JPS59147046A - Aromatic polyether amide resin composition - Google Patents

Aromatic polyether amide resin composition

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JPS59147046A
JPS59147046A JP2126083A JP2126083A JPS59147046A JP S59147046 A JPS59147046 A JP S59147046A JP 2126083 A JP2126083 A JP 2126083A JP 2126083 A JP2126083 A JP 2126083A JP S59147046 A JPS59147046 A JP S59147046A
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aminophenoxy
phenyl
aromatic
group
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恵良 進
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Abstract

PURPOSE:To provide the titled composition having improved moldability and processability without lowering the original characteristics of the base resin, by compounding a bisphthalimide compound to the resin. CONSTITUTION:The objective composition is prepared by compounding (A) 100pts.wt. of an aromatic polyether amide resin having the recurring unit of formula I (R1-4 are H, lower alkyl, etc.; R5 and R6 are H, methyl, trifluoromethyl, etc.; Ar is p-phenylene, m-phenylene, etc.) with (B) 0.5-20pts.wt., preferably 2- 15pts.wt. of a bisphthalimide compound of formula II (X is -O-, -SO2-, -CO, etc.; R7 and R10 are 1-4C alkyl; R8 and R9 are 1-4C alkyl or halogen; p, q, r and s are 0 or 1-4; t is 1-25). Addition of an aliphatic diamine to the composition is preferable.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は芳香族ポリエーテルアミド樹脂に改質剤として
ビスフタルイミド化合物を配合してなる樹脂組成物に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a resin composition comprising an aromatic polyetheramide resin mixed with a bisphthalimide compound as a modifier.

一般式(IlIl (式中r R1−R4は水素、低級アルキル、低級アル
コキシ基、塩素または臭素を示し2、互いに同じであっ
ても異なっていてもよい。R5およびFLsは水素、メ
チル基、エチル基、トリフルオロメチル基またはトリク
ロロメチル基であシ、互いに同じであっても異なってい
てもよい)で示されるエーテル結合を含む芳香族ジアミ
ンと芳香族ジカルボン酸ハライドから芳香族ポリアミド
を得ることは特開昭52−23198号公報及び米国特
許第3.505.288号明細誉などによって公知であ
る。
General formula (IlIl (in the formula, r R1-R4 represent hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy group, chlorine or bromine2, and may be the same or different from each other. R5 and FLs are hydrogen, methyl group, ethyl It is possible to obtain an aromatic polyamide from an aromatic diamine containing an ether bond represented by a group, a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group, which may be the same or different from each other, and an aromatic dicarboxylic acid halide. It is known from Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-23198 and US Pat. No. 3,505,288.

ところで、このような特殊なジアミ/を原料として得ら
れる芳香族ポリエーテルアミドは。
By the way, aromatic polyether amide can be obtained using such a special diamide as a raw material.

引張シ強度2曲げ強度、衝撃強さなどの機械的性質、熱
変形温度や熱分解などの熱的性質、耐アーク、誘電率、
誘電損失などの電気的性質。
Mechanical properties such as tensile strength 2 bending strength and impact strength, thermal properties such as heat distortion temperature and thermal decomposition, arc resistance, dielectric constant,
Electrical properties such as dielectric loss.

耐炎性1寸法安定性などにおいて秀れた性質を保持し、
このため射出成形、押出成形、プレス成形等で作られた
一般成形物、フィルム等は広い用途が期待されている。
It maintains excellent properties such as flame resistance and dimensional stability,
For this reason, general molded products, films, etc. made by injection molding, extrusion molding, press molding, etc. are expected to have a wide range of uses.

しかしながら、この種の芳香族ポリエーテルアミドの欠
点として、成形性が悪いことがあげられる。一般に、グ
ラスチックにおいては成形性に関する評価が極めて重要
な位置を占め、fcとえ、そのものが本質的に優れた性
質を有していても成形性が悪いと製品を経済的に製造す
ることができないばかシでなく、その優れた性質を製品
において充分に発揮することができない。
However, a drawback of this type of aromatic polyether amide is that it has poor moldability. In general, evaluation of moldability is extremely important in glass materials, and even if fc itself has inherently excellent properties, if moldability is poor, it will be difficult to economically manufacture the product. It is impossible to make full use of its excellent properties in a product.

たとえば、軟化温度が高く溶融温度が高いポリマーを用
いて射出成形法により製品を作るとき。
For example, when a product is made by injection molding using a polymer with a high softening temperature and high melting temperature.

高い可塑化温度、高い射出圧、高い金型温度などが必要
であシ、それはコスト高の原因となるばかシでなく、高
い可塑化温度はポリマーの熱分解を誘発し、高い射出圧
は製品中の歪の原因となる。また、かかる厳しい条件が
満たされない場合にハ、ショートショット、ひけ、フロ
ーマークなどの外観上の欠点を生じたシ1機械的性質が
低下したシする。このため、芳香族ポリエーテルアミド
においても成形性の改良が望まれていた。
High plasticization temperature, high injection pressure, high mold temperature, etc. are required, which not only causes high costs, but also high plasticization temperature induces thermal decomposition of the polymer, and high injection pressure This causes distortion inside. In addition, if such strict conditions are not met, external defects such as short shots, sink marks, and flow marks occur; (1) mechanical properties deteriorate. Therefore, it has been desired to improve the moldability of aromatic polyetheramides as well.

本発明者らは、芳香族ポリエーテルアミドの優れた性質
を保持しつつ、成形性および加工性を改良すべく鋭意検
討の結果2本発明をなすに至った。
The present inventors have conducted intensive studies to improve moldability and processability while maintaining the excellent properties of aromatic polyether amide, and as a result, have arrived at the present invention.

すなわち1本発明は、一般式(1) ( (但し9式(Il中+ R1〜FL4は水素、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、塩素または臭素を示し。
That is, 1 the present invention is based on the general formula (1) ((9 formula (in Il + R1 to FL4 represent hydrogen, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine or bromine).

互いに同じであっても異なっていてもよい。几5および
R6は水素、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル
基またはトリクロロメチル基であり、互いに同じであっ
ても異なっていももよい。
They may be the same or different.几5 and R6 are hydrogen, a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, or a trichloromethyl group, and may be the same or different.

A、rはp−フェニレン基、メタフェニレン基。A and r are p-phenylene group and metaphenylene group.

ジフェニレンエーテル基、ジフェニレンスルホン基、ジ
フェニレン基、fフチレン基を示ス)で示されるくり返
し単位を有する芳香族ポリエーテルアミド樹脂lOo重
量部および一般式(「)(ただし、弐(I[)中、Xは
一〇  、  ’SO2゜CH3占F3 および&oは炭素数1〜4のアルキル基、 R[lおよ
び・R9は炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン、
p、q、rおよびSは0または1〜4の整数、tは1〜
25の整数であり、 R7と几10は互いに同一でも異
なっていてもよく、R8とR9は互いに同一でも異なっ
ていてもよ<、p、q。
100 parts by weight of aromatic polyether amide resin having repeating units represented by diphenylene ether group, diphenylene sulfone group, diphenylene group, f-ethylene group) and general formula ('') (however, 2 (I[) where,
p, q, r and S are 0 or an integer of 1 to 4, t is 1 to
is an integer of 25, R7 and 几10 may be the same or different from each other, and R8 and R9 may be the same or different from each other <, p, q.

rおよびSは互いに同一でも異なっていてもよい)で表
わされるビスフタルイミド化合物0.5〜20重量部を
含有゛してなる芳香族ポリエーテルアミド樹脂組成物に
関する。
The present invention relates to an aromatic polyetheramide resin composition containing 0.5 to 20 parts by weight of a bisphthalimide compound (r and S may be the same or different).

本発明において用いられる芳香族ポリエーテルアミド樹
脂は9例えば前述の一般式+110で示される芳香族ジ
アミンと下記一般式(征)で示される芳香族ジカルボン
酸シバライド。
The aromatic polyetheramide resin used in the present invention is, for example, an aromatic diamine represented by the above-mentioned general formula +110 and an aromatic dicarboxylic acid cybaride represented by the following general formula.

XCO−Ar −COX    (I[I)(但り、 
式中、Arはp−フェニレン基+ m−フェニレン基、
ジフェニレンエーテル基、ジフエニンンスルホン基、ジ
ンエニレン基、ナフチレン基を示し、Xは塩素または臭
素を示す)を重縮合反応させて得られる。
XCO-Ar-COX (I[I) (however,
In the formula, Ar is p-phenylene group + m-phenylene group,
It is obtained by polycondensation reaction of a diphenylene ether group, a diphenylene sulfone group, a diphenylene group, a naphthylene group, and X represents chlorine or bromine.

一般式(I[[lで表わされる芳香族ジアミノとしては
、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2.2−ビス〔3−メチル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕フロパン、2.2−ビス
〔3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
〕プロパン、2.2−ビス〔3−ブロモ−4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2.2−ビス〔
3−工fルー4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
プロパン、2+2−ビス〔3−グロビル−4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔
3−イソプロピル−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕フロパン、2.。
The aromatic diamino represented by the general formula (I
Aminophenoxy)phenyl]furopane, 2.2-bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2.2-bis[3-bromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane , 2.2-bis [
3-F-4-(4-aminophenoxy)phenyl]
Propane, 2+2-bis[3-globyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[
3-isopropyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]furopane, 2. .

2−ビス〔3−ブチル−4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル〕プロパン、ス2−ビス〔3−5ec−ブチル
−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
 2.2−ビス〔3−メトキン−4−(4−アミノンエ
ノキシ)フェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−エト
キシ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、2゜2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3
,5−ジクロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2.2−ビス[3,5−ジブロモ−4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2.2
−ビス(3,5−ジメトキシ−4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−クロロ
−4−(4−アミノフェノキシ)−5−メチルフェニル
〕グロ、パン、1.1−ビス〔4−(4−アミノンエノ
キシ)フェニル〕エタン、1.1−ビス〔3−メfルー
4−(4−アはノフ二ノキシ)7エ二ル〕エタン、1.
1−ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル〕エタン、l11−ビス〔3−ブロモ−4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1.1−ビ
ス〔3−工fk−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕エタン、1.l−ビス〔3−グロビル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1.1−ビス〔
3−イソプロピル−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エタン、1.1−ビス〔3−ブチル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1−ビス(
3−5ec−ブチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕エタン、1.1−ビス〔3−メトキシ−4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1.1−ビ
ス〔3−エトキシ−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エタン、l、1−ビス(3,5−ジメチル−4−
(4−アミノフェノキク)フェニル〕エタン、1.1−
ビス〔315−ジクロロ−4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル〕エタン、l、1−ビス〔3,5−ジブロモ
−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1
.1−ビス〔3,5−ジメトキシ−4−(4−アミノフ
ェノキク)フェニル〕エタン、1.1−ビス〔3−クロ
ロ−4−(4−アミノフェノキク)フェニル−5−メチ
ルフェニル〕エタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニルコメタン。
2-bis[3-butyl-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]propane, 2-bis[3-5ec-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane,
2.2-bis[3-methquin-4-(4-aminoenoxy)phenyl]propane, 2.2-bis[3-ethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2゜2-bis [3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3
,5-dichloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3,5-dibromo-4-
(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2.2
-bis(3,5-dimethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl)propane, 2,2-bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)-5-methylphenyl]glo, pan, 1 .1-bis[4-(4-aminoneenoxy)phenyl]ethane, 1.1-bis[3-mef-4-(4-a is nophdinoxy)7enyl]ethane, 1.
1-bis[3-chloro-4-(4-aminophenoxy)
phenyl]ethane, l11-bis[3-bromo-4-(
4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1.1-bis[3-functionalfk-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1. l-bis[3-globyl-4-(4-
aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[
3-isopropyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-butyl-4-(4-
aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis(
3-5ec-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-methoxy-4-(
4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3-ethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, l,1-bis(3,5-dimethyl-4-
(4-Aminophenolic)phenyl]ethane, 1.1-
Bis[315-dichloro-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1,1-bis[3,5-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethane, 1
.. 1-bis[3,5-dimethoxy-4-(4-aminophenolic)phenyl]ethane, 1.1-bis[3-chloro-4-(4-aminophenolic)phenyl-5-methylphenyl]ethane , bis[4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane.

ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニルコメタン、ビス[3−70ロー4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニルコメタン。
Bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3-70 rho-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane.

ビス〔3−ブロモ−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニルコメタン、ビス〔3−エチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニルコメタン。
Bis[3-bromo-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3-ethyl-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane.

ビス〔3−プロピル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニルコメタン、ビス〔3−イングロビル−4−(4−
アミノフェノキシ)フェニルコメタン、ビス〔3−ブチ
ル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニルコメタン、
ビス(3−sec−ブチル−4−(4−アミノフェノキ
ク)フェニルコメタン、ビス〔3−メトキシ−4−(4
−アミノフェノキシ)フェニルコメタン、ビス〔3−エ
トキシ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニルコメタ
ン、ビス[3,5−ジメチル−4=(4−アミノフェノ
キシ)フェニルコメタン。
Bis[3-propyl-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3-ingrovir-4-(4-
aminophenoxy) phenylcomethane, bis[3-butyl-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane,
Bis(3-sec-butyl-4-(4-aminophenolic)phenylcomethane, bis[3-methoxy-4-(4
-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3-ethoxy-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3,5-dimethyl-4=(4-aminophenoxy)phenylcomethane.

ビス〔3,5−ジクロロ−4−(4−アミノフェノキシ
)フェニルコメタン、ビス[3,5−ジブロモ−4−(
4−アミノフェノキシ)フェニルコメタン、ビス〔3,
5−ジメトキシ−4−(4−アミノフェノキシ)フエ、
ニルコメタン、ビス(3−クロロ−4−(4−アミノフ
ェノキシ)−5−メチルフェニルコメタン、  1,1
,1,3,3.3−ヘキサフルオロ−スタービス(4−
(4−アミノンエノキシ)フェニル〕プロパン、1,1
,1゜3、3.3−へキサクロロ−2,2−ビスl:4
−(4−アミノフェノキク)フェニル〕プロパン、3゜
3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)7エ二ル〕ペ
ンタン、1.l−ビス(4−(4−アミノンエノキシ)
フェニル〕プロパン、1,1,1,3゜3.3−ヘキサ
フルオロ−2,2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4
−アばノフェノキシ)フェニル〕プロパン、1,1,1
,3.式3−へキサクロロ−2,2〜ビス〔3,5−ジ
メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロ
パン、3.5−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕ペンタン、1.l−ビス[
a5−ジメチル−4−(4−アばノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、 1,1,1,3,3.3−へキサフル
オロロー2.2−ビス〔3,5−ジブロモ−4(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、1゜1、1.3
.3.3−ヘキサクロロ−λ2−ビス〔へ5−シフロモ
−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
3.3−ビス[3,5−シフ’ロモー4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1−ビス〔3,
5−ジブロモ−4−(4−−アミノフェノキク)フェニ
ル〕グpパン。
Bis[3,5-dichloro-4-(4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3,5-dibromo-4-(
4-aminophenoxy)phenylcomethane, bis[3,
5-dimethoxy-4-(4-aminophenoxy)fe,
Nylcomethane, bis(3-chloro-4-(4-aminophenoxy)-5-methylphenylcomethane, 1,1
,1,3,3.3-hexafluoro-starbis(4-
(4-aminoneenoxy)phenyl]propane, 1,1
,1゜3,3.3-hexachloro-2,2-bisl:4
-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 3°3-bis[4-(4-aminophenoxy)7enyl]pentane, 1. l-bis(4-(4-aminoneenoxy)
phenyl]propane, 1,1,1,3゜3.3-hexafluoro-2,2-bis[3,5-dimethyl-4-(4
-Abanophenoxy)phenyl]propane, 1,1,1
,3. Formula 3-hexachloro-2,2-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 3,5-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy) Phenyl]pentane, 1. l-bis[
a5-dimethyl-4-(4-abanophenoxy)phenyl]propane, 1,1,1,3,3.3-hexafluororo-2,2-bis[3,5-dibromo-4(4- Aminophenoxy)phenyl]propane, 1°1, 1.3
.. 3.3-hexachloro-λ2-bis[he5-sifuromo-4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane,
3.3-bis[3,5-schif'romo4-(4-aminophenoxy)phenyl]pentane, 1,1-bis[3,
5-dibromo-4-(4-aminophenyl)phenyl pan.

2.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
コブタン、2.2−ビス〔3−メチル−4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニルコブタン。
2.2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenylcobutane), 2.2-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenylcobutane.

2.2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕ブタ;y、2.2−ビス〔3,5
−ジブロモ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニルコ
ブタン、 1.1.1.3.3.3−へキサフルオロ−
2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕クロハ/ナトがある。
2.2-bis[3,5-dimethyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]buta;y, 2.2-bis[3,5
-dibromo-4-(4-aminophenoxy)phenylcobutane, 1.1.1.3.3.3-hexafluoro-
There is 2,2-bis[3-methyl-4-(4-aminophenoxy)phenyl]chloroha/nato.

本発明に用いられる一般式(mlで表わされる芳香族ジ
カルボン酸シバライドとしては公知のこれに属するもの
の総てが有用である。例えばテレフタル酸ジクロライド
2.テレフタル酸ジブロマイド、イソフタル酸ジクロラ
イド、インフタル酸ジブロマイド、ジフェニルエーテル
ジカルボン酸ジクロライド−4,4’ 、ジフェニルエ
ーテルカルボン1酸ジブロマイド−4+4′、ジフェニ
ルスルホンジカルボン酸ジクロライド−4,4’ 、ジ
フェニルスルホンジカルボン酸シグロマイト−4、4’
 、ジフェニルジカルボン酸ジクロライド〜4.4’、
ジフェニルジカルボン酸シグロマイト−4,4’ 、ナ
フタリンジカルボン酸ジクロライド−1、5、fiるい
はナフタリンジカルボン酸ジクロライド−1,5などが
あり、少なくとも1種が用いられる。
As the aromatic dicarboxylic acid civalide expressed in the general formula (ml) used in the present invention, all known aromatic dicarboxylic acid civalides belonging to this are useful. For example, terephthalic acid dichloride 2. Terephthalic acid dibromide, isophthalic acid dichloride, inphthalic acid dichloride Bromide, diphenyl ether dicarboxylic acid dichloride-4,4', diphenyl ether carboxylic acid dichloride-4,4', diphenyl sulfone dicarboxylic acid dichloride-4,4', diphenyl sulfone dicarboxylic acid dichloride-4,4'
, diphenyldicarboxylic acid dichloride ~4.4',
Examples include diphenyldicarboxylic acid siglomite-4,4', naphthalenedicarboxylic acid dichloride-1,5,fi, and naphthalenedicarboxylic acid dichloride-1,5, and at least one of them is used.

前記芳香族ジアミンと芳香族ジカルボン酸シバライドの
配合割合は、前者1当量に対し、後者0.9〜1.2当
量の範囲に設定すればよい。上前範囲を外れると鳥分子
量のものが得られにくく、樹脂状を呈さないオリゴマー
程度のものしか得られなくなる。望ましいのは後者の芳
香族ジカルボン酸シバライドが0.97〜1.03当量
の範囲である。特に等当量の場合は目的芳香族ポリエー
テルアミド樹脂の分子量は最大のものが得られる。
The blending ratio of the aromatic diamine and the aromatic dicarboxylic acid sybaride may be set in a range of 0.9 to 1.2 equivalents of the latter to 1 equivalent of the former. If it is out of the above range, it will be difficult to obtain a product with a molecular weight similar to that of an oligomer that does not have a resinous appearance. The latter aromatic dicarboxylic acid cybaride is preferably in a range of 0.97 to 1.03 equivalents. In particular, when the amounts are equal, the maximum molecular weight of the target aromatic polyetheramide resin can be obtained.

本発明においては前記芳香族ジアミンの一部を他の公知
の芳香族ジアミンで置き換えることができる。その量は
合目的には50−11ニル%(芳香族ジアミン全量を基
準とする。)を上限とすべきである。50モルチを超え
ると、特に成形加工性を損う惧れがある。ここに、他の
芳香族ジアミンとしては例えばm−フェニレンジアミン
、p−フェニレンジアミン、4.4’−ジアミノジフェ
ニルメタン、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4.4’−ジアミノジフェニルスルホン。
In the present invention, a part of the aromatic diamine can be replaced with other known aromatic diamines. The amount should conveniently have an upper limit of 50-11 nyl% (based on the total amount of aromatic diamine). If it exceeds 50 molti, there is a risk that molding processability will be particularly impaired. Examples of other aromatic diamines include m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether,
4.4'-diaminodiphenylsulfone.

4、4’ −シアミノジフェニルプロパン−2,2,4
゜4′−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジア
ミノナフタリン、4.4’−ジアミノジフェニルエタン
、m−)ルイレンジアミン、p−トルイレンジアミン、
3.4’−ジアミノベンズアニリド。
4,4'-cyaminodiphenylpropane-2,2,4
゜4'-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylethane, m-) lylene diamine, p-tolylene diamine,
3.4'-diaminobenzanilide.

1.4−シアεノナフタリン、3.3’−ジクロロ−4
,4′−ジアミノジフェニル、ベンチジン、4.4′−
ジアミノ7フエニルアミン、4.4’−ジアミノジフェ
ニル−N−メチルアミン、4.4’−ジアミノジフェニ
ル−N−フェニルアばン、3.3’−シア、モノジフェ
ニルスルホン、4.4’−ジアミノジフェニルエールシ
ラン、4.4’−ジアミノジフェニルシランなどがあり
、これらの少なくとも1種が用いられる。
1.4-thia epsilon nonaphthalene, 3.3'-dichloro-4
, 4'-diaminodiphenyl, benzidine, 4.4'-
Diamino 7-phenylamine, 4.4'-diaminodiphenyl-N-methylamine, 4.4'-diaminodiphenyl-N-phenylamine, 3.3'-cya, monodiphenyl sulfone, 4.4'-diaminodiphenyl ale There are silane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, etc., and at least one of these is used.

また9本発明においては公知の脂肪族ジアミン、たとえ
ば、ピペラジン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、デカメチレンシアεン、p−キシリレンジア
ミン、m−キシリレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ドデカメチレンジアミン、4,4−ジメチルへブタ
メチレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン
、λ11−ジアミノドデカン。
In addition, in the present invention, known aliphatic diamines such as piperazine, hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, nonamethylene diamine, decamethylene cyanide, p-xylylene diamine, m-xylylene diamine, Tetramethylene diamine, dodecamethylene diamine, 4,4-dimethyl hebutamethylene diamine, 3-methyl hebutamethylene diamine, λ11-diaminododecane.

1.12−ジアミノオフタテカンなどを併用することも
できる。脂肪族ジアミンの併用は目的芳香族ポリエーテ
ルアミド樹脂の成形加工性をさらに改善するという効果
がある。しかし、その配合量を増すにしたがって耐熱性
は次第に低下するので1本発明の目的を損わないように
その配合量を設定すべきであり9通常の場合は30モル
チ以下好ましくは10モルチ以下(全ジアミン量を基準
とする。)の範囲で併用すべきである。該脂肪族ジアミ
ンはこれは単独で、または前記能の芳香族ジアミンと共
に、前記一般式(1)で示される芳香族ジアミンと組合
せて用いられる。
1.12-diaminophtathecan and the like can also be used in combination. The combined use of aliphatic diamine has the effect of further improving the moldability of the target aromatic polyetheramide resin. However, as the amount of the compound increases, the heat resistance gradually decreases, so the amount of the compound should be set so as not to impair the purpose of the present invention. (based on the total amount of diamine). The aliphatic diamine is used alone or in combination with an aromatic diamine having the above-mentioned properties and an aromatic diamine represented by the general formula (1).

前述の各種ジアミンを併用する場合、全ジアミン成分と
芳香族ジカルボン酸ジノ1ライドとの配合割合は前述と
全く同じ基準で設定す池ことができる。
When the various diamines mentioned above are used in combination, the blending ratio of all the diamine components to the aromatic dicarboxylic acid dinolide can be set on exactly the same basis as mentioned above.

本発明において9反応に際しては既に公知のアミンと酸
との反応に用いられている方法をそのまま採用すること
ができ、諸条件などについても、特に限定されるもので
はない。例えば界面重縮合法、溶液重縮合法あるいは溶
液重縮合法などによって達成することができる。界面重
縮合反応に際しては後述の公知の水溶性中和剤が用いら
れる。また、溶液重合法の場合にはトリエチルアミン、
ピリジン、トリブチルアミン。
In the present invention, for the 9 reaction, a method already used for the reaction between an amine and an acid can be directly adopted, and the conditions are not particularly limited. For example, this can be achieved by an interfacial polycondensation method, a solution polycondensation method, a solution polycondensation method, or the like. In the interfacial polycondensation reaction, a known water-soluble neutralizing agent described below is used. In addition, in the case of solution polymerization method, triethylamine,
Pyridine, tributylamine.

ピリジンなどの公知の第3級アミンからなる中和剤が使
用される。界面重縮合法および溶液重合法においては反
応溶媒が用いられるが、この溶媒としては芳香族ジアミ
ンまたは芳香族ジカルボン酸ジノ・ライドのうち、少な
くともいずれか一方をなるべくは両方を溶解しうるもの
でなければならない。本発明において使用する特に有効
な反応溶媒の代表例としてはシクロヘキ昼ノンがある。
A known neutralizing agent consisting of a tertiary amine such as pyridine is used. A reaction solvent is used in the interfacial polycondensation method and the solution polymerization method, but this solvent must be capable of dissolving at least one of aromatic diamines and aromatic dicarboxylic acid dino-rides, preferably both. Must be. A representative example of a particularly effective reaction solvent for use in the present invention is cyclohexynone.

その他に使用しつる溶媒を幾つか例示すると、塩化メチ
レン、トリクレン、パークレン、二塩化エタン、ニトロ
ベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素、ジイソブチルケ
トン。
Some other solvents that may be used include methylene chloride, trichlene, perchlorene, ethane dichloride, nitrobenzene, chloroform, carbon tetrachloride, and diisobutyl ketone.

アセトフエ7ノ、p−メチルアセトフェノン。Acetophenone, p-methylacetophenone.

N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、 N、N−ジエチルホルムアミド。
N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylformamide.

N、N−ジメチルアセトアミド、 N、N−ジメチルメ
トキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド。
N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide.

N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチルスル
ホン、ヘキサメチルホスホルアミド。
N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide.

テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスル
ホンなどがあげられる。
Examples include tetramethylene sulfone and dimethyltetramethylene sulfone.

反応溶媒は溶解操作を容易にするなど必要に応じて2種
以上混合して用いることもできる。
Two or more reaction solvents may be used in combination, if necessary, to facilitate the dissolution operation.

また、可及的に高分子量のものを得る場合には芳香族ジ
カルボン酸シバライドを溶解する溶媒はよ)高度に脱水
したものを用いるとよい。特に、 N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドンなどの極性溶媒を用いて溶液重縮合
する場合。
Furthermore, in order to obtain a product with as high a molecular weight as possible, it is preferable to use a highly dehydrated solvent for dissolving the aromatic dicarboxylic acid cybaride. Particularly when solution polycondensation is carried out using a polar solvent such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, or N-methyl-2-pyrrolidone.

助溶剤として、5〜10重ft%の塩化リチウム。5 to 10 weight percent lithium chloride as a co-solvent.

塩化カルシウム、ロダンカルシウム等を加えて合成する
と、著しく溶解性が増し好都合である。
Synthesis by adding calcium chloride, calcium rhodan, etc. is advantageous as it significantly increases solubility.

助溶剤としてはこれ以外にも後述のような他の公知の助
溶剤の総てが有効である。また2本発明者らの研究によ
れば次のような効果的な反応方法を見出した。
In addition to this co-solvent, all other known co-solvents as described below are effective. Further, according to the research conducted by the two inventors, the following effective reaction method was discovered.

即ち、それは通常の界面重縮合法のように。That is, it is like the usual interfacial polycondensation method.

アルカリ水溶液にジアミ/を溶解する方法とは異なシ、
ジアミンをアルカリ水溶液に分散させ。
This method is different from the method of dissolving diami/in an alkaline aqueous solution.
Disperse diamine in alkaline aqueous solution.

これに芳香族ジカルボン酸ジハジイドを有機溶媒に溶か
した溶液を加えて反応させる方法である。この方法で重
合させることによシ、生成したハロゲン化水液は中和剤
で中和され水とハロゲン化金属となり水に溶解し、有機
相からポリマーを沈殿させた場合、ポリマーに塩酸や中
和剤が残存しないため、ポリマーの諸物件に好ましい結
果を与えるものである。この場合、アルカリの使用量は
、芳香族ジカルボン酸ハライドと当量以上1.3当量以
下であり、好ましくは1.0〜1.1当量である。ここ
で、使用される中和剤としては水に溶解する水酸化ナト
リウム。
This is a method in which a solution of an aromatic dicarboxylic acid dihydride dissolved in an organic solvent is added to the mixture and reacted. By polymerizing in this method, the halogenated aqueous solution produced is neutralized with a neutralizing agent and becomes water and a metal halide, which dissolves in water.When the polymer is precipitated from the organic phase, the polymer is Since no Japanese additive remains, this method gives favorable results to various polymer products. In this case, the amount of alkali used is at least 1.3 equivalents relative to the aromatic dicarboxylic acid halide, preferably from 1.0 to 1.1 equivalents. Here, the neutralizing agent used is sodium hydroxide that dissolves in water.

水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
などが例示されるが、これに限足されるものではない。
Examples include, but are not limited to, potassium hydroxide, sodium carbonate, and sodium hydrogen carbonate.

また、水の量は上記の中和剤が呈温で十分に溶解する程
度であれば十分である。勿論それ以上使用しても7反応
にはさしつかえない。また反応温度は水が液体、である
状態。
Further, the amount of water is sufficient as long as the above-mentioned neutralizing agent is sufficiently dissolved at the temperature. Of course, even if you use more than that, it will not affect the 7 reactions. Also, the reaction temperature is the state where water is a liquid.

即ち0〜100℃、好ましくは5〜60’Cの範囲であ
る。上記重縮合方法は2例えば次のような手順によって
遂行することができる。まず。
That is, it is in the range of 0 to 100°C, preferably 5 to 60'C. The above polycondensation method can be carried out, for example, by the following procedure. first.

中和剤を適当量の水に溶解し、これに芳香族ジアミンを
加える。更に有機溶剤に芳香族ジカルボン酸ハライドを
溶かした溶液を加え反応させる。この際、好ましくは、
攪拌して芳香族ジアミンをアルカリ水溶液に分散させた
状態で反応させるのがよい。次いで、有機相のみを分離
し。
A neutralizing agent is dissolved in an appropriate amount of water, and an aromatic diamine is added thereto. Furthermore, a solution of aromatic dicarboxylic acid halide dissolved in an organic solvent is added and reacted. At this time, preferably,
It is preferable to stir the aromatic diamine to disperse it in the alkaline aqueous solution before reacting. Then only the organic phase is separated.

ポリマーを溶解しない、かつ反応溶剤と相溶しやすい有
機溶媒に投入し、ポリマーを沈殿させる。これを濾取す
ることによυ、芳香族ポリエーテルアミド樹脂を得る。
The polymer is precipitated by pouring it into an organic solvent that does not dissolve the polymer and is easily compatible with the reaction solvent. By filtering this, an aromatic polyetheramide resin is obtained.

本発明では前述の各種芳香族ジ°アミンおよび脂肪族ジ
アミンを中和剤として作用させることが可能である。こ
の場合、1当量以下の割合(反応に関与しないit)で
増量すればよい。
In the present invention, the aforementioned various aromatic diamines and aliphatic diamines can be used as neutralizing agents. In this case, the amount may be increased by 1 equivalent or less (it not involved in the reaction).

また、芳香族ジカルボン酸ジノ・ライド以外のアミド形
成性誘導体と一般式(mで示される芳香族ジアミンとの
公知のポリアミド生成反応2例えば、9ん系触媒による
高温重縮合あるいはエステル交換法などによっても一般
式(I)で示されるくり返し単位を有する芳香族ポリエ
ーテルアミド樹脂を得ることができる。
In addition, known polyamide-forming reactions between amide-forming derivatives other than aromatic dicarboxylic acid dino-rides and aromatic diamines represented by the general formula (m) may be carried out, for example, by high-temperature polycondensation or transesterification using a 9-based catalyst. Also, an aromatic polyetheramide resin having repeating units represented by the general formula (I) can be obtained.

本発明の芳香族ポリエーテルアミド樹脂は粘度(ジメチ
ルホルムアミド中、0.2y−/diの濃度、30℃)
が0.2〜1.sdl/11−、好ましくは。
The aromatic polyetheramide resin of the present invention has a viscosity (concentration of 0.2y-/di in dimethylformamide, 30°C)
is 0.2 to 1. sdl/11-, preferably.

0゜4〜0.8 dll ?テある。0.2dll/9
−未満では強度が低下し、 1.5 tie/ Pを越
えると成形加工性が劣る傾向にある。
0°4~0.8 dll? There is. 0.2dll/9
If it is less than -, the strength will decrease, and if it exceeds 1.5 tie/P, the moldability will tend to be poor.

本発明において、一般式(n)で衣わされるビスフタル
イばド化合物の具体例としては、たとえば。
In the present invention, specific examples of the bisphthalide compound represented by general formula (n) include:

リ                        
         U香族ポリエーテルアミド樹脂溶液
に前記ビス7クルイミド化合物を添加し、濃縮固化法あ
るいは溶剤ストリップ法により前記ビスフタルイミド化
合物含有芳香族ポリエーテルアミド樹脂粉末を得る方法
等によって混合することができる。
Li
Mixing can be carried out by adding the bis-7 curimide compound to a U aromatic polyetheramide resin solution and obtaining the bisphthalimide compound-containing aromatic polyetheramide resin powder by a concentration solidification method or a solvent stripping method.

前記ビスフタルイミド化合物の添加量については少なす
ぎればその効果は認められず、また。
If the amount of the bisphthalimide compound added is too small, no effect will be observed.

多過ぎれば、成形性が著しく向上するが、引張シ強度な
どの機械的強度が大幅に低下する。従って前記ビスフタ
ルイミド化合物の添加量としては、実用的には、樹脂1
00重量部に対して0.5〜20重量部、好捷しくけ2
〜15重量部使用される。
If the amount is too large, moldability will be significantly improved, but mechanical strength such as tensile strength will be significantly reduced. Therefore, the amount of the bisphthalimide compound to be added is practically 1
0.5 to 20 parts by weight per 00 parts by weight, 2
~15 parts by weight are used.

さらに9本発明の樹脂組成物に他種のポリマーを配合す
ることによシ、その性質を改善することもでき、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、滑剤。
Furthermore, by blending other types of polymers into the resin composition of the present invention, its properties can be improved, such as antioxidants, ultraviolet absorbers, and lubricants.

難燃剤などの添加物を共存せしめることにより。By allowing additives such as flame retardants to coexist.

その性質を改良することもできる。Its properties can also be improved.

以下、実施例によυ本発明をさらに詳しく説明するが、
これに限定されるものではない。以実施例1 テレフタル酸ジクロライドとインフタル酸ジクロライド
の混合比が1:1(重量比)からなる酸クロライド混合
物の10チシクロヘキサノン溶液と2,2−ビス(4−
(4−アミノフェノキシ)フェニルプロパンの20%シ
クロヘキサノン溶液ヲ10チ苛性ンーダ水溶液の存在下
に接触して反応させることによシ、芳香族ポリエーテル
アミドを製造した。ただし酸クロライド混合物と芳香族
ジアミ、/の配合比は等モルである。これのジメチルホ
ルムアミド中(0,2f!−/dl)(D還元粘度は0
.94dl/fであった。この芳香族ポリエーテルアミ
ド樹脂粉末100重量部にビスフタルイミド化合物トシ
てビス[:4−(3−7タルイミノフエノキシ)フェニ
ル〕スルホンをポリマ−1oO重i部1/ljして5重
量部添加し、押出機にて300〜320°Cでベレット
化した。このベレットより射出成形機を用いて試験片を
成形(340℃、9ooK2/crr12)シた。引張
シ強さ91 Q Kg /Cm2.衝撃強さ14 Kg
 cm / cm2.熱変形温度185℃であった。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
It is not limited to this. Hereinafter, Example 1 A 10-cyclohexanone solution of an acid chloride mixture with a mixing ratio of terephthalic acid dichloride and isphthalic acid dichloride of 1:1 (weight ratio) and 2,2-bis(4-
An aromatic polyether amide was produced by contacting and reacting 10 parts of a 20% solution of (4-aminophenoxy)phenylpropane in cyclohexanone in the presence of an aqueous solution of caustic soda. However, the blending ratio of the acid chloride mixture and the aromatic diamide is equimolar. This in dimethylformamide (0,2f!-/dl) (D reduced viscosity is 0
.. It was 94 dl/f. To 100 parts by weight of this aromatic polyetheramide resin powder, 5 parts by weight of bisphthalimide compound bis[:4-(3-7thaliminophenoxy)phenyl]sulfone (1/lj parts by weight of polymer) was added. The mixture was pelletized at 300 to 320°C using an extruder. A test piece was molded from this pellet using an injection molding machine (340°C, 9ooK2/crr12). Tensile strength 91 Q Kg/Cm2. Impact strength 14 kg
cm/cm2. The heat distortion temperature was 185°C.

実施例2 106セバラブルフラスコに、撹拌棒、温度計。Example 2 106 Separable flask, stirring bar, thermometer.

滴下ロートをセットし、 NaOH171,8’ifを
水800rrLlに溶解してフラスコに入れる。次に2
,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
プロパン5949−及び4.4′−ジアミノジフェニル
エーテル669−をシクロヘキサノン3.4 Kpに溶
解して、さきのフラスコに注ぎ込み、−2℃まで冷却す
る。一方、テレフタル酸ジクロライド1822、イソフ
タル酸ジクロライド182y−をシクロヘキサノン2.
4 K9に溶解する。この酸クロライド溶液を滴下ロー
トから注ぎ込むが、この際2反応温度が10℃を超えな
いようにする。滴下から3時間後、塩化ベンゾイル18
.97をシクロへキサノンzo ofPに溶解して加え
る。更に2時間後。
Set the dropping funnel, dissolve 171,8'if of NaOH in 800 rrLl of water and put it into the flask. Next 2
,2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl)
Propane 5949- and 4,4'-diaminodiphenyl ether 669- are dissolved in cyclohexanone 3.4 Kp, poured into the previous flask, and cooled to -2°C. On the other hand, terephthalic acid dichloride 1822 and isophthalic acid dichloride 182y- were mixed with cyclohexanone 2.
4 Dissolve in K9. This acid chloride solution is poured from the dropping funnel, making sure that the temperature of the two reactions does not exceed 10°C. 3 hours after dropping, benzoyl chloride 18
.. 97 is dissolved in cyclohexanone zo of P and added. Another two hours later.

反応液をメタノールに注ぎ込み、ポリマーを単離する。The reaction solution is poured into methanol to isolate the polymer.

乾燥して得られた芳香族ポリエーテルアミド樹脂粉末1
00重量部に、ビスフタルイミド化合物として2.2−
ビス(4−(4−フタルイミノフェノキシ)フェニル〕
プロパンを表1に示ス量だけ添加し、押出機にて300
〜320℃でベレット化した。このベレットより射出成
形により。
Aromatic polyetheramide resin powder 1 obtained by drying
00 parts by weight, 2.2- as a bisphthalimide compound
Bis(4-(4-phthaliminophenoxy)phenyl)
Add propane in the amount shown in Table 1 and use an extruder to
It was pelletized at ~320°C. This pellet is made by injection molding.

各種試験片を成形した0表に各ベレットの成形条件およ
び緒特性を示す。
Various test pieces were molded.Table 0 shows the molding conditions and properties of each pellet.

実施例3 テレフタル酸ジクロライド/イソフタル酸ジクロライド
の混合比が4二6(重量比)の酸クロライド混合物と2
.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
プロパンとから、N−メチルピロリドンを溶媒として溶
液重合法によシ重合させ、得られたポリマーを単離乾燥
して還元粘度0.78dl19−の芳香族ポリエーテル
アミド樹脂を得た。このポリマー100重量部に、ビス
フタルイミド化合物として 1 を5重量部添加し、300〜320 ’Cにてベレット
化し、射出成形によシ、試験片を成形(34゜℃、’ 
90 oKy/α2)シた。引張り強さ930Kr/c
m2.衝撃強さ12に7/Cm2.熱変形温度190℃
ゴあった。
Example 3 An acid chloride mixture with a mixing ratio of terephthalic acid dichloride/isophthalic acid dichloride of 426 (weight ratio) and 2
.. 2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl)
Propane was polymerized by solution polymerization using N-methylpyrrolidone as a solvent, and the resulting polymer was isolated and dried to obtain an aromatic polyetheramide resin with a reduced viscosity of 0.78 dl19. To 100 parts by weight of this polymer, 5 parts by weight of 1 as a bisphthalimide compound was added, pelletized at 300 to 320'C, and molded into a test piece by injection molding (34°C,'
90 oKy/α2). Tensile strength 930Kr/c
m2. Impact strength 12 to 7/cm2. Heat distortion temperature 190℃
There was a go.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式(I) ll (但し2式(1)中IRI〜R4は水素、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、塩素または臭素を示し、互いに
同じでおっても異なっていてもよい。R5およびR6は
水素、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基また
はトリクロロメチル基であυ、互いに同じであっても異
なっていてもよい。Arはp−フェニレン、メタフェニ
レン、ジフェニレンエーテル、ジフェニレンスルホン、
ジフェニレン、ナフチレン基を示す)で示されるくシ返
し単位を有する芳香族ポリエーテルアミド樹脂100重
量部および一般式(II) (ただし9式(II)中、Xは一〇−、−SO□。 R7および几1oは炭素数1〜4のアルキル基。 R8およびR9は炭素数1〜4のアルキル基またはハロ
ゲンIpIqIrおよびSはo″!、たけ1〜4の整数
、tは1〜25の整数であシ。 R7とRIIOは互いに同一でも異なっていてもよ<、
R8とR9は互いに同一でも異なっていてもよ<、p、
q、rおよびSは互いに同一でなる芳香族ポリエーテル
アミド樹脂組成物。
[Claims] 1. General formula (I) ll (However, 2 In formula (1), IRI to R4 represent hydrogen, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine or bromine, and may be the same or different) R5 and R6 are hydrogen, a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, or a trichloromethyl group, and may be the same or different from each other.Ar is p-phenylene, metaphenylene, di- Phenylene ether, diphenylene sulfone,
100 parts by weight of an aromatic polyetheramide resin having a repeating unit represented by diphenylene or naphthylene group) and general formula (II) (wherein X is 10-, -SO□). R7 and R1o are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. R8 and R9 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms or halogen IpIqIr and S are o''!, an integer of 1 to 4, and t is an integer of 1 to 25. Yes. R7 and RIIO may be the same or different.
R8 and R9 may be the same or different from each other<, p,
An aromatic polyetheramide resin composition in which q, r and S are the same.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992012967A1 (en) * 1991-01-21 1992-08-06 Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Bisimide compounds, polyimide resin composition prepared therefrom, and carbon fiber-reinforced polyimide resin composition

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