JPS63295699A - 共沸溶剤組成物 - Google Patents
共沸溶剤組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は1,2−ジクロロ−1,1−ジフルオロエタン
(以下、フロン−132bという)と1.1.2−トリ
クロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、フロ
ン−113という)とからなる共沸溶剤組成物に関する
。
(以下、フロン−132bという)と1.1.2−トリ
クロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、フロ
ン−113という)とからなる共沸溶剤組成物に関する
。
[従来の技術]
従来より、クロロフルオロエタン系化合物であるフロン
−113は不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチッ
クやゴムなどの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリ
ース、ワックスなどを溶解するという選択溶解性に優れ
ており、単独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸
組成物の形で溶剤、洗浄剤などに広く用いられている。
−113は不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチッ
クやゴムなどの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリ
ース、ワックスなどを溶解するという選択溶解性に優れ
ており、単独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸
組成物の形で溶剤、洗浄剤などに広く用いられている。
[発明が解決しようとする問題点コ
近年、フロン−113などの水素がすべて塩素およびフ
ッ素で置換されたクロロフルオロエタン系化合物(以下
、パーハロエタンという)が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模の環境汚染が問題となり、そう
したパーハロエタンの使用を低減することが急務となっ
ている。
ッ素で置換されたクロロフルオロエタン系化合物(以下
、パーハロエタンという)が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模の環境汚染が問題となり、そう
したパーハロエタンの使用を低減することが急務となっ
ている。
そこでフロン−113に代わる物質が種々検討されてい
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
しかしながら、溶剤として使用するためには使用時の液
管理が容易でかつ容易に回収、再使用できることが重要
な要件となり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望ま
れる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以上
を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、す
なわち共沸状態の混合物とする必要がある。
管理が容易でかつ容易に回収、再使用できることが重要
な要件となり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望ま
れる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以上
を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、す
なわち共沸状態の混合物とする必要がある。
フロン−113との共沸混合物としては、メタノールや
エタノールとの共沸混合物が知られているが、いずれも
アルコール成分は10%(重量%、以下同様)未満であ
り(メタノール:5.7%、エタノール:4%)、シた
がってフロン−113の使用量を低減させるという点に
おいては到底満足のいくものではない。
エタノールとの共沸混合物が知られているが、いずれも
アルコール成分は10%(重量%、以下同様)未満であ
り(メタノール:5.7%、エタノール:4%)、シた
がってフロン−113の使用量を低減させるという点に
おいては到底満足のいくものではない。
また、フロン−113とメチレンクロライドとの1:1
共沸混合物も実用化されているが、メチレンクロライド
の生体毒性が高いため、望ましいものではない。
共沸混合物も実用化されているが、メチレンクロライド
の生体毒性が高いため、望ましいものではない。
本発明は充分な溶剤性能を維持したままフロン−113
の使用量を低減化させえた共沸溶剤組成物を提供するも
のである。
の使用量を低減化させえた共沸溶剤組成物を提供するも
のである。
[問題点を解決するための手段]
本発明の共沸溶剤組成物は、48.1%のフロン−13
2bと51.9%のフロン−113との共沸混合物から
なることを要旨とするものである。
2bと51.9%のフロン−113との共沸混合物から
なることを要旨とするものである。
[作用および実施例]
本発明で用いるフロン−132b (沸点: 4B、
8℃)とフロン−113(%3点: 47.8℃)との
共沸混合物は44.2℃の共沸点を有している。
8℃)とフロン−113(%3点: 47.8℃)との
共沸混合物は44.2℃の共沸点を有している。
フロン−132bは塩素原子とフッ素原子のほかに水素
原子を2個有する化合物であり、オゾン層を破壊するこ
とはない。しかし、それ単独ではプラスチックやゴムに
対する溶解力が大きすぎ、そうした素材を侵してしまう
ため溶剤として使用されていなかったものである。
原子を2個有する化合物であり、オゾン層を破壊するこ
とはない。しかし、それ単独ではプラスチックやゴムに
対する溶解力が大きすぎ、そうした素材を侵してしまう
ため溶剤として使用されていなかったものである。
本発明によれば、フロン−132bとフロン−113と
を48.1/ 51.9の重量比で含んでいるためフロ
ン−132bの有機系素材に対する溶解力を抑えること
ができると共にフロン−113の使用量を大幅に減らす
ことができるうえ、フロン−132bの溶解力を利用し
てフロン−113単独では除去できなかったような電子
工業分野などにおけるフラックスの除去も可能となる。
を48.1/ 51.9の重量比で含んでいるためフロ
ン−132bの有機系素材に対する溶解力を抑えること
ができると共にフロン−113の使用量を大幅に減らす
ことができるうえ、フロン−132bの溶解力を利用し
てフロン−113単独では除去できなかったような電子
工業分野などにおけるフラックスの除去も可能となる。
しかも共沸状態であるため、液管理、回収、再使用が容
易であり、蒸気洗浄にも適用できる。
易であり、蒸気洗浄にも適用できる。
本発明の組成物は化学的に安定であるが、さらに安定剤
を添加してもよい。
を添加してもよい。
このような安定剤として好ましい性質としては、本発明
の組成物を安定化する効果の大きいことはもちろんであ
るが、蒸留操作により同伴留出されるものや、さらには
共沸を形成するものが望ましいが、これらに限定される
ものではない。
の組成物を安定化する効果の大きいことはもちろんであ
るが、蒸留操作により同伴留出されるものや、さらには
共沸を形成するものが望ましいが、これらに限定される
ものではない。
前記のごとき安定剤の具体例としては、たとえばニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、8−メチル−1−プチンー3−オール、3
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、■、2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1.2−ジメトキシエタン、1.4−ジ
オキサン、L、3,54リオキサンなどのエーテル類、
ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.44リメチル
−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、シクロ
ヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類、ア
リルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メチル
−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アルコー
ル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげられ、
これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい
。またこれらとフェノール、トリメチルフェノール、シ
クロヘキシルフェノール、チモール、2.6−ジーt−
ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、ヘキ
シルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホ
リン、シクロヘキシルアミン、2,2.8.8−テトラ
メチルピリジン、N、N’−ジアリル−p−フェニレン
ジアミンなどのアミン類などと併用してもよく、併用す
るとさらに優れた相乗的安定化効果が発揮される。
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、8−メチル−1−プチンー3−オール、3
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、■、2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1.2−ジメトキシエタン、1.4−ジ
オキサン、L、3,54リオキサンなどのエーテル類、
ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.44リメチル
−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、シクロ
ヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類、ア
リルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メチル
−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アルコー
ル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげられ、
これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい
。またこれらとフェノール、トリメチルフェノール、シ
クロヘキシルフェノール、チモール、2.6−ジーt−
ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシアニ
ソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、ヘキ
シルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホ
リン、シクロヘキシルアミン、2,2.8.8−テトラ
メチルピリジン、N、N’−ジアリル−p−フェニレン
ジアミンなどのアミン類などと併用してもよく、併用す
るとさらに優れた相乗的安定化効果が発揮される。
前記安定剤の使用量としては、安定剤の種類により異な
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1〜lo%用いるのが好ましく、0.5〜
5%用いるのがさらに好ましい。
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1〜lo%用いるのが好ましく、0.5〜
5%用いるのがさらに好ましい。
こうした利点を有する本発明の共沸溶剤組成物は、油脂
やグリースの除去のほか、半導体に用いるシリコンウェ
ハーや水晶、セラミックスなどのカッティングや研磨な
どの加工時の仮止め用ワックス類の除去、フォトレジス
トの剥離除去、フラックスの除去などに用いる洗浄剤と
して宵月である。
やグリースの除去のほか、半導体に用いるシリコンウェ
ハーや水晶、セラミックスなどのカッティングや研磨な
どの加工時の仮止め用ワックス類の除去、フォトレジス
トの剥離除去、フラックスの除去などに用いる洗浄剤と
して宵月である。
つぎに実施例をあげて本発明の共沸溶剤組成物を説明す
るが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものでは
ない。
るが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものでは
ない。
実施例1
フロン−132bとフロン−03とのそれぞれ150g
および150gの混合物300gを蒸溜フラスコに入れ
、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行な
った。その結果、44.2℃において共沸を呈し、その
留分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、
組成はフロン−132bが48.1%でフロン−113
が51.9%であった。
および150gの混合物300gを蒸溜フラスコに入れ
、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行な
った。その結果、44.2℃において共沸を呈し、その
留分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、
組成はフロン−132bが48.1%でフロン−113
が51.9%であった。
実施例2
つぎの要領でシリコンウェハー加工において一時仮止め
材として使用されているワックス類の溶解性を調べた。
材として使用されているワックス類の溶解性を調べた。
第1表に示す溶剤longをそれぞれ容ffi 200
ccのビーカーに入れ40℃に加温した。ついで攪拌し
ながら粉末にしたワックスとしてエレクトロンワックス
およびステッキワックス(いずれも日化精工■製)を徐
々に加えて溶解性を観察した。
ccのビーカーに入れ40℃に加温した。ついで攪拌し
ながら粉末にしたワックスとしてエレクトロンワックス
およびステッキワックス(いずれも日化精工■製)を徐
々に加えて溶解性を観察した。
結果を第1表に示す。
溶解性の評価はっぎの基準に従って行なった。
◎:フラックス度2%以上溶解
O:ワックス濃度1%以上2%まで溶解Δ:フラックス
度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 電気回路が組み込まれたフェノール樹脂よりなるプリン
ト基板(BOX 50mm)の全面に■タムラ製作所製
のブレフラックス(B−111B)を塗布し、ついでポ
ストフラックス(P−230V)を塗布したのち、約2
50℃の電気炉中で2分間焼成した。焼成後炉からプリ
ント基板を取り出して室温にまで冷却したのち、第1表
に示す溶剤が入っている浸漬−蒸気洗浄タイブの二槽式
洗浄機[ブランソン(Branson)社製モデルUP
−12101で1分間の浸漬洗浄(超音波洗浄)、つい
で30秒間の蒸気洗浄を行なってフラックスの除去の度
合を7011定した。フラックスの除去の度合は肉眼に
より観察した。
度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 電気回路が組み込まれたフェノール樹脂よりなるプリン
ト基板(BOX 50mm)の全面に■タムラ製作所製
のブレフラックス(B−111B)を塗布し、ついでポ
ストフラックス(P−230V)を塗布したのち、約2
50℃の電気炉中で2分間焼成した。焼成後炉からプリ
ント基板を取り出して室温にまで冷却したのち、第1表
に示す溶剤が入っている浸漬−蒸気洗浄タイブの二槽式
洗浄機[ブランソン(Branson)社製モデルUP
−12101で1分間の浸漬洗浄(超音波洗浄)、つい
で30秒間の蒸気洗浄を行なってフラックスの除去の度
合を7011定した。フラックスの除去の度合は肉眼に
より観察した。
それらの結果を第1表に示す。
第1表中、
0:良 好
△:やや不良(基板表面に白色残渣)
×:不 良
である。
実施例4
第1表に示す各溶剤につき、素材(プラスチック)に対
する影響(膨潤度)をっぎの要領で調べた。
する影響(膨潤度)をっぎの要領で調べた。
100ccの耐圧ガラスビンに第1表に示す溶剤100
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50X 21
11)を入れて、温度50’Cの恒温槽中に4時間放置
し、取出したのち、ただちに重量増加および体積増加を
調べた。
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50X 21
11)を入れて、温度50’Cの恒温槽中に4時間放置
し、取出したのち、ただちに重量増加および体積増加を
調べた。
結果を第1表に示す。
評価は
02重量または体積増加O〜2%
○:型重量たは体積増加2〜5%
Δ:型重量たは体積増加5%以上
X:溶 解
とした。
[発明の効果コ
本発明の共沸溶剤組成物は、フロン系溶剤のオゾン層の
破壊の原因と考えられているフロン−113の使用量を
大幅に減少させることができるうえ、フロン−113と
フロン−132bの調和のとれた溶解力を発揮し、かつ
不燃性であり、しかも共沸混合物の利点である使用時の
液管理や回収、再使用における取り扱い容易性を兼ね備
えた極めて優れた溶剤組成物であり、さらに被溶解物質
の幅をも拡げることもできるという優れた効果を奏する
ものである。
破壊の原因と考えられているフロン−113の使用量を
大幅に減少させることができるうえ、フロン−113と
フロン−132bの調和のとれた溶解力を発揮し、かつ
不燃性であり、しかも共沸混合物の利点である使用時の
液管理や回収、再使用における取り扱い容易性を兼ね備
えた極めて優れた溶剤組成物であり、さらに被溶解物質
の幅をも拡げることもできるという優れた効果を奏する
ものである。
特許出願人 ダイキン工業株式会社
手続補正書印釦
昭和62年7月8日
特許庁長官 小川邦人 殿 i萱1事
件の表示 昭和62年特許願第131027号 名 称 (285)ダイキン工業株式会社代表者 山
1) 稔 済 シ 切 5補正の対象 (1) 明細書の「発明の詳細な説明」の欄6補正の
内容 (1)明細書3頁10行の「5.7%」を「6%」と補
正する。
件の表示 昭和62年特許願第131027号 名 称 (285)ダイキン工業株式会社代表者 山
1) 稔 済 シ 切 5補正の対象 (1) 明細書の「発明の詳細な説明」の欄6補正の
内容 (1)明細書3頁10行の「5.7%」を「6%」と補
正する。
(′2J 同4頁10〜11行の「オゾン層を破壊す
ることはない」を「オゾン層の破壊に殆ど影響を与えな
い」と補正する。
ることはない」を「オゾン層の破壊に殆ど影響を与えな
い」と補正する。
(3)同4頁17行の「有機系」を「高分子」と補正す
る。
る。
(4) 同5頁5行の「化学的にJを「化学的には比
較的」と補正する。
較的」と補正する。
(5)同7頁2行の「ピリジン」を「ピペリジン」と補
正する。
正する。
(6) 同7頁3行の「アミン類」を「アミン類、ベ
ンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、クロロベンゾトリア
ゾールなどのトリアゾール類」と補正する。
ンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、クロロベンゾトリア
ゾールなどのトリアゾール類」と補正する。
(7′)同7頁15行の「剥離」を「剥離剤」と補正す
る。
る。
(8) 同9頁10〜12行の「約250℃の・・・
・・・冷却したのち」を「約250℃でハンダづけした
。
・・・冷却したのち」を「約250℃でハンダづけした
。
このプリント基板を室温で1時間放冷したのち」と補正
する。
する。
(9) 同9頁13〜14行の[蒸気洗浄タイプ・・
・・・・モデルUP−1210]で」を「蒸気洗浄の二
槽式洗浄機で」と補正する。
・・・・モデルUP−1210]で」を「蒸気洗浄の二
槽式洗浄機で」と補正する。
(財) 同9頁15行の「30秒」を「1分」と補正す
る。
る。
以 上
Claims (1)
- 1 1,2−ジクロロ−1,1−ジフルオロエタン48
.1重量%と1,1,2−トリクロロ−1,2,2−ト
リフルオロエタン51.9重量%とからなる共沸溶剤組
成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13102787A JPS63295699A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 共沸溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13102787A JPS63295699A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 共沸溶剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63295699A true JPS63295699A (ja) | 1988-12-02 |
Family
ID=15048300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13102787A Pending JPS63295699A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | 共沸溶剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63295699A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1990008814A1 (en) * | 1989-02-01 | 1990-08-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture |
WO1990008815A1 (en) * | 1989-02-06 | 1990-08-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Azeotropic or azeotropic-like composition of hydrochlorofluoropropane |
US5320683A (en) * | 1989-02-06 | 1994-06-14 | Asahi Glass Company Ltd. | Azeotropic or azeotropic-like composition of hydrochlorofluoropropane |
-
1987
- 1987-05-27 JP JP13102787A patent/JPS63295699A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1990008814A1 (en) * | 1989-02-01 | 1990-08-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture |
US5607912A (en) * | 1989-02-01 | 1997-03-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture |
WO1990008815A1 (en) * | 1989-02-06 | 1990-08-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Azeotropic or azeotropic-like composition of hydrochlorofluoropropane |
US5320683A (en) * | 1989-02-06 | 1994-06-14 | Asahi Glass Company Ltd. | Azeotropic or azeotropic-like composition of hydrochlorofluoropropane |
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