, 온도, RF 파워(Radio Frequency Power) 이외에 히터와 샤워헤드간의 간격도 중요하게 작용한다.Here, a plurality of wafers can be seated on the heater installed on the lower side of the inside of the process chamber, and the distance between the heater and the showerhead in addition to gas, temperature, and RF power (Radio Frequency Power) are factors that affect the film formation of the wafer. also plays an important role.

종래의 기판처리장치에 있어서는 샤워헤드 자체의 구성을 변경하거나 히터와 서셉터를 승강시키는 승강구조 자체를 변경하여 히터와 샤워헤드 사이의 간격을 조정하는 방안이 제시되고 있다.In the conventional substrate processing apparatus, a method of adjusting the interval between the heater and the showerhead by changing the structure of the showerhead itself or by changing the lifting structure itself that lifts the heater and the susceptor has been proposed.

그러나 상술한 종래의 방안에서는, 히터나 샤워헤드의 하드웨어적인 구성 자체를 변경하여야 하므로, 히터와 샤워헤드 사이의 간격을 조정하기 위해서는 비용과 시간이 많이 소요된다고 하는 문제점이 있었다.However, in the above-described conventional method, since the hardware configuration of the heater or the showerhead itself needs to be changed, there is a problem in that it takes a lot of time and cost to adjust the interval between the heater and the showerhead.

또한, 챔버 내에서 처리되는 공정 조건이나 챔버 내의 샤워헤드의 상태에 따라서는, 기판이 안착된 히터가 막형성 위치로 상승된 후에 미세하게 상승시키거나, 히터에 안착된 기판의 어느 일측만을 미세하게 상승시켜 샤워헤드와 히터 사이의 간격을 미세하게 조정할 필요가 발생하는 경우가 있는데, 종래의 기판처리장치에 있어서는, 이러한 미세 조정에 대하여 적절하게 대응하지 못한다고 하는 문제점이 있었다.In addition, depending on the process conditions processed in the chamber or the state of the showerhead in the chamber, after the heater on which the substrate is seated is raised to the film formation position, it is raised minutely or only one side of the substrate seated on the heater is minutely raised. There is a case where it is necessary to finely adjust the interval between the showerhead and the heater by raising the showerhead, but in the conventional substrate processing apparatus, there was a problem that it could not properly cope with such fine adjustment.

또한, 종래의 기판처리장치에서 레벨링 장치는 테이블부의 일단을 외팔보 타입의 아암을 사용하여 레벨링 승강이동시키게 되므로, 레벨링 장치에 외부의 추력이 발생되는 경우에 아암에 처짐이나 비틀림이 발생하여 레벨링 정밀도가 저하되는 문제점도 있었다.In addition, since the leveling device in the conventional substrate processing apparatus moves one end of the table part up and down for leveling using a cantilever type arm, when an external thrust is generated in the leveling device, deflection or twist occurs in the arm, resulting in poor leveling accuracy. There were also problems with degradation.

대한민국 등록특허 제10-1589667호 (2016년01월29일)Korean Patent Registration No. 10-1589667 (January 29, 2016) 대한민국 등록특허 제10-1203377호 (2012년11월21일)Korean Patent Registration No. 10-1203377 (November 21, 2012) 대한민국 공개특허 제10-2005-0018042호 (2005년02월23일)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2005-0018042 (February 23, 2005)

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 승강이동부의 승강축을 기준해서 제1 레벨링부와 제2 레벨링부와 레벨링 가이드부를 구비하여 테이블부의 일단과 타단을 개별적으로 레벨링함으로써, 기판 처리 설비에 외력의 발생시 레벨링부의 요동이나 비틀림을 방지하는 동시에 레벨링 정밀도를 향상시킬 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been made to solve the above conventional problems, and by individually leveling one end and the other end of the table part by having a first leveling part, a second leveling part, and a leveling guide part based on the lifting shaft of the lifting part, It is an object of the present invention to provide a leveling device of a substrate processing facility capable of preventing vibration or twisting of a leveling unit when an external force is generated in the substrate processing facility and improving leveling accuracy.

또한, 본 발명은 제1 레벨링부와 제2 레벨링부를 테이블부를 기준해서 대향적으로 배치하여 개별적으로 레벨링함으로써, 테이블부를 전후방향 및 좌우방향으로 개별적으로 레벨링을 제어하여 간단한 삼각 함수로 각도 및 조정 거리를 제어할 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention arranges the first leveling unit and the second leveling unit opposite to each other with respect to the table unit and individually level them, thereby individually controlling the leveling of the table unit in the front and rear directions and the left and right directions, thereby controlling the angle and adjustment distance with a simple trigonometric function. It is another object to provide a leveling device of a substrate processing facility capable of controlling.

또한, 본 발명은 승강이동부로서 고정브래킷과 승강모터와 승강편과 지지편을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동을 용이하게 하는 동시에 승강이동을 정밀하게 제어할 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention provides a leveling device for a substrate processing facility capable of precisely controlling the elevation and movement of the table portion by providing a fixing bracket, an elevation motor, an elevation piece, and a support piece as an elevation movement unit. that serves another purpose.

또한, 본 발명은 승강가이드부로서 가이드축과 가이드고정편과 가이드브래킷을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동과 레벨링이동을 용이하도록 지지하는 동시에 승강이동과 레벨링이동의 정밀도를 향상시킬 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention is a substrate processing facility capable of improving the accuracy of the lifting and leveling movement while supporting the table to facilitate the lifting and leveling movement by providing a guide shaft, a guide fixture, and a guide bracket as the lifting guide unit. It is another object to provide a leveling device of.

또한, 본 발명은 레벨링부로서 고정편과 조절편과 조절모터와 상승센서와 하강센서를 구비함으로써, 레벨링용 조절모터가 반응 챔버의 전면과 측면으로 분산 배치되어 유지보수 작업시 반응 챔버의 전면에서의 접근성이 용이하게 되는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention is provided with a fixing piece, a control piece, a control motor, an elevation sensor, and a descent sensor as a leveling unit, so that the control motor for leveling is distributed to the front and side surfaces of the reaction chamber, so that during maintenance work, the front surface of the reaction chamber Another object is to provide a leveling device of a substrate processing facility that facilitates accessibility.

또한, 본 발명은 레벨링부의 하부에 전후방향 및 좌우방향의 레벨링를 감지하는 레벨감지부를 더 구비함으로써, 거리 측정 레이저 센서에 의해 센서값과 조절모터의 동작 거리를 비교하여 조절모터의 오동작 여부를 확인할 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention further includes a level detecting unit at the lower part of the leveling unit for detecting leveling in the front and rear directions and in the left and right directions, so that the sensor value and the operating distance of the adjustment motor can be compared with a distance measuring laser sensor to determine whether the adjustment motor is malfunctioning. Another object is to provide a leveling device for a substrate processing facility.

또한, 본 발명은 레벨링 가이드부로서 가이드편과 제1 지지편과 제2 지지편과 결합홀을 구비함으로써, 레벨링부의 승강이동을 양단부위에서 가이드하여 레벨링부에 외력의 작용시 레벨링부의 처짐이나 비틀림을 방지할 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention is provided with a guide piece, a first support piece, a second support piece, and a coupling hole as a leveling guide portion, thereby guiding the lifting movement of the leveling portion at both ends to prevent sagging or twisting of the leveling portion when an external force is applied to the leveling portion. Another object is to provide a leveling device for a substrate processing facility capable of preventing the above.

또한, 본 발명은 레벨링 가이드부로서 제1 가이드와 제2 가이드를 더 구비하고 제1 가이드와 제2 가이드가 LM가이드로 이루어짐으로써, 레벨링부의 양단부위에서 LM가이드에 의해 가이드하여 승강이동의 직진성을 향상시키는 동시에 레벨링부의 내구성을 보강시킬 수 있는 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention further includes a first guide and a second guide as a leveling guide unit, and the first guide and the second guide are made of LM guides, so that both ends of the leveling unit are guided by the LM guides to improve the straightness of the lifting movement. Another object is to provide a leveling device of a substrate processing facility capable of reinforcing durability of a leveling unit at the same time.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판 처리 설비의 고정체와 이동체 사이의 레벨링을 조절하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치로서, 기판 처리 설비의 이동체에 승강하도록 설치된 테이블부(10); 기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)를 승강이동시키는 승강이동부(20); 상기 테이블부(10)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 승강이동을 가이드하는 승강가이드부(30); 상기 테이블부(10)의 하부 일방에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 일단을 레벨링하는 제1 레벨링부(40); 상기 테이블부(10)의 하부 타방에 설치되되 상기 승강가이드부(30)를 기준해서 상기 제1 레벨링부(40)에 대해 대향하도록 배치되어, 상기 테이블부(10)의 타단을 레벨링하는 제2 레벨링부(50); 및 상기 제1 레벨링부(40)의 일방에 설치되어, 상기 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 승강이동에 의해 가이드하는 레벨링 가이드부(80);를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is a leveling device of a substrate processing facility for adjusting leveling between a fixed body and a movable body of a substrate processing facility, comprising: a table unit 10 installed to move up and down on a movable body of the substrate processing facility; a lifting and moving unit 20 installed under the fixed body of the substrate processing facility to lift and move the table unit 10; a lifting guide part 30 installed under the table part 10 to guide the lifting movement of the table part 10; a first leveling unit 40 installed on one lower side of the table unit 10 and leveling one end of the table unit 10; A second leveling unit installed on the other side of the lower part of the table unit 10 and disposed to face the first leveling unit 40 based on the elevation guide unit 30 to level the other end of the table unit 10. Leveling unit 50; and a leveling guide unit 80 installed on one side of the first leveling unit 40 and guiding the leveling movement of the first leveling unit 40 by a lifting and lowering movement.

본 발명의 상기 승강이동부(20)는, 기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되는 고정브래킷; 상기 고정브래킷의 일방 하부에 설치되어, 승강구동력을 제공하는 승강모터; 상기 승강모터의 상부에 설치되어, 승강구동력을 전달받아 승강이동되는 승강편; 및 상기 고정브래킷의 일방 하부에 상기 승강모터를 고정 지지하도록 설치된 지지편;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The lifting and moving unit 20 of the present invention includes a fixing bracket installed under a fixed body of a substrate processing facility; an elevating motor installed at a lower portion of one side of the fixing bracket to provide an elevating driving force; an elevation piece installed on the upper part of the elevation motor and moving up and down by receiving an elevation driving force; and a support piece installed at a lower portion of one side of the fixing bracket to fixally support the lifting motor.

본 발명의 상기 승강가이드부(30)는, 상기 테이블부(10)의 하부에 설치되어, 상기 승강이동부(20)에 의해 승강이동을 가이드하는 가이드축; 상기 승강이동부(20)에 결합되어 승강이동되는 가이드브래킷; 및 상기 가이드브래킷의 일방에 상기 가이드축을 고정지지하는 가이드고정편;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The lifting guide part 30 of the present invention is installed under the table part 10, the guide shaft for guiding the lifting movement by the lifting moving part 20; A guide bracket that is coupled to the lifting and moving unit 20 and moves up and down; and a guide fixing piece for fixing and supporting the guide shaft to one side of the guide bracket.

또한, 본 발명은 상기 제1 레벨링부(40)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링를 감지하는 제1 레벨감지부(60); 및 상기 제2 레벨링부(50)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 좌우방향의 레벨링를 감지하는 제2 레벨감지부(70);를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is installed in the lower portion of the first leveling unit 40, the first level detecting unit 60 for detecting leveling in the front and rear direction of the table unit 10; and a second level detecting unit 70 installed under the second leveling unit 50 to sense leveling of the table unit 10 in the left and right directions.

본 발명의 상기 제1 레벨링부(40)는, 상기 승강이동부(20)의 하부 일방에 고정 설치되는 제1 고정편; 상기 제1 고정편의 상부에 레벨링하도록 이동되는 제1 조절편;상기 제1 고정편의 하부에 고정 설치되어, 레벨링을 위한 구동력을 제공하는 제1 조절모터; 및 상기 제1 고정편의 상부에 설치되되 상기 제1 조절모터와 연결되어 레벨링 이동을 가이드하는 제1 가이드수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The first leveling unit 40 of the present invention includes a first fixing piece fixed to one lower portion of the lifting and moving unit 20; A first control piece moved to level the upper portion of the first fixing piece; A first adjusting motor fixed to the lower portion of the first fixing piece and providing a driving force for leveling; and a first guide means installed above the first fixing piece and connected to the first control motor to guide the leveling movement.

본 발명의 상기 제1 레벨링부(40)는, 상기 제1 고정편의 상부 일방에 설치되어 상기 제1 조절편의 상승이동을 감지하는 제1 상승센서; 및 상기 제1 고정편의 상부 타방에 설치되어 상기 제1 조절편의 하강이동을 감지하는 제1 하강센서;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The first leveling unit 40 of the present invention includes: a first lift sensor installed on one upper side of the first fixing piece to detect an upward movement of the first adjusting piece; and a first descending sensor installed on the other side of the upper portion of the first fixing piece to sense the downward movement of the first adjusting piece.

본 발명의 상기 제1 조절편은, 상기 테이블부(10)의 수평면을 기준해서 상하방향으로 각각 소정거리 이내로 이동하여 상기 테이블부(10)의 전후방향으로 기울기를 조절하는 것을 특징으로 한다.The first adjusting piece of the present invention is characterized in that it adjusts the inclination of the table part 10 in the forward and backward directions by moving within a predetermined distance in the vertical direction based on the horizontal surface of the table part 10 .

본 발명의 상기 레벨링 가이드부(80)는, 상기 제1 레벨링부(40)의 일단에 결합되어, 상기 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 가이드하는 가이드편; 상기 가이드편의 일방에 설치되어, 상기 가이드편의 일방의 승강이동을 지지하는 제1 지지편; 상기 가이드편의 타방에 설치되어, 상기 가이드편의 타방의 승강이동을 지지하는 제2 지지편; 및 상기 가이드편의 중앙부위에 설치되어, 상기 가이드편의 레벨링 이동을 전달하도록 결합되는 결합홀;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The leveling guide part 80 of the present invention is coupled to one end of the first leveling part 40, the guide piece for guiding the leveling movement of the first leveling part 40; A first support piece installed on one side of the guide piece to support the lifting movement of one side of the guide piece; a second support piece installed on the other side of the guide piece to support the lifting movement of the other side of the guide piece; and a coupling hole installed at the central portion of the guide piece and coupled to transfer the leveling movement of the guide piece.

본 발명의 상기 레벨링 가이드부(80)는, 상기 가이드편과 상기 제1 지지편 사이에 설치되어, 상기 가이드편의 승강이동을 가이드하는 제1 가이드; 및 상기 가이드편과 상기 제2 지지편 사이에 설치되어, 상기 가이드편의 승강이동을 가이드하는 제2 가이드;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The leveling guide part 80 of the present invention is installed between the guide piece and the first support piece, a first guide for guiding the lifting movement of the guide piece; and a second guide installed between the guide piece and the second support piece to guide the lifting movement of the guide piece.

본 발명의 상기 제1 가이드 및 상기 제2 가이드는, LM(Linear Motion) 가이드로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.The first guide and the second guide of the present invention are characterized in that they consist of LM (Linear Motion) guides.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 승강이동부의 승강축을 기준해서 제1 레벨링부와 제2 레벨링부와 레벨링 가이드부를 구비하여 테이블부의 일단과 타단을 개별적으로 레벨링함으로써, 기판 처리 설비에 외력의 발생시 레벨링부의 요동이나 비틀림을 방지하는 동시에 레벨링 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.As described above, the present invention is provided with a first leveling unit, a second leveling unit, and a leveling guide unit based on the lifting shaft of the lifting unit to individually level one end and the other end of the table unit, thereby leveling the substrate processing equipment when external force is generated. It provides the effect of improving the leveling precision while preventing the shaking or twisting of the part.

또한, 제1 레벨링부와 제2 레벨링부를 테이블부를 기준해서 대향적으로 배치하여 개별적으로 레벨링함으로써, 테이블부를 전후방향 및 좌우방향으로 개별적으로 레벨링을 제어하여 간단한 삼각 함수로 각도 및 조정 거리를 제어할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by arranging the first leveling unit and the second leveling unit opposite to each other based on the table unit and individually leveling the table unit, the angle and adjustment distance can be controlled with a simple trigonometric function by individually controlling the leveling of the table unit in the forward and backward directions and in the left and right directions. provides possible effects.

또한, 승강이동부로서 고정브래킷과 승강모터와 승강편과 지지편을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동을 용이하게 하는 동시에 승강이동을 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a fixing bracket, an elevation motor, an elevation piece, and a support piece as the elevation moving unit, the elevation movement of the table portion is facilitated and at the same time, an effect capable of precisely controlling the elevation movement is provided.

또한, 승강가이드부로서 가이드축과 가이드고정편과 가이드브래킷을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동과 레벨링이동을 용이하도록 지지하는 동시에 승강이동과 레벨링이동의 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a guide shaft, a guide fixing piece, and a guide bracket as a lifting guide unit, an effect of improving the accuracy of the lifting and leveling movement while supporting the table unit to facilitate the lifting and leveling movement is provided.

또한, 레벨링부로서 고정편과 조절편과 조절모터와 상승센서와 하강센서를 구비함으로써, 레벨링용 조절모터가 반응 챔버의 전면과 측면으로 분산 배치되어 유지보수 작업시 반응 챔버의 전면에서의 접근성이 용이하게 되는 효과를 제공한다.In addition, by having a fixing piece, a control piece, a control motor, an elevation sensor, and a descent sensor as a leveling unit, the control motor for leveling is distributed to the front and side surfaces of the reaction chamber, so that accessibility from the front of the reaction chamber during maintenance work is reduced. It provides an effect that facilitates.

또한, 레벨링부의 하부에 전후방향 및 좌우방향의 레벨링를 감지하는 레벨감지부를 더 구비함으로써, 거리 측정 레이저 센서에 의해 센서값과 조절모터의 동작 거리를 비교하여 조절모터의 오동작 여부를 확인할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by further comprising a level detecting unit at the lower part of the leveling unit for detecting leveling in the forward and backward directions and in the left and right directions, the distance measuring laser sensor compares the sensor value and the operating distance of the control motor to determine whether the control motor is malfunctioning. to provide.

또한, 레벨링 가이드부로서 가이드편과 제1 지지편과 제2 지지편과 결합홀을 구비함으로써, 레벨링부의 승강이동을 양단부위에서 가이드하여 레벨링부에 외력의 작용시 레벨링부의 처짐이나 비틀림을 방지할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a guide piece, a first support piece, a second support piece, and a coupling hole as the leveling guide portion, the elevation movement of the leveling portion is guided at both ends to prevent sagging or twisting of the leveling portion when an external force is applied to the leveling portion. provides an effect.

또한, 레벨링 가이드부로서 제1 가이드와 제2 가이드를 더 구비하고 제1 가이드와 제2 가이드가 LM가이드로 이루어짐으로써, 레벨링부의 양단부위에서 LM가이드에 의해 가이드하여 승강이동의 직진성을 향상시키는 동시에 레벨링부의 내구성을 보강시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, as the leveling guide unit, a first guide and a second guide are further provided, and the first guide and the second guide are made of LM guides, so that both ends of the leveling unit are guided by the LM guides to improve the straightness of the lifting movement, and at the same time, the leveling unit Provides an effect that can reinforce durability.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 개략도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 구성도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 레벨링 가이드부를 나타내는 분해도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 측면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 정면도.1 is a block diagram showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
4 is a configuration diagram showing a first leveling unit of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
5 is an exploded view showing a leveling guide part of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
6 is a side view illustrating a first leveling unit of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
7 is a front view showing a first leveling unit of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 개략도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치를 나타내는 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 구성도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 레벨링 가이드부를 나타내는 분해도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 측면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치의 제1 레벨링부를 나타내는 정면도이다.1 is a block diagram showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention, and FIG. A perspective view showing a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a configuration diagram showing a first leveling unit of the leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a block diagram of the present invention An exploded view showing a leveling guide of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment, Figure 6 is a side view showing a first leveling portion of a leveling device of a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is a side view of the present invention It is a front view showing the first leveling unit of the leveling device of the substrate processing facility according to one embodiment of the.

도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 기판 처리 설비의 레벨링 장치는, 테이블부(10), 승강이동부(20), 승강가이드부(30), 제1 레벨링부(40), 제2 레벨링부(50) 및 레벨링 가이드부(80)를 포함하여 이루어져, 기판 처리 설비의 고정체인 반응 챔버 및 샤워헤드와 이동체인 히터 및 테이블 사이의 전후방향 및 좌우방향을 개별적으로 레벨링을 조절하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치이다.1 to 3, the leveling device of the substrate processing facility according to the present embodiment includes a table part 10, a lifting and moving part 20, a lifting guide part 30, a first leveling part 40, It includes a second leveling unit 50 and a leveling guide unit 80, and individually adjusts leveling in the front and rear directions and left and right directions between the reaction chamber and shower head, which are fixed units of the substrate processing facility, and the movable heater and table. It is a leveling device of a substrate processing facility.

테이블부(10)는, 기판 처리 설비(100)의 이동체에 승강하도록 설치된 테이블부재로서, 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; CVD)이나 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)의 반응챔버 등과 같은 기판 처리 설비(100)의 샤워헤드(110)의 하부에 기판을 지지하며 열처리하는 히터를 구비한 서셉터로 이루어져 있다.The table unit 10 is a table member installed to move up and down on the moving body of the substrate processing facility 100, and is a substrate processing facility such as a chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition reaction chamber. It consists of a susceptor equipped with a heater that supports and heat-treats a substrate at the bottom of the showerhead 110 of (100).

승강이동부(20)는, 도 3 및 도 6에 나타낸 바와 같이 기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되어 테이블부(10)를 승강이동시키는 승강이동수단으로서, 고정브래킷(21), 승강모터(22), 승강편(23) 및 지지편(24)으로 이루어져 있다.As shown in FIGS. 3 and 6 , the lifting and moving unit 20 is installed below the fixed body of the substrate processing facility and is a lifting and moving means for lifting and moving the table unit 10, and includes a fixing bracket 21, a lifting motor ( 22), a lifting piece 23 and a support piece 24.

고정브래킷(21)은, 기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되는 고정부재로서, 기판 처리 설비의 고정체인 반응 챔버의 하부에 고정설치되어 승강이동부(20)를 고정 지지하게 된다.The fixing bracket 21 is a fixing member installed below the fixed body of the substrate processing facility, and is fixedly installed to the bottom of the reaction chamber, which is a fixed body of the substrate processing facility, to fix and support the moving unit 20 .

승강모터(22)는, 고정브래킷(21)의 일방 하부에 설치되어 승강구동력을 제공하는 구동부재로서, 승강축의 상하방향의 상승구동 및 하강구동을 제어하도록 서보모터 또는 스텝모터 등과 같은 제어가능한 모터로 이루어져 있다.The lifting motor 22 is a driving member installed below one side of the fixing bracket 21 to provide a lifting driving force, and a controllable motor such as a servo motor or step motor to control the lifting and lowering of the lifting shaft in the vertical direction. Consists of

승강편(23)은, 승강모터(22)의 상부에 설치되어 승강구동력을 전달받아 승강이동되는 승강부재로서, 승강모터(22)의 회전력을 승강축의 상하방향의 선형이동으로 전환시키도록 볼스크류와 엘엠가이드 등과 같은 전환부재로 이루어져 있다.The lifting piece 23 is a lifting member installed on the upper part of the lifting motor 22 and moving up and down by receiving the lifting driving force, and converts the rotational force of the lifting motor 22 into a linear movement in the vertical direction of the lifting shaft. and a switching member such as an LM guide.

지지편(24)은, 고정브래킷(21)의 일방 하부에 승강모터(22)를 고정 지지하도록 설치된 지지부재로서, 고정브래킷(21)의 일방 하부에 하방으로 입설지지되어 승강모터(22)와 승강편(23)을 승강축의 상하방향으로 지지하게 된다.The support piece 24 is a support member installed to fixably support the lifting motor 22 at the lower part of one side of the fixing bracket 21, and is vertically supported on the lower part of one side of the fixing bracket 21 to move the lifting motor 22 and The lifting piece 23 is supported in the vertical direction of the lifting shaft.

승강가이드부(30)는, 도 3 및 도 6에 나타낸 바와 같이 테이블부(10)의 하부에 설치되어 테이블부(10)의 승강이동을 가이드하는 가이드수단으로서, 가이드축(31), 가이드고정편(32) 및 가이드브래킷(33)으로 이루어져 있다.As shown in FIGS. 3 and 6 , the elevation guide unit 30 is installed below the table unit 10 and is a guide means for guiding the elevation movement of the table unit 10, and includes a guide shaft 31 and a guide fixing. It consists of a piece 32 and a guide bracket 33.

가이드축(31)은, 테이블부(10)의 하부에 설치되어 승강이동부(20)에 의해 승강이동을 가이드하는 축부재로서, 테이블부(10)의 하부에 상하방향으로 입설되도록 고정되어 테이블부(10)에 승강이동 및 레벨링이동을 전달하여 가이드하게 된다.The guide shaft 31 is a shaft member installed below the table part 10 to guide the lifting movement by the lifting part 20, and is fixed to the lower part of the table part 10 in the vertical direction so as to It guides by passing the lifting and leveling movement to (10).

가이드고정편(32)은, 가이드브래킷(33)의 일방에 가이드축(31)을 고정지지하는 가이드부재로서, 가이드축(31)의 하부에 고정지지하도록 설치되어 테이블부(10)에 승강이동 및 레벨링이동을 전달하여 가이드하게 된다.The guide fixing piece 32 is a guide member for fixing and supporting the guide shaft 31 on one side of the guide bracket 33, and is installed to the lower portion of the guide shaft 31 so as to be fixedly supported and moves up and down on the table portion 10. and guide the leveling movement.

가이드브래킷(33)은, 승강이동부(20)에 결합되어 승강이동되는 브래킷으로서, 승강편(23)의 일방에 결합되어 함께 승강이동하여 테이블부(10)에 승강이동 및 레벨링이동을 전달하여 제공하게 된다.The guide bracket 33 is a bracket that is coupled to the lifting unit 20 and moves up and down. will do

제1 레벨링부(40)는, 도 4 내지 도 7에 나타낸 바와 같이 테이블부(10)의 하부 일방에 설치되어 테이블부(10)의 일단을 레벨링하는 레벨링수단으로서, 제1 고정편(41), 제1 조절편(42), 제1 조절모터(43), 제1 상승센서(44), 제1 하강센서(45) 및 제1 가이드수단(46)으로 이루어져, 승강이동부(20)의 승강축을 기준해서 테이블부(10)를 전후방향으로 레벨링시키게 된다.As shown in FIGS. 4 to 7 , the first leveling unit 40 is a leveling means installed on one lower side of the table unit 10 to level one end of the table unit 10, and includes a first fixing piece 41 , the first adjustment piece 42, the first adjustment motor 43, the first elevation sensor 44, the first descent sensor 45 and the first guide means 46, the elevation of the movement unit 20 The table unit 10 is leveled in the forward and backward directions based on the axis.

제1 고정편(41)은, 승강이동부(20)의 하부 일방에 고정 설치되는 고정부재로서, 고정브래킷(21)의 하부 일방에 고정 설치되어 제1 레벨링부(40)를 고정지지하게 된다.The first fixing piece 41 is a fixing member fixed to one lower part of the lifting and moving part 20, and is fixedly installed to one lower part of the fixing bracket 21 to fixally support the first leveling part 40.

제1 조절편(42)은, 제1 고정편(41)의 상부에 레벨링하도록 승강 이동되는 조절부재로서, 제1 고정편(41)의 상부에 상하방향으로 승강 슬라이딩 이동하도록 결합되어 테이블부(10)의 수평면을 기준해서 상하방향으로 각각 소정거리의 2㎜ 이내로 이동하여 테이블부(10)의 전후방향으로 기울기를 조절하게 된다.The first adjusting piece 42 is an adjusting member that moves up and down to level the upper part of the first fixing piece 41, and is coupled to the upper part of the first fixing piece 41 so as to move up and down and slide in the upper part of the table. The inclination of the table part 10 is adjusted in the forward and backward directions by moving within 2 mm of a predetermined distance in the vertical direction based on the horizontal plane of 10).

제1 조절모터(43)는, 제1 고정편(41)의 하부에 고정 설치되어 테이블부(10)의 레벨링을 위한 구동력을 제공하는 구동부재로서, 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링을 위한 구동력을 제공하도록 선형모터로 이루어져 있다.The first adjusting motor 43 is a driving member fixedly installed under the first fixing piece 41 to provide a driving force for leveling the table part 10, and leveling the table part 10 in the forward and backward directions. It consists of a linear motor to provide driving force for

제1 상승센서(44)는, 제1 고정편(41)의 상부 일방에 설치되어 제1 조절편(42)의 상승이동을 감지하는 감지수단으로서, 제1 조절편(42)의 상승이동을 감지하여 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링을 제어하게 된다.The first lift sensor 44 is installed on one upper side of the first fixing piece 41 and is a sensing means for sensing the upward movement of the first adjustment piece 42, and detects the upward movement of the first adjustment piece 42. By sensing, leveling of the table unit 10 in the front and rear directions is controlled.

제1 하강센서(45)는, 제1 고정편(41)의 상부 타방에 설치되어 제1 조절편(42)의 하강이동을 감지하는 감지수단으로서, 제1 조절편(42)의 하강이동을 감지하여 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링을 제어하게 된다.The first descending sensor 45 is installed on the other upper part of the first fixing piece 41 and is a sensing means for detecting the downward movement of the first adjustment piece 42, and detects the downward movement of the first adjustment piece 42. By sensing, leveling of the table unit 10 in the front and rear directions is controlled.

제1 가이드수단(46)은, 제1 고정편(41)의 상부에 설치되되 제1 조절모터(43)와 연결되어 제1 조절편(42)의 레벨링 이동을 가이드하는 가이드수단으로서, 제1 조절모터(43)에 연결되어 제1 조절편(42)에 레벨링 이동을 가이드하게 된다.The first guide means 46 is a guide means installed above the first fixing piece 41 and connected to the first adjusting motor 43 to guide the leveling movement of the first adjusting piece 42. It is connected to the control motor 43 and guides the leveling movement to the first control piece 42 .

이러한 제1 가이드수단으로는 제1 고정편(41)의 일방에 상하 길이방향으로 배치된 볼스크류와 LM(Linear Motion) 가이드 등과 같은 선형 가이드수단으로 이루어져 있는 것이 가능함은 물론이다.As such a first guide means, it is possible to consist of linear guide means such as a ball screw disposed in the vertical direction on one side of the first fixing piece 41 and a LM (Linear Motion) guide.

제2 레벨링부(50)는, 도 3 및 도 6에 나타낸 바와 같이 테이블부(10)의 하부 타방에 설치되되 승강가이드부(30)를 기준해서 제1 레벨링부(40)에 대해 대향하도록 배치되어 테이블부(10)의 타단을 레벨링하는 레벨링수단으로서, 제2 고정편, 제2 조절편, 제2 조절모터, 제2 상승센서, 제2 하강센서 및 제2 가이드수단으로 이루어져, 승강이동부(20)의 승강축을 기준해서 테이블부(10)를 좌우방향으로 레벨링시키게 된다.As shown in FIGS. 3 and 6 , the second leveling unit 50 is installed on the lower side of the table unit 10 and disposed to face the first leveling unit 40 based on the elevation guide unit 30 . As a leveling means for leveling the other end of the table part 10, it is composed of a second fixing piece, a second adjusting piece, a second adjusting motor, a second rising sensor, a second falling sensor, and a second guide means, and a lifting and moving unit ( 20), the table unit 10 is leveled in the left and right directions based on the ascending and descending shafts.

이러한 제2 레벨링부(50)의 제2 고정편, 제2 조절편, 제2 조절모터, 제2 상승센서, 제2 하강센서 및 제2 가이드수단은, 제1 레벨링부(40)와 마찬가지로 제1 고정편(41), 제1 조절편(42), 제1 조절모터(43), 제1 상승센서(44), 제1 하강센서(45) 및 제1 가이드수단(46)과 동등한 구성으로 이루어져 있으므로, 구체적인 설명은 생략한다.The second fixing piece, the second adjusting piece, the second adjusting motor, the second rising sensor, the second falling sensor, and the second guide means of the second leveling unit 50, like the first leveling unit 40, 1 fixing piece (41), first adjusting piece (42), first adjusting motor (43), first rising sensor (44), first falling sensor (45) and first guide means (46) Since it is made up, detailed descriptions are omitted.

레벨링 가이드부(80)는, 제1 레벨링부(40)의 일방에 설치되어 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 승강이동에 의해 가이드하는 가이드부재로서, 도 4 내지 도 7에 나타낸 바와 같이 가이드편(81), 제1 지지편(82), 제2 지지편(83), 제1 가이드(84), 제2 가이드(85) 및 결합홀(86)로 이루어져 있다.The leveling guide part 80 is a guide member installed on one side of the first leveling part 40 and guiding the leveling movement of the first leveling part 40 by the lifting movement, as shown in FIGS. 4 to 7 It consists of a guide piece 81, a first support piece 82, a second support piece 83, a first guide 84, a second guide 85, and a coupling hole 86.

가이드편(81)은, 제1 레벨링부(40)의 일단에 결합되어 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 가이드하는 가이드부재로서, 대략 "ㄷ"자 형상의 가이드 플레이트로 형성되어 양단을 지지하여 가이드하는 양팔형 가이드부재로 이루어져 있다.The guide piece 81 is a guide member that is coupled to one end of the first leveling unit 40 and guides the leveling movement of the first leveling unit 40, and is formed of a guide plate having a substantially "c" shape to cover both ends. It consists of a double-armed guide member that supports and guides.

제1 지지편(82)은, 가이드편(81)의 일방에 설치되어 가이드편(81)의 일방의 승강이동을 지지하는 지지부재로서, 제1 레벨링부(40)의 일방의 일단에 상하방향으로 연장 형성되어 가이드편(81)의 일방의 승강이동을 지지하게 된다.The first support piece 82 is a support member installed on one side of the guide piece 81 to support the up and down movement of one side of the guide piece 81, and is attached to one end of the first leveling part 40 in the vertical direction. It is formed to extend to support the lifting movement of one side of the guide piece 81.

제2 지지편(83)은, 가이드편(81)의 타방에 설치되어 가이드편(81)의 타방의 승강이동을 지지하는 지지부재로서, 제1 레벨링부(40)의 일방의 타단에 상하방향으로 연장 형성되어 가이드편(81)의 타방의 승강이동을 지지하게 된다.The second support piece 83 is a support member installed on the other side of the guide piece 81 to support the lifting movement of the other side of the guide piece 81, and is attached to one end of the first leveling part 40 in the vertical direction. It is formed to extend to support the lifting movement of the other side of the guide piece 81.

제1 가이드(84)는, 가이드편(81)과 제1 지지편(82) 사이에 설치되어 가이드편(81)의 승강이동을 가이드하는 가이드부재로서, 가이드편(81)의 일방의 승강이동을 가이드하도록 LM(Linear Motion) 가이드로 이루어져 있다.The first guide 84 is a guide member installed between the guide piece 81 and the first support piece 82 to guide the lifting movement of the guide piece 81, and the lifting movement of one side of the guide piece 81 It consists of LM (Linear Motion) guide to guide the

제2 가이드(85)는, 가이드편(81)과 제2 지지편(83) 사이에 설치되어 가이드편(81)의 승강이동을 가이드하는 가이드부재로서, 가이드편(81)의 타방의 승강이동을 가이드하도록 LM(Linear Motion) 가이드로 이루어져 있다.The second guide 85 is a guide member installed between the guide piece 81 and the second support piece 83 to guide the lifting movement of the guide piece 81, and the other lifting movement of the guide piece 81 It is composed of LM (Linear Motion) guide to guide the

결합홀(86)은, 가이드편(81)의 중앙부위에 설치되어 가이드편(81)의 레벨링 이동을 전달하도록 결합되는 홀부재로서, 여기에 체결고정부재가 설치되어 가이드편(81)을 테이블부(10) 또는 승강가이드부(30)에 고정 결합시켜 레벨링 이동을 전달하게 된다.The coupling hole 86 is a hole member installed in the central portion of the guide piece 81 and coupled to transfer the leveling movement of the guide piece 81, and a fastening fixing member is installed there to secure the guide piece 81 to the table. It is fixedly coupled to the unit 10 or the lifting guide unit 30 to transmit the leveling movement.

또한, 본 발명의 기판 처리 설비의 레벨링 장치는, 도 2에 나타낸 바와 같이 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링를 감지하는 제1 레벨감지부(60)와, 테이블부(10)의 좌우방향의 레벨링를 감지하는 제2 레벨감지부(70)를 더 포함하여 이루어지는 것도 가능함은 물론이다.In addition, as shown in FIG. 2, the leveling device of the substrate processing facility of the present invention includes a first level detecting unit 60 for detecting leveling of the table unit 10 in the front and rear directions, and a horizontal level of the table unit 10 in the left and right directions. Of course, it is also possible to further include a second level detection unit 70 for detecting leveling.

제1 레벨감지부(60)는, 제1 레벨링부(40)의 하부에 설치되어 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링를 감지하는 감지수단으로서, 거리 측정 레이저 센서를 이루어져 센서값과 제1 조절모터(43)의 동작 거리를 비교하여 제1 조절모터(43)의 오동작 여부를 확인할 수 있게 된다.The first level detection unit 60 is installed below the first leveling unit 40 and is a sensing means for detecting the leveling of the table unit 10 in the forward and backward direction, and comprises a distance measuring laser sensor to adjust the sensor value and the first adjustment. By comparing the operating distance of the motor 43, it is possible to check whether the first control motor 43 is malfunctioning.

제2 레벨감지부(70)는, 제2 레벨링부(50)의 하부에 설치되어 테이블부(10)의 좌우방향의 레벨링를 감지하는 감지수단으로서, 거리 측정 레이저 센서를 이루어져 센서값과 제2 조절모터의 동작 거리를 비교하여 제2 조절모터의 오동작 여부를 확인할 수 있게 된다.The second level detecting unit 70 is installed below the second leveling unit 50 and is a sensing means for detecting the leveling of the table unit 10 in the left and right directions. By comparing the operating distances of the motors, it is possible to determine whether the second control motor is malfunctioning.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 승강이동부의 승강축을 기준해서 제1 레벨링부와 제2 레벨링부와 레벨링 가이드부를 구비하여 테이블부의 일단과 타단을 개별적으로 레벨링함으로써, 기판 처리 설비에 외력의 발생시 레벨링부의 요동이나 비틀림을 방지하는 동시에 레벨링 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.As described above, according to the present invention, the first leveling unit, the second leveling unit, and the leveling guide unit are separately leveled at one end and the other end of the table unit based on the lifting shaft of the lifting unit, thereby leveling the substrate processing equipment when external force is generated. It provides the effect of improving the leveling precision while preventing the shaking or twisting of the part.

또한, 제1 레벨링부와 제2 레벨링부를 테이블부를 기준해서 대향적으로 배치하여 개별적으로 레벨링함으로써, 테이블부를 전후방향 및 좌우방향으로 개별적으로 레벨링을 제어하여 간단한 삼각 함수로 각도 및 조정 거리를 제어할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by arranging the first leveling unit and the second leveling unit opposite to each other based on the table unit and individually leveling the table unit, the angle and adjustment distance can be controlled with a simple trigonometric function by individually controlling the leveling of the table unit in the forward and backward directions and in the left and right directions. provides possible effects.

또한, 승강이동부로서 고정브래킷과 승강모터와 승강편과 지지편을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동을 용이하게 하는 동시에 승강이동을 정밀하게 제어할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a fixing bracket, an elevation motor, an elevation piece, and a support piece as the elevation moving unit, the elevation movement of the table portion is facilitated and at the same time, an effect capable of precisely controlling the elevation movement is provided.

또한, 승강가이드부로서 가이드축과 가이드고정편과 가이드브래킷을 구비함으로써, 테이블부의 승강이동과 레벨링이동을 용이하도록 지지하는 동시에 승강이동과 레벨링이동의 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a guide shaft, a guide fixing piece, and a guide bracket as a lifting guide unit, an effect of improving the accuracy of the lifting and leveling movement while supporting the table unit to facilitate the lifting and leveling movement is provided.

또한, 레벨링부로서 고정편과 조절편과 조절모터와 상승센서와 하강센서를 구비함으로써, 레벨링용 조절모터가 반응 챔버의 전면과 측면으로 분산 배치되어 유지보수 작업시 반응 챔버의 전면에서의 접근성이 용이하게 되는 효과를 제공한다.In addition, by having a fixing piece, a control piece, a control motor, an elevation sensor, and a descent sensor as a leveling unit, the control motor for leveling is distributed to the front and side of the reaction chamber, so that accessibility from the front of the reaction chamber during maintenance work is reduced. It provides an effect that facilitates.

또한, 레벨링부의 하부에 전후방향 및 좌우방향의 레벨링를 감지하는 레벨감지부를 더 구비함으로써, 거리 측정 레이저 센서에 의해 센서값과 조절모터의 동작 거리를 비교하여 조절모터의 오동작 여부를 확인할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by further comprising a level detecting unit at the lower part of the leveling unit for detecting leveling in the forward and backward directions and in the left and right directions, the distance measuring laser sensor compares the sensor value and the operating distance of the control motor to determine whether the control motor is malfunctioning. to provide.

또한, 레벨링 가이드부로서 가이드편과 제1 지지편과 제2 지지편과 결합홀을 구비함으로써, 레벨링부의 승강이동을 양단부위에서 가이드하여 레벨링부에 외력의 작용시 레벨링부의 처짐이나 비틀림을 방지할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a guide piece, a first support piece, a second support piece, and a coupling hole as the leveling guide portion, the elevation movement of the leveling portion is guided at both ends to prevent sagging or twisting of the leveling portion when an external force is applied to the leveling portion. provides an effect.

또한, 레벨링 가이드부로서 제1 가이드와 제2 가이드를 더 구비하고 제1 가이드와 제2 가이드가 LM가이드로 이루어짐으로써, 레벨링부의 양단부위에서 LM가이드에 의해 가이드하여 승강이동의 직진성을 향상시키는 동시에 레벨링부의 내구성을 보강시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, as the leveling guide unit, a first guide and a second guide are further provided, and the first guide and the second guide are made of LM guides, so that both ends of the leveling unit are guided by the LM guides to improve the straightness of the lifting movement, and at the same time, the leveling unit Provides an effect that can reinforce durability.

이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다. The present invention described above can be implemented in various other forms without departing from its technical spirit or main characteristics. Therefore, the above embodiments are mere examples in all respects and should not be construed in a limited manner.

10: 테이블부 20: 승강이동부
30: 승강가이드부 40: 제1 레벨링부
50: 제2 레벨링부 60: 제1 레벨감지부
70: 제2 레벨감지부 80: 레벨링 가이드부10: table part 20: lifting part
30: lifting guide unit 40: first leveling unit
50: second leveling unit 60: first level detection unit
70: second level detection unit 80: leveling guide unit

Claims (10)

기판 처리 설비의 고정체와 이동체 사이의 레벨링을 조절하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치로서,
기판 처리 설비의 이동체에 승강하도록 설치된 테이블부(10);
기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)를 승강이동시키는 승강이동부(20);
상기 테이블부(10)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 승강이동을 가이드하는 승강가이드부(30);
상기 테이블부(10)의 하부 일방에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 일단을 레벨링하는 제1 레벨링부(40);
상기 테이블부(10)의 하부 타방에 설치되되 상기 승강가이드부(30)를 기준해서 상기 제1 레벨링부(40)에 대해 대향하도록 배치되어, 상기 테이블부(10)의 타단을 레벨링하는 제2 레벨링부(50); 및
상기 제1 레벨링부(40)의 일방에 설치되어, 상기 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 승강이동에 의해 가이드하는 레벨링 가이드부(80);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.A leveling device of a substrate processing facility that adjusts leveling between a fixed body and a movable body of the substrate processing facility,
a table unit 10 installed to move up and down on a moving body of a substrate processing facility;
a lifting and moving unit 20 installed under the fixed body of the substrate processing facility to lift and move the table unit 10;
a lifting guide part 30 installed under the table part 10 to guide the lifting movement of the table part 10;
a first leveling unit 40 installed on one lower side of the table unit 10 and leveling one end of the table unit 10;
A second leveling unit installed on the other side of the lower part of the table unit 10 and disposed to face the first leveling unit 40 based on the elevation guide unit 30 to level the other end of the table unit 10. Leveling unit 50; and
A leveling guide part 80 installed on one side of the first leveling part 40 and guiding the leveling movement of the first leveling part 40 by a lifting and lowering movement; of a substrate processing facility comprising a leveling device. 제 1 항에 있어서,
상기 승강이동부(20)는,
기판 처리 설비의 고정체의 하부에 설치되는 고정브래킷;
상기 고정브래킷의 일방 하부에 설치되어, 승강구동력을 제공하는 승강모터;
상기 승강모터의 상부에 설치되어, 승강구동력을 전달받아 승강이동되는 승강편; 및
상기 고정브래킷의 일방 하부에 상기 승강모터를 고정 지지하도록 설치된 지지편;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 1,
The lifting and moving unit 20,
A fixing bracket installed at the bottom of the fixing body of the substrate processing facility;
an elevating motor installed at a lower portion of one side of the fixing bracket to provide an elevating driving force;
an elevation piece installed on the upper part of the elevation motor and moving up and down by receiving an elevation driving force; and
The leveling device of a substrate processing facility comprising a; support piece installed to fixally support the lifting motor at the lower part of one side of the fixing bracket. 제 1 항에 있어서,
상기 승강가이드부(30)는,
상기 테이블부(10)의 하부에 설치되어, 상기 승강이동부(20)에 의해 승강이동을 가이드하는 가이드축;
상기 승강이동부(20)에 결합되어 승강이동되는 가이드브래킷; 및
상기 가이드브래킷의 일방에 상기 가이드축을 고정지지하는 가이드고정편;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 1,
The elevation guide part 30,
a guide shaft installed under the table part 10 and guiding the lifting movement by the lifting part 20;
A guide bracket that is coupled to the lifting and moving unit 20 and moves up and down; and
The leveling device of a substrate processing facility comprising a; guide fixing piece for fixing and supporting the guide shaft to one side of the guide bracket. 제 1 항에 있어서,
상기 제1 레벨링부(40)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 전후방향의 레벨링를 감지하는 제1 레벨감지부(60); 및
상기 제2 레벨링부(50)의 하부에 설치되어, 상기 테이블부(10)의 좌우방향의 레벨링를 감지하는 제2 레벨감지부(70);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 1,
a first level detecting unit 60 installed below the first leveling unit 40 and detecting leveling of the table unit 10 in the forward and backward directions; and
A leveling device of a substrate processing facility, characterized in that it further comprises; a second level detection unit 70 installed under the second leveling unit 50 and detecting leveling of the table unit 10 in the left and right directions. . 제 1 항에 있어서,
상기 제1 레벨링부(40)는,
상기 승강이동부(20)의 하부 일방에 고정 설치되는 제1 고정편;
상기 제1 고정편의 상부에 레벨링하도록 이동되는 제1 조절편;
상기 제1 고정편의 하부에 고정 설치되어, 레벨링을 위한 구동력을 제공하는 제1 조절모터; 및
상기 제1 고정편의 상부에 설치되되 상기 제1 조절모터와 연결되어 레벨링 이동을 가이드하는 제1 가이드수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 1,
The first leveling unit 40,
A first fixing piece fixedly installed on one lower side of the lifting and moving unit 20;
a first adjusting piece moved to level an upper portion of the first fixing piece;
A first control motor fixedly installed under the first fixing piece to provide a driving force for leveling; and
The leveling device of a substrate processing facility comprising a; first guide means installed on the upper part of the first fixing piece and connected to the first control motor to guide the leveling movement. 제 5 항에 있어서,
상기 제1 레벨링부(40)는,
상기 제1 고정편의 상부 일방에 설치되어 상기 제1 조절편의 상승이동을 감지하는 제1 상승센서; 및
상기 제1 고정편의 상부 타방에 설치되어 상기 제1 조절편의 하강이동을 감지하는 제1 하강센서;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 5,
The first leveling unit 40,
a first lift sensor installed on one upper side of the first fixing piece to detect an upward movement of the first adjusting piece; and
The leveling device of the substrate processing facility, characterized in that it further comprises; a first descending sensor installed on the upper side of the first fixing piece to detect the downward movement of the first adjusting piece. 제 5 항에 있어서,
상기 제1 조절편은, 상기 테이블부(10)의 수평면을 기준해서 상하방향으로 각각 소정거리 이내로 이동하여 상기 테이블부(10)의 전후방향으로 기울기를 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 5,
The first adjusting piece moves within a predetermined distance in the vertical direction based on the horizontal surface of the table part 10 to adjust the inclination of the table part 10 in the forward and backward directions. Device. 제 1 항에 있어서,
상기 레벨링 가이드부(80)는,
상기 제1 레벨링부(40)의 일단에 결합되어, 상기 제1 레벨링부(40)의 레벨링이동을 가이드하는 가이드편;
상기 가이드편의 일방에 설치되어, 상기 가이드편의 일방의 승강이동을 지지하는 제1 지지편;
상기 가이드편의 타방에 설치되어, 상기 가이드편의 타방의 승강이동을 지지하는 제2 지지편; 및
상기 가이드편의 중앙부위에 설치되어, 상기 가이드편의 레벨링 이동을 전달하도록 결합되는 결합홀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 1,
The leveling guide part 80,
a guide piece coupled to one end of the first leveling unit 40 and guiding the leveling movement of the first leveling unit 40;
a first support piece installed on one side of the guide piece to support the lifting movement of one side of the guide piece;
a second support piece installed on the other side of the guide piece to support the lifting movement of the other side of the guide piece; and
The leveling device of a substrate processing facility comprising a; coupling hole installed in the central portion of the guide piece and coupled to transfer the leveling movement of the guide piece. 제 8 항에 있어서,
상기 레벨링 가이드부(80)는,
상기 가이드편과 상기 제1 지지편 사이에 설치되어, 상기 가이드편의 승강이동을 가이드하는 제1 가이드; 및
상기 가이드편과 상기 제2 지지편 사이에 설치되어, 상기 가이드편의 승강이동을 가이드하는 제2 가이드;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 8,
The leveling guide part 80,
a first guide installed between the guide piece and the first support piece to guide the lifting movement of the guide piece; and
The leveling device of the substrate processing facility further comprising a; second guide installed between the guide piece and the second support piece to guide the lifting movement of the guide piece. 제 9 항에 있어서,
상기 제1 가이드 및 상기 제2 가이드는, LM(Linear Motion) 가이드로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비의 레벨링 장치.According to claim 9,
The first guide and the second guide are leveling devices of a substrate processing facility, characterized in that consisting of LM (Linear Motion) guides.
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