JPS60166306A - 光重合開始剤 - Google Patents
光重合開始剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合開始剤に関するものであり。
Iしくは、活性光線の露光により、m元部のみが光重合
によシ硬化し、且つ晶相への密着性に優れた光重合性樹
脂組成物に使用される光重合開始剤に関する。
によシ硬化し、且つ晶相への密着性に優れた光重合性樹
脂組成物に使用される光重合開始剤に関する。
光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ。
塗料あるいはフォトレジストとして使用されているが、
これらにおける大きな問題点として蕗光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みKよってその硬化性
が著しく影響な受ける。例えは、フォトレジストやスク
リーン印刷イン中の場合、塗膜の厚みが10〜100μ
mにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシやすい。
これらにおける大きな問題点として蕗光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みKよってその硬化性
が著しく影響な受ける。例えは、フォトレジストやスク
リーン印刷イン中の場合、塗膜の厚みが10〜100μ
mにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシやすい。
又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面にタックが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面にタックが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を種々組合
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と4.47−ピス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノンとの組合せ(%公昭55−579
02.特公昭54−25943)、キサントンと4.4
′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンとの組合
せ(特開昭52−92246)などが提案されている。
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と4.47−ピス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノンとの組合せ(%公昭55−579
02.特公昭54−25943)、キサントンと4.4
′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンとの組合
せ(特開昭52−92246)などが提案されている。
しかしながら、これらの光重合開始剤は有効ではあるが
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが1
0μm以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが1
0μm以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭意検討し
た結果、チオキサントン又はその誘導体とオキシムエス
テルとの混合物を光重合開始剤として使用することによ
n、mgの硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優
れた光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明
に到達した。
た結果、チオキサントン又はその誘導体とオキシムエス
テルとの混合物を光重合開始剤として使用することによ
n、mgの硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優
れた光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明
に到達した。
すなわち、本発明は
(4)一般式
(ただしAr、、 Ar2は置換、もしくは非置換の芳
香核) で示されるチオキサントン又はその誘導体、及び (旬 一般式 (式中R1,R2は同一でも、異なっていてもよく、炭
素数1〜10のアルキル基、置換または非置換のフェニ
ル基、ナフチル基、アンスリル基、ピリジル基あるいは
キノリル基%あるいはR1とR2が結合して環を形成し
てもよく、R3は炭素数1〜5のアルキル基、あるいは
置換または非置換のアリール基である。) で示されるオキシムエステル からなる光重合開始剤又は増感剤に関するものである。
香核) で示されるチオキサントン又はその誘導体、及び (旬 一般式 (式中R1,R2は同一でも、異なっていてもよく、炭
素数1〜10のアルキル基、置換または非置換のフェニ
ル基、ナフチル基、アンスリル基、ピリジル基あるいは
キノリル基%あるいはR1とR2が結合して環を形成し
てもよく、R3は炭素数1〜5のアルキル基、あるいは
置換または非置換のアリール基である。) で示されるオキシムエステル からなる光重合開始剤又は増感剤に関するものである。
この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物、高分子
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重合性化合
物は分子内に1個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えけスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、n−および1
−プロピル(メタ)アクリレート、n−5ea−および
t−ブチル(メタ)アクリレート、テトツヒドqフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ヲクリル(メタ)アクリレート、2f)すル(メ
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、
ブトキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アク
リレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エト
キシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ボリプ四ピレングリコール
(メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレー
ト化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ン夛リコールジ(メタ)アクリレート、ジブ四ピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ボリプロビレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1.a−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ
)アクリレートなどの三官能(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの三官能
以上の(メタ)アクリレートなどが代表例として挙げら
れる。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用す
ることができ、光重合性樹脂組成物中、5〜80重量%
、好ましくは10〜50重量%の割合で使用される。
物は分子内に1個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えけスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、n−および1
−プロピル(メタ)アクリレート、n−5ea−および
t−ブチル(メタ)アクリレート、テトツヒドqフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ヲクリル(メタ)アクリレート、2f)すル(メ
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、
ブトキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アク
リレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エト
キシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ボリプ四ピレングリコール
(メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレー
ト化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ン夛リコールジ(メタ)アクリレート、ジブ四ピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ボリプロビレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1.a−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ
)アクリレートなどの三官能(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの三官能
以上の(メタ)アクリレートなどが代表例として挙げら
れる。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用す
ることができ、光重合性樹脂組成物中、5〜80重量%
、好ましくは10〜50重量%の割合で使用される。
高分子バインダーとしては、ポリスチレン、ポリメチル
メタクリレート、メチルメタアクリレート−エチルアク
リレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン
−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸−
メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニルブチラー
ル、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポ
リエステル等があり、目的に応じて選択される。
メタクリレート、メチルメタアクリレート−エチルアク
リレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン
−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸−
メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニルブチラー
ル、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポ
リエステル等があり、目的に応じて選択される。
本発明のチオキサントン又はその誘導体としては、前記
式(すの芳香核Ar□、Ar2が次の置換基の単数又は
複数で置換されたものが挙げられる。
式(すの芳香核Ar□、Ar2が次の置換基の単数又は
複数で置換されたものが挙げられる。
水素;ハ四ゲンで好ましく祉りロル又紘ブロム;さらに
例えばメチル、エチル、n−プロピル、1110−プロ
ピル、n−ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、n−
アミル、1θ0−アミル、n−ヘキシル、1,1−ジメ
チルブチル、1−エチル−2−メチルグロビル、2−エ
チルブチル、1゜5−ジメチルブチル、4−メチルペン
チル、n−ヘプチル、1−メチルヘキシル、1−エチル
−1,2−ジメチルブチル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシル、2,2.4− ) ’)メチルペンチル、n
−ノニル、1,3.5− )リメチルベキシル、n−ド
デシル、クロルメチル、2−クロルエチル、2−ヒドロ
キシエチル等のヒドロキシ若しくけクロルで置換されて
いてもよいO4〜0,2(1)アルキル基;さらにメト
キシ、エトキク、n−プロポキシ、1so−プロポキシ
、5eo−ブトキシ、n−ブトキシ、n−ペンチルオキ
シ、18゜−ペンチルオキシ、2−エチルへキシルオキ
シ。
例えばメチル、エチル、n−プロピル、1110−プロ
ピル、n−ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、n−
アミル、1θ0−アミル、n−ヘキシル、1,1−ジメ
チルブチル、1−エチル−2−メチルグロビル、2−エ
チルブチル、1゜5−ジメチルブチル、4−メチルペン
チル、n−ヘプチル、1−メチルヘキシル、1−エチル
−1,2−ジメチルブチル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシル、2,2.4− ) ’)メチルペンチル、n
−ノニル、1,3.5− )リメチルベキシル、n−ド
デシル、クロルメチル、2−クロルエチル、2−ヒドロ
キシエチル等のヒドロキシ若しくけクロルで置換されて
いてもよいO4〜0,2(1)アルキル基;さらにメト
キシ、エトキク、n−プロポキシ、1so−プロポキシ
、5eo−ブトキシ、n−ブトキシ、n−ペンチルオキ
シ、18゜−ペンチルオキシ、2−エチルへキシルオキ
シ。
アリルオキシ、2−クロルエトキシ、2−ヒドロキシプ
ロポキシ、グリシジルオキシ、2−ヒドロキシエトキシ
、メトキシエトキシ、ブトキシエトキシ、エトキシエト
キシエトキシ、ベンジルオキシ等のヒドロキシ、クロル
、C1〜04アルコキシ着しくは0.〜C4アルコキシ
0.〜04アルコキシでIItmされていてもよい0.
へC8−アルコキシ基;さらにアセチルオキシ、グロピ
オノイルオキシ、アクロイルオキシ、メタアクロイルオ
キシ、ブチロイルオキシ、インブチロイルオキシ、ノナ
ノ、イルオキシ、クロトノイルオキシ、デカノイルオキ
シ、ドデカノイルオキシ、ステアノイルオキシ、フマロ
イルオキシ、7タロイルオキシ、シンナモイルオキシ、
ベンゾイルオキシ等のC5〜’18のアシルオキシ基;
さらにメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、2−
ヒドロキシクロボ中クーカルボニル。
ロポキシ、グリシジルオキシ、2−ヒドロキシエトキシ
、メトキシエトキシ、ブトキシエトキシ、エトキシエト
キシエトキシ、ベンジルオキシ等のヒドロキシ、クロル
、C1〜04アルコキシ着しくは0.〜C4アルコキシ
0.〜04アルコキシでIItmされていてもよい0.
へC8−アルコキシ基;さらにアセチルオキシ、グロピ
オノイルオキシ、アクロイルオキシ、メタアクロイルオ
キシ、ブチロイルオキシ、インブチロイルオキシ、ノナ
ノ、イルオキシ、クロトノイルオキシ、デカノイルオキ
シ、ドデカノイルオキシ、ステアノイルオキシ、フマロ
イルオキシ、7タロイルオキシ、シンナモイルオキシ、
ベンゾイルオキシ等のC5〜’18のアシルオキシ基;
さらにメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、2−
ヒドロキシクロボ中クーカルボニル。
2−クロルエトキシカルボニル、n−ブトキシカルボニ
ル、2−エチルへキシルカルボニル。
ル、2−エチルへキシルカルボニル。
オクチルオキシカルボニル等のヒドロキシtしくはクロ
ルで置換されていてもよいG、へC6のアルコキシカル
ボニル基;さらにその他の置換基としてはシクロヘキシ
ル、フェニル、フェノキシ、ビニルオキシカルボニル、
アリルオキシカルボニル、グリシジルオキシカルボニル
又はベンジルオキシカルボニル等の基が挙げられる。
ルで置換されていてもよいG、へC6のアルコキシカル
ボニル基;さらにその他の置換基としてはシクロヘキシ
ル、フェニル、フェノキシ、ビニルオキシカルボニル、
アリルオキシカルボニル、グリシジルオキシカルボニル
又はベンジルオキシカルボニル等の基が挙げられる。
又、Ar、 Ar2が異なる置換基で置換されていても
、同一の芳香核に異なる置換基が置換されていても良い
。尚1本発明はこれらになんら限定されるものではない
。
、同一の芳香核に異なる置換基が置換されていても良い
。尚1本発明はこれらになんら限定されるものではない
。
本発明のオキシムエステルは前記一般式(川で示される
ものであシ1式(IIJtcおいて、R,、R2として
は次のυ〜わが挙げられる。ここでR1゜R2は同一で
も、異なっていてもよい。
ものであシ1式(IIJtcおいて、R,、R2として
は次のυ〜わが挙げられる。ここでR1゜R2は同一で
も、異なっていてもよい。
1)炭素数1〜10、好筐しくは1〜5の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基 2)置換又は非置換のンエニル基、ナフチル基。
は分岐状のアルキル基 2)置換又は非置換のンエニル基、ナフチル基。
アンスリル基であシ、置換基としては炭素数1へ10、
好ましくは1〜5の直鎖状あるいは分岐状のアル碑ル基
、炭素欽1〜5のアルコキシル基、ハロゲン、アミノ基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等 5)2−ピリジル基等のピリジル基、又は6−キノリル
基管のキノリル基あるいは2)と同様の置換基を有する
ピリジル基又はキノリル基4)R4とR2が結合して虚
乞形成するフルオレニル基′;す、あるいは2)と同様
の置換基ン有する該フルオレニル基等 又、R3としては次の5)〜6)が例小される。
好ましくは1〜5の直鎖状あるいは分岐状のアル碑ル基
、炭素欽1〜5のアルコキシル基、ハロゲン、アミノ基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等 5)2−ピリジル基等のピリジル基、又は6−キノリル
基管のキノリル基あるいは2)と同様の置換基を有する
ピリジル基又はキノリル基4)R4とR2が結合して虚
乞形成するフルオレニル基′;す、あるいは2)と同様
の置換基ン有する該フルオレニル基等 又、R3としては次の5)〜6)が例小される。
5)メチル基、エチル基、プロピル基、1−プロピル基
、ブチル績、t−ブチル基等の炭素鐵1〜5のアルキル
基 6)フェニル基又は置換フェニル基等の置換又は非置換
のアリール基であり、置換基は前述の2)で示した置換
基と四様である。
、ブチル績、t−ブチル基等の炭素鐵1〜5のアルキル
基 6)フェニル基又は置換フェニル基等の置換又は非置換
のアリール基であり、置換基は前述の2)で示した置換
基と四様である。
以上、述べたオキシムエステルには種々のケトン−0−
アシルオキシムがあシ、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセ゛チルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチル
オキシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキVム、ア
七トフエノンー〇−ペンソイルオキシム、アセトンエノ
ン−〇−(p−メチルベンゾイル〕オキシム、p−メチ
ルアセトフェノン−〇−(p−トリルカルボニル〕オキ
シム、2−ナノチルメチルケトン−〇−1セチルオキシ
ム、2−ナフチルフェニルケトン−o −フ四ヒルカル
ボニルオキシム、9−アンスリルメチルケトン−〇−ア
セチルオキシム、2−す7チルメチルケトンーQ −ペ
ンソイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−ア七チルオキ
シム、ベンゾフェノン−0−フェニルア七チルオキシム
、ベンゾフェノン−〇−(p−クロロベンゾイル)オキ
シム、p−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム。
アシルオキシムがあシ、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセ゛チルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチル
オキシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキVム、ア
七トフエノンー〇−ペンソイルオキシム、アセトンエノ
ン−〇−(p−メチルベンゾイル〕オキシム、p−メチ
ルアセトフェノン−〇−(p−トリルカルボニル〕オキ
シム、2−ナノチルメチルケトン−〇−1セチルオキシ
ム、2−ナフチルフェニルケトン−o −フ四ヒルカル
ボニルオキシム、9−アンスリルメチルケトン−〇−ア
セチルオキシム、2−す7チルメチルケトンーQ −ペ
ンソイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−ア七チルオキ
シム、ベンゾフェノン−0−フェニルア七チルオキシム
、ベンゾフェノン−〇−(p−クロロベンゾイル)オキ
シム、p−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム。
pop’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン−O
−アセチルオギシム% p、1”’−ビス(ジエチルア
ミノ)ベニ/シフエノン−〇−一くンゾイルオキシム、
フルオレノン−〇−(p−メチルベンジノ「ル)オキシ
ム、フルオレノンー〇−アセチルオキシム、2−ピリジ
ルメチルクトンー〇−7老アルオキ/ム、ジ(2−ピリ
ジル〕ケトンーO−アセチルオキシム、6−キツリルメ
チルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、6−イツ
リルフエニルケトンー0−アセチルオキシム等がある。
−アセチルオギシム% p、1”’−ビス(ジエチルア
ミノ)ベニ/シフエノン−〇−一くンゾイルオキシム、
フルオレノン−〇−(p−メチルベンジノ「ル)オキシ
ム、フルオレノンー〇−アセチルオキシム、2−ピリジ
ルメチルクトンー〇−7老アルオキ/ム、ジ(2−ピリ
ジル〕ケトンーO−アセチルオキシム、6−キツリルメ
チルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、6−イツ
リルフエニルケトンー0−アセチルオキシム等がある。
尚本発明は、これらになんら限定されるものではない。
これらのオキシムエステルあるいは前述のチオキサント
ン又はその誘導体は、それぞれ2種以上併用してもよい
。
ン又はその誘導体は、それぞれ2種以上併用してもよい
。
又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−2,4,
5−トリフェニルビイミfゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−2,4,
5−トリフェニルビイミfゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
本発明におけるチオキサントン又はその誘導体とオキシ
ムエステルとの使用比率は、それらのal類あるいは光
重合性化合物等の種類によp適宜選択されるが、おおよ
そ重量比でチオキサ7トン又はその誘導体/オキシムエ
ステル=1/100〜10/1の比率で使用される。
ムエステルとの使用比率は、それらのal類あるいは光
重合性化合物等の種類によp適宜選択されるが、おおよ
そ重量比でチオキサ7トン又はその誘導体/オキシムエ
ステル=1/100〜10/1の比率で使用される。
又、本発明の光1合開始剤は光重合性組成物(固形分)
中0.01〜20重量%、好ましくは1〜10虞賛%の
範囲で使用される。
中0.01〜20重量%、好ましくは1〜10虞賛%の
範囲で使用される。
本発明の光重合開始剤を含有する光虞合性樹脂組成物は
、公知の方法によ#)基材に塗布された後、活性光線ン
照射され、光重合反応が8起される。
、公知の方法によ#)基材に塗布された後、活性光線ン
照射され、光重合反応が8起される。
使用される活性光源としては、200〜300nm に
強い発光をもつ遠紫外光1111 (Hg−Xe灯、低
圧水銀灯)やエキシマ−レーザーさらに300nm 以
上の発光スペクトルを有するHf灯、キセノン灯、面圧
水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレーザー、H
θ−Noレーザー等が挙げられる。
強い発光をもつ遠紫外光1111 (Hg−Xe灯、低
圧水銀灯)やエキシマ−レーザーさらに300nm 以
上の発光スペクトルを有するHf灯、キセノン灯、面圧
水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレーザー、H
θ−Noレーザー等が挙げられる。
次に本発明を実施例によシ説明する。
実施例1
次の成分を混合して光重合組成物を得た。
トリメチロール7゛ロパントリアクリレート 592−
クロルチオキサントン 0゜01F4−メチルベンゾフ
ェノンオキシムアセテート 0.25.9メチルエチル
ケトン 5g これを試験′#(パイレックス製)に5 ml入れ次に
2 KW 超高圧水銀ランプで50閤の距離から1分間
にに光した。光を受けた部分の試験管の内壁に重合物が
成仏に伺沼していた。この重合物な取り出してアセトン
中に投じたが溶解しなかった。
クロルチオキサントン 0゜01F4−メチルベンゾフ
ェノンオキシムアセテート 0.25.9メチルエチル
ケトン 5g これを試験′#(パイレックス製)に5 ml入れ次に
2 KW 超高圧水銀ランプで50閤の距離から1分間
にに光した。光を受けた部分の試験管の内壁に重合物が
成仏に伺沼していた。この重合物な取り出してアセトン
中に投じたが溶解しなかった。
実施例2
次の成分を混合して光重合組成物乞得た。
ポリ(メタクリルばメチル) 50 gトリメチロール
7°ロパントリアクリレート 30 g2−クロルチオ
キサントン 0.0594−メチルベンゾフェノンオキ
シムアセテート t5.Pメチルエチルケトン 150
9 これを100μのポリエチレングリコールテレフタレー
トフィルム支持体上にアプリケーターを用いて均一に塗
布し、75℃で乾燥し感光層を得た。感光層の厚みは2
5μであった。次に2 KW 超高圧水銀ラングで50
0IIの距離から50秒間批刺した。ポリエチレングリ
コールテレフタレートフィルムを鋭角的に曲げると亀裂
が感光層に生じ十分に硬化していることがわかった。
7°ロパントリアクリレート 30 g2−クロルチオ
キサントン 0.0594−メチルベンゾフェノンオキ
シムアセテート t5.Pメチルエチルケトン 150
9 これを100μのポリエチレングリコールテレフタレー
トフィルム支持体上にアプリケーターを用いて均一に塗
布し、75℃で乾燥し感光層を得た。感光層の厚みは2
5μであった。次に2 KW 超高圧水銀ラングで50
0IIの距離から50秒間批刺した。ポリエチレングリ
コールテレフタレートフィルムを鋭角的に曲げると亀裂
が感光層に生じ十分に硬化していることがわかった。
実施例3
次の成分を混合して光重合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 gトリメグーロー
ルグロバントリアクリレート 1511テトラエチレン
グリコールジアクリレート 10 9ベンゾトリアゾー
ル 0.29 N−メチルジェタノールアミン o、ospビクトリア
ブルー Q、 04 g 2−クロルチオキサントy 0.1& 4−メチルベンゾフェノンオキ7ムアセテート t5
gメチルエチルケトン 120 & これを25μのポリエチレングリコールテレ7タレート
フイルム支持体上に均一に塗布し75℃で乾燥し感光性
フィルムを得た。感光層の厚みは25μであった。これ
を100℃に加熱したゴムロールによってあらかじめア
セトンで表向を洗浄した銅板上へ感光層を抗層した。欠
にスタッファーステツフタブレットヲ重ねて超高圧水銀
灯(2KW)で50閤の距離から10秒間照射した9、
これをクロロ七ンにて未痣元部を洗い出すことによって
現1象した。7段までの良好な画像が得られた。
ルグロバントリアクリレート 1511テトラエチレン
グリコールジアクリレート 10 9ベンゾトリアゾー
ル 0.29 N−メチルジェタノールアミン o、ospビクトリア
ブルー Q、 04 g 2−クロルチオキサントy 0.1& 4−メチルベンゾフェノンオキ7ムアセテート t5
gメチルエチルケトン 120 & これを25μのポリエチレングリコールテレ7タレート
フイルム支持体上に均一に塗布し75℃で乾燥し感光性
フィルムを得た。感光層の厚みは25μであった。これ
を100℃に加熱したゴムロールによってあらかじめア
セトンで表向を洗浄した銅板上へ感光層を抗層した。欠
にスタッファーステツフタブレットヲ重ねて超高圧水銀
灯(2KW)で50閤の距離から10秒間照射した9、
これをクロロ七ンにて未痣元部を洗い出すことによって
現1象した。7段までの良好な画像が得られた。
実施例4
次の成分乞混合して光重@m1成物を得た。
トリメチロールグロバントリアクリレート 30 I!
ベンゾトリアゾール α2g N−メチルジェタノールアミン 0.05,9ビクトリ
アブルー 0.04,9 2−クロルチオキサントン 0.11 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテ−) 1.5
.9メチルエチルケトン 459 ジオキサン 60 11 これを実施例6と同様にして塗工、乾燥し25μの感光
層を得た。これを同様に露光したのち1%の炭酸ナトリ
ウム水溶液(40℃)で現像すると6段までの良好な画
像が得られた。
ベンゾトリアゾール α2g N−メチルジェタノールアミン 0.05,9ビクトリ
アブルー 0.04,9 2−クロルチオキサントン 0.11 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテ−) 1.5
.9メチルエチルケトン 459 ジオキサン 60 11 これを実施例6と同様にして塗工、乾燥し25μの感光
層を得た。これを同様に露光したのち1%の炭酸ナトリ
ウム水溶液(40℃)で現像すると6段までの良好な画
像が得られた。
実施例5
次の成分ン混合して光重合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 Iトリメチロール
グロバントリアクリレート 15 gテトラエチレング
リコールジアクリレート 10 gN−メチルジェタノ
ールアミン o、osyビクトリアブルー 0.049 2−クロルチオキサント7 0.1# 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテート 159
0−)ルエンスルホンア#ト2.4.fp−)ルエンス
ルホンアミド 16 1メチルエチルケトン 120
.9 実施例3と同様にして、5段fでの良好な画像を得た。
グロバントリアクリレート 15 gテトラエチレング
リコールジアクリレート 10 gN−メチルジェタノ
ールアミン o、osyビクトリアブルー 0.049 2−クロルチオキサント7 0.1# 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテート 159
0−)ルエンスルホンア#ト2.4.fp−)ルエンス
ルホンアミド 16 1メチルエチルケトン 120
.9 実施例3と同様にして、5段fでの良好な画像を得た。
実施例6
次の成分を混合して光重合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 Iトリメチロール
プロパントリアクリレート 16 Iテトラエチレング
リコールジアクリレート 16 IN−メチルジェタノ
ールアミン 0.05j’ビクトリアブルー α049 0イコクリスタルバイオレツト α15I2−クロルチ
オキサントン 0.ll14−メチルベンゾフェノンオ
キシムアセテートts 、po−)ルエンスルホ/アミ
ド 2.4Ip−トルエンスルホンアミ)’ 5.61
1メチルエチルケトン 1209 実施例3と同様にして8段までの良好な画像を得た。
プロパントリアクリレート 16 Iテトラエチレング
リコールジアクリレート 16 IN−メチルジェタノ
ールアミン 0.05j’ビクトリアブルー α049 0イコクリスタルバイオレツト α15I2−クロルチ
オキサントン 0.ll14−メチルベンゾフェノンオ
キシムアセテートts 、po−)ルエンスルホ/アミ
ド 2.4Ip−トルエンスルホンアミ)’ 5.61
1メチルエチルケトン 1209 実施例3と同様にして8段までの良好な画像を得た。
実施例7
次の成分を混合して光重合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 Iトリメチロール
プロパントリアクリレート 16 gテトラエチレング
リコールジアクリレート 15 9N−メチルジェタノ
ールアミン 105#ビクトリアブルー 0.04.9 チオキサントン 0.5# 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテート t5
IO−トルエンスルホンアミ)’ 2.41ip−トル
エンスルホンアミド 5.6 1ベンゾトリアゾール
0.2.9 メチルエチルケトン 120 Ii 実施例3と同様にして8段までの良好な画IJI’得た
。
プロパントリアクリレート 16 gテトラエチレング
リコールジアクリレート 15 9N−メチルジェタノ
ールアミン 105#ビクトリアブルー 0.04.9 チオキサントン 0.5# 4−メチルベンゾフェノンオキシムアセテート t5
IO−トルエンスルホンアミ)’ 2.41ip−トル
エンスルホンアミド 5.6 1ベンゾトリアゾール
0.2.9 メチルエチルケトン 120 Ii 実施例3と同様にして8段までの良好な画IJI’得た
。
実施例8
次の成分を混合して光重合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 #トリメチロール
プロパントリアクリレート 1(S 、9テトラエチレ
ングリコールジアクリレート 13 9N−メチルジェ
タノールアミン o、 o 51ビクトリアブルー 0
.04J1 2.4−ジエチルチオキサントン o、5Ii4−メチ
ルミ/シフエノンオキシムアセテート 15 IO−ト
ルエンスルホ/アミド 2.49p−)ルエンスルホン
アミド 5.6IIベンゾトリアゾール 0.2 II メチルエチルケトy 120 1 実施例6と同様にして7段までの良好な画像を得た。
プロパントリアクリレート 1(S 、9テトラエチレ
ングリコールジアクリレート 13 9N−メチルジェ
タノールアミン o、 o 51ビクトリアブルー 0
.04J1 2.4−ジエチルチオキサントン o、5Ii4−メチ
ルミ/シフエノンオキシムアセテート 15 IO−ト
ルエンスルホ/アミド 2.49p−)ルエンスルホン
アミド 5.6IIベンゾトリアゾール 0.2 II メチルエチルケトy 120 1 実施例6と同様にして7段までの良好な画像を得た。
実施例9
次の成分を混合して光1合組成物を得た。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 I!トリメチロー
ルプロパントリアクリレート 16IIテトラエチレン
グリコールジアクリレート 13 114−メチルミエ
タノールアばン o、051ビクトリアブルー 0.0
4# 2.4−ジエチルチオキサントン α5I4−メチルベ
ンゾフェノンオキシムアセテート t5 .90−トル
エンスルホンアミド2.4 #p−トルエンスルホンア
ミド 56I ベンゾトリアゾール 0.2I! メチルエチルケトン 120 9 実施例5と同様にして8段までの良好な画像を得た。
ルプロパントリアクリレート 16IIテトラエチレン
グリコールジアクリレート 13 114−メチルミエ
タノールアばン o、051ビクトリアブルー 0.0
4# 2.4−ジエチルチオキサントン α5I4−メチルベ
ンゾフェノンオキシムアセテート t5 .90−トル
エンスルホンアミド2.4 #p−トルエンスルホンア
ミド 56I ベンゾトリアゾール 0.2I! メチルエチルケトン 120 9 実施例5と同様にして8段までの良好な画像を得た。
比較例1
次の成分を混合した。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 Iトリメチロール
プロパントリアクリレ−)1511テトラエチレングリ
コールジアクリレート 10 Iベンゾトリアゾール
129 N−メチルジェタノールアミン Q、 05 gビクト
リアブルー [104j’ 2−クロルチオキサントン 0.1g メチルエチルケトン 120 1 これを実施例5と同様にして塗工、乾燥、露光したが画
像は得られなかった。
プロパントリアクリレ−)1511テトラエチレングリ
コールジアクリレート 10 Iベンゾトリアゾール
129 N−メチルジェタノールアミン Q、 05 gビクト
リアブルー [104j’ 2−クロルチオキサントン 0.1g メチルエチルケトン 120 1 これを実施例5と同様にして塗工、乾燥、露光したが画
像は得られなかった。
比較例2
次の成分を混合した。
ポリ(メタクリル酸メチル) 50 1!トリメチロー
ルフロパントリアクリレ−)1511テトラエチレング
リコールジアクリレート 1o 1ベンゾトリアゾール
0.2 # N−メチルジェタノールアミン o、05Nビクトリア
ブルー Q、041 4−メチルベンゾフエノンオキシムア七チー)15.9
メチルエチルケトン 120 I これを実#1例5と同様にして塗工、乾燥、超高圧水銀
灯にて蕗光したが画像は得られなかった。
ルフロパントリアクリレ−)1511テトラエチレング
リコールジアクリレート 1o 1ベンゾトリアゾール
0.2 # N−メチルジェタノールアミン o、05Nビクトリア
ブルー Q、041 4−メチルベンゾフエノンオキシムア七チー)15.9
メチルエチルケトン 120 I これを実#1例5と同様にして塗工、乾燥、超高圧水銀
灯にて蕗光したが画像は得られなかった。
出願人代理人 古 谷 馨
手続補正書(自発)
昭和59年8月20]」
124!件の表示
特願昭59−22536号
2、発明の名称
光重合開始剤
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
(29G)ダイセル化学工業株式会社
4、代理人
東京都中央区口木橘横山町lの3
中押ビル
明細書の発明の詳細な説明の欄
8、補正の内容
(1)明細書19頁の上からlO〜11行目「2−フェ
ニル−4,Ill −ジチオール−Ay;!1す1ηア
ジン」を「2−フェニルアミノ−4,8−ジチオール−
s −+−リアジン」と訂正
ニル−4,Ill −ジチオール−Ay;!1す1ηア
ジン」を「2−フェニルアミノ−4,8−ジチオール−
s −+−リアジン」と訂正
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A) 一般式 (ただしAr、 、Ar2は置換、もしくは非置換の芳
香核) で示されるチオキサントン又はその誘導体、及び CB) 一般式 (式中R1,R2は同一でも、異なっていてもよく、炭
素数1〜10のアルキル基、置捗または非置換のフェニ
ル基、ナフチル基、アンスリル基、ピリジル基あるいは
キノリル基、あるいはR4とR2が結合して)Rを形成
してもよく、R5は炭素数1へ5のアルキル基、あるい
は置換抜たは非置換の79−ル基である。) で示されるオ中シムエステル からなる光重合開始剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2253684A JPS60166306A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2253684A JPS60166306A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光重合開始剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60166306A true JPS60166306A (ja) | 1985-08-29 |
Family
ID=12085523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2253684A Pending JPS60166306A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60166306A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233842A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシムエステルの光開始剤 |
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WO2005080337A1 (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
JP2006036750A (ja) * | 2004-02-23 | 2006-02-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
KR100814231B1 (ko) | 2005-12-01 | 2008-03-17 | 주식회사 엘지화학 | 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 투명한 감광성 조성물 |
WO2008090640A1 (ja) | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Fujifilm Corporation | オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56139564A (en) * | 1980-04-02 | 1981-10-31 | Toyobo Co Ltd | Uv-curing type resin composition for coat |
JPS5819323A (ja) * | 1981-07-09 | 1983-02-04 | チバ−ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト | 光重合性樹脂およびその製造法 |
-
1984
- 1984-02-09 JP JP2253684A patent/JPS60166306A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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EP1568723A4 (en) * | 2002-11-28 | 2008-05-21 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | PHOTOCURABLE AND THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND PRINTED CIRCUIT BOARDS MADE BY MEANS OF SUCH A COMPOSITION |
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