KR102714296B1 - Biaxially oriented polyester film - Google Patents

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Abstract

전자파 실드 필름 등의 전사 필름을 FPC 나 모듈 등의 부재에 전사할 때, 양호한 광택 제거 외관을 표면에 부여할 수 있음과 동시에, 전사 후의 지지 필름 박리성이 우수한 지지 필름용으로서 바람직한 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 제공한다. 즉, 기재층과 입자 함유의 광택 제거층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름으로서, 광택 제거층 표면의 중심선 평균 조도가 400 ∼ 1000 ㎚, 10 점 평균 조도가 4000 ∼ 8000 ㎚ 이고, 그 표면에 있어서의 광택도 (G60) 가 6 ∼ 20, 또한 표면의 돌기의 보이드 파열률이 20 % 이하인 2 축 배향 폴리에스테르 필름에 의해 달성된다.The present invention provides a biaxially oriented polyester film which is suitable as a support film, which can impart a good gloss-removing appearance to the surface when transferring a transfer film such as an electromagnetic shielding film to a member such as an FPC or a module, and which has excellent peelability of the support film after transfer. That is, the present invention is achieved by a biaxially oriented polyester film, which is a laminated polyester film having a substrate layer and a particle-containing gloss-removing layer, wherein the centerline average roughness of the surface of the gloss-removing layer is 400 to 1000 nm, the 10-point average roughness is 4000 to 8000 nm, and the gloss ( G60 ) on the surface is 6 to 20, and further, the void rupture rate of protrusions on the surface is 20% or less.

Description

2 축 배향 폴리에스테르 필름{BIAXIALLY ORIENTED POLYESTER FILM}BIAXIALLY ORIENTED POLYESTER FILM

본 발명은, 전자파 실드 필름을 플렉시블 프린트 서킷이나 모듈 등에 전사할 때에 사용되는 지지 필름으로서, 특히 바람직한 2 축 배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 이러한 전사와 동시에 지지 필름 표면의 요철 형상도 전사하여, 전자파 실드 필름 표면에 비광택면을 부여하기에 바람직한 광택 제거 2 축 배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a biaxially oriented polyester film, which is particularly preferable as a support film used when transferring an electromagnetic shielding film to a flexible printed circuit or module, and more specifically, to a matte-free biaxially oriented polyester film which is preferable for transferring the uneven shape of the surface of the support film simultaneously with the transfer, thereby providing a non-glossy surface to the surface of the electromagnetic shielding film.

종래, PC 와 같은 사무 기기, 휴대 전화와 같은 통신 기기 및 의료 기기를 포함하는 전자 기기나, 그것을 내장하는 각종 기기에 있어서, 근방계로부터 발생하는 전자파를 흡수하여, 오동작 ; 접점의 오접촉 ; 노이즈 등의 장해를 억제하기 위해 전자파 실드 필름으로 피복하는 것이 알려져 있으며, 최근, 지지 필름 상에 전자파 실드 필름을 형성하고 (예를 들어, 보호층, 전자파 실드층이 이 순서로 적층된 전자파 실드 필름), 이것을 각종 기기 표면에 고온 압착시켜 전자파 실드 필름을 전사하는 것이 실시되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1, 2).Conventionally, it has been known to cover electronic devices including office equipment such as PCs, communication devices such as mobile phones, and medical devices, and various devices incorporating such devices with an electromagnetic shielding film in order to absorb electromagnetic waves generated from a nearby area and suppress interference such as malfunctions, incorrect contacts at contact points, and noise. Recently, a method has been practiced in which an electromagnetic shielding film is formed on a support film (for example, an electromagnetic shielding film in which a protective layer and an electromagnetic shielding layer are laminated in this order), and this is pressed at high temperature onto the surface of various devices to transfer the electromagnetic shielding film (for example, Patent Documents 1 and 2).

또, 종래의 전사형의 전자파 실드 필름은, 클리어한 성품 (成品) 외관을 얻기 위해 평탄한 지지 필름이 사용되고 있었지만, 최근, 광택 제거 외관을 갖는 성품의 표면 외관에 대해서도 전사법을 사용하여 부여하는 시도가 이루어지고 있다. 그것에 수반하여, 광택 제거층을 구비한, 광택 제거 외관 전사성이 우수한 지지 필름이 요구되게 되었다.In addition, in the case of conventional transfer-type electromagnetic shielding films, a flat support film was used to obtain a clear product appearance, but recently, attempts have been made to use a transfer method to provide a surface appearance of a product with a matte-free appearance. Accordingly, a support film with excellent matte-free appearance transferability and a matte-free layer has been demanded.

한편, 광택 제거층을 구비한 필름에 대해, 특허문헌 3 에는, 성형성, 두께 편차, 내열성이 우수한 성형용 광택 제거 적층 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 그러나, 전자파 실드 필름 전사용 등의 지지 필름으로서의 검토는 이루어지지 않았고, 따라서 통상적인 성형 가공용으로는 충분하더라도, 전사용의 지지 필름으로는 불충분하다.Meanwhile, regarding a film having a gloss removal layer, Patent Document 3 discloses a gloss removal laminated polyester film for molding which has excellent moldability, thickness variation, and heat resistance. However, it has not been examined as a support film for use in transferring electromagnetic shielding films, etc., and therefore, although it is sufficient for general molding processing, it is insufficient as a support film for transfer.

또, 특허문헌 4 에는, 양호한 광택 제거성과 투명성을 갖는 2 축 연신 공압출 광택 제거 폴리에스테르 필름이 개시되어 있고, 적층 필름의 편면에 입경이 2 ∼ 5 ㎛ 인 입자를 1 ∼ 10 중량% 첨가하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 구체적으로 예시되어 있는 필름 광택도 (G60) 는 50 ∼ 70 정도이고, 또, 전사 가공용의 지지 필름으로서 사용하는 검토는 이루어지지 않았다.In addition, Patent Document 4 discloses a two-axis oriented coextruded matte polyester film having good matte removal properties and transparency, and discloses adding 1 to 10 wt% of particles having a particle size of 2 to 5 ㎛ to one side of a laminated film. However, the gloss (G 60 ) of the film specifically exemplified is about 50 to 70, and further, no examination has been conducted on its use as a support film for transfer processing.

일본 공개특허공보 2004-95566호Japanese Patent Publication No. 2004-95566 일본 공개특허공보 2009-38278호Japanese Patent Publication No. 2009-38278 일본 공개특허공보 평4-110147호Japanese Patent Publication No. 4-110147 일본 공개특허공보 2002-200723호Japanese Patent Publication No. 2002-200723

최근, 전자파 실드 필름을 플렉시블 프린트 서킷 (FPC) 이나 모듈에 전사할 때에 생산 효율을 높이기 위해, 보다 고온 고속으로의 전사 가공 처리가 이루어지게 되었다. 그러나, 이와 같은 전사 조건에 있어서는, 상기 서술한 바와 같은 종래의 지지 필름에서는, 필름 광택도를 낮추면, 박리할 때에 지지 필름이 파단되는 바와 같은 박리성의 문제가 발생하기 쉽다. 또한, 지지 필름의 시인성 향상을 위해 하얗게 착색을 실시하면, 기재 필름이 보다 파단되기 쉬워진다.Recently, in order to increase production efficiency when transferring electromagnetic shielding films to flexible printed circuits (FPCs) or modules, transfer processing at higher temperatures and higher speeds has been performed. However, under such transfer conditions, in the case of the conventional support film described above, if the film gloss is lowered, the problem of peelability in which the support film breaks during peeling easily occurs. In addition, if the support film is colored white to improve visibility, the base film becomes more prone to breakage.

본 발명은, 상기를 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은, 전자파 실드 필름을 FPC 나 모듈 등의 부재에 전사할 때, 종래보다 더욱 양호한 광택 제거 외관을 표면에 부여할 수 있음과 동시에, 전사 후에 지지 필름을 박리해도 파단 등의 문제가 잘 발생하지 않는 전자파 실드 필름 전사용의 지지 필름으로서 특히 바람직한 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다. 또한, 바람직하게는 시인성이 양호한 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in consideration of the above, and its purpose is to provide a biaxially oriented polyester film which is particularly preferable as a support film for transferring an electromagnetic shielding film, which can impart a more excellent gloss-removing appearance to the surface than conventionally possible when transferring an electromagnetic shielding film to a member such as an FPC or a module, and which is less likely to cause problems such as breakage even when the support film is peeled off after transfer. Furthermore, it is preferable to provide a biaxially oriented polyester film which has good visibility.

본 발명자들은, 이러한 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 전사법에 의해 광택 제거 외관성을 전자파 실드 필름에 부여하는 경우, 종래보다 더욱 매트한 광택 제거 외관을 부여하기 위해 지지 필름 중의 입자경을 크게 하거나 입자 함유량을 증가시키거나 하면, 전사 후의 지지 필름 박리성에 문제가 발생하는 것, 그리고 이 문제는, 광택 제거층에 사용한 입자의 필름 광택 제거층 표면으로의 노출을 억제함으로써 개선할 수 있음을 알아내었고, 더욱 검토를 거듭한 결과 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors, as a result of careful examination to solve the above problems, have found that when imparting a matte appearance to an electromagnetic shielding film by a transfer method, if the particle size in the support film is increased or the particle content is increased in order to impart a more matte matte appearance than before, a problem occurs in the peelability of the support film after the transfer, and that this problem can be improved by suppressing the exposure of the particles used in the matte layer to the surface of the film matte layer, and as a result of further examination, have completed the present invention.

이렇게 하여 본 발명에 의하면,Thus, according to the present invention,

「1. 기재층과 적어도 일방의 표면에 입자 함유의 광택 제거층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름으로서, 그 광택 제거층 표면의 중심선 평균 조도 (Ra) 가 400 ∼ 1000 ㎚, 10 점 평균 조도 (Rz) 가 4000 ∼ 8000 ㎚ 이고, 그 표면에 있어서의 광택도 (G60) 가 6 ∼ 20 이고, 또한 표면의 돌기의 보이드 파열률이 20 % 이하인 것을 특징으로 하는 2 축 배향 폴리에스테르 필름."1. A biaxially oriented polyester film having a base layer and a particle-containing gloss removal layer on at least one surface, wherein the centerline average roughness (Ra) of the surface of the gloss removal layer is 400 to 1000 nm, the 10-point average roughness (Rz) is 4000 to 8000 nm, the gloss ( G60 ) of the surface is 6 to 20, and the void rupture rate of protrusions on the surface is 20% or less.

2. 기재층의 색상 L 값이 60 ∼ 80 인 상기 1 에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.2. A biaxially oriented polyester film as described in 1 above, wherein the color L value of the substrate layer is 60 to 80.

3. 그 광택 제거층 표면의 겉보기의 표면 에너지가 60 dyn/㎝ 이하인 상기 1 또는 2 에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.3. A biaxially oriented polyester film as described in 1 or 2 above, wherein the apparent surface energy of the gloss removal layer surface is 60 dyn/cm or less.

4. 광택 제거층을 구성하는 폴리에스테르가, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주된 성분으로 하고, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 폴리(시클로헥실렌디메틸렌)테레프탈레이트의 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하여 이루어지는 상기 1 ∼ 3 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.4. A biaxially oriented polyester film according to any one of the above 1 to 3, wherein the polyester constituting the gloss removal layer contains polyethylene terephthalate as a main component and at least one selected from the group consisting of polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and poly(cyclohexylenedimethylene) terephthalate.

5. 광택 제거층 중의 입자의 평균 입자경이 2.5 ∼ 5.5 ㎛, 함유량이 5 ∼ 18 질량% 인 상기 1 ∼ 4 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.5. A biaxially oriented polyester film according to any one of 1 to 4 above, wherein the average particle size of the particles in the gloss removal layer is 2.5 to 5.5 ㎛ and the content is 5 to 18 mass%.

6. 광택 제거층 중의 입자가, 부정형 실리카 또는 합성 제올라이트인 상기 1 ∼ 5 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.6. A biaxially oriented polyester film according to any one of the above 1 to 5, wherein the particles in the gloss removal layer are amorphous silica or synthetic zeolite.

7. 기재층을 구성하는 폴리에스테르의 주된 성분이 폴리에틸렌테레프탈레이트인 상기 1 ∼ 6 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.7. A biaxially oriented polyester film according to any one of the above 1 to 6, wherein the main component of the polyester constituting the substrate layer is polyethylene terephthalate.

8. 기재층을 구성하는 폴리에스테르의 고유 점도가 0.56 ∼ 0.70 ㎗/g 인 상기 7 에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.8. A biaxially oriented polyester film as described in 7 above, wherein the intrinsic viscosity of the polyester constituting the substrate layer is 0.56 to 0.70 ㎗/g.

9. 기재층의 입자 함유량이, 기재층 질량을 기준으로 하여 3.0 질량% 이하인 상기 1 ∼ 8 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.9. A biaxially oriented polyester film according to any one of 1 to 8 above, wherein the particle content of the substrate layer is 3.0 mass% or less based on the mass of the substrate layer.

10. 전자파 실드 필름 전사용의 지지 필름으로서 사용되는 상기 1 ∼ 9 중 어느 하나에 기재된 2 축 배향 폴리에스테르 필름.」10. A biaxially oriented polyester film according to any one of the above 1 to 9, which is used as a support film for transferring an electromagnetic shielding film.

이 제공된다. This is provided.

본 발명에 의하면, 광택 제거층 표면에 형성된 전자파 실드 필름 등의 전사 필름을 FPC 나 모듈 등의 부재에 전사할 때, 양호한 광택 제거 외관을 부재 표면에 부여할 수 있음과 동시에, 전사 후에 지지 필름을 박리할 때에 파단 등의 박리성 저하가 잘 발생하지 않는 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다. 또한, 바람직하게는 시인성이 양호한 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다. According to the present invention, when a transfer film such as an electromagnetic shielding film formed on the surface of a gloss removal layer is transferred to a member such as an FPC or a module, a biaxially oriented polyester film can be provided which imparts a good gloss removal appearance to the surface of the member, and which is less likely to suffer from a decrease in peelability such as breakage when the support film is peeled off after the transfer. In addition, a biaxially oriented polyester film which preferably has good visibility can be provided.

이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<2 축 배향 폴리에스테르 필름><2-axis oriented polyester film>

본 발명의 2 축 배향 폴리에스테르는, 기재층과, 적어도 일방의 표면에 입자 함유의 광택 제거층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름이다. 광택 제거층과 기재층을 가짐으로써, 후술하는 표면 조도 및 광택도를 안정적인 제막성하에 얻을 수 있다. 기재층이 없고, 입자 함유의 단층만으로는, 표면 조도 및 광택도와 안정적인 제막성을 동시에 만족시키는 것이 어려워진다.The biaxially oriented polyester of the present invention is a laminated polyester film having a substrate layer and a particle-containing gloss removal layer on at least one surface. By having the gloss removal layer and the substrate layer, the surface roughness and gloss described later can be obtained under stable film forming properties. If there is no substrate layer and only a particle-containing single layer is used, it becomes difficult to simultaneously satisfy surface roughness and gloss and stable film forming properties.

(광택 제거층)(gloss removal layer)

적층 폴리에스테르 필름의 적어도 일방의 표면을 차지하는 광택 제거층은, 표면에 요철을 형성하기 위한 입자 (요철 형성성 입자) 를 함유하는 폴리에스테르로 이루어지는데, 후술하는 표면 돌기의 보이드 파열률을 20 % 이하로 한다는 점에서, 입자 함유의 폴리에스테르의 연신성이 양호한 공중합 폴리에스테르나 복수의 폴리에스테르를 용융 혼합한 폴리에스테르 조성물이 바람직하고, 특히 후술하는 기재층에 사용되는 폴리에스테르와 주된 성분이 동일한 것이 바람직하다. 즉, 예를 들어 기재층의 폴리에스테르의 주된 성분이 에틸렌테레프탈레이트인 경우에는, 광택 제거층의 폴리에스테르는, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 공중합 폴리에스테르, 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주성분으로 하는 폴리에스테르 조성물이 바람직하다. 그 중에서도, 폴리에스테르 조성물의 종 (從) 성분으로는, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리테트라메틸렌테레프탈레이트, 폴리(시클로헥실렌디메틸렌)테레프탈레이트의 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다.The gloss removing layer occupying at least one surface of the laminated polyester film is made of polyester containing particles for forming unevenness on the surface (unevenness-forming particles). In terms of a void rupture rate of the surface protrusions described later being 20% or less, a copolymerized polyester having good stretchability of the particle-containing polyester or a polyester composition obtained by melt-blending a plurality of polyesters is preferable, and in particular, it is preferable that the polyester used in the substrate layer described later has the same main component as that of the polyester. That is, for example, when the main component of the polyester of the substrate layer is ethylene terephthalate, the polyester of the gloss removing layer is preferably a polyethylene terephthalate-based copolymerized polyester or a polyester composition containing polyethylene terephthalate as the main component. Among these, as a secondary component of the polyester composition, it is preferable that at least one member be selected from the group consisting of polytrimethylene terephthalate, polytetramethylene terephthalate, and poly(cyclohexylenedimethylene) terephthalate.

또, 광택 제거층 중의 입자의 평균 입경은 2.5 ∼ 5.5 ㎛ 가 바람직하고, 그 함유량은, 광택 제거층의 질량을 기준으로 하여 5 ∼ 18 질량% 가 바람직하다. 또한, 광택 제거층에 함유하는 입자의 최대 입자경을 16 ㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 양태로 함으로써, 충분한 광택 제거 외관을 얻으면서, 전사 공정에서의 박리성을 우수한 것으로 하기 쉬워진다.In addition, the average particle size of the particles in the gloss removal layer is preferably 2.5 to 5.5 ㎛, and the content thereof is preferably 5 to 18 mass% based on the mass of the gloss removal layer. In addition, it is preferable that the maximum particle size of the particles contained in the gloss removal layer be 16 ㎛ or less. By adopting such an aspect, it becomes easy to obtain a sufficient gloss removal appearance while also making it excellent in peelability in the transfer process.

광택 제거층 중의 입자 함유량이 하한값에 미치지 못하는 경우에는, 상기 서술한 광택도를 얻기 어려워지는 경향이 있고, 한편, 상한값을 초과하는 경우에는, 전사 공정에서의 고온 압착 후의 박리성 개선 효과가 낮아지는 경향이 있을 뿐만 아니라, 제막성이 저하되어 찢어짐이 발생하기 쉬워지는 등, 필름의 제막 자체가 곤란해지는 경향이 있다. 이러한 관점에서, 입자의 함유량은, 바람직하게는 7 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이상이며, 또, 바람직하게는 16 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 14 질량% 이하이다.When the particle content in the gloss removal layer is below the lower limit, it tends to be difficult to obtain the gloss described above, and on the other hand, when it exceeds the upper limit, not only does the effect of improving peelability after high-temperature pressing in the transfer process tend to be low, but also the film forming property deteriorates and tearing easily occurs, so that the film forming itself tends to become difficult. From this viewpoint, the particle content is preferably 7 mass% or more, more preferably 10 mass% or more, and further preferably 16 mass% or less, and further preferably 14 mass% or less.

입자의 평균 입경은, 더욱 바람직하게는 3.0 ∼ 5.5 ㎛, 보다 바람직하게는 3.0 ∼ 5.3 ㎛ 이다. 입자의 평균 입경이 하한에 미치지 못하는 경우에는, 광택도를 낮추는 효과가 저하되어, 광택도를 낮추기 위해 더욱 입자의 첨가량을 증가시키게 되고, 전사 공정에서의 박리성 개선 효과가 낮아지는 경향이 있다. 한편, 입자의 평균 입경이 상한값을 초과하는 경우에는, 박리성 개선 효과가 낮아지는 경향이 있을 뿐만 아니라, 필름의 제막성도 떨어지는 경향이 있다.The average particle size of the particles is more preferably 3.0 to 5.5 ㎛, and even more preferably 3.0 to 5.3 ㎛. When the average particle size of the particles is less than the lower limit, the effect of lowering the gloss is reduced, so that the amount of particles added is further increased to lower the gloss, and the effect of improving peelability in the transfer process tends to be reduced. On the other hand, when the average particle size of the particles exceeds the upper limit, not only the effect of improving peelability tends to be reduced, but also the film forming property tends to be reduced.

또, 입자의 최대 입자경은, 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 12 ㎛ 이하이다. 또한, 여기서 말하는 최대 입자경은, 누적 입경 분포 곡선의 98 % 에 있어서의 입경 (d98) 이다.In addition, the maximum particle diameter of the particles is preferably 15 ㎛ or less, more preferably 12 ㎛ or less. In addition, the maximum particle diameter referred to here is the particle diameter at 98% of the cumulative particle diameter distribution curve (d 98 ).

광택 제거층에 사용되는 입자는, TG-DTA 법에 의한 300 ℃ 에서의 중량 변화가 3.0 % 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 1.5 ∼ 3.0 % 인 것이 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 입자의 중량 변화는, 구체적으로는 TG-DTA 장치에 의해 30 ℃ 에서 500 ℃ 까지 승온 속도 10 ℃/분으로 승온시켰을 때의 300 ℃ 에 있어서의 중량 변화를 측정한 것이다. 그 중량 변화가 상한값을 초과하면, 폴리에스테르 필름의 제조 공정이나 전자파 실드 필름 전사 공정에서 발포를 일으키거나, 분자량을 저하시켜 필름의 제막성이나 내열성을 저하시키는 경우가 있고, 특히 입자를 다량으로 함유시킨 경우에 필름의 제막성이나 내열성을 현저하게 저하시키는 경우가 있다.The particles used in the gloss removal layer preferably have a weight change of 3.0% or less at 300°C as measured by the TG-DTA method, and more preferably 1.5 to 3.0%. In addition, the weight change of the particles referred to here is specifically the weight change at 300°C measured when the temperature is increased from 30°C to 500°C at a heating rate of 10°C/min using a TG-DTA device. If the weight change exceeds the upper limit, foaming may occur in the polyester film manufacturing process or the electromagnetic shielding film transfer process, or the molecular weight may be reduced, thereby lowering the film-forming properties or heat resistance of the film. In particular, when the particles are contained in a large amount, the film-forming properties or heat resistance of the film may be significantly reduced.

입자의 종류로는, 무기 입자, 유기 입자 중 어느 것이어도 되며, 부정형 실리카 (콜로이드 실리카), 실리카, 탤크, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산바륨, 인산리튬, 인산칼슘, 인산마그네슘, 알루미나, 카본 블랙, 이산화티탄, 카올린, 합성 제올라이트, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 아크릴레이트 입자 등이 예시된다. 이들 입자 중에서, 부정형 실리카 또는 합성 제올라이트가 바람직하고, 이것들은 어느 1 종을 사용해도 되고 병용해도 된다. 또 동일한 종류이고 입경이 상이한 입자의 혼합물을 사용해도 된다. 또, 부정형 실리카의 경우에는, 실란 커플링제로 표면 처리하여, 수분 흡착성을 저하시킨 것이 보다 바람직하다.The type of particles may be either inorganic or organic, and examples thereof include amorphous silica (colloidal silica), silica, talc, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, lithium phosphate, calcium phosphate, magnesium phosphate, alumina, carbon black, titanium dioxide, kaolin, synthetic zeolite, cross-linked polystyrene particles, and cross-linked acrylate particles. Among these particles, amorphous silica or synthetic zeolite is preferable, and either one of these may be used alone or in combination. Also, a mixture of particles of the same type but having different particle sizes may be used. In addition, in the case of amorphous silica, it is more preferable that the surface is treated with a silane coupling agent to reduce moisture adsorption.

특히 바람직한 입자는 합성 제올라이트이며, 합성 제올라이트의 흡착성, 특히 수분 흡착성을 저하시키기 위해, pH 가 5 이상인 산으로 입자 형상을 무너뜨리지 않을 정도의 산 처리를 한 것이 바람직하고, 또한 300 ℃ 이상의 온도에서 열처리한 것이 바람직하다.Particularly preferable particles are synthetic zeolites, and in order to reduce the adsorptivity of the synthetic zeolite, particularly the moisture adsorption, it is preferable that the particles are treated with an acid having a pH of 5 or higher to a degree that does not destroy the particle shape, and further, it is preferable that the particles are heat-treated at a temperature of 300°C or higher.

입자의 형상은 특별히 규정하는 것은 아니지만, 부정형이면 입도 분포가 넓어지고, 응집에 의한 조대 돌기를 일으키기 쉽고, 박리성 개선 효과가 낮아지거나, 필름의 제막성이 저하되는 경우가 있다. 따라서 입자의 형상은 구상 혹은 다면상인 것이 바람직하다. 바람직한 입자로서, 구상 혹은 다면상의 합성 제올라이트가 예시된다. 특히 다면 형상의 입자인 경우에는 광택 제거 효과가 얻어지기 쉽다. 다면 형상의 입자 중에서도, 특히 입방체 형상의 입자가 바람직하다.The shape of the particles is not specifically specified, but if it is irregular, the particle size distribution becomes wider, coarse protrusions are likely to occur due to agglomeration, the peelability improvement effect is lowered, or the film forming property of the film may deteriorate. Therefore, the shape of the particles is preferably spherical or polyhedral. Examples of preferable particles include spherical or polyhedral synthetic zeolites. In particular, in the case of polyhedral particles, a matting effect is easily obtained. Among polyhedral particles, cubic particles are particularly preferable.

이들 입자의 첨가 방법은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 폴리에스테르의 중축합 중에 글리콜 분산계로서 첨가하는 방법, 압출 중 마스터 배치를 통하여 광택 제거층에 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.The method of adding these particles is not particularly limited, but examples thereof include adding them as a glycol dispersion during polycondensation of polyester, and adding them to a gloss removal layer via a master batch during extrusion.

이러한 광택 제거층의 두께는 2 층 구성의 경우에는 3 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 4 ∼ 9 ㎛ 의 범위, 3 층 구성의 경우에는 2 ∼ 5 ㎛ 의 범위가 적당하다.The thickness of this gloss removal layer is suitably in the range of 3 to 10 ㎛, preferably 4 to 9 ㎛, for a two-layer configuration, and in the range of 2 to 5 ㎛ for a three-layer configuration.

(기재층)(base layer)

본 발명의 기재층을 구성하는 폴리에스테르는, 방향족 이염기산 또는 그 에스테르 형성성 유도체와 디올 또는 그 에스테르 형성성 유도체로부터 합성되는 선상 포화 폴리에스테르이다. 이러한 폴리에스테르의 구체예로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리(시클로헥실렌디메틸렌)테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트 등을 예시할 수 있으며, 이것들에 소량의 종성분을 공중합시킨 공중합체 또는 이것과 적은 비율의 다른 수지의 블렌드물 등이어도 된다. 이들 중, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복실레이트가 내열성의 관점에서 바람직하고, 또한 폴리에틸렌테레프탈레이트가 내열성과 성형성의 밸런스가 양호하므로 특히 바람직하다.The polyester constituting the base layer of the present invention is a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof. Specific examples of such polyesters include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly(cyclohexylenedimethylene) terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, and the like, and a copolymer obtained by copolymerizing a small amount of a precursor component with these, or a blend of these with a small proportion of another resin, etc. Of these, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate are preferable from the viewpoint of heat resistance, and polyethylene terephthalate is particularly preferable because it has a good balance between heat resistance and moldability.

기재층의 입자 함유량은, 기재층의 질량을 기준으로 하여 3.0 질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.5 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 2.0 질량% 이하이다. 이와 같은 양태로 함으로써, 우수한 제막성을 얻기 쉬워진다.The particle content of the substrate layer is preferably 3.0 mass% or less, more preferably 2.5 mass% or less, and even more preferably 2.0 mass% or less, based on the mass of the substrate layer. By adopting such an aspect, it becomes easy to obtain excellent film forming properties.

기재층에 사용되는 입자의 종류는, 통상적으로 필름에 첨가되는 입자이면 특별히 한정되지 않으며, 무기 입자, 유기 입자 중 어느 것이어도 된다. 구체적으로는 부정형 실리카 (콜로이드 실리카), 실리카, 탤크, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산바륨, 인산리튬, 인산칼슘, 인산마그네슘, 알루미나, 카본 블랙, 이산화티탄, 카올린, 합성 제올라이트, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 아크릴레이트 입자 등을 들 수 있다. 이들 입자 중 1 종, 또는 2 종 이상의 상이한 입자를 함유시켜도 되고, 또 동일한 종류이고 입경이 상이한 입자의 혼합물을 사용해도 된다. 이들 입자 중에서도 시인성의 향상을 위해서는, 이산화티탄을 0.5 질량% ∼ 2.0 질량% 를 함유하는 것이 바람직하다. 이 범위보다 적은 경우, 시인성이 악화되는 경우가 있고, 많은 경우, 박리시의 파단이나 취화의 원인이 되는 경우가 있다.The type of particles used in the substrate layer is not particularly limited as long as they are particles that are usually added to the film, and may be either inorganic particles or organic particles. Specific examples thereof include amorphous silica (colloidal silica), silica, talc, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, lithium phosphate, calcium phosphate, magnesium phosphate, alumina, carbon black, titanium dioxide, kaolin, synthetic zeolite, cross-linked polystyrene particles, and cross-linked acrylate particles. One type or two or more types of different particles among these particles may be contained, and a mixture of particles of the same type but having different particle sizes may also be used. Among these particles, in order to improve visibility, it is preferable to contain 0.5 to 2.0 mass% of titanium dioxide. If it is less than this range, visibility may deteriorate, and in many cases, it may cause breakage or embrittlement during peeling.

기재층에는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위이면 폴리에스테르 이외의 다른 수지, 착색제, 대전 방지제, 안정제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 형광 증백제 등을 필요에 따라 함유할 수도 있다.The substrate layer may contain, as necessary, other resins than polyester, colorants, antistatic agents, stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, fluorescent whitening agents, etc., as long as they do not impede the purpose of the present invention.

기재층의 두께는, 바람직하게는 10 ∼ 140 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛, 특히 바람직하게는 40 ∼ 60 ㎛ 인 것이 바람직하다.The thickness of the substrate layer is preferably 10 to 140 ㎛, more preferably 20 to 100 ㎛, and particularly preferably 40 to 60 ㎛.

(표면 조도)(surface roughness)

본 발명의 광택 제거층 표면의 중심선 평균 조도 (Ra) 는 400 ∼ 1000 ㎚ 이고, 10 점 평균 조도 (Rz) 는 4000 ∼ 8000 ㎚ 일 필요가 있으며, Ra 및 Rz 가 이러한 범위 내임으로써, 전사 후의 전자파 실드 필름 등의 표면 광택 제거 외관성이 양호한 기초가 된다. Ra 또는 Rz 중 적어도 일방이 하한값에 미치지 못하는 경우, 광택 제거 외관성의 향상 효과가 불충분해진다. 한편, Ra 또는 Rz 중 적어도 일방이 상한값을 초과하는 경우, 광택 제거 외관성은 양호하지만, 표면의 요철이 지나치게 심하기 때문에, 제막시에 입자의 탈락이 일어나거나, 전사 공정에서의 중박리화가 일어나거나 하는 문제가 발생하기 쉬워진다. 이와 같은 관점에서, Ra 의 하한값은, 바람직하게는 500 ㎚, 더욱 바람직하게는 600 ㎚ 이며, Ra 의 상한값은, 바람직하게는 800 ㎚, 더욱 바람직하게는 750 ㎚ 이다. 또, Rz 의 하한값은, 바람직하게는 5000 ㎚, 더욱 바람직하게는 6000 ㎚ 이며, Rz 의 상한값은, 바람직하게는 7500 ㎚, 더욱 바람직하게는 7000 ㎚ 이다.The centerline average roughness (Ra) of the surface of the gloss removal layer of the present invention must be 400 to 1000 nm, and the 10-point average roughness (Rz) must be 4000 to 8000 nm. When Ra and Rz are within these ranges, the surface gloss removal appearance of the electromagnetic shielding film or the like after transfer becomes a good basis. When at least one of Ra or Rz is below the lower limit, the effect of improving the gloss removal appearance becomes insufficient. On the other hand, when at least one of Ra or Rz exceeds the upper limit, although the gloss removal appearance is good, since the surface unevenness is too severe, problems such as particle detachment during film forming or delamination in the transfer process easily occur. From this viewpoint, the lower limit of Ra is preferably 500 nm, more preferably 600 nm, and the upper limit of Ra is preferably 800 nm, more preferably 750 nm. Also, the lower limit of Rz is preferably 5000 nm, more preferably 6000 nm, and the upper limit of Rz is preferably 7500 nm, more preferably 7000 nm.

또한, Ra 및 Rz 는, 예를 들어 전술한 평균 입경 및 최대 입자경을 갖는 입자를 사용하여, 광택 제거층 중의 함유량을 조정함으로써 얻을 수 있다.Additionally, Ra and Rz can be obtained by adjusting the content in the gloss removal layer, for example, by using particles having the above-mentioned average particle diameter and maximum particle diameter.

(광택도 : G60)(Gloss: G 60 )

본 발명의 2 축 배향 폴리에스테르 필름은, 그 광택 제거층 표면의 광택도 (G60) 가 6 ∼ 20, 바람직하게는 9 ∼ 15 인 것이 필요하다. 또한, 여기서 말하는 광택도 (G60) 란, JIS 규격 Z 8741 에 준거하여, 입사각, 수광각 모두 60°에서 측정한 값이다. 광택도가 이 범위임으로써, 광택 제거 표면 외관을 전자파 실드 필름 등의 전사 필름 표면에 바람직하게 부여할 수 있다. 광택도가 하한보다 작은 것은, 입자의 첨가량을 증가하게 되어, 필름 제막성의 악화나, 표면 돌기의 파열률을 20 % 이하로 하는 것이 어려워져 중박리화가 일어나므로 바람직하지 않다. 한편, 광택도가 상한을 초과하면, 전자파 실드 필름 등의 표면에 충분한 광택 제거 외관을 부여할 수 없게 되므로 바람직하지 않다.The biaxially oriented polyester film of the present invention requires that the gloss (G 60 ) of the gloss removal layer surface be 6 to 20, preferably 9 to 15. In addition, the gloss (G 60 ) referred to here is a value measured at an incident angle and a reception angle of 60° both in accordance with JIS standard Z 8741. When the gloss is within this range, the gloss removal surface appearance can be preferably provided to the surface of a transfer film such as an electromagnetic shielding film. If the gloss is less than the lower limit, the amount of particles added increases, which deteriorates the film forming properties, and it becomes difficult to keep the rupture rate of surface protrusions to 20% or less, which causes heavy peeling, so this is not preferable. On the other hand, if the gloss exceeds the upper limit, it becomes impossible to provide a sufficient gloss removal appearance to the surface of an electromagnetic shielding film, so this is not preferable.

(보이드 파열률)(Void burst rate)

본 발명의 광택 제거층 표면의 돌기의 보이드 파열률은, 20 % 이하일 필요가 있으며, 이 값이 20 % 를 초과하면, 전사 후에 지지 필름을 박리할 때, 그 보이드 파열이 발생한 돌기가 박리시의 파단의 기점이 되므로 바람직하지 않다. 이러한 관점에서, 보이드 파열률은 바람직하게는 15 % 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 % 이하이다. 하한은 특별히 한정할 필요는 없으며 낮으면 낮을수록 좋지만, 실제의 제조의 관점에서 5 % 정도이다.The void rupture rate of the protrusion on the surface of the gloss removal layer of the present invention must be 20% or less, and if this value exceeds 20%, when the support film is peeled off after transfer, the protrusion where the void rupture occurred becomes the starting point of the rupture at the time of peeling, which is not preferable. From this viewpoint, the void rupture rate is preferably 15% or less, and more preferably 10% or less. There is no need to specifically limit the lower limit, and the lower the better, but from the viewpoint of actual manufacturing, it is about 5%.

또한, 표면 돌기의 보이드 파열률은, 전술한 바와 같이, 광택 제거층에 사용되는 폴리에스테르를 공중합 폴리에스테르 또는 타종 폴리에스테르를 용융 혼합한 폴리에스테르 조성물로 하여, 입자 함유 폴리에스테르의 연신성을 높이는 방법, 나아가서는, 그 폴리에스테르의 고유 점도를 약간 높게 하여 입자 함유 폴리에스테르의 연신성을 높이는 방법 등에 의해 용이하게 달성할 수 있다.In addition, the void rupture rate of the surface protrusion can be easily achieved by, as described above, using a polyester composition in which the polyester used in the gloss removal layer is a copolymerized polyester or a polyester composition in which other types of polyester are melt-blended to increase the stretchability of the particle-containing polyester, or further, by slightly increasing the intrinsic viscosity of the polyester to increase the stretchability of the particle-containing polyester.

또한, 돌기의 보이드 파열률은, FE-SEM 으로 광택 제거층 표면의 사진을 찍고, 전체의 돌기 개수와, 그 중 돌기 주변에 공동이 있는 돌기 개수 (돌기의 보이드 파열) 를 카운트하여, 파열 개수의 전체 개수에 대한 비율 (%) 로서 산출한 것이다.In addition, the void rupture rate of the protrusion was calculated by taking a photograph of the surface of the gloss removal layer with FE-SEM, counting the total number of protrusions and the number of protrusions with cavities around the protrusions (void rupture of protrusions) among them, and calculating the ratio (%) of the number of ruptures to the total number.

(표면 에너지)(surface energy)

또한, 본 발명의 광택 제거층 표면은, 겉보기의 표면 장력이 60 dyn/㎝ 이하인 것이 박리성의 면에서 바람직하고, 더욱 바람직하게는 58 dyn/㎝ 이하이다. 이러한 표면 장력은, 상기 돌기의 보이드 파열률을 작게 함과 함께, 광택 제거층에 사용하는 폴리에스테르의 디올 성분으로서 보다 소수계의 디올 성분을 함유하는 공중합 폴리에스테르 또는 폴리에스테르 조성물을 사용함으로써 달성할 수 있다.In addition, the gloss removal layer surface of the present invention preferably has an apparent surface tension of 60 dyn/cm or less, more preferably 58 dyn/cm or less, in terms of peelability. Such surface tension can be achieved by using a copolymerized polyester or polyester composition containing a more hydrophobic diol component as the diol component of the polyester used in the gloss removal layer, while reducing the void rupture rate of the protrusions.

<필름 제조 방법><Film manufacturing method>

본 발명의 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르의 주된 성분이 폴리에틸렌테레프탈레이트인 경우, 예를 들어 이하의 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 광택 제거층 및 기재층을 공압출법에 의해 적층 압출하고, 캐스팅 드럼으로 냉각 고화시켜 비정 미연신 필름으로 하고, 이어서 종방향 (제막 기계 축 방향을 말한다. 이하, 기계 축 방향, 연속 제막 방향, 길이 방향 또는 MD 라고 하는 경우가 있다) 및 횡방향 (연속 기계 축 방향과 두께 방향에 수직인 방향을 말한다. 이하, 폭 방향, TD 라고 하는 경우가 있다) 으로 연신한다.The polyester film of the present invention, when the main component of the polyester is polyethylene terephthalate, can be manufactured, for example, by the following method. That is, a deglazing layer and a substrate layer are laminated and extruded by a coextrusion method, cooled and solidified by a casting drum to form a non-stretched film, and then stretched in the longitudinal direction (meaning the film forming machine axis direction. Hereinafter, it is sometimes called the machine axis direction, continuous film forming direction, longitudinal direction, or MD) and the transverse direction (meaning the direction perpendicular to the continuous machine axis direction and the thickness direction. Hereinafter, it is sometimes called the width direction, TD).

종방향의 연신은, 예를 들어 온도 60 ∼ 130 ℃, 바람직하게는 90 ∼ 125 ℃ 에서 2.0 ∼ 3.5 배, 바람직하게는 2.5 ∼ 3.0 배 연신한다. 횡방향의 연신은, 예를 들어 온도 100 ∼ 130 ℃, 바람직하게는 90 ∼ 125 ℃ 에서 2.0 ∼ 4.0 배, 바람직하게는 3.0 ∼ 4.0 배 연신한다. 또, 일 방향의 연신은 2 단 이상의 다단으로 실시하는 방법을 사용할 수도 있지만, 최종적인 연신 배율은 전술한 범위 내에 있는 것이 바람직하다.Longitudinal stretching is performed, for example, at a temperature of 60 to 130°C, preferably 90 to 125°C, and elongates by a factor of 2.0 to 3.5, preferably 2.5 to 3.0. Transverse stretching is performed, for example, at a temperature of 100 to 130°C, preferably 90 to 125°C, and elongates by a factor of 2.0 to 4.0, preferably 3.0 to 4.0. In addition, one-directional stretching can also be performed in two or more stages, but it is preferable that the final stretching ratio be within the above-mentioned range.

이어서, 원하는 바에 따라 열고정 처리를 실시한다. 예를 들어 광택 제거층 및 기재층이 폴리에틸렌테레프탈레이트로 구성되어 있는 경우에는, 220 ∼ 240 ℃ 의 온도, 바람직하게는 220 ∼ 235 ℃ 의 온도에서, 2 ∼ 30 초, 바람직하게는 2 ∼ 20 초, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 10 초의 시간의 범위에서 열고정시킨다. 그 때, 열수축률을 저감시킬 목적으로, 20 % 이내의 제한 수축 혹은 신장, 또는 정장 (定長) 하에서 실시해도 되고, 또 2 단 이상으로 실시해도 된다.Next, heat setting treatment is performed as desired. For example, when the gloss removal layer and the substrate layer are composed of polyethylene terephthalate, heat setting is performed at a temperature of 220 to 240°C, preferably 220 to 235°C, for a time of 2 to 30 seconds, preferably 2 to 20 seconds, and more preferably 3 to 10 seconds. At that time, in order to reduce the heat shrinkage rate, it may be performed under limited shrinkage or elongation of less than 20%, or under constant length, or it may be performed in two or more stages.

<그 밖의 필름 특성><Other film characteristics>

(고유 점도)(Intrinsic viscosity)

본 발명의 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 구성하는 기재층 폴리에스테르의 고유 점도 (IV) 는, 0.50 ∼ 0.70 ㎗/g 의 범위인 것이 바람직하다. 이러한 고유 점도는 25 ℃ 의 o-클로로페놀 용액에서의 측정값으로 나타낸다. 이 고유 점도의 하한값은, 박리성이 더욱 양호해지므로, 나아가서는 0.56 ㎗/g, 특히 0.60 ㎗/g 인 것이 바람직하다. 또 이 고유 점도의 상한값은, 바람직하게는 0.67 ㎗/g 이고, 더욱 바람직하게는 0.65 ㎗/g 이다. 필름의 고유 점도가 하한값에 미치치 못하는 경우, 기계적 성능이 저하되어 취급성이 어려워지는 경향이 있다. 한편, 필름의 고유 점도가 상한값을 초과하게 되면 점도가 지나치게 높아져, 필름의 제조 공정에서의 부하가 증대되고, 생산성이 저하된다.The intrinsic viscosity (IV) of the base polyester layer constituting the biaxially oriented polyester film of the present invention is preferably in the range of 0.50 to 0.70 ㎗/g. This intrinsic viscosity is expressed as a measurement value in an o-chlorophenol solution at 25 ℃. The lower limit of this intrinsic viscosity is preferably 0.56 ㎗/g, particularly preferably 0.60 ㎗/g, because peelability becomes better. In addition, the upper limit of this intrinsic viscosity is preferably 0.67 ㎗/g, and more preferably 0.65 ㎗/g. When the intrinsic viscosity of the film does not reach the lower limit, the mechanical performance tends to deteriorate and handling becomes difficult. On the other hand, when the intrinsic viscosity of the film exceeds the upper limit, the viscosity becomes excessively high, the load in the film manufacturing process increases, and productivity decreases.

한편, 광택 제거층에는, 광택 제거층 표면 조도, 광택도 (G60) 및 표면의 돌기 보이드 파열률에 관련된 요건을 만족하기 위해, 전술한 바와 같이 평균 입자경이 큰 입자를 상당한 양 함유시키고 있다. 따라서, 박리성 등의 취급성의 면에서는 폴리에스테르의 고유 점도는 높은 쪽이 바람직하지만, 지나치게 높아지면 입자의 함유량이 높은 것과 더불어 제막성이 저하되므로, 함유하는 입자의 종류 및 함유량에 따라 고유 점도를 조정하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the gloss removal layer contains a considerable amount of particles having a large average particle size as described above in order to satisfy requirements related to the gloss removal layer surface roughness, gloss (G 60 ) and surface protrusion void rupture rate. Therefore, in terms of handling properties such as peelability, the intrinsic viscosity of polyester is preferably higher, but if it becomes too high, the film forming property deteriorates along with the high particle content, so it is preferable to adjust the intrinsic viscosity depending on the type and content of the contained particles.

(필름 두께)(film thickness)

본 발명의 2 축 배향 폴리에스테르 필름은, 전자파 실드 필름 전사용 등의 지지 필름으로서 사용되는 두께를 갖고 있으면 되며, 바람직하게는 10 ∼ 150 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛, 특히 바람직하게는 45 ∼ 70 ㎛ 이다.The two-axis oriented polyester film of the present invention may have a thickness that is usable as a support film for use in electromagnetic shielding film transfer, etc., and is preferably 10 to 150 µm, more preferably 20 to 100 µm, and particularly preferably 45 to 70 µm.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가로 설명한다. 또한, 각 특성값은 이하의 방법에 의해 측정하였다.Hereinafter, the present invention will be further described by examples. In addition, each characteristic value was measured by the following method.

1. 광택도 (G60)1. Gloss (G 60 )

JIS 규격 (Z 8741) 에 준거하여, 닛폰 전색 공업 (주) 제조의 글로스미터「VGS-SENSOR」을 사용하여 측정하였다. 입사각, 수광각 모두 60°에서 측정 (N = 5) 하고, 그 평균값을 사용하였다.In accordance with JIS standard (Z 8741), measurements were made using a glossmeter "VGS-SENSOR" manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. Measurements were made at both an incident angle and a reception angle of 60° (N = 5), and the average value was used.

2. 평균 입경2. Average particle size

입자를 에틸렌글리콜 중에 3 % 의 농도가 되도록 믹서로 교반하고, 시마즈 제작소 제조의 레이저 산란식 입도 분포 측정 장치 SALD-7000 을 사용하여 측정을 실시하였다. 입도 분포 측정 결과로부터 50 % 체적 입경 (D50) 을 구하고, 이것을 평균 입경으로 하였다.The particles were stirred in a mixer to a concentration of 3% in ethylene glycol, and measurement was performed using a laser scattering particle size distribution measuring device SALD-7000 manufactured by Shimadzu Corporation. From the particle size distribution measurement results, the 50% volume particle size ( D50 ) was obtained, and this was used as the average particle size.

3. 입자 함유량3. Particle content

필름 샘플의 입자 함유량을 측정하고자 하는 층으로부터 시료를 깎아내고, 폴리에스테르는 용해시키고 입자는 용해시키지 않는 용매를 선택하여 용해 처리한 후, 입자를 용액으로부터 원심 분리하여, 입자의 전체 질량에 대한 비율 (질량%) 을 갖고 입자의 함유량으로 한다.A sample is cut from a layer of a film sample from which the particle content is to be measured, and a solvent is selected that dissolves polyester but does not dissolve the particles, and the particles are then centrifuged from the solution, and the ratio (mass%) to the total mass of the particles is used as the particle content.

4. 필름의 각 층 두께4. Thickness of each layer of film

샘플을 삼각형으로 잘라내어 포매 캡슐에 고정 후, 에폭시 수지로 포매하였다. 그리고, 포매된 샘플을 마이크로톰 (ULTRACUT-S) 으로 종방향에 평행한 단면을 50 ㎚ 두께의 박막 절편으로 한 후, 투과형 전자 현미경을 사용하여, 가속 전압 100 kv 에서 관찰 촬영하고, 사진으로부터 각 층의 두께를 10 점씩 측정하여, 각각의 층에 대해 평균 두께를 구하였다. 광택 제거층에 대해서는, 입자가 존재하지 않는 부분에 대해 측정하였다.The sample was cut into a triangle, fixed in a capsule, and embedded in epoxy resin. Then, the embedded sample was sectioned into 50 nm thick thin sections parallel to the longitudinal direction using a microtome (ULTRACUT-S), and then observed and photographed using a transmission electron microscope at an acceleration voltage of 100 kV, and the thickness of each layer was measured at 10 points from the photographs, and the average thickness was obtained for each layer. For the gloss removal layer, measurements were made on a portion where no particles existed.

5. 중심선 평균 조도 Ra 및 10 점 평균 조도 Rz5. Center line average roughness Ra and 10 point average roughness Rz

JIS-B 0601, B 0651 에 따라, 3 차원 표면 조도계 (코사카 연구소 제조, 상품명 : SURF CORDER SE-3CK) 를 사용하여, 촉침 선단 R 2 ㎛, 주사 피치 2 ㎛, 주사 길이 1 ㎜, 주사 갯수 100 개, 컷 오프 0.25 ㎜, 배율 5000 배의 조건에서, 중심선 평균 조도 Ra 및 10 점 평균 조도 Rz 를 측정하였다.According to JIS-B 0601, B 0651, using a three-dimensional surface roughness meter (manufactured by Kosaka Laboratory, product name: SURF CORDER SE-3CK), the center line average roughness Ra and the 10-point average roughness Rz were measured under the conditions of a stylus tip R of 2 µm, a scan pitch of 2 µm, a scan length of 1 mm, a number of scans of 100, a cutoff of 0.25 mm, and a magnification of 5000 times.

6. 필름 고유 점도6. Film specific viscosity

오르토클로로페놀로 25 ℃ 의 분위기하에서 측정하였다. 또한, 기재층의 고유 점도는, 2 축 배향 폴리에스테르 필름으로부터 기재층의 부분을 깎아내고, 측정하였다.It was measured under an atmosphere of 25℃ with orthochlorophenol. In addition, the intrinsic viscosity of the substrate layer was measured by cutting out a portion of the substrate layer from a biaxially oriented polyester film.

7. 돌기의 보이드 파열률7. Void burst rate of the protrusion

시료 필름의 광택 제거층 표면의 사진을 FE-SEM 으로 찍고, 면적 0.5 ㎟ (200 ㎛ × 250 ㎛ 의 10 시야) 에 존재하는 돌기 개수와, 그 중 보이드 파열이 발생한 개수를 카운트하여, 파열 개수의 전체 개수에 대한 비율 (%) 로서 산출하였다.The surface of the gloss removal layer of the sample film was photographed using FE-SEM, and the number of protrusions present in an area of 0.5 ㎟ (10 fields of view of 200 ㎛ × 250 ㎛) and the number of void ruptures among them were counted, and the number of ruptures was calculated as a ratio (%) to the total number.

또한, 표면 사진에 있어서 주변에 보이드가 존재하는 돌기를 보이드 파열이 발생한 돌기로 판정하였다.Additionally, in the surface photograph, a protrusion with a void around it was judged to be a protrusion where a void rupture occurred.

8. 색상 L 값8. Color L value

닛폰 전색 공업 제조의 분광 색차계 SE6000 을 사용하여, 시료 필름의 기재층측을 흑판 반사로 색상 L 값의 측정을 실시하였다.Using a spectrophotometer SE6000 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo, the color L value of the substrate layer side of the sample film was measured by blackboard reflection.

9. 겉보기의 표면 장력9. Apparent surface tension

JIS K 6768 에 준거하여, 시료 필름의 광택 제거층 표면에 젖음 지수액을 도포하여 겉보기의 표면 장력을 측정하였다.In accordance with JIS K 6768, a wetting index liquid was applied to the surface of the gloss removal layer of the sample film and the apparent surface tension was measured.

10. 박리성10. Peelability

시료 필름의 표면에 두께 0.1 ㎛ 의 메틸멜라민계 이형층 (미츠와 연구소 제조, ATOM BOND RP-30-30) 을 형성하고, 그 위에 UV 경화형 아크릴계 수지 (다이니치 정화 공업 제조, 세이카빔 EXF-3005(NS)) 를 도공·경화시킴으로써 두께 5 ㎛ 의 절연 보호층, 및 하기 조성의 도전성 페이스트를 도공함으로써 두께 15 ㎛ 의 도전층을 형성하여, 지지 필름 상에 전자파 실드 필름을 구비한 전사용 필름을 제조하였다.A methylmelamine release layer (ATOM BOND RP-30-30 manufactured by Mitsuwa Laboratory) having a thickness of 0.1 ㎛ was formed on the surface of a sample film, and a UV-curable acrylic resin (Seikabeam EXF-3005 (NS) manufactured by Dainichi Purification Industries, Ltd.) was coated and cured thereon to form an insulating protective layer having a thickness of 5 ㎛, and a conductive layer having a thickness of 15 ㎛ was formed by coating a conductive paste having the following composition, thereby manufacturing a transfer film having an electromagnetic shielding film on a support film.

다이니치 정화 공업 제조, 우레탄 수지 UD1357 : 60 질량부Dainichi Purification Industry Co., Ltd., Urethane Resin UD1357: 60 parts by mass

인편상 은 분말 (평균 두께 100 ㎚, 평균 입경 5 ㎛) : 20 질량부Silver powder (average thickness 100 nm, average particle size 5 ㎛): 20 parts by mass

수지상 (樹枝狀) 은 코트 구리 분말 (평균 입경 5 ㎛) : 20 질량부Dendritic silver-coated copper powder (average particle size 5 μm): 20 parts by mass

이어서, 상기에서 얻어진 전사용 필름을, 플렉시블 프린트 기판 (폴리이미드층 (12.5 ㎛), 접착제층 (15 ㎛), 동박층 (12 ㎛), 및 폴리이미드층 (12.5 ㎛) 이 위에서부터 이 순서로 적층되어 이루어지는 4 층 구조) 표면에, 도전층이 피복면측이 되도록 첩합 (貼合) 하고, 온도 200 ℃, 압력 1 ㎫, 1 시간의 조건으로 압착시켰다. 압력을 개방하고, 샘플을 실온에 있어서 25 ℃ 가 될 때까지 식힌 후, 지지 필름을 손으로 박리하고, 전사된 절연 보호층의 표면을 육안으로 관찰하였다. 이하의 지표로 평가하였다.Next, the transfer film obtained above was bonded to the surface of a flexible print substrate (a four-layer structure in which a polyimide layer (12.5 μm), an adhesive layer (15 μm), a copper foil layer (12 μm), and a polyimide layer (12.5 μm) are laminated in this order from top to bottom) with the conductive layer facing the covering surface side, and pressed under the conditions of a temperature of 200°C, a pressure of 1 MPa, and 1 hour. After releasing the pressure, the sample was cooled to 25°C at room temperature, the support film was peeled off by hand, and the surface of the transferred insulating protective layer was observed with the naked eye. The following indices were evaluated.

○ : 박리 : 깨끗하게 박리되었다.○: Peeling: Peeled cleanly.

△ : 전사 : 전자파 실드 필름측에 흰 이물질이 잔존한다.△: Warrior: White foreign matter remains on the electromagnetic shield film side.

× : 파단 : 박리 중에 전사 필름이 파단된다.×: Breakage: The transfer film breaks during peeling.

11. 제품의 광택 제거성11. Product gloss removal ability

상기 1 의 광택도와 동일한 방법으로, 상기 9 에서 얻어진 절연 보호층 전사 후의 샘플에 대해, 절연 보호층 표면의 광택도 (G60) 를 측정하고, 결과를 이하와 같은 지표에 의해 평가하였다.In the same manner as the gloss of the above 1, the gloss (G 60 ) of the surface of the insulating protective layer was measured for the sample after the insulating protective layer transfer obtained in the above 9, and the results were evaluated by the following indices.

◎ : 15 이하 … 제품의 광택 제거성 매우 양호◎: 15 or less… The product has very good gloss removal properties

○ : 15 초과, 20 이하 … 제품의 광택 제거성 양호○: Over 15, under 20… Good gloss removal ability of the product

× : 20 초과 … 제품의 광택 제거성 불량×: Over 20… Poor gloss removal ability of the product

12. 필름 샘플의 시인성 평가12. Evaluation of the visibility of film samples

검은 아크릴 플레이트 상에 수적을 수 방울 떨어뜨리고, 그 위에 광택 제거층이 아크릴 플레이트에 접촉하는 형태로 샘플 필름을 두고, 샘플 필름과 아크릴 플레이트 사이의 공기를 제거한 상태에서, 샘플 필름의 보이는 방식을 확인하여, 이하의 지표로 평가하였다.A few drops of water were dropped on a black acrylic plate, and a sample film was placed on top of it with the gloss removal layer in contact with the acrylic plate. The air between the sample film and the acrylic plate was removed, and the appearance of the sample film was checked and evaluated using the following indices.

◎ : 희다 … 시인성 양호◎ : White… Good visibility

○ : 반투명 … 시인성 부족○: Translucent… Lack of visibility

× : 투명 … 시인성 불량× : Transparent… Poor visibility

[실시예 1][Example 1]

폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유 점도 0.63 ㎗/g) 에 표 1 에 나타내는 바와 같은 입자 및 수지를 첨가하여 광택 제거층 (A 층) 을 형성하기 위한 A 층 폴리머로 하고, 또, A 층과 동일하게 입자 및 수지를 표 1 의 함유량으로 첨가하여, 기재층 (B 층) 을 형성하기 위한 B 층 폴리머로 하고, 각각 280 ℃ 로 가열된 압출기에 공급하고, A 층 폴리머, B 층 폴리머를 A/B 의 적층 구성이 되는 2 층 피드 블록 장치를 사용하여 합류시키고, 그 적층 상태를 유지한 채로 다이스로부터 시트를 20 ℃ 로 유지한 회전 냉각 드럼 상에 용융 압출하여 미연신 필름으로 하고, 이어서 그 미연신 필름을 종방향으로 3.2 배 연신하고, 그 후, 140 ℃ 에서 횡방향으로 3.4 배로 연신하고, 235 ℃ 에서 열고정시켜, 2 축 배향 폴리에스테르 필름 (두께 50 ㎛) 을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.The particles and resin shown in Table 1 are added to polyethylene terephthalate (inherent viscosity 0.63 ㎗/g) to form an A layer polymer for forming a gloss removal layer (A layer), and further, particles and resin are added in the same amount as in the A layer in the amount shown in Table 1 to form a B layer polymer for forming a substrate layer (B layer), and each is supplied to an extruder heated to 280°C, and the A layer polymer and the B layer polymer are joined using a two-layer feed block device having an A/B laminated configuration, and while maintaining the laminated state, the sheet is melt-extruded from the die onto a rotary cooling drum maintained at 20°C to form an unstretched film, and then the unstretched film is stretched 3.2 times in the longitudinal direction, and then stretched 3.4 times in the transverse direction at 140°C, and heat-set at 235°C to form a biaxially oriented polyester film (thickness 50 ㎛) was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

[실시예 2][Example 2]

A 층 폴리머 및 B 층 폴리머에 첨가하는 수지의 함유량을 표 1 에 기재된 바와 같이 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the contents of the resin added to the A layer polymer and the B layer polymer were as described in Table 1. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

B 층 폴리머에 사용하는 폴리에틸렌테레프탈레이트를, 고유 점도가 0.63 ㎗/g 과 0.68 ㎗/g 인 2 종을 사용하고, 그 혼합 비율을 전자 7 질량부, 후자 2 질량부로 하는 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 2, except that two types of polyethylene terephthalate having intrinsic viscosities of 0.63 ㎗/g and 0.68 ㎗/g were used for the B layer polymer, and the mixing ratio was set to 7 parts by mass of the former and 2 parts by mass of the latter. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

[실시예 4 ∼ 9, 비교예 1 ∼ 2][Examples 4 to 9, Comparative Examples 1 to 2]

A 층 폴리머 및 B 층 폴리머에 첨가하는 입자 및 수지의 종류 및 양을 표 1 에 기재된 바와 같이 변경하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the types and amounts of particles and resins added to the A layer polymer and the B layer polymer were changed as described in Table 1. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

[실시예 10][Example 10]

폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유 점도 0.63 ㎗/g) 에 표 2 에 나타내는 바와 같은 입자 및 수지를 첨가하여 광택 제거층 (A 층) 을 형성하기 위한 A 층 폴리머로 하고, 또, A 층과 동일하게 입자 및 수지를 표 2 의 함유량으로 첨가하여, 기재층 (B 층) 을 형성하기 위한 B 층 폴리머로 하고, 각각 280 ℃ 로 가열된 압출기에 공급하고, A 층 폴리머, B 층 폴리머를 A/B 의 적층 구성이 되는 2 층 피드 블록 장치를 사용하여 합류시키고, 그 적층 상태를 유지한 채로 다이스로부터 시트를 20 ℃ 로 유지한 회전 냉각 드럼 상에 용융 압출하여 미연신 필름으로 하고, 이어서 그 미연신 필름을 종방향으로 3.2 배 연신하고, 그 후 140 ℃ 에서 횡방향으로 3.4 배로 연신하고, 230 ℃ 에서 열고정시켜, 2 축 배향 폴리에스테르 필름 (두께 50 ㎛) 을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 2 에 나타낸다.The particles and resin shown in Table 2 were added to polyethylene terephthalate (inherent viscosity 0.63 ㎗/g) to form an A layer polymer for forming a gloss removal layer (A layer), and further, particles and resin were added in the same amount as in the A layer in the amount shown in Table 2 to form a B layer polymer for forming a substrate layer (B layer), and each was supplied to an extruder heated to 280°C, and the A layer polymer and the B layer polymer were joined using a two-layer feed block device having an A/B laminated configuration, and while maintaining the laminated state, the sheet was melt-extruded from the die onto a rotary cooling drum maintained at 20°C to form an unstretched film, and then the unstretched film was stretched 3.2 times in the longitudinal direction, and then stretched 3.4 times in the transverse direction at 140°C, and heat-set at 230°C to form a biaxially oriented polyester film (thickness 50 ㎛) was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.

[실시예 11, 13 ∼ 15, 비교예 3, 4][Examples 11, 13 to 15, Comparative Examples 3 and 4]

A 층 폴리머 및 B 층 폴리머에 첨가하는 입자, 수지 및 그것들의 함유량을 표 2 에 기재된 바와 같이 하는 것 이외에는 실시예 10 과 동일하게 하여 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 2 에 나타낸다.A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Example 10, except that the particles, resins and their contents added to the A layer polymer and the B layer polymer were as described in Table 2. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.

[실시예 12][Example 12]

B 층 폴리머에 사용하는 폴리에틸렌테레프탈레이트를, 고유 점도가 0.63 ㎗/g 과 0.68 ㎗/g 인 2 종을 사용하고, 그 혼합 비율을 전자 7 질량부, 후자 2 질량부로 하고, A 층 폴리머 및 B 층 폴리머에 첨가하는 입자, 수지 및 그것들의 함유량을 표 2 에 기재된 바와 같이 하는 것 이외에는 실시예 11 과 동일하게 하여 2 축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다. 얻어진 필름의 평가 결과를 표 2 에 나타낸다.Except that two types of polyethylene terephthalate having intrinsic viscosities of 0.63 ㎗/g and 0.68 ㎗/g were used for the B layer polymer, the mixing ratio being 7 parts by mass of the former and 2 parts by mass of the latter, and that the particles, resins and their contents added to the A layer polymer and the B layer polymer were as described in Table 2, the same procedure as in Example 11 was conducted to obtain a biaxially oriented polyester film. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.

표 1 및 표 2 중의 PBT 는 폴리부틸렌테레프탈레이트, PTMT 는 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, PCHT 는 폴리(시클로헥실렌디메틸렌)테레프탈레이트를 의미한다.In Table 1 and Table 2, PBT stands for polybutylene terephthalate, PTMT stands for polytrimethylene terephthalate, and PCHT stands for poly(cyclohexylenedimethylene) terephthalate.

산업상 이용가능성Industrial applicability

본 발명의 2 축 배향 필름은, 전자파 실드 필름 전사용 등의 지지 필름으로서 사용한 경우, 전사 후의 전자파 실드 필름 등의 표면에 양호한 광택 제거 외관을 부여할 수 있고, 게다가, 전사 공정에 있어서의 전사 후의 지지 필름 박리성이 우수하므로, 그 산업상의 이용 가치는 매우 높다.The two-axis orientation film of the present invention, when used as a support film for transfer of an electromagnetic shielding film or the like, can provide a good matte finish to the surface of the electromagnetic shielding film or the like after transfer, and furthermore, since the support film peelability after transfer in the transfer process is excellent, its industrial utility value is very high.

Claims (7)

기재층과 적어도 일방의 표면에 입자 함유의 광택 제거층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름으로서, 상기 광택 제거층 표면의 중심선 평균 조도 (Ra) 가 400 ∼ 1000 ㎚, 10 점 평균 조도 (Rz) 가 4000 ∼ 8000 ㎚ 이고, 상기 표면에 있어서의 광택도 (G60) 가 6 ∼ 20 이고, 또한 표면의 돌기의 보이드 파열률이 20 % 이하이고,
상기 광택 제거층 표면의 겉보기의 표면 장력이 60 dyn/㎝ 이하이고,
광택 제거층을 구성하는 폴리에스테르가, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주된 성분으로 하고, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 폴리(시클로헥실렌디메틸렌)테레프탈레이트의 군에서 선택되는 적어도 1 종의 종(從)성분을 함유하고, 광택 제거층에 있어서의 종성분의 함유량이, 광택 제거층의 질량을 기준으로 하여 10 ∼ 40 질량% 이고,
기재층의 색상 L 값이 60 ∼ 80 이고,
전자파 실드 필름 전사용의 지지 필름으로서 사용되는, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
A laminated polyester film having a base layer and a particle-containing gloss removal layer on at least one surface, wherein the centerline average roughness (Ra) of the surface of the gloss removal layer is 400 to 1000 nm, the 10-point average roughness (Rz) is 4000 to 8000 nm, the gloss ( G60 ) on the surface is 6 to 20, and the void rupture rate of protrusions on the surface is 20% or less.
The apparent surface tension of the surface of the above-mentioned gloss removal layer is 60 dyn/cm or less,
The polyester constituting the gloss removal layer contains polyethylene terephthalate as a main component and at least one secondary component selected from the group consisting of polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and poly(cyclohexylenedimethylene) terephthalate, and the content of the secondary component in the gloss removal layer is 10 to 40 mass% based on the mass of the gloss removal layer.
The color L value of the substrate layer is 60 to 80,
A two-axis oriented polyester film used as a support film for transferring electromagnetic shielding films.
제 1 항에 있어서,
광택 제거층 중의 입자의 평균 입자경이 2.5 ∼ 5.5 ㎛, 함유량이 5 ∼ 18 질량% 인, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
In paragraph 1,
A biaxially oriented polyester film having an average particle size of 2.5 to 5.5 ㎛ and a particle content of 5 to 18 mass% in the gloss removal layer.
제 1 항에 있어서,
광택 제거층 중의 입자가, 부정형 실리카 또는 합성 제올라이트인, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
In paragraph 1,
A biaxially oriented polyester film, wherein the particles in the gloss removal layer are amorphous silica or synthetic zeolite.
제 1 항에 있어서,
기재층을 구성하는 폴리에스테르의 주된 성분이 폴리에틸렌테레프탈레이트인, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
In the first paragraph,
A biaxially oriented polyester film, the main component of which is polyethylene terephthalate, forming the base layer.
제 4 항에 있어서,
기재층을 구성하는 폴리에스테르의 고유 점도가 0.56 ∼ 0.70 ㎗/g 인, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
In paragraph 4,
A biaxially oriented polyester film having an intrinsic viscosity of 0.56 to 0.70 ㎗/g of polyester constituting the substrate layer.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
기재층의 입자 함유량이, 기재층 질량을 기준으로 하여 3.0 질량% 이하인, 2 축 배향 폴리에스테르 필름.
In any one of claims 1 to 5,
A biaxially oriented polyester film having a particle content of the substrate layer of 3.0 mass% or less based on the mass of the substrate layer.
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