JPH11329241A - ランプ用管体の洗浄方法 - Google Patents
ランプ用管体の洗浄方法Info
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- JPH11329241A JPH11329241A JP12320498A JP12320498A JPH11329241A JP H11329241 A JPH11329241 A JP H11329241A JP 12320498 A JP12320498 A JP 12320498A JP 12320498 A JP12320498 A JP 12320498A JP H11329241 A JPH11329241 A JP H11329241A
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- JP
- Japan
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- lamp tube
- cleaning
- cleaning method
- tube bodies
- plasma discharge
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランプ管体の洗浄の洗浄が、容易で、かつラ
ンプ用管体の表面の白やけの発生を防止し、ミクロな石
英粉、繊維くず、金属くずおよび油脂成分等を除去す
る。 【解決手段】 真空ポンプ１が接続された容器２内のラ
ンプ用管体置台５上にランプ用管体６を載置する。次
に、容器２内にＣＦ4ガスおよびＮ2ガスを流し込む。そ
して、高周波電源７によって陽極電極板３と陰極電極板
４との間に電圧を印加して、陽極電極板３と陰極電極板
４との間にプラズマ放電を起こさせ、その放電中でラン
プ用管体６をプラズマ放電洗浄する。
ンプ用管体の表面の白やけの発生を防止し、ミクロな石
英粉、繊維くず、金属くずおよび油脂成分等を除去す
る。 【解決手段】 真空ポンプ１が接続された容器２内のラ
ンプ用管体置台５上にランプ用管体６を載置する。次
に、容器２内にＣＦ4ガスおよびＮ2ガスを流し込む。そ
して、高周波電源７によって陽極電極板３と陰極電極板
４との間に電圧を印加して、陽極電極板３と陰極電極板
４との間にプラズマ放電を起こさせ、その放電中でラン
プ用管体６をプラズマ放電洗浄する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般照明用、店舗
照明用等に幅広く使用されるランプ用管体の洗浄方法に
関する。
照明用等に幅広く使用されるランプ用管体の洗浄方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、石英ガラス（組成は１００％に近
いＳｉＯ2 ）、ほう珪酸ガラス等からなるランプ用管体
の洗浄方法に関しては、フッ酸水溶液を用いた浸漬洗浄
方法（特開昭５４−５６２７０号公報）や超音波洗浄方
法が知られている。
いＳｉＯ2 ）、ほう珪酸ガラス等からなるランプ用管体
の洗浄方法に関しては、フッ酸水溶液を用いた浸漬洗浄
方法（特開昭５４−５６２７０号公報）や超音波洗浄方
法が知られている。
【０００３】また、フッ酸水溶液の代わりにアルカリ系
洗剤、有機溶媒系洗剤なども用いられる。
洗剤、有機溶媒系洗剤なども用いられる。
【０００４】さらに、ドライエッチング方法の一つであ
るプラズマ放電装置を用いたプラズマ放電洗浄の方法
は、四フッ化炭素（ＣＦ4）と酸素（Ｏ2）とを含むガス
によるプラズマ放電中でランプ用管体を洗浄している。
るプラズマ放電装置を用いたプラズマ放電洗浄の方法
は、四フッ化炭素（ＣＦ4）と酸素（Ｏ2）とを含むガス
によるプラズマ放電中でランプ用管体を洗浄している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の洗浄方法では次のような問題があった。すなわち、
フッ酸水溶液を用いる洗浄方法では、フッ酸水溶液が強
酸であるために人体に有害であり、そのためにフッ酸水
溶液使用時には防具を必要とするなど取扱いが難しく、
また廃液が環境に有害となるために廃液処理を必要とす
る。また、アルカリ系洗剤、有機溶媒系洗剤などを用い
る洗浄方法では、フッ酸水溶液を用いた場合よりも取扱
いが容易であるが、洗浄力、特に、ガラス管体の製造工
程で発生するミクロな石英粉（粒径１００μm以下）を
除去する洗浄力に欠けるため、フッ酸水溶液を用いる方
法の代替とは成り難い。さらに、ＣＦ4とＯ2を含むガス
によるプラズマ放電を用いる洗浄方法では、ランプ用管
体の表面が白濁する現象（白やけ）が発生し、ランプ用
管体としての透明性が低下するという問題がある。
来の洗浄方法では次のような問題があった。すなわち、
フッ酸水溶液を用いる洗浄方法では、フッ酸水溶液が強
酸であるために人体に有害であり、そのためにフッ酸水
溶液使用時には防具を必要とするなど取扱いが難しく、
また廃液が環境に有害となるために廃液処理を必要とす
る。また、アルカリ系洗剤、有機溶媒系洗剤などを用い
る洗浄方法では、フッ酸水溶液を用いた場合よりも取扱
いが容易であるが、洗浄力、特に、ガラス管体の製造工
程で発生するミクロな石英粉（粒径１００μm以下）を
除去する洗浄力に欠けるため、フッ酸水溶液を用いる方
法の代替とは成り難い。さらに、ＣＦ4とＯ2を含むガス
によるプラズマ放電を用いる洗浄方法では、ランプ用管
体の表面が白濁する現象（白やけ）が発生し、ランプ用
管体としての透明性が低下するという問題がある。
【０００６】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、フッ酸水溶液を用いる洗浄方法に比べ
て洗浄力が低下せず、かつ取扱いが容易で、またアルカ
リ系洗剤、有機溶媒系洗剤などを用いる洗浄方法に比べ
てミクロな石英粉を除去でき、さらにＣＦ4とＯ2を含む
ガスによるプラズマ放電を用いる洗浄方法に比べてラン
プ用管体としての透明性が低下しない洗浄処理ができる
ランプ用管体の洗浄方法を提供するものである。
なされたもので、フッ酸水溶液を用いる洗浄方法に比べ
て洗浄力が低下せず、かつ取扱いが容易で、またアルカ
リ系洗剤、有機溶媒系洗剤などを用いる洗浄方法に比べ
てミクロな石英粉を除去でき、さらにＣＦ4とＯ2を含む
ガスによるプラズマ放電を用いる洗浄方法に比べてラン
プ用管体としての透明性が低下しない洗浄処理ができる
ランプ用管体の洗浄方法を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のランプ用管体の
洗浄方法は、ランプ用管体表面をＣＦ4とＮ2とを含むガ
スによるプラズマ放電によって洗浄する工程を含む構成
を有している。
洗浄方法は、ランプ用管体表面をＣＦ4とＮ2とを含むガ
スによるプラズマ放電によって洗浄する工程を含む構成
を有している。
【０００８】この構成により、ミクロな石英粉等をラン
プ管体表面から洗浄除去でき、ランプ管体表面の白やけ
の発生を防止できる。
プ管体表面から洗浄除去でき、ランプ管体表面の白やけ
の発生を防止できる。
【０００９】また、本発明のランプ用管体の洗浄方法
は、前記ランプ用管体表面をアルカリ系洗剤を用いて、
洗浄する工程をさらに含む構成を有している。
は、前記ランプ用管体表面をアルカリ系洗剤を用いて、
洗浄する工程をさらに含む構成を有している。
【００１０】この構成により、請求項１記載の洗浄方法
では除去できない繊維くず、金属くずおよび油脂成分等
を除去できる。
では除去できない繊維くず、金属くずおよび油脂成分等
を除去できる。
【００１１】さらに、本発明のランプ用管体の洗浄方法
は、相対向する陽極平板と陰極平板との間に前記ランプ
用管体を配し、前記陽極平板と前記陰極平板との間に電
圧を印加してプラズマ放電を起こさせ、このプラズマ放
電中で前記ランプ用管体を洗浄する構成を有している。
は、相対向する陽極平板と陰極平板との間に前記ランプ
用管体を配し、前記陽極平板と前記陰極平板との間に電
圧を印加してプラズマ放電を起こさせ、このプラズマ放
電中で前記ランプ用管体を洗浄する構成を有している。
【００１２】この構成により、量産に優れたランプ用管
体の洗浄方法を得ることができる。
体の洗浄方法を得ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を用いて説明する。
て、図面を用いて説明する。
【００１４】本発明の第１の実施の形態のランプ用管体
の洗浄方法を実施する装置は、図１に示すように、真空
ポンプ１が接続された容器２内に陽極電極板３と陰極電
極板４とが互いに平行に複数段配置されている。また、
各々の陽極電極板３と陰極電極板４との間にはランプ用
管体置台５が設置され、その上に複数の細長い円筒状の
ランプ用管体６が載置されている。陽極電極板３には高
周波電源（１３．５６MHz）７が接続されている。ま
た、容器２には四フッ化炭素（ＣＦ4）ガスボンベ８と
窒素（Ｎ2）ガスボンベ９がつながれており、ＣＦ4とＮ
2とが容器２に供給できるようになっている。
の洗浄方法を実施する装置は、図１に示すように、真空
ポンプ１が接続された容器２内に陽極電極板３と陰極電
極板４とが互いに平行に複数段配置されている。また、
各々の陽極電極板３と陰極電極板４との間にはランプ用
管体置台５が設置され、その上に複数の細長い円筒状の
ランプ用管体６が載置されている。陽極電極板３には高
周波電源（１３．５６MHz）７が接続されている。ま
た、容器２には四フッ化炭素（ＣＦ4）ガスボンベ８と
窒素（Ｎ2）ガスボンベ９がつながれており、ＣＦ4とＮ
2とが容器２に供給できるようになっている。
【００１５】次に、このランプ用管体の洗浄方法を説明
する。まず、ランプ用管体置台５上にランプ用管体６を
載置する。次に、容器２内にＣＦ4ガスを１００ｓｃｃ
ｍ、Ｎ2ガスを３００ｓｃｃｍ流し込む。容器２内の圧
力は０．８Ｔｏｒｒに設定した。そして、高周波電源７
によって陽極電極板３と陰極電極板４との間に高周波電
力が８００Ｗとなるように電圧を印加して、陽極電極板
３と陰極電極板４との間にプラズマ放電を起こさせ、そ
の放電中でランプ用管体６を１０分間プラズマ放電洗浄
した。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、洗
浄後のランプ用管体６の表面の白やけの発生程度と、石
英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残
りの程度を表１に示す。
する。まず、ランプ用管体置台５上にランプ用管体６を
載置する。次に、容器２内にＣＦ4ガスを１００ｓｃｃ
ｍ、Ｎ2ガスを３００ｓｃｃｍ流し込む。容器２内の圧
力は０．８Ｔｏｒｒに設定した。そして、高周波電源７
によって陽極電極板３と陰極電極板４との間に高周波電
力が８００Ｗとなるように電圧を印加して、陽極電極板
３と陰極電極板４との間にプラズマ放電を起こさせ、そ
の放電中でランプ用管体６を１０分間プラズマ放電洗浄
した。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、洗
浄後のランプ用管体６の表面の白やけの発生程度と、石
英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残
りの程度を表１に示す。
【００１６】
【表１】
【００１７】なお、上記実施の形態では、陽極電極板３
と陰極電極板４とが複数段ある場合を説明したが、１段
であってもよく、また陽極電極板３の位置と陰極電極板
４の位置とは逆であってもよい。
と陰極電極板４とが複数段ある場合を説明したが、１段
であってもよく、また陽極電極板３の位置と陰極電極板
４の位置とは逆であってもよい。
【００１８】なお、ランプ用管体６が洗浄された後、ラ
ンプ用管体６の表面に赤外多層反射膜等が成膜される。
ンプ用管体６の表面に赤外多層反射膜等が成膜される。
【００１９】本発明の第２の実施の形態のランプ用管体
の洗浄方法は、まず、従来の洗浄方法によりランプ用管
体６を弱アルカリ系洗剤（商品名Siliron-L、ヘンケル
日本（株））の３％希釈水溶液中に浸漬し、２８kHz、
６００Ｗの条件で超音波を５分間印加して超音波洗浄を
した。次に、ランプ用管体６を５分間水洗いし、それを
３回行ってランプ用管体６に付着した洗剤をすすぎ落と
した。濡れたランプ用管体６を乾燥機で２０分間乾燥さ
せた。弱アルカリ系洗剤で洗浄されたランプ用管体６を
上記第１の実施の形態と同様、プラズマ放電洗浄を行っ
た。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、洗浄
後のランプ用管体６の表面の白やけの発生程度と、石英
粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残り
の程度を表１に示す。
の洗浄方法は、まず、従来の洗浄方法によりランプ用管
体６を弱アルカリ系洗剤（商品名Siliron-L、ヘンケル
日本（株））の３％希釈水溶液中に浸漬し、２８kHz、
６００Ｗの条件で超音波を５分間印加して超音波洗浄を
した。次に、ランプ用管体６を５分間水洗いし、それを
３回行ってランプ用管体６に付着した洗剤をすすぎ落と
した。濡れたランプ用管体６を乾燥機で２０分間乾燥さ
せた。弱アルカリ系洗剤で洗浄されたランプ用管体６を
上記第１の実施の形態と同様、プラズマ放電洗浄を行っ
た。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、洗浄
後のランプ用管体６の表面の白やけの発生程度と、石英
粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残り
の程度を表１に示す。
【００２０】なお、本発明の第１の実施の形態のプラズ
マ洗浄方法を用いた後、アルカリ系洗剤を用いた洗浄を
行ってもよい。
マ洗浄方法を用いた後、アルカリ系洗剤を用いた洗浄を
行ってもよい。
【００２１】なお、本発明の第２の実施の形態の洗浄方
法では、超音波洗浄を用いたが、これに限らず、浸漬洗
浄、高圧ジェット洗浄もしくは機械的こすり洗浄を用い
てもよい。
法では、超音波洗浄を用いたが、これに限らず、浸漬洗
浄、高圧ジェット洗浄もしくは機械的こすり洗浄を用い
てもよい。
【００２２】なお、ランプ用管体６が洗浄された後、ラ
ンプ用管体６の表面に赤外多層反射膜等が成膜される。
ンプ用管体６の表面に赤外多層反射膜等が成膜される。
【００２３】比較のため、従来の洗浄方法として、本発
明の実施の形態に用いたものと同一構成のランプ用管体
をフッ化水素１０％水溶液に５分間浸漬洗浄した。次
に、ランプ用管体を５分間水洗いし、それを３回行って
ランプ用管体についたフッ化水素１０％水溶液をすすぎ
落とした。濡れたランプ用管体を乾燥機で２０分間乾燥
させた。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、
洗浄後のランプ用管体の表面の白やけの発生程度と、石
英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残
りの程度を表１に示す。
明の実施の形態に用いたものと同一構成のランプ用管体
をフッ化水素１０％水溶液に５分間浸漬洗浄した。次
に、ランプ用管体を５分間水洗いし、それを３回行って
ランプ用管体についたフッ化水素１０％水溶液をすすぎ
落とした。濡れたランプ用管体を乾燥機で２０分間乾燥
させた。この洗浄方法による洗浄結果を評価するため、
洗浄後のランプ用管体の表面の白やけの発生程度と、石
英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残
りの程度を表１に示す。
【００２４】さらに、別の従来の洗浄方法として、図１
に示す構造の洗浄装置を用いて、ＣＦ4とＯ2を含むガス
によるプラズマ放電中で本発明の実施の形態に用いたも
のと同一構成のランプ用管体を洗浄した。ただし、本発
明の第１の実施の形態のプラズマ洗浄方法に準じた方法
であり、異なる点はＣＦ4ガス流量を300sccm、Ｏ2ガス
流量を100sccmとし、プラズマ放電洗浄の時間を３分間
で行ったことである。この洗浄方法による洗浄結果を評
価するため、洗浄後のランプ用管体の表面の白やけの発
生程度と、石英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成
分等の洗浄残りの程度を表１に示す。
に示す構造の洗浄装置を用いて、ＣＦ4とＯ2を含むガス
によるプラズマ放電中で本発明の実施の形態に用いたも
のと同一構成のランプ用管体を洗浄した。ただし、本発
明の第１の実施の形態のプラズマ洗浄方法に準じた方法
であり、異なる点はＣＦ4ガス流量を300sccm、Ｏ2ガス
流量を100sccmとし、プラズマ放電洗浄の時間を３分間
で行ったことである。この洗浄方法による洗浄結果を評
価するため、洗浄後のランプ用管体の表面の白やけの発
生程度と、石英粉、繊維くず、金属くず、および油脂成
分等の洗浄残りの程度を表１に示す。
【００２５】表１に示すように、従来の洗浄方法のラン
プ用管体のフッ化水素１０％水溶液による浸漬洗浄で
は、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残り
が僅かにあることがわかる。また、ＣＦ4とＯ2を含むガ
スによるプラズマ放電中でランプ用管体を洗浄する場合
は、ランプ用管体表面に白やけが発生し、しかもランプ
用管体６の製造工程で発生するミクロな石英粉（粒径１
００μm以下）等や、繊維くず、金属くずおよび油脂成
分等の洗浄残りがあることがわかる。一方、本発明の第
１の実施の形態の洗浄方法のＣＦ4とＮ2とを含むガスに
よるプラズマ放電中でガラス用管体６を洗浄する場合
は、白やけの発生やミクロな石英粉（粒径１００μm以
下）等は全くなく、繊維くず、金属くずおよび油脂成分
等の洗浄残りも実用上、支障のない程度に極僅かに残っ
ているだけであることがわかる。さらに、洗浄品質を高
めるためには、本発明の第２の実施の形態の洗浄方法の
ように予備洗浄として、アルカリ系洗剤による超音波洗
浄を用いれば洗浄残りもすべて除去できることがわか
る。ただし、ランプ用管体６の汚染状態によってはこの
アルカリ系洗剤による超音波洗浄の予備洗浄の必要はな
い。
プ用管体のフッ化水素１０％水溶液による浸漬洗浄で
は、繊維くず、金属くず、および油脂成分等の洗浄残り
が僅かにあることがわかる。また、ＣＦ4とＯ2を含むガ
スによるプラズマ放電中でランプ用管体を洗浄する場合
は、ランプ用管体表面に白やけが発生し、しかもランプ
用管体６の製造工程で発生するミクロな石英粉（粒径１
００μm以下）等や、繊維くず、金属くずおよび油脂成
分等の洗浄残りがあることがわかる。一方、本発明の第
１の実施の形態の洗浄方法のＣＦ4とＮ2とを含むガスに
よるプラズマ放電中でガラス用管体６を洗浄する場合
は、白やけの発生やミクロな石英粉（粒径１００μm以
下）等は全くなく、繊維くず、金属くずおよび油脂成分
等の洗浄残りも実用上、支障のない程度に極僅かに残っ
ているだけであることがわかる。さらに、洗浄品質を高
めるためには、本発明の第２の実施の形態の洗浄方法の
ように予備洗浄として、アルカリ系洗剤による超音波洗
浄を用いれば洗浄残りもすべて除去できることがわか
る。ただし、ランプ用管体６の汚染状態によってはこの
アルカリ系洗剤による超音波洗浄の予備洗浄の必要はな
い。
【００２６】さらに、従来の洗浄方法としてフッ化水素
酸水溶液を用いる場合、取り扱いが難しく、廃液処理対
策の手間がかかる。一方、本発明の第１の実施の形態の
洗浄方法によれば、容易でかつ高品質な洗浄ができる。
酸水溶液を用いる場合、取り扱いが難しく、廃液処理対
策の手間がかかる。一方、本発明の第１の実施の形態の
洗浄方法によれば、容易でかつ高品質な洗浄ができる。
【００２７】なお、本発明の実施の形態では、ランプ用
管体６として石英ガラスを用いたが、ほう珪酸ガラス等
の他のガラスを用いた場合でも上記と同様の効果が得ら
れる。
管体６として石英ガラスを用いたが、ほう珪酸ガラス等
の他のガラスを用いた場合でも上記と同様の効果が得ら
れる。
【００２８】また、プラズマ放電に用いるガスとしては
ＣＦ4成分を１０〜５０体積％、残部をＮ2成分とするこ
とが好ましい。その理由は、ＣＦ4成分が１０体積％未
満では、洗浄力が低下し、ＣＦ4成分５０体積％を越え
ると、洗浄力が強すぎて白やけが発生しやすくなるから
である。
ＣＦ4成分を１０〜５０体積％、残部をＮ2成分とするこ
とが好ましい。その理由は、ＣＦ4成分が１０体積％未
満では、洗浄力が低下し、ＣＦ4成分５０体積％を越え
ると、洗浄力が強すぎて白やけが発生しやすくなるから
である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ランプ
用管体表面をＣＦ4とＮ2を含むガスによるプラズマ放電
中で洗浄するという工程を有することにより、取り扱い
が容易で高品質な洗浄を実現できるランプ用管体の洗浄
方法を提供することができるものである。
用管体表面をＣＦ4とＮ2を含むガスによるプラズマ放電
中で洗浄するという工程を有することにより、取り扱い
が容易で高品質な洗浄を実現できるランプ用管体の洗浄
方法を提供することができるものである。
【図１】本発明の実施の形態のランプ用管体の洗浄方法
を実施するための洗浄装置の断面図
を実施するための洗浄装置の断面図
３ 陽極電極板 ４ 陰極電極板 ６ ランプ用管体
Claims (4)
- 【請求項１】 ランプ用管体表面を四フッ化炭素（ＣＦ
4）と窒素（Ｎ2）とを含むガスによるプラズマ放電によ
って洗浄する工程を含むことを特徴とするランプ用管体
の洗浄方法。 - 【請求項２】 前記ガスは、ＣＦ4１０〜５０体積％、
残部Ｎ2からなることを特徴とする請求項１記載のラン
プ用管体の洗浄方法。 - 【請求項３】 前記ランプ用管体表面をアルカリ系洗剤
を用いて、洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする
請求項１記載のランプ用管体の洗浄方法。 - 【請求項４】 相対向する陽極平板と陰極平板との間に
前記ランプ用管体を配し、前記陽極平板と前記陰極平板
との間に電圧を印加してプラズマ放電を起こさせ、この
プラズマ放電中で前記ランプ用管体を洗浄することを特
徴とする請求項１記載のランプ用管体の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12320498A JPH11329241A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | ランプ用管体の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12320498A JPH11329241A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | ランプ用管体の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11329241A true JPH11329241A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=14854783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12320498A Pending JPH11329241A (ja) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | ランプ用管体の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11329241A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1024001A2 (en) | 1999-01-29 | 2000-08-02 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head and method of producing a plate member for an ink jet recording head |
| WO2005096337A1 (de) * | 2004-03-24 | 2005-10-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum plasmareinigen eines werkstücks und zu dessen durchführung geeignete vorrichtung |
| KR100529912B1 (ko) * | 2003-07-30 | 2005-11-22 | 엘지전자 주식회사 | 브라운관 세정장치 및 그 세정방법 |
| KR100732347B1 (ko) | 2005-09-27 | 2007-06-27 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | Ｅｅｆｌ용 형광램프 제조방법 |
| JP2009149488A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-07-09 | Schott Ag | 蛍光ランプに使用するランプ用ガラス管の洗浄方法 |
| CN102082052A (zh) * | 2010-12-30 | 2011-06-01 | 广东泰卓光电科技股份有限公司 | 无极灯抽气机 |
-
1998
- 1998-05-06 JP JP12320498A patent/JPH11329241A/ja active Pending
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