JPS62213960A - Lapping jig - Google Patents

Lapping jig

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JPS62213960A
JPS62213960A JP61054729A JP5472986A JPS62213960A JP S62213960 A JPS62213960 A JP S62213960A JP 61054729 A JP61054729 A JP 61054729A JP 5472986 A JP5472986 A JP 5472986A JP S62213960 A JPS62213960 A JP S62213960A
Authority
JP
Japan
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holder
outer ring
lapping
ring
jig
Prior art date
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Pending
Application number
JP61054729A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Morita
健二 森田
Takeji Shiokawa
武次 塩川
Hideo Saeki
佐伯 秀雄
Kuninori Imai
今井 邦典
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide processing of a super-flat surface with good productivity by using a pneumatic bearing, and applying restrictive force in the radial direction during lapping between a holder and an outer ring. CONSTITUTION:Compressed air 6 supplied from an air supply port 5 intrudes in a gap (a) between an air supply ring 4 and an outer ring 3, and thereafter is partially led to outside from a' while the rest intrudes in a gap (b) between the outer ring 3 and a holder 2 from a nozzle 7 furnished at the outer ring 3 to be then released to outside. This causes the holder 2, outer ring 3 and air supply ring 4 out of contact from one another, and further, the nozzle 7 is located in the position dividing the outer ring circumference equally, so that it is difficult for the holder to displace in the radial direction. This lapping jig is located in a correction ring of a lapping machine, and when the lapping surface board beings rotating, a flange 3' at the bottom of the outer ring 3 comes in contact with the correction ring, and now the outer ring 3 rotates and the holder 2 also rotates. Thus a specimen 1 can be lapped without procession to provide high precision surfaces easily.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般金属材料やセラミックス等の硬脆材からな
る試料の表面をラップ加工することに係わり、特に高精
度の平面ラップ加工を行なうに好適なラッピング治具を
提供することに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to lapping the surface of a sample made of hard and brittle materials such as general metal materials and ceramics, and is particularly applicable to high-precision flat lapping. The present invention relates to providing a suitable wrapping jig.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

試料の表面を高精度の平面にラップ加工するには、ラッ
プ面盤が高精度の平面形状を保持していることか非常に
重要であるが、試料がラップ加工されていく過程におい
て、ラップ面盤もその平面形状が常に変化して行くのが
普通である。ラップ面盤の平面形状をいつまでも高精度
の平面に保持するため、例えば、芝山機械に、に型録に
見られるような修正輪型のラッピングマシンが数多く採
用され市販もされている。このラッピングマシンは、修
正軸を回転させることでラップ面盤をいつまでも高精度
平面形状に保つよう配慮し、よって常時高精度平面ラッ
プ加工が行なえるようにしている。
In order to lap the surface of a sample into a highly accurate flat surface, it is very important that the lap surface plate maintains a highly accurate flat shape. It is normal for the planar shape of the board to constantly change. In order to keep the planar shape of the lapping plate in a highly accurate plane forever, many correction wheel type lapping machines, such as those seen in Shibayama Kikai's Ni Kataroku, have been adopted and commercially available. This lapping machine is designed to keep the lapping surface plate in a highly accurate flat shape forever by rotating the correction shaft, thus allowing high-precision flat lapping to be performed at all times.

この修正輪型ラッピングマシンを使用して目的とする試
料をラップ加工するには、試料を直接修正軸の中に入れ
るか、もしくは、何らかのホールダに試料を接着等によ
り固定し、ホールダを修正輪の中に入れて、ラッピング
マシンを作動させることにより行われる。特に、試料が
小物品である場合、または四角形状等非円形品の場合に
は、後者の方法を用いることが多い。このような場合に
従来一般に用いられてきたラッピング治具の見取図を第
6図に示す。試料1はホールダ2に接着で固定されたの
ち、外軸3に挿入される。このように基準されたラッピ
ング治具1式を修正軸の中に入れて、試料1をラップ加
工する。この場合、ホールダ2と外輪3の間は、互いに
は固定されていない。つまり、ホールダ2は外輪3の中
で上下方向にフリーとなっており、ラップ加工が進行す
るにつれて下方で沈んで行くことになる。このようにす
ることによって、ホールダ2は簡単に取り出せ、試料1
−の中間検査を容易にできる利点がある。
To lap the target sample using this correction wheel type lapping machine, you can either place the sample directly into the correction shaft, or fix the sample to some kind of holder with adhesive, etc., and then attach the holder to the correction wheel. This is done by placing it inside and operating the wrapping machine. In particular, the latter method is often used when the sample is a small item or a non-circular item such as a rectangular item. FIG. 6 shows a sketch of a lapping jig that has conventionally been commonly used in such cases. After the sample 1 is fixed to the holder 2 with adhesive, it is inserted into the outer shaft 3. One set of lapping jig referenced in this way is placed into the correction shaft, and sample 1 is lapped. In this case, the holder 2 and the outer ring 3 are not fixed to each other. In other words, the holder 2 is free in the vertical direction within the outer ring 3, and sinks downward as the lapping process progresses. By doing this, the holder 2 can be easily taken out and the sample 1
- It has the advantage of facilitating intermediate inspections.

しかし、上記のようなラッピング治具には、ホールダ2
と外軸3との間にすきまb(通常は0.02閣程度)が
あるため、ラップ加工中にホールダ2に多少の歳差MI
jJをすることになる。この歳差運動は、ラップ面盤の
平面形状が悪い場合は特に顕著になる。したがって、ラ
ップ加工された試料1は、その表面が一般に凸形状にな
るという欠点がある。また、このような歳差運動は、試
料1の表面積がホールダ2の表面積より小さい場合に特
に起り易い。これを防止するには、ホールダ2と外輪3
との間のすきまの影響をできるだけ小さくすることが必
要である。
However, the above-mentioned wrapping jig does not have a holder 2.
Because there is a clearance b (usually about 0.02 mm) between the holder 2 and the outer shaft 3, there may be some precession MI in the holder 2 during lapping.
I will be playing jj. This precession becomes particularly noticeable when the planar shape of the lap plate is poor. Therefore, the lapped sample 1 has the disadvantage that its surface generally has a convex shape. Further, such precession is particularly likely to occur when the surface area of the sample 1 is smaller than the surface area of the holder 2. To prevent this, holder 2 and outer ring 3
It is necessary to minimize the effect of the gap between the

このための常套手段として、例えば、日本物理学会発行
の「結晶の加工と表面」P73にも記載されているよう
に、複数個のヤトイを試料1の周辺に設けてラップ加工
する方法で知られている。
As a common method for this purpose, for example, as described in "Crystal Processing and Surfaces" published by the Physical Society of Japan, page 73, a method is known in which multiple Yatoi are placed around the sample 1 and lapping is performed. ing.

すなわち、ヤトイを用いることでラップ値の表面積が大
きくなるので、ホールダ2の歳差運動が小さくなり、試
料1は高精度にラップ加工されるものである。しかし、
ヤトイを設けなければならない、ヤトイは試料1と同じ
材質でないと良い効果が得られないなどの傾向があり、
実用的に問題がある。また、この方法では、歳差運動は
多少は軽減されるが十分でなく、平坦度が例えばλ/1
0(λ:光の波長)以下の平面を得るには、更に積極的
な歳差運動を抑制する手段を講じなけなばならない。
That is, since the surface area of the lap value is increased by using the Yatoi, the precession of the holder 2 is reduced, and the sample 1 can be lapped with high precision. but,
There is a tendency that a Yatoi must be provided, and that a good effect cannot be obtained unless the Yatoi is made of the same material as Sample 1.
There are practical problems. In addition, with this method, although the precession is reduced to some extent, it is not sufficient, and the flatness is reduced to λ/1, for example.
In order to obtain a plane with a diameter of 0 (λ: wavelength of light) or less, it is necessary to take measures to suppress even more active precession.

ただし、上記歳差運動は、試料1にかかる荷重Wにも影
響される。すなわち、Wが重い程横方向へ引く力が増し
、歳差運動を起し易くなることから、歳差運動を防止す
るには試料1に負荷する荷重にも十分注意しなければな
らず、歳差運動を防止する手段には、荷重を微調整でき
る機構を兼ね備えていることが望ましい。
However, the precession described above is also affected by the load W applied to the sample 1. In other words, the heavier W is, the more force it pulls in the lateral direction, and the more likely it is to cause precession, so to prevent precession, we must be careful about the load applied to sample 1. It is desirable that the means for preventing differential movement also include a mechanism that allows fine adjustment of the load.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は、上記従来技術の欠点を排除し、超平坦面を生
産性良く加工できるラップ加工用治具を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a lapping jig that eliminates the drawbacks of the prior art described above and can process ultra-flat surfaces with high productivity.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的を達成するため1本発明では、空気軸受を適用
することによって、ラップ加工中にホールダ2と外輪3
との間にラジアル方向の規制力を加え、更には、ラップ
加工中の試料へ負荷する荷重を調整することを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, the present invention uses an air bearing to prevent the holder 2 and the outer ring 3 during lapping.
It is characterized by applying a regulating force in the radial direction between the two and further adjusting the load applied to the sample during lapping.

〔作用〕[Effect]

ラッピング治具を空気軸受型とするとにより、ホールダ
と外輪は非接触状態となる。しかも、ホールダは外輪の
中に設けられた噴出ノズルより噴出した圧縮空気によっ
て半径方向に変位しないような規制を受ける。したがっ
て、ホールダに固定された試料は歳差運動することなく
ラップ加工され、容易に高精度の表面となる。
By using an air bearing type lapping jig, the holder and the outer ring are in a non-contact state. Moreover, the holder is restricted from being displaced in the radial direction by the compressed air ejected from the ejection nozzle provided in the outer ring. Therefore, the sample fixed in the holder is lapped without precessing, and a highly accurate surface is easily obtained.

〔実施例〕〔Example〕

以下1本発明の実施例に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, a detailed explanation will be given based on one embodiment of the present invention.

〔実施例1〕 第1図は、本発明のラッピング治具の一実施例を示す見
取図である。第6図に示す従来のラッピング治具と異な
るのは、外軸3が空気軸受となっているので、ホールダ
2は外軸3と非接触状態にあることである。このラッピ
ング治具一式は、前述したラッピングマシンの修正軸の
中に入れ、試料1をラップ加工する。この時、回転中の
外軸3には別に設けられた圧縮空気源よ番j、圧縮空気
6を供給する必要があり、これを具体化する手段として
、給気リング4を設けている。こうすることにより、ラ
ップ加工中にホールダ2、外輪3は、例えば図に示す矢
印方向に非常に滑らかに回転するが、一方1回転中の外
輪3に連続的に圧縮空気6を供給する給気リング4は、
回転せずその位置に停止している。以下動作について説
明する。
[Example 1] FIG. 1 is a sketch showing an example of the wrapping jig of the present invention. The difference from the conventional wrapping jig shown in FIG. 6 is that the outer shaft 3 is an air bearing, so the holder 2 is not in contact with the outer shaft 3. This lapping jig set is inserted into the correction shaft of the above-mentioned lapping machine, and the sample 1 is lapped. At this time, it is necessary to supply compressed air 6 from a separately provided compressed air source to the rotating outer shaft 3, and an air supply ring 4 is provided as a means for realizing this. By doing this, the holder 2 and the outer ring 3 rotate very smoothly during the lapping process, for example in the direction of the arrow shown in the figure, but at the same time, the compressed air 6 is continuously supplied to the outer ring 3 during one rotation. Ring 4 is
It does not rotate and remains at that position. The operation will be explained below.

給気リング4に設けられた給気口5からは圧縮空気6が
供給され、給気リング4と外輪3とのすきまaに入った
後、一部分はa′を通って外へ逃げろが、残りの圧縮空
気6は外輪3に設けられた噴出ノズル7を通って、外輪
3とホールダ2との間に設けられたすきまbに入り、そ
の後外へ放出される。このように構成にすることによっ
て、ホールダ2、外輪3、給気リング4は互いに非接触
状態になる。噴出ノズル7は外輪3の円周を等分割した
位置(少くとも4等分90°間隔以上が望ましい)に設
けてあり、それぞれから噴出した圧縮空気6は、均等の
力でホールダ2を押えることになる。つまり、ホールダ
2はラジアル方向に変位しにくいよう規制される。
Compressed air 6 is supplied from an air supply port 5 provided in the air supply ring 4, and after entering the gap a between the air supply ring 4 and the outer ring 3, a part of it escapes to the outside through a', but the rest escapes. The compressed air 6 passes through a jet nozzle 7 provided on the outer ring 3, enters the gap b provided between the outer ring 3 and the holder 2, and is then discharged to the outside. With this configuration, the holder 2, the outer ring 3, and the air supply ring 4 are brought into a non-contact state with each other. The jet nozzles 7 are provided at positions that equally divide the circumference of the outer ring 3 (preferably at least four equal parts at intervals of 90 degrees or more), and the compressed air 6 jetted from each can press the holder 2 with equal force. become. In other words, the holder 2 is restricted so that it is difficult to displace in the radial direction.

以上のように動作する本発明のラッピング治具は、ラッ
ピングマシンの修正軸の中に置かれる。
The lapping jig of the present invention, which operates as described above, is placed in the correction shaft of the lapping machine.

多ツブ面盤が回り出すと、外輪3の下部に設けられたつ
ば部3′が修正軸と接し、外輪3は回転をする。ホール
ダ2も回転し、試料1はラップ加工される。
When the multi-face plate begins to rotate, the collar 3' provided at the bottom of the outer ring 3 comes into contact with the correction shaft, causing the outer ring 3 to rotate. The holder 2 also rotates, and the sample 1 is lapped.

本発明では、ラップ加工中における試料工の歳差運動を
防止するのが主な目的であり、圧縮空気6の噴出ノズル
7は、外輪3の中に二段状に設けている。その間隔をQ
とし、Qを適度の間隔にすることでホールダ2すなわち
試料1の歳差運動がより発生しにくくなる。Qはホール
ダ2の外径をDとしたとき、少くともQ≧Dの関係にあ
るのが好ましいことが実験的に確かめられた。とはいえ
、Ωを十分大きくすることは、製作することの困難さを
伴なうことになるので、実際上はQ =c Dとすれば
よい、また、上記した例では噴出ノズル7は二段とした
が、より多くの段数とすることで、より一層の歳差運動
防止効果が期待されるが、I2作上の困薙さを考慮すれ
ば、二段もしくは三段程度が実用的な所となる。
The main purpose of the present invention is to prevent precession of the specimen during lapping, and the jet nozzles 7 for compressed air 6 are provided in two stages in the outer ring 3. The interval is Q
By setting Q to an appropriate interval, precession of the holder 2, that is, the sample 1, becomes less likely to occur. It has been experimentally confirmed that Q preferably satisfies at least the relationship Q≧D, where D is the outer diameter of the holder 2. However, making Ω sufficiently large is accompanied by difficulty in manufacturing, so in practice it is sufficient to set Q = c D. Also, in the above example, the jet nozzle 7 is Although it is expected that increasing the number of stages will further prevent precession, considering the difficulty of I2 production, it is practical to use two or three stages. It becomes a place.

圧縮空気6は一般的に4〜5kIcf/−の給気圧を用
いる。各部のすきまは、おおよそ下記のような値が好適
である。
The compressed air 6 generally has a supply pressure of 4 to 5 kIcf/-. Appropriate values for the clearances between each part are approximately as shown below.

給気リング4と外輪3とのすきまa=1.〜2IIWl
給気リング4と外輪3とのすきまa’ =0.0151
Lm外翰3とホールダ2とのすきま b = 0 、0
2 mm〔実施例2〕 上記した実施例1に荷重の微調機構を付加した実施例を
第2図に示す。この実施例では、ホールダ2と外輪3と
の間に空気溜まり10を形成している。ホールダ2と外
輪3とのすきまb′を。
Clearance a between the air supply ring 4 and the outer ring 3 = 1. ~2IIWl
Clearance a' between air supply ring 4 and outer ring 3 = 0.0151
Gap between Lm outer wire 3 and holder 2 b = 0, 0
2 mm [Example 2] FIG. 2 shows an example in which a load fine adjustment mechanism is added to the above-mentioned Example 1. In this embodiment, an air pocket 10 is formed between the holder 2 and the outer ring 3. Clearance b' between holder 2 and outer ring 3.

b’ =0.005++n程度に小さくシ、圧縮空気6
をこの空気溜まり10に極力溜めるようにする。空気溜
まり10に溜まった圧縮空気6は、ホールダ2に設けら
れた通路11、さらに流量調整弁12を通って外へ排出
される構造となっている。この流域調整弁12を、i整
することにより、試料1に加わるラップ荷重は次のよう
に調整される。つまり、流量調整弁12を「開く」こと
で大きなラップ荷重(ホールダ2の重さに相当する分の
411重)加オ〕す、「絞る」ことで軽荷重となる。軽
荷重となるのは、流域調整弁12を絞ることによ−)で
圧縮空気6の逃げ場がなくなり空気溜まり10に充満し
、ホールダ2を押し」二げようどする力が働くがらであ
る。
b' = 0.005++n, compressed air 6
This air pocket 10 should be filled with as much as possible. The compressed air 6 accumulated in the air reservoir 10 is configured to be discharged outside through a passage 11 provided in the holder 2 and further through a flow rate regulating valve 12. By adjusting the flow area adjustment valve 12, the lap load applied to the sample 1 is adjusted as follows. In other words, by "opening" the flow rate regulating valve 12, a large lap load (411 weights corresponding to the weight of the holder 2) is applied, and by "squeezing" it is a light load. The reason why the load becomes light is that by throttling the flow area regulating valve 12, there is no place for the compressed air 6 to escape, and the air pocket 10 is filled with a force that pushes the holder 2.

ラップ荷重は、試料の材質、使用する砥粒、加工能率等
を考慮して適度に選定されるべきである。
The lapping load should be appropriately selected in consideration of the material of the sample, the abrasive grains used, processing efficiency, etc.

従来、ラップ荷y1工を重くする場合、ホールダ2に錘
りを付加することが一般的に行なわれている。
Conventionally, in order to increase the weight of the wrapped load y1, it has been common practice to add a weight to the holder 2.

重くする場合はこれで良いが、軽くすることば困難であ
った。そこで、もともと軽いホールダを用い、付加する
錘りの竜でラップ荷重を@整するのが通常良く用いられ
ている。
This is fine if you want to make it heavier, but it was difficult to make it lighter. Therefore, it is common practice to use a holder that is originally light and adjust the lap load with an additional weight.

本実施例では、特にラップ荷重を調整することが容易に
行なえることになり、しかも、ごく微かなコントロール
もできる。よって1例えば加工変質層が問題となるよう
な高品位面のラップ加工には、特に有効なラッピング治
具となる。また、ラップ荷重が小さいことは、加工能率
が低下することになるが、ラップ面板に大きな荷重がか
からないので変形せず、高精度ラップ加工できることに
なる。さらには、前述したように、歳差運動も小さくな
り、試料は高精度面に仕上がる。
In this embodiment, in particular, the lap load can be easily adjusted, and moreover, even slight control is possible. Therefore, for example, it is a particularly effective lapping jig for lapping high-quality surfaces where a damaged layer is a problem. Furthermore, a small lapping load will reduce machining efficiency, but since a large load is not applied to the lapping face plate, it will not deform and high-precision lapping can be performed. Furthermore, as mentioned above, the precession is also reduced, and the sample is finished with a highly accurate surface.

以」二に詳述した実施例1,2では、ホールダ2の歳差
運動を抑制する具体的手段として、空気軸受を用いた例
について記載したが、この空気軸受の型式は通常良く用
いられる自戒絞り型に限るものでなく、固定絞り型、多
孔質スリーブ型等でも同じ効果が期待される。
In Examples 1 and 2 described in detail below, an example was described in which an air bearing was used as a specific means for suppressing the precession of the holder 2. The same effect is expected not only with a drawing type but also with a fixed drawing type, a porous sleeve type, etc.

さらに、上記した歳差M動抑制手段は、特に空気軸受に
限るものでなく、例えば、玉軸受等を利用しても良い、
第3図はその一例のラッピング治具の略図を示す平面図
である。外輪3に玉軸受20を設けて、その中にホール
ダ2を挿入する。
Furthermore, the above-mentioned precession M movement suppressing means is not particularly limited to air bearings, and for example, ball bearings or the like may be used.
FIG. 3 is a plan view showing a schematic diagram of an example of the wrapping jig. A ball bearing 20 is provided on the outer ring 3, and the holder 2 is inserted into it.

3ケ所の玉軸受20は、ホールダ2の外径りにほとんど
すきまなく外接するような位置に取付けられている。ホ
ールダ2を挿入するとき、外輪3が少し弾性変形するの
で、意外に容易に挿入できるものである。こうしてホー
ルダ2は半径方向の変位を規制され、なおかつ上ド方向
には比較的スムーズに動くことがuJ能となる。
The three ball bearings 20 are attached to the outer circumference of the holder 2 at positions so as to circumscribe the holder 2 with almost no gaps. When inserting the holder 2, the outer ring 3 is slightly elastically deformed, making it surprisingly easy to insert the holder 2. In this way, the holder 2 is prevented from being displaced in the radial direction, and can move relatively smoothly in the upward direction.

以上に述べた方法によれば、ホールダ2は歳差運動が抑
制されて回転することになり、試料1は\非常に高精度
にラップ加工されることになる。特に、従来はヤトイを
用いなければ高精度ラップ加工がなされなかったが、本
発明のラッピング治具ではヤトイを用いる必要がない。
According to the method described above, the holder 2 rotates with precession suppressed, and the sample 1 is lapped with very high precision. In particular, in the past, high-precision lapping could not be performed without the use of a yatoi, but with the lapping jig of the present invention, there is no need to use a yatoi.

なお、上記したラップ加工は、修正軸内に第1図または
第2図に示したラッピング治具を入れて作業する方式の
みについて述べてきたが、これに限られるものでなく、
例えば第4図に示すように。
Note that while the above-mentioned lapping process has only been described in terms of a method in which the lapping jig shown in FIG. 1 or 2 is inserted into the correction shaft, the method is not limited to this.
For example, as shown in FIG.

外輪3に下部のつば部3′を小輪30を介して支える等
によっても同様のラップ加工を行なうことが可能である
。この場合は外輪3が修正軸をも兼ねることになり、ラ
ッピングマシンの全体構成としては、より簡略化される
。この時のラッピング治具の効果は、修正軸を用いた場
合と全く変らず。
A similar lapping process can also be performed by supporting the lower collar portion 3' on the outer ring 3 via the small ring 30. In this case, the outer ring 3 also serves as a correction shaft, and the overall configuration of the lapping machine is further simplified. The effect of the lapping jig at this time is no different from when using a correction axis.

同等の加工品精度を得ることができる。Equivalent precision of processed products can be obtained.

さらには、第5図に示すように、ラッピングマシン上に
支柱40を設け、この支柱40に本発明のラッピング治
具を固定し、支柱40を水平方向にスライドしてラップ
加工を行なうことも可能である。この場合には、ラップ
面盤の全面を一様に使用するので、より効率的なラップ
加工が行なわれる。
Furthermore, as shown in FIG. 5, it is also possible to provide a support 40 on the lapping machine, fix the lapping jig of the present invention to this support 40, and perform lapping by sliding the support 40 horizontally. It is. In this case, since the entire surface of the lapping plate is used uniformly, more efficient lapping can be performed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明のラッピング治具によれば、ホールダは歳差運動
なく回転するので、試料は高精度の平面にラップ加工さ
れる。すなわち、ラップ加工の条件を全く同じで比較す
ると、従来の冶具を用いた場合では、例えば20X20
+m”の試料で約1μm程度の平坦度が得られるが、本
発明のラッピング治具では約0.1μm以下に改善され
ることになり、約1桁以上の平坦度向上が図られる。
According to the lapping jig of the present invention, since the holder rotates without precession, the sample can be lapped into a highly accurate flat surface. In other words, when comparing the lapping conditions under exactly the same conditions, when using a conventional jig, for example, 20 x 20
+m'' samples can achieve a flatness of about 1 μm, but the lapping jig of the present invention improves the flatness to about 0.1 μm or less, which improves the flatness by about one order of magnitude or more.

高精度なラップ加工するには、従来ヤトイを用いること
がなされているが、本ラッピング治具を用いれば、試料
が1個であっても高精度にラップ加工されるので、ヤト
イを用いる必要がない、なお、ヤトイを併用すれば、さ
らに超高精度のラップ加工が行なわれることになる。
Conventionally, a Yatoi is used to perform high-precision lapping, but with this lapping jig, even a single sample can be lapped with high precision, so there is no need to use a Yatoi. However, if Yatoi is also used, ultra-high precision lapping will be possible.

さらに1本発明ラッピング治具は、ラップ荷重を軽減す
る機能を付加できるので、特にラップ加工が終Yに近づ
いた時この機能を作動させることにより、試料はより高
精度に仕上がることになる。
Furthermore, the lapping jig of the present invention can add a function to reduce the lapping load, so by activating this function especially when the lapping process approaches the end Y, the sample can be finished with higher precision.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のラッピング治具の一実施例を示す見取
図、第2図は本発明のラッピング治具の他の実施例を示
す見取図、第3図は本発明のラッピング治具の実施例を
示す平面図、第4図は本発明のラッピング治具を支える
方式の一例を示した部分断面図、第5図は本発明のラッ
ピング治具を支える他の方式を示した部分断面図、第6
図は従来のラッピング治具を示す見取図。 1・・・試料、2・・・ホールダ、3・・・外輪、3′
・・・つば部、4・・・給気リング、5・・・給気口、
6・・・圧縮空気。 7・・・噴出ノズル、10・・・空気溜まり、11・・
・通路、12・・・流量調整弁、20・・・玉軸受、3
0・・・小輪、40・・・支柱、a・・・給気リングと
外輪とのすきま、a′・・・給気リングと外輪とのすき
ま、b・・・外輪とホールダのすきま、b′・・・外輪
とホールダのすきま、α・・・噴出ノズルのスパン、D
・・・ホールダの外茅 2 口 第 3 図
Fig. 1 is a sketch showing one embodiment of the wrapping jig of the present invention, Fig. 2 is a sketch showing another embodiment of the wrapping jig of the present invention, and Fig. 3 is an embodiment of the wrapping jig of the present invention. 4 is a partial sectional view showing an example of a method for supporting the wrapping jig of the present invention, and FIG. 5 is a partial sectional view showing another method for supporting the wrapping jig of the present invention. 6
The figure is a sketch showing a conventional wrapping jig. 1... Sample, 2... Holder, 3... Outer ring, 3'
...Brim portion, 4...Air supply ring, 5...Air supply port,
6...Compressed air. 7...Blowout nozzle, 10...Air pocket, 11...
・Passage, 12...Flow rate adjustment valve, 20...Ball bearing, 3
0...Small ring, 40...Strut, a...Gap between the air supply ring and outer ring, a'...Gap between the air supply ring and outer ring, b...Gap between the outer ring and holder, b'...Gap between outer ring and holder, α...Span of jet nozzle, D
...Holder outer shell 2 openings 3rd figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ホールダと外輪を組合せたラッピング治具において
、該ホールダと該外輪との間のすきま分の半径方向変位
を抑制する機能を具備したことを特徴とするラッピング
治具。 2、上記抑制手段は空気軸受型であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載のラッピング治具。 3、荷重軽減機構を具備したことを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のラッピング治具。
[Scope of Claims] 1. A lapping jig comprising a holder and an outer ring, which is characterized by having a function of suppressing radial displacement of the gap between the holder and the outer ring. 2. The lapping jig according to claim 1, wherein the suppressing means is of an air bearing type. 3. The wrapping jig according to claim 1, which is equipped with a load reduction mechanism.
JP61054729A 1986-03-14 1986-03-14 Lapping jig Pending JPS62213960A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0768148A1 (en) * 1995-10-09 1997-04-16 Ebara Corporation Apparatus for and method of polishing workpiece
JP2003051472A (en) * 2001-08-08 2003-02-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Rectangular substrate
JP2007260869A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Ntn Corp Lapping apparatus

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0768148A1 (en) * 1995-10-09 1997-04-16 Ebara Corporation Apparatus for and method of polishing workpiece
US6033520A (en) * 1995-10-09 2000-03-07 Ebara Corporation Apparatus for and method of polishing workpiece
EP1170090A1 (en) * 1995-10-09 2002-01-09 Ebara Corporation Apparatus for and method of polishing workpiece
US6432258B1 (en) 1995-10-09 2002-08-13 Ebara Corporation Apparatus for and method of polishing workpiece
JP2003051472A (en) * 2001-08-08 2003-02-21 Shin Etsu Chem Co Ltd Rectangular substrate
JP4561950B2 (en) * 2001-08-08 2010-10-13 信越化学工業株式会社 Square substrate
JP2007260869A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Ntn Corp Lapping apparatus

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