KR19990043918A

KR19990043918A - Electron gun for cathode ray tube

Info

Publication number: KR19990043918A
Application number: KR1019970064965A
Authority: KR
Inventors: 남유성; 이주일
Original assignee: 김영남; 오리온전기 주식회사
Priority date: 1997-11-29
Filing date: 1997-11-29
Publication date: 1999-06-15

Abstract

본 발명은 음극선관용 전자총에 관한 것으로서, 화면 주변부의 화질을 개선할 수 있는 음극선관용 전자총을 제공함에 있다.The present invention relates to an electron gun for cathode ray tube, and to provide an electron gun for cathode ray tube that can improve the image quality of the periphery of the screen.

상기한 목적을 실현하기 위하여 본 발명은 캐소드(50)와 동심축이 되도록 전극에 어퍼쳐(51)가 형성된 음극선관용 전자총에 있어서, 상기한 어퍼쳐(51)에 형성되는 등전위면(E)에 대해 전자짐의 수직 방향으로 폭이 좁고 길게 보조 등전위면(E')이 형성되어 빔 스폿(S')이 타원형이 되도록 구성된 빔 억제 수단을 포함함을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a cathode ray tube electron gun in which an aperture 51 is formed on an electrode so as to be concentric with the cathode 50, the equipotential surface E formed on the aperture 51. It characterized in that it comprises a beam suppressing means configured such that the auxiliary equipotential surface E 'is narrow and long in the vertical direction of the electron load so that the beam spot S' becomes elliptical.

Description

Electron gun for cathode ray tube

본 발명은 음극선관용 전자총에 관한 것이다.The present invention relates to an electron gun for a cathode ray tube.

일반적으로 음극선관에 사용되는 전자총은 다수의 전극으로 열전자를 가속 및 집속시킴과 아울러 R, G, B 형광체가 순차 배열된 형광면에 전자짐을 충돌시켜 화상을 재생하도록 하는 장치이다.In general, an electron gun used in a cathode ray tube is a device that accelerates and focuses hot electrons with a plurality of electrodes, and imparts an electron beam on a fluorescent surface in which R, G, and B phosphors are sequentially arranged to reproduce an image.

상기한 전자총은 제5도에 도시된 바와 같이 열전자를 방출하는 R, G, B 캐소드(50)와, 상기한 캐소드(50)의 전면에 일정 간격 이격된 상태로 위치됨과 아울러 각 캐소드(50)와 동심축상으로 어퍼쳐(51)가 형성되어 열전자를 집속 및 가속시키는 1,2,3,4전극(52,53,54,55)과, 상기한 제1, 2, 3, 4전극(52, 53, 54, 55)의 전면에 위치된 시일드 컵(56)으로 구성되어 있다.As shown in FIG. 5, the electron guns are positioned at R, G, and B cathodes 50 emitting hot electrons, and spaced apart from each other in front of the cathode 50, and at each cathode 50. Aperture 51 is formed concentrically with the first, second, third and fourth electrodes 52, 53, 54, and 55 for focusing and accelerating hot electrons, and the first, second, third and fourth electrodes 52 described above. , 53, 54, 55, the shield cup 56 is located in front of the.

특히, 상기한 제1, 2, 3, 4전극(52, 53, 54, 55)의 사이에는 정전 렌즈가 형성되어 열전자를 집속 및 가속시키게 되는 바, 제1,2전극(52,53)의 사이에는 프리포커스 렌즈(P)가 형성되고, 제3,4렌즈(54,55)의 사이에는 메인 포커스 렌즈(M)가 형성된다.In particular, an electrostatic lens is formed between the first, second, third, and fourth electrodes 52, 53, 54, and 55 to focus and accelerate hot electrons. The prefocus lens P is formed therebetween, and the main focus lens M is formed between the third and fourth lenses 54 and 55.

상기한 전자총에서의 열전자 집속 상태를 설명하면 캐소드(50)에 전류가 인가되면 열전자가 방출되는 바, 이는 제1,2전극(52,53)사이에 형성된 프리 포커스렌즈(P)에 의해 예비 접속된다.Referring to the hot electron focusing state of the electron gun, hot electrons are emitted when a current is applied to the cathode 50, which is preliminarily connected by the prefocus lens P formed between the first and second electrodes 52 and 53. do.

프리 포커스 렌지(P)에 의해 예비 집속된 전자빔은 메인 포커스 렌즈(M)로 입사되고, 이는 일정 각도로 굴절됨과 아울러 편향 요오크(미 도시)에 의해 편향되면서 패널 전체를 순차 주사하게 되는 것이다.The electron beam pre-focused by the pre-focus range P is incident on the main focus lens M, which is refracted at an angle and deflected by deflection yoke (not shown) to sequentially scan the entire panel.

여기서, 상기한 메인 포커스 렌즈(M)에 의해 전자빔이 집속될 때 구면 수차등에 의해 정확한 컨버젼스가 이루어지지 않기 때문에 대구경 어퍼쳐 사용등에 의해 화면 중앙부에서의 컨버젼스를 보정하게 된다.In this case, when the electron beam is focused by the main focus lens M, the convergence at the center portion of the screen is corrected by using a large-diameter aperture because the convergence is not performed by spherical aberration or the like.

물론, 화면 중앙부에서의 컨버젼스가 정확하게 이루어져도 메인 포커스 렌즈(M)와 화면 중앙부 그리고 주변부와의 거리가 상이하기 때문에 화면 주변부에서는 제6도에 도시된 바와 같이 형광체(PH)의 주변으로 빔이 퍼지는 할로(HALO) 현상이 발생되는 바, 빔 스폿(S)을 보정하기 위하여 다이나믹 포커스 전자총등이 사용된다.Of course, the distance between the main focus lens M, the center of the screen, and the periphery is different even if convergence is accurately performed at the center of the screen, so that the beam spreads around the phosphor PH at the periphery of the screen, as shown in FIG. Since a halo phenomenon occurs, a dynamic focus electron gun or the like is used to correct the beam spot S.

그러나 상기한 바와 같이 화면 주변부의 화질 개선을 위해 다이나믹 포커스 전자총등을 사용하여 할로를 제거하여도 화면 주변부에서 빔 스폿이 횡장화되기 때문에 화면 주변부의 화질이 저하되는 문제점이 있다.However, as described above, even if the halo is removed by using a dynamic focus electron gun or the like to improve the image quality of the periphery of the screen, there is a problem in that the image quality of the periphery of the screen is degraded because the beam spot is horizontally enlarged.

따라서 본 발명의 목적은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 화면 주변부의 화질을 개선할 수 있는 음극선관용 전자총을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an electron gun for a cathode ray tube that can improve the image quality of the periphery of the screen.

제1도는 본 발명에 따른 음극선관용 전자총에서 어퍼쳐 형상을 도시한 전극 사시도,1 is an electrode perspective view showing the aperture shape in the electron gun for cathode ray tube according to the present invention,

제2도는 본 발명에 따른 어퍼쳐에서 빔 스폿 형성 상태를 도시한 개략도,2 is a schematic view showing a beam spot formation state in an aperture according to the present invention;

제3도는 제2도에서 어퍼쳐의 등전위면 형성 상태를 도시한 측면 개략도,3 is a side schematic view showing an equipotential surface formation state of the aperture in FIG.

제4도는 본 발명에 따른 컨버젼스 상태를 도시한 개략도,4 is a schematic diagram illustrating a convergence state according to the present invention;

제5도는 일반적인 음극선관용 전자총에서 빔 형성 상태를 도시한 단면도,5 is a cross-sectional view showing a beam forming state in a typical electron beam gun electron tube,

제6도는 제5도에 따른 컨버젼스 상태를 도시한 개략도.6 is a schematic diagram illustrating a convergence state according to FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1:보조 어퍼쳐 2 : 오목부1: secondary aperture 2: recess

E,E',E'' : 등전위면 51 : 어퍼쳐E, E ', E' ': Equipotential surface 51: Aperture

상기한 목적을 실현하기 위하여 본 발명은 캐소드와 동심축이 되도록 전극에 어퍼쳐가 형성된 음극선관용 전자총에 있어서, 상기한 어퍼쳐에 형성되는 등전위면에 대해 전자빔의 수직 방향으로 폭이 좁고 길게 보조 등전위면이 형성되어 빔 스폿이 타원형이 되도록 구성된 빔 억제 수단을 포함함을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a cathode ray tube electron gun in which an aperture is formed on an electrode so as to be coaxial with a cathode, the auxiliary equipotential being narrow and long in the vertical direction of the electron beam with respect to the equipotential surface formed at the aperture. And a beam suppressing means configured to form a face such that the beam spot is elliptical.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

제1도와 제2도와 제3도는 본 발명에 따른 음극선관용 전자총에서 어퍼쳐 형상을 도시한 전극 사시도와 빔 형성 상태를 도시한 개략도와 등전위면이 형성되는 개략도로서, 전극의 어퍼쳐(51)에 형성되는 등전위면(E)에 대해 전자빔의 수직 방향으로 폭이 좁고 길게 보조 등전위면(E')이 형성되어 전자빔의 화면 주변부 편향 시 빔 스폿(S')이 타원형이 되도록 구성된 빔 억제 수단이 형성되어 있다. 즉, 어퍼쳐(51)를 통과하는 전자빔의 수평 부분을 억제 수단으로 감소시켜 빔 스폿(S')의 수평 부분과 형광체(PH)의 수평 부분이 일치되도록 함으로써 화면 주변부에서의 컨버젼스를 햐상시키게 되는 것이다.1 and 2 and 3 are schematic views showing an electrode perspective view showing an aperture shape and a beam forming state and an isopotential surface formed in an electron gun for a cathode ray tube according to the present invention. The auxiliary equipotential surface E 'is formed to be narrow and long in the vertical direction of the electron beam with respect to the formed equipotential surface E, so that beam suppressing means configured to form an elliptical beam spot S' when the electron beam is deflected around the screen is formed. It is. That is, the horizontal portion of the electron beam passing through the aperture 51 is reduced by the suppressing means so that the horizontal portion of the beam spot S 'and the horizontal portion of the phosphor PH coincide with each other to improve the convergence at the periphery of the screen. will be.

상기한 빔 억제 수단은 어퍼쳐(51)에서 연장됨과 아울러 어퍼쳐(51)의 직경에 비해 좁게 형성되고, 어퍼쳐(51)와 동심축이 되도록 대칭 형성된 보조 어퍼쳐(1)로 구성되어 있다.The beam suppressing means is formed of an auxiliary aperture 1 which extends from the aperture 51 and is narrower than the diameter of the aperture 51 and symmetrically formed to be concentric with the aperture 51. .

특히, 상기한 보조 어퍼쳐(1)와 어퍼쳐(51)의 연결 부분에는 직각 형상의 오목부(2)가 형성되어 있는 바, 이 부분에서 등전위면(E'')이 별도 형성됨으로써 빔 스폿(S')이 보다 길게 형성된다. 상기한 바와 같은 본 발명의 작용 효과를 설명하면 음극선관이 동작됨에 따라 캐소드(50)로부터 열전자가 방출되고 이는 프리 포커스 렌즈(P)에 의해 일정한 상태로 집속된다.In particular, a concave portion 2 having a right-angle shape is formed in the connection portion of the auxiliary aperture 1 and the aperture 51. In this portion, the equipotential surface E ″ is formed separately so that the beam spot is formed. (S ') is formed longer. Referring to the operation and effect of the present invention as described above, as the cathode ray tube is operated, hot electrons are emitted from the cathode 50, which is focused in a constant state by the prefocus lens P. FIG.

프리 포커스 렌즈(P)에 의해 집속된 열전자는 빔현상이 되면서 메인 포커스 렌즈(M)에 입사된다.The hot electrons focused by the prefocus lens P are incident to the main focus lens M while becoming a beam phenomenon.

이때, 상기한 메인 포커스 렌즈(M)의 보조 어퍼쳐(1)에 의해 전자빔의 스폿(S') 형상이 긴 타원형상이 되는 바, 특히 오목부(2)에 형성되는 등전위면(E'')에 의해 보다 긴 타원 형상을 취하게 되는 것이다.At this time, the shape of the spot S 'of the electron beam becomes a long elliptical shape by the auxiliary aperture 1 of the main focus lens M, in particular, the equipotential surface E ″ formed in the recess 2. By taking a longer ellipse shape.

메인 포커스 렌즈(M)를 통과한 전자빔은 형광체(PH)가 도포되어 있는 패널에 투사되고, 상기한 투사 시 화면 주변부에서는 도4에 도시된 바와 같이 형광체(PH)의 수평 부분은 동일하고 수직 부분은 보다 길게 형성되는 것이다.The electron beam passing through the main focus lens M is projected onto the panel to which the phosphor PH is applied, and in the above-mentioned projection, the horizontal part of the phosphor PH is the same and vertical part as shown in FIG. Is formed longer.

즉, 전자빔의 메인 포커스 렌즈(M)입사 시 보조 어퍼쳐(1)와 오목부(2)에 의해 형성되는 등전위면(E',E'')에 의해 전자빔의 수직 방향 성분이 길게 형성됨으로써 화면 주변부 편향에 의한 컨버젼스 시 형광체(PH)의 수평 부분과는 일치하고 수직 부분이 보다 길어진 형상이 되는 것이다.That is, the vertical component of the electron beam is formed long by the equipotential surfaces E 'and E' 'formed by the auxiliary aperture 1 and the concave portion 2 when the main focus lens M of the electron beam enters. The convergence due to the peripheral deflection coincides with the horizontal portion of the phosphor PH and the vertical portion becomes longer.

물론, 상기한 보조 어퍼쳐(1)의 크기 및 오목부(2)의 깊이등은 음극선관의 종류에 따라 각각 적절하게 설정하게 된다.Of course, the size of the auxiliary aperture 1, the depth of the recess 2, and the like are appropriately set according to the type of the cathode ray tube.

이상과 같이 본 발명은 전극의 어퍼쳐와 연통된 상태로 전자빔의 수직 방향성분을 보다 길게 하고, 수평방향 성분을 좁게하도록 보조 어퍼쳐를 형성함으로써 화면 주변부의 화질 열화를 방지할 수 있는 잇점이 있는 것이다.As described above, the present invention has an advantage of preventing the deterioration of the image quality of the periphery of the screen by forming an auxiliary aperture to make the vertical component of the electron beam longer and to make the horizontal component narrower in communication with the aperture of the electrode. will be.

Claims

A cathode ray tube electron gun having an aperture formed at an electrode so as to be coaxial with a cathode, wherein an auxiliary equipotential surface is formed to be narrow and long in the vertical direction of the electron beam with respect to the equipotential surface formed at the aperture, so that the beam spot is elliptical. Electron gun for cathode ray tube, characterized in that it comprises a beam suppressing means.

The electron beam gun for cathode ray tube according to claim 1, wherein the beam suppressing means extends from the aperture and is narrower than the diameter of the aperture, and is composed of an auxiliary aperture symmetrically formed so as to be concentric with the aperture. .

The electron gun for a cathode ray tube according to claim 2, further comprising a concave portion formed at a connection shape of the auxiliary aperture and the aperture at a right angle to form a separate equipotential surface.