JPS5910920A - パタ−ン検査用暗視野顕微鏡 - Google Patents
パタ−ン検査用暗視野顕微鏡Info
- Publication number
- JPS5910920A JPS5910920A JP12021282A JP12021282A JPS5910920A JP S5910920 A JPS5910920 A JP S5910920A JP 12021282 A JP12021282 A JP 12021282A JP 12021282 A JP12021282 A JP 12021282A JP S5910920 A JPS5910920 A JP S5910920A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- illumination
- slit
- pattern
- mirrors
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
- G02B21/08—Condensers
- G02B21/10—Condensers affording dark-field illumination
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えば微細な集積回路パターンの欠陥検出
を容易にするため、照明に平行光線を用い、かつ照明角
度を可変にしたパターン検査用暗視野ｗＪ４微鏡に関す
るものである。
を容易にするため、照明に平行光線を用い、かつ照明角
度を可変にしたパターン検査用暗視野ｗＪ４微鏡に関す
るものである。
従来のこの柚の装置は、第１図に示すものが一般的であ
る。すなわち、光源１からコンデンサレンズ２により平
行に広がった光は、スリット３゜中空ミラー４．リング
状コンデンサレンズ５をとおり、ウェハ６上の観測点７
を全周囲から照射する。暗視野像は、観測点７から対物
レンズ８．プリズム９．及び接眼レンズ１０間で拡大さ
れ、目視位置１１で像を結ぶ。
る。すなわち、光源１からコンデンサレンズ２により平
行に広がった光は、スリット３゜中空ミラー４．リング
状コンデンサレンズ５をとおり、ウェハ６上の観測点７
を全周囲から照射する。暗視野像は、観測点７から対物
レンズ８．プリズム９．及び接眼レンズ１０間で拡大さ
れ、目視位置１１で像を結ぶ。
次に動作について説明する。
暗視野顕微鏡は、対物レンズ８を通過せずに観測点１を
照明するために、対物レンズ８とはｙ同じ位置にリング
状コンデンサレンズ５があり、こノリンク状コンデンサ
レンズ５にのみ光か入射するように、スリット３は第２
図に示すごとく、リング状の光透過孔３ａが光遮断部３
ｂ中に形成されており、中空ミラー４もリング状の光Ｑ
）み反射させて、リング状コンデンサレンズ５に入れる
ようＫしている。なお、第２図の３Ｃは把手である。
照明するために、対物レンズ８とはｙ同じ位置にリング
状コンデンサレンズ５があり、こノリンク状コンデンサ
レンズ５にのみ光か入射するように、スリット３は第２
図に示すごとく、リング状の光透過孔３ａが光遮断部３
ｂ中に形成されており、中空ミラー４もリング状の光Ｑ
）み反射させて、リング状コンデンサレンズ５に入れる
ようＫしている。なお、第２図の３Ｃは把手である。
リング状コンデンサレンズ５は、対物レンズ８が低倍の
場合はレンズであるが、昼倍の場合はウェハ６と距離が
小さいため、リング状のミラーになる。対象物の観測点
Ｉは全周に均一に照射され、パターン欠陥やその他の対
象物からσ）散乱光を、対物レンズ８と接眼レンズ１０
で拡大して見ることかできる。
場合はレンズであるが、昼倍の場合はウェハ６と距離が
小さいため、リング状のミラーになる。対象物の観測点
Ｉは全周に均一に照射され、パターン欠陥やその他の対
象物からσ）散乱光を、対物レンズ８と接眼レンズ１０
で拡大して見ることかできる。
倣細なパターン欠陥を効果的に検査解析するために、従
来の暗視野型顕微説では、パターン表面の凸凹か散乱光
で強調されて見えるのみである。
来の暗視野型顕微説では、パターン表面の凸凹か散乱光
で強調されて見えるのみである。
そのため、パターンが１司−視ｌＪ！ｆに多く見える場
合には、パターン欠陥を検出するのが容易でない欠点か
あった。
合には、パターン欠陥を検出するのが容易でない欠点か
あった。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、倣細な集積パターンを観察する
際の照明を平行で、かつ顕微鏡視野内に入っているパタ
ーンにある一方向から照射するようにしたものである。
ためになされたもので、倣細な集積パターンを観察する
際の照明を平行で、かつ顕微鏡視野内に入っているパタ
ーンにある一方向から照射するようにしたものである。
このことから、パターン面での回折効果によって、パタ
ーンを回折格子として見ることによって従来のものと比
べるとより明確にパターン欠陥の検出を可能としたもの
である。以下、この発明について説明する。
ーンを回折格子として見ることによって従来のものと比
べるとより明確にパターン欠陥の検出を可能としたもの
である。以下、この発明について説明する。
第３図はこのうム明の一実施例を示すものである。
この図で、符号１．２．４．６〜１１は第１図の従来例
と同じもので））す、３Ａはスリットで、第４図に示す
ように偏心した位置に光透過孔３ａが設けられ、中心０
を軸として把手３ｃにより回動できるように設けられる
。５Ａは照明ミラーで、この実施例の場合は５Ａ、〜５
Ａｄの角度σ）異なる４個が、第５図に示すように対物
レンズ８の周囲に配置され、第３図のように中空ミラー
４で反射されてきた光を、さらにその平行度を乱すこと
な（反射してウェハ６上の観測点７に向は照射する。
と同じもので））す、３Ａはスリットで、第４図に示す
ように偏心した位置に光透過孔３ａが設けられ、中心０
を軸として把手３ｃにより回動できるように設けられる
。５Ａは照明ミラーで、この実施例の場合は５Ａ、〜５
Ａｄの角度σ）異なる４個が、第５図に示すように対物
レンズ８の周囲に配置され、第３図のように中空ミラー
４で反射されてきた光を、さらにその平行度を乱すこと
な（反射してウェハ６上の観測点７に向は照射する。
したがって、スリット３Ａを回動させ、その光透過孔３
ａと一致した照明ミラー５Ａから観測点７の照明が行わ
れる。そして、光源１．コンデンサ２、スリット３Ａ、
中空ミラー４．照明ミラー５Ａで照明系が構成され
る。
ａと一致した照明ミラー５Ａから観測点７の照明が行わ
れる。そして、光源１．コンデンサ２、スリット３Ａ、
中空ミラー４．照明ミラー５Ａで照明系が構成され
る。
次に動作について説明する。
光源１は従来の照明光量よりも数倍多くし、光源１から
の光は、コンデンサレンズ２によりはｙ平行光となる。
の光は、コンデンサレンズ２によりはｙ平行光となる。
スリン）３Ａは回転可能で、照明ミラー５Ａ、〜５Ａｄ
が選択反射し、ウェー・６上の観測点Ｔに照射する。ウ
エノ〜６は回転ステージに載せられているため、スリッ
ト３Ａ、各照明ミラー５Ａも自由に観測点７を軸にして
回転し、パターンの回折光か最も節度が尚くなる位置を
鶴＠者は選ぶ。スリット３ Ａ、照明ミラー５Ａは従来
の暗視野顕微鏡に組み込んでおき、組み合せによっては
明視野ｗ４倣鏡とも併用で使用できるよプにする。
が選択反射し、ウェー・６上の観測点Ｔに照射する。ウ
エノ〜６は回転ステージに載せられているため、スリッ
ト３Ａ、各照明ミラー５Ａも自由に観測点７を軸にして
回転し、パターンの回折光か最も節度が尚くなる位置を
鶴＠者は選ぶ。スリット３ Ａ、照明ミラー５Ａは従来
の暗視野顕微鏡に組み込んでおき、組み合せによっては
明視野ｗ４倣鏡とも併用で使用できるよプにする。
この発明は、従来のパターン面の散乱光だけでなく、回
折光を利用するものであるため、パターンが微細で、か
つ繰り返しで規則性の旨いほど効果がある。そのため、
パターンに照射する照明は、顕微鏡視野内に任意な角度
で一方向から入射し、かつ平行度の尚いものでなければ
ならない。
折光を利用するものであるため、パターンが微細で、か
つ繰り返しで規則性の旨いほど効果がある。そのため、
パターンに照射する照明は、顕微鏡視野内に任意な角度
で一方向から入射し、かつ平行度の尚いものでなければ
ならない。
また、スリット３Ａは１個若しくは抜数個あり、平行度
の商い光ビームを通過させ、照明ミラ〜５Ａにより反射
されパターン面に照射される。
の商い光ビームを通過させ、照明ミラ〜５Ａにより反射
されパターン面に照射される。
さらに、多種類のパターン検査を可能とするため、スリ
ット３Ａ、照明ミラー５Ａはいずれも回転できるものを
装備し、各照明ミラー５Ａ、〜５Ａ。
ット３Ａ、照明ミラー５Ａはいずれも回転できるものを
装備し、各照明ミラー５Ａ、〜５Ａ。
は、回折効果の高い角度が選べるよプ微Ａ整ができるも
のとする。
のとする。
なお、上記実施例では、照明系が対物レンズ８と一体と
なっているものを示したが、鋭部外に出しても効果は同
様である。
なっているものを示したが、鋭部外に出しても効果は同
様である。
また、上記実施例では、対象物をウェハ６としたか、こ
の他集積回路パターン焼付用のマスクでも同様に実施が
可能であり、同様に回折格子、カラーテレビ用シャドウ
マスクの観察にも利用できる。
の他集積回路パターン焼付用のマスクでも同様に実施が
可能であり、同様に回折格子、カラーテレビ用シャドウ
マスクの観察にも利用できる。
以上詳細に説明したよプに、この発明によれば照明系を
平行光線が一方向から対象物を照射するようにしたため
、パターン欠陥検出が容易となり、大面積の拡大観察が
可能となる。また、１（α明系中の照明ミラーの変更で
容易に構成でき、かつ従来の顕微鏡と併用できるので、
安価で効果の尚いパターン検査用暗視野顕微鏡が得られ
る利点を有する。
平行光線が一方向から対象物を照射するようにしたため
、パターン欠陥検出が容易となり、大面積の拡大観察が
可能となる。また、１（α明系中の照明ミラーの変更で
容易に構成でき、かつ従来の顕微鏡と併用できるので、
安価で効果の尚いパターン検査用暗視野顕微鏡が得られ
る利点を有する。
第１図は従来のパターン検査用暗視野顕微鏡の一例を示
す構成略図、第２図は第１図に用（・るスリットの正面
図、第３図はこの発明の一芙７／由例を示す構成略図、
第４図はＭ３図の実施例に用いるスリットの一例を示す
正面図、第５図は同じく照明ミラーと対物レンズとの配
置を示す平面図である。 図中、１は光源、２はコ／７″ンサレンズ、３゜３Ａは
スリット、４は中空ミラー、５はリング状コンデンザレ
ンズ、５Ａは照明ミラー、６はウェハ、１は観測点、８
は対物ｌ／−／ズ、９はブリスム、１０は接眼レンズ、
１１は目視位舊である。なお、図中の同一符号は同−又
は相箔部分を示す。 代理人 葛 野 信 −（外１名） 第１図 第２図 第４図 第５図 ｒ 手続補正書（自発） 特許庁長官殿 １ 事件の表示 持腐ｉ昭５７−１２０２１２号
２、・ 発明の名４６、 パターン検査用暗視
野顕微鏡３ 補正をする者 ５、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄１発明の詳細な説明の欄お
よび図面 ６、補正の内容 （１）明細書の特許請求の範囲を別紙のように補ｉＪ三
する。 （２）明細書第４頁９行の「コンデンサ」を、「コンデ
ンサレンズ」と補正する。 （３）図面の第１図を別紙のように補正する。 以 ト ２、特許請求の範囲 照明系により平行光線を対象物の観察点に照射し観測を
行う暗視野顕微鏡において、前記平行光線を反射し対象
物の観察点に照射するため、照射角度が可弯な１個又は
複数個のミラーを前記照明系中に設けたことを＃徴とす
るパターン検査用暗視野顕微鏡。
す構成略図、第２図は第１図に用（・るスリットの正面
図、第３図はこの発明の一芙７／由例を示す構成略図、
第４図はＭ３図の実施例に用いるスリットの一例を示す
正面図、第５図は同じく照明ミラーと対物レンズとの配
置を示す平面図である。 図中、１は光源、２はコ／７″ンサレンズ、３゜３Ａは
スリット、４は中空ミラー、５はリング状コンデンザレ
ンズ、５Ａは照明ミラー、６はウェハ、１は観測点、８
は対物ｌ／−／ズ、９はブリスム、１０は接眼レンズ、
１１は目視位舊である。なお、図中の同一符号は同−又
は相箔部分を示す。 代理人 葛 野 信 −（外１名） 第１図 第２図 第４図 第５図 ｒ 手続補正書（自発） 特許庁長官殿 １ 事件の表示 持腐ｉ昭５７−１２０２１２号
２、・ 発明の名４６、 パターン検査用暗視
野顕微鏡３ 補正をする者 ５、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄１発明の詳細な説明の欄お
よび図面 ６、補正の内容 （１）明細書の特許請求の範囲を別紙のように補ｉＪ三
する。 （２）明細書第４頁９行の「コンデンサ」を、「コンデ
ンサレンズ」と補正する。 （３）図面の第１図を別紙のように補正する。 以 ト ２、特許請求の範囲 照明系により平行光線を対象物の観察点に照射し観測を
行う暗視野顕微鏡において、前記平行光線を反射し対象
物の観察点に照射するため、照射角度が可弯な１個又は
複数個のミラーを前記照明系中に設けたことを＃徴とす
るパターン検査用暗視野顕微鏡。
Claims (1)
- 照明系によζノ平行元巌を対象物の観察点に照射し観測
を行う暗視野顕微鏡において、前記平行光線を反射し対
象物の観察点に照射するため、照射角度が可能な１個又
は複数個のミラーを前記照明系中に設けたことを特徴と
するパターン検査用暗視野Ｗ４微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12021282A JPS5910920A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | パタ−ン検査用暗視野顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12021282A JPS5910920A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | パタ−ン検査用暗視野顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5910920A true JPS5910920A (ja) | 1984-01-20 |
Family
ID=14780669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12021282A Pending JPS5910920A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | パタ−ン検査用暗視野顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5910920A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128730U (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-23 | ||
| WO2007054396A1 (de) * | 2005-10-05 | 2007-05-18 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Dunkelfeldobjektiv für ein mikroskop |
| JP2016519331A (ja) * | 2013-03-20 | 2016-06-30 | ライカ マイクロシステムズ ツェーエムエス ゲーエムベーハー | 顕微鏡試料の撮像および操作方法、ならびに光学配置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5256048U (ja) * | 1975-10-21 | 1977-04-22 |
-
1982
- 1982-07-09 JP JP12021282A patent/JPS5910920A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5256048U (ja) * | 1975-10-21 | 1977-04-22 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128730U (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-23 | ||
| JPH0541551Y2 (ja) * | 1987-02-16 | 1993-10-20 | ||
| WO2007054396A1 (de) * | 2005-10-05 | 2007-05-18 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Dunkelfeldobjektiv für ein mikroskop |
| JP2016519331A (ja) * | 2013-03-20 | 2016-06-30 | ライカ マイクロシステムズ ツェーエムエス ゲーエムベーハー | 顕微鏡試料の撮像および操作方法、ならびに光学配置 |
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