JPH1184658A - 輻射線感応性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水現像可能、或いは特別な処理を必要としな
い、特に赤外線レーザにて記録することによりディジタ
ルデータから直接製版可能な、耐刷性に優れた輻射線感
応性平版印刷版を提供すること。 【解決手段】 官能基ＸとＹとを同一分子内に有する
化合物と下記式（１）で表される化合物との反応生成
物、又は官能基Ｘを有する化合物及び下記式（１）で
表される化合物の重合反応物、を含有する感光層を有す
る輻射線感応性平版印刷版。｛・官能基Ｘ：スルホン酸
エステル、ジスルホン基、スルホンイミド基又はアルコ
キシアルキルエステル基から選ばれる基。・官能基Ｙ：
−ＯＨ、−ＮＨ₂ 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ₃ 、
−Ｓｉ（ＯＲ₄ ）₃ ［式中Ｒ₃ 、Ｒ₄はアルキル基又は
アリール基］から選ばれる基。・式（１）：（Ｒ₁ ）_n
−Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n ［式中Ｒ₁ 、Ｒ₂ はアルキル基又
はアリール基、ＸはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ又はＺｒ、ｎは０
〜２の整数］｝

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はポジ型の平版印刷用
原版として用いることができる輻射線感応性平版印刷版
に関する。その中でも、ディジタル信号に基づいて可視
光もしくは赤外線などの各種のレーザを操作することに
より直接製版可能であり、且つ水現像可能あるいは現像
することなしにそのまま印刷機に装着し、印刷すること
ができる輻射線感応性平版印刷版に関し、特に無処理刷
版製造に適した輻射線感応性の平版印刷版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＰＳ版による印刷版の製造には、
露光工程の後に、支持体表面の上に設けられた感光層を
画像状に除去するための湿式による現像工程や現像処理
された印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有
するリンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂
化液で処理する後処理工程が含まれる。

【０００３】一方近年の製版、印刷業界では現像廃液が
アルカリ性であるため環境問題が生じてきている。また
製版作業の合理化が進められており、上記のような複雑
な湿式現像処理を必要とせず、露光後にそのまま印刷に
使用できる印刷版用原版が望まれている。

【０００４】画像露光後に現像処理を必要としない印刷
版用原版については、例えば、ＵＳ５，２５８，２６３
号に、露光領域で硬化または不溶化が促進される感光性
親水層と感光性疎水層とを支持体上に積層した平版印刷
プレートが開示されている。しかし、このプレートは２
層構成のため上層と下層との接着力が問題となり、多く
の印刷物を刷ることができない。

【０００５】また画像形成後、湿式現像処理を必要とし
ない平版印刷原版として、シリコーン層と、その下層に
レーザ感熱層を設けた版材がＵＳ５，３５３，７０５
号、ＵＳ５、３７９、６９８号に開示されている。これ
らは湿式現像は必要としないが、レーザアブレージョン
によるシリコーン層の除去を完結させるための、こすり
や特殊なローラーによる処理が必要となり、処理が煩雑
になる欠点を持つ。

【０００６】ポリオレフィン類をスルホン化したフィル
ムを版材として用い、熱書き込みによって、表面の親水
性を変化させることにより、現像処理を必要としない版
材を形成することが、特開平５−７７５７４号、特開平
４−１２５１８９号、ＵＳ５，１８７，０４７号および
特開昭６２−１９５６４６号等に開示されている。この
システムでは、熱書き込みにより、感材表面のスルホン
基を脱スルホンさせ画像形成しており、現像処理は不要
になるが、書き込み時に有害なガスを発生させる欠点を
有する。

【０００７】ＵＳ５，１０２，７７１号、ＵＳ５，２２
５，３１６号には酸感受性基を側鎖にもつポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた感材が提示されており、無現像
システムが提案されている。この版材は発生する酸がカ
ルボン酸であるために、親水性の程度が低くなり汚れや
すく、版材の耐久性や印刷画像の鮮明さに劣る欠点を持
つ。特開平４−１２１７４８号にはスルホン酸エステル
基を側鎖にもつポリマーと酸発生剤と染料とを組み合わ
せた感材が提示されているが、このシステムもアルカリ
の現像液を用いて現像しており、水現像もしくは無現像
システムに関しては全く提案されてはいなかった。

【０００８】ポジ型無処理平版印刷用版材の製造に適し
た輻射線感応性の画像形成材料としては、特開平７−１
８６５６２号公報に記載されたものが公知であり、ま
た、本発明者らによる特願平９−２６８７８号や特願平
９−２６８７７号にも記載されている。これら公報およ
び明細書中には、特定のカルボン酸エステル、もしくは
スルホン酸エステル構造からなる加熱もしくは酸の作用
により疎水性から親水性に変化し得る官能基と、トリメ
トキシシリル基からなる加水分解重合性化合物と反応し
得る官能基と、を有する化合物が記載されている。これ
らの化合物を用いると、露光後現像処理なしでも印刷可
能であり、満足できる印刷物を得ることができるが、さ
らに耐刷性を向上させることが望まれていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、水現像可能な、あるいは画像書き込み後、湿式現像
処理やこすり等の特別な処理を必要としない輻射線感応
性平版印刷版を提供することである。特に、赤外線を放
射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用いて記録す
ることにより、ディジタルデータから直接製版可能であ
る輻射線感応性平版印刷版を提供することである。ま
た、本発明の他の目的は、耐刷性に優れたポジ型の輻射
線感応性平版印刷版を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。即ち、第１の本発明は、スルホン
酸エステル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはア
ルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１
つの官能基、および、−ＯＨ、−ＮＨ₂ 、−ＣＯＯＨ、
−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ₃ 、−Ｓｉ（ＯＲ₄）₃ ［式中Ｒ₃ お
よびＲ₄ はアルキル基またはアリール基を表し、これら
官能基を有する化合物中にＲ₃ およびＲ₄ の双方が存在
する場合には、これらは同じであっても異なっていても
よい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一
分子内に有する化合物と、下記一般式（１）で表される
加水分解重合性化合物との反応生成物を含有する感光層
を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷版であ
る。 ・一般式（１） （Ｒ₁ ）_n −Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
す。

【００１１】第１の本発明の輻射線感応性平版印刷版に
よれば、「上記一般式（１）で表される加水分解重合性
化合物」は、加水分解重合して無機酸化物のマトリック
スを塗布膜中に形成すると共に、「スルホン酸エステ
ル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシ
アルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能
基、および、−ＯＨ、−ＮＨ₂ 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−
ＣＯ−Ｒ₃ 、−Ｓｉ（ＯＲ₄ ）₃ ［式中Ｒ₃ およびＲ₄
はアルキル基またはアリール基を表し、これら官能基を
有する化合物中にＲ₃ およびＲ₄ の双方が存在する場合
には、これらは同じであっても異なっていてもよい。］
から選ばれる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に
有する化合物」（以下、「化合物Ａ」という場合があ
る。）の後者の官能基と反応し、有機無機複合体（反応
生成物）を形成し、架橋構造が密となり、全体として膜
強度が向上する。第１の本発明の輻射線感応性平版印刷
版は、所定の加熱手段による熱、あるいは所定の酸発生
手段による酸により、化合物Ａが画像様に親水性とな
り、画像形成後現像処理することなく印刷可能であり、
満足できる印刷物を得ることができると共に、耐刷性に
も優れたものとなる。

【００１２】また、第２の本発明は、スルホン酸エステ
ル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシ
アルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能
基を有する化合物と、下記一般式（１）で表される加水
分解重合性化合物の加水分解重合反応物と、を含有する
感光層を有することを特徴とする輻射線感応性平版印刷
版である。 ・一般式（１） （Ｒ₁ ）_n −Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
す。

【００１３】第２の本発明の輻射線感応性平版印刷版に
よれば、「上記一般式（１）で表される加水分解重合性
化合物」は、加水分解重合して無機酸化物のマトリック
ス（加水分解重合反応物）を塗布膜中に形成し、「スル
ホン酸エステル、ジスルホン基、スルホンイミド基また
はアルコキシアルキルエステル基から選ばれる少なくと
も１つの官能基を有する化合物」（以下、「化合物Ｂ」
という場合がある。）が前記マトリックス中に取り込ま
れ、分散した状態となり、全体として膜強度が向上す
る。第２の本発明の輻射線感応性平版印刷版は、所定の
加熱手段による熱、あるいは所定の酸発生手段による酸
により、「化合物Ｂ」が画像様に親水性となり、画像形
成後現像処理することなく印刷可能であり、満足できる
印刷物を得ることができると共に、耐刷性にも優れたも
のとなる。

【００１４】本発明（以下、単に「本発明」というとき
は、第１の本発明および第２の本発明の双方を指す。）
の輻射線感応性平版印刷版は、そのままで感熱記録が可
能なほか、光熱変換材料（赤外線吸収剤）と組み合わせ
て赤外線レーザー感応性感熱ポジ型無処理平版印刷用原
版として用いることができる。また、紫外光域から可視
光域に感光する酸発生剤と組み合わせて紫外光域−可視
光域感応性感熱ポジ型無処理平版印刷用原版として用い
ることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 ［化合物Ａ］第１の本発明に用いられる化合物Ａについ
て説明する。化合物Ａとは、スルホン酸エステル、ジス
ルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシアルキル
エステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基、およ
び、−ＯＨ、−ＮＨ₂ 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ
₃ 、−Ｓｉ（ＯＲ₄ ）₃ ［式中Ｒ₃ およびＲ₄ はアルキ
ル基またはアリール基を表し、これら官能基を有する化
合物中にＲ₃ およびＲ₄ の双方が存在する場合には、こ
れらは同じであっても異なっていてもよい。］から選ば
れる少なくとも１つの官能基、を同一分子内に有する化
合物である。まず、化合物Ａ中のスルホン酸エステル、
ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシアル
キルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基
（以下、「官能基Ｘ」という場合がある。）の具体例に
ついて詳細に説明する。

【００１６】スルホン酸エステル基は下記一般式
（２）、ジスルホン基は下記一般式（３）、およびスル
ホンイミド基は下記一般式（４）で表すことができる。

【００１７】

【化１】

【００１８】式中、Ｌは一般式（２）、（３）又は
（４）で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ¹ は
置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換
アルキル基又は環状イミド基を示し、Ｒ² 、Ｒ³ は置換
若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換ア
ルキル基を示し、Ｒ⁴ は置換若しくは無置換のアリール
基、置換若しくは無置換アルキル基又は−ＳＯ₂ −Ｒ⁵
を示し、Ｒ⁵ は置換若しくは無置換のアリール基又は置
換若しくは無置換アルキル基を示す。

【００１９】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ がアリール基若しくは置換アリ
ール基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリール
基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含まれる。炭素環
式アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アン
トラセニル基、ピレニル基等の炭素数６から１９のもの
が用いられる。また、複素環式アリール基としては、ピ
リジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノ
リル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾ
ール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含む
ものが用いられる。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ がアルキル基若しくは置
換アルキル基を表わすとき、当該アルキル基としてはメ
チル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シ
クロヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素
数１から２５までのものが用いられる。

【００２０】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ が置換アリール基、置換ヘテロ
アリール基、置換アルキル基であるとき、置換基として
はメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜１０までのア
ルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基
のようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカ
ルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキシカルボニル基等
の炭素数２から１５までのアルコキシカルボニル基若し
くはアリールオキシカルボニル基；水酸基；アセチルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジフェニルアミノベ
ンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；ｔ−ブチルオキ
シカルボニルオキシ基等のカルボネート基；ｔ−ブチル
オキシカルボニルメチルオキシ基、２−ピラニルオキシ
基等のエーテル基；アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフ
ェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等
の置換、非置換のアミノ基；メチルチオ基、フェニルチ
オ基等のチオエーテル基；ビニル基、スチリル基等のア
ルケニル基；ニトロ基；シアノ基；ホルミル基、アセチ
ル基、ベンゾイル基等のアシル基；フェニル基、ナフチ
ル基のようなアリール基；ピリジル基のようなヘテロア
リール基等を挙げることができる。またＲ¹〜Ｒ⁵ が置
換アリール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換
基として前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル
基を用いることができる。

【００２１】Ｒ¹ が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子４〜２０までのものを用いることが
できる。

【００２２】上記のうちＲ¹ として特に好ましいもの
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、２級若しくは３級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドで
ある。また、上記のうちＲ² 〜Ｒ⁵ として特に好ましい
ものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で
置換されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の
電子吸引性基で置換されたアルキル基、及び２級若しく
は３級の分岐状のアルキル基である。

【００２３】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。

【００２４】

【化２】

【００２５】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６
から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。

【００２６】アルコキシアルキルエステル基は、下記一
般式（５）で表すことができる。

【００２７】

【化３】

【００２８】式中Ｒ¹ は水素原子を表し、Ｒ² は水素原
子または炭素数１８個以下のアルキル基を表し、Ｒ³ は
炭素数１８個以下のアルキル基を表す。また、Ｒ¹ 、Ｒ
² およびＲ³ の内の２つが結合して間を形成してもよ
い。特に、Ｒ² およびＲ³ が結合して５または６員環を
形成することが好ましい。

【００２９】第１の本発明においては、官能基Ｘとして
以上の一般式（２）〜（５）で表されるものが挙げられ
るが、特に好ましくは一般式（２）で表されるスルホン
酸エステル基である。

【００３０】第１の本発明における化合物Ａの合成に好
適に使用される、一般式（２）〜（５）で表される官能
基を有するモノマーの具体例を以下に示す。

【００３１】

【化４】

【００３２】

【化５】

【００３３】

【化６】

【００３４】

【化７】

【００３５】

【化８】

【００３６】官能基Ｘは、化合物Ａを加熱もしくは酸の
作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するもの
である。特に、官能基Ｘは、化合物Ａの空中水滴接触角
を１５°以上低下させるものであることが好ましい。即
ち、化合物Ａとしては、空中における水滴の接触角が、
加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下して、当初
は疎水性であったものが親水性になるようなものである
ことが好ましい。さらに、化合物Ａとしては、この空中
水滴接触角が、４０°以上低下する化合物であることが
好ましい。また、化合物Ａとしては、具体的には空中水
滴接触角が、当初６０°以上であったものが、加熱もし
くは酸の作用により２０°以下まで低下する化合物であ
ることが好ましい。

【００３７】次に、化合物Ａ中の−ＯＨ、−ＮＨ₂ 、−
ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ₃ 、−Ｓｉ（ＯＲ₄ ）
₃ ［式中Ｒ₃ およびＲ₄ はアルキル基またはアリール基
を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ₃ およびＲ
₄ の双方が存在する場合には、これらは同じであっても
異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの
官能基（以下、「官能基Ｙ」という場合がある。）の具
体例について詳細に説明する。官能基Ｙが−ＮＨ−ＣＯ
−Ｒ₃ および／または−Ｓｉ（ＯＲ₄ ）₃ であるとき、
Ｒ₃ およびＲ₄ としては、好ましくは、炭素数１〜１０
のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基であ
り、これらはクロル等のハロゲン、メトキシ基等のアル
コキシ基、メトキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基等により置換されていてもよい。−ＮＨ−ＣＯ−
Ｒ₃ の具体例としては、−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ₃ 、−ＮＨ
−ＣＯ−Ｃ₂ Ｈ₅ 等を挙げることができる。また、−Ｓ
ｉ（ＯＲ₄）₃ の具体例としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ₃ ）
₃ 、−Ｓｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₃ 等を挙げることができる。

【００３８】第１の本発明に用いられる化合物Ａとして
は、好ましくは一般式（２）〜（５）で表される官能基
を有するモノマーの内、少なくともいずれか一つと、前
述の官能基Ｙを有するモノマーとをラジカル重合するこ
とにより得られる高分子化合物を使用する。このような
化合物Ａとして、一般式（２）〜（５）で表される官能
基を有するモノマーの内一種のみと、前述の官能基Ｂを
有するモノマーの内一種のみと、を用いた共重合体を使
用してもよいが、両モノマーとも、あるいはどちらか一
方のモノマーについて、２種以上を用いた共重合体やこ
れらのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用して
もよい。

【００３９】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、２−イソ
シアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有する
モノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる他の
モノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マ
レイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。

【００４０】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。

【００４１】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

【００４２】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００４３】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００４４】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。

【００４５】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。

【００４６】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アク
リル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。

【００４７】共重合体の合成に使用される一般式（２）
〜（５）で表される官能基を有するモノマーと、官能基
Ｙを有するモノマーと、の混合割合としては、重量比で
１０：９０〜９９：１とすることが好ましく、３０：７
０〜９７：３とすることがより好ましい。また、他のモ
ノマーとの共重合体とする場合には、共重合体の合成に
使用される一般式（２）〜（５）で表される官能基を有
するモノマーおよび官能基Ｙを有するモノマーの合計に
対する他のモノマーの割合は、５〜９９重量％であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５重量％であ
る。

【００４８】以下に、第１の本発明に用いられる化合物
Ａの具体例を示す。なお、化学式中カッコの右下の数値
は共重合割合を示す。

【００４９】

【化９】

【００５０】

【化１０】

【００５１】

【化１１】

【００５２】［加水分解重合性化合物］本発明において
用いられる加水分解重合性化合物は、下記一般式（１）
で表される化合物である。 ・一般式（１） （Ｒ₁ ）_n −Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
す。Ｒ₁ またはＲ₂ がアルキル基を表す場合に、炭素数
としては好ましくは１〜４である。また、アルキル基ま
たはアリール基は置換基を有していてもよい。なお、こ
の化合物は低分子化合物であり分子量１０００以下であ
ることが好ましい。

【００５３】加水分解重合性化合物中にアルミニウムを
含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネー
ト、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミ
ネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることが
できる。チタンを含むものとしては、例えば、トリメト
キシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエト
キシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、
クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチ
タネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリ
エトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、
フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキ
シチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを
含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対
応するジルコネートを挙げることができる。

【００５４】加水分解重合性化合物中にケイ素を含むも
のとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン等を挙げることができる。これらの内
特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン等を挙げることができる。

【００５５】加水分解重合性化合物は、１種のみを使用
しても、２種以上を併用してもよい。また部分的に加水
分解後、脱水縮合していてもよい。なお、生成物の物性
を調整するために、必要に応じてトリアルキルモノアル
コキシシランを添加することができる。加水分解重合性
化合物は、本発明の画像形成材料中で無機相を構成する
化合物であるが、平版印刷用原版の基板に塗布する前の
画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高める
ために、該加水分解重合性化合物が部分加水分解重合し
た無機重合体の活性金属水酸基、例えば、シラノール基
（Ｓｉ−ＯＨ）を保護することが有効である。シラノー
ル基の保護は、ｔ−ブタノール、ｉ−プロピルアルコー
ル等の高級アルコールでシラノール基をエステル化（Ｓ
ｉ−ＯＲ）することにより達成することができる。具体
的には無機相に前記高級アルコールを添加することによ
り実施することができる。このとき無機相の性質によ
り、例えば、無機相を加熱して脱離した水を留去する等
の手段により無機相を脱水することにより保存安定性を
さらに向上させることができる。該加水分解重合の触媒
となり得る酸または塩基、例えば塩酸、アンモニア等が
無機相中に存在する場合には、これらの濃度を下げると
も一般的に有効である。これらは無機相を酸または塩基
により中和することにより容易に実施することができ
る。

【００５６】第１の本発明において、上記加水分解重合
性化合物は輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に
対し、３〜９５重量％の範囲で使用することが好まし
く、より好ましくは１０〜８０重量％の範囲である。一
方、第２の本発明において、上記加水分解重合性化合物
は輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に対し、５
〜９５重量％の範囲で使用することが好ましく、より好
ましくは２０〜８０重量％の範囲である。

【００５７】［化合物Ｂ］第２の本発明に用いられる化
合物Ｂについて説明する。化合物Ｂとは、「スルホン酸
エステル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアル
コキシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つ
の官能基」、即ち、前記第１の本発明に用いられる化合
物Ａにおける官能基Ｘ（第２の本発明においても同様に
単に「官能基Ｘ」という。）、を有する化合物である。
化合物Ｂにおけるこの官能基Ｘは、上記化合物Ａにおい
て説明したものと同様のものである。また、官能基Ｘ
は、化合物Ｂを加熱もしくは酸の作用により疎水性から
親水性へ変える働きを有するものであることも化合物Ａ
の場合と同様であり、空中水滴接触角に関する考え方も
同様である。

【００５８】このような化合物Ｂとしては、好ましく
は、前記一般式（２）〜（５）で表される官能基を有す
るモノマーの内、少なくともいずれか一つをラジカル重
合することにより得られる高分子化合物を使用する。か
かる高分子化合物として、一般式（２）〜（５）で表さ
れる官能基を有するモノマーの内一種のみを用いた単独
重合体を使用してもよいが、２種以上を用いた共重合体
やこれらのモノマーと他のモノマーとの共重合体を使用
してもよい。他のモノマーとしては、前記第１の本発明
に用いられる化合物Ａにおいて説明したものと同様であ
る。共重合体の合成に使用される一般式（２）〜（５）
で表される官能基を有するモノマーの割合は、モノマー
全体に対して５〜９９重量％であることが好ましく、さ
らに好ましくは１０〜９５重量％である。

【００５９】以下に、第２の本発明に用いられる化合物
Ｂの具体例を示す。

【００６０】

【化１２】

【００６１】［酸発生手段］本発明の輻射線感応性平版
印刷版において、画像様に酸を発生させて前記化合物Ａ
もしくは化合物Ｂを反応させるには、酸発生手段として
酸発生剤を添加することが望ましい。但し、前記化合物
Ａもしくは化合物Ｂはそれ自身熱により酸を発生し、酸
発生剤としての機能を発揮することもあり、かかる場合
には特に他の酸発生剤を併用しなくても画像を形成する
ことができるため、酸発生剤は必須ではない。本発明に
おいては、酸発生剤として、光または熱の作用により酸
を発生させる公知の化合物を選択して用いることができ
る。

【００６２】たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６
９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１
４０，１４０号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker
etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,T
eh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)
、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，
０５６号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello eta
l,Macromolecules,10(6),1307(1977) 、Chem.&Eng.New
s,Nov.28,p31(1988) 、欧州特許第１０４，１４３号、
米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、
特開平２−１５０，８４８号、特開平２−２９６，５１
４号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello etal,Po
lymer J.17,73(1985) 、J.V.Crivello etal.J.Org.Che
m.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.Polymer Sci.,Pol
ymer Chem.Ed.,22,1789(1984) 、J.V.Crivello etal,Po
lymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello etal,Macrom
olecules,14(5),1141(1981) 、J.V.Crivello etal,J.Po
lymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979) 、欧州特
許第３７０，６９３号、米国特許３，９０２，１１４
号、欧州特許第２３３，５６７号、同２９７，４４３
号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７
７号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同
４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同
２，８３３，８２７号、獨国特許第２，９０４，６２６
号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号
等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macrom
olecules,10(6),1307(1977) 、J.V.Crivello etal,J.Po
lymer Sci.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.C
uring ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988) 等に記載のアルソニ
ウム塩等のオニウム塩、

【００６３】米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭
４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭
５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特
開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et
al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inor
g.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19
(12),377(1896) 、特開平２−１６１４４５号等に記載
の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayase etal,J.Poly
mer Sci.,25,753(1987)、 E.Reichmanis etal,J.Pholyme
r Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、 Q.Q.Zhu etal,
J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、 B.Amit etal,Tetra
hedron Lett.,(24)2205(1973)、 D.H.R.Barton etal,J.C
hem Soc.,3571(1965)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,
PerkinI,1695(1975)、 M.Rudinstein etal,Tetrahedron
Lett.,(17),1445(1975)、 J.W.Walker etal,J.Am.Chem.S
oc.,110,7170(1988)、 S.C.Busman etal,J.Imaging Tech
nol.,11(4),191(1985)、 H.M.Houlihan etal,Macormolec
ules,21,2001(1988)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,C
hem.Commun.,532(1972)、 S.Hayase etal,Macromolecule
s,18,1799(1985)、 E.Reichmanis etal,J.Electrochem.S
oc.,Solid StateSci.Technol.,130(6)、 F.M.Houlihan e
tal,Macromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許第０２９
０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５
号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米
国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１
号、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３
０２２号等に記載のｏ−ニトロベンジル型保護基を有す
る光酸発生剤、M.TUNOOKA etal,Polymer Preprints Jap
an,35(8)、 G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mi
js etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、 H.
Adachi etal,PolymerPreprints,Japan,37(3)、欧州特許
第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６
７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、
米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０
５号、同４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４
３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１
０９号等に記載のイミノスルフォネート等に代表される
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−
１６６５４４号等に記載のジスルホン化合物、特開昭５
０−３６２０９号（米国特許第３９６９１１８号）記載
のｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライ
ド、特開昭５５−６２４４４号（英国特許第２０３８８
０１号）記載あるいは特公平１−１１９３５号記載のｏ
−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることができる。

【００６４】その他の酸発生剤としては、シクロヘキシ
ルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特願平９−２６８７８号
に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸エス
テル等を用いることができる。

【００６５】

【化１３】

【００６６】上記光、熱または放射線の照射により分解
して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられる
ものについて以下に説明する。 （１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ
１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡ
Ｇ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。

【００６７】

【化１４】

【００６８】式中、Ｒ¹ は置換もしくは未置換のアリー
ル基、アルケニル基、Ｒ² は置換もしくは未置換のアリ
ール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ₃ を示す。
Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。具体的には以下の
化合物を挙げることができるがこれらに限定されるもの
ではない。

【００６９】

【化１５】

【００７０】

【化１６】

【００７１】（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表され
るヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表され
るスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。

【００７２】

【化１７】

【００７３】ここで式Ａｒ¹ 、Ａｒ² は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基と
しては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカ
プト基およびハロゲン原子が挙げられる。

【００７４】Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は各々独立に、置換もし
くは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましく
は炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキ
ル基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基
としては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコ
キシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボ
キシル基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子であり、ア
ルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基である。

【００７５】Ｚ^- は対アニオンを示し、例えば ＢＦ₄
^- 、ＡｓＦ₆ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＳｂＦ ₆ ^- 、ＳｉＦ₆ ^2-、
ＣｌＯ₄ ^- 、ＣＦ₃ ＳＯ₃ ^- 等のパーフルオロアルカン
スルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン
酸アニオン、ナフタレン−１−スルホン酸アニオン等の
結合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラキノンス
ルホン酸アニオン、スルホン酸基含有染料等を挙げるこ
とができるがこれらに限定されるものではない。

【００７６】またＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ のうちの２つおよび
Ａｒ¹ 、Ａｒ² はそれぞれの単結合または置換基を介し
て結合してもよい。

【００７７】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００７８】

【化１８】

【００７９】

【化１９】

【００８０】一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、たとえばJ. W. Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969) 、A.
L. Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532, (1970)、
B. Goethas etal, Bull. Soc.Chem. Belg., 73, 546,
(1964) 、H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51,3
587(1929) 、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. E
d., 18, 2677(1980)、米国特許第２，８０７，６４８号
および同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１，
３３１号等に記載の方法により合成することができる。

【００８１】（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表される
ジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表される
イミノスルホネート誘導体。

【００８２】

【化２０】

【００８３】式中Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。Ｒ ⁶ は置換もしくは未
置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もしく
は未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン
基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。

【００８４】

【化２１】

【００８５】

【化２２】

【００８６】これらの酸発生剤の含有量は、輻射線感応
性平版印刷版の感光層全固形分に対して通常０．１〜３
０重量％、より好ましくは１〜１５重量％である。１％
より少ないと感度が低くなり、１５％より多いと画像強
度が落ちる可能性がある。

【００８７】［赤外線吸収剤］本発明の輻射線感応性平
版印刷版を赤外線照射により画像を形成する平版印刷用
原版として用いる場合には、輻射線感応性平版印刷版の
感光層中に赤外線吸収剤を添加する。本発明において好
ましく使用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから
１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料または顔料
である。より好ましくは、波長７６０ｎｍから１２００
ｎｍに吸収極大を有する染料または顔料である。染料と
しては、市販の染料および文献（例えば「染料便覧」有
機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている
公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属
錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染
料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイ
ミン染料、メチン染料、シアニン染料、金属チオレート
錯体などの染料が挙げられる。好ましい染料としては例
えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３
５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７
８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５
８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特
開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染
料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４
７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７
３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−
６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特
開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリ
リウム色素、英国特許第４３４，８７５号記載のシアニ
ン染料等を挙げることができる。

【００８８】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。

【００８９】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。

【００９０】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【００９１】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光性組成物の塗布液中での安
定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると塗
布後の画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載がある。

【００９２】これらの染料もしくは顔料は、輻射線感応
性平版印刷版の感光層の組成物全固形分に対し０．０１
〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、染料の
場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔料の場合特
に好ましくは１．０〜１０重量％の割合で添加すること
ができる。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％
未満であると感度が低くなり、また５０重量％を越える
と印刷時非画像部に汚れが発生しやすい。

【００９３】［その他の成分］本発明では、以上の成分
が必要に応じて用いられるが、さらに必要に応じてこれ
ら以外に種々の化合物を添加しても良い。例えば、酸発
生剤が可視域にまで感度を持たない場合、可視光域の光
に対して酸発生剤を活性にするために種々の酸発生剤の
増感色素が用いられる。このような増感色素の例として
はＵＳ５２３８７８２記載のピラン系色素、ＵＳ４９９
７７４５号記載のシアニン色素、およびスクアリュウム
系色素、ＵＳ５２６２２７６記載のメロシアニン系色
素、特公平８−２０７３２号記載のピリリュウム色素、
その他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマ
リン色素、９−フェニルアクリジンなどを有効なものと
して用いることができる。またそのほかにもＵＳ４９８
７２３０記載のビスベンジリデンケトン色素、９，１０
−ジフェニルアントラセンのような多環芳香族化合物な
どを用いることができる。そのほかの成分としては例え
ば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤と
して使用することができる。具体的にはオイルイエロー
＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３
１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイ
ルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラッ
クＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化
学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタ
ルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミ
ンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ
Ｉ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）な
ど、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平
７−３３５１４５号に記載されている染料を挙げること
ができる。尚、添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感
光層全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合であ
る。

【００９４】また、本発明の輻射線感応性平版印刷版の
感光層中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、
特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５
１４号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３
１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を
添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例として
は、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポ
リアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カ
ルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウ
ムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型
（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等
が挙げられる。上記非イオン界面活性剤および両性界面
活性剤の画像形成材料全固形物中に占める割合は、０．
０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜
５重量％である。

【００９５】更に本発明の輻射線感応性平版印刷版の感
光層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するため
に可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が
用いられる。

【００９６】本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより製造することができる。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは
混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む
全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％であ
る。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固
形分）は、一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好まし
い。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。

【００９７】本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層
中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特
開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているような
フッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい
添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に
対し、０．０１〜１重量％さらに好ましくは０．０５〜
０．５重量％である。

【００９８】本発明の画像形成材料を塗布すべき平版印
刷用原版に使用される支持体（基板）は、寸度的に安定
な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用され
たものが含まれ、好適に使用することができる。かかる
支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネー
トされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含
む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロー
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
スチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアセタールなどのようなプラスチックスのフィル
ム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特
にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純ア
ルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アル
ミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばけ
い素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、
鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合
金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およ
びチタン、あるいはその他無視し得る程度の量の不純物
をも含むものである。

【００９９】支持体は、必要に応じて表面処理、例え
ば、支持体の表面に、親水化処理が施される。また金
属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合に
は、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カ
リウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極
酸化処理などの表面処理がなされていることが好まし
い。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記
載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，
１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミ
ニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸
塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上
記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼
酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機
酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二
種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極
として電流を流すことにより実施される。

【０１００】また、米国特許第３，６５８，６６２号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害
な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に
施されるものである。アルミニウム板を砂目立てするに
先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及
び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の
前処理を施しても良い。前者のためには、トリクレン等
の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のため
には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・
エッチング剤を用いる方法が広く行われている。

【０１０１】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍ
となるような範囲で施されることが好ましい。このよう
にして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水
洗および化学的にエッチングされる。

【０１０２】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜が形成されてしまうため好ましくない。
これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間１分あたり０．３〜４０ｇ／ｍ² になる様に行わ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。

【０１０３】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５
〜１０ｇ／ｍ² の範囲となるように処理されることが好
ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速
度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが
望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デ
スマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうフッ
化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミ
ニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極
酸化は、この分野で従来より行われている方法で行うこ
とができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそ
れらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中で
アルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミ
ニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることがで
きる。

【０１０４】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概には言えないが、一般的に
は電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電
流密度０．５〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１００Ｖ、
電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。これらの
陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，
７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で
陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１
号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化
する方法が好ましい。上記のように粗面化され、さらに
陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化
処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第
２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に
開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えば
珪酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６３号
公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよ
び米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されて
いるようなポリビニルホスホン酸で処理する方法があ
る。

【０１０５】有機下塗層；本発明の輻射線感応性平版印
刷版は、感光層を塗設する前に有機下塗層を設けること
が非画像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる
有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カ
ルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガ
ム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホ
ン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリ
セロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレン
ジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有しても
よいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸
およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選
ばれ、これらを単独で用いるほか、二種以上混合して用
いてもよい。

【０１０６】その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などの
構造単位を有する高分子化合物を用いることができる。

【０１０７】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましく
は２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、
好ましくは２秒〜１分である。

【０１０８】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷用原版の調子再現性改良のために黄色染料を添加
することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２
〜２００mg／ｍ² が適当であり、好ましくは５〜１００
mg／ｍ² である。上記の被覆量が２mg／ｍ² より少ない
と十分な耐刷性能が得られない。また、２００mg／ｍ²
より大きくても同様である。

【０１０９】バックコート；支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子
化合物および特開平６−３５１７４号公報記載の有機ま
たは無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得ら
れる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣＨ₃)₄ 、Ｓi(ＯＣ₂ Ｈ
₅)₄ 、Ｓi(ＯＣ₃ Ｈ₇) ₄ 、Ｓi(ＯＣ₄ Ｈ₉)₄ などの珪素
のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得ら
れる金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好ま
しい。

【０１１０】以上のようにして、本発明の輻射線感応性
平版印刷版を作製することができる。この輻射線感応性
平版印刷版は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像
様に感熱記録を施されたり、あるいは、波長７６０ｎｍ
〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザーまたは
半導体レーザーにより画像露光される。本発明において
は、感熱記録後またはレーザー照射後に水現像し、さら
に必要であればガム引きを行ったのち、印刷機に版を装
着し印刷を行う、あるいは、感熱記録後またはレーザー
照射後ただちに印刷機に版を装着し印刷を行っても良い
が、ともに感熱記録後またはレーザー照射後に加熱処理
を行うことが好ましい。加熱処理の条件は、８０℃〜１
５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。
この加熱処理により、感熱記録時またはレーザー照射
時、記録に必要な熱またはレーザーエネルギーを減少さ
せることができる。

【０１１１】この様な処理によって得られた平版印刷版
は水現像されるかあるいはそのままオフセット印刷機等
にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１１２】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例１および２、比較例１および２ ［支持体の作製］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に
９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に２％ＨＮ
Ｏ₃に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表
面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であった。次にこの板
を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ
² で２. ４ｇ／ｍ² の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水
洗乾燥した。

【０１１３】［画像形成材料の塗布液の調製］テトラエ
トキシシラン４ｇとメチルエチルケトン１０ｇを反応容
器に入れた後、１．４ｇの０．０５Ｎ塩酸を添加し３０
分間激しく攪拌し、部分加水分解重合させて均一溶液の
無機成分を得た。この溶液に下記成分を加え溶解し、実
施例１および２用の塗布液Ａ−１およびＡ−２を得た。
このとき、塗布液Ａ−１では前記（１−１）の化合物
を、塗布液Ａ−２では前記（１−２）の化合物をそれぞ
れ用いて調製した。 ・前記（１−１）または（１−２）の化合物 ３ ｇ ・赤外線吸収剤ＩＲ１２５（和光純薬製） ０．１５ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ ・γ−ブチロラクトン ６ ｇ さらに、比較例として、テトラエトキシシランと塩酸を
添加しなかったこと以外は実施例１および２用の塗布液
Ａ−１およびＡ−２と同様にして比較例１および２用の
塗布液Ｂ−１およびＢ−２を得た。

【０１１４】［平版印刷用原版の作製］次に得られた画
像形成材料の塗布液Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１およびＢ−
２を上記支持体上に塗布し、８０℃で３分間乾燥して平
版印刷用原版［Ａ−１］、［Ａ−２］、［Ｂ−１］およ
び［Ｂ−２］を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々
１．０ｇ／ｍ² であった。なお、各平版印刷用原版の露
光前後の空中水滴接触角の値を下記表１に示す。この空
中水滴接触角は、協和界面化学（株）製ＣＯＮＴＡＣＴ
ＡＮＧＬＥ ＭＥＴＥＲ ＣＡ−Ｚを用いて測定し
た。

【０１１５】［印刷試験］得られた平版印刷用原版［Ａ
−１］、［Ａ−２］、［Ｂ−１］および［Ｂ−２］を、
波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧレーザーで像
様露光した。露光後の平版印刷用原版［Ａ−１］、［Ａ
−２］、［Ｂ−１］および［Ｂ−２］をそのままハイデ
ルＳＯＲ−Ｍで印刷した。この際、印刷物の非画像部に
汚れが発生しているかどうかを観察した。いずれも初期
においては非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られ
た。また、多数枚の印刷を行い、非画像部に汚れが発生
することなく印刷することができた印刷物の枚数を確認
し、これを耐刷枚数とした。得られた結果を下記表１に
示す。

【０１１６】

【表１】

【０１１７】実施例３〜８、比較例３および４ ・前記（１−３）〜（１−８）の各化合物 ３ ｇ ・テトラエトキシシラン １ ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ 上記組成からなる溶液中に、水／８５％リン酸（１／１
重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で１時間反応さ
せた。次にこの溶液に ・赤外線吸収剤ＩＲ１２５（和光純薬製） ０．１５ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ ・γ−ブチロラクトン ６ ｇ を添加し、攪拌混合して、均一な実施例３〜８用の塗布
液Ａ−３〜Ａ−８を得た。このとき、塗布液Ａ−３では
前記（１−３）の化合物を、同様に塗布液Ａ−４〜Ａ−
８では前記（１−４）〜（１−８）の化合物をそれぞれ
用いて調製した。さらに、比較例として、テトラエトキ
シシランを添加しなかったこと以外は実施例３および４
用の塗布液Ａ−３およびＡ−４と同様にして比較例３お
よび４用の塗布液Ｂ−３およびＢ−４を得た。

【０１１８】得られた各塗布液を、実施例１で得られた
支持体と同じ支持体に、実施例１と同様の方法でそれぞ
れ塗布して、平版印刷用原版［Ａ−３］〜［Ａ−８］、
［Ｂ−３］および［Ｂ−４］を得た。乾燥後の塗膜の被
覆重量は各々１．４ｇ／ｍ²であった。なお、各平版印
刷用原版の露光前後の空中水滴接触角の値を下記表２に
示す。この空中水滴接触角の測定装置は、実施例１と同
様である。得られた平版印刷用原版［Ａ−３］〜［Ａ−
８］、［Ｂ−３］および［Ｂ−４］について、実施例１
と同様の方法で印刷試験を行った。得られた結果を下記
表２に示す。

【０１１９】

【表２】

【０１２０】実施例９〜１０ ・前記（１−９）または（１−１０）の化合物 ３ ｇ ・テトラメトキシシラン １ ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ 上記組成からなる溶液中に、水／８５％リン酸（１／１
重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で１時間反応さ
せた。次にこの溶液に ・酸発生剤：４−［４−｛（Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）｝ −２−クロロ−フェニル］−２，６−ビス−トリクロ ロメチル−Ｓ−トリアジン（ＰＡＧ２−５） ０．１５ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ ・γ−ブチロラクトン ６ ｇ を添加し、攪拌混合して、均一な実施例９および１０用
の塗布液Ａ−９〜Ａ−１０を得た。このとき、塗布液Ａ
−９では前記（１−９）の化合物を、同様に塗布液Ａ−
１０では前記（１−１０）の化合物をそれぞれ用いて調
製した。なお、上記酸発生剤ＰＡＧ２−５は以下の方法
により合成した。

【０１２１】［酸発生剤ＰＡＧ２−５の合成法］Ｎ，Ｎ
−ｂｉｓ（２−ｃｈｌｏｒｏｅｔｈｙｌ）−３−ｃｈｌ
ｏｒｏ−４−ｃｙａｎｏａｎｉｌｉｎｅ５５．５２ｇ
（０．２ｍｏｌ）、トリクロロアセトニトリル１７３．
２８ｇ（１．２ｍｏｌ）、アニソール２１．６３ｇ
（０．２ｍｏｌ）およびジブロモメタン１００ｍｌを三
口フラスコに入れ、攪拌しながら三臭化アルミニウム１
３．３４ｇ（０．０５ｍｏｌ）を添加した。次に内温を
４３〜４６℃に保ち、塩酸ガスを注入した。同温度に保
ちながら塩酸ガスの注入を４時間続けた後、トリクロロ
アセトニトリル１７３．２８ｇ（１．２ｍｏｌ）および
三臭化アルミニウム１３．３４ｇ（０．０５ｍｏｌ）を
添加し、塩酸ガスの注入を８時間続けた。その後、塩酸
ガスの注入をやめ、内温４３〜４６℃で９時間攪拌後、
攪拌をやめ２４時間放置した。放置後、減圧にて溶媒を
留去し、反応物を酢酸エチル２リットルを用いて抽出し
た。抽出液を１リットルの水で３回水洗いをした後、減
圧にて濃縮した。次に該濃縮液にエタノール１０００ｍ
ｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍｌを加え、
４時間攪拌した。生じた結晶を濾取し、水２５０ｍｌ、
エタノール５００ｍｌを用いてかけ洗いを行った後、乾
燥した（収量７１ｇ、収率６３％）。

【０１２２】得られた塗布液Ａ−９およびＡ−１０を、
実施例１で得られた支持体と同じ支持体に、実施例１と
同様の方法でそれぞれ塗布して、平版印刷用原版［Ａ−
９］および［Ａ−１０］を得た。乾燥後の塗膜の被覆重
量は各々１．０ｇ／ｍ² であった。なお、各平版印刷用
原版の露光前後の空中水滴接触角の値を下記表３に示
す。この空中水滴接触角の測定装置は、実施例１と同様
である。得られた平版印刷用原版［Ａ−９］および［Ａ
−１０］を、メタルハライドランプを光源とするＰＳ版
の露光機を用いて像様に紫外線露光した。露光後の平版
印刷用原版［Ａ−９］および［Ａ−１０］を１００℃３
分間加熱処理した後、実施例１と同様の方法で多数枚の
印刷および評価を行った。得られた結果を下記表３に示
す。

【０１２３】

【表３】

【０１２４】

【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、水現像可
能な、あるいは画像書き込み後、湿式現像処理やこすり
等の特別な処理を必要としない、輻射線感応性平版印刷
版を提供することができる。特に、本発明によれば、赤
外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用い
て記録することにより、ディジタルデータから直接製版
可能である輻射線感応性平版印刷版を提供することがで
きる。また、本発明によれば、耐刷性に優れたポジ型の
輻射線感応性平版印刷版を提供することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スルホン酸エステル、ジスルホン基、ス
   ルホンイミド基またはアルコキシアルキルエステル基か
   ら選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、
   −ＮＨ₂ 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ₃ 、−Ｓｉ
   （ＯＲ₄ ）₃ ［式中Ｒ₃ およびＲ₄ はアルキル基または
   アリール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ
   ₃ およびＲ₄ の双方が存在する場合には、これらは同じ
   であっても異なっていてもよい。］から選ばれる少なく
   とも１つの官能基、を同一分子内に有する化合物と、下
   記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物との反
   応生成物を含有する感光層を有することを特徴とする輻
   射線感応性平版印刷版。 ・一般式（１） （Ｒ₁ ）_n −Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は同一であっても異なっていても
   よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
   Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
   す。
2. 【請求項２】 スルホン酸エステル、ジスルホン基、ス
   ルホンイミド基またはアルコキシアルキルエステル基か
   ら選ばれる少なくとも１つの官能基を有する化合物と、
   下記一般式（１）で表される加水分解重合性化合物の加
   水分解重合反応物と、を含有する感光層を有することを
   特徴とする輻射線感応性平版印刷版。 ・一般式（１） （Ｒ₁ ）_n −Ｘ−（ＯＲ₂ ）_4-n 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は同一であっても異なっていても
   よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
   Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
   す。