KR101002090B1 - Electrode Composition for Offset Printing, Method for Preparing a Electrode and a Plasma Display Panel using the Same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 오프셋 인쇄용 전극 조성물, 이를 이용한 전극 및 플라스마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명의 조성물은 0.01 내지 5 중량% 실록산 화합물을 함유함으로써 우수한 전사성 및 300회 이상의 연속인쇄성을 구현하며, 이를 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 및 배면판 상에 미세 전극 패턴 제조시 패턴의 형성속도를 향상시키고 재현성을 구현할 수 있다.The present invention relates to an electrode composition for offset printing, an electrode and a plasma display panel using the same. The composition of the present invention implements excellent transferability and at least 300 continuous printability by containing 0.01 to 5% by weight of the siloxane compound, and by using the composition of the pattern on the front plate and the back plate of the plasma display panel Speed up the formation and achieve reproducibility.

전극, 플라즈마 디스플레이, 오프셋, 블랭킷 Electrodes, Plasma Displays, Offsets, Blankets

Description

오프셋 인쇄용 전극 조성물, 이를 이용한 전극 형성방법 및 플라즈마 디스플레이 패널 {Electrode Composition for Offset Printing, Method for Preparing a Electrode and a Plasma Display Panel using the Same}Electrode composition for offset printing, electrode formation method and plasma display panel using the same {Electrode Composition for Offset Printing, Method for Preparing a Electrode and a Plasma Display Panel using the Same}

본 발명은 오프셋 인쇄용 전극 조성물, 이를 이용한 전극의 형성방법 및 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode composition for offset printing, a method of forming an electrode using the same, and a plasma display panel.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 플랫 패널 디스플레이의 하나로서 LCD나 프로젝션 TV 등과 경쟁하면서, 근래에 급속히 시장이 확대되고 있는 디스플레이의 한 종류이다.Plasma display panel (PDP) is one of flat panel displays, and is a type of display which is rapidly expanding in recent years while competing with LCD and projection TV.

AC(교류)형 PDP를 예로 들면, 그 구조는 통상 투명 전극(유지 전극)과 버스 전극이 유전체층으로 덮힌 전면판으로 불리는 유리 기판과, 어드레스 전극, 유전체층, 격벽, 형광체로 구성된 셀 구조를 가지는 배면판으로 불리는 유리 기판을 포함하여 구성되며, 양면의 전극이 직교 하도록 마주보게 배치한 것이다.Taking an AC (AC) -type PDP as an example, the structure is a back surface having a cell substrate composed of a transparent substrate (maintenance electrode) and a glass substrate called a front plate in which a bus electrode is covered with a dielectric layer, and an address electrode, a dielectric layer, a partition wall, and a phosphor. It is comprised including the glass substrate called a plate, and arrange | positioned so that the electrodes of both sides may orthogonally cross.

발광은 양면의 전극 간에 전압을 인가해, 셀 내에 방전 현상을 발생시켜, 이 때 생긴 자외선에 의해 격벽셀 내부의 형광체를 여기시킴으로써 행해진다. 패널의 구조상 발광된 각각의 적녹청(RGB) 셀의 조합으로 얻어진 화상은 전면판의 전극이 형성된 면의 뒤에서 인식된다. 이 때문에 표시되는 화상의 품질(콘트라스트)을 향상 시키기 위해 표시면에 해당되는 전면판의 버스전극이 배면으로부터의 인식성을 억제하는 방법으로서 투명 전극과 버스 전극의 사이에 흑색 전극을 형성하는 방법도 공지된 바 있다.Light emission is performed by applying a voltage between the electrodes on both sides, generating a discharge phenomenon in the cell, and exciting the phosphor inside the partition cell by the ultraviolet rays generated at this time. The image obtained by the combination of each of the red cyan light emitting (RGB) cells that are emitted by the structure of the panel is recognized behind the surface on which the electrode of the front plate is formed. Therefore, in order to improve the quality (contrast) of the displayed image, a method of forming a black electrode between the transparent electrode and the bus electrode as a method of suppressing the recognition from the back of the bus electrode of the front plate corresponding to the display surface is also required. It is known.

상기 전극을 형성하는 종래의 방법으로는 감광성 전극형성용 페이스트를 스크린 인쇄를 통하여 유리기판에 전면 인쇄를 시행하고 포토 리소그라피법을 이용하여 필요한 부분만을 노광, 현상하고 소성하여 전극을 형성하는 방법이 있다. A conventional method of forming the electrode is a method of forming the electrode by performing a front-side printing of the photosensitive electrode forming paste on the glass substrate through screen printing and exposing, developing and firing only the necessary portions using the photolithography method. .

하지만 이와 같은 포토리소그라피법은 불필요한 부분까지 모두 인쇄한 후 현상 공정을 통하여 제거함으로써 고가의 재료의 유실이 커 제조비가 상승하는 단점과 인쇄, 건조, 노광, 현상 및 소성 공정을 거쳐 제조되기 때문에 많은 공정 시간이 소요되는 단점을 가지고 있다. However, the photolithography method removes unnecessary parts through the development process after printing all the unnecessary parts, resulting in the loss of expensive materials and increasing manufacturing costs, and many processes because they are manufactured through printing, drying, exposure, developing, and firing processes. It has the disadvantage of taking time.

또한 스크린 인쇄시 사용되는 금속 및 폴리에스터 스크린 마스크는 사용 시간이 경과함에 따라 늘어나 변형되어 인쇄 막 두께가 변하는 단점을 가지고 있다.In addition, the metal and polyester screen masks used for screen printing have a disadvantage in that the printed film thickness is changed due to elongation and deformation as the use time elapses.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 잉크젯 인쇄, 필름전사 방법 등이 제시되고 있지만, 높은 재료비, 많은 공정 수, 고가의 장비 등의 문제가 있다. In order to solve the above problems, inkjet printing, film transfer methods and the like have been proposed, but there are problems such as high material costs, a large number of processes, and expensive equipment.

예로 잉크젯 인쇄의 경우에는 잉크젯 인쇄용 잉크를 제조하기 위하여는 나노 크기의 고가의 전도성 분말이 필요한데, 이에 대한 제조공정이 복잡하며, 제조비도 높다. 뿐만 아니라 잉크젯 인쇄를 통하여 전극을 형성할 경우 미세한 패턴의 정밀 성을 가지기 어렵고, 두께 또한 충분치 못하다.For example, in the case of inkjet printing, in order to prepare ink for inkjet printing, an expensive conductive powder having a nano size is required, and the manufacturing process thereof is complicated, and the manufacturing cost is high. In addition, when forming the electrode through inkjet printing it is difficult to have a fine pattern of precision, the thickness is not enough.

또 다른 예인 필름전사법의 경우는 스크린 마스크의 정밀성 한계와 긴 가공 시간의 단점을 극복하기 위하여 제시되는데, 이는 감광성 전극 조성물을 필름 상에 형성하여 기판 상에 전사시킨 후 노광, 현상하여 기판에 전극 패턴을 형성하는 방법으로 여전히 고가 재료의 유실을 줄이는데 한계를 나타낸다.Another example of the film transfer method is proposed to overcome the limitations of the screen mask's precision limit and long processing time. The photosensitive electrode composition is formed on a film, transferred onto a substrate, and then exposed and developed to form an electrode on the substrate. The method of forming patterns still presents a limit to reducing the loss of expensive materials.

위와 같은 단점을 보완하기 위해 사용되기 시작한 오프셋 인쇄 방식은 공정 수를 인쇄, 건조 및 소성의 공정으로 단순화하여 기존 공정을 획기적으로 줄이고 필요한 부분만을 인쇄함으로써 고가 재료의 유실없이 미세한 전극 패턴을 재현성 있게 기판에 형성할 수 있다. The offset printing method, which has been used to compensate for the above disadvantages, simplifies the number of processes to the process of printing, drying and firing, dramatically reducing the existing process and printing only necessary parts, thereby reproducing fine electrode patterns without loss of expensive materials. Can be formed on.

하지만, 오프셋 인쇄는 고무계의 블랑켓(blanket)을 사용하기 때문에, 전극 조성물 내에 있는 유기용제가 블랑캣으로 팽윤(swelling) 되고, 따라서 연속 인쇄시 인쇄 형상이 변화하고 궁극적으로는 전사되는 전극의 찢어짐(piling) 불량이 나타나게 된다. However, since offset printing uses a rubber blanket, the organic solvent in the electrode composition swells into the blanket, so that the printing shape changes during continuous printing and the electrode is torn ultimately transferred. (piling) A defect will appear.

한편, 도전성 전극 조성물을 인쇄용 블랑켓 표면으로부터 유리 기판의 표면에 전이시킨 뒤에 블랑켓의 표면을 가열하고, 뒤이어 블랑켓의 표면을 냉각하는 방법(특개 2002-245931호 공보)은 통상의 오프셋 인쇄에 가열 및 냉각 공정이 부가되어 있기 때문에 공정이 번잡하다.On the other hand, a method of transferring the conductive electrode composition from the surface of the blanket for printing to the surface of the glass substrate and then heating the surface of the blanket, followed by cooling the surface of the blanket (JP-A No. 2002-245931) is a method for ordinary offset printing. The process is complicated because heating and cooling processes are added.

본 발명의 목적은, 오프셋 인쇄에 의한 연속인쇄에 있어서 인쇄 패턴의 형상 변동을 제어함으로써 저비용으로 고효율의 플라스마 디스플레이 패널을 제조할 수 있는 방법을 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a plasma display panel of high efficiency at low cost by controlling the shape variation of a printing pattern in continuous printing by offset printing.

본 발명에서는 전극 형성 조성물 내에, 실리콘 고무계 블랑켓으로의 침투 및 배출이 매우 용이한 특성을 보이는 siloxane계 첨가제를 사용함으로써, 연속인쇄시 발생하는 전극형상의 변화 및 piling 불량을 개선할 수 있다.In the present invention, by using a siloxane-based additive exhibiting a very easy to penetrate and discharge into the silicone rubber blanket in the electrode forming composition, it is possible to improve the electrode shape change and piling defects generated during continuous printing.

상술한 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the above object,

본 발명의 일 측면에 따르면, 도전성 물질, 유기 바인더, 유리 프릿, 실록산계 화합물을 포함하는 오프셋 인쇄용 전극 조성물을 제시할 수 있다. According to an aspect of the present invention, an electrode composition for offset printing including a conductive material, an organic binder, a glass frit, and a siloxane compound may be provided.

또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면,In addition, according to another aspect of the present invention,

a) 본 발명의 조성물을 그라비아롤 요판홈에 충진하는 단계;a) filling the gravure roll intaglio groove of the composition of the present invention;

b) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계;b) transferring the composition filled in the gravure roll onto a blanket roll of silicone rubber;

c) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계; 및 c) transferring the composition transferred onto the blanket roll to a glass substrate; And

d) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하는 단계를 포함하는 전극 형 성 방법을 제시할 수 있다.d) an electrode forming method comprising the step of drying and firing the composition transferred to the glass substrate can be presented.

아울러, 본 발명의 또 다른 일 측면에 따르면, 상기 전극 형성 방법으로 형성된 전극 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제시할 수 있다. In addition, according to another aspect of the present invention, an electrode formed by the electrode forming method and a plasma display panel including the same can be provided.

이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 전극 조성물은 플라스마 디스플레이 패널의 전면판 및 배면판에 오프셋 인쇄에 의하여 미세 패턴을 재현성 있게 형성하고, 인쇄 후 소성 등의 열처리에 의하여 전극을 형성하는 것으로서, 오프셋 인쇄에 대해 먼저 상술한다.The electrode composition according to the present invention is to form a fine pattern reproducibly on the front plate and the back plate of the plasma display panel by offset printing, and to form an electrode by heat treatment such as baking after printing, the offset printing will be described in detail first .

본 발명에서의 오프셋 인쇄는 오프(Off)공정과 세트(Set)공정의 두 공정으로 나누어진다. 우선 오프공정을 수행하기 이전에 선폭 50~150㎛ 미세한 패턴이 깊이 10~50㎛로 형성된 그라비아 롤상에 본원 발명에 의한 조성물을 충진한 후 금속 칼날을 사용하여 그라비아 롤 상에 오버플로우된 조성물을 긁어내는 닥터링(Doctoring) 공정을 실시한다. 그 후 블랭킷롤과 조성물이 채워진 그라비아 롤을 연속하여 압착하면서 회전시켜 그라비아 롤 요판 홈에 채워진 조성물을 실리콘 고무 표면으로 된 블랭킷(Blanket)롤 표면에 전사시키는 오프 공정을 수행한다. Offset printing in the present invention is divided into two processes, an off process and a set process. First, the composition according to the present invention is filled onto a gravure roll having a fine pattern having a line width of 50 to 150 μm and a depth of 10 to 50 μm before performing the off process, and then scraping the composition that has overflowed on the gravure roll using a metal blade. I perform a doctoring process. Thereafter, the blanket roll and the gravure roll filled with the composition are sequentially pressed and rotated to perform an off process of transferring the composition filled in the gravure roll intaglio groove to the blanket roll surface made of the silicone rubber surface.

세트공정은 실리콘 고무 표면으로 된 블랭킷과 유리기판을 압착하면서 회전시켜 실리콘 블랭킷 표면 상에 전사된 조성물을 유리기판 위로 다시 전사시키는 공정이다. The set process is a process of compressing and rotating a blanket made of a silicon rubber surface and a glass substrate to transfer the composition transferred on the silicon blanket surface onto the glass substrate again.

상기 오프셋 공정에서 그라비아 롤 상의 요판 홈 내의 페이스트가 패턴의 돌 기, 배선의 끊김 없이 모두 실리콘 블랭킷에 전사되는 것과 연속하여 실리콘 블랭킷 상에 전사된 조성물을 잔유물 없이 미세한 전극 패턴으로 유리기판 상에 다시 전사시킬 수 있는 오프셋 인쇄용 전극 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.In the offset process, the paste in the intaglio groove on the gravure roll is transferred onto the silicon blanket in succession to the transfer of the pattern and the wiring on the silicon blanket, and the transfer of the composition transferred onto the silicon blanket again on the glass substrate with a fine electrode pattern without residues. It is an object of the present invention to provide an electrode composition for offset printing.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 오프셋 인쇄용 전극 조성물은 a) 도전성 물질 50 내지 90 중량%, b) 유기바인더 1 내지 30 중량%, c) 유리 프릿 1 내지 20 중량%, d) 실록산 화합물 0.01 내지 5 중량% 및 e) 잔량의 유기용제를 포함하고 있다.The electrode composition for offset printing of the present invention for achieving the above object is a) 50 to 90% by weight conductive material, b) 1 to 30% by weight organic binder, c) 1 to 20% by weight glass frit, d) 0.01 to siloxane compound 5% by weight and e) residual organic solvent.

본 발명의 오프셋 인쇄용 전극 조성물에 사용되는 도전성 물질은 통전성을 증가시키기 위한 것으로, 직경이 0.1㎛에서 3㎛ 범위를 가지는 금, 백금, 팔라듐, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 도전성 분말을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 0.3㎛에서 2㎛ 범위의 직경을 가지는 것이 바람직하다. The conductive material used in the electrode composition for offset printing of the present invention is for increasing the electrical conductivity, and is a group consisting of gold, platinum, palladium, silver, copper, aluminum, nickel or alloys thereof having a diameter ranging from 0.1 μm to 3 μm. One or more conductive powders selected from can be used, preferably having a diameter in the range from 0.3 μm to 2 μm.

도전성 물질의 함량은 50 내지 90 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 60 내지 80 중량%이다. 도전성 물질의 함량이 50 중량% 미만일 경우, 전극의 충분한 도전성을 확보하기 곤란할 수 있으며, 90 중량%를 초과하게 되면 오프셋 인쇄를 시행함에 있어서 전사가 정상적으로 되지 않고, 전극의 두께가 지나치게 두꺼워질 수 있다. The content of the conductive material is preferably 50 to 90% by weight, more preferably 60 to 80% by weight. When the content of the conductive material is less than 50% by weight, it may be difficult to secure sufficient conductivity of the electrode, when the content of the conductive material exceeds 90% by weight, the transfer may not be normal in performing offset printing, and the thickness of the electrode may be too thick. .

본 발명에서 유기 바인더는 유리전이 온도가 -40℃ 내지 -5℃인 고분자 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 유기 바인더의 유리전이 온도가 -40℃ 미만이면 오프프로세스 및 세트 프로세스상에 패턴에 돌기가 많이 생기게 되며, 또한 유리기판 상에 전사된 패턴 위에 불필요한 이물이 부착될 경우 압축공기에 의한 먼지 제거가 용이하지 않은 단점이 있다. 유리전이온도가 -5℃를 초과하면 블랭킷 상에 전사되는 페이스트가 점착력을 가지지 않아 유리기판 상에 전사가 용이하게 되지 않는 문제가 있다. In the present invention, it is preferable that the organic binder is a polymer resin having a glass transition temperature of -40 ° C to -5 ° C. When the glass transition temperature of the organic binder is lower than -40 ° C, a large number of protrusions are formed on the off-process and set process. Also, when unnecessary foreign matter adheres to the transferred pattern on the glass substrate, it is easy to remove dust by compressed air. There are drawbacks not to do. If the glass transition temperature exceeds -5 ° C, there is a problem in that the paste transferred onto the blanket does not have adhesive force and thus the transfer on the glass substrate is not easy.

상기 유기바인더로는 에틸렌성 불포화 단량체와 이와 공중합이 가능한 다른 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체인 아크릴계 수지, 수용성 셀룰로스계 수지, 폴리비닐 알콜 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 폴리비닐 부티랄 수지 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이러한 유기 바인더의 함량은 1 내지 30 중량%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5 내지 20 중량%이다. 그 함량이 1 중량% 미만이면 오프 및 세트 프로세스에서 전사가 용이하지 않으며, 은 분말과 같은 무기물의 침강이 쉽게 발생할 수 있고, 30 중량%를 초과하면 소성 후 전극 표면에 기공이 많이 발생하며, 전극의 도전성이 저하되는 문제가 생길 수 있다.Examples of the organic binder include acrylic resins, water-soluble cellulose resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, melamine resins, polyvinyl butyral resins, and the like, which are copolymers of ethylenically unsaturated monomers with other ethylenically unsaturated monomers copolymerizable therewith. These can be used individually or in mixture of 2 or more types. The content of such an organic binder is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight. If the content is less than 1% by weight, it is not easy to transfer in the off and set process, sedimentation of inorganic materials such as silver powder can easily occur, and if it exceeds 30% by weight, many pores are generated on the electrode surface after firing. The problem that the conductivity of may fall may arise.

본 발명에서 유기용제는 바인더 수지를 녹일 수 있는 것으로서 100~300℃의 비점을 갖는 유기용제를 사용할 수 있으며, 실리콘 블랭킷 팽윤을 적게 시키는 1차 및 2차 알콜류를 사용하는 것이 바람직하다. 비점이 100℃보다 낮은 용제를 사용 하는 경우에는 닥터링 공정에서 쉽게 페이스트가 건조되어 블랭킷으로 전사시 패턴에 불량이 발생하며, 300℃ 이상의 용제를 사용할 경우에는 블랭킷에 전사된 페이스트의 건조가 너무 느려 유리기판으로의 전사시에 블랭킷에 잔유물이 남는 문제가 있다.In the present invention, as the organic solvent can dissolve the binder resin can be used an organic solvent having a boiling point of 100 ~ 300 ℃, it is preferable to use the primary and secondary alcohols to reduce the silicone blanket swelling. If the solvent has a boiling point lower than 100 ℃, the paste dries easily during the doctoring process, causing defects in the pattern when transferring to the blanket.When using a solvent higher than 300 ℃, the paste transferred to the blanket is too slow to dry. There is a problem that the residue remains on the blanket when transferring to the glass substrate.

상기 유기용제의 예로는 이소프로필 알콜, 2-에틸헥실알콜, 메톡시펜탄올, 부톡시에탄올, 에톡시에톡시 에탄올, 부톡시에톡시 에탄올, 메톡시 프로폭시 프로판올, 글리세롤, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 텍산올, 알파터피네올, 케로센, 미네랄스피릿 및 디히드로터피네올, 디에틸렌글리콜 부틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸에테르, 디프로필렌 메틸에테르 및 디헥실렌글리콜 에틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, methoxypentanol, butoxyethanol, ethoxyethoxy ethanol, butoxyethoxy ethanol, methoxy propoxy propanol, glycerol, ethylene glycol, glycerol, 1 type selected from the group consisting of texanol, alpha terpineol, kerosene, mineral spirits and dihydroterpineol, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, dipropylene methyl ether and dihexylene glycol ethyl ether Although the above can be used, it is not necessarily limited to this.

또한, 본 발명에서는 비점이 100~150℃인 것과 비점이 200~300℃인 유기 용제를 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Moreover, in this invention, 2 or more types of organic solvents whose boiling point is 100-150 degreeC, and whose boiling point are 200-300 degreeC can be mixed and used.

본 발명에서의 실록산 화합물은 -HSiRO-의 분자 구조를 가지는 것으로, 수소를 알킬기·알릴기 등으로 치환할 수 있으므로, 할로겐이나 유기물이 함유되어 있는 화합물도 많다. 상기 실론산 화합물에는 환상 실록산 화합물, 직쇄 실록산 화합물, 이들 실록산 다량체를 중합한 고분자 실록산 화합물을 포함한다. Since the siloxane compound in this invention has a molecular structure of -HSiRO-, and can substitute hydrogen with an alkyl group, an allyl group, etc., many compounds which contain a halogen and an organic substance are contained. The siloxane compound includes a cyclic siloxane compound, a straight siloxane compound, and a high molecular siloxane compound obtained by polymerizing these siloxane multimers.

본 발명에 관한 실록산 화합물에 있어서는 R로 표현되는 탄소수 1~8의 탄화수소기로서는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부 틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 2-시클로헥실에틸, 헵틸, 이소헵틸, 제3헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실 등의 알킬기; 비닐, 1-메틸에텐-1-일, 프로펜-1-일, 프로펜-2-일, 프로펜-3-일, 부텐-1-일, 부텐-2-일, 2-메틸프로펜-3-일, 1,1-디메틸에텐-2-일, 1,1-디메틸프로펜-3-일 등의 알케닐기; 페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐 등의 아릴기; 벤질, 2-메틸벤질, 3-메틸벤질, 4-메틸벤질, 스티릴 등의 아랄킬기를 들 수 있으며, R로 표현되는 탄소수 1~8의 알콕시기로서는 메틸옥시, 에틸옥시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, 제2부틸옥시, 제3부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, 제3아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 이소헵틸옥시, 제3헵틸옥시, 옥틸옥시, 이소옥틸옥시, 제3옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시 등을 들 수 있다.In the siloxane compound which concerns on this invention, as a C1-C8 hydrocarbon group represented by R, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, a second butyl, a third butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, a third amyl Alkyl groups such as hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl, isoheptyl, third heptyl, octyl, isooctyl, tertiary octyl and 2-ethylhexyl; Vinyl, 1-methylethen-1-yl, propen-1-yl, propen-2-yl, propen-3-yl, buten-1-yl, buten-2-yl, 2-methylpropene Alkenyl groups such as -3-yl, 1,1-dimethylethen-2-yl and 1,1-dimethylpropen-3-yl; Phenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4 Aryl groups such as -dimethylphenyl and 3,5-dimethylphenyl; Aralkyl groups, such as benzyl, 2-methylbenzyl, 3-methylbenzyl, 4-methylbenzyl, styryl, etc. are mentioned, As a C1-C8 alkoxy group represented by R, it is methyloxy, ethyloxy, propyloxy, iso Propyloxy, butyloxy, second butyloxy, tertiary butyloxy, isobutyloxy, amyloxy, isoamyloxy, tertiary amyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy, isoheptyloxy, tertiary Heptyloxy, octyloxy, isooctyloxy, tertiary octyloxy, 2-ethylhexyloxy and the like.

환상 실록산 화합물의 구체예로서는 2,4,6-트리메틸시클로트리실록산, 2,4,6,8-테트라메틸시클로테트라실록산, 2,4,6,8-10-헵타메틸시클로헵타실록산, 2,4,6,8,10,12-헥사메틸시클로헥사실록산, 2,4,6,8,10,12,14-헵타메틸시클로헵타실록산 등이 있으며, 직쇄 실록산 화합물의 구체예로서는 1,3-디메틸디실록산, 1,1,3-트리메틸디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 1,1,1,3,3-펜타메틸디실록산, 1,3-디에틸디실록산, 1,1,3,3-테트라에틸디실록산, 1,1,3-트리에틸디실록산, 1,1,1,3,3-펜타에틸디실록산, 1,3-디페닐디실록산, 1,1,3,3-테트라페닐디실록산, 1,1,3-트리페닐디실록산, 1,3-디메틸-1,3-디페닐디실록산, 1,3-디에틸-1,3-디페닐 디실록산, 1,1,3,3,5,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,5,5,5-헥사메틸-3-에틸트리실록산, 1,1,1,5,5,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,1,3,3,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,3,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,3,3,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,3,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,3,3-테트라메틸트리실록산, 1,1,1,3-테트라메틸트리실록산, 1,1,3,5-테트라메틸트리실록산, 1,3,5-트리메틸트리실록산, 1,1,5,5-테트라메틸-3-페닐트리실록산, 3-메틸-1,1,1,5,5,5-헥사페닐트리실록산, 1,1,1,3,5,7,7,7-옥타메틸테트라실록산, 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타메틸테트라실록산 등을 들 수 있다.Specific examples of the cyclic siloxane compound include 2,4,6-trimethylcyclotrisiloxane, 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-10-heptamethylcycloheptasiloxane, 2,4 , 6,8,10,12-hexamethylcyclohexasiloxane, 2,4,6,8,10,12,14-heptamethylcycloheptasiloxane, and the like, and specific examples of the linear siloxane compound include 1,3-dimethyldi Siloxane, 1,1,3-trimethyldisiloxane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,1,3,3-pentamethyldisiloxane, 1,3-diethyldisiloxane, 1 , 1,3,3-tetraethyldisiloxane, 1,1,3-triethyldisiloxane, 1,1,1,3,3-pentaethyldisiloxane, 1,3-diphenyldisiloxane, 1,1 , 3,3-tetraphenyldisiloxane, 1,1,3-triphenyldisiloxane, 1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-diethyl-1,3-diphenyl di Siloxane, 1,1,3,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,1,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,1,5,5, 5-hexamethyl-3-ethyltrisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5- Samethyltrisiloxane, 1,1,1,3,3,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5-heptamethyltree Siloxane, 1,1,1,3,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,3,3-tetramethyltrisiloxane, 1,1,1,3-tetramethyltrisiloxane, 1,1,3,5 Tetramethyltrisiloxane, 1,3,5-trimethyltrisiloxane, 1,1,5,5-tetramethyl-3-phenyltrisiloxane, 3-methyl-1,1,1,5,5,5-hexa Phenyl trisiloxane, 1,1,1,3,5,7,7,7-octamethyltetrasiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane and the like. .

본 발명의 전극 형성 조성물은 상기 실록산 화합물을 0.01 내지 5 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 범위 내에서 사용할 경우, 오프셋 인쇄시 연속인쇄성을 향상시킬 수 있다. 상기 실록산 화합물을 5중량% 초과하여 함유할 경우에는 인쇄성 및 전극 직진도에서 불량한 결과를 초래할 수 있다.It is preferable that the electrode formation composition of this invention contains 0.01-5 weight% of the said siloxane compound. When used within the above range, it is possible to improve continuous printability during offset printing. Containing more than 5% by weight of the siloxane compound may result in poor results in printability and electrode straightness.

본 발명에서 유리 프릿은 도전성 물질과 기판과의 부착성을 증가시키는 기능을 한다. 이것은 연화점이 300~600℃의 것으로, 산화납, 산화비스무스, 산화 아연 등을 주성분으로 하고, 유리전이 온도가 200~500℃인 것이 바람직하다. 입경은 사용 막 두께를 고려하여 최대 입경이 5㎛을 넘지 않도록 하는 것이 바람직하다. In the present invention, the glass frit serves to increase the adhesion between the conductive material and the substrate. It is a softening point of 300-600 degreeC, It is preferable that lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide, etc. are a main component, and glass transition temperature is 200-500 degreeC. It is preferable that the particle size does not exceed 5 micrometers in consideration of the film thickness used.

이러한 유리 프릿의 함량은 전체 조성물의 1 내지 20 중량%, 보다 바람직하게는 3 내지 15 중량% 포함될 수 있다. 그 함량이 1 중량% 미만이면 소성 후 전극패턴과 전극기판과의 접착성이 용이하지 않으며, 20 중량%를 초과하면 상대적으로 도전성 물질이나 유기 바인더의 함량이 적어져 전극 패턴의 도전성 및 기계적 강도가 저하될 수 있다.The content of such glass frit may be included in 1 to 20% by weight, more preferably 3 to 15% by weight of the total composition. If the content is less than 1% by weight, the adhesion between the electrode pattern and the electrode substrate after firing is not easy, and if it exceeds 20% by weight, the content of the conductive material or the organic binder is relatively low, so that the conductivity and mechanical strength of the electrode pattern is reduced. Can be degraded.

본 발명의 조성물은 상술한 성분들 이외에 바인더 용액에 가용인 유기 바인더의 용해성을 조정하기 위해 가소제를 더 포함할 수 있다. 가소제는 유기 바인더에 혼용성을 가지는 것이 사용될 수 있으며, 건조 특성을 조정할 목적으로 사용된다. 상기 가소제의 예로는 프탈산에스테르, 아디핀산에스테르, 인산에스테르, 트리멜리트산에스테르, 구연산 에스테르, 에폭시, 폴리에스테르, 글리세롤 및 수용성이며 고비점을 가지는 아크릴 화합물의 모노머, 올리고머 및 트리머로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서는 상기 성분 이외에 필요에 따라 분산제, 점도 안정화제, 소포제, 커플링제 등을 추가로 더 포함할 수 있다. The composition of the present invention may further include a plasticizer to adjust the solubility of the organic binder soluble in the binder solution in addition to the above-described components. Plasticizers may be used having compatibility with the organic binder, it is used for the purpose of adjusting the drying properties. Examples of the plasticizer are selected from the group consisting of phthalic acid esters, adipic acid esters, phosphate esters, trimellitic acid esters, citric acid esters, epoxies, polyesters, glycerol and water-soluble, high boiling point acrylic compounds monomers, oligomers and trimers One or more may be used, but is not necessarily limited thereto. In addition, the present invention may further include a dispersant, a viscosity stabilizer, an antifoaming agent, a coupling agent and the like as needed in addition to the above components.

본 발명의 다른 일 측면에 따르면, According to another aspect of the present invention,

a) 본 발명의 조성물을 그라비아롤 요판홈에 충진하는 단계 ; a) filling the gravure roll intaglio groove of the composition of the present invention;

b) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계 ; b) transferring the composition filled in the gravure roll onto a blanket roll of silicone rubber;

c) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 상기 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계 ; 및c) transferring the composition transferred onto the blanket roll to a glass substrate; And

d) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하여 전극을 형성하는 단계d) drying and firing the composition transferred to the glass substrate to form an electrode

를 포함하는 전극 형성방법 및 이를 통해 형성된 전극을 포함한 플라즈마 디스플레이 패널을 제시할 수 있다. An electrode forming method comprising a and a plasma display panel including an electrode formed through the same may be provided.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 전극 조성물을 사용해서 제조된 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a plasma display panel including an electrode manufactured using the electrode composition according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 조성물을 사용해서 제조된 플라즈마 디스플레이 패널(10)은 전면기판(100)과 배면기판(150)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the plasma display panel 10 manufactured using the composition according to the exemplary embodiment of the present invention includes a front substrate 100 and a rear substrate 150.

상기 전면기판(100)과 배면기판(150)이 서로 대향하는 면의 전면기판(100)상에는 횡방향으로 배열되어 있는 투명전극(110)과 투명전극(110) 상에 형성되는 버스전극(112)이 형성되고 상기 투명전극(110) 상에는 패널 내부에서 발생된 전하를 저장하기 위한 제1유전체층(114)과 제1유전체층(114)을 보호하고 전자방출을 용이하게 하기 위한 MgO층(118)이 형성되어 있다.The bus electrode 112 formed on the transparent electrode 110 and the transparent electrode 110 which are arranged in the transverse direction on the front substrate 100 on the surface of the front substrate 100 and the rear substrate 150 facing each other. The MgO layer 118 is formed on the transparent electrode 110 to protect the first dielectric layer 114 and the first dielectric layer 114 for storing charge generated in the panel and to facilitate electron emission. It is.

상기 전면기판(100)과 배면기판(150)이 서로 대향하는 면의 배면기판(150) 상에는 종방향으로 어드레스전극(117)이 형성되어 있으며, 어드레스전극(117)이 형성된 배면기판(150) 상에는 제2유전층(115)과, 상기 제2유전체층(115) 상에는 내부에 RGB에 각각 해당하는 형광물질(132)이 형성되어 있는 격벽(120)이 형성되어 화소영역을 정의하고 있다.The address electrode 117 is formed in the longitudinal direction on the rear substrate 150 of the surface where the front substrate 100 and the rear substrate 150 face each other, and on the rear substrate 150 on which the address electrode 117 is formed. On the second dielectric layer 115 and the second dielectric layer 115 are formed partition walls 120 in which fluorescent materials 132 corresponding to RGB are formed, respectively, to define pixel regions.

이러한 전면기판(100)과 배면기판(150)의 사이 공간에는 Ne+Ar, Ne+Xe와 같은 불활성 가스가 주입되어 상기 전극에 임계전압 이상의 전압 인가시 방전에 의해 빛을 발생하게 된다.An inert gas such as Ne + Ar or Ne + Xe is injected into the space between the front substrate 100 and the rear substrate 150 to generate light by discharge when a voltage above a threshold voltage is applied to the electrode.

상기의 PDP 구조에 있어서, 버스전극(112)과 어드레스 전극(117)은 본 발명 의 실시예에 따른 오프셋 인쇄용 전극 조성물을 이용하여 형성된다.In the above PDP structure, the bus electrode 112 and the address electrode 117 are formed using the electrode composition for offset printing according to the embodiment of the present invention.

상기한 바와 같이, 본 발명의 전극 형성 조성물은 우수한 전사성 및 300회 이상의 연속인쇄성을 구현하며, 이를 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판 및 배면판 상에 미세 전극 패턴 제조시 패턴의 형성속도를 향상시키고 재현성을 구현할 수 있다.As described above, the electrode forming composition of the present invention implements excellent transferability and more than 300 continuous printability, and by using this to form a pattern formation rate when manufacturing a fine electrode pattern on the front plate and the back plate of the plasma display panel Can be improved and reproducible.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다. Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail. However, this is presented as a preferred example of the present invention and in no sense can be construed as limiting the present invention.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.Details that are not described herein will be omitted since those skilled in the art can sufficiently infer technically.

본 발명의 전극 조성물의 제조에 있어, 후술하는 실시예 및 비교예에서 사용하는 각 구성 성분의 구체적인 사양은 다음과 같다. In manufacture of the electrode composition of this invention, the specific specification of each structural component used by the below-mentioned Example and comparative example is as follows.

(a) 도전성 물질: 평균입경 1.5㎛의 은 분말(미쯔이社, SPQ08S)(a) Conductive material: silver powder with an average particle diameter of 1.5 µm (Mitsui, SPQ08S)

(b) 유기바인더: P118 (일본 고세히社)(b) Organic Binder: P118 (Kosehi Japan)

(c) 유리 프릿: POF0518(휘닉스 PDE社) (c) Glass frit: POF0518 (Phoenix PDE)

(d) 실록산 화합물: 옥타메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane)(d) siloxane compound: Octamethyltrisiloxane

(e) 용제: 디프로필렌글리콜 메틸에테르(e) Solvent: Dipropylene glycol methyl ether

(f) 점도안정화제: 말론산(Malonic Acid)(f) Viscosity Stabilizer: Malonic Acid

실시예Example 1 One

유기바인더 7 중량%, 말론산 0.2 중량%, 은 분말 78.3 중량%, 유리 프릿 5 중량%, 옥타메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane) 1 중량%, 용제 8.5 중량%를 혼합, 교반 후, 세라믹 3 롤밀로 혼련분산하여 조성물을 얻었다.7% by weight of organic binder, 0.2% by weight of malonic acid, 78.3% by weight of silver powder, 5% by weight of glass frit, 1% by weight of octamethyltrisiloxane, 8.5% by weight of solvent, and then kneaded with a ceramic 3 roll mill. Dispersion gave a composition.

실시예Example 2 2

옥타메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane) 0.5 중량%, 용제 9 중량%을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 시행하였다.The same procedure as in Example 1 was conducted except that 0.5 wt% of octamethyltrisiloxane and 9 wt% of a solvent were used.

실시예Example 3 3

옥타메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane) 4.5 중량%, 용제 5 중량%을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 시행하였다.Except for using 4.5% by weight of octamethyltrisiloxane (Octamethyltrisiloxane), 5% by weight of the solvent was carried out in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 1 One

옥타메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane)을 사용하지 않고, 용제를 9.5 중량% 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 시행하였다.Except for using octamethyltrisiloxane (Octamethyltrisiloxane), except that 9.5% by weight of the solvent was used in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 2 2

옥틸메틸트리실록산(Octamethyltrisiloxane) 6.5 중량%, 용제 3 중량%을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 시행하였다.The same procedure as in Example 1 was conducted except that 6.5 wt% of octmethyltrisiloxane and 3 wt% of a solvent were used.

평가evaluation

평가는 14cm×14cm 크기의 고융점 유리판에 상기 실시예 1 내지 3의 조성물과 비교예 1 및 2의 조성물을 오프셋 인쇄기를 이용하여 전극 패턴을 형성한 후, 100℃로 10분간 유지되도록 조정된 IR벨트 건조로에서 건조하였다. 상기 공정 후 평가는 오프 프로세스 후 블랭킷에 전사된 상태, 세트공정 후 기판에 전사된 상태 및 블랭킷에 페이스트의 잔유물 남음 여부를 확인하였다. 이후 기판을 560℃에서 20분간 소성하여 패턴 형상 및 저항을 확인하였고 그 결과를 표 1에 나타내었다.Evaluation was performed by adjusting the composition of Examples 1 to 3 and the compositions of Comparative Examples 1 and 2 on an 14 cm × 14 cm sized high melting glass plate using an offset printing machine to form an electrode pattern, and then maintaining them at 100 ° C. for 10 minutes. It was dried in a belt dryer. The post-process evaluation confirmed the state transferred to the blanket after the off process, the state transferred to the substrate after the set process, and whether the residue of the paste remained on the blanket. Thereafter, the substrate was baked at 560 ° C. for 20 minutes to confirm pattern shape and resistance. The results are shown in Table 1 below.

[평가기준][Evaluation standard]

1. 오프(off) 프로세스1. Off process

매우 좋음 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김없이 발생하지 않음Very good: No pattern bumps, no wiring breaks

좋음 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김이 약간 발생Good: Slight pattern breaks in the wiring and wiring

나쁨 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김이 많이 발생Poor: Pattern protrusions and wiring breaks occur a lot

2. 세트(set) 프로세스2. Set Process

매우 좋음 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김없이 발생하지 않음Very good: No pattern bumps, no wiring breaks

좋음 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김이 약간 발생Good: Slight pattern breaks in the wiring and wiring

나쁨 : 패턴부 돌기, 배선부의 끊김이 많이 발생Poor: Pattern protrusions and wiring breaks occur a lot

3. 세트 후 블랭킷상 잔유물3. After set the blanket residue

매우 좋음 : 잔유물이 남지 않음Very good: no residue left

좋음 : 소량의 잔유물이 남음Good: A small amount of residue

나쁨 : 다량의 잔유물이 남음Poor: large amount of residue left

4. 인쇄 후 전극 직진도 (평가선폭 : 80미크론 라인)4. Electrode straightness after printing (evaluation line width: 80 micron line)

매우 좋음 : 선폭의 최대치와 최소치의 차이가 3미크론 이내Very good: difference between maximum and minimum line widths within 3 microns

좋음 : 선폭의 최대치와 최소치의 차이가 6미크론 이내Good: The difference between the maximum and minimum line widths is within 6 microns

나쁨 : 선폭의 최대치와 최소치의 차이가 15미크론 이상Poor: The difference between the maximum and minimum line widths is greater than 15 microns

5. 연속인쇄성5. Continuous printability

매우 좋음 : 연속인쇄 200매 진행 후 선폭의 변화가 5미크론 이내Very good: Line width changes within 5 microns after 200 consecutive prints

좋음 : 연속인쇄 200매 진행 후 선폭의 변화가 10미크론 이내Good: Line width change within 10 microns after 200 consecutive prints

나쁨 : 연속인쇄 200매 진행 후 선폭의 변화가 20미크론 이상Poor: Line width change over 20 microns after 200 consecutive prints

[표 1]TABLE 1

Figure 112007090702368-pat00001
Figure 112007090702368-pat00001

표 1을 참고하면, 실록산 화합물을 본 발명의 적량 범위 내로 함유하는 실시예 1 내지 3은 모든 평가 항목에서 양호한 결과를 나타냄을 알 수 있다. 이에 반하여 실록산 화합물을 함유하지 않거나(비교예 1), 적량을 초과하여 함유하는 경우(비교예 2)는 연속 인쇄 및 전극 직진도에 있어서 불량함을 나타내었다.Referring to Table 1, it can be seen that Examples 1 to 3 containing the siloxane compound within the appropriate range of the present invention show good results in all evaluation items. On the contrary, the case of containing no siloxane compound (Comparative Example 1) or containing an appropriate amount (Comparative Example 2) showed poor results in continuous printing and electrode straightness.

이상에서 바람직한 구현예를 예를 들어 설명하였으나, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하므로 첨부된 특허청구범위는 본 발명의 요지에 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함한다.Although the preferred embodiments have been described above by way of example, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention, and the appended claims include such modifications and variations that fall within the spirit of the invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 조성물을 사용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing a plasma display panel manufactured using the composition according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 전면기판 : 투명전극100: front substrate: transparent electrode

112: 버스전극 : 제1 유전체층112: bus electrode: first dielectric layer

115: 제2 유전체층 : 어드레스 전극115: second dielectric layer: address electrode

118: MgO층 : 격벽118: MgO layer: bulkhead

132: 형광체 : 배면기판132: phosphor: back substrate

Claims (8)

a) 도전성 물질 50 내지 90 중량%, b) 유기바인더 1 내지 30 중량%, c) 유리 프릿 1 내지 20 중량%, d) 실록산 화합물 0.01 내지 5 중량% 및 잔량의 유기용제를 포함하는 오프셋 인쇄용 전극 조성물로서, a) 50 to 90% by weight of conductive material, b) 1 to 30% by weight of organic binder, c) 1 to 20% by weight of glass frit, d) 0.01 to 5% by weight of siloxane compound and the remaining amount of organic solvent As a composition, 상기 d) 실록산 화합물은 2,4,6-트리메틸시클로트리실록산, 2,4,6,8-테트라메틸시클로테트라실록산, 2,4,6,8,10-헵타메틸시클로헵타실록산, 2,4,6,8,10,12-헥사메틸시클로헥사실록산, 2,4,6,8,10,12,14-헵타메틸시클로헵타실록산 등이 있으며, 직쇄 실록산 화합물의 구체예로서는 1,3-디메틸디실록산, 1,1,3-트리메틸디실록산, 1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 1,1,1,3,3-펜타메틸디실록산, 1,3-디에틸디실록산, 1,1,3,3-테트라에틸디실록산, 1,1,3-트리에틸디실록산, 1,1,1,3,3-펜타에틸디실록산, 1,3-디페닐디실록산, 1,1,3,3-테트라페닐디실록산, 1,1,3-트리페닐디실록산, 1,3-디메틸-1,3-디페닐디실록산, 1,3-디에틸-1,3-디페닐디실록산, 1,1,3,3,5,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,5,5,5-헥사메틸-3-에틸트리실록산, 1,1,1,5,5,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,1,3,3,5-헥사메틸트리실록산, 1,1,3,5,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,3,3,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,1,3,5-헵타메틸트리실록산, 1,1,3,3-테트라메틸트리실록산, 1,1,1,3-테트라메틸트리실록산, 1,1,3,5-테트라메틸트리실록산, 1,3,5-트리메틸트리실록산, 1,1,5,5-테트라메틸-3-페닐트리실록산, 3-메틸-1,1,1,5,5,5-헥사페닐트리실록산, 1,1,1,3,5,7,7,7-옥타메틸테트라실록산, 1,1,3,3,5,5,7,7-옥타메틸테트라실록산 및 옥타메틸트리실록산으로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상임을 특징으로 하는, 오프셋 인쇄용 전극 조성물.The d) siloxane compound is 2,4,6-trimethylcyclotrisiloxane, 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8,10-heptamethylcycloheptasiloxane, 2,4 , 6,8,10,12-hexamethylcyclohexasiloxane, 2,4,6,8,10,12,14-heptamethylcycloheptasiloxane, and the like, and specific examples of the linear siloxane compound include 1,3-dimethyldi Siloxane, 1,1,3-trimethyldisiloxane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,1,3,3-pentamethyldisiloxane, 1,3-diethyldisiloxane, 1 , 1,3,3-tetraethyldisiloxane, 1,1,3-triethyldisiloxane, 1,1,1,3,3-pentaethyldisiloxane, 1,3-diphenyldisiloxane, 1,1 , 3,3-tetraphenyldisiloxane, 1,1,3-triphenyldisiloxane, 1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-diethyl-1,3-diphenyldi Siloxane, 1,1,3,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,1,3,5,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,1,5,5, 5-hexamethyl-3-ethyltrisiloxane, 1,1,1,5,5,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyltri Siloxane, 1,1,1,3,3,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,5,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5-heptamethyltrisiloxane, 1 , 1,1,3,5-heptamethyltrisiloxane, 1,1,3,3-tetramethyltrisiloxane, 1,1,1,3-tetramethyltrisiloxane, 1,1,3,5-tetramethyl Trisiloxane, 1,3,5-trimethyltrisiloxane, 1,1,5,5-tetramethyl-3-phenyltrisiloxane, 3-methyl-1,1,1,5,5,5-hexaphenyltrisiloxane , Consisting of 1,1,1,3,5,7,7,7-octamethyltetrasiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane and octamethyltrisiloxane The electrode composition for offset printing, characterized in that at least one selected from the group. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 도전성 물질은 금, 백금, 팔라듐, 은, 구리, 알루미늄, 니켈 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 도전성 분말인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 조성물.The electrode composition of claim 1, wherein the conductive material is at least one conductive powder selected from the group consisting of gold, platinum, palladium, silver, copper, aluminum, nickel, and alloys thereof. 제 1항에 있어서, 상기 유기바인더의 유리전이 온도가 -40℃ 내지 -5℃ 인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.The composition for forming an electrode for offset printing according to claim 1, wherein the organic binder has a glass transition temperature of -40 ° C to -5 ° C. 제 1항에 있어서, 상기 유리 프릿은 연화점이 300~600℃이고, 유리 전이 온도가 200~500℃인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.The composition for forming an electrode for offset printing according to claim 1, wherein the glass frit has a softening point of 300 to 600 ° C and a glass transition temperature of 200 to 500 ° C. 제 1항에 있어서, 상기 조성물은 분산제, 점도 안정화제, 소포제 및 커플링제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 전극 형성용 조성물.The composition of claim 1, wherein the composition further comprises at least one member selected from the group consisting of a dispersant, a viscosity stabilizer, an antifoaming agent, and a coupling agent. a) 제 1항의 조성물을 그라비아롤 요판 홈에 충진하는 단계;a) filling the gravure roll intaglio groove with the composition of claim 1; b) 상기 그라비아롤에 충진된 조성물을 실리콘 고무로 된 블랭킷롤 상에 전사하는 단계;b) transferring the composition filled in the gravure roll onto a blanket roll of silicone rubber; c) 상기 블랭킷롤 상에 전사된 상기 조성물을 유리 기판에 전사하는 단계; 및 c) transferring the composition transferred onto the blanket roll to a glass substrate; And d) 유리 기판에 전사된 조성물을 건조 및 소성하는 단계를 포함하는 전극 형성 방법.d) drying and firing the composition transferred to the glass substrate. 삭제delete
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KR100776133B1 (en) * 2007-01-05 2007-11-15 제일모직주식회사 Electrode composition for offset print, method for preparing a electrode by the same

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