KR20140136447A

KR20140136447A - Methods of finishing a sheet of material with magnetorheological finishing

Info

Publication number: KR20140136447A
Application number: KR1020147025582A
Authority: KR
Inventors: 에릭 브루스 쇼레이; 다니엘 듀안 스트롱; 데이비드 에이. 타마로
Original assignee: 코닝 인코포레이티드
Priority date: 2012-02-29
Filing date: 2013-02-28
Publication date: 2014-11-28
Also published as: US20130225049A1; TW201347943A; EP2819809A1; CN104136167A; JP2015513471A; WO2013130688A1

Abstract

유리 시트와 같은 재료 시트를 연마하는 방법은 자기유변 연마에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계를 포함한다. 일 예에 있어서, 제1면과 제2면간 재료 시트의 평균 두께는 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛이다. 다른 예에 있어서, 상기 방법은 본질적으로 단일의 자기유변 연마 단계 동안 전체 에지부가 제1면과 제2면간 형성되도록 자기유변 연마에 의해 유리 시트의 에지부를 연마하는 단일의 단계로 이루어진다. The method of polishing a sheet of material such as a glass sheet comprises polishing the edge of the sheet of material by magnetic polish polishing. In one example, the average thickness of the first and second interplanar sheet is from about 50 microns to about 500 microns. In another example, the method comprises a single step of polishing the edge of the glass sheet by magnetic polish polishing such that essentially the entire edge portion is formed between the first and second surfaces during a single magnetorheological polishing step.

Description

TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of polishing a material sheet by magnetic polish polishing,

본 출원은 35 U.S.C.§119 하에 2012년 2월 29일 출원된 미국 가출원 제61/604,863호, 및 35 U.S.C.§120 하에 2012년 12월 20일 출원된 미국 출원 제13/721,557호를 우선권 주장하고 있으며, 상기 특허 문헌들의 내용은 참조를 위해 본 발명에 모두 포함된다.This application claims priority from U.S. Provisional Application No. 61 / 604,863, filed February 29, 2012, under 35 USC §119, and U.S. Serial No. 13 / 721,557, filed December 20, 2012 under 35 USC § 120 , The contents of which are incorporated herein by reference in their entirety.

본 발명은 통상 재료 시트를 연마하는 방법에 관한 것으로, 특히 자기유변 연마(magnetorheological finishing)에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 방법에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates generally to a method of polishing a sheet of material, and more particularly to a method of polishing the edge of a sheet of material by magnetorheological finishing.

다양한 기술들에 의해 표시-양호 유리 시트와 같은 재료 시트를 생산하는 것은 공지되어 있다. 일단 형성되면, 유리 시트는 통상 그 유리 시트로부터 에지부를 다듬기 위해 그리고/또 특정 애플리케이션에 채용하기 위해 유리 시트의 크기를 재조정하기 위해 분리된다. 통상 분리 공정은 크랙킹(cracking)에 취약한 원하지 않는 거칠고/날카로운 에지부를 야기할 수 있다.It is known to produce a sheet of material such as a display-good glass sheet by a variety of techniques. Once formed, the glass sheet is usually separated to trim the edges from the glass sheet and / or to resize the glass sheet for use in a particular application. Normally, the separation process may result in undesirable rough / sharp edges that are susceptible to cracking.

본 발명은 자기유변 연마에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a method of polishing an edge portion of a sheet of material by magnetomechanical polishing.

이제 예시의 실시예들이 나타난 수반된 도면들을 참조하여, 이하 예들을 좀더 충분히 기술할 것이다. 가능하면, 도면 전체 걸쳐 동일한 또는 유사한 부품들에는 동일한 참조부호가 사용된다. 그러나, 형태들은 많은 다른 형태로 실시되며, 본원에 기술된 실시예들로 한정하지는 않는다.Reference will now be made more fully to the following examples, with reference to the accompanying drawings in which illustrative embodiments are shown. Wherever possible, the same reference numbers will be used throughout the drawings to refer to the same or like parts. However, the forms are implemented in many different forms and are not limited to the embodiments described herein.

일 형태에 있어서, 재료 시트를 연마하는 방법은 제1면 및 제2면을 구비하고, 상기 제1면과 제2면간 평균 두께가 약 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛인 재료 시트를 제공하는 단계 (I)를 포함한다. 상기 방법은 자기유변 연마에 의해 상기 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계 (II)를 더 포함한다.In one aspect, a method of polishing a sheet of material comprises providing a sheet of material having a first side and a second side and having an average thickness between about 50 microns and about 500 microns between said first side and said second side (I ). The method further includes the step (II) of polishing the edge of the material sheet by magnetosperm polishing.

상기 형태의 일 예에 있어서, 단계 (I)는 유리 시트로서 재료 시트를 제공한다.In one example of this aspect, step (I) provides a sheet of material as a glass sheet.

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 약 50 ㎛ 내지 약 300 ㎛의 재료 시트의 평균 두께를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides an average thickness of the sheet of material from about 50 microns to about 300 microns.

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 약 75 ㎛ 내지 약 200 ㎛의 재료 시트의 평균 두께를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides an average thickness of the sheet of material from about 75 microns to about 200 microns.

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 약 75 ㎛ 내지 약 150 ㎛의 재료 시트의 평균 두께를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides an average thickness of the sheet of material from about 75 microns to about 150 microns.

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 수직 축에 대해 약 + 45°에서 약 - 45°까지의 각도 범위 내에서 미리 결정된 방위로 평면을 따라 위치된 재료 시트를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides a sheet of material positioned along a plane in a predetermined orientation within an angular range from about + 45 degrees to about -45 degrees with respect to a vertical axis.

상기 형태의 다른 예에 있어서, 재료 시트의 미리 결정된 방위는 단계 (II) 동안 유지된다.In another example of this aspect, the predetermined orientation of the material sheet is maintained during step (II).

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 제1면과 제2면간 재료 시트의 주변부를 따라 확장하는 에지부를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides an edge that extends along a periphery of the first and second interplanar sheet of material.

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (II) 전에 에지부를 강화하는 단계를 포함한다.In another example of this aspect, the step includes strengthening the edge portion before step (II).

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (II) 전에 에지부를 제공하기 위해 재료 시트를 분리하는 단계를 포함한다.In another example of this aspect, the method includes separating the sheet of material to provide an edge before step (II).

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 분리의 단계는 단계 (I) 후에 수행된다.In another example of this aspect, the step of separation is performed after step (I).

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 분리의 단계 후 및 단계 (II) 전에 에지부를 강화하는 단계를 더 포함한다.In yet another example of this aspect, the method further comprises enhancing the edge portion after the separation step and before step (II).

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 단계 (II) 전에 에지부를 제공하기 위해 재료 시트를 에징하는 단계를 더 포함한다.In another embodiment of this aspect, the method further comprises the step of aging the sheet of material to provide an edge before step (II).

상기 형태의 다른 예에 있어서, 에징의 단계는 단계 (I) 후에 수행된다.In another example of this aspect, the step of aging is performed after step (I).

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 재료 시트의 에징의 단계 전에 재료 시트를 분리하는 단계를 포함한다.In another example of this aspect, a step of separating the material sheet prior to the step of aging the material sheet is included.

상기 형태의 또 다른 예에 있어서, 에징의 단계 후 및 단계 (II) 전에 에지부를 강화하는 단계를 포함한다.In another example of this aspect, the step includes strengthening the edge after the step of the edge and before the step (II).

다른 형태에 있어서, 제1면과 제2면간 유리 시트의 주변부를 따라 확장하는 에지부를 구비한 제1면 및 제2면을 갖춘 유리 시트의 에지부를 연마하기 위한 방법이 제공된다. 상기 방법은, 본질적으로 단일의 자기유변 연마 단계 동안 전체 에지부가 상기 제1면과 제2면간에 형성되도록 자기유변 연마에 따라 상기 유리 시트의 에지부를 연마하는 단일의 단계로 이루어진다.In another aspect there is provided a method for polishing an edge portion of a glass sheet having a first side and a second side with edges extending along the periphery of the first and second sheet glass sheets. The method comprises a single step of polishing the edge of the glass sheet in accordance with magnetic polish polishing such that an entire edge portion is formed between the first and second surfaces during a essentially monolithic polishing step.

또 다른 형태에 있어서, 유리 시트의 에지부를 연마하는 방법은, 본질적으로 (I) 제1면 및 제2면을 구비하고, 상기 제1면과 제2면간 평균 두께가 약 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛인 유리 시트를 제공하는 단계; 및 (II) 자기유변 연마에 의해 상기 유리 시트의 에지부를 연마하는 단계로 이루어진다.In another aspect, a method of polishing an edge of a glass sheet comprises (I) a first side and a second side, wherein the average thickness between the first side and the second side is between about 50 microns and about 500 microns Providing a glass sheet; And (II) polishing the edge portion of the glass sheet by magnetic polish polishing.

상기 형태의 일 예에 있어서, 단계 (II) 동안, 그 전체 에지부는 단일의 자기유변 연마 단계 동안 제1면과 제2면간 형성된다.In one example of this aspect, during step (II), the entire edge portion is formed between the first side and the second side during a single magnetorheological polishing step.

상기 형태의 다른 예에 있어서, 단계 (I)는 약 75 ㎛ 내지 약 150 ㎛의 유리 시트의 평균 두께를 제공한다.In another example of this aspect, step (I) provides an average thickness of the glass sheet from about 75 microns to about 150 microns.

상기 형태 및 다른 형태들은 이하의 상세한 설명 및 수반되는 도면을 참조하면 보다 더 잘 이해될 수 있을 것이다:
도 1은 본 발명 개시에 따른 방법들에 사용되는 유리 시트를 제조하도록 구성된 유리 제조 장치를 나타내고;
도 2는 본 발명 개시에 따른 분리된 유리 시트를 지지하면서 제1분리 장치 및 제2분리 장치에 의해 그 분리된 유리 시트로부터 에지 부재들을 분리하는 방법을 나타내고;
도 3은 도 2에 나타낸 분리 방법에 의해 유리 시트의 나머지 부분으로부터 분리된 후의 에지 부재들을 나타내며,
도 4는 도 2의 제1분리 장치의 측면도를 나타내고;
도 5는 도 2의 제2분리 장치의 측면도를 나타내고;
도 6은 도 5의 제2분리 장치에 의해 스코어링(scoring)한 후 에지 부재를 절단하는 방법 단계를 나타내고;
도 7은 그 분리된 유리 시트 및 자기유변 연마 장치의 측면도를 나타내며, 자기유변 연마에 의해 상기 분리된 유리 시트의 에지부를 연마하는 방법 단계를 더 나타낸다.
도 8은 도 7의 분리된 유리 시트 및 자기유변 연마 장치의 정면도이고,
도 9는 본 발명 개시의 예시의 방법을 나타내는 제1예시의 순서도이고;
도 10은 본 발명 개시의 다른 예시의 방법을 나타낸 제2예시의 순서도이고;
도 11은 분리 후 그리고 연마 전의 유리 시트의 에지부의 확대도이고, 그 유리 시트는 유리 시트의 제1면 및 제2면간 약 100 ㎛의 두께를 가지며;
도 12는 자기유변 연마 후 도 11의 에지부의 확대도이다.These and other aspects will be better understood with reference to the following detailed description and accompanying drawings, in which:
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 shows a glass manufacturing apparatus constructed to manufacture a glass sheet for use in the methods according to the present disclosure;
Figure 2 shows a method for separating edge members from a separated glass sheet by means of a first separator and a second separator while supporting a separate glass sheet according to the present disclosure;
Figure 3 shows the edge members after being separated from the rest of the glass sheet by the separation method shown in Figure 2,
Figure 4 shows a side view of the first separation device of Figure 2;
Figure 5 shows a side view of the second separation device of Figure 2;
Figure 6 shows a method step of cutting the edge member after scoring by the second separation device of Figure 5;
FIG. 7 shows a side view of the separated glass sheet and the magnetophoretic polishing apparatus, and further shows a method step of polishing the edge portion of the separated glass sheet by magnetomechanical polishing.
8 is a front view of the separated glass sheet and magnetic polish polishing apparatus of Fig. 7,
Figure 9 is a flow chart of a first example illustrating a method of illustration of the present disclosure;
10 is a flow chart of a second example illustrating a method of another example of disclosure of the present invention;
11 is an enlarged view of the edge portion of the glass sheet after separation and before polishing, the glass sheet having a thickness of about 100 microns between the first and second surfaces of the glass sheet;
Fig. 12 is an enlarged view of the edge portion of Fig. 11 after magnetic polish polishing.

재료 시트를 연마하기 위한 방법들이 제공된다. 본 발명의 재료 시트들은 유리, 유리-세라믹, 세라믹, 실리콘, 반도체 재료, 및 이러한 선행 재료들의 조합물과 같은 다양한 재료들을 포함한다. 하나의 특정 예에 있어서, 그러한 재료 시트는 표시-양호 유리 시트와 같은 유리 시트를 포함한다. 그와 같은 표시-양호 유리 시트는 액정표시장치 및/또는 다른 전자 장치들로 전송되어 통합될 수 있다. 본 발명의 예시의 방법들은 그러한 재료 시트가 다른 유리 시트들 및/또는 상술한 대안의 재료들과 같은 다른 재료들을 포함하는 것으로 평가될 지라도 표시-양호 유리 시트를 포함하는 재료 시트를 참조하여 기술될 것이다.Methods are provided for polishing a sheet of material. The material sheets of the present invention include a variety of materials such as glass, glass-ceramic, ceramic, silicon, semiconductor materials, and combinations of these preceding materials. In one particular example, such a material sheet comprises a glass sheet such as a display-good glass sheet. Such a display-good glass sheet can be transmitted and integrated into a liquid crystal display and / or other electronic devices. Exemplary methods of the present invention will be described with reference to a material sheet comprising a display-good glass sheet, even though such a material sheet may be evaluated to include other glass sheets and / or other materials such as alternative materials discussed above will be.

상기 유리 시트는 폭넓은 범위의 기술들에 의해 형성될 것이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명 개시의 형태들에 따라 사용되는 예시의 유리 제조 장치(101)의 개략도가 나타나 있다. 그러한 예시의 유리 제조 장치(101)는 다른 형성 장치들이 다른 예들에서 사용될 지라도 다운 드로우 퓨전(down draw fusion) 장치로서 기술된다.The glass sheet will be formed by a wide range of techniques. As shown in Figure 1, a schematic diagram of an exemplary glass-making apparatus 101 used in accordance with aspects of the present disclosure is shown. An example of such a glass manufacturing apparatus 101 is described as a down draw fusion apparatus although other forming apparatuses are used in other examples.

상기 유리 제조 장치(101)는 용융 용기(103), 정제 용기(105), 혼합 용기(107), 전달 용기(109), 성형 장치(111), 풀 롤 장치(113; pull roll device) 및 분리 장치(115)를 포함할 수 있다.The glass manufacturing apparatus 101 includes a melting vessel 103, a refining vessel 105, a mixing vessel 107, a delivery vessel 109, a molding apparatus 111, a pull roll device 113, Device 115 as shown in FIG.

상기 용융 용기(103)는 용융 유리(119)를 형성하기 위해 화살표 117로 나타낸 바와 같이 유리 배치 재료가 도입되어 용융되는 곳이다. 상기 정제 용기(105)는 상기 용융 용기(103)로부터 그 용융 유리(119; 이 지점에는 나타내지 않음)를 수용하여 용융 유리(119)로부터 버블이 제거되는 고온 처리 영역을 갖는다. 상기 정제 용기(105)는 정제기-교반 챔버 연결 튜브(121)에 의해 혼합 용기(107)에 연결된다. 상기 혼합 용기(107)는 교반 챔버-보울(bowl) 연결 튜브(123)에 의해 전달 용기(109)에 연결된다. 상기 전달 용기(109)는 상기 용융 유리(119)를 다운커머(125)를 통해 입구(127)로 상기 성형 장치(111) 내로 전달한다.The melting vessel 103 is a place where a glass batch material is introduced and melted as indicated by the arrow 117 to form the molten glass 119. The tablet vessel 105 has a high-temperature treatment region from which the molten glass 119 (not shown in this figure) is received from the melt vessel 103 and the bubble is removed from the molten glass 119. The tablet vessel 105 is connected to the mixing vessel 107 by a purifier-stirring chamber connecting tube 121. The mixing vessel 107 is connected to the delivery vessel 109 by a stirring chamber-bowl connection tube 123. The transfer vessel 109 transfers the molten glass 119 into the molding apparatus 111 through an inlet 127 through a downcomer 125.

본 발명 개시의 형태들에 따라 다양한 성형 장치들이 사용될 수 있다. 예컨대, 도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 성형 장치(111)는 트로프(131; trough) 내로 유동되는 용융 유리(119)를 수용하는 개구(129)를 포함한다. 다음에, 상기 트로프(131)로부터의 용융 유리(119)는 상기 성형 장치(111)의 루트(133)에서 함께 융합되기 전에 2개의 측벽(132; 도 1에 나타낸 하나의 측벽)을 넘쳐흘러 아래로 이동한다. 상기 루트(133)는 2개의 측벽(132)들이 합쳐지는 곳이고 유리 리본(106)이 루트(133) 아래로 하향 드로우됨에 따라 상기 각각의 2개의 측벽(132)을 넘쳐흐르는 용융 유리(119)의 2개의 오버플로우 벽들이 함께 융합되는 곳이다.Various molding devices can be used in accordance with aspects of the present disclosure. For example, as shown in FIG. 1, the molding apparatus 111 includes an opening 129 for receiving a molten glass 119 flowing into a trough 131. Next, the molten glass 119 from the trough 131 flows over the two side walls 132 (one side wall shown in Fig. 1) before being fused together at the root 133 of the molding machine 111, . The root 133 is a molten glass 119 that overflows each of the two sidewalls 132 as the two sidewalls 132 are merged and the glass ribbon 106 is drawn down below the root 133. [ Are merged together.

상기 유리 리본(106)의 일부는 상기 루트(133)에서 상기 유리 리본(106)이 최종 두께로 얇아지기 시작하는 점성 영역(135)으로 드로우된다. 다음에, 상기 유리 리본(106)의 일부는 상기 점성 영역(135)에서 셋팅 영역(137; setting zone)으로 드로우된다. 상기 셋팅 영역(137)에서, 상기 유리 리본(106)의 일부는 점성 상태에서 원하는 프로파일의 탄성 상태로 셋팅된다. 다음에, 상기 유리 리본(106)의 일부는 상기 셋팅 영역(137)에서 탄성 영역(139)으로 드로우된다. 일단 그 탄성 영역(139)에서, 상기 유리 리본(106)은 그 유리 리본(106)의 프로파일을 영구히 변경하지 않고 한계 내에서 변형될 것이다.A portion of the glass ribbon 106 is drawn into the viscous region 135 where the glass ribbon 106 at the root 133 begins to be thinned to its final thickness. Next, a portion of the glass ribbon 106 is drawn into the setting zone 137 in the viscous region 135. In the setting area 137, a portion of the glass ribbon 106 is set to the elastic state of the desired profile in the viscous state. Next, a portion of the glass ribbon 106 is drawn into the elastic region 139 in the setting region 137. Once in the elastic region 139, the glass ribbon 106 will deform within limits without permanently altering the profile of the glass ribbon 106.

상기 유리 리본(106)의 일부가 탄성 영역(139)으로 들어간 후, 일정 시간 동안 상기 유리 리본(106)으로부터 다수의 분리된 유리 시트(141)를 순차적으로 분리하기 위해 분리 장치(115)가 제공될 것이다. 상기 분리 장치(115)는 다른 분리 장치들이 다른 예들에 제공될 지라도 기술된 이동식 앤빌 머신을 포함할 것이다.A separation device 115 is provided to sequentially separate a plurality of separated glass sheets 141 from the glass ribbon 106 for a period of time after a portion of the glass ribbon 106 has entered the elastic region 139 Will be. The separating device 115 will include a mobile anvil machine as described, although other separating devices are provided in other examples.

도 1에 더 나타낸 바와 같이, 상기 유리 제조 장치(101)에는 상기 유리 리본(106)과 같은 유리 시트 및/또는 분리된 유리 시트(141)를 지지하는 것을 돕기 위해 흡입 컵 장치와 같은 지지 장치(143), 공기 베어링, 또는 다른 지지 장치가 제공될 것이다. 이러한 응용의 목적을 위해, "유리 시트"는 유리 리본 및/또는 그 유리 리본으로부터 분리된 유리 시트를 포함하도록 고려될 수 있다. 그와 같이, 그러한 유리 시트에 의한 본 발명 개시의 응용성 및 방법들을 논의할 경우, 그러한 방법들은 다양한 형태의 유리 시트(예컨대, 유리 리본(106), 이 유리 리본으로부터 분리된 유리 시트(141), 또는 다른 기술들에 의해 형성된 유리 시트들)에 의해 수행되는 것으로 해석될 수 있다는 것을 알아야 한다.1, the glass manufacturing apparatus 101 is provided with a support device (not shown) such as a suction cup device to assist in supporting a glass sheet such as the glass ribbon 106 and / or a separate glass sheet 141 143, an air bearing, or other support device. For purposes of this application, a "glass sheet" can be considered to include a glass sheet and / or a glass sheet separated from the glass ribbon. As such, when discussing the applicability and methods of disclosure of the present invention by such glass sheets, such methods may include various forms of glass sheets (e.g., glass ribbon 106, glass sheet 141 separated from the glass ribbon, , &Lt; / RTI > or glass sheets formed by other techniques).

그와 같이, 본 발명 개시의 다양한 방법들이 그 분리된 유리 시트(141)와 연관되어 기술되지만, 이는 그러한 개시의 방법들이 또 다른 형태의 유리 시트들(예컨대, 유리 리본(106) 또는 다른 기술들에 의해 형성된 유리 시트들)에 의해 수행될 수 있다는 것을 알아야 한다.As such, although the various methods of present disclosure are described in connection with the separate glass sheet 141, it will be appreciated that the methods of such disclosure may be applied to other types of glass sheets (e.g., glass ribbon 106 or other techniques &Lt; / RTI > glass sheets formed by < RTI ID = 0.0 > a < / RTI >

상술한 바와 같이, 그러한 유리 시트는, 유리 시트가 다른 기술들에 의해 형성될 지라도, 예시의 유리 제조 장치에 의해 유리 리본(106)으로 초기에 형성될 수 있다. 기술된 이동식 앤빌 머신과 같은 분리 장치(115)는 상기 유리 리본(106)을 분리된 유리 시트(141)로 분리하는데 사용될 수 있다. 그와 같이, 그러한 이동식 앤빌 머신은 제1에지부(141a) 및 제2에지부(142b)를 생성하며, 상기 분리된 유리 리본(141; 즉, 유리 시트)의 길이는 상기 제1에지부(141a)와 제2에지부(141b)간 규정된다. 다른 예들에서, 상기 분리된 유리 리본(141)의 폭은 상기 제1에지부(141a)와 제2에지부(141b)간 규정될 수 있다. 도 1에 더 나타낸 바와 같이, 유리 제조 장치(101)는, 자기유변 연마 장치(145)가 다른 예들에서 그 유리 제조 장치(101)로부터 하류의 처리 위치에 제공될 지라도, 상기 유리 제조 장치(101)의 일부분인 자기유변 연마 장치(145)를 포함할 것이다. 그와 같은 예들에 있어서, 상기 지지 장치(143)는 제1 및/또는 제2에지부(141a, 141b)가 자기유변 연마 장치(145)에 의해 연마되도록 상기 분리된 유리 시트(141)을 전송하도록 동작된다. 몇몇 예들에 있어서, 상기 지지 장치(143)는 이하 충분히 더 기술된 도 2-8에 나타낸 전체 분리 및 연마 공정 기술들에 걸쳐 상기 유리 리본(106)을 지지한 후 계속해서 그 분리된 유리 시트(141)를 지지할 수 있다.As noted above, such a glass sheet can be initially formed into glass ribbon 106 by an exemplary glass manufacturing apparatus, although the glass sheet is formed by other techniques. A separation device 115, such as the described mobile anvil machine, may be used to separate the glass ribbon 106 into a separate glass sheet 141. As such, such a mobile anvil machine produces a first edge portion 141a and a second edge portion 142b, and the length of the separated glass ribbon 141 (i.e., glass sheet) 141a and the second edge portion 141b. In other examples, the width of the separated glass ribbon 141 may be defined between the first edge portion 141a and the second edge portion 141b. 1, the glass manufacturing apparatus 101 is configured such that, even in the case where the magnetophoretic polishing apparatus 145 is provided in the downstream processing position from the glass manufacturing apparatus 101 in the other examples, the glass manufacturing apparatus 101 And a magnetic polishing apparatus 145 that is a part of the polishing apparatus. In such a case, the supporting device 143 may transmit the separated glass sheet 141 so that the first and / or second edge portions 141a and 141b are polished by the magnetomechanical polishing apparatus 145 . In some examples, the support device 143 may be configured to support the glass ribbon 106 throughout the entire separation and polishing process techniques shown in Figures 2-8, 141).

도 2 및 3에 나타낸 바와 같이, 제1 및 제2에지 부재(201, 203)들은 다양한 기술들에 의해 더 제거될 것이다. 상기 제2에지 부재의 제거는 상기 유리 제조 장치(101)에 의한 유리 리본의 형성으로부터 야기되는 그 에지 부재들에서의 두께 불일치를 없애기 위한 것이다. 선택적으로, 유사한 분리 기술들이 특정 애플리케이션에 따라 상기 분리된 유리 시트를 다수의 보다 작은 유리 시트로 더 분할하기 위해 채용될 수 있다. 비록 도 2 및 3에 나타내진 않았지만, 그러한 에지 부재들이 제거되는 스테이션에 자기유변 연마 장치(145)가 제공될 것이다. 예컨대, 상기 자기유변 연마 장치(145)는 에지 부재들이 도 2에 나타낸 바와 같이 제거되는 동안 제1 및 제2에지부(141a, 141b)의 어느 하나 또는 그 모두를 연마하는데 사용될 것이다. 추가로 또는 대안적으로, 상기 자기유변 연마 장치(145)는 도 3에 나타낸 제2 및 제3에지부(301a, 301b)의 어느 하나 또는 그 모두를 연마하는데 사용될 것이다.As shown in Figures 2 and 3, the first and second edge members 201,203 will be further removed by various techniques. The removal of the second edge member is intended to eliminate thickness discrepancies at its edge members resulting from the formation of the glass ribbon by the glass manufacturing apparatus 101. [ Alternatively, similar separation techniques may be employed to further divide the separated glass sheet into a plurality of smaller glass sheets depending on the particular application. Although not shown in Figs. 2 and 3, a magnetostatic polishing apparatus 145 will be provided at a station where such edge members are removed. For example, the magnetorheological polishing apparatus 145 may be used to polish one or both of the first and second edge portions 141a and 141b while the edge members are removed as shown in FIG. Additionally or alternatively, the magnetostatic polishing apparatus 145 may be used to polish either or both of the second and third edge portions 301a, 301b shown in FIG.

분리된 유리 시트(141)의 나머지 부분으로부터 제1 및 제2에지 부재를 분리하기 위해 본 발명 개시의 형태들에 따라 다양한 유리 분리 장치들이 사용될 것이다. 도 2 및 4는 분리된 유리 시트(141)의 표면을 가열하도록 구성된 레이저(401) 및 그 분리된 유리 시트(141)의 나머지 부분으로부터 제1에지 부재(201)를 분리하기 위해 크랙을 전파하도록 구성된 액체 냉각 장치(403)를 포함할 수 있는 제1분리 장치(205)의 사용을 포함하는 오직 하나의 유리 분리 기술을 나타낸다.A variety of glass separation devices will be used in accordance with the teachings of the present disclosure to separate the first and second edge members from the remainder of the separated glass sheet 141. Figures 2 and 4 illustrate a laser 401 configured to heat the surface of a separate glass sheet 141 and a second laser beam to propagate the crack to separate the first edge member 201 from the remainder of the separated glass sheet 141 Only one glass separation technique involving the use of a first separation device 205, which may comprise a configured liquid cooling device 403.

도 2, 5 및 6은 분리 경로를 따라 스코어 라인(209; score line)을 생성할 수 있는 스코링 장치(501; scoring device)를 포함하는 제2분리 장치(207)의 또 다른 예를 나타낸다. 일단 그러한 스코어 라인이 형성된 후, 피봇 부재(601)가 그 스코어 라인(209)의 대향 측벽에 적용될 수 있고 힘(603)이 그 분리된 유리 시트(141)의 나머지 부분으로부터 제2에지 부재(203)를 절단하기 위해 인가될 수 있다.Figures 2, 5 and 6 illustrate another example of a second separator 207 that includes a scoring device 501 that can generate a score line 209 along a separation path. Once such a score line has been formed a pivot member 601 may be applied to the opposite side wall of the score line 209 and a force 603 may be applied from the remainder of the separated glass sheet 141 to the second edge member 203 ). &Lt; / RTI >

도 3에 나타낸 바와 같이, 일단 제1 및 제2에지 부재(201, 203)가 제거되면, 상기 분리된 유리 시트(141)는 제3에지부(301a) 및 제4에지부(301b)를 포함하며, 상기 분리된 유리 리본(141)의 폭은 상기 제3에지부(301a)와 제4에지부(301b)간 규정된다. 다른 예들에 있어서, 그러한 분리된 유리 리본(141)의 길이가 상기 제3에지부(301a)와 제4에지부(301b)간 규정될 수 있다는 것을 알아야 할 것이다.3, once the first and second edge members 201 and 203 are removed, the separated glass sheet 141 includes a third edge portion 301a and a fourth edge portion 301b And the width of the separated glass ribbon 141 is defined between the third edge portion 301a and the fourth edge portion 301b. It should be noted that, in other examples, the length of such separated glass ribbon 141 may be defined between the third edge portion 301a and the fourth edge portion 301b.

이동식 앤빌 머신(예컨대, 도 1에 나타낸 분리 장치(115) 참조), 제1분리 장치(205) 및 제2분리 장치(207)는 단지 유리 시트를 분리하기 위해 사용되는 다양한 가능한 분리 장치들의 예일 뿐이다. 그러한 사용된 기술들과 상관없이, 각각의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)는 유리 시트의 크랙킹에 취약한 원하지 않는 거칠고/날카로운 에지부들을 포함할 것이다.A mobile anvil machine (e.g., see separation device 115 shown in FIG. 1), a first separation device 205 and a second separation device 207 are merely examples of various possible separation devices used to separate glass sheets . Regardless of such used techniques, each edge 141a, 141b, 301a, 301b will include unwanted rough / sharp edges that are vulnerable to cracking of the glass sheet.

본 발명 개시의 방법들은 50 ㎛ 이상의 평균 두께와 같이 넓은 범위의 평균 두께를 갖는 재료 시트(예컨대, 유리 리본, 분리된 유리 시트 등을 포함하는 유리 시트)가 사용될 수 있다. 예컨대, 그러한 평균 두께는 500 ㎛ 내지 약 2 mm, 바람직하게 약 700 ㎛ 내지 약 1.5 mm, 보다 바람직하게 약 900 ㎛ 내지 약 1.2 mm, 보다 더 바람직하게 약 900 ㎛ 내지 약 1.1 mm가 될 수 있다.The methods of the present disclosure may use a material sheet (e.g., a glass sheet including a glass ribbon, a separated glass sheet, etc.) having an average thickness over a wide range, such as an average thickness of 50 탆 or more. For example, such an average thickness may be from 500 microns to about 2 mm, preferably from about 700 microns to about 1.5 mm, more preferably from about 900 microns to about 1.2 mm, even more preferably from about 900 microns to about 1.1 mm.

원하지 않는 거칠고/날카로운 에지부들의 제거는 부서지기 쉬운 그리고/또 비교적 깨지기 쉬운 비교적 얇은 유리 시트에서 곤란해질 수 있다. 특정 성능 특성을 갖는 비교적 얇은 유리 시트에서 필요 요구사항이 증가한다. 예컨대, 도 4에 나타낸 바와 같이, 비교적 얇은 분리된 유리 시트(141)는 제1면(405)과 제2면(407)간 평균 두께 "T"를 가질 수 있으며, 상기 제1면(405)과 제2면(407)간 유리 시트의 평균 두께는 약 500 ㎛ 또는 그 이하, 바람직하게 약 400 ㎛ 또는 그 이하, 보다 바람직하게 약 300 ㎛ 또는 그 이하, 보다 더 바람직하게 약 200 ㎛ 또는 그 이하, 보다 더 훨씬 바람직하게 약 100 ㎛ 또는 그 이하, 보다 좀더 훨씬 바람직하게 약 75 ㎛ 또는 그 이하이다. 일 예에 있어서, 제1면(405)과 제2면(407)간 평균 두께 "T"는 약 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 400 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 300 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 200 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 100 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 75 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 500 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 400 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 300 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 200 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 150 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 100 ㎛, 약 100 ㎛ 내지 약 500 ㎛, 약 100 ㎛ 내지 약 400 ㎛, 약 100 ㎛ 내지 약 300 ㎛, 약 100 ㎛ 내지 약 200 ㎛이다. 얇은 평균 두께 "T"를 갖는 유리 시트들을 제공하는 것은 성능 특성을 향상시키는데 바람직할 수 있다.Removal of unwanted rough / sharp edges can be difficult in relatively thin glass sheets that are brittle and / or relatively fragile. The requirement for a relatively thin glass sheet with certain performance characteristics is increased. 4, the relatively thin separated glass sheet 141 may have an average thickness "T" between the first side 405 and the second side 407, and the first side 405, The average thickness of the glass sheet between the second side 407 and the second side 407 is about 500 microns or less, preferably about 400 microns or less, more preferably about 300 microns or less, even more preferably about 200 microns or less , Even more preferably about 100 microns or less, even more preferably about 75 microns or less. In one example, the average thickness "T" between the first side 405 and the second side 407 is about 50 microns to about 500 microns, about 50 microns to about 400 microns, about 50 microns to about 300 microns, From about 50 microns to about 200 microns, from about 50 microns to about 100 microns, from about 50 microns to about 75 microns, from about 75 microns to about 500 microns, from about 75 microns to about 400 microns, from about 75 microns to about 300 microns, from about 75 microns From about 100 microns to about 400 microns, from about 100 microns to about 300 microns, from about 100 microns to about 100 microns, from about 100 microns to about 100 microns, from about 75 microns to about 150 microns, from about 75 microns to about 100 microns, 200 mu m. Providing glass sheets with a thin average thickness "T " may be desirable to improve performance characteristics.

에지부(141a, 141b, 301a, 301b)들의 연마는 자기유변 연마(MRF) 기술에 의해 그러한 에지부를 연마하는 단계를 포함할 수 있다. 예컨대, 2011년 5월 20일자 출원된 미국 특허출원 제13/112,498호 및/또는 2011년 6월 27일자 출원된 미국 특허출원 제13/169,499호에 기술된 MRF 장치 및/또는 방법들은 본 발명 개시의 형태에 따라 포함될 것이다. 2011년 5월 20일자 출원된 미국 특허출원 제13/112,498호 및 2011년 6월 27일자 출원된 미국 특허출원 제13/169,499호는 각각 참조를 위해 본원에 그 전체 내용이 포함된다.The polishing of the edges 141a, 141b, 301a, and 301b may include polishing the edges by a magnetorheological polishing (MRF) technique. For example, the MRF devices and / or methods described in U.S. Patent Application No. 13 / 112,498, filed May 20, 2011, and / or U.S. Patent Application No. 13 / 169,499, filed June 27, 2011, As shown in FIG. U.S. Patent Application No. 13 / 112,498, filed May 20, 2011, and U.S. Patent Application No. 13 / 169,499, filed June 27, 2011, each of which is incorporated herein by reference in its entirety.

MRF는 유리를 분리할 때 생성된 원하지 않는 거칠고/날카로운 에지부들과 같은 손상 및/또는 결함물들을 제거한다. 또한, MRF는 비교적 얇은 유리 시트의 에지부들의 연마시에 야기되는 처리 시간을 감소 및/또는 복잡한 처리를 극복할 수 있다. 예컨대, MRF는 원하는 연마된 에지 프로파일을 달성하기 위해 비교적 작은 재료를 제거할 수 있다. 더욱이, MRF는 비교적 얇은 유리 시트의 비교적 깨지기 쉬운 에지부들을 기계가공하는데 사용될 수 있다. 더욱이, MRF는 분리된 유리 시트(141)의 평균 두께와 상관없이 처리 시간을 감소시키는데 사용될 수 있다.MRF removes damage and / or defects such as unwanted rough / sharp edges produced when glass is separated. In addition, MRF can reduce processing time and / or overcome complex processing caused by polishing of the edges of relatively thin glass sheets. For example, MRF can remove relatively small materials to achieve the desired polished edge profile. Moreover, MRF can be used to machine relatively fragile edges of relatively thin glass sheets. Moreover, the MRF can be used to reduce the processing time irrespective of the average thickness of the separated glass sheet 141.

MRF는 연마를 위한 자기유변 유체(magnetorheological fluid; 이후 'MR 유체')라고 부르는 유체-기반 정합성 툴(conformable tool)을 이용한다. MR 유체는 액체 운반체에 부유 유지된 미크론-크기 내지 나노-크기 연마 입자 및 미크론-크기 자화성 입자들을 포함할 수 있다. 예컨대, 그러한 자화성 입자들의 크기는 1 ㎛ 내지 100 ㎛ 또는 그 이상, 예컨대 1 ㎛ 내지 150 ㎛, 예컨대 5 ㎛ 내지 150 ㎛, 예컨대 5 ㎛ 내지 100 ㎛, 예컨대 5 ㎛ 내지 50 ㎛, 예컨대 5 ㎛ 내지 25 ㎛, 예컨대 10 ㎛ 내지 25 ㎛의 범위가 되고, 연마 입자들의 크기는 15 nm 내지 10 ㎛의 범위가 될 것이다. 상기 자화성 입자들은 균일한 또는 불균일한 입자 크기 분포, 동일한 또는 다른 형태들, 그리고 규칙적인 또는 불규칙한 형태들을 가질 것이다. 또한, 상기 자화성 입자들은 단일의 자화성 재료 또는 각기 다른 자화성 재료들의 조합으로 이루어질 것이다. 자화성 재료들의 예는 철, 산화철, 질화철, 탄화철, 카로보닐철, 이산화 크롬, 저탄소강, 규소강, 니켈, 코발트, 및 그러한 처리 재료들의 조합물을 포함한다. 또한 상기 자화성 입자들은 예컨대 보호 재료에 의해 코팅되거나 또는 보호 재료 내에 캡슐화될 것이다. 일 실시예에 있어서, 그러한 보호 재료는 액체 운반체에서 화학적으로 그리고 물리적으로 안정함과 더불어 상기 자화성 재료와 화학적으로 반응하지 않는 재료이다. 적절한 보호 재료들의 예는 지르코니아, 알루미나, 및 실리카를 포함한다. 유사하게, 그러한 연마 입자들은 균일한 또는 불균일한 입자 크기 분포, 동일한 또는 다른 형태들, 및 규칙적인 또는 불규칙한 형태들을 가질 수 있다. 또한, 상기 연마 입자들은 단일의 비자화성 재료 또는 각기 다른 비자화성 재료들의 조합으로 이루어질 것이다. 연마 입자들의 예는 산화 세륨, 다이아몬드, 실리콘 카바이드, 알루미나, 지르코니아, 및 그러한 처리 재료들의 조합물을 포함한다. 특히 이러한 리스트에 포함되지 않은 표면을 연마하는데 유용한 것으로 알려진 다른 연마 재료들이 사용될 수도 있다. MR 유체에 포함된 액체 운반체는 수성(aqueous) 또는 비수성일 수 있다. 그러한 운반체들의 예는 미네랄 오일, 합성 오일, 물, 및 에틸렌 글리콜을 포함한다. 상기 운반체들은 안정제, 예컨대 자화성 입자들의 부식을 방지하기 위한 안정제, 및 계면 활성제들을 더 포함할 것이다.MRF utilizes a fluid-based conformable tool called a magnetorheological fluid (hereinafter 'MR fluid') for polishing. The MR fluid may include micron-sized to nano-sized abrasive particles suspended in a liquid carrier and micron-sized magnetizable particles. For example, the size of such magnetizable particles may range from 1 占 퐉 to 100 占 퐉 or more, such as 1 占 퐉 to 150 占 퐉, such as 5 占 퐉 to 150 占 퐉, such as 5 占 퐉 to 100 占 퐉, such as 5 占 퐉 to 50 占 퐉, For example, 10 [micro] m to 25 [micro] m, and the size of the abrasive grains will be in the range of 15 nm to 10 [micro] m. The magnetizable particles will have a uniform or non-uniform particle size distribution, the same or different shapes, and regular or irregular shapes. The magnetizable particles may also consist of a single magnetizable material or a combination of different magnetizable materials. Examples of magnetisable materials include iron, iron oxide, iron nitride, carbide, carbonyl iron, chromium dioxide, low carbon steel, silicon steel, nickel, cobalt, and combinations of such processing materials. The magnetizable particles may also be coated, for example, with a protective material or encapsulated within a protective material. In one embodiment, such a protective material is a material that is chemically and physically stable in the liquid carrier and does not chemically react with the magnetizable material. Examples of suitable protective materials include zirconia, alumina, and silica. Similarly, such abrasive particles may have a uniform or non-uniform particle size distribution, the same or different shapes, and regular or irregular shapes. The abrasive particles may also consist of a single non-magnetizable material or a combination of different non-magnetizable materials. Examples of abrasive particles include cerium oxide, diamond, silicon carbide, alumina, zirconia, and combinations of such treatment materials. Other abrasive materials known to be useful for abrading surfaces not specifically included in these lists may also be used. The liquid carrier contained in the MR fluid may be aqueous or non-aqueous. Examples of such vehicles include mineral oil, synthetic oil, water, and ethylene glycol. The carriers will further comprise stabilizers, such as stabilizers to prevent corrosion of the magnetizable particles, and surfactants.

다른 실시예에 있어서, 연마하면서 에칭할 수 있는 MR 유체가 제공된다. 그러한 에칭 MR 유체는 에칭제를 포함하는 액체 운반체에 부유 유지된 연마 입자 및 자화성 입자들을 포함한다. 그러한 에칭제는 재료 시트의 재료를 에칭할 수 있는 것이며, 재료 시트의 재료에 기초하여 선택될 수 있다. 상기 액체 운반체는 에칭제를 위한 용제를 더 포함할 것이다. 상기 액체 운반체는 안정제 및 계면 활성제를 더 포함할 것이다. 상기 액체 운반체는 상술한 바와 같이 수성 또는 비수성일 수 있다. 상기 자화성 입자 및 연마 입자들은 비에칭 MR 유체에 있어 상기 기술한 바와 같다. 상술한 바와 같이, 상기 자화성 입자들은 예컨대 보호 재료에 의해 코팅되거나 또는 보호 재료 내에 캡슐화될 수 있다. 사용할 경우, 상기 보호 재료는 액체 운반체에 에칭제 및 다른 재료의 존재시 화학적으로 그리고 물리적으로 안정한 재료이다. 상기 보호 재료는 또한 상기 자화성 입자들과 반응하지 않는 재료이다. 그러한 보호 재료들의 적절한 예는 지로코니아 및 실리카가 있다.In another embodiment, an MR fluid is provided that can be etched while grinding. Such etched MR fluids include abrasive particles and magnetizable particles suspended by a liquid carrier comprising an etchant. Such an etchant is capable of etching the material of the material sheet and can be selected based on the material of the material sheet. The liquid carrier will further comprise a solvent for the etchant. The liquid carrier will further comprise a stabilizer and a surfactant. The liquid carrier may be aqueous or non-aqueous, as described above. The magnetizable particles and abrasive particles are as described above for non-etched MR fluids. As described above, the magnetizable particles may be coated, for example, with a protective material or encapsulated within a protective material. When used, the protective material is a chemically and physically stable material in the presence of an etchant and other materials in the liquid carrier. The protective material is also a material that does not react with the magnetizable particles. Suitable examples of such protective materials are zirconia and silica.

일 실시예에 있어서, 에칭 MR 유체에 포함된 에칭제는 pH 5 또는 그 이하이다. 일 실시예에 있어서, pH 5 또는 그 이하를 갖는 에칭제는 산을 포함한다. 일 실시예에 있어서, 그러한 에칭제는 산이다. 그러한 산은 액체 형태로 존재하거나 또는 적절한 용제에 용해될 것이다. 상기 적절한 산들의 예는 불화 수소산 및 황산을 포함하나, 이들로 한정하진 않는다. 상기 액체 운반체는 하나 또는 그 이상의 안정제, 예컨대 자화성 입자들의 부식을 방지하기 위한 안정제를 더 포함할 수 있다. 상기 액체 운반체에 사용된 안정제는 산의 존재시 또는 특히 에칭제의 존재시 안정화될 수 있다.In one embodiment, the etchant contained in the etched MR fluid has a pH of 5 or less. In one embodiment, the etchant having a pH of 5 or less comprises an acid. In one embodiment, such an etchant is an acid. Such acids may be present in liquid form or dissolved in a suitable solvent. Examples of such suitable acids include, but are not limited to, hydrofluoric acid and sulfuric acid. The liquid carrier may further comprise one or more stabilizers, such as stabilizers to prevent corrosion of the magnetizable particles. The stabilizer used in the liquid carrier can be stabilized in the presence of an acid or especially in the presence of an etchant.

다른 실시예에 있어서, 에칭 MR 유체에 포함된 에칭제는 pH 10 또는 그 이상을 갖는다. 일 실시예에 있어서, pH 10 또는 그 이상을 갖는 에칭제는 알칼리염을 포함한다. 일 실시예에 있어서, 상기 에칭제는 알칼리염이다. 그와 같은 알칼리염들의 예는 수산화 알칼리, 예컨대 수산화 칼륨, 수산화 나트륨, 및 수산화 알칼리를 함유하는 화합물을 포함하나, 이들로 한정하진 않는다. 수산화 알칼리를 함유하는 합성 세제는 예컨대 액체 운반체에서 알칼리염으로 사용될 수 있다. 상기 액체 운반체는 계면 활성제와 같은 알칼리염 외의 다른 재료들 그리고 합성 세제들에서 찾을 수 있는 다른 재료들을 포함할 것이다.In another embodiment, the etchant included in the etched MR fluid has a pH of 10 or greater. In one embodiment, an etchant having a pH of 10 or greater comprises an alkali salt. In one embodiment, the etchant is an alkali salt. Examples of such alkali salts include, but are not limited to, compounds containing alkali hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, and alkali hydroxide. A synthetic detergent containing an alkali hydroxide can be used, for example, as an alkali salt in a liquid carrier. The liquid carrier will include materials other than alkali salts such as surfactants and other materials that can be found in synthetic detergents.

도 7은 본원발명 개시에 따라 MRF를 수행하도록 구성된 자기유변 연마 장치(145)의 측벽 개략도를 나타낸다. 나타낸 바와 같이, MR 유체는 MR 리본(701)의 형태로 지지 표면 상에 퇴적된다. 통상, 그러한 지지 표면은 이동 표면이나, 고정 표면일 수도 있다. 상기 지지 표면은 다양한 형태, 예컨대 구형, 원통형, 또는 평탄형을 가질 수 있다. 설명의 목적을 위해, 도 7은 회전 휠(703; rotating wheel) 상의 MRF 리본(701)의 측면도를 나타낸다. 이러한 경우, 그러한 회전 휠(703)의 원주면(705)은 MRF 리본(701)에 대한 이동의 원통형 지지 표면을 제공한다. 노즐(707)은 지지 표면(705)의 세그먼트의 일단부에 MRF 리본(701)을 전달하는데 사용되며, 노즐(709)은 지지 표면(705)의 세그먼트의 또 다른 단부로부터 MRF 리본(701)을 수집하는데 사용된다. MRF 동안, 자석(711)은 MRF 리본(701)에 자기장을 인가한다.7 shows a side wall schematic view of a magnetostatic polishing apparatus 145 configured to perform MRF according to the present invention disclosure. As shown, MR fluid is deposited on the support surface in the form of MR ribbons 701. Typically, such a support surface may be a moving surface or a stationary surface. The support surface can have various shapes, e.g., spherical, cylindrical, or flat. For purposes of illustration, FIG. 7 shows a side view of MRF ribbon 701 on rotating wheel 703. In such a case, the circumferential surface 705 of such rotating wheel 703 provides a cylindrical support surface for movement relative to the MRF ribbon 701. Nozzle 707 is used to deliver MRF ribbon 701 to one end of the segment of support surface 705 and nozzle 709 extends MRF ribbon 701 from another end of the segment of support surface 705 Used to collect. During MRF, the magnet 711 applies a magnetic field to the MRF ribbon 701.

그러한 인가된 자기장은 자화성 입자들에 자화를 유도하여, 그러한 자화성 입자들이 흐름을 제한하는 체인 또는 원주형 구조를 형성하게 한다. 이는 MRF 리본(701)의 겉보기 점도를 증가시켜, 상기 MRF 리본(701)을 액체 상태에서 고체 상태로 변경한다. 분리된 유리 시트(141)의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)들이 그 경화된 MRF 리본(701)과 접촉하고 상기 경화된 MRF 리본(701)에 대해 방향 713을 따라 상기 분리된 유리 시트(141)의 에지부가 이동하면서 연마될 수 있다. 상기 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)와 MRF 리본(701)간 상대적 운동은 연마될 에지부의 그 모든 부분들이 상기 경화된 MRF 리본(701)과 접촉하게 하기 위한 것이다. 상술한 범위의 비교적 얇은 평균 두께를 갖는 유리 시트의 경우에 있어서, 상기 유리 시트(141)의 제1면(405)과 제2면(407)간 확장하는 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)의 세그먼트의 모든 부분들은 동시에 연마될 수 있고 경화된 MRF 리본(701)과 접촉될 수 있다. 그와 같이, 그러한 전체 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)들은 단일의 자기유변 연마 단계 동안 제1면(405)과 제2면(407) 사이에 형성될 수 있다. 하나의 특정 예에 있어서, 그러한 단일의 자기유변 연마 단계는 그 경화된 MRF 리본(701)을 통해 연마될 각각의 에지부들의 단일 통과를 포함할 수 있다. 예컨대, 도 7에 나타낸 바와 같이, 제2에지부(141b)의 연마는 자기유변 연마 장치(145)에 대한 그 분리된 유리 시트(141)의 한번의 통과에 의해 수행될 것이다. 왕복 운동이 필요치 않기 때문에, 유리 시트(141)의 각 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)의 연마가 감소된 처리 시간에 의해 수행될 수 있다.Such an applied magnetic field induces magnetization in the magnetizable particles, causing such magnetizable particles to form a chain or columnar structure that restricts the flow. This increases the apparent viscosity of the MRF ribbon 701, thereby changing the MRF ribbon 701 from a liquid state to a solid state. The edges 141a, 141b, 301a and 301b of the separated glass sheet 141 are in contact with the cured MRF ribbon 701 and along the direction 713 with respect to the cured MRF ribbon 701, The edge portion of the polishing pad 141 can be polished while moving. The relative movement between the edge portions 141a, 141b, 301a, 301b and the MRF ribbon 701 is for all of its portions of the edge to be polished to contact the cured MRF ribbon 701. In the case of a glass sheet having a comparatively thin average thickness in the above-mentioned range, the edge portions 141a, 141b, 301a, 301b extending between the first surface 405 and the second surface 407 of the glass sheet 141 May be simultaneously polished and may be contacted with the cured MRF ribbon 701. As such, such full edge portions 141a, 141b, 301a, and 301b may be formed between the first surface 405 and the second surface 407 during a single magnetophoretic polishing step. In one particular example, such a single magnetophoretic polishing step may comprise a single pass of each edge to be polished through the cured MRF ribbon 701. [ For example, as shown in Fig. 7, the polishing of the second edge portion 141b will be performed by a single pass of the separated glass sheet 141 to the self-polishing polishing apparatus 145. [ The polishing of each of the edge portions 141a, 141b, 301a, and 301b of the glass sheet 141 can be performed by the reduced processing time since no reciprocating motion is required.

일 실시예에 있어서, 유리 시트(141)의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)들 중 어느 하나 또는 그 모두는 경화된 MRF 리본(701)에 그 각각의 에지부를 침지(immersing)시킴으로써 연마될 수 있다. 비록 그러한 연마 공정이 MRF를 이용하여 단일의 유리 시트를 연마하는 것에 대해 기술했을 지라도, 이는 다수의 유리 시트가 단일의 연마 공정에서 동시에 연마될 수 있다는 것을 알아야 할 것이다.In one embodiment, either or both of the edges 141a, 141b, 301a, and 301b of the glass sheet 141 are polished by immersing their respective edges in the cured MRF ribbon 701 . Although such a polishing process has been described for polishing a single glass sheet using MRF, it will be appreciated that multiple glass sheets can be polished simultaneously in a single polishing process.

도 8에 나타낸 바와 같이, 유리 시트는 수직 축에 대해 약 + 45°에서 약 - 45°까지의 각도 범위 내에서 소정의 방위로 평면을 따라 위치될 수 있다. 덧붙여, 나타낸 바와 같이, 유리 시트(141)는 수직 축(801)과 평행한 평면을 따라 위치된다. 다른 예들에 있어서, 상기 유리 시트는 약 45°의 각도 α와 각도 β간 소정의 방위로 지향될 수 있다.As shown in FIG. 8, the glass sheet may be positioned along the plane in a predetermined orientation within an angular range from about +45 degrees to about -45 degrees with respect to the vertical axis. In addition, as shown, the glass sheet 141 is positioned along a plane parallel to the vertical axis 801. In other examples, the glass sheet may be oriented in a predetermined orientation between angles alpha and beta of about 45 degrees.

MRF는 전단(shearing)에 의해 그 연마되는 표면으로부터 재료를 제거한다. 이는 기계적인 그라인딩(grinding)과 같은 기계적 공정과 연관된 파단 메카니즘(fracturing mechanism)과 반대이다. 이러한 메카니즘의 경우, MRF는 에지부의 강도를 더 낮추는 에지부의 새로운 파단 장소를 도입하지 않고 그 에지부로부터 재료를 제거할 기회를 갖는다. 동시에, MRF는 즉 제1에지 강도에서 제2에지 강도로 그 에지부의 강도의 증가를 야기하는 에지부로부터의 결함들을 제거한다. 더욱이, 유체-기반의 MRF 리본(701)은 에지부의 굴곡 또는 윤곽에 대한 복잡성과 상관없이 그 에지부의 형태에 들어맞는 능력을 가지며, 이는 에지부의 완전한 고품질 연마를 이끈다. MRF는 몇가지 파라미터, 예컨대 MR 유체의 점도, MR 유체가 이동 표면으로 전달되는 비율, 이동 표면의 속도, 자기장의 강도, MRF 리본의 높이, 에지부가 MRF 리본으로 침지되는 깊이, 및 재료가 에지로부터 제거되는 비율에 의해 좌우된다.The MRF removes material from its polished surface by shearing. This is in contrast to the fracturing mechanism associated with mechanical processes such as mechanical grinding. For such a mechanism, the MRF has the opportunity to remove material from its edge without introducing a new break site of the edge which further reduces the strength of the edge. At the same time, the MRF removes defects from the edge that cause an increase in the strength of the edge portion from the first edge strength to the second edge strength. Moreover, the fluid-based MRF ribbon 701 has the ability to fit in the shape of its edge regardless of the complexity of the edge's curvature or contour, leading to complete high quality polishing of the edge. The MRF may include several parameters such as the viscosity of the MR fluid, the rate at which the MR fluid is delivered to the moving surface, the velocity of the moving surface, the strength of the magnetic field, the height of the MRF ribbon, the depth at which the edge is immersed in the MRF ribbon, Of the total.

도 9는 본 발명 개시의 예시 방법들을 기술하는 제1예시의 순서도이다. 도 9의 모든 여러 방법들은 제1면과 제2면을 갖는 재료 시트를 제공하는 단계(903)에 의해 시작 위치(901)에서 시작한다. 상술한 바와 같이, 일 예에 있어서, 상기 재료 시트는 유리 리본(106)과 같은 유리 시트 또는 제1면(405) 및 제2면(407)을 갖는 그 분리된 유리 시트(141)를 포함할 수 있다. 본 발명 개시의 방법들은 500 ㎛ 이상의 평균 두께와 같은 넓은 범위의 평균 두께를 갖는 재료 시트(예컨대, 유리 리본, 분리된 유리 시트 등을 포함하는 유리 시트)가 사용될 수 있다. 예컨대, 그러한 평균 두께는 500 ㎛ 내지 약 2mm, 바람직하게 약 700 ㎛ 내지 약 1.5mm, 보다 바람직하게 약 900 ㎛ 내지 약 1.2 mm, 보다 더 바람직하게 약 900 ㎛ 내지 약 1.1 mm가 될 수 있다. 다른 예들에 있어서, 본 발명 개시의 방법들은 제1면(405)과 제2면(407)간 약 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛, 약 50 ㎛ 내지 약 300 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 200 ㎛, 약 75 ㎛ 내지 약 150 ㎛의 평균 두께 "T"를 포함하는 재료 시트가 사용될 수 있다.Figure 9 is a flow diagram of a first example describing exemplary methods of initiating the present invention. All the various methods of FIG. 9 begin at a start position 901 by step 903 of providing a material sheet having a first side and a second side. As mentioned above, in one example, the material sheet comprises a glass sheet such as a glass ribbon 106 or a separate glass sheet 141 having a first side 405 and a second side 407 . The methods of the present disclosure may use a material sheet (e.g., a glass sheet including a glass ribbon, a separated glass sheet, etc.) having an average thickness over a broad range, such as an average thickness of 500 [mu] m or more. For example, such an average thickness may be from 500 μm to about 2 mm, preferably from about 700 μm to about 1.5 mm, more preferably from about 900 μm to about 1.2 mm, even more preferably from about 900 μm to about 1.1 mm. In other instances, the methods of the present disclosure may be used to provide a thickness between about 50 microns and about 500 microns, between about 50 microns and about 300 microns, between about 75 microns and about 200 microns, between about 50 microns and about 500 microns, A material sheet comprising an average thickness "T" of 75 [mu] m to about 150 [mu] m may be used.

제조 공정에서 여러 상대적 시간에 따라 제공 단계(903)가 행해질 수 있다. 예컨대, 도 1에 나타낸 바와 같이, 제공 단계(903)는 그 분리된 유리 시트(141)의 형성 후 곧바로 행해질 수 있다. 다른 예들에 있어서, 그러한 제공 단계(903)는 후속 시간에 행해질 수 있다. 예컨대, 상기 분리된 유리 시트(141)는 단계(903) 동안 그 유리 시트가 나중에 제공되는 다른 위치로 전달될 것이다. 다른 예들에 있어서, 상기 유리 리본(106)은 저장 롤 상에 감겨질(coil) 것이다. 그와 같은 상황에서, 그러한 제공 단계는 유리 리본(106)을 저장 롤에 감기 전에 행해질 것이다. 그와 같은 예들에 있어서, 그러한 유리 리본의 에지들은 상기 저장 롤에 감기 전에 MRF에 의해 연마될 것이다. 추가로 또는 대안적으로, 그러한 유리 리본의 코일은 원하는 분리된 유리 리본(141)으로 다음 분리를 위해 다른 위치로 전달될 것이다. 그와 같은 예들에 있어서, 제공 단계(903)는 그 유리 리본이 이후 그 분리된 유리 시트(141)를 처리하기 위해 풀림에 따라 행해질 것이다.The providing step 903 may be performed at various relative times in the manufacturing process. For example, as shown in FIG. 1, the providing step 903 may be performed immediately after formation of the separated glass sheet 141. In other examples, such providing step 903 may be done at a later time. For example, the separated glass sheet 141 may be transferred to another location where the glass sheet is later provided during step 903. [ In other examples, the glass ribbon 106 is coiled on a storage roll. In such a situation, such providing will be done before winding the glass ribbon 106 onto the storage roll. In such instances, the edges of such glass ribbon will be polished by MRF before winding on the storage roll. Additionally or alternatively, the coil of such a glass ribbon may be transferred to another location for subsequent separation into the desired discrete glass ribbon 141. In such instances, the providing step 903 will be performed as the glass ribbon is subsequently unwound to process the separated glass sheet 141. [

화살표 905로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 이후 MRF에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계(919) 전에 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)를 제공하기 위해 제공 단계(903)에서 재료 시트를 분리하는 단계(907)로 선택적으로 처리할 수 있다. 그와 같이, 비록 요구하지 않았을 지라도, 도 9에 나타낸 바와 같이, 분리의 단계(907)는 제공 단계(903) 후에 행해질 수 있다.As indicated by arrows 905, the method may be followed by a step 903 of providing a sheet of material (e.g., sheet material) to provide edge portions 141a, 141b, 301a, and 301b prior to step 919 of polishing the edges of the material sheet by the MRF. (907). &Lt; / RTI > As such, although not required, the separation step 907 may be performed after the providing step 903, as shown in FIG.

그러한 분리 단계(907)는 폭넓은 다양한 방식으로 수행될 수 있다. 예컨대, 기계적 분리, 레이저 분리, 초음파 분리 또는 다른 분리 기술들에 의해 분리가 수행될 수 있다. 도 2 및 4에 나타낸 제1분리 장치(205)는 레이저(401)를 이용하여 제품을 열적으로 가로질러 이동하여 에지 근처에 기계적인 흠을 생성한 후, 물 분사와 같은 액체 냉각 장치(403)에 의해 도입된 응력 구배를 이용하여 분리시키는 것을 포함하는 단지 일 예의 레이저 분리 장치를 나타낸다. 도 2 및 5에 나타낸 제2분리 장치(207)는 예시의 기계적 분리 장치를 나타낸다. 상기 제2분리 장치(207)는 스코어링 휠, 워터 제트(water jet), 또는 연마 워터 제트를 포함하는 스코어링 장치(501)를 포함할 수 있다. 다음에, 도 6에 나타낸 바와 같이, 재료 시트는 예컨대 스코어 라인을 따라 에지 부재를 절단하기 위해 힘(603)을 인가함으로써 스코어 라인을 따라 분리될 수 있다. 일단 분리되면, 단일의 재료 시트 또는 다수의 재료 시트가 될 것이다. 만약 다수의 재료 시트가 생성되면, 그 재료 시트들 중 어느 하나 또는 그 모두가 처리될 것이다.Such a separation step 907 can be performed in a wide variety of ways. For example, separation may be performed by mechanical separation, laser separation, ultrasonic separation or other separation techniques. The first separating device 205 shown in Figures 2 and 4 moves thermally across the product using laser 401 to create a mechanical flaw in the vicinity of the edge and then a liquid cooling device 403, Lt; / RTI > using a stress gradient introduced by a laser source. The second separation device 207 shown in Figs. 2 and 5 shows an example mechanical separation device. The second separation device 207 may include a scoring device 501 including a scoring wheel, a water jet, or a grinding water jet. Next, as shown in FIG. 6, the material sheet can be separated along the score line by applying a force 603, for example, to cut the edge member along the score line. Once separated, it will be a single material sheet or multiple material sheets. If multiple material sheets are created, either or both of the material sheets will be processed.

화살표 909에 의해 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 다음에 상기 분리 단계(907)에서 재료 시트를 에징(edging)하는 단계(911)로 선택적으로 처리될 수 있다. 제공될 경우, 재료 시트를 에징하는 단계(911)는 그 에지로부터 재료를 제거함으로써 재료 시트의 에지의 형태 및/또는 구조를 변경할 수 있다. 소정 다수의 공정이 에징 단계(911)에 채용될 것이다. 그러한 예들은 연마 가공, 연마 제트 가공, 화학적 에칭, 초음파 연마, 초음파 그라인딩, 화학-기계적 연마를 포함하나 이들로 한정하진 않는다. 상기 에징 단계(911)는 단일의 재료 제거 공정 또는 일련의 또는 재료 제거 공정의 조합을 포함할 것이다. 예컨대, 일 예의 에징 단계(911)는 그라인딩 재료의 그리트 크기(grit size)와 같은 그라인딩 파라미터가 각 단계의 끝에서 각기 다른 에징 결과를 달성하도록 연속하는 각 단계에서 변경되는 일련의 그라인딩 단계들을 포함할 것이다.As indicated by arrow 909, the method may then be selectively processed to step 911, where the material sheet is edged in the separating step 907. If provided, step 911 of aging the sheet of material may change the shape and / or structure of the edge of the sheet of material by removing material from that edge. A number of processes will be employed in the aging step 911. Examples include, but are not limited to, abrasive machining, abrasive jet machining, chemical etching, ultrasonic grinding, ultrasonic grinding, chemical-mechanical grinding. The aging step 911 will comprise a single material removal process or a combination of series or material removal processes. For example, an exemplary step 911 includes a series of grinding steps in which the grinding parameters, such as the grit size of the grinding material, are varied at each successive step to achieve different edge results at the end of each step will be.

상기 에징 단계(911)는 기계적 그라인딩, 랩핑(lapping), 및 연마들 중 하나 또는 그 이상 그리고 그들의 조합을 포함하는 연마 가공을 포함할 것이다. 이들 공정은 고체 툴과 처리되는 표면간 접촉을 포함하는 기계적인 감각이다. 각각의 그라인딩, 랩핑 및 연마는 하나 또는 그 이상의 단계에서 달성될 것이다. 그라인딩은 고정-연마 공정이고, 반면 랩핑 및 연마는 비고정-연마 공정이다. 그라인딩은 금속 휠에 본딩된 금속 또는 폴리머에 매립된 연마 입자들을 이용하여 달성될 것이다. 선택적으로, 그라인딩은 연마 화합물로 이루어진 소모용 휠을 이용하여 달성될 것이다. 랩핑에 있어서, 통상 액체 매질에 부유 유지된 연마 입자들은 재료 시트의 에지와 랩(lap) 사이에 배치된다. 재료 시트의 에지와 랩간 상대적 운동은 에지로부터 재료를 비벼 연마시킨다. 연마에 있어서, 통상 액체 매질에 부유 유지된 연마 입자들은 정합성 소프트 패드 또는 휠을 이용하여 재료 시트의 에지에 적용된다. 그러한 정합성 소프트 패드 또는 휠은 폴리머 재료, 예컨대 부틸 고무, 실리콘, 폴리우레탄, 및 천연 고무로 이루어질 것이다. 연마 가공에 사용된 연마제들은 예컨대, 알루미나, 탄화 규소, 다이아몬드, 입방정계 질화붕소, 및 부석(pumice)으로부터 선택될 것이다.The step of etching 911 will include abrasive machining involving one or more of mechanical grinding, lapping, and grinding, and combinations thereof. These processes are mechanical sensations involving contact between the solid tool and the surface to be treated. Each grinding, lapping, and polishing will be accomplished in one or more steps. Grinding is a fixed-abrasive process, while lapping and polishing are non-fixed-abrasive processes. Grinding will be accomplished using abrasive particles embedded in a metal or polymer bonded to a metal wheel. Optionally, the grinding will be accomplished using a consumable wheel made of a polishing compound. In lapping, abrasive particles suspended in a liquid medium are usually placed between the edge of the sheet of material and the lap. The relative movement between the edge of the sheet of material and the lapping of the material abrades the material from the edge. In polishing, abrasive particles suspended in a liquid medium are typically applied to the edges of the material sheet using a conforming soft pad or wheel. Such conformable soft pads or wheels will consist of polymeric materials such as butyl rubber, silicone, polyurethane, and natural rubber. The abrasives used in the abrasive machining will be selected, for example, from alumina, silicon carbide, diamond, cubic boron nitride, and pumice.

화살표 913에 의해 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 다음에 상기 에징 단계(911)에서 재료 시트(예컨대, 유리 시트)의 에지부의 화학적 강화 단계(915)로 선택적으로 진행할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 그러한 화학적-강화 공정은 이온-교환 공정이다. 이온-교환 공정을 실시하기 위해, 제공 단계(903)에서 제공된 제품은 이온-교환 재료로 이루어져야만 한다. 통상, 이온-교환가능 재료는 이온-교환 공정 동안 좀더 큰 알칼리 이온, 예컨대 K⁺로 교환될 수 있는 Li⁺ 및/또는 Na⁺와 같은 좀더 작은 알칼리 이온을 갖는 알칼리-함유 유리이다. 적절한 이온-교환가능 유리의 예들은 일련의 미국 특허출원 제11/888,213호, 제12/277,573호, 제12/392,577호, 제12/393,241호, 및 제12/537,393호, 미국 가출원 제61/235,767호 및 제61/235,762호(모두 코닝 인코포레이티드로 양도된)에 기술되어 있으며, 그 모든 내용은 참조를 위해 본원에 포함된다. 이들 유리는 비교적 낮은 온도에서 그리고 적어도 30 ㎛의 깊이로 이온-교환될 수 있다.As indicated by arrow 913, the method may then optionally proceed to the chemical strengthening step 915 of the edge portion of the material sheet (e.g., a glass sheet) in the said etching step 911. In one embodiment, such a chemical-strengthening process is an ion-exchange process. In order to carry out the ion-exchange process, the product provided in the providing step 903 must be made of an ion-exchange material. Typically, the ion-exchangeable material is an alkali-containing glass having a smaller alkali ion such as Li ⁺ and / or Na ⁺ that can be exchanged with a larger alkali ion, such as K ⁺ , during the ion-exchange process. Examples of suitable ion-exchangeable glasses are disclosed in US patent application Ser. Nos. 11 / 888,213, 12 / 277,573, 12 / 392,577, 12 / 393,241 and 12 / 537,393, 235,767 and 61 / 235,762 (both assigned to Corning Incorporated), the entire contents of which are incorporated herein by reference. These glasses can be ion-exchanged at relatively low temperatures and at a depth of at least 30 [mu] m.

이온-교환 공정은 예컨대 미국 특허 제5,674,790호(Araujo, Roger J.)에 기술되어 있다. 통상 그러한 공정은 유리의 전이 온도를 초과하지 않는 상승 온도에서 행해진다. 상기 공정은 유리에서의 호스트 알칼리 이온(host alkali ion)의 것보다 큰 이온을 갖는 알칼리염(통상 질산염)을 포함하는 용융조(molten bath) 내에 유리를 침지함으로써 수행된다. 상기 호스트 알칼리 이온은 보다 큰 알칼리 이온으로 교환된다. 예컨대, Na⁺ 함유 유리는 용융 질산칼륨(KNO₃)의 용융조 내에 침지될 것이다. 용융조 내에 제공된 좀더 큰 K⁺는 유리에서의 보다 작은 Na⁺를 교체할 것이다. 작은 알칼리 이온들이 이전에 차지했던 위치에서의 좀더 큰 알칼리 이온들의 존재는 유리의 표면에 또는 그 유리의 표면 근처의 압축 응력 및 상기 유리 내부에서의 응력을 생성한다. 상기 유리는 이온-교환 공정 후 용용조로부터 제거되어 냉각된다. 그러한 이온-교환 깊이, 즉 유리 내로 침입되는 보다 큰 알칼리 이온들의 침투 깊이는 통상 20 ㎛ 내지 300 ㎛, 예컨대 40 ㎛ 내지 300 ㎛ 정도이고 유리 조성 및 침지 시간에 따라 콘트롤된다.Ion-exchange processes are described, for example, in U.S. Patent No. 5,674,790 (Araujo, Roger J.). Such a process is usually carried out at an elevated temperature which does not exceed the transition temperature of the glass. The process is carried out by immersing the glass in a molten bath comprising an alkali salt (usually a nitrate salt) having a larger ion than the host alkali ion in the glass. The host alkaline ion is exchanged for a larger alkali ion. For example, the Na ⁺ containing glass will be immersed in a molten bath of molten potassium nitrate (KNO ₃ ). The larger K ⁺ provided in the melting bath will replace the smaller Na ⁺ in the glass. The presence of the larger alkali ions at the sites previously occupied by the small alkali ions produces a compressive stress on the surface of the glass or near the surface of the glass and stress in the glass. The glass is removed from the bath after the ion-exchange process and cooled. Such an ion-exchange depth, i. E. The penetration depth of the larger alkali ions entering into the glass is usually from about 20 m to 300 m, for example from about 40 m to about 300 m, and is controlled by the glass composition and immersion time.

화살표 917로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 다음에 재료 시트(예컨대, 유리 시트)의 에지부의 화학적 강화 단계(915)에서 자기유변 연마(MRF)에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계(919)로 선택적으로 진행될 수 있다. 예컨대, 도 7에 나타낸 바와 같이, 분리된 유리 시트(141)는 각 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)를 위한 상기 자기유변 연마 장치(145)를 가로지르는 상기 분리된 유리 시트(141)의 단일 통과 동안 방향 713을 따라 이동될 것이다.As indicated by arrow 917, the method then proceeds to step 919 of grinding the edge of the material sheet by magnetostrictive polishing (MRF) in the chemical strengthening step 915 of the edge of the material sheet (e.g., glass sheet) Can be selectively performed. 7, the separated glass sheet 141 is separated from the separated glass sheet 141 across the magnetostatic polishing apparatus 145 for each of the edge portions 141a, 141b, 301a, and 301b. Lt; RTI ID = 0.0 > 713 < / RTI >

도 8에 나타낸 바와 같이, 제공 단계(903)는 중력 방향을 따라 확장할 수 있는 수직 축(801)에 대해 약 + 45°에서 약 - 45°까지의 각도 범위 내에서 소정의 방위가 위치되도록 각도 α 및 β가 각각 45°인 소정 방위에 평면을 따라 재료 시트를 위치시킬 수 있다. 도 8에 나타낸 예에 있어서, 분리된 유리 시트(141)는 이 분리된 유리 시트(141)의 평면과 수직 축(801)간 각도가 0°이도록 상기 수직 축(801)을 포함하는 평면을 따라 수직으로 위치된다. 다른 예에 있어서, 상기 재료 시트의 소정 방위는 MRF에 의해 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계(919) 동안 유지될 수 있다.As shown in FIG. 8, the providing step 903 includes providing an angle < RTI ID = 0.0 > 902 < / RTI & the material sheet can be positioned along the plane in a predetermined orientation where? and? are 45 占 respectively. 8, the separated glass sheet 141 is moved along a plane including the vertical axis 801 such that the angle between the plane of the separated glass sheet 141 and the vertical axis 801 is 0 Vertically. In another example, the predetermined orientation of the material sheet may be maintained during step 919 of polishing the edge of the material sheet by MRF.

도 9의 몇몇 예에 나타낸 바와 같이, 분리, 에징 및/또는 화학적 강화의 여러 단계(907, 911, 915)들은 소정의 순서로 행해질 수 있고, 그 단계들 중 어느 하나 또는 그 모두가 생략될 수 있다. 예컨대, 화살표 921로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 제공 단계(903)에서 에징 단계(911)로 진행될 것이다. 이에 따라 분리 단계(907)를 생략한다. 선택적으로, 화살표 923으로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 제공 단계(903)에서 재료 시트(예컨대, 유리 시트)의 에지부의 화학적 강화 단계(915)로 진행될 것이다. 이에 따라 분리 및 에징의 단계(907, 911)들을 생략한다. 또한, 화살표 925로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 제공 단계(903)에서 MRF에 따라 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계(919)로 곧바로 진행될 것이다. 이에 따라 분리, 에징 및 화학적 강화의 단계(907, 911, 915)들을 생략한다. 그와 같이, 상기 방법은 본질적으로 제공 단계(903) 및 MRF에 따라 재료 시트의 에지부를 연마하는 단계(919)로 이루어질 수 있다.As shown in some examples of FIG. 9, the various steps (907, 911, 915) of separation, aging and / or chemical enrichment can be done in a predetermined order, and either or both of the steps can be omitted have. For example, as indicated by arrow 921, the method may proceed from providing step 903 to anaging step 911. So that the separation step 907 is omitted. Alternatively, as indicated by arrow 923, the method may proceed to chemical enhancement step 915 at the edge of the material sheet (e.g., glass sheet) in the providing step 903. The steps 907 and 911 of separation and aging are thus omitted. Also, as indicated by arrow 925, the method will proceed directly to step 919 of grinding the edge of the material sheet according to the MRF in the providing step 903. The steps 907, 911 and 915 of separation, aging and chemical strengthening are thus omitted. As such, the method may consist essentially of providing 903 and polishing 919 the edge of the sheet of material according to MRF.

도 9에 더 나타낸 바와 같이, 제공될 경우, 분리의 단계(907)를 수행한 후, 상기 방법은 이후의 에징 및/또는 화학적 강화의 단계(911, 915) 중 어느 하나 또는 그 모두를 선택적으로 생략할 수 있다. 예컨대, 화살표 927로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 분리의 단계(907)에서 화학적 강화의 단계(915)로 진행될 것이다. 이에 따라 에징의 단계(911)를 생략한다. 다른 예에 있어서, 화살표 929로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 분리의 단계(907)에서 MRF에 따라 시트 재료의 에지부를 연마하는 단계(919)로 진행될 것이다. 이에 따라 에징 및 화학적 강화의 단계(911, 915) 모두를 생략한다.As further shown in FIG. 9, if provided, after performing step 907 of separation, the method may optionally select one or both of subsequent steps 911 and 915 of the chemical and / Can be omitted. For example, as indicated by arrow 927, the method may proceed from step 907 of separation to step 915 of chemical strengthening. Thereby omitting the step 911 of aging. In another example, as indicated by arrow 929, the method may proceed to step 919 of grinding the edge of the sheet material according to MRF in step 907 of separation. Thus, steps 911 and 915 of both aging and chemical strengthening are omitted.

도 10은 본 발명 개시의 다른 예시의 방법을 나타내는 제2예시의 순서도를 나타낸다. 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 다시 시작 위치(1001)에서 시작되어 폭넓은 다양한 경로들로 진행될 것이다. 도 10의 몇몇 예들로 나타내고 이하 기술하는 바와 같이, 분리, 에징 및/또는 화학적 강화의 여러 단계(1005, 1009, 1013)들이 소정의 순서로 수행될 수 있고 그 단계들 중 어느 하나 또는 그 모두가 생략될 수 있다.10 shows a flow chart of a second example illustrating a method of another example of the disclosure of the present invention. As shown, the method may begin again at start location 1001 and proceed over a wide variety of paths. As shown in some examples of FIG. 10 and described below, various steps 1005, 1009, 1013 of separation, aging and / or chemical enrichment can be performed in a predetermined order, and either or both of the steps Can be omitted.

예컨대, 화살표 1003으로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 시작 위치(1001)에서 분리의 단계(1005)로 진행될 것이다. 선택적으로 화살표 1007로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 시작 위치(1001)에서 에징의 단계(1009)로 진행될 것이다. 이에 따라 분리의 단계(1005)를 생략한다. 또한, 화살표 1011로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 시작 위치(1001)에서 화학적 강화의 단계(1013)로 진행될 것이다. 이에 따라 분리 및 에징의 단계(1005, 1009)들을 생략한다. 또 다른 예에 있어서, 화살표 1015로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 시작 위치(1001)에서 제공의 단계(1017)로 진행될 것이다. 이에 따라 분리, 에징 및 화학적 강화의 모든 3개의 단계(1005, 1009, 1013)들을 생략한다. 다른 예들에 있어서, 화살표 1008, 1012, 1016으로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 순차적으로 분리의 단계(1005)에서, 에징의 단계(1009)로 진행하고, 화학적 강화의 단계(1013)로 진행한 다음, 제공의 단계(1017)로 진행될 것이다. 그와 같이, 분리, 에징, 및/또는 화학적 강화의 소정의 단계가 제공의 단계 전에 수행될 것이다. 화살표 1025로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 다음에 제공의 단계(1017)에서 MRF에 따라 시트 재료의 에지부를 연마하는 단계(1027)로 곧바로 진행될 수 있다.For example, as indicated by arrow 1003, the method will proceed from start position 1001 to detachment step 1005. Optionally, as indicated by arrow 1007, the method will proceed from the starting position 1001 to the step of aging 1009. Thus, step 1005 of the separation is omitted. Also, as indicated by the arrow 1011, the method will proceed from the start position 1001 to step 1013 of chemical enhancement. The steps 1005 and 1009 of separation and aging are thus omitted. In another example, as indicated by arrow 1015, the method may proceed to step 1017 of providing at the start position 1001. Thus omitting all three steps 1005, 1009 and 1013 of separation, aging and chemical strengthening. In other examples, as indicated by arrows 1008, 1012, 1016, the method sequentially proceeds to separation step 1005, to the aging step 1009, to the chemical strengthening step 1013, , The process proceeds to step 1017. As such, certain steps of separation, aging, and / or chemical strengthening will be performed prior to the step of providing. As indicated by arrow 1025, the method may proceed directly to step 1027, where the edge portion of the sheet material is polished according to the MRF in the next provided step 1017.

또한, 상기 분리의 단계(1005)는 에징 및/또는 화학적 강화의 단계(1009, 1013)들 없이 제공될 수 있다. 덧붙여, 화살표 1019로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 분리의 단계(1005)에서 화학적 강화의 단계(1013)로 진행될 것이다. 이에 따라 에징의 단계(1009)를 생략한다. 화살표 1021로 더 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 분리의 단계(1005)에서 제공의 단계(1017)로 진행될 것이다. 이에 따라 에징 및 화학적 강화의 단계(1009, 1013)들을 생략한다.Also, the separation step 1005 may be provided without the steps of aging and / or chemical strengthening 1009, 1013. In addition, as indicated by arrow 1019, the method will proceed from step 1005 of separation to step 1013 of chemical strengthening. Accordingly, step 1009 of the aging process is omitted. As further indicated by arrow 1021, the method will proceed to step 1017 of providing at step 1005 of the separation. Thus omitting the steps of aging and chemical strengthening 1009, 1013.

더욱이, 상기 에징의 단계(1009)는 화학적 강화의 단계(1013) 없이 제공될 것이다. 예컨대, 화살표 1023으로 나타낸 바와 같이, 상기 방법은 에징의 단계(1009)에서 제공의 단계(1017)로 곧바로 진행될 것이다. 이에 따라 화학적 강화의 단계(1013)를 생략한다.Furthermore, the step of aging 1009 will be provided without the step of chemical strengthening 1013. For example, as indicated by arrow 1023, the method may proceed directly to step 1017 of providing at step 1009 of the aging. Thus omitting step 1013 of chemical strengthening.

도 9에 나타낸 바와 같이, 분리, 에징 및/또는 화학적 강화의 단계(907, 911, 915)들 중 일부 또는 그 모두는 제공의 단계(903) 이후 수행될 것이다. 다른 예에 있어서, 상기 단계(907, 911, 915)들 중 일부 또는 그 모두는 제공의 단계 전에 수행될 수 있다. 예컨대, 도 10은 분리, 에징 및 화학적 강화의 모든 단계(1005, 1009, 1013)가 제공의 단계(1017) 이전에 수행된다는 것을 보여주고 있다. 비록 나타내진 않았지만, 다른 예들에 있어서, 단계(1005, 1009, 1013)들의 소정 조합이 상기 제공의 단계 전 및/또는 후에 수행될 수 있다. 예컨대, 분리, 에징 및 화학적 강화의 단계들중 하나 또는 둘의 단계가 제공의 단계 전에 수행되는 한편 나머지 단계(들)가 제공의 단계 후에 수행될 수 있다.As shown in FIG. 9, some or all of steps 907, 911, 915 of separation, aging and / or chemical enrichment will be performed after step 903 of provisioning. In another example, some or all of the steps 907, 911, 915 may be performed prior to the step of providing. For example, FIG. 10 shows that all steps 1005, 1009, and 1013 of separation, aging, and chemical enforcement are performed prior to step 1017 of providing. Although not shown, in other examples, certain combinations of steps 1005, 1009, 1013 may be performed before and / or after the step of providing. For example, one or both of the steps of separation, aging and chemical enrichment may be performed prior to the step of providing, while the remaining step (s) may be performed after the step of providing.

일예에 있어서, 유리 시트(예컨대, 유리 리본, 분리된 유리 시트 등)의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)를 연마하는 방법이 제공된다. 상기 유리 시트(141)는 제1면(405) 및 제2면(407)을 포함할 수 있다. 상기 에지부는 상기 제1면과 제2면간 유리 시트의 주변부를 따라 확장할 수 있다. 상기 방법은 본질적으로 MRF에 따라 유리 시트의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)를 연마하는 단일의 단계(919, 1027)로 이루어질 수 있다. 그와 같은 예들에 있어서, 그 전체 에지부는 단일의 MRF 단계 동안 제1면(405)과 제2면(407)간 형성될 것이다.In one example, a method of polishing edge portions 141a, 141b, 301a, and 301b of a glass sheet (e.g., glass ribbon, separated glass sheet, etc.) is provided. The glass sheet 141 may include a first side 405 and a second side 407. The edge portion may extend along the periphery of the first and second sheet glass sheets. The method may consist essentially of a single step (919, 1027) of polishing the edge portions (141a, 141b, 301a, 301b) of the glass sheet according to MRF. In such instances, the entire edge portion will be formed between the first surface 405 and the second surface 407 during a single MRF step.

또 다른 예에 있어서, 유리 시트(예컨대, 유리 리본, 분리된 유리 시트 등)의 에지부(141a, 141b, 301a, 301b)를 연마하는 방법은 본질적으로 제공의 단계(903, 1017) 및 MRF에 따라 유리 시트의 에지부를 연마하는 단계(919, 1027)로 이루어진다. 예컨대, 상기 제공의 단계(903, 1017)는 제1면(405)과 제2면(407)을 갖는 유리 시트를 제공할 수 있으며, 상기 제1면과 제2면간 유리 시트의 평균 두께는 약 50 ㎛ 내지 약 500 ㎛이다. 일 예에 있어서, 단계 919, 1027 동안, 그 전체 에지부는 단일의 자기유변 연마 단계 동안 상기 제1면과 제2면간 형성된다.In another example, the method of grinding the edges 141a, 141b, 301a, 301b of a glass sheet (e.g., glass ribbon, separate glass sheet, etc.) essentially consists of steps 903, And polishing the edges of the glass sheet (919, 1027). For example, the providing steps 903 and 1017 may provide a glass sheet having a first side 405 and a second side 407, wherein the average thickness of the first and second side- 50 탆 to about 500 탆. In one example, during steps 919, 1027, the entire edge portion is formed between the first and second surfaces during a single magnetorheological polishing step.

도 11은 유리 시트를 분리한 후에, 그러나 에지부의 MRF 전에 관찰된 제1면(405)과 제2면(407)간 약 100 ㎛의 두께 "T"를 갖는 분리된 유리 시트(141)의 에지부(1101)의 확대도를 나타낸다. 나타낸 바와 같이, 상기 에지부(1101)는 유리 시트의 크랙킹에 취약한 원하지 않는 날카로운 에지부(1103)를 포함한다. 도 12는 본 발명 개시에 의해 기술한 바와 같이 MRF 단계 6분 후 에지부(1101)의 상기 동일한 관찰된 확대도를 나타낸다. 나타낸 바와 같이, 그러한 원하지 않는 날카로운 에지부(1103)는 제거되고 제1면(405)에서 제2면(407)으로 그 전체 에지부를 따라 평탄한 형태를 갖는 평탄 표면(1201)이 남는다. 덧붙여, 나타낸 바와 같이, 그러한 평탄 표면(1201)은 비교적 작은 재료가 제거된 상기 제1면(405)에서 제2면(407)으로 확장하는 둥근 그리고 볼록한 형태를 갖는다.Figure 11 shows the edge of the separated glass sheet 141 having a thickness "T" of about 100 [mu] m after first separating the glass sheet, but between the first side 405 and the second side 407 observed before the MRF of the edge. And an enlarged view of the portion 1101. As shown, the edge 1101 includes unwanted sharp edges 1103 that are vulnerable to cracking of the glass sheet. Figure 12 shows the same observed magnified view of edge 1101 after 6 minutes of MRF step as described by the disclosure of the present invention. As shown, such undesirable sharp edge portions 1103 are removed and a flat surface 1201 with a flat shape along the entire edge portion from the first surface 405 to the second surface 407 remains. In addition, as shown, such a flat surface 1201 has a rounded and convex shape extending from the first surface 405 to the second surface 407 from which relatively small material has been removed.

도 12에 기술된 박막 유리(예컨대, 100 ㎛)의 둥근 에지 프로파일은 경량 및 휴대성을 위한 박막 유리를 포함하는 다양한 제품들의 제조를 용이하게 할 수 있다. MRF를 포함하는 연마 단계의 이용은 레이저 및 기계적 분리의 박막 유리에 대한 단일의 단계로 형성된 에지를 제공할 수 있다. 연마 단계로서 MRF의 이용은 도 11 및 12로부터 약간 다른 길이들을 비교하여 나타낸 에지들로부터의 낮은 볼륨의 제거가 합리적인 사이클 타임에 의해 달성되기 때문에 박막 유리에 대한 특유의 이점을 제공할 수 있다.The rounded edge profile of the thin film glass (e.g., 100 占 퐉) described in FIG. 12 can facilitate the manufacture of a variety of products including thin glass for light weight and portability. The use of a polishing step comprising MRF can provide an edge formed in a single step to thin glass of laser and mechanical separation. The use of MRF as a polishing step can provide a unique advantage for thin glass because the removal of low volumes from the edges shown by comparing slightly different lengths from Figures 11 and 12 is achieved by a reasonable cycle time.

통상의 기술자라면 청구된 발명의 사상 및 범주로부터 벗어나지 않고 다양한 변형 및 변경들이 이루어질 수 있다는 명확히 알 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the claimed invention.

Claims

(I) providing a sheet of material having a first side and a second side, the average thickness between the first side and the second side being between about 50 microns and about 500 microns; And
(II) polishing the edge portion of the material sheet by magnetic rub polishing.

The method according to claim 1,
Wherein step (I) provides a material sheet as a glass sheet.

The method according to claim 1,
Wherein step (I) provides an average thickness of the material sheet of from about 50 microns to about 300 microns.

The method of claim 3,
Wherein step (I) provides an average thickness of the material sheet from about 75 microns to about 200 microns.

The method of claim 4,
Wherein step (I) provides an average thickness of the sheet of material from about 75 microns to about 150 microns.

The method according to claim 1,
Wherein step (I) provides a material sheet positioned along a plane in a predetermined orientation within an angular range from about + 45 degrees to about -45 degrees with respect to a vertical axis.

The method of claim 6,
Wherein the predetermined orientation of the material sheet is maintained during step (II).

The method according to claim 1,
Wherein step (I) provides an edge portion extending along a periphery of the first and second inter-sheet material sheets.

The method according to claim 1,
Further comprising the step of strengthening the edges before step (II).

The method according to claim 1,
Further comprising separating the sheet of material to provide an edge before step (II).

The method of claim 10,
Wherein the step of separating is performed after step (I).

The method of claim 10,
Further comprising the step of strengthening the edge portion after the step of separation and prior to the step (II).

The method according to claim 1,
Further comprising the step of aging the sheet of material to provide an edge before step (II).

14. The method of claim 13,
Wherein the step of aging is performed after step < RTI ID = 0.0 > (I). &Lt; / RTI >

14. The method of claim 13,
Further comprising separating the material sheet prior to the step of aging the material sheet.

14. The method of claim 13,
Further comprising the step of strengthening the edge portion after the step of etching and prior to the step (II).

A method of polishing an edge portion of a glass sheet having a first side and a second side with edges extending along the periphery of the first and second interlayer glass sheets,
The method includes the steps of polishing the edge of the glass sheet in accordance with magnetic polish polishing such that an entire edge portion is formed between the first and second surfaces during a essentially monolithic polishing step, Sub-polishing method.

A method of polishing an edge portion of a glass sheet,
The method comprises the steps of: (I) providing a glass sheet having a first side and a second side, the average thickness between the first side and the second side being between about 50 microns and about 500 microns; And (II) polishing the edge portion of the glass sheet by magnetic polish polishing.

19. The method of claim 18,
Wherein during step (II), the entire edge portion is formed between a first side and a second side during a single magnetophoretic polishing step.

19. The method of claim 18,
Wherein step (I) provides an average thickness of the glass sheet from about 75 [mu] m to about 150 [mu] m.