KR100333697B1 - Ferroelectric random access memory - Google Patents
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Abstract
본 발명은 데이터 감지증폭시 사용되는 기준전압을 더미셀 없이 기준전압발생기로부터 얻도록 하므로써, 센싱 마진 및 신뢰성이 개선된 강유전체기억소자를 제공하고자 하는 것으로, 이를 위한 본 발명의 강유전체기억소자는, 제1비트라인에 드레인이 접속되고 게이트에 워드라인이 접속된 트랜지스터와, 상기 트랜지스터의 소스와 플레이트라인간에 접속된 강유전체커패시터를 갖는 메모리 셀; 상기 제1비트라인과 기준전압라인으로서의 제2비트라인 사이의 전압차를 감지증폭하는 감지증폭수단; 제1제어신호에 응답하여 상기 제1비트라인과 상기 제2비트라인을 접지전원전압으로 풀다운시키기 위한 비트라인풀다운수단; 다수의 모스트랜지스터 문턱전압값을 이용하여 데이터 '0'과 '1'의 중간레벨에 해당하는 기준전압을 발생시키는 기준전압발생수단; 및 제3제어신호에 응답하여 상기 기준전압발생수단으로부터의 기준전압을 상기 제2비트라인에 전달하기 위한 기준전압전달수단을 포함하여 이루어진다.The present invention is to provide a ferroelectric memory device with improved sensing margin and reliability by obtaining a reference voltage used during data sensing amplification without a dummy cell, the ferroelectric memory device of the present invention, A memory cell having a drain connected to a bit line and a word line connected to a gate, and a ferroelectric capacitor connected between the source and the plate line of the transistor; Sensing amplifying means for sensing and amplifying a voltage difference between the first bit line and a second bit line as a reference voltage line; Bit line pull-down means for pulling down the first bit line and the second bit line to a ground power supply voltage in response to a first control signal; Reference voltage generating means for generating a reference voltage corresponding to an intermediate level between data '0' and '1' using a plurality of MOS transistor threshold values; And reference voltage transfer means for transferring a reference voltage from the reference voltage generation means to the second bit line in response to a third control signal.
Description
본 발명은 강유전체기억소자(Ferroelectric Random Access Memory, FeRAM)에 관한 것으로, 특히 데이터 감지증폭시 사용되는 기준전압을 더미셀 없이 기준전압발생기로부터 얻는 강유전체기억소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ferroelectric random access memory (FeRAM), and more particularly, to a ferroelectric memory device which obtains a reference voltage used during data sensing amplification from a reference voltage generator without a dummy cell.
잘 알려진 바와 같이, 강유전체 물질을 사용하는 커패시터는 커패시터 양단의 전압과 유기된 전하량과의 관계가 히스테리시스 곡선의 관계를 갖는다. 도1a는 단자 a, b 사이에 형성된 강유전체커패시터의 심볼을 나타낸 것이고, 도면1b는 강유전체커패시터를 등가적으로 나타낸 것이며, 도1c는 커패시터의 양단자 a, b 사이의 전압에 따른 전하량의 관계를 도식화 한 것이다. 도1a, 도1b 및 도1c를 참조하면, 강유전체커패시터 a, b 양단의 전위차가 없을 때 분극에 의해 유지되는 전하량은 '가', '나' 두 가지 상태로 존재하게 되므로 전원의 공급이 없어도 2진 형태의 데이터를 저장할 수 있다. a, b 양 단자의 전위차가 없을 때의 저장된 '1'의 정보를 '가'의 상태로 하고, '0'의 정보를 '나'의 상태로 볼 때, 저장된 정보를 읽어내기 위해 단자 b에 일정 전압(V)을 인가하게 되면, '가'의 위치에 있던 분극은 '다'의 상태로 끌려 내려가 △Q1 만큼의 전하량을 발생하게 된다. 이때 스위칭을 일으킬 수 있는 전압(Vc)을 넘어 분극의 상태가 변하게 되므로, 도1b에 나타난 바와 같이 스위칭시의 비선형커패시턴스(Csw) 성분과 스위칭 하지 않을 때의 선형커패시턴스(Cln) 성분을 동시에 가지게 된다. 또한 '나'의 위치에 있던 분극은 역시 '다'의상태로 끌려내려 가고, 이때는 스위칭이 일어나지 않으므로 선형커패시턴스(Cln)만 존재하며, △Q0 만큼의 전하량을 발생시키게 된다. 이 두 상태 변화에 의한 전하량의 차에 의해 강유전체커패시터는 비휘발성 메모리소자의 기억수단으로 사용되어진다.As is well known, capacitors using ferroelectric materials have a hysteresis curve in the relationship between the voltage across the capacitor and the amount of charged charge. FIG. 1A shows a symbol of a ferroelectric capacitor formed between terminals a and b, and FIG. 1B shows an equivalent of a ferroelectric capacitor, and FIG. 1C shows a relationship of charge amount according to voltage between both terminals a and b of a capacitor. It is. Referring to FIGS. 1A, 1B, and 1C, when there is no potential difference across the ferroelectric capacitors a and b, the amount of charge maintained by polarization exists in two states, 'a' and 'b', so that no power is supplied. It can store binary data. When the information of '1' is stored as 'A' when there is no potential difference between a and b terminals, and the information of '0' is displayed as 'I', the terminal b is read to read the stored information. When a certain voltage (V) is applied, the polarization at the 'ga' position is dragged to the 'da' state to generate the amount of charge as DELTA Q1. At this time, since the state of polarization changes beyond the voltage (Vc) that can cause switching, as shown in FIG. 1B, the nonlinear capacitance (Csw) component during switching and the linear capacitance (Cln) component when not switching are simultaneously present. . In addition, the polarization at the position of 'I' is also drawn to the state of 'D', and since no switching occurs, only the linear capacitance (Cln) exists and generates the amount of charge as ΔQ0. Due to the difference in the amount of charge caused by these two state changes, the ferroelectric capacitor is used as a storage means for the nonvolatile memory device.
도2는 종래기술에 따른 강유전체기억소자의 코어(Core) 부분에 해당하는 회로도이다. 도2에는 정비트라인(bl0n)과 부비트라인(bl0bar)으로 이루어진 제1비트라인쌍과, 또 다른 정비트라인(bl1n)과 부비트라인(bl1bar)으로 이루어진 제2비트라인쌍에 각각 연결된 회로들을 보여주고 있다.2 is a circuit diagram corresponding to a core portion of a ferroelectric memory device according to the related art. In FIG. 2, a first bit line pair consisting of a right bit line bl0n and a sub bit line bl0bar, and a second bit line pair consisting of another right bit line bl1n and a sub bit line bl1bar are respectively connected. The circuits are shown.
도2를 참조하면, 하나의 앤모스트랜지스터와 하나의 강유전체커패시터로 이루어진 단위 셀이 어레이되어 셀 어레이부(130)를 구성하고 있다. 구체적으로, 단위 셀의 앤모스트랜지스터는 비트라인에 드레인이 접속되고 워드라인(wl0, wl1 ... wln-2, wln-1)에 게이트가 접속되며, 단위 셀의 강유전체커패시터는 플레이트라인(plate)과 상기 앤모스트랜지스터의 소스단 사이에 형성된다. 그리고, 각 비트라인에는 제어신호(pbl)에 의해 대기상태에서 비트라인을 접지전압으로 풀다운시키기 위하여 비트라인풀다운부(110)와, 제어신호에 의해 읽기(read) 구동시 정비트라인 및 부비트라인 간의 전압차를 감지증폭하기 위한 감지증폭부(120)가 접속 구성된다.Referring to FIG. 2, unit cells including one NMOS transistor and one ferroelectric capacitor are arrayed to form a cell array unit 130. Specifically, the NMOS transistor of the unit cell has a drain connected to the bit line and a gate connected to the word lines wl0, wl1 ... wln-2, wln-1, and the ferroelectric capacitor of the unit cell has a plate line. ) And the source terminal of the an-MOS transistor. Each bit line includes a bit line pull-down unit 110 for pulling down the bit line to the ground voltage in the standby state by the control signal pbl, and a positive bit line and a sub bit during read driving by the control signal. The sense amplifier 120 is configured to sense and amplify the voltage difference between the lines.
한편, 셀로부터 데이터를 읽기 위해서는 정비트라인 및 부비트라인 간의 데이터를 감지하게 되는데, 이때 정비트라인에 접속된 단위셀이 선택되었다라고 할 때, 선택되지 않은 셀에 접속된 부비트라인은 더미셀(150)로부터 기준전압을 전달받게 되어, 정비트라인 및 부비트라인의 전압차가 감지증폭부(120)에 의해 감지증폭되게 된다. 이때, 이 부비트라인에 기준전압을 전달하는 방식은 제어신호(dtg_even, dtg_odd)에 의해 기준전압전달부(140)를 구동함으로써 구현된다.On the other hand, in order to read data from the cell, the data between the positive bit line and the sub bit line is sensed. In this case, when the unit cell connected to the positive bit line is selected, the sub bit line connected to the unselected cell is further selected. Since the reference voltage is received from the micelle 150, the voltage difference between the positive bit line and the sub bit line is sensed by the sense amplifier 120. At this time, the method of transferring the reference voltage to the sub bit line is implemented by driving the reference voltage transmitter 140 by the control signals dtg_even and dtg_odd.
더미셀부(150)는 더미정비트라인(RBL)이 제1비트라인쌍(bl0n, bl0bar)에 공통으로 접속되어 있고, 더미부비트라인(RBLB)이 제2비트라인쌍(bl1n, bl1bar)에 공통으로 접속되어 있으며, 상기 더미정비트라인(RBL)과 더미부비트라인(RBLB) 사이에 두 개의 더미셀(DCl, DC2)이 접속되어 있다. 또한, 더미정비트라인(RBL)과 더미부비트라인(RBLB)에는 제어신호(prl)에 의해 대기상태에서 더미비트라인쌍을 접지전압으로 풀다운시키기 위한 트랜지스터와, 제어신호(eq_rl)에 의해 더미비트라인 쌍을 이퀄라이즈시키는 트랜지스터가 접속되어 있다. 제1더미셀(DC1)에는 항상 데이터 "0"이 저장되어 있고, 제2더미셀(DC2)에는 항상 데이터 "1"이 저장되어 있어서, 더미워드라인(rwl)과 더미플레이트라인(rpl)을 액티브시키고, 더미비트라인쌍(RBL, RBLB)을 이퀄라이즈시키면, '0'과 '1'의 중간레벨에 해당하는 기준전압이 비트라인에 전달되게 된다.In the dummy cell unit 150, the dummy positive bit line RBL is commonly connected to the first bit line pair bl0n and bl0bar, and the dummy sub bit line RBLB is connected to the second bit line pair bl1n and bl1bar. Are connected in common to each other, and two dummy cells DC1 and DC2 are connected between the dummy positive bit line RBL and the dummy sub bit line RBLB. In addition, the dummy positive bit line RBL and the dummy sub bit line RBLB include a transistor for pulling down the pair of dummy bit lines to the ground voltage in the standby state by the control signal prl, and the dummy by the control signal eq_rl. Transistors that equalize the bit line pairs are connected. Data "0" is always stored in the first dummy cell DC1 and data "1" is always stored in the second dummy cell DC2, so that the dummy word line rwl and the dummy plate line rpl are stored. When enabled and equalizing the dummy bit line pairs RBL and RBLB, a reference voltage corresponding to an intermediate level between '0' and '1' is transferred to the bit line.
그런데, 도2와 같이 종래기술에서는 메모리 셀이 다수 어레이된 비트라인에 2개의 더미셀을 사용하기 때문의 메모리 셀이 어레이된 개수만큼 더미셀의 사용 횟수가 많게 되는데, 강유전체커패시터는 사용 횟수가 많아짐에 따라 커패시터에 차지(charge)되는 전하량이 점차 감소하게 되는 특유의 노화(Fatigue) 현상을 가지고 있으므로, 사용 빈도수에 따라 더미셀로부터 유기되는 기준전압이 불안정해지며,이로 인해 센싱 마진이 떨어져 메모리의 신뢰성에 큰 문제가 된다. 도3은 강유전체커패시터이 노화 현상에 따라 히스테리시스 곡선이 변화하는 것을 보여준다.However, as shown in FIG. 2, since the dummy cells use two dummy cells in a plurality of arrayed bit lines, the number of use of the dummy cell is increased as many as the number of memory cells are arrayed, but the number of use of the ferroelectric capacitor increases. As a result, there is a characteristic aging phenomenon in which the amount of charge charged to a capacitor gradually decreases, and thus the reference voltage induced from the dummy cell becomes unstable according to the frequency of use, which causes the sensing margin to drop and It is a big problem for reliability. 3 shows that the hysteresis curve of the ferroelectric capacitor changes with age.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로써, 데이터 감지증폭시 사용되는 기준전압을 더미셀 없이 기준전압발생기로부터 얻도록 하므로써, 센싱 마진 및 신뢰성이 개선된 강유전체기억소자를 제공함을 그 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, to provide a ferroelectric memory device with improved sensing margin and reliability by obtaining a reference voltage used in the data sensing amplification without a dummy cell, the reference voltage generator. do.
도1a는 강유전체커패시터의 심볼을 나타낸 도면,1A shows a symbol of a ferroelectric capacitor;
도1b는 강유전체커패시터의 등가 회로도,1B is an equivalent circuit diagram of a ferroelectric capacitor;
도1c는 강유전체커패시터의 특성을 보여주는 히스테리시스 곡선,Figure 1c is a hysteresis curve showing the characteristics of the ferroelectric capacitor,
도2는 종래기술에 따른 강유전체기억소자의 코어(Core) 부분에 해당하는 회로도,2 is a circuit diagram corresponding to a core portion of a ferroelectric memory device according to the prior art;
도3은 강유전체커패시터의 특성인 노화(Fatigue) 현상을 보여주는 도면,3 is a diagram illustrating a aging phenomenon, which is a characteristic of a ferroelectric capacitor;
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 강유전체기억소자의 코어(Core) 부분에 해당하는 회로도,4 is a circuit diagram corresponding to a core portion of a ferroelectric memory device according to an embodiment of the present invention;
도5는 도4에서 메모리 셀로부터 데이터를 읽기 위한 각 신호에 대한 타이밍과 강유전체커패시터의 상태를 나타낸 도면,FIG. 5 is a diagram showing timing and ferroelectric capacitors for each signal for reading data from a memory cell in FIG. 4; FIG.
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 기준전압발생기 회로도.6 is a circuit diagram of a reference voltage generator according to an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
110 : 비트라인풀다운부 120 : 감지증폭부110: bit line pull-down unit 120: detection amplifier
130: 셀 어레이부 140 : 기준전압전달부130: cell array unit 140: reference voltage transfer unit
250 : 기준전압발생기250: reference voltage generator
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 강유전체기억소자는, 제1비트라인에 드레인이 접속되고 게이트에 워드라인이 접속된 트랜지스터와, 상기 트랜지스터의 소스와 플레이트라인간에 접속된 강유전체커패시터를 갖는 메모리 셀; 상기 제1비트라인과 기준전압라인으로서의 제2비트라인 사이의 전압차를 감지증폭하는 감지증폭수단; 제1제어신호에 응답하여 상기 제1비트라인과 상기 제2비트라인을 접지전원전압으로 풀다운시키기 위한 비트라인풀다운수단; 다수의 모스트랜지스터 문턱전압값을 이용하여 데이터 '0'과 '1'의 중간레벨에 해당하는 기준전압을 발생시키는 기준전압발생수단; 및 제3제어신호에 응답하여 상기 기준전압발생수단으로부터의 기준전압을 상기 제2비트라인에 전달하기 위한 기준전압전달수단을 포함하여 이루어진다.A ferroelectric memory device of the present invention for achieving the above object comprises: a memory cell having a transistor having a drain connected to a first bit line and a word line connected to a gate, and a ferroelectric capacitor connected between a source and a plate line of the transistor; Sensing amplifying means for sensing and amplifying a voltage difference between the first bit line and a second bit line as a reference voltage line; Bit line pull-down means for pulling down the first bit line and the second bit line to a ground power supply voltage in response to a first control signal; Reference voltage generating means for generating a reference voltage corresponding to an intermediate level between data '0' and '1' using a plurality of MOS transistor threshold values; And reference voltage transfer means for transferring a reference voltage from the reference voltage generation means to the second bit line in response to a third control signal.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명은 더미셀이 아닌 기준전압발생기를 만들어센싱에 필요한 기준전압을 만드는 것에 그 특징이 있는 것으로, 더미셀에 의해 발생되는 소자의 수명이 단축을 방지하여 소자의 신뢰성을 확보할 수 있고, 더미셀을 사용하지 않으므로 칩 면적을 현저히 줄일 수 있으며 '0' 과 '1' 의 중간값을 만들기 위해 더미비트라인을 이퀄라이즈시키는 동작을 없앨 수 있어 그 만큼 소자 동작 시간을 단축할 수 있다.The present invention having such a configuration is characterized by making a reference voltage generator instead of a dummy cell to make a reference voltage necessary for sensing, and to secure the reliability of the device by preventing the life of the device generated by the dummy cell is shortened. Since it does not use dummy cells, the chip area can be significantly reduced, and the operation of equalizing the dummy bit lines to make the intermediate value between '0' and '1' can be eliminated. Can be.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. do.
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 강유전체기억소자의 코어(Core) 부분에 해당하는 회로도로서, 제1비트라인쌍(bl0n, bl0bar)과 제2비트라인쌍(bl1n, bl1bar)에 접속된 비트라인풀다운부(110), 감지증폭부(120), 셀 어레이부(130) 및 기준전압전달부(140)는 종래기술과 동일한 구성을 가지고 있으며, 종래기술의 도2에서 더미셀부(도2의 150) 대신에 기준전압발생기(250)가 대체되어 있다. 기준전압발생기(250)는 모스트랜지스터(MOSFET)의 문턱전압 값을 이용하여 데이터 '0'과 '1' 의 중간값을 갖는 기준전압을 발생시킨다.4 is a circuit diagram corresponding to a core portion of a ferroelectric memory device according to an embodiment of the present invention, and is connected to a first bit line pair bl0n and bl0bar and a second bit line pair bl1n and bl1bar. The bit line pull-down unit 110, the sense amplifier 120, the cell array unit 130 and the reference voltage transfer unit 140 has the same configuration as in the prior art, the dummy cell unit (Fig. Instead of 150 of 2, the reference voltage generator 250 is replaced. The reference voltage generator 250 generates a reference voltage having an intermediate value between data '0' and '1' by using a threshold voltage value of a MOSFET.
도5는 메모리 셀로부터 데이터를 읽기 위한 각 신호에 대한 타이밍과 강유전체커패시터의 상태를 나타낸 도면이다. 도5를 참조하면서 도4에서 메모리 셀 135로부터 데이터를 읽기 위한 동작을 일예로 들어 설명한다.Fig. 5 is a diagram showing the timing of each signal for reading data from a memory cell and the state of the ferroelectric capacitor. Referring to FIG. 5, an operation for reading data from the memory cell 135 in FIG. 4 will be described as an example.
대기상태에서 제어신호 pbl에 의해 비트라인풀다운부(120)를 구성하고 있는트랜지스터들이 턴온되면서 모든 비트라인은 접지전압으로 프리차지 되어있다. 메모리 셀 135에 저장된 데이터를 읽기 위해 어드레스신호(도면에 도시되지 않음)가 들어오면 제어신호 pbl은 '로우'가 되어 비트라인 bl0n을 포함해서 모든 비트라인은 플로팅 상태가 된다(도5의 'a' 구간).As the transistors constituting the bit line pull-down unit 120 are turned on by the control signal pbl in the standby state, all the bit lines are precharged to the ground voltage. When an address signal (not shown in the figure) is input to read data stored in the memory cell 135, the control signal pbl becomes' low 'and all the bit lines, including the bit line bl0n, are in a floating state (' a in FIG. 5). ' section).
그 다음 워드라인 wl0을 통해 선택된 셀 트랜지스터의 게이트를 '하이'로 구동시킨다. 이때 플레이트라인 plate도 '하이'로 구동하면, 강유전체커패시터의 분극 상태는 도1c의 '가'(데이터 '1'이 저장되어 있을 경우) 혹은 '나'(데이터의 '0'이 저장되어 있을 경우) 상태에서 '다'의 상태로 끌려와 △Q0 또는 △Q1의 전하량 변화를 유기한다. 그때 제어신호 dtg_odd를 '하이'로 하여 비트라인 bl0bar에 기준전압발생기(250)로부터의 기준전압을 전달한다(도5의 'b' 구간).The gate of the selected cell transistor is then driven high through the word line wl0. At this time, if the plate line plate is also driven at 'high', the polarization state of the ferroelectric capacitor is 'A' (if data '1' is stored) or 'I' ('0' of data is stored in FIG. 1C). ) To the state of 'da' and induces a change in the charge amount of? Q0 or? Q1. At that time, the control signal dtg_odd is set to 'high' to transfer the reference voltage from the reference voltage generator 250 to the bit line bl0bar ('b' section in FIG. 5).
이어서, 감지증폭인에이블신호 sa_en을 활성화시켜 감지증폭부(120)를 인에이블시키면, 비트라인 bl0에 실린 데이터 '0' 또는 '1'과 기준전압('0'과 '1' 중간레벨)을 감지증폭하여 메모리 셀의 데이터가 '0' 인지 '1' 인지를 판단한다(도5의 'c' 구간).Subsequently, when the sensing amplifier 120 is activated by activating the sensing amplifier enable signal sa_en, the data '0' or '1' and the reference voltage ('0' and '1' intermediate levels) of the bit line bl0 are turned on. The detection and amplification determines whether the data of the memory cell is '0' or '1' ('c' section of FIG. 5).
이어서, 감지증폭부(120)가 인에이블되어 있는 상태에서 플레이트라인 plate를 '로우'하고 다시 워드라인 WLO을 '로우'로 하면, 데이터가 메모리 셀 135에 재저장(restore)된다(도5의 'd' 구간).Subsequently, when the plate line plate is 'low' and the word line WLO is 'low' again while the sensing amplifier 120 is enabled, the data is restored to the memory cell 135 (Fig. 5). 'd' section).
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 기준전압발생기(250)를 나타내는 회로도로서, 모스트랜지스터의 문턱전압을 이용하여 기준전압을 발생시켜 주는 기준전압발생회로부(250a)와 기준전압(Vref)을 비트라인에 실어 줄 때 충분한 구동 능력을 갖게 하기 위한 전류미러형 드라빙부(250b)로 이루어져 있다. 본 실시예에 따른 기준전압발생회로부(250a)는 노드 A와 공급전원단 간에 다이오드 접속된 두 개의 피모스트랜지스터(P0, P1)와, 노드 A와 접지전원단 간에 다이오드 접속된 하나의 앤모스트랜지스터(N9)로 실시 구성되어 있는바, 이러한 구성은 트랜지스터의 사이즈에 의해 접속되는 트랜지스터의 개수가 변할 수 있다.6 is a circuit diagram illustrating a reference voltage generator 250 according to an embodiment of the present invention. The reference voltage generator 250a and the reference voltage Vref for generating a reference voltage using the threshold voltage of the MOS transistor are shown in FIG. It is composed of a current mirror type driving unit 250b to have sufficient driving capability when loaded on the bit line. The reference voltage generating circuit unit 250a according to the present embodiment includes two PMOS transistors P0 and P1 diode-connected between the node A and the power supply terminal, and an NMOS transistor between the node A and the ground power supply. Since the structure is implemented as (N9), the number of transistors to be connected may vary depending on the size of the transistor.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical idea of the present invention has been described in detail according to the above preferred embodiment, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 셀의 데이터 센싱에 필요한 기준전압을 기준전압발생기를 통해 얻으므로써, 메모리셀과 동일한 구성을 갖는 더미셀이 필요없으므로 더미셀이 차지하는 면적을 줄 일수 있고, 더미셀로부터 '0' 과 '1'을 읽어 이퀄라이즈시켜 주지 않아도 되므로 그 만큼 시간을 단축할 수 있고, 더미셀의 노화에 의한 칩의 수명이 단축되어 지는 것을 막을 수 있다.As described above, the present invention obtains a reference voltage necessary for data sensing of a cell through a reference voltage generator, thereby reducing the area occupied by the dummy cell since the dummy cell having the same configuration as that of the memory cell is not required. Since it is not necessary to read and equalize '0' and '1' from the above, the time can be shortened and the life of the chip due to aging of the dummy cell can be prevented.
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