JPS60163892A - 光学活性な重水素化糖の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は生化学研究用試薬として用いられる重水素でラ
ベルした糖化合物およびその製造方法に関する。

さらに詳しぐは、本発明は核酸（Ｒ，ＮＡ）の成分糖と
して重要なリボース、生体成分構成糖として最も重要な
ガラクトースのそれぞれ５位および６位のヒドロキシメ
チル基の水素の一方のみを立体選択的に重水素（用、捷
たは用）で置換］〜だ重水素化粧を光ハロゲン化反応を
用いて高収率、安価に合成する方法を内容とするもので
あり、工業的価値が極めて高い。

重水素化ラベル化合物は現在試薬として主要な位置を占
める糖、アミノ酸をはじめ６００種のものがＭｅｒｃｋ
＋　Ｓｈ；Ｉｒｐ　＆　Ｄｏｈｍｅ　０ａｎａｃｌａ　
ＯＩｌ、、から輸入されているがいずれも高価で１グラ
ノ、数万円の値段である。特に重水素化粧は生体内での
糖化合物の代謝や立体化学研究において質量分析法や核
磁気共鳴吸収法などの分析法を用いる場合に有用である
。

現在試薬として販売されているリボースおよびガラクト
ースの重水素化物はヒドロキシメチル基が２つとも重水
素化されているものであって、本発明で合成される５位
または６位に不整炭素をもち立体配置の明らかな化合物
は分析試薬として極めて有用であるにもかかわらすＤ　
−ＩＪボースについて光学純度が３０％ｅｅの化合物が
報告されているのみで、高純度の重水素化リボースおよ
びガラクトースの効率の良い合成法の確立が要望された
。

このような背景のもと、本発明者らは研究の結果、１．
５−アンヒドロ−リボースおよび１．６−アンヒドロ−
ガラクトースの５位および６位の光ハロゲン化が立体選
択的に生起するという重要な事実を認め、さらにこの中
間化合物を用いて種々の有用化合物に誘導できることを
見出した。

すなわち、本発明においてはこの中間化合物を用い、こ
れに重水素化トリーｎ−ブチル錫による還元的重水素置
換法をほどこしく５Ｒ）−および（５Ｓ”１−（５−用
）−Ｔ’）−リボースならびに（６１１，）−および（
６Ｓ）−（（’＋−■’）−ｒ）−ガラクトースを工業
的に製造する方法を確立した。

本発明での合成工程を示すと次の通りである。

−１４− この合成工程の概略は次の通りである；（５Ｓ）−（５
−用）−〇−リボースの場合は、１）−リボースの２．
３位の水酸基を保護した後１．５−アンヒドロ化を行な
い化合物Ｉに導き、光ハロゲン化反応によってエキソ型
の水素のみを立体選択的にハロゲン化した化合物■を得
る。これを重水素化トＩＪ　−ｎ−ブチル錫を用いて重
水素化した化合物■を得、ついでトリフロロ酢酸を用い
て１．５−アンヒドロ環の開裂と同時に２．３位の保護
基をはずしく５８）−（５−用１−１）−リボース（化
合物■）を得る。

（ｓｎ、）−（５−用）−１）−リボースの場合は、前
記の化合物■の１．５−アンヒドロ環を開裂した化合物
■を得て、この化合物の５位の水酸基をスルホン酸エス
テルにした化合物■に導く。これを脂肪酸アルカリまた
は芳香族カルボン酸アルカリで処理しワルデン反転を起
こさせ５位の立体配置が反転した化合物■を得た後、ア
ルカリにより５位の保護基を、ついで酸分解により１．
２．３位の保護基を脱離して（５ＴＬ）−（５−’ＴＩ
）−Ｄ−リボース（化合物■）を得る。

（６Ｓ）＝（６−”１Ｔ）−Ｄ−ガラクトースの製造に
際しては、１）−ガラクトースの２．３．４位を保護し
た１、６−アンヒドロ体（化合物Ｘ）を光・・ロゲン反
応により６位のエキソ型水素のみを立体選択的にハロゲ
ン化した化合物Ｘを得る。これを重水素化）　ＩＪ　−
ｎ−ブチル錫を用でて重水素化した化合物■に導き、１
．６アンヒドロ環の開裂、２．３．４位の脱保護を行な
って（６８）−（６−用）−１）−ガラクトース（化合
物Ｘ■）を得る。

（６Ｒ，Ｃ−（６−用）−１′）−ガラクトースの場合
は前記で得た（６８）−（６−事）−１）−ガラクト−
ス（ＸＶ）を１．２：３．４−ジー０−インプロピリデ
ン体（化合物Ｗ）に導き、６位の水酸基をスルホン酸エ
ステルにした化合物ＸＶＩＩＫ導く。これを脂肪酸アル
カＩＪ　ｔだは芳香族カルボン酸アルカリで処理しワル
デン反転を起こさせ６位の立体配置が反転した化合物■
を得た後、６位の保護基の脱離、ついでジイソプロピリ
デン基の脱離を行ない（６Ｒ１）−（６−用）−Ｄ−ガ
ラクトース（化合物Ｘｘ）を得る。

Ｌ−リボース、Ｌ−ガラクトースの場合も前記と同様に
処理し、対応する（５Ｓ）−（５−′１１）−Ｌ−リボ
ース、（５ｎ、）−（５−”ＩＴ）　−Ｌ−リボース、
（’６Ｓ）−−（６−■）−Ｌ−ガラクト−ス、（６Ｒ
，）−（６−用）−【、−ガラクトースを得る。

１’Ｑｉ前記の光ハロゲン化反応に用いるハロゲン化剤
と１７ては、例えば塩素、臭素、Ｎ−ノ・ロゲンノコハ
ク酸イミド、塩基のハイドロトリハライド類例えばピリ
ジニウムノ１イドロトリノ・ライド、ピリジンハイドロ
）・リハライド、テトラアルキルアミン類の過ハロゲン
化物例えばフェニルトリメチルアンモニウムパーツ・ラ
イド等が挙げられる。寸だ、臭素化は光を照射するか寸
た１はラジカル反応開始剤例えばアゾビスイソブチロニ
トリルを添加ｌ〜で有機溶媒中で行なう。ここで使用す
る溶媒と１７ではノ・ロゲン化炭化水素類例えば四塩化
炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、エーテル類例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン等を挙げることがで
きる。また、重水素化トリーｎ−ブチル錫を用いる還元
反応の際には、ラジカル反［ｒ、開始剤と１７でアゾビ
スイソブチロニトリルを加えることがＴ１しく、ここで
使用される溶媒と１７ては芳香族炭化水素、エーテル類
が挙げられる。ツル１フ反転に用いるスルホニル基と１
７で１はアルキルスルホニル基例工ばメタンスルホニル
基、およびアリルスルホニル基例ｔばｐ−ｒルエンスル
ホニル基、ペンシルスルホニル基などが挙げることがで
きる。また脂肪酸および芳香族カルボン酸アルカリドし
ては酢酸すトリウムや安息香酸すトリウムなどを挙げる
ことができる。

本発明を実施するに当って原料とＩ〜で用いた１、５−
アンヒドロ−Ｄ−リボフラノース誘導体および１．６−
アンヒドロ−Ｄ−ガラクトース誘導体の製造法は参考例
で説明する。

以下、本発明を実施例と参考例によって説明する。

実施例　１ （５Ｓ）−５−ブロモ−１，５−アンヒドロ−２，３−
０−イノプロピリデン−β−Ｄ−リボンラノース（ＩＩ
）の製造２００　ｍｌ　容のナスフラスコに１．５−ア
ンヒドロ２．３−０−インプロピリデン−β−Ｄ−リボ
フラノース（Ｉ）１．５　ｇ、　Ｃｆ１Ｌ　１００　ｍ
ｌ　、　Ｎ−プ０−Ｅサクシミド２．５８４ｇ（２モル
当量）を入れた。還流冷却器を取り付はナスフラスコの
下から３００Ｗの電球を用いて加熱還流させた。なお光
を逃さないようにアルミホイルでまわりを包んだ。２時
間後反応が終了したことを薄層クロマトグラフィーで確
認してから濾過し、１０係のチオ硫酸ナトリウム、飽和
炭酸水素すＩ・リウム水溶液、水で洗滌し、四塩化炭素
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過の後減圧
濃縮して得られたシラツブをケイ酸カラムにかけヘキサ
ン：エーテル（３：１）の溶媒で精製した。目的のフラ
クション金集め減圧濃縮をして（ＩＴ）の白色結晶０．
６４９ｇ（収率４４．５係）を得た。

融　点　１３７℃ 〔α）：　１５２°　（（’！　＝　０．１　Ｃｌ１ｃ
ｕｔ）元素分析値（罰ＣＲ山＋０＋ｒｌｒとして計算値
０３８．２７、ＩＴ、１４２、Ｉｌｒ　３１．８２実測
値０３８．１５、ＩＴ　４．４７、Ｂｒ　３２．４３実
施例２ （５Ｓ）−（５−２１１）−１，５−アンヒドロ−２，
３−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−リボフラノース（
ｌＩ）の製造５００ｍ／容の３つロフラスコに窒素ガス
導入器、還流冷却器を取り付けた装置をっくり、（ｎ）
　１．４９２ｇ　（５，９ｘ　１　〇−”モル）とアゾ
ビスイソブチルニトリ＃　０．００８　ｇを蒸溜べ／セ
フ２００ｍ１に溶か１７だ。

この溶液にＩ・ジ−ｎ−ブチル錫ジューテライト（重水
素（用）化トリｎ−ブチル錫）２．２３８ｇ（１，３モ
ル当量）を徐々に加え攪拌しながら還流させた。２時間
後反応が完全に終了したこと全薄層クロマトグラフィー
で確認後、空冷してから反応液を濃縮しケイ酸カラム（
３０ｇ）にかけ（ヘキサン：酢酸エチル（５：１）で溶
出）で精製し、（ｆｆｌ）の白色結晶０．８３０ｇ（収
率８０７係）を得た。

融　点　６１°Ｃ 〔α〕；！−６２°（Ｃ＝０．７８メタノール）元素分
析値（チ）　Ｏ，Ｉｌ、Ｉ　”１１０．として割勢値：
　０５５．ｌＩ８、Ｉ−Ｔ　７５７実測値：　（３５５
，３２、ｌ−Ｔ　７．６４実施例３ （５８）−（５−ｓ＋ｎ　−Ｄ−リボース（Ｍの製造（
ＩＩＩ）３４６ｍｇを９０　％　ｌ−リフｏｏ酢酸２ｍ
ｌに溶解し室温で３時間攪拌した。溶媒を留去してシラ
ツブを得、これをケイ酸（５ｇ）のカラムクロマトニカ
ケクロロホルム：メタノール（４：１）で展開しくＭを
０．１８６ｇ（収率７５％）得た。

融　点　９５°Ｃ Ｃα］：ｒ　−２３，７°（０＝　１．０、Ｈ！　０）
−’）１　一 実施例４ メチル　（５Ｓ）−（５〜２１■）２．３−Ｏ−イング
ロピリデ／−β−Ｄ−リボフラノジッド（Ｖ）の製造（
ＩＴＩ）　０．２６０　ｇを無水メタノール２５ｍ１．
２．２−ジフトキンプロパフ２５ｍ１中で酸触媒として
ｐ　−トルエンスルホニルクロライドＬ６０ｇを加え室
温中で４８時間攪拌した。反応終了を薄層クロマトグラ
フィーで確認後節Ａロ炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
１〜減圧濃縮（４０℃、１ｏ　ｍｍＴＩｇ）した。得ら
れたシラツブをケイ酸カラム（２０ｇ）にかけ（ベンゼ
ン：エーテル（１：］）で溶出）で精製Ｉ〜（■の淡黄
色のシラツブ０．２４０ｇ（収率７８２チ）を得た。

〔α〕賀　−８２２°（Ｏ＝１．０．０ＴＴＯＱ、）実
施例　５ メチル　（５Ｓ）−（５−用）−２，３−０−イソプロ
ピリデン−５−０−（ｐ−１ルエンスルホニル）−β−
Ｄ−リボフラノシド（■の製造 蒸溜ピリジン５　ｍｌに（Ｖ）　０．２４．０　ｇとｐ
−トルエンスルホニルクロライドＯ，９２９ｇ　（１，
５モル当量）を加え室温中で一昼夜攪拌１−１薄層クロ
マトグラフィーで反応が完了した事を確認後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホ／ｌ／ム（１
，０＋ｎ！ｘ３　）で抽出し、水洗（５０ｍｌ）した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ減圧濃縮の後得られ
たシラツブをメタノールで結晶化させ、（■の白色結晶
ｏ３２ｏｇ（収率７６．２係）を得た。

融　点　８４°Ｃ 〔α）”＋：　３４．８°（０＝］（ｌ　エタノール）
−２２−′ 実施例６ メチル（５Ｒ，）−（５−用）−２，３−０−（７プロ
ヒＩＪ　ｆン−５−（１−（ベンゾイル）−β−Ｄ−リ
ボフラッジノド■の製造 Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌＫ（ＶＤｏ３ｏ
Ｏｇと安息香酸ソーダ０２４２ｇ（２モル当’Ｆｆｊｉ
　）　ｋ加え１４０’ｃで２時間加熱還流させた。空冷
の後、水３０　ｍｌで稀釈しエーテル（５０ｍｌｘ２）
で抽出し飽和炭酸水素すｌ−ＩＪウム水溶液、水で洗い
、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行ってシ
ラツブを得た。このシラツブをケイ酸（］Ｏｇ）、ベン
ゼン：エーテル（１２＋１　）のカラムクロマトグラフ
ィーにかけて精製し、■のシラツブｏ２５ｏｇ（収率９
６５％）を得た。

〔α月ｒ　−５２，０８（０＝１．２．０１１０１！Ｉ
　）元素分析値：　Ｏ，、＋１．、用Ｏ，とじて計算値
　（３６２，１２，１１６，８４実測値　０６２．２５
、ＬＩ　６．８７実施例７ メチル　（５Ｒ，）−（５−用）−２，３−０−インプ
ロピリデン−β−Ｄ−リボフラッジノド■）の製造Ｃｖ
ＩＤ０．１５５　ｇおよび２０ｍｇの金属ナトリウムヲ
５ｍｌのメタノールで処理して製造したナトリウムメト
キサイドをＨ□　ｍｌのメタノールに溶解し室温で１時
間攪拌した。溶媒を減圧下で留去しシラツブを得、ケイ
酸（５ｇ）のカラムクロマトグラフィーにかけヘキサン
：酢酸エチル（２：］　）で展開し溶媒を留去し、シラ
ツブ状の（■）を０．０９４ｇ（収率９２係）得た。

〔αバー８２５°（０＝１．０、ＣＨＯｎ、）実施例８ （５Ｒ，）−（５−用）−Ｄ−リボース叡）の製造（■
）４０（１ｍｇを５０％酢酸Ｂ　□　ｍｌに溶解し、４
０分加熱還流した。反応液を減圧下に濃縮し残留シラソ
プヲ潟エタノール８０ｍ１に溶解し減圧下に濃縮し、メ
チル（５Ｒ，’）−（５−”）−１）−β−Ｄ−リボフ
ラノンド３７０ｍｇを得た。このうち３３５１１１ｇを
水５　ｍｌに溶解しダウエックス５０　Ｗ　（ＩＩ＋型
、１ｇ、ダウケミカル社製）を加え室温で５時間攪拌し
た。樹脂を濾別後、減圧下で溶媒を留去しくＤｏ　２２
５　ｍｇ（収率８４係）を得た。

融　点　９５°Ｃ 〔α、］’５　−２３．５°（０＝１．０、＋１，０　
）実施例９ （６Ｓ）−６−プロモー１，６−アンヒドロ−２，３，
４−トリー〇−ベンゾイルーβ−Ｄ−ガラクトピラノー
ス（ロ）の製造 １．６−アンヒドロ−２，３，４−トリーＯ−ベンゾイ
ルーβ−Ｄ−ガラクトピラノース５ｇ、ブロム２５ｇを
四塩化炭素３００ｍ１に溶かし、３００Ｗの電球」−２
時間還流する。空冷後、反応液ケチオ硫酸ナトリウム液
、重曹水、水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を減圧下留去（〜黄色のシラツブを得た。エーテ
ル、石油エーテル、の混合液に溶かし、冷却しく至）の
結晶５ｇ（収率８６０％）を得た。

融　点：１１９〜１２２℃ 〔α）”＋：　４９．９°（Ｃ二０．８　クロロホルム
）実施例　１０ （６８）−（６−用）１．６−アンヒドロ−２，３，４
−トリー〇−べ／シイルーβ−Ｄ−ガラクトピラノース
（ＸＩＤの製造（Ｘ［１３ｇ、トリーｎ−ブチル錫ジュ
ーテライド（重水素（用）什トリーｎ−ブチル錫）３．
６ｇ、アゾビスイソブチルニトリル３０ｍｇをトルエン
２００ｍ１に溶かし、１時間還流した。空冷後、トルエ
ンを減圧下留去し、残りのシラツブをケイ酸カラムクロ
マトグラフィー（ベンゼン：酢酸エチル（２０：１）で
溶出）で精製しシラツブ状のα■）２５ｇを得た。

〔６片　＋８７°（Ｃ＝Ｏ，Ｓ　クロロホルム）実施例
　１１ （６Ｓｌ−（６−用）−１，６−アンヒドロ−β−Ｄ−
ガラクトピラノースα■）の製造 （ＸＩＤ　２　ｇ、ナトリウムメトキ’／　）”　（Ｉ
Ｎ、　２０ｍ１）全メタノールに溶かし３時間還流する
。空冷後反応液をアンバーライトＩＲ，−１２０（Ｉ（
＋型）で中和し、メタノールを減圧下留去した。残りを
１００ｍ１の水ニ溶かし、ベンゼン（２０ｍｌｘ３）で
抽出し、水層を活性炭３００１Ｔ１ｇで処理した。水を
減圧下で留去し粗結晶を得た。熱水より再結しくＸｆｆ
１）の結晶６００　ｍｇ　（収率８８係）を得た。

融点２２３〜２２４°Ｃ Ｃα）Ｆ　２３°（０＝０．２、水） 実施例１２ （６８）−（６−用）−１，２，３，４，６−ペンタ−
０−アセチル−α−Ｄ−ガラクトピラノース（ＸＩＶ）
の製造（Ｘ［［１）５００ｍｇを濃硫酸０．２５ｍ１、
酢酸１５ｍ１ノ混液に溶かし３時間水冷下撹拌する。反
応液を酢酸ナトリウム３ｇ’に含む氷冷水５０　ｍｌに
あけ、クロロホルム（２０ｍｌｘ３）で抽出した。クロ
ロホルム液を飽和食塩水、重曹水、水で洗滌し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し粗結晶を得
た。エタノールより再結しくＸＩＶ）の結晶１ｇ（収率
８５係）を得た。

融　点　９５°Ｃ 〔α’］ｆｆＸ＋１０７°（Ｃ−１、クロロホルム）実
施例　１３ （６８）　−（６”Ｈ）　−Ｄ−ガラクトース（Ｘｖ）
ノ製造（ＸＩＶ）　８００　ｍｇ　ｋナトリウムメトキ
シド１０■を含むメタノール２０　ｍｌ　Ｋ溶かし室温
で２時間攪拌する。反応液をアンバーライ）　ＩＲ−１
２０（Ｈ獅で中和後メタノールを減圧下留去した。残っ
たシラツブをエタノールで結晶させて（ＸＶ）の結晶３
００ｍｇ（収率８０係）を得た。

融点１６５℃ 〔α〕フｒ　＋７８°（０＝０．５、水）実施例１４ （６８）　（６−’Ｔ−Ｎ　−１、２：　３，４−ジー
Ｏ−インプロピリデン−α−Ｄ−ガラクトピラノースα
■の製造（ＸＶ）　２５０　ｒｎｇを塩化並塩３００ｆ
ｆ１ｇ、濃硫酸０．０２　ｍｌを含むアセトン１０ｍ１
を加え、室温にて４時間攪拌する。反応液に炭酸す）　
ＩＪウム５００ｍｇを含む水５　ｍｌを加え、さらに攪
拌した。沈でん物を濾別し、濾液を減圧上濃縮した。残
渣をエーテル（１０ｍ！ｘ３）で抽出し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。エーテルを減圧下留去しシラツブ
状の（周）２９６ｍｇ（収率８２％）を得た。

（αパ　−５３°ｌ＝０．２、クロロホルム）実施例１
５ （６８）−（６−用）−１，２：３．４−ジー０−イソ
プロピリチン−６−０−ｐ−トルエンスルホニル−α−
Ｄ−ガラクトピラノース（ＸＶＩＩ）の製造 （ＸＶＩ）　２００ｍｇ、　ｐ　−１／ｌ、工７ス／ｌ
、ホニルクａ　ライド５００ＩＴ１ｇをピリジン５０　
ｍｌに溶かし室温で一夜攪拌後氷水にあける。クロロホ
ルム（２０ｍ／ｘ３）で抽出しクロロホルム液を稀塩酸
、水、飽和型　□曹水、水の順で洗い無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧上溶媒を留去して粗結晶を得た。

エーテル、石油エーテル混合液より再結しくＸＶＩＩ）
の結晶２８０　ｍｇ　（収率８８チ）を得た。

融点８８〜８９℃ 〔α）Ｔ　ｆｉ２°（０＝０．５、クロロホルム）実施
例１６ （６Ｒ）−（６−”Ｈ）−１，２：　３．４−ジーＯ−
インプロピリデン−６−〇−ベンゾイル−α−Ｄ−ガラ
クトピラノースヤ）の製造 （ＸＶＩり　２５０　ｍｇ、安息香酸ナトリウム２７０
ｍｇｅジメチルホルムアミド３０ｒｎ１．中で６時間還
流する。空冷後氷水５０ｍ１中にあけ、クロロホルム（
２０Ｔｎｌｘ３）で抽出。クロロホルム層を水洗後無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去後得られるシラ
ツブをケイ酸カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル（８：　１　）で溶出）で精製しシラツブ
状の（ＸＶＩ）　２７０　ｆｆ１ｇ　（収率９４％）を
得た。

〔α〕−フー６１．２°（０＝０．６、クロロホルム）
実施例　１７ （ｆ３Ｒ）−（６−用）−１，２：　３．４−ジー０−
インプロピリデン−α−Ｄ−ガラクトピラノース（薫）
の製造（ＸＶＩＩ）　１５０　ｍｇ、ナトリウムメトキ
シド１０ｍｇをメタノール２０ｍ１に溶かし３０分還流
した。反応液を減圧上濃縮し、残留シラツブをケイ酸カ
ラ！、クロマトグラフィー（石油エーテル：エーテル（
２：１）で溶出）で精製しシラツブ状の（ＸＩＸ）９４
ｒｎｇ（収率８８係）を得た。

（α］ニー５３°（０＝０．４．０Ｈ（Ｎ！ｓ　）実施
例　１８ （６Ｒ）−（６−用）−Ｔ）−ガラクトース（ＸＸ）の
製造（ＸＤｏ　８０　ｒｎｇを５０係酢酸２０　ｍｌに
とかし３０分還流した。反応液を減圧上濃縮し、残留シ
ラツブを熱エタノールに溶かし減圧上濃縮した。残留シ
ラツブを温エタノール５　ｍｌに溶がし冷却しくＸＸ）
５１１Ｔ１ｇ（収率９２％）を得た。

融点１６３℃ 〔６片＋８０゜ 参考例　１ １．５−アンヒドロ−２，３−０−イソプロピリデン−
Ｄ−リボフラノース（■）の製造 攪拌冷却下、アセト７９００ｍ／に酸触媒としてノｐ　
−トルエンスルホン酸１８ｇ　トＴ）　−＋）ホース５
０ｇを加えて反応させた。

薄層クロマトグラフィーで２．１−０−イソプロピリチ
ン−１）−リボフラノースに反応が進んだのを確認の稜
、還流装置を利はベンゼン１．５１を加えて共沸させア
ンヒドロ化させた。アセトンと水を除去したベンゼン層
を飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液で中和し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させ減圧濃縮した。得られる黄色
のシラツブ（１，５−アンヒドロ−２，３−０−イノプ
ロピリデン−β−Ｄ−リボフラノースの他に１’、　５
　：　１　、５’−ジアンヒドロ体が含捷れている）を
蒸留装置にて昇華分別した。１，５−アンヒドロ−２，
３−０−イソプロピリチン−β−Ｄ−リボフラノース（
１）は９０〜１００’Ｃ１５ｍｍで昇華し白色結晶とし
て得られた。ヘキサンより再結すると（１）の結晶２１
．３ｇ　（収率３７１３％）を得た。

融点６１℃ 〔α］”＋’：　６２°（Ｃ＝０７８、メタノール）元
素分析値（絢　Ｃ，ｌ　＋、□０．として計算値　（’
！５８．８１、ＴＩ７．０２実測値　Ｃ５５，９７、ｌ
Ｔ７．ｌｆｉ参考例　２ ペンタクロロフェニル−２，３，４，６−チトラーａ、
−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシゾドの製造アセ
ト７１５０ｍ１中、２．３．４．６−チトラー０−７−
１＝チル−α−Ｄ−カラクトピラノノルブロマイト１３
３　ｇとナトリウムペンタクロロフェノキシド；３１ｇ
を２時間還流］７た。

冷却後不溶物を濾別し、濾液や減圧下濃縮する。残渣を
クロロホルム２００　ｍｌに溶がＩ〜水洗後無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。クロロホルムを留去し粗結晶１
８８ｇを得た。エタノールより再結した。

融点１５０〜１５２℃ 〔α〕２２　−１３．８°（Ｃ＝０．６、クロロホルム
）参考例　３ １．６−アンヒドロ−２，３，４−１−リーＯ−ベンゾ
イルーβ−Ｄ−ガラクトピラノース（Ｘ）の製造ペンタ
クロロフェニル−２，３，４，６−テト５−０−アセチ
ル−β−Ｄ−ガラクトピラノジッド１２ｇとに、ＯＴ（
３０ｇを水３００　ｍｌに懸濁し１時間還流させた。

空冷後３Ｎ−硫酸を加えてｐＨ４にすると沈でんが生ず
る。沈でん全濾別し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をエ
タノール（３０ｍｌｘ４）で抽出しエタノール液を減圧
下濃縮した。残留シラツブを熱エタノール２０ｍ１に溶
かし、冷却すると粗結晶が得られる。エタノールより再
結して２．５ｇ（収率７５係）の結晶〔融点２２３°〜
２２４℃、〔α片−２３°（０＝０．５、水）〕を得た
。

この結晶２．’Ｏｇをピリジン１５０　ｍｌに溶かし、
さらにベンゾイルクロライド１０ｇを加えて室温下−夜
攪拌する。

水１００　ｍｌを加え２時間攪拌後クロロホルム（５０
ｍｌｘ３）で抽出した。クロロホルム液を稀塩酸、水、
重曹水で洗ってから芒硝で乾燥した。クロロホルムを減
圧下留去Ｌ　Ｘのシラツブ５．’５ｇ（収率９４係）を
得た。

シラツブをさらにケイ酸カラノ、クロマトグラフィー（
ローへキザン：酢酸エチル（４：］）にて溶出）で精製
した。

〔α］？Ｆ　＋８６．７°ｌ−０，８、クロロホルム）
手続補正書 昭和１５９年５月７３日 特許庁長官　若杉　和夫　殿 １　事件の表示　昭和５９年特許願第１６９７１号２　
発明の名称　光学活性な重水票化糖およびその製造法３
　補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　〒１０４　東京都中央区京橋２丁目４番１６号
４代理人 ５　補正命令の日付　昭和５９年４月４日（発送日昭和
５９年４月２４日）６　補正により増加する発明の数　
な　し９　添付書類の目録 別　紙 補　正　の　内　容 １、補正稜の特許請求の範囲の全文を別紙に添付します
。

２、　明細書１３．１４ページで構造式の一部がボール
ペンで書かれているところを黒色により鮮明に記載した
外は同じの明細書１３．１４ページを別紙に添付します
。

別　紙 明　細　書 １、発明の名称 光学活性な重水素化糖およびその製造法２、特許請求の
範囲 （１）次の式； （式中Ｒは ０−Ｃ−Ｈ ■ ＨＯ−Ｃ−Ｈ ｆ 々重水素化糖およびそれらの調像異性体、（２＋　（５
８）−（５−”Ｉ（）−Ｄ−リボースである特許請求の
範囲第１項記載の光学活性な重水素化糖、（３）　（５
Ｒ）−（５−”Ｈ）−’Ｉ）−リボースである特許請求
の範囲第１項記載の光学活性な重水素化糖、（４）　（
６８）−（６〜″Ｈ）−’Ｄ−カラクトースである特許
請求の範囲第１項記載の光学活性な重水素化糖、（５）
　（６Ｒ）−（６−”Ｈ）−１’）−カラクトースであ
る特許請求の範囲第１項記載の光学活性な重水素化糖、
（６）一般式；　。

う 〔式中Ｒ１は水素、または水酸基の保膿基（アシル基、
アルキル基）を示すがＲ１１同志が一緒になってアルキ
リデン基例えばインプロピリデンを構成してもよい〕で
表わされるＲ５−アンヒトローβ−Ｄ−リボフラノース
誘導体に立体選択的な光ハロゲン化反応を行ない、一般
式；　Ｘ μう （式中■１は前記と同じ、Ｘは塩素または臭素を示す）
で表わされる（５８）−１５−アンヒドロ−５−ハロゲ
ン−β−Ｄ−ＩＪ　ホ７　ラ／　−ス誘導体とし、これ
に重水素（Ｈ）化トリーｎ−ブチル錫を作用させて還元
脱ハロゲン化して一般式；２Ｈ ！ （式中１１．１は前記と同じ）で表わされる（５Ｓ）−
（５−’Ｈ）−１，５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボフラ
ノース訪導体に導き、これを開環、脱保護することを特
徴とする（５８）−（５−Ｈ）−Ｄ−リボースの製造方
法、 （７）一般式； 〔式中Ｒ＋は水素、または水酸基の保護基（アシル基、
アルキル基）を示すが、Ｒ＋同志が一緒になってアルキ
リデン基例えばイソプロピリデンを構成して本よい〕で
表わされる１゜５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボフラノー
ス誘導体に立体選択的な光ハロゲン化反応を行ない、 一般式；　王 ＝ （式中Ｒ１は前記と同じ、Ｘは塩素または臭素を示す）
で表わされる（５８）−１，５−アンヒドロ−５−ハロ
ゲン−β−Ｄ−リボフラノース誘導体とし、これに重水
素（”ＩＩ）化）ＩＪｎ−ブチル錫を作用させて還元脱
ハロゲン化して、一般式；　侑 （式中Ｒ１は前記と同じ）で表わされる（５Ｓ）−（５
−”Ｈ）−１，５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボンラノー
ス誘導体を酸加水分解して開環した後スルホニル化して
、 （式中Ｒ１は前記と同じ、山はアルキル、アリール、ア
リルまたはアシル基等の水酸基の保障基を、Ｒ１はメタ
ンスルホニル基またはｐ−）ルエンスルホニル基、ベン
ジルスルホニル基を示す）で表わされる（５８）−（５
−”Ｈ）−５−０−スルホニル−β−Ｄ−リボフラノシ
ド誘導体とし、これに脂肪酸アルカリまたは芳香族脂肪
ｒｌｋアルカリを反応させてワルデン反転ヲ起こさせて
５位の立体配置を反転させた後、脱保護基することを特
徴とする（５　Ｒ）　−（５−”Ｈ）　−Ｄ−リボース
の製造方法、 （８）　一般式； 〔式中Ｒ１は水素、または水酸基の保瞳基（アシル基、
アルキル基）を示すが山同志が一緒になってアルキリデ
ン基、例えばインプロピリデンを構成してもよい］で表
わされる１、６−アンヒドロ−β−〇−ガラクトピラノ
ース誘導体を立体選択的に光ハロゲン（１７して、−１
５′　色 υ町 （式中Ｒ１は前記と同じ、Ｘは塩素または臭素を示す）
で表わされる（６８）−１，６−アンヒドロ−６−バロ
ゲンーβ−Ｄ−ガラクトピラノース誘導体とし、これを
重水素（’ＩＴ）化）　ＩＪ　−ｎ−ブチル錫で処理し
て還元脱臭素化し、一般式；　。

υ− （式中Ｒｔは前記と同じ）で表わされる（６８）−（６
−”Ｉ（）−１，６−アンヒドロ−β−Ｄ−ガラクトピ
ラノース誘導体を導き、とれを脱保護基してから濃硫酸
と酢酸を作用させて１．２．３．４゜６−ペンタ−Ｏ−
アセチル体として開環し、次いで脱アシルすることを特
徴とする（６８）−（６−”１１’）　−Ｄ−ガラクト
ースの製造方法（９）一般式；　□ υｎ１ 〔式中Ｒ＋は水素、または水酸基の保護基（アシル基、
アルキル基）を示す〕で表わされる１、６−アンヒドロ
−β−０−ガラクトピラノース誘導体を立体選択的に光
ノ・ロゲン化して、一般式； （式中Ｒ１は前記と同じ、Ｘは塩素または臭素を示す）
で表わされる（６８）−１，６−アンヒドロ−６−ハロ
ゲン−β−０−ガラクトピラノース誘導体とし、これを
重水素（’Ｈ）化）ＩＪ　−１１−ブチル錫で処理して
還元脱臭素化し、 一般式；ｌＨ （式中Ｒ３は前記と同じ）で表わされる（６８）−（６
−”Ｈ）−１，６−アンヒドロ−β−ガラクトピラノー
ス誘導体を導き、これを脱保霞基してから、濃硫酸と酢
酸を作用させて１．２．３．４．６−ペンタ−０−アセ
チル体として開環し１次いで脱アシル化して、（６８）
−（６−ｌＨ）　−Ｄ−ガラクトースを得、この化合物
の１．２．３．４位の水酸基を塩化亜鉛と濃硫酸をアセ
トン中で作用させて保護した後スルホニル化して、 （式中ＩＬＩは前記と同じ意味を示し、Ｒ□はメタンス
ルホニル基、ｐ−１ルエンスルホニル基またはベンジル
スルホニル基を示す）で表わされる（６８）−（ｆ＋−
’）（）−６−０−スルホニル−Ｄ−ガラクトースとし
、これを脂肪酸アルカリまたは芳香族脂肪酸と反応させ
てワルデン反転を起こさせて６位の立体配置を反転させ
た後、脱保膿することを特徴とする（６Ｂ、）−（６−
”Ｈ）　−Ｄ　−ガラクトースの製造方法、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）次の式： （： （式中Ｒ５は ０−Ｃ−Ｈ Ｈ−Ｃ−ＯＨｌ（−Ｃ−ＯＨ１１０−Ｃ−ＨＨＯ−Ｃ−
   １（ ■ ■■ な重水素化粧およびそれらの鏡像異性体、（２１（５Ｓ
   　）　−（５−用）−Ｄ−リボースである特許請求の範
   囲第１項記載の光学活性な重水素化粧、（３）　（５Ｒ
   ）　−（５−２１−１）−ｎ−リポースである特許請求
   の範囲第１項記載の光学活性な重水素化粧、（４）　（
   ６８）−（６−”１１）−１）−ガラクトースである特
   許請求の範囲第１項記載の光学活性な重水素化粧、（５
   ）　（６Ｒ）−（６−２ｔＩ）−ｎ−ガラクト−スであ
   る特許請求の範囲第１項記載の光学活性な重水素化粧、
   （６）　一般式”　Ｗ 〔式中Ｒ１＋は水素、または水酸基の保護基（アシル基
   、アルキル基）を示すがＲ，＋同志が一緒になってアル
   キリデン基例えばインプロピリデンを構成してもよい〕
   で表わされる１、５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボフラノ
   ース誘導体に立体選択的な光ハロゲン化反応を行ない、
   一般式；　Ｘ 百 Ｒ，Ｏｏｔｔ。 ｃ式中１１．＋　ｌｄ前記と同じ、Ｘは塩素または臭素
   を示す）で表わされる（５Ｓ）−１，５−アンヒドロ−
   ５−ハロゲン−β−Ｄ−リボフラノース誘導体とし、こ
   れに重水素（用）化１−　リ−ｎ　−ブチル錫を作用さ
   せて還元膜ノ・ロゲン化して一般式； ％式％ （式中１ｔ＋　’ｄ前記と同じ）で表わされる（５Ｓ’
   ）−（５−２Ｈ）−１、５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボ
   フラノース誘導体に導き、これを開環、脱保護すること
   を特徴とする（５Ｓ）−（５−”ＩＩ）−Ｄ−リボース
   の製造方法、 （７）一般式： ％式％（ 〔式中ｎ、、　ｔは水素、寸たけ水酸基の保護基（アシ
   ル基、アルキル基）を示すが、Ｉ（，１同志が一緒にな
   ってアルキリデン基例えばイノプロピリデンを構成して
   もよい〕で表わされる１゜５−アンヒドロ−β−１）−
   リボフラノース誘導体に立体選択的な光・・ロゲン化反
   ［ト５、を行ない、 一般式； （式中１１５１は前記と同じ、Ｘは塩素捷だは臭素を示
   す）で表わさ１１る（５Ｓ）−１，５−アンヒドロ−５
   −ハロゲン−β−Ｄ−ＩＪ　ホフラノース誘導体とし、
   これに重水素（’１１’）化Ｉ・クーｎ−ブチル錫を作
   用させて還元膜ノ・ロゲン化して、一般式： （式中Ｒ１１は前記と同じ）で表わされる（５Ｓ）−（
   ５−用）　−１、５−アンヒドロ−β−Ｄ−リボンラノ
   ース誘導体を酸加水分解して開環した後スルホニル化し
   て、 Ｒ，ＯＯＲ，。 （式中ｌ（，１は前記と同じ、Ｒ１２はアルキル、アリ
   ール、アリル寸たはアシル基等の水酸基の保護基を、Ｒ
   ，３はメタンスルホニル基またはｐ−１ルエンスルホニ
   ル基、ベンジルスルホニル基を示す）で表わされる（５
   ８）−（５−用）−５−０−スルホニル−β−Ｄ−リボ
   フラノシド誘４体とし、これに脂肪酸アルカリまたは芳
   香族脂肪酸アルカＩＪ　全反応させてワルデン反転を起
   こさせて５位の立体配置を反転させた後、脱保護基する
   ことを特徴とする（５］’Ｌ）−（５−２Ｈ）−Ｄ−リ
   ボースの製造方法、 ５− （８）一般式：　ル υｌｔ。 〔式中１．１．、は水素、まだは水酸基の保護基（アシ
   ル基、アルキル基）を示すがＲ１１同志が一緒になって
   アルキリデン基、例えばイソプロピリデンを構成しても
   よい〕で表わされる１、６−アンヒドロ−β−〇−ガラ
   クトピラノース誘導体を立体選択的に光・・ロゲン什し
   て、一般式、　Ｘ υバ。 （式中］１．＋は前記と同じ、Ｘは塩素捷たは臭素を示
   す）で表わされる（６Ｓ）川、６−アンヒドロ−６−バ
   ロゲンーβ−Ｄ−ガラクトピラノース誘導体とし、これ
   を重水素（”ＴＩ）化トすｎ−ブチル錫で処理して還元
   脱臭素化し、 　６　− 一般式：２．ｌ Ｗ ｃ式中Ｔ１．、は前記と同じ）で表わされる（６Ｓ）−
   （６−用）−１，６−アンヒドロ−β−Ｄ−ガラクトピ
   ラノース誘導体を導き、これを脱保護基してから濃硫酸
   と酢酸を作用させて１，２．３．４゜６−ペンタ−Ｏ−
   アセチル体と１７で開環し、次いで脱アシルすることを
   特徴とする（６８）　−（６−用）−旧−ガラクト−ス
   の製造方法 （９）　一般式’　Ｉ＋ 蕾 Ｕバ１ 〔式中１１，１は水素、捷だは水酸基の保護基（アシル
   基、アルギル基）を示す〕で表わされる１　、　６−−
   −アンヒトローβ−０−ガラクトピラノース誘導体を立
   体選択的に光ハロゲン化して、一般式；　Ｘ 百 を月予■ （式中Ｒ５１は前記と同じ、Ｘは塩素捷たは臭素を示す
   ）で表わされる（６Ｓ）−１，６−アンヒドロ−６−ハ
   ロゲン−β−０−ガラクトピラノース誘導体と１〜、こ
   れを重水素（用）化１−　ＩＪ　ｎ−ブチル錫で処理し
   て還元脱臭素化し、 一般式：　２ｎ 亘 υ１（１ （式中Ｒ１は前記と同じ）で表わされる（６Ｓ）−（６
   −用）−１，６−アンヒドロ−β−ガラクトピラノース
   誘導体を導き、これを脱保護基してから、濃硫酸と酢酸
   を作用させて１．２．３．４．６＝ペンタ−Ｏ−アセチ
   ル体として開環し、次いで脱アシル化して、（６Ｓ）−
   （６−用）−Ｄ−ガラクト−スを得、との化合物の１．
   ２．３．４位の水酸基を塩化亜鉛と濃硫酸をアセトン中
   で作用させて保護した後スルホニル（ｔ　ｔ、　で、一
   般式： （式中Ｒ１１は前記と同じ意味を示し、Ｒ１！はメタン
   スルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基マタはベンジ
   ルスルホニル基を示す）で表わされる（６８）−（６−
   用）−６−０−スルホニル−Ｄ−ガラクト−スとし、こ
   れを脂肪酸アルカリまたは芳香族脂肪酸と反応させてワ
   ルデン反転を起こさせて６位の立体配置を反転させた後
   、脱保護することを特徴とする（６Ｒ，）−（６−用）
   −Ｄ−がラクトースの製造方法、 （＋０１　（５８１−５−ブロモ−１，５−アンヒドロ
   −２，３−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−リボフラノ
   ース（ｎ）　（６８’）−６−ブロモ−１，６−アンヒ
   ドロ−２，３−４−トリー０−ベンゾイル−β−Ｄ−ガ
   ラクトピラノース