KR102377297B1 - Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same - Google Patents
Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR102377297B1 KR102377297B1 KR1020210094499A KR20210094499A KR102377297B1 KR 102377297 B1 KR102377297 B1 KR 102377297B1 KR 1020210094499 A KR1020210094499 A KR 1020210094499A KR 20210094499 A KR20210094499 A KR 20210094499A KR 102377297 B1 KR102377297 B1 KR 102377297B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- diffractive optical
- optical element
- transmission
- diffraction pattern
- doe
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 131
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 description 33
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004984 smart glass Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
- B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/40—Manufacture
- B42D25/405—Marking
- B42D25/41—Marking using electromagnetic radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/40—Manufacture
- B42D25/405—Marking
- B42D25/43—Marking by removal of material
- B42D25/435—Marking by removal of material using electromagnetic radiation, e.g. laser
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/40—Manufacture
- B42D25/405—Marking
- B42D25/43—Marking by removal of material
- B42D25/445—Marking by removal of material using chemical means, e.g. etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/40—Manufacture
- B42D25/45—Associating two or more layers
- B42D25/465—Associating two or more layers using chemicals or adhesives
- B42D25/47—Associating two or more layers using chemicals or adhesives using adhesives
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
본 발명은 회절 패턴은 복수 개의 층들을 포함하며, 상기 복수 개의 층들 사이의 두께 방향으로의 최소 간격(△h)은 110 내지 160㎚인 투과형 회절성 광학 소자와 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transmission type diffractive optical element in which a diffraction pattern includes a plurality of layers, and a minimum spacing (△h) in the thickness direction between the plurality of layers is 110 to 160 nm, and a method of manufacturing the same.
Description
본 발명은 투과형 회절성 광학 소자와 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transmission type diffractive optical element and a method of manufacturing the same.
홀로그램이나 회절성 광학 소자는 위변조 방지 기술 분야나 깊이 측정 기술 분야 등에 사용되어 왔다.Holograms and diffractive optical elements have been used in the fields of anti-counterfeiting technology and depth measurement technology.
홀로그램은 입체상을 재현하는 간섭 줄무늬를 기록한 매체로, 홀로그래피의 원리를 이용하여 제조된다.A hologram is a medium that records interference stripes that reproduce three-dimensional images, and is manufactured using the principles of holography.
보다 구체적으로 상기 홀로그램은 기준광과 동일한 진동수, 파장 및 위상을 가지는 재현광을 특정 각도로 상기 간섭 줄무늬에 입사(또는 조사)하여 특정 이미지를 재현(또는 구현)한다.More specifically, the hologram reproduces (or implements) a specific image by incident (or radiating) reproduced light having the same frequency, wavelength, and phase as the reference light onto the interference stripes at a specific angle.
그런데 상기 홀로그램은 상기 재현광이 반드시 기준광과 동일한 위상, 파장 및 진동수를 가져야 하므로 근본적인 한계를 가진다.However, the hologram has a fundamental limitation because the reproduced light must have the same phase, wavelength, and frequency as the reference light.
나아가 홀로그램으로 기록될 수 있는 정보에는 한계가 있어 정교한 홀로그램을 제작하기 어려운 문제가 있다.Furthermore, there are limits to the information that can be recorded in holograms, making it difficult to produce sophisticated holograms.
더 나아가 통상 홀로그램은 제작의 어려움으로 인해 제품의 일부 또는 제품 포장의 일부에만 위치하므로 손쉽게 제거가 가능하다는 문제가 있다.Furthermore, due to the difficulty of production, holograms are usually located only on part of the product or part of the product packaging, so there is a problem that they can be easily removed.
상기 홀로그램의 문제점을 개선하기 위해 반도체 공정, 특히 미세 패턴 공정을 적용한 회절성 광학 소자가 개발되었다.In order to improve the problems of the hologram, a diffractive optical element using a semiconductor process, especially a micropattern process, has been developed.
회절성 광학 소자는 일반적으로 투과형 회절성 광학 소자, 반투과형 회절성 광학 소자, 투과형 회절성 광학 소자 등으로 분류될 수 있다.Diffractive optical elements can generally be classified into transmission-type diffractive optical elements, semi-transmissive diffractive optical elements, transmission-type diffractive optical elements, etc.
이 가운데 투과형 회절성 광학 소자는 최근 들어 웨어러블(wearable) 스마트 글라스나 AR/VR 등으로 점차 그 활용 분야가 넓어지고 있다.Among these, transmission-type diffractive optical elements have recently been increasingly used in wearable smart glasses and AR/VR.
특히 투과형 회절성 광학 소자는 자동차나 비행기 등의 운송수단의 유리면이나 헬멧 등에 빛을 조사하여 사용자에게 정보를 제공하는 필요한 정보나 이미지를 제공하는 기술 등에도 적용될 수 있다.In particular, transmission-type diffractive optical elements can be applied to technologies that provide necessary information or images to users by irradiating light to the glass surfaces or helmets of transportation vehicles such as cars or airplanes.
상기 회절성 광학 소자는 반도체 공정을 이용하므로 특히 미세 패턴 공정이 많아질수록 생산성이 낮아지게 된다.Since the diffractive optical element uses a semiconductor process, productivity decreases as the number of fine pattern processes increases.
보다 구체적으로 미세 패턴 공정이 많아지게 되면, 보다 선명하고 밝은 정보를 기록할 수 있으나 낮은 생산성은 회절성 광학 소자나 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 자체의 단가를 급격하게 높이게 된다. More specifically, as the number of fine pattern processes increases, clearer and brighter information can be recorded, but low productivity dramatically increases the unit cost of the diffractive optical element or the film itself including the diffractive optical element.
그 결과 예를 들어 회절성 광학 소자 자체의 제조 비용이 회절성 광학 소자가 부착된 제품 가격을 뛰어 넘는 문제가 발생한다.As a result, for example, a problem arises where the manufacturing cost of the diffractive optical element itself exceeds the price of the product to which the diffractive optical element is attached.
반면 미세 패턴 공정이 적어지면, 기록된 정보의 선명도가 낮아지고 광효율이 감소하는 문제가 발생한다.On the other hand, if the number of fine pattern processes decreases, the clarity of the recorded information decreases and the light efficiency decreases.
특히 투과형 회절성 광학 소자는 종래의 홀로그램이나 반사형 회절성 광학 소자와 달리 베이스 또는 기판의 뒷면에 이미지나 정보를 제공하므로 베이스 또는 기판에 의한 광흡수가 발생할 수 밖에 없다. In particular, unlike conventional holograms or reflective diffractive optical devices, transmission-type diffractive optical devices provide images or information on the back of a base or substrate, so light absorption by the base or substrate inevitably occurs.
결국 투과형 회절성 광학 소자는 홀로그램이나 다른 회절성 광학 소자 대비 광효율이 저하될 가능성이 높으므로 광효율의 저하를 최소화할 필요가 더욱 높아진다.Ultimately, transmission-type diffractive optical elements are more likely to have reduced optical efficiency compared to holograms or other diffractive optical elements, so the need to minimize the reduction in optical efficiency is even higher.
본 발명은 전술한 종래의 투과형 회절성 광학 소자의 문제점을 해결하기 위한 발명으로, 최대 광효율을 확보하면서 동시에 생산성이 우수한 투과형 회절성 광학 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is an invention to solve the problems of the conventional transmission-type diffractive optical elements described above, and its purpose is to provide a transmission-type diffractive optical element with excellent productivity while securing maximum light efficiency and a method of manufacturing the same.
또한 본 발명은 정보가 저장되는 정보 패턴부의 높이가 제어된 투과형 회절성 광학 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a transmission type diffractive optical element in which the height of the information pattern portion in which information is stored is controlled, and a method of manufacturing the same.
또한 본 발명은 복잡한 이미지를 가지는 정보를 더욱 밝고 선명하게 구현할 수 있는 투과형 회절성 광학 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a transmission-type diffractive optical element and a method of manufacturing the same that can implement information with complex images brighter and clearer.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자는 회절 패턴을 포함하고, 상기 회절 패턴은 복수 개의 층들을 포함하며, 상기 복수 개의 층들 사이의 두께 방향으로의 최소 간격(△h)은 110 내지 160㎚인 것을 특징으로 한다.A transmissive diffractive optical element according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a diffraction pattern, the diffraction pattern includes a plurality of layers, and the minimum gap in the thickness direction between the plurality of layers (Δh) is characterized as being 110 to 160 nm.
이 때, 상기 회절 패턴의 전체 높이(H)는 800 내지 1100㎚인 것이 바람직하다.At this time, the total height (H) of the diffraction pattern is preferably 800 to 1100 nm.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름은 베이스; 상기 베이스 상에 위치하고, 회절 패턴을 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층;을 포함하고, 상기 회절 패턴은 복수 개의 층들을 포함하며, 상기 복수 개의 층들 사이의 두께 방향으로의 최소 간격(△h)은 110 내지 160㎚인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a film including a transmission-type diffractive optical element layer according to an embodiment of the present invention includes a base; A transmission type diffractive optical element layer located on the base and including a diffraction pattern, wherein the diffraction pattern includes a plurality of layers, and the minimum spacing (△h) in the thickness direction between the plurality of layers is It is characterized in that it is 110 to 160 nm.
이 때, 상기 회절 패턴의 전체 높이(H)는 800 내지 1100㎚인 것이 바람직하다.At this time, the total height (H) of the diffraction pattern is preferably 800 to 1100 nm.
이 때, 상기 회절 패턴과 상기 베이스 사이에 위치하는 레지듀;를 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to include a residue located between the diffraction pattern and the base.
이 때, 상기 베이스는 투명한 PET인 것이 바람직하다.At this time, the base is preferably transparent PET.
이 때, 상기 회절성 광학 소자층은 우레탄 계열 또는 아크릴 계열의 레진인 것이 바람직하다.At this time, the diffractive optical element layer is preferably made of urethane-based or acrylic-based resin.
한편, 상기 베이스의 하부에는 점착층, 접착층, 또는 양면 테이프가 추가로 포함될 수 있다.Meanwhile, an adhesive layer, an adhesive layer, or a double-sided tape may be additionally included in the lower part of the base.
한편, 상기 베이스의 상부 및/또는 하부에는 인쇄층이 추가로 포함될 수 있다.Meanwhile, a printing layer may be additionally included on the top and/or bottom of the base.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자의 제조 방법은, (a) 원래의(original) 이미지 상을 DOE(diffraction optical elements) 마스크로 변환하는 단계; (b) 상기 DOE 마스크를 3개의 층으로 분리하는 단계; (c) 상기 3개의 층의 DOE 마스크 각각을 제조하는 단계; (d) 상기 DOE 마스크 각각을 순서대로 노광 및 에칭하여 상기 실리콘 기판 상에 회절 패턴을 포함하는 마스터 스템프를 제조하는 단계;를 포함할 수 있다.A method of manufacturing a transmission-type diffractive optical element according to an embodiment of the present invention to achieve the above object includes the steps of (a) converting the original image image into a DOE (diffraction optical elements) mask; (b) separating the DOE mask into three layers; (c) manufacturing each of the three layers of DOE masks; (d) manufacturing a master stamp including a diffraction pattern on the silicon substrate by sequentially exposing and etching each of the DOE masks.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름 제조 방법은, (a) 원래의(original) 이미지 상을 DOE(diffraction optical elements) 마스크로 변환하는 단계; (b) 상기 DOE 마스크를 3개의 DOE 단위 마스크로 분리하는 단계; (c) 상기 3개의 DOE 단위 마스크 각각을 제조하는 단계; (d) 상기 DOE 단위 마스크 각각을 순서대로 노광 및 에칭하여 상기 실리콘 기판 상에 회절 패턴을 포함하는 마스터 스템프를 제조하는 단계; (e) 상기 마스터 스템프를 이용하여 회절성 광학 소자를 임프린팅하는 단계;를 포함할 수 있다.To achieve the above object, a film manufacturing method including a transmission-type diffractive optical element layer according to an embodiment of the present invention includes (a) converting the original image image into a DOE (diffraction optical elements) mask. step; (b) separating the DOE mask into three DOE unit masks; (c) manufacturing each of the three DOE unit masks; (d) manufacturing a master stamp including a diffraction pattern on the silicon substrate by sequentially exposing and etching each of the DOE unit masks; (e) imprinting a diffractive optical element using the master stamp.
본 발명에 의하면, 광효율 특성이 우수하고 선명한 정보를 제공하면서 높은 생산성을 가지는 투과형 회절성 광학 소자 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a transmission-type diffractive optical element that has excellent light efficiency characteristics, provides clear information, and has high productivity, and a method of manufacturing the same.
구체적으로 본 발명에 따른 투과형 회절성 광학 소자는 높은 광효율로 선명한 정보를 제공할 수 있는 투과형 회절성 광학 소자를 제공할 수 있다.Specifically, the transmissive diffractive optical element according to the present invention can provide a transmissive diffractive optical element that can provide clear information with high light efficiency.
또한 본 발명에 따른 투과형 회절성 광학 소자의 제조방법에 의하면, 생산성과 광효율 특성이 모두 우수한 투과형 회절성 광학 소자의 제조 방법을 저렴한 비용으로 제조할 수 있다. In addition, according to the manufacturing method of a transmission-type diffractive optical element according to the present invention, a transmission-type diffractive optical element with excellent both productivity and light efficiency characteristics can be manufactured at a low cost.
상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.In addition to the above-described effects, specific effects of the present invention are described below while explaining specific details for carrying out the invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름의 단면도이다.
도 2는 투과형 회절성 광학 소자(Diffractive Optical Element, 이하 광학회절소자 또는 DOE 라 한다)의 회절 패턴에 투과된 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 종래의 홀로그램을 촬영한 사진(a)과 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 촬영한 사진(b)이다.
도 4는 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 제조하는 방법 중 일부인 웨이퍼 제작 공정을 도시한다.
도 5는 원래의(original) 이미지 상을 DOE 마스크로 변환하는 단계를 나타낸다.
도 6은 상기 DOE 마스크를 복수 개의 단위 마스크로 분리 설계하는 단계를 나타낸다.
도 7은 상기 DOE 마스크의 각각의 단위 마스크를 래티클에 배열하는 예를 나타낸다.
도 8은 실리콘 기판 상에 노광하는 단계를 나타낸다.
도 9는 에칭하는 단계를 나타낸다.
도 10은 DOE 패턴 기판이 제조된 일례를 나타낸다.
도 11은 임프린팅 공정의 순서도를 나타낸다.
도 12는 상기 임프린팅 공정을 통해 제조된 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 최종 제품인 필름의 하나의 예를 도시한다.
도 13은 DOE 단위 마스크의 단계(step) 수에 따른 광효율을 시뮬레이션 한 결과를 도시한다.
도 14는 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)에 따른 광효율을 시뮬레이션 한 결과를 도시한다.
도 15는 DOE 단위 마스크의 단계에 따른 투과광의 상(이미지)를 도시한다.
도 16은 2개의 DOE 단위 마스크를 이용하였을 때 구현되는 이미지와 회절슬릿의 이미지를 도시한다.
도 17은 3개의 DOE 단위 마스크를 이용하였을 때 구현되는 이미지와 회절슬릿의 이미지를 도시한다.
도 18은 5개의 DOE 단위 마스크를 이용하였을 때 구현되는 이미지와 회절슬릿의 이미지를 도시한다.1 is a cross-sectional view of a film including a transmissive diffractive optical element according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view for explaining the phase difference of light transmitted through the diffraction pattern of a transmission type diffractive optical element (hereinafter referred to as an optical diffraction element or DOE).
Figure 3 is a photograph taken of a conventional hologram (a) and a photograph taken of a transmission-type diffractive optical element of the present invention (b).
Figure 4 shows a wafer fabrication process that is part of the method for manufacturing the transmission-type diffractive optical element of the present invention.
Figure 5 shows steps for converting an original image into a DOE mask.
Figure 6 shows the steps of separating and designing the DOE mask into a plurality of unit masks.
Figure 7 shows an example of arranging each unit mask of the DOE mask on a reticle.
Figure 8 shows exposure steps on a silicon substrate.
Figure 9 shows the etching steps.
Figure 10 shows an example in which a DOE pattern substrate is manufactured.
Figure 11 shows a flow chart of the imprinting process.
Figure 12 shows an example of a final product film containing a transmissive diffractive optical element manufactured through the imprinting process.
Figure 13 shows the results of simulating light efficiency according to the number of steps of the DOE unit mask.
Figure 14 shows the results of simulating the light efficiency according to the minimum gap (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern.
Figure 15 shows the image (image) of transmitted light according to the level of the DOE unit mask.
Figure 16 shows an image implemented when using two DOE unit masks and an image of a diffraction slit.
Figure 17 shows an image implemented when using three DOE unit masks and an image of a diffraction slit.
Figure 18 shows an image implemented when using five DOE unit masks and an image of a diffraction slit.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. The present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다. 또한, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 첨부된 도면에 있어서, 대상물들의 크기와 양은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대 또는 축소하여 도시한 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.In order to clearly explain the present invention, parts that are not relevant to the description are omitted, and identical or similar components are given the same reference numerals throughout the specification. Additionally, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the exemplary drawings. In adding reference numerals to components in each drawing, identical components may have the same reference numerals as much as possible even if they are shown in different drawings. In the attached drawings, the sizes and amounts of objects are enlarged or reduced from the actual size to ensure clarity of the present invention. Additionally, when describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description may be omitted.
본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, sequence, order, or number of the components are not limited by the term. When a component is described as being “connected,” “coupled,” or “connected” to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but there are no other components between each component. It should be understood that may be “interposed” or that each component may be “connected,” “combined,” or “connected” through other components.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 다른 특징들이나 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in this application are only used to describe specific embodiments and are not intended to limit the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as “comprise” or “comprise” are intended to designate the presence of features, steps, functions, components, or a combination thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of other features, steps, functions, or components. It should be understood that the existence or addition possibility of combinations thereof is not excluded in advance.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Meanwhile, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as generally understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless explicitly defined in the present application, should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense. No.
본 발명은 서로 공존하기 어려운 상기 광효율과 생산성을 모두 만족시킬 수 있는 회절패턴을 가지는 투과형 회절성 광학 소자 및 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 발명하고자 한다.The present invention seeks to invent a film including a transmissive diffractive optical element and a transmissive diffractive optical element having a diffraction pattern that can satisfy both the optical efficiency and productivity that are difficult to coexist with.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a film including a transmissive diffractive optical element according to an embodiment of the present invention.
상기 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(120)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a
외부로부터 입사되는 가시 광, 엘이디 광 또는 레이저 광은 상기 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름(100)의 상기 회절성 광학 소자층(120)으로부터 대부분 투과되고 극히 일부는 반사된다. Visible light, LED light, or laser light incident from the outside is mostly transmitted from the diffractive
이로써, 상기 베이스(110)의 하부를 특정 이미지로 구현할 수 있다.As a result, the lower part of the base 110 can be implemented as a specific image.
특히 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름(100)은 반사형 또는 반투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 대비 광량의 손실이 클 수 있어서 투과형 회절성 광학 소자의 설계가 매우 중요하다.In particular, the
투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름의 경우, 회절성 광학 소자층을 통과한 투과 광은 베이스 필름이나 다른 적층된 필름에 의해 광 손실이 발생하기 때문이다. In the case of a film containing a transmission-type diffractive optical element, light loss occurs in the transmitted light passing through the diffractive optical element layer due to the base film or other laminated films.
이때, 특정 이미지는 진위 판정용 이미지나 사용자에게 제공될 이미지에 해당할 수 있다. 예를 들면, 상기 이미지는 진위 판정이 필요한 제품(대상체)의 제조 회사의 상표 또는 로고 등이나 사용자에게 제공될 정보 등을 포함할 수 있다.At this time, the specific image may correspond to an image for determining authenticity or an image to be provided to the user. For example, the image may include the trademark or logo of the manufacturer of the product (object) requiring authenticity determination, or information to be provided to the user.
비한정적이고 구체적인 예로써 상기 베이스(110)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다. As a non-limiting and specific example, the
예를 들면, 상기 베이스(110)는 PET 재질로 이루어질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the
비한정적이고 구체적인 예로써, PP, OPP, PVC 등의 합성 수지들 역시 상기 베이스로 사용 가능하다.As a non-limiting and specific example, synthetic resins such as PP, OPP, and PVC can also be used as the base.
또한 상기 베이스(110)의 하면 상에는 비한정적인 예로써 접착층, 점착층 또는 양면 접착 테이프(미도시)가 위치할 수 있다.Additionally, as a non-limiting example, an adhesive layer, an adhesive layer, or a double-sided adhesive tape (not shown) may be placed on the lower surface of the
상기 접착층, 점착층 또는 접착 테이프는 상기 베이스(110)를 포장지와 같은 특정 제품에 부착시키는 기능을 수행할 수 있다.The adhesive layer, adhesive layer, or adhesive tape may perform the function of attaching the base 110 to a specific product such as packaging paper.
상기 베이스(110)의 상면(예를 들면 포장지의 경우 포장지의 외부 쪽의 면)에는 투과형 회절성 광학 소자층(120)이 위치될 수 있다.A transmission type diffractive
상기 투과형 회절성 광학 소자층(120)은 그 상면에 회절 패턴(122)을 포함한다. 상기 회절 패턴(122)은 다양한 크기 및 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회절 패턴(122)의 형상은 스트라이프 형상, 모자이크 형상, 피라미드 형상 등을 포함할 수 있다. 상기 회절 패턴(122)은 푸리에 변환 및 푸리에 역변환 과정을 포함하는 설계 알고리즘을 거쳐 특정 이미지를 구현하기 위한 회절 특성을 이용하기 위한 패턴으로 정의될 수 있다.The transmission-type diffractive
상기 회절성 광학 소자층(120) 상에 형성되는 상기 회절 패턴(122)은 높이(또는 필름을 기준으로 두께) 방향으로 프로파일을 가지게 된다.The
상기 회절 패턴(122)은 상기 프로파일에 의해 특정 이미지를 구현할 수 있다.The
도 2는 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름에 포함된 투과형 회절성 광학 소자층(120)의 회절 패턴(122)에 투과된 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.Figure 2 is a cross-sectional view for explaining the phase difference of light transmitted through the
일반적으로 직진성을 가지는 가시 광(단일 파장이 아님) 또는 레이저와 같은 단일 파장의 광이 입사광으로 도 2에 도시된 바와 같은 높이 방향으로 프로파일을 가지는 구조물에 입사된 후 투과되면, 투과 광은 상기 프로파일 내의 높이 차(h)만큼 광의 경로 차가 발생하게 되고 상기 경로 차는 다시 투과 광의 위상 차이를 발생시킨다.In general, when visible light (not a single wavelength) or light of a single wavelength, such as a laser, which travels in a straight line is incident light on a structure having a profile in the height direction as shown in Figure 2 and then transmitted, the transmitted light has the profile. A path difference of light occurs as much as the height difference (h) within the light, and the path difference again generates a phase difference of the transmitted light.
이때 상기 위상 차이는 투과 광의 보강 간섭 또는 상쇄 간섭을 일으키게 되어 상(image)을 형성하게 된다.At this time, the phase difference causes constructive interference or destructive interference of transmitted light, forming an image.
따라서 최종적으로 원하는 이미지의 상을 얻을 수 있도록 상기 회절 패턴(122)을 설계하게 되면, 상기 회절 패턴(122)은 자연 광 또는 단일 파장의 광과 같은 입사 광을 투과시켜 원하는 상을 가지는 투과광을 만들 수 있다.Therefore, when the
이 때 상기 원하는 상을 가지는 투과 광의 품질은 투과 광의 광효율에 의해 결정된다.At this time, the quality of transmitted light having the desired image is determined by the luminous efficiency of the transmitted light.
상기 광효율은 일반적인 다른 효율과 유사하게 입사 광의 강도(intensity) 대비 광원점을 제외한 나머지 회절패턴 이미지의 투과 광의 강도의 비(ratio)로 정의될 수 있다.The optical efficiency, similar to other general efficiencies, can be defined as the ratio of the intensity of the transmitted light of the remaining diffraction pattern image excluding the light source point to the intensity of the incident light.
아래의 식 1은 투과형 회절성 광학 소자에서의 광효율을 수식으로 나타낸다.
[식 1][Equation 1]
(식 1에 대한 보다 자세한 설명은 "Calculation of diffraction efficiency in hologram gratings attenuated along the direction perpendicular to the grating vector", J. of the optical society of America, pp. 280-287 vol. 63 No. 3, March 1973 참조)(For a more detailed explanation of
도 3은 종래의 홀로그램을 촬영한 사진(a)과 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 촬영한 사진(b)이다.Figure 3 is a photograph (a) taken of a conventional hologram and a photograph (b) taken of a film including a transmission-type diffractive optical element of the present invention.
종래의 홀로그램과는 달리 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름은 높이 방향으로 프로파일을 가짐을 알 수 있다.It can be seen that, unlike conventional holograms, the film containing the transmission-type diffractive optical element of the present invention has a profile in the height direction.
이 때 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름은 상기 프로파일을 구성하는 회절 패턴(122)을 포함하고, 상기 회절 패턴(122)은 다시 서로 다른 높이를 가지는 복수 개의 층을 포함한다. At this time, the film containing the transmission-type diffractive optical element of the present invention includes a
상기 회절 패턴(122)을 구성하는 복수 개의 층에서의 각 층은 상기 투과형 회절성 광학 소자의 전체 두께(H)에 비해 낮은 두께(h)를 가지며, 상기 각각의 층들이 가지는 두께(h)의 차이가 상기 프로파일을 구성하게 된다.Each layer of the plurality of layers constituting the
한편 투과형 회절성 광학 소자는 후술할 임프린팅 공정 등의 특성으로 인해 상기 회절패턴의 하면에 레지듀(residue, 121)를 포함할 수 있다. 상기 레지듀(121)는 임프린팅 공정을 사용하여 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 제작하는 경우 임프린팅에 의해 패턴이 형성되지 않은 필름의 하부를 의미한다. Meanwhile, the transmission-type diffractive optical element may include a
상기 레지듀(121)의 두께는 공정 조건 등에 의해 최적화된다. 비록 상기 레지듀(121)가 투과형 회절성 광학 소자의 광특성에는 직접적으로 영향을 미치지 않는다 하더라도 상기 레지듀(121)는 투과형 회절성 광학 소자의 광특성에 간접적으로 영향을 미칠 수 있다.The thickness of the
예를 들어 만일 상기 투과형 회절성 광학 소자가 표면이 울퉁불퉁한 표면에 부착되는 경우, 통상 레진으로 형성되는 상기 레지듀(121)의 소재의 특성으로 인해 상기 레지듀(121)는 마치 거울과 같은 기능을 수행할 수 있다. 따라서 울퉁불퉁한 소재에 입사된 입사광의 일부는 상기 레지듀(121)의 거울 효과로 인해 그 일부가 반사되어 회절성 광학 소자에 입사됨으로써 최종 관측되는 회절광의 강도 향상에 일정 부분 부정적으로 기여할 수 있다.For example, if the transmission-type diffractive optical element is attached to a surface with a rough surface, the
그러나 상기 레지듀(121)는 투과형 회절성 광학 소자의 광특성에 직접적으로 영향을 미치지 않으므로, 이하 본 명세서에서 설명하는 투과형 회절성 광학 소자의 전체 두께(H) 및 회절 패턴(122)을 구성하는 각 층의 두께(h)에서는 상기 레지듀(121)의 두께는 포함되지 않는다. 다시 말하면 본 명세서에서 설명하는 투과형 회절성 광학 소자(120)의 전체 두께(H) 및 회절 패턴(122)을 구성하는 각 층의 두께(h)는 모두 레지듀(121)의 두께를 제외한 두께를 의미한다.However, since the
이 때, 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름에서 상기 투과형 회절성 광학 소자의 전체 두께(H)는 880 내지 1,100㎚ 일 수 있다.At this time, in the film including the transmission-type diffractive optical element of the present invention, the total thickness (H) of the transmission-type diffractive optical element may be 880 to 1,100 nm.
만일 상기 두께(H)가 880㎚보다 얇은 경우, 투과형 회절성 광학 소자의 기계적 안정성이 취약해지고 나아가 너무 얇은 두께로 인해 일부 광은 반사가 되어 투과형이 아닌 반투과형이 되거나 광효율이 낮아지는 문제가 있다.If the thickness (H) is thinner than 880 nm, the mechanical stability of the transmissive diffractive optical element becomes weak, and furthermore, due to the too thin thickness, some light is reflected and becomes transflective rather than transmissive, or there is a problem of low optical efficiency. .
반면 만일 상기 두께(H)가 1,100㎚보다 두꺼운 경우, 상기 회절성 광학 소자 자체로 흡수되는 입사 광이 많아져서 광효율이 저하되는 문제가 있다.On the other hand, if the thickness (H) is thicker than 1,100 nm, there is a problem that the light efficiency is reduced because more incident light is absorbed by the diffractive optical element itself.
한편 상기 도 2에서 도시된 바와 같이, 투과 광이 상(이미지)을 형성하기 위해서는 상기 투과형 회절성 광학 소자는 상기 프로파일을 가져야 한다.Meanwhile, as shown in FIG. 2, in order for transmitted light to form an image (image), the transmission type diffractive optical element must have the above profile.
또한 위에서 기재한 바와 같이 상기 프로파일을 형성하기 위해, 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)를 가져야 한다.Additionally, in order to form the profile as described above, there must be a minimum spacing (Δh) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern.
이 때 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)은 28~550㎚ 일 수 있다.At this time, the minimum gap (Δh) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern may be 28 to 550 nm.
만일 상기 최소 간격(△h)이 28㎚보다 얇은 경우, 마스터 스탬프를 제작하기 위한 반도체 공정 단계가 많아져서 생산성이 떨어지는 문제가 있다. If the minimum gap (Δh) is thinner than 28 nm, the number of semiconductor processing steps to manufacture the master stamp increases, leading to a problem of reduced productivity.
반면 만일 상기 최소 간격(△h)이 550㎚보다 두꺼운 경우, 투과광의 회절(diffraction)이 충분하지 아니하여 광효율이 저하되는 문제가 있다.On the other hand, if the minimum gap (Δh) is thicker than 550 nm, there is a problem that light efficiency is reduced due to insufficient diffraction of transmitted light.
상기 최소 간격(△h)은 55~275㎚ 인 것이 바람직하다.The minimum spacing (Δh) is preferably 55 to 275 nm.
상기 최소 간격(△h)은 110~160㎚ 인 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that the minimum spacing (Δh) is 110 to 160 nm.
특히 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)은 상기 광효율과 생산성(수율)에 직접적인 영향을 준다.In particular, the minimum gap (Δh) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern directly affects the light efficiency and productivity (yield).
일반적으로 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)이 작을수록 광효율은 증가하고 투과광의 상이 보다 미세하고 선명해진다.In general, as the minimum gap (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern becomes smaller, the light efficiency increases and the transmitted light image becomes finer and clearer.
이와는 달리 임프린팅 등의 공정에 의해 실제로 구현되는 회절패턴 내의 상기 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)은 상기 최소 간격(△h)이 작을수록 구현이 어려워질 뿐만 아니라 그에 따라 생산성이 저하되게 된다.In contrast, the minimum spacing (△h) in the thickness direction between each layer in the diffraction pattern that is actually implemented by a process such as imprinting is not only more difficult to implement as the minimum spacing (△h) becomes smaller, but also increases productivity. This becomes deteriorated.
결국 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)의 변화에 따라 광효율과 생산성은 서로 트레이드 오프(trade-off) 관계를 가지게 된다.Ultimately, luminous efficiency and productivity have a trade-off relationship depending on the change in the minimum gap (Δh) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern.
다시 말하면, 상기 광효율과 생산성은 서로 공존하기 어려운 특성 관계에 있다.In other words, the luminous efficiency and productivity have a characteristic relationship that makes it difficult for them to coexist.
한편 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름은 베이스와 상기 회절성 광학 소자층 이외에 추가적으로 광투과층, 접착층, 점착층, 보호층을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the film including the transmission-type diffractive optical element of the present invention may further include a light transmission layer, an adhesive layer, an adhesive layer, and a protective layer in addition to the base and the diffractive optical element layer.
도 4는 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 제조하는 방법 중 일부인 투과형 회절성 광학 소자를 제조하기 위한 웨이퍼 제작 공정을 도시한다.4 shows a wafer fabrication process for manufacturing a transmission-type diffractive optical element, which is part of a method of manufacturing a film containing a transmission-type diffractive optical element of the present invention.
도 5 내지 10은 상기 웨이퍼 제작 공정을 구성하는 각 단계를 도시한 것이다.5 to 10 illustrate each step of the wafer manufacturing process.
먼저 도 4에서 도시하는 바와 같이, 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 제조하는 방법은 (a) 원래의(original) 이미지 상을 DOE(diffraction optical elements) 마스크로 변환하는 단계; (b) 상기 DOE 마스크를 복수 개의 단위 마스크로 분리하는 단계; (c) 상기 DOE 단위 마스크의 각각의 층을 제조하는 단계; (d) 기판 상에 노광하는 단계; (e) 에칭하는 단계; (f) DOE 패턴 기판을 제조하는 단계;를 포함한다.First, as shown in FIG. 4, the method of manufacturing a film including a transmission-type diffractive optical element of the present invention includes (a) converting the original image image into a DOE (diffraction optical elements) mask; (b) separating the DOE mask into a plurality of unit masks; (c) manufacturing each layer of the DOE unit mask; (d) exposing the substrate; (e) etching; (f) manufacturing a DOE pattern substrate.
도 5는 원래의(original) 이미지 상을 DOE 마스크로 변환하는 단계를 나타낸다.Figure 5 shows steps for converting an original image into a DOE mask.
먼저 투과형 회절성 광학 소자에 의해 표시하고자 하는 원래의(original) 이미지는 푸리에 변환(Fourier tansformation)을 통해 실제 광원(자연광 또는 레이저 광)에 의해 목표로 하는 효율 및 강도가 구해지는지를 시뮬레이션을 한다. 상기 광원의 비한정적이고 구체적인 예로써 상기 광원은 단파장의 녹색광일 수 있다. 특히 녹색광의 경우 자연광 중에서 관찰자인 인간의 눈에 가장 잘 띌 뿐만 아니라 다른 파장에 비해 빛의 강도가 크기 때문에 바람직하다.First, the original image to be displayed by the transmissive diffractive optical element is simulated to determine whether the target efficiency and intensity are obtained by an actual light source (natural light or laser light) through Fourier transform. As a non-limiting and specific example of the light source, the light source may be short-wavelength green light. In particular, green light is desirable because not only is it the most visible to the human eye among natural lights, but the intensity of the light is greater than that of other wavelengths.
상기 시뮬레이션 과정은 필요에 따라 생략될 수도 있다.The simulation process may be omitted as needed.
다음으로 목표로 하는 원래의 이미지의 타겟 강도를 설정한 후 이를 구현하기 위한 DOE 마스크를 얻기 위하여 역푸리에 변환(Inverse Fourier tansformation)을 통해 DOE 마스크를 설계한다.Next, after setting the target intensity of the original image, a DOE mask is designed through inverse Fourier transformation to obtain a DOE mask to implement it.
도 6은 상기 DOE 마스크를 복수 개의 단위 마스크로 분리 설계하는 단계를 나타낸다.Figure 6 shows the steps of separating and designing the DOE mask into a plurality of unit masks.
상기 DOE 마스크는 단수 개로 또는 복수 개의 단위 마스크로 설계될 수도 있다. The DOE mask may be designed as a single mask or as a plurality of unit masks.
만일 DOE 마스크를 단수 개로 설계하게 되면, 최종 제품인 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 내에 포함되는 투과형 회절성 광학 소자 내의 회절 패턴(122)이 최종 이미지를 정확하게 표현해 낼 수 없다.(도 13의 2 level 참조)If a single DOE mask is designed, the
반면 DOE 마스크를 지나치게 많은 개수(단계)로 설계하게 되면, 광 효율이나 관찰자에게 인식되는 선명도의 향상은 달성하지 못하고 최종 제품인 투과형 회절성 광학 소자나 또는 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 내에 포함되는 회절 패턴(122)이 지나치게 정밀해지고 복잡해져서 생산성이 저하될 뿐만 아니라 수율에 문제가 발생하게 된다.On the other hand, if the DOE mask is designed with an excessively large number (steps), the improvement in light efficiency or the clarity perceived by the observer cannot be achieved, and the final product, the transmission-type diffractive optical element, or the film containing the transmission-type diffractive optical element The
도 7은 상기 DOE 마스크의 각각의 단위 마스크를 래티클에 배열하는 예를 나타낸다.Figure 7 shows an example of arranging each unit mask of the DOE mask on a reticle.
도 8은 실리콘 기판 상에 노광하는 단계를 나타낸다.Figure 8 shows exposure steps on a silicon substrate.
도 9는 에칭하는 단계를 나타낸다.Figure 9 shows the etching steps.
도 7 내지 9에 도시된 바와 같이, 상기 복수 개의 단위 마스크는 통상적인 포토 리소그래피(photo lithography)를 통해 실리콘 웨이퍼 상에 회절 패턴(122)을 구현하게 된다.As shown in FIGS. 7 to 9, the plurality of unit masks implement a
구체적으로 레티클 원판 위로 광원(UV 또는 EUV 계열의 광원)을 노출시켜 감광액이 도포되어 있는 웨이퍼에 회절 패턴(122)을 형성할 수 있다.Specifically, a
보다 구체적으로 도 9에 도시된 바와 같이 각각의 단위 마스크를 이용하여 포토 리소그래피 공정을 복수 회 수행하게 되면, 최종 웨이퍼에는 서로 다른 두께를 가지는 각각의 층들을 포함하는 회절 패턴(122)이 형성된다.More specifically, as shown in FIG. 9, when the photolithography process is performed multiple times using each unit mask, a
도 10은 DOE 패턴 기판이 제조된 일례를 나타낸다.Figure 10 shows an example in which a DOE pattern substrate is manufactured.
도 10에 도시된 바와 같이, 상기 DOE 마스크에 의해 제조된 실리콘 웨이퍼에는 도 9에서의 에칭하는 단계에 의해 도시된 개략도와 같은 서로 다른 두께를 가지는 각각의 층들을 포함하는 회절 패턴(122)이 형성됨을 알 수 있다.As shown in FIG. 10, a
한편 상기와 같은 방법에 의해 하나의 실리콘 기판 상에는 동일한 회절 패턴(122)을 가지는 단수 또는 복수 개의 동일한 마스터 스탬프(master stamp)가 형성될 수 있다.Meanwhile, single or multiple identical master stamps having the
이하 비한정적이고 구체적인 예로써, 상기 마스터 스탬프를 이용하여 임프린팅 공정을 통해 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 제조하는 방법을 보다 자세히 설명한다.Hereinafter, as a non-limiting and specific example, a method of manufacturing a film including a transmission-type diffractive optical element through an imprinting process using the master stamp will be described in more detail.
도 11은 임프린팅 공정의 순서도를 나타낸다.Figure 11 shows a flow chart of the imprinting process.
도 12는 상기 임프린팅 공정을 통해 제조된 최종 제품의 하나인 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름의 하나의 예를 도시한다.Figure 12 shows an example of a film containing a transmission-type diffractive optical element, which is one of the final products manufactured through the imprinting process.
먼저 상기 웨이퍼 상에 위치하는 단수 또는 복수 개의 마스터 스탬프를 이용하여 원단 타일링(Tiling) 공정이 진행될 수 있다.First, a fabric tiling process may be performed using a single or multiple master stamps located on the wafer.
상기 타일링 공정은 레플리카를 이용하여 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름에 회절성 광학 소자의 회절 패턴(122)을 각인시키는데 이용될 수 있는 동판을 제작하기 위한 공정이다.The tiling process is a process for manufacturing a copper plate that can be used to imprint the
구체적으로 상기 타일링 공정에서는 기계 또는 수작업으로 상기 마스터 스탬프를 타일링 전용 필름 상에 복제한 후, 상기 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 크기에 맞게 타일링을 한다. 비한정적이면서 구체적인 예로써 상기 타일링은 폭 1,200㎜ 정도의 크기로 진행될 수 있으나, 최종 제품 및/또는 동판 등의 크기에 따라 조절이 가능하다.Specifically, in the tiling process, the master stamp is copied on a tiling-only film by machine or manually, and then tiled to fit the size of the film including the transmissive diffractive optical element. As a non-limiting and specific example, the tiling may be performed at a size of approximately 1,200 mm in width, but can be adjusted depending on the size of the final product and/or copper plate, etc.
상기 타일링된 상기 전용 필름은 후속 성형 공정에 사용되는 롤타입의 마스터 몰드의 제작에 이용되며 상기 마스터 몰드는 동판에 이식된다.The tiled exclusive film is used to manufacture a roll-type master mold used in the subsequent molding process, and the master mold is implanted on a copper plate.
상기 타일링 공정에 의해 제조된 상기 동판은 후속 성형공정을 통해 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름에 투과형 회절성 광학 소자를 이식할 수 있다.The copper plate manufactured by the tiling process can be implanted with a transmission-type diffractive optical element into a film containing a transmission-type diffractive optical element through a subsequent molding process.
비한정적이고 구체적인 예로써 상기 성형 공정은 롤투롤(roll to roll) 공정이거나 롤투플레이트(roll to plate) 공정일 수 있다.As a non-limiting and specific example, the forming process may be a roll to roll process or a roll to plate process.
상기 성형 공정을 통해 제조되며 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 내에 위치하는 상기 투과형 회절성 광학 소자는 도 1 및 12에서 도시된 바와 같이 베이스 상에 위치한다. The transmission-type diffractive optical element manufactured through the molding process and located within the film containing the transmission-type diffractive optical element is located on a base as shown in FIGS. 1 and 12.
따라서 상기 투과형 회절성 광학 소자의 제조를 위해 먼저 베이스와 상기 베이스 상에 위치하며 투과형 회절성 광학 소자가 형성될 수 있는 레진의 적층체가 상기 성형공정보다 먼저 진행되어야 한다.Therefore, in order to manufacture the transmission-type diffractive optical element, a base and a laminate of resin positioned on the base and capable of forming the transmission-type diffractive optical element must be performed before the molding process.
이 때 상기 베이스는 본 발명의 회절성 광학 소자가 투과형이므로 광을 투과할 수 있는 투명도가 높은 필름이 바람직하다. At this time, since the diffractive optical element of the present invention is a transmission type, the base is preferably a film with high transparency that can transmit light.
비한정적이고 구체적인 예로써 PET 등이 이용될 수 있다. PET, etc. may be used as a non-limiting and specific example.
비한정적이고 구체적인 예로써, PP, OPP, PVC 등의 합성 수지들 역시 상기 베이스로 사용 가능하다.As a non-limiting and specific example, synthetic resins such as PP, OPP, and PVC can also be used as the base.
다만 PET의 경우, 투명도가 높을 뿐만 아니라 다른 올레핀계 고분자 대비 기계적 강성이 높으므로 베이스에 적합하다.However, in the case of PET, it is suitable for the base because it not only has high transparency but also has higher mechanical rigidity compared to other olefin polymers.
상기 베이스 상에 위치하는 투과형 회절성 광학 소자는 고분자 레진으로 제조될 수 있다.The transmission-type diffractive optical element located on the base may be made of polymer resin.
이 때 상기 고분자 레진은 우레탄 계열 또는 아크릴 계열로 이루어질 수 있다.At this time, the polymer resin may be urethane-based or acrylic-based.
이 때 상기 고분자 레진은 열경화 또는 UV 경화를 통해 curing 될 수 있다.At this time, the polymer resin can be cured through heat curing or UV curing.
상기 베이스와 상기 레진의 적층체는 공급 롤러를 통해 롤 타입의 상기 마스터 몰드에 제공되고, 상기 성형 공정 동안 압연과 유사하에 일정한 힘을 상기 적층체에 가한 상태에서 작업 대상인 상기 적층체에 상기 마스터 몰드의 반대 패턴을 각인할 수 있다. 이를 통해 상기 적층체에는 투과형 회절성 광학 소자를 구성하는 회절 패턴(122)이 형성될 수 있다.The laminate of the base and the resin is provided to the master mold in a roll type through a supply roller, and during the molding process, a constant force is applied to the laminate similar to rolling and the master mold is applied to the laminate to be worked. The opposite pattern can be engraved. Through this, a
나아가 상기 베이스의 하부 및/또는 상부에는 필요에 따라 제품의 식별력을 높일 수 있도록 상표 등이 인쇄된 인쇄층을 포함할 수 있다.Furthermore, the lower and/or upper part of the base may include a printed layer with a trademark printed on it, if necessary, to increase product identification.
또한 투과형 광학 소자가 부착되는 부품에 상기 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름을 접착 내지는 점착시킬 수 있도록 점착층 및/또는 접착층 및/또는 양면 테이프가 적층될 수 있다.Additionally, an adhesive layer and/or an adhesive layer and/or a double-sided tape may be laminated so that the film including the transmission-type diffractive optical element can be adhered to the component to which the transmission-type optical element is attached.
이하 실시예를 통해 본 발명의 투과형 회절성 광학 소자를 포함하는 필름 및 그 제조 방법을 설명하기로 한다.The film including the transmission-type diffractive optical element of the present invention and its manufacturing method will be described through examples below.
실시예Example
도 13은 DOE 단위 마스크의 단계(step) 수에 따른 광효율을 시뮬레이션 한 결과를 도시한다.Figure 13 shows the results of simulating light efficiency according to the number of steps of the DOE unit mask.
도 14는 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)에 따른 광효율을 시뮬레이션 한 결과를 도시한다.Figure 14 shows the results of simulating the light efficiency according to the minimum gap (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern.
상기 광효율은 상기 식 1을 바탕으로 Luen Soft사의 Virtual Lab Fusion(2nd Generation Technology Update) 프로그램을 이용하여 시뮬레이션된 결과이다.The luminous efficiency is a result of simulation using Luen Soft's Virtual Lab Fusion (2nd Generation Technology Update) program based on
먼저 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 회절패턴을 구현하는 DOE 마스크의 단계가 증가할수록 광효율이 증가하는 것을 알 수 있다.First, as shown in FIG. 13, it can be seen that light efficiency increases as the level of the DOE mask implementing the diffraction pattern increases.
이 때 DOE 마스크의 단계가 1에서 3까지 증가함에 따라 광효율은 급격히 증가한다. At this time, as the DOE mask level increases from 1 to 3, the light efficiency increases rapidly.
반면 DOE 마스크의 단계가 3에서 6까지 증가함에 따라 광효율은 거의 변화가 없거나 약간 증가하는 것으로 나타났다.On the other hand, as the DOE mask level increased from 3 to 6, the light efficiency showed little change or a slight increase.
도 13의 결과는 DOE 마스크의 단계가 3 또는 4에서 광효율이 거의 포화(saturation)됨을 의미한다.The results in FIG. 13 mean that the light efficiency is almost saturated when the DOE mask level is 3 or 4.
한편 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)이 얇을수록 광효율은 증가하는 것을 알 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 14, it can be seen that the light efficiency increases as the minimum gap (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern becomes thinner.
도 13 및 14의 결과는 광효율이 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)에 대해 단순히 선형적으로 변화하지 않음을 의미한다.The results of FIGS. 13 and 14 mean that the light efficiency does not simply change linearly with respect to the minimum spacing (Δh) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern.
삭제delete
삭제delete
특히 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)이 110 내지 160㎚인 경우, 광효율의 변화없이도 생산성이 우수한 회절패턴을 가질 수 있음을 의미한다.In particular, when the minimum distance (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern is 110 to 160 nm, it means that a diffraction pattern with excellent productivity can be obtained without changing light efficiency.
도 15는 DOE 단위 마스크의 단계에 따른 투과광의 상(이미지)를 도시한다.Figure 15 shows the image (image) of transmitted light according to the level of the DOE unit mask.
도 15는 관찰자가 실제로 관찰하는 투과광의 상을 직관적으로 나타낸다.Figure 15 intuitively shows the image of transmitted light that an observer actually observes.
도 15에서 도시하는 바와 같이, 일정한 회절패턴의 전체 높이(H)에 대해 상기 회절패턴을 구성하는 층들이 증가할수록(다시 말하면 상기 회절패턴의 각각의 층들 사이의 두께 방향으로 최소 간격(△h)이 감소할수록) 투과광의 상이 보다 선명해짐을 알 수 있다.As shown in FIG. 15, as the layers constituting the diffraction pattern increase with respect to the total height (H) of the diffraction pattern (in other words, the minimum spacing (△h) in the thickness direction between each layer of the diffraction pattern increases. (As this decreases), it can be seen that the image of transmitted light becomes clearer.
보다 구체적으로 살펴보면, 상기 회절패턴을 구성하는 층들이 2 레벨에서 8 레벨로 증가함에 따라 상기 투과광의 선명도는 급격히 개선되다가 그 후 32 레벨까지는 거의 변화가 없음을 알 수 있다.Looking more specifically, it can be seen that as the layers constituting the diffraction pattern increase from 2 levels to 8 levels, the clarity of the transmitted light rapidly improves, but there is almost no change thereafter until the 32nd level.
도 15의 결과는 상기 도 13 및 14의 결과와 매우 잘 부합한다. The results of Figure 15 agree very well with the results of Figures 13 and 14 above.
한편 입사광이 녹색광인 경우가 백색광인 경우보다 투과광의 상이 더욱 선명한 것을 알 수 있다. 이는 백색광의 경우 단일 파장이 아닌 여러 가지 파장이 혼합되어, 이로 인해 다양한 파장의 광들이 상호 간섭을 일으키기 때문이다.Meanwhile, it can be seen that when the incident light is green light, the image of transmitted light is clearer than when the incident light is white light. This is because in the case of white light, various wavelengths are mixed rather than a single wavelength, which causes the lights of various wavelengths to interfere with each other.
도 16 내지 도 18은 DOE 단위 마스크의 개수에 따른 실제 구현되는 이미지 및 회절 슬릿의 예를 도시한다.Figures 16 to 18 show examples of actually implemented images and diffraction slits according to the number of DOE unit masks.
도 16에서 도시된 바와 같이 DOE 단위 마스크 2개를 이용하여 이미지를 구현하는 경우(4개의 서로 다른 높이를 가지는 회절 패턴(122)의 경우), 원하는 번개 이미지와 실제 구현되는 이미지는 서로 동일하지 않음을 알 수 있다.As shown in FIG. 16, when an image is implemented using two DOE unit masks (in the case of
반면 도 17 및 18에서 도시된 바와 같이 DOE 단위 마스크 3개(도 17, 8개의 서로 다른 높이를 가지는 회절 패턴(122)) 및 5개(도 18, 32개의 서로 다른 높이를 가지는 회절 패턴(122))를 이용하여 이미지를 구현하는 경우에는 모두 원하는 번개 이미지가 실제로 구현됨을 확인할 수 있으며, 나아가 회절 슬릿은 육안으로는 그 차이가 명확하게 구분되기 힘들 정도로 유사한 것을 확인할 수 있다.On the other hand, as shown in FIGS. 17 and 18, there are three DOE unit masks (FIG. 17,
도 16 내지 도 18의 결과는 앞에서 설명한 도 15의 결과를 직관적(시각적)으로 입증하는 것이라 할 수 있다.The results of FIGS. 16 to 18 can be said to intuitively (visually) verify the results of FIG. 15 described above.
이상과 같이 본 발명에 대해서 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.As described above, the present invention has been described with reference to the illustrative drawings, but the present invention is not limited to the embodiments and drawings disclosed herein, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is obvious that transformation can occur. In addition, although the operational effects according to the configuration of the present invention were not explicitly described and explained in the above description of the embodiments of the present invention, it is natural that the predictable effects due to the configuration should also be recognized.
Claims (11)
상기 회절 패턴은 복수 개의 층들을 포함하며,
상기 복수 개의 층들 사이의 두께 방향으로의 최소 간격(△h)은 110 내지 160㎚이고,
상기 회절 패턴의 전체 높이(H)는 880 내지 1100㎚인 투과형 회절성 광학 소자.
In a transmission-type diffractive optical element including a diffraction pattern,
The diffraction pattern includes a plurality of layers,
The minimum gap (△h) in the thickness direction between the plurality of layers is 110 to 160 nm,
A transmission type diffractive optical device wherein the total height (H) of the diffraction pattern is 880 to 1100 nm.
상기 베이스 상에 위치하고, 회절 패턴을 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층;을 포함하고,
상기 회절 패턴은 복수 개의 층들을 포함하며, 상기 복수 개의 층들 사이의 두께 방향으로의 최소 간격(△h)은 110 내지 160㎚이고,
상기 회절 패턴의 전체 높이(H)는 880 내지 1100㎚인 것;을 특징으로 하는 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
Base;
It includes a transmission type diffractive optical element layer located on the base and including a diffraction pattern,
The diffraction pattern includes a plurality of layers, and the minimum spacing (△h) in the thickness direction between the plurality of layers is 110 to 160 nm,
A film comprising a transmission-type diffractive optical element layer, characterized in that the total height (H) of the diffraction pattern is 880 to 1100 nm.
상기 회절 패턴과 상기 베이스 사이에 위치하는 레지듀;를 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
According to claim 3,
A film comprising a transmission-type diffractive optical element layer including a residue positioned between the diffraction pattern and the base.
상기 베이스는 투명한 PET인 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
According to claim 3,
The base is a film comprising a transparent diffractive optical element layer of transparent PET.
상기 회절성 광학 소자층은 우레탄 계열 또는 아크릴 계열의 레진인 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
According to claim 3,
The diffractive optical element layer is a film comprising a transmission-type diffractive optical element layer made of urethane-based or acrylic-based resin.
상기 베이스의 하부에 위치하는 점착층, 접착층, 또는 양면 테이프를 추가로 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
According to claim 3,
A film comprising a transmission-type diffractive optical element layer further comprising an adhesive layer, an adhesive layer, or a double-sided tape positioned below the base.
상기 베이스의 상부 및/또는 하부에 위치하는 인쇄층을 추가로 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름.
According to claim 3,
A film comprising a transmission-type diffractive optical element layer further comprising a printing layer located on top and/or below the base.
(b) 상기 DOE 마스크를 3개의 DOE 단위 마스크로 분리하는 단계;
(c) 상기 3개의 DOE 단위 마스크 각각을 제조하는 단계;
(d) 상기 DOE 단위 마스크 각각을 순서대로 노광 및 에칭하여 실리콘 기판 상에 회절 패턴을 포함하는 마스터 스템프를 제조하는 단계;를 포함하는 투과형 회절성 광학 소자 제조 방법.
(a) converting the original image image into a DOE (diffraction optical elements) mask through Fourier transform and inverse Fourier transform;
(b) separating the DOE mask into three DOE unit masks;
(c) manufacturing each of the three DOE unit masks;
(d) manufacturing a master stamp including a diffraction pattern on a silicon substrate by sequentially exposing and etching each of the DOE unit masks.
(b) 상기 DOE 마스크를 3개의 DOE 단위 마스크로 분리하는 단계;
(c) 상기 3개의 DOE 단위 마스크 각각을 제조하는 단계;
(d) 상기 DOE 단위 마스크 각각을 순서대로 노광 및 에칭하여 실리콘 기판 상에 회절 패턴을 포함하는 마스터 스템프를 제조하는 단계;
(e) 상기 마스터 스템프를 이용하여 회절성 광학 소자를 임프린팅하는 단계;를 포함하는 투과형 회절성 광학 소자층을 포함하는 필름 제조 방법.
(a) converting the original image image into a DOE (diffraction optical elements) mask through Fourier transform and inverse Fourier transform;
(b) separating the DOE mask into three DOE unit masks;
(c) manufacturing each of the three DOE unit masks;
(d) manufacturing a master stamp including a diffraction pattern on a silicon substrate by sequentially exposing and etching each of the DOE unit masks;
(e) imprinting a diffractive optical element using the master stamp. A film manufacturing method comprising a transmission-type diffractive optical element layer.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210094499A KR102377297B1 (en) | 2021-07-19 | 2021-07-19 | Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same |
PCT/KR2022/004209 WO2023003125A1 (en) | 2021-07-19 | 2022-03-25 | Transmissive diffractive optical device, film comprising same, and method for manufacturing film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210094499A KR102377297B1 (en) | 2021-07-19 | 2021-07-19 | Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102377297B1 true KR102377297B1 (en) | 2022-03-22 |
Family
ID=80988816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210094499A KR102377297B1 (en) | 2021-07-19 | 2021-07-19 | Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102377297B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023003125A1 (en) * | 2021-07-19 | 2023-01-26 | (주) 나노메카 | Transmissive diffractive optical device, film comprising same, and method for manufacturing film |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090054331A (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-29 | 엘지전자 주식회사 | Reflective polarized light film, back light unit and liquid crystal display device comprising the same |
KR20190143075A (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-30 | 주식회사 엘지화학 | Manufacturing method of mold for diffraction grating light guide plate and manufacturing method of diffraction grating light guide plate |
KR20200015350A (en) * | 2018-12-24 | 2020-02-12 | (주) 나노메카 | Reflective-transmissive type film for preventing counterfeit |
KR20200126567A (en) * | 2019-04-30 | 2020-11-09 | 울산과학기술원 | Manufacturing method for visually stereoscopic printing film and visually stereoscopic printing film using the same |
-
2021
- 2021-07-19 KR KR1020210094499A patent/KR102377297B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090054331A (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-29 | 엘지전자 주식회사 | Reflective polarized light film, back light unit and liquid crystal display device comprising the same |
KR20190143075A (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-30 | 주식회사 엘지화학 | Manufacturing method of mold for diffraction grating light guide plate and manufacturing method of diffraction grating light guide plate |
KR20200015350A (en) * | 2018-12-24 | 2020-02-12 | (주) 나노메카 | Reflective-transmissive type film for preventing counterfeit |
KR20200126567A (en) * | 2019-04-30 | 2020-11-09 | 울산과학기술원 | Manufacturing method for visually stereoscopic printing film and visually stereoscopic printing film using the same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023003125A1 (en) * | 2021-07-19 | 2023-01-26 | (주) 나노메카 | Transmissive diffractive optical device, film comprising same, and method for manufacturing film |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108025583B (en) | Method of manufacturing a security document and security device | |
TWI435191B (en) | Multilayer body with volumn -hologram | |
RU2491595C2 (en) | Protective element and method of making protective element | |
WO2012157592A1 (en) | Volumetric hologram, manufacturing method thereof, and diffracted light wavelength spectrum shift method | |
KR101554905B1 (en) | Imaging of deep structures or reliefs for shallow relief embossing | |
CN103874941A (en) | Object including latent image | |
US11472216B2 (en) | Method for producing security elements, and security elements | |
JP6373870B2 (en) | Method for later holographic writing and semi-finished product and device for later holographic writing | |
JP6201289B2 (en) | Image display body and information medium | |
KR102377297B1 (en) | Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same | |
KR102377294B1 (en) | Reflective type film for anti-counterfeiting and manufacturing method for the same | |
CN108957611B (en) | Manufacturing method of grating sheet, grating sheet and display device | |
US20240125996A1 (en) | Method for Replicating Large-Area Holographic Optical Element, and Large Area Holographic Optical Element Replicated Thereby | |
KR102403987B1 (en) | Transmissive type diffraction optical elements and manufacturing method for the same | |
KR102399615B1 (en) | Diffraction optical elements and manufacturing method for the same | |
KR102403984B1 (en) | Reflective type film for anti-counterfeiting and manufacturing method for the same | |
US20220048311A1 (en) | Security documents and methods of manufacture thereof | |
JP2013020084A (en) | Display body with computer-generated hologram, and labeled article | |
CN113500801A (en) | Diffraction-inhibiting optical element and manufacturing method thereof | |
JP5040642B2 (en) | Method for manufacturing diffraction structure formed body | |
KR101942241B1 (en) | Film with 3d image pattern and method for manufacturing the same | |
US20100196617A1 (en) | Production of a surface relief on a substrate | |
KR102042757B1 (en) | Film with micro pattern and method for manufacturing the same | |
KR20120119963A (en) | Hologram including image pattern layer representing a plurality of images with various colors, and method for designing image pattern layer | |
KR20230115729A (en) | Plane duplicating technology of round holographic optical element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GRNT | Written decision to grant |