JPH11282363A - Filter for plasma display panel - Google Patents
Filter for plasma display panelInfo
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- JPH11282363A JPH11282363A JP10079964A JP7996498A JPH11282363A JP H11282363 A JPH11282363 A JP H11282363A JP 10079964 A JP10079964 A JP 10079964A JP 7996498 A JP7996498 A JP 7996498A JP H11282363 A JPH11282363 A JP H11282363A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル用フィルターに関し、更に詳細には例えばプラ
ズマディスプレイパネルの前面に取り付けて使用するフ
ィルターに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter for a plasma display panel, and more particularly, to a filter used by being attached to, for example, a front surface of a plasma display panel.
【0002】[0002]
【従来の技術】軽量且つ薄型でありながら輝度が高く、
しかも大画面が得られるプラズマディスプレイパネル
(以下、PDPと称する)は、すでによく知られてい
る。このPDPについて簡単にその構造を説明すると、
この種のPDPは、間隔をあけて配置された前面ガラス
基板と後面ガラス基板(以下、管と称する)のその間隔
部内に多数のセルを形成すると共にその管内にキセノン
ガスを封入し、前面ガラス基板の内面に形成した誘電体
層及び保護層の表面で面放電を起こしてキセノンガス分
子を励起し、紫外線を発生させてセル内の蛍光体を発光
させる構造となっている。2. Description of the Related Art Light and thin, high brightness,
Moreover, a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP) capable of obtaining a large screen is already well known. Briefly describing the structure of this PDP,
In this type of PDP, a large number of cells are formed in a space between a front glass substrate and a rear glass substrate (hereinafter, referred to as a tube) arranged at an interval, and xenon gas is sealed in the tube to form a front glass substrate. A surface discharge is generated on the surfaces of the dielectric layer and the protective layer formed on the inner surface of the substrate to excite xenon gas molecules, and ultraviolet rays are generated to cause the phosphor in the cell to emit light.
【0003】管内にキセノンガスを封入したこの種のP
DPにおいては、蛍光体を発光させるために発生させる
紫外線と共に近赤外線及び電磁波も発生し、その一部が
管外へ放出する。そのため、従来のPDPの前面には近
赤外線カット(吸収)性能、電磁波シールド性能、傷付
き防止性能、反射防止性能などを備えたフィルターが取
り付けられていた。[0003] This kind of P in which xenon gas is sealed in a tube
In the DP, near-infrared rays and electromagnetic waves are generated together with ultraviolet rays generated to emit light from the phosphor, and a part thereof is emitted outside the tube. Therefore, a filter having near-infrared ray cut (absorption) performance, electromagnetic wave shielding performance, anti-scratch performance, anti-reflection performance, and the like is attached to the front surface of a conventional PDP.
【0004】ところで、このような近赤外線吸収層や電
磁波シールド層を備えるPDP用フィルターは、一般的
に、次のように構成されている。すなわち、基材である
ポリエチレンフィルムに電磁波シールド層として銀蒸着
膜が形成され、その銀蒸着膜の上に近赤外線吸収剤をコ
ーティングして近赤外線吸収層が形成されている。銀蒸
着膜からなる電磁波シールド層の表面において、近赤外
線吸収層の周囲には、導電性塗料(接着剤)が塗布さ
れ、導電性接着剤層が形成されている。このように構成
されたフィルムは、通常、機能性フィルムと呼ばれてい
る。A PDP filter having such a near-infrared absorbing layer and an electromagnetic wave shielding layer is generally constructed as follows. That is, a silver vapor-deposited film is formed as an electromagnetic wave shielding layer on a polyethylene film as a base material, and a near-infrared absorbing layer is formed by coating a near-infrared absorbing agent on the silver vapor-deposited film. A conductive paint (adhesive) is applied around the near-infrared absorbing layer on the surface of the electromagnetic wave shield layer made of the silver vapor-deposited film to form a conductive adhesive layer. The film configured in this way is usually called a functional film.
【0005】この機能性フィルムは、基板であるポリカ
ーボネート樹脂板の表面に貼り付けられる。この基板の
全周囲には、導電テープが予め額縁状即ち基板の外周縁
部を、表面側から側面を介して裏面側に至る断面コ字状
に覆い、それが全周に亘るように設けられている。従っ
て機能性フィルムを基板に貼り合わせると、導電性塗料
は基板周囲に設けられた導電テープ上に重なって接着
し、その結果、導電テープは導電性塗料を介して電磁波
シールド層と電気的導通状態となる。[0005] This functional film is attached to the surface of a polycarbonate resin plate as a substrate. A conductive tape is provided on the entire periphery of the substrate in advance so as to cover the frame shape, that is, the outer peripheral portion of the substrate in a U-shaped cross section from the front surface side to the rear surface side via the side surface. ing. Therefore, when the functional film is attached to the substrate, the conductive paint overlaps and adheres to the conductive tape provided around the substrate, and as a result, the conductive tape is in an electrically conductive state with the electromagnetic wave shielding layer via the conductive paint. Becomes
【0006】必要に応じてこの機能性フィルム付き基板
の両面には、反射防止層が形成され、更に外周囲に電極
となる銅箔テープを取り付け、前述した導電テープと部
分的に重ねて相互の電気的導通をとり、これにより最終
的にPDP用フィルターが構成(完成)される。If necessary, an antireflection layer is formed on both sides of the substrate with the functional film, and a copper foil tape serving as an electrode is attached to the outer periphery. An electrical connection is established, whereby a PDP filter is finally formed (completed).
【0007】このPDP用フィルターは、PDPの前面
側周囲に設けられたフレームによりPDPの前面に取り
付けられる。その際、このフレームに構成された外部ア
ース用端子にPDPフィルターの銅箔テープが接触し、
その結果電磁波シールド層はアースされ、その機能を発
揮することになる。This PDP filter is attached to the front of the PDP by a frame provided around the front of the PDP. At this time, the copper foil tape of the PDP filter comes into contact with the external ground terminal configured on this frame,
As a result, the electromagnetic wave shielding layer is grounded and performs its function.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基材で
あるポリエチレンフィルム表面上の電磁波シールド層上
に形成された近赤外線吸収剤層の周囲に導電性塗料(接
着剤)を塗布すると、導電性塗料に含まれている溶剤が
隣接する近赤外線吸収層を浸食し、その部分を透過する
プラズマディスプレイパネルからの光が色ムラとなる、
という問題があった。However, when a conductive paint (adhesive) is applied around the near-infrared absorbing layer formed on the electromagnetic wave shielding layer on the surface of the polyethylene film as the base material, the conductive paint is applied. The solvent contained in the near-infrared absorbing layer erodes the adjacent, and the light from the plasma display panel that passes through the portion becomes color unevenness,
There was a problem.
【0009】本発明の目的は、かかる従来の問題点を解
決するためになされたもので、電磁波シールド層の表面
において近赤外線吸収層の周囲に導電性接着剤を配置す
る時、導電性接着剤に含まれる溶剤による近赤外線吸収
層への浸食作用を防止することにより近赤外線吸収層の
周囲部付近を透過するプラズマディスプレイパネルから
の光が色ムラとなって現れるのを防止し、全体的に鮮明
なカラー画像を得ることのできるプラズマディスプレイ
パネル用フィルターを提供することにある。An object of the present invention is to solve such a conventional problem. When the conductive adhesive is disposed around the near-infrared absorbing layer on the surface of the electromagnetic wave shielding layer, the conductive adhesive is used. Prevents the erosion of the near-infrared absorbing layer by the solvent contained in the near-infrared absorbing layer, thereby preventing the light from the plasma display panel passing around the periphery of the near-infrared absorbing layer from appearing as color unevenness, and overall An object of the present invention is to provide a filter for a plasma display panel capable of obtaining a clear color image.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明はプラズマディス
プレイパネル用フィルターであり、前述の技術的課題を
解決するために以下のような構成とされている。すなわ
ち、本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に取
り付けられるフィルターであって、基材となる樹脂フィ
ルムと、この樹脂フィルムの一方の面に形成された電磁
波シールド層と、この電磁波シールド層における周囲領
域を除いた表面上に形成された近赤外線吸収層と、電磁
波シールド層の表面周囲領域における近赤外線吸収層非
形成領域に、前記近赤外線吸収層との間に空間部を設け
て形成された導電性接着剤層とを含み、この導電性接着
剤層と近赤外線吸収層との空間部を大気に連通すべくこ
の空間部に沿って、前記支持フィルムを含む積層体に複
数の残溶剤抜き穴を形成したことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a filter for a plasma display panel, and has the following structure to solve the above-mentioned technical problems. That is, the present invention relates to a filter attached to the front surface of a plasma display panel, wherein a resin film serving as a base material, an electromagnetic wave shielding layer formed on one surface of the resin film, and a surrounding area in the electromagnetic wave shielding layer A near-infrared absorbing layer formed on the surface excluding the above, and a conductive portion formed by providing a space between the near-infrared absorbing layer and the near-infrared absorbing layer non-forming region in a region around the surface of the electromagnetic wave shielding layer. A conductive adhesive layer, and a plurality of residual solvent drain holes in the laminate including the support film along the space to communicate the space between the conductive adhesive layer and the near-infrared absorbing layer to the atmosphere. Is formed.
【0011】<本発明における付加的構成>本発明のプ
ラズマディスプレイパネル用フィルターは、前述した必
須の構成要素からなるが、その構成要素に更に以下のよ
うな構成を加えた場合であっても成立する。その付加的
構成要素とは、前記近赤外線吸収層とその周囲に形成さ
れた導電性接着剤層とが基板に貼り合わされ、導電性接
着剤層が位置する基板表面の周囲領域において基板と導
電性接着剤層との間に配置され、外部アース用端子に導
電性接着剤層を電気的に導通させる導電材を少なくとも
備え、電磁波シールド層が導電性接着剤層及び導電材を
介して外部アース用端子に電気的に接続される構造とさ
れていることを特徴とする。<Additional Configuration in the Present Invention> The filter for a plasma display panel of the present invention includes the above-mentioned essential components, but is established even when the following configuration is further added to the components. I do. The additional component is that the near-infrared absorbing layer and a conductive adhesive layer formed around the near-infrared absorbing layer are bonded to a substrate, and the conductive adhesive layer is formed in a peripheral region of the substrate surface where the conductive adhesive layer is located. An external ground terminal, at least a conductive material that electrically connects the conductive adhesive layer to the external ground terminal, and the electromagnetic wave shielding layer is connected to the external ground terminal through the conductive adhesive layer and the conductive material. It is characterized by having a structure electrically connected to the terminal.
【0012】<本発明における具体的構成>本発明のプ
ラズマディスプレイパネル用フィルターは、前述した必
須の構成要素からなるが、その構成要素が具体的に以下
のような場合であっても成立する。その具体的構成要素
とは、導電材が少なくとも基板の側面にまで及んで設け
られていることを特徴とする。<Specific Configuration in the Present Invention> The filter for a plasma display panel of the present invention is composed of the above-mentioned essential components, but is established even when the components are specifically as follows. The specific component is characterized in that the conductive material is provided at least to the side surface of the substrate.
【0013】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用フィルターは、前記支持フィルム表面に形成された
前記電磁波シールド層上に前記近赤外線吸収層及びその
周囲に存する前記導電性接着剤層が配置され、更にこれ
ら近赤外線吸収層及び前記導電性接着剤層の表面に、外
周に導電材が設けられた基板が順次に積層されてなるフ
ィルター本体の周囲縁部を包囲するように電極が設けら
れ、この電極が前記導電材と積層して電気的に導通し、
この電極が外部アース用端子に電気的に接続される構造
とされていることを特徴とする。[0013] In the filter for a plasma display panel of the present invention, the near-infrared absorbing layer and the conductive adhesive layer existing therearound are arranged on the electromagnetic wave shielding layer formed on the surface of the supporting film. Electrodes are provided on the surfaces of the near-infrared absorbing layer and the conductive adhesive layer so as to surround a peripheral edge of a filter body in which substrates provided with a conductive material on the outer periphery are sequentially laminated. Are electrically conductive by lamination with the conductive material,
The electrode is characterized in that it is electrically connected to an external ground terminal.
【0014】更に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用フィルターでは、電磁波シールド層が樹脂フィルム
内表面に蒸着によって形成された銀蒸着膜で構成されて
いることが好ましく、更にまた導電材及び電極が金属箔
テープから構成されていることも特徴とすることができ
る。Further, in the plasma display panel filter of the present invention, it is preferable that the electromagnetic wave shielding layer is formed of a silver vapor-deposited film formed on the inner surface of the resin film by vapor deposition. It can also be characterized by being composed of a tape.
【0015】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターによると、基材となる樹脂フィルムの一方の面
に形成された電磁波シールド層の表面上に近赤外線吸収
層とその表面周囲領域における近赤外線吸収層非形成領
域とが設けられ、次いでこの近赤外線吸収層非形成領域
に導電性接着剤層が近赤外線吸収層と間隔をあけて設け
られる。そして、この間隔部即ち空間部を大気に連通す
べく支持フィルムとその表面に形成された電磁波シール
ド層からなる積層体に、空間部に沿って複数の残溶剤抜
き穴が形成される。According to the filter for a plasma display panel of the present invention, the near-infrared absorbing layer and the near-infrared absorbing layer in the area around the surface are formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer formed on one surface of the resin film as the base material. A formation region is provided, and then a conductive adhesive layer is provided in the region where the near-infrared absorbing layer is not formed, at a distance from the near-infrared absorbing layer. Then, a plurality of residual solvent drain holes are formed along the space in the laminated body composed of the support film and the electromagnetic wave shielding layer formed on the surface of the support so as to communicate the space, that is, the space with the atmosphere.
【0016】導電性接着剤に含まれる溶剤は、導電性接
着剤が硬化する間にこれら残溶剤抜き穴から発散し、隣
接する近赤外線吸収層への浸食が防止される。その結
果、近赤外線吸収剤層の外周囲部付近を透過するプラズ
マディスプレイパネルからの光は色ムラとなって現れる
ことはなく、全体的に鮮明なカラー画像を得ることがで
きる。The solvent contained in the conductive adhesive diverges from these residual solvent drain holes while the conductive adhesive cures, preventing erosion of the adjacent near-infrared absorbing layer. As a result, light from the plasma display panel that passes through the vicinity of the outer periphery of the near-infrared absorbing layer does not appear as color unevenness, and a clear color image can be obtained as a whole.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明のプラズマディスプ
レイパネル用フィルター(以下、単にPDP用フィルタ
ーと称する)をその実施形態について更に詳細に説明す
る。本発明の一実施形態に係るPDP用フィルターは、
プラズマディスプレイパネル即ちPDPの前面に取り付
けて使用される。図1には、本発明の一実施形態に係る
PDP用フィルター10の周囲付近における部分的な断
面構造が示され、図2には中央部付近における部分的な
断面構造が示されている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of a filter for a plasma display panel (hereinafter, simply referred to as a PDP filter) of the present invention will be described in more detail. The PDP filter according to one embodiment of the present invention includes:
It is used by being attached to the front of a plasma display panel, that is, a PDP. FIG. 1 shows a partial cross-sectional structure near the periphery of a PDP filter 10 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a partial cross-sectional structure near a central portion.
【0018】このPDP用フィルター10は、基本的に
は、基材となる樹脂製の支持フィルム11と、この支持
フィルム11の一方の面に形成された電磁波シールド層
12とを含む。この電磁波シールド層12の表面には、
その周囲領域を除いて近赤外線吸収層13及びその上に
粘着剤層17が形成されている。そして、電磁波シール
ド層12の表面における周囲領域である近赤外線吸収層
非形成領域には導電性接着剤層14が近赤外線吸収層1
3の外周部と空間をあけて塗布されている。従って、こ
の空間部15は、図3(c)に示されるように近赤外線吸
収層13を取り囲む溝部となる。The PDP filter 10 basically includes a resin support film 11 serving as a base material, and an electromagnetic wave shielding layer 12 formed on one surface of the support film 11. On the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12,
Except for the surrounding area, the near infrared absorbing layer 13 and the adhesive layer 17 are formed thereon. Then, a conductive adhesive layer 14 is provided on the surface of the electromagnetic wave shield layer 12 where the near-infrared absorbing layer is not formed, that is, in the area where the near-infrared absorbing layer is not formed.
3 is applied with a space from the outer peripheral portion. Therefore, the space 15 becomes a groove surrounding the near-infrared absorbing layer 13 as shown in FIG.
【0019】そして、電磁波シールド層12の表面にお
いて近赤外線吸収層13と導電性接着剤層14との間の
空間部即ち溝部15を大気に連通すべく、支持フィルム
11とこの表面に積層された電磁波シールド層12とか
らなる積層体に複数の残溶剤抜き穴16が溝部15に沿
って設けられている。これにより、導電性接着剤層14
を形成すべく導電性接着剤が塗布された後、それが硬化
するまでの間に当該接着剤に含まれる溶剤が溝部15及
びこれらの残溶剤抜き穴16から外部に発散して逃げ、
これにより隣接する近赤外線吸収層13への浸食が防止
される。On the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12, a space between the near-infrared absorbing layer 13 and the conductive adhesive layer 14, that is, the groove 15 is laminated on the support film 11 and the surface so as to communicate with the atmosphere. A plurality of residual solvent drain holes 16 are provided along the groove 15 in the laminated body including the electromagnetic wave shielding layer 12. Thereby, the conductive adhesive layer 14
After the conductive adhesive is applied to form the liquid, the solvent contained in the adhesive is escaping and escaping from the groove 15 and these residual solvent drain holes 16 and escapes until the conductive adhesive is cured,
Thus, erosion of the adjacent near-infrared absorbing layer 13 is prevented.
【0020】このように構成されたフィルムが機能性フ
ィルムFである。他方、例えばポリカーボネート等よう
な透明な樹脂製の基板18の周囲には、導電材としての
導電テープ19が額縁状即ち基板18の外周縁部を表面
側から側面を介して裏面側に至る断面コ字状に覆い、そ
れが全周に亘るように設けられている。The film thus configured is the functional film F. On the other hand, for example, a conductive tape 19 as a conductive material is provided around a substrate 18 made of a transparent resin such as polycarbonate or the like in a frame shape, that is, the outer peripheral portion of the substrate 18 is cross-sectionally extended from the front side to the rear side via the side surface. It is provided so as to cover the entire circumference.
【0021】この基板18の表面に、前述の機能性フィ
ルムFが、その粘着剤層17と導電性接着剤層14を基
板18表面に重ねるように貼り合わされる。これにより
機能性フィルムFは、近赤外線吸収層13の表面に設け
られた粘着材層17と導電性接着剤層14とにより基板
18に貼り付けられ、その際、導電性接着剤層14は、
基板18の表面周囲に位置する導電テープ19に対応し
て当該導電テープ19上に重なって接着される。On the surface of the substrate 18, the above-mentioned functional film F is bonded so that the adhesive layer 17 and the conductive adhesive layer 14 are overlapped on the surface of the substrate 18. Thereby, the functional film F is adhered to the substrate 18 by the adhesive layer 17 and the conductive adhesive layer 14 provided on the surface of the near-infrared absorbing layer 13, and at this time, the conductive adhesive layer 14
Corresponding to the conductive tape 19 located around the surface of the substrate 18, the conductive tape 19 overlaps and is adhered to the conductive tape 19.
【0022】換言すれば、導電性接着剤層14を形成す
るために電磁波シールド層12の周囲に設けられる近赤
外線吸収層非形成領域の幅寸法(支持フィルム中央側へ
の領域の深さ)と導電テープ19の基板18の表面上の
幅とをほぼ同じ寸法にするように予め設計されているた
め、機能性フィルムFを前述したように基板18に貼り
合わせると、導電性接着剤層14は基板18の表面上に
位置する導電テープ19にほぼ一致して重ね合わされ
る。In other words, the width dimension (the depth of the region toward the center of the support film) of the region where the near-infrared absorbing layer is not formed, which is provided around the electromagnetic wave shielding layer 12 for forming the conductive adhesive layer 14, Since the conductive film 19 is designed in advance so that the width of the conductive tape 19 on the surface of the substrate 18 is substantially the same, when the functional film F is bonded to the substrate 18 as described above, the conductive adhesive layer 14 becomes The conductive tape 19 located on the surface of the substrate 18 is superimposed substantially coincident therewith.
【0023】このようにして形成された機能性フィルム
付き基板即ちフィルター本体は、その周囲にプロテクト
テープ20(図3(e)参照)が額縁状に取り付けられ
る。その際、支持フィルム11の周囲表面上に貼り付け
られるプロテクトテープ20の一部は、支持フィルム1
1を貫通して溝部15に連通する残溶剤抜き穴16を塞
ぐ位置まで及んでいる。The thus-formed substrate with a functional film, that is, the filter body, has a protective tape 20 (see FIG. 3 (e)) attached around it in a frame shape. At this time, a part of the protection tape 20 stuck on the peripheral surface of the support film 11
1 to a position that closes the residual solvent draining hole 16 communicating with the groove 15.
【0024】その後、このフィルター本体は、反射防止
のためのディッピング処理がなされて、支持フィルム1
1と基板19のそれぞれ外側表面に反射防止層21が形
成される。その後、プロテクトテープ20が取り除かれ
て、当該フィルター本体の周囲に額縁状に銅箔テープか
らなる電極22が取り付けられ、その一部が導電テープ
19に重なって電気的に導通状態とされる。この電極2
2の取付けにあたって、図1に示されるように支持フィ
ルム11の表面外周に位置する銅箔テープの端部は、前
述した残溶剤抜き穴16を塞ぐように位置している。Thereafter, the filter body is subjected to a dipping process for preventing reflection, and
An anti-reflection layer 21 is formed on the outer surface of each of the substrate 1 and the substrate 19. Thereafter, the protection tape 20 is removed, and an electrode 22 made of a copper foil tape is attached to the periphery of the filter body in a frame shape, and a part of the electrode 22 overlaps the conductive tape 19 to be in an electrically conductive state. This electrode 2
In mounting 2, the end portion of the copper foil tape located on the outer periphery of the surface of the support film 11 as shown in FIG.
【0025】このようなPDP用フィルター10は、プ
ラズマディスプレパネル(図示せず)の前面に設けられ
ている取付け構造体に装着される。その時、取付け構造
体に設けられた外部アース用端子に電極22が接触し、
PDP用フィルター10の電磁波シールド層12は、導
電性接着剤層14及び導電テープ19を介して外部アー
ス用端子に電気的に導通し、電磁波シールド層12がそ
の機能を発揮することになる。Such a PDP filter 10 is mounted on a mounting structure provided on the front surface of a plasma display panel (not shown). At that time, the electrode 22 contacts the external ground terminal provided on the mounting structure,
The electromagnetic wave shielding layer 12 of the PDP filter 10 is electrically connected to an external ground terminal via the conductive adhesive layer 14 and the conductive tape 19, and the electromagnetic wave shielding layer 12 exerts its function.
【0026】次に、このPDP用フィルター10の製造
方法を図3(a)〜図3(h)を参照して説明する。図3(a)
に示されるように、既に電磁波シールド層12が一表面
に形成された長尺な支持フィルム11が近赤外線吸収剤
コーティング装置30の供給ロール31に巻かれてセッ
トされる。この供給ロール31から送り出された支持フ
ィルム11は、近赤外線吸収剤コーティング装置30を
通過する時、電磁波シールド層12の表面に部分的に近
赤外線吸収剤が連続的にコーティングされ、巻取りロー
ル32に巻き取られる。Next, a method of manufacturing the PDP filter 10 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (h). Fig. 3 (a)
As shown in (1), the long support film 11 on which the electromagnetic wave shielding layer 12 is already formed on one surface is wound and set on the supply roll 31 of the near-infrared absorbing agent coating device 30. When the support film 11 sent from the supply roll 31 passes through the near-infrared absorbing agent coating device 30, the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12 is partially coated with the near-infrared absorbing agent continuously, and the winding roll 32 It is wound up.
【0027】電磁波シールド層12の表面上への近赤外
線吸収剤の部分的なコーティングとは、図4に示される
ように長尺な支持フィルム11の両側縁から内側へ所定
の幅だけ余白部をとるようにし、同時に支持フィルムの
送給方向には所定の間隔をあけるようにしてコーティン
グすることである。このようにして、電磁波シールド層
12の表面上に部分的に近赤外線吸収層13が形成さ
れ、巻取りロール32に巻き取られた長尺な支持フィル
ム11は、図3(b)に示されるように粘着剤コーティン
グ装置33の供給ロール34としてセットされる。The partial coating of the near-infrared absorbing agent on the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12 means that, as shown in FIG. Coating at the same time with a predetermined interval in the feeding direction of the support film. In this manner, the long support film 11 in which the near-infrared absorbing layer 13 is partially formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12 and wound on the winding roll 32 is shown in FIG. Is set as the supply roll 34 of the adhesive coating device 33 as described above.
【0028】この供給ロール34から送り出された支持
フィルム11は、粘着剤コーティング装置33を通過す
る時、各近赤外線吸収層13の全面にそれぞれ粘着剤が
コーティングされ、機能性フィルムFとなって巻取りロ
ール35に巻き取られる。巻取りロール35に巻き取ら
れた機能性フィルムFは、次いで、支持フィルム11の
表面上にその長尺方向に所定の間隔をあけて配置形成さ
れた近赤外線吸収層等からなる積層部分のその相互間隔
中央部で順次切断されて、個々の機能性フィルムFに分
けられる。When the support film 11 sent out from the supply roll 34 passes through the adhesive coating device 33, the entire surface of each near-infrared absorbing layer 13 is coated with an adhesive, thereby forming a functional film F. It is taken up by a take-up roll 35. The functional film F wound on the winding roll 35 is then placed on a surface of the support film 11 at a predetermined distance in the longitudinal direction of the laminated film formed of a near-infrared absorbing layer or the like. The film is sequentially cut at the center of the mutual interval and divided into individual functional films F.
【0029】そして、図3(c)に示されるように各機能
性フィルムFについて、近赤外線吸収層等からなる積層
部分体の周囲余白部における電磁波シールド層12の表
面上に導電性塗料(接着剤)を、近赤外線吸収層13と
その上にコーティングされた粘着剤層17とからなる積
層部分の外周端から間隔をあけて塗布し、導電性接着剤
層14を形成する。Then, as shown in FIG. 3 (c), for each functional film F, a conductive paint (adhesive material) is applied on the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12 in the margin around the laminated body composed of the near infrared absorbing layer and the like. ) Is applied at an interval from the outer peripheral edge of the laminated portion including the near-infrared absorbing layer 13 and the pressure-sensitive adhesive layer 17 coated thereon to form the conductive adhesive layer 14.
【0030】図3(c)には、この空間部が、近赤外線吸
収層13及びその上にコーティングされた粘着剤層17
からなる積層部分と導電接着剤層14との境界を形成す
るように溝部15となって表れている。このようにして
導電性接着剤層14を形成した直後に、支持フィルム1
1とその表面に形成された電磁波シールド層12からな
る積層体に、その境界部である溝部15に連通する残溶
剤抜き穴16が所定の間隔をあけ且つこの溝部15に沿
って複数形成される。FIG. 3 (c) shows that the space is formed by the near-infrared absorbing layer 13 and the adhesive layer 17 coated thereon.
The groove 15 is formed so as to form a boundary between the laminated portion made of and the conductive adhesive layer 14. Immediately after the formation of the conductive adhesive layer 14, the support film 1
A plurality of residual solvent draining holes 16 communicating with a groove 15 which is a boundary thereof are formed at predetermined intervals and along the groove 15 in a laminated body composed of the electromagnetic wave shield layer 12 formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer 1. .
【0031】このようにして形成された機能性フィルム
Fを、図3(d)に示されるように基板18であるポリカ
ーボネート樹脂板の表面に貼り付け、機能性フィルム付
き基板即ちフィルター本体が形成される。この時、基板
18の全周囲には、導電テープ19が予め額縁状即ち基
板18の外周縁部を、表面側から側面を介して裏面側に
至る断面コ字状に覆い、それが全周に亘るように設けら
れている。The functional film F thus formed is adhered to the surface of a polycarbonate resin plate as the substrate 18 as shown in FIG. 3 (d), and a substrate with a functional film, that is, a filter body is formed. You. At this time, the conductive tape 19 covers the entire periphery of the substrate 18 in advance in a frame shape, that is, the outer peripheral edge portion of the substrate 18 is covered in a U-shape in cross section from the front surface side to the rear surface side via the side surface. It is provided to span.
【0032】従って、機能性フィルムFを基板18に貼
り合わせると、導電性接着剤層14は基板18周囲に設
けられた導電テープ19上に重なって接着し、その結
果、導電テープ19は導電性接着剤層14を介して電磁
波シールド層12と電気的導通状態となる。Accordingly, when the functional film F is bonded to the substrate 18, the conductive adhesive layer 14 overlaps and adheres to the conductive tape 19 provided around the substrate 18, and as a result, the conductive tape 19 becomes conductive. It becomes electrically conductive with the electromagnetic wave shielding layer 12 via the adhesive layer 14.
【0033】次いで、フィルター本体は、図3(e)及び
図3(f)に示されるようにその全周囲縁部にプロテクト
テープ20を額縁状に貼り付けた後、反射防止層21を
形成するためのディッピング処理(図3(g))をする。
その時、プロテクトテープ20は、支持フィルム11の
表面に開口している残溶剤抜き穴16を塞ぐ位置にまで
及んでいるので、ディッピング処理中にこの残溶剤抜き
穴16から反射防止剤が内部に浸入する恐れはない。Next, as shown in FIGS. 3 (e) and 3 (f), the protective tape 20 is attached to the entire periphery of the filter body in a frame shape, and then the anti-reflection layer 21 is formed. (FIG. 3 (g)).
At this time, since the protection tape 20 reaches the position where the residual solvent draining hole 16 opened on the surface of the support film 11 is closed, the anti-reflection agent enters inside through the residual solvent draining hole 16 during the dipping process. There is no danger.
【0034】その後、このプロテクトテープ20を除去
した後、図3(h)に示されるようにその部分に電極22
となる銅箔テープを、支持フィルム11の表面に開口し
ている残溶剤抜き穴16を塞ぐように取り付け、前述し
た導電テープ19と部分的に重ねて相互の電気的導通を
とり、これにより最終的にPDP用フィルター10が構
成(完成)される。導電性接着剤層の硬化が終了した後
に残溶剤抜き穴16を塞ぐ理由は、近赤外線吸収剤や銀
などの劣化が酸素により促進されるのを防ぐことにあ
る。Then, after removing the protect tape 20, as shown in FIG.
Is attached so as to cover the residual solvent drain hole 16 opened on the surface of the support film 11, and partially overlaps the above-described conductive tape 19 to establish mutual electrical continuity. Thus, the PDP filter 10 is configured (completed). The reason for closing the residual solvent drain hole 16 after the curing of the conductive adhesive layer is completed is to prevent the deterioration of the near-infrared absorbing agent, silver and the like from being promoted by oxygen.
【0035】このようなPDP用フィルター10の製造
方法は、単なる一例であって、本発明はこのような工程
によって製造されるものだけに限られない。例えば、前
述したこのPDP用フィルター10の製造方法では、支
持フィルム11表面上の電磁波シールド層12上におけ
る近赤外線吸収層等からなる積層部分の周囲余白部に導
電性塗料(接着剤)を塗布して導電性接着剤層14を形
成したが、これを貼り合わせる基板18の全周囲に前述
したように導電テープ19を設けた後に、その表面に位
置する導電テープ19面に導電性接着剤を塗布して導電
性接着剤層14を形成しておいてもよい。The method of manufacturing the PDP filter 10 is merely an example, and the present invention is not limited to the method manufactured by such a process. For example, in the method of manufacturing the PDP filter 10 described above, a conductive paint (adhesive) is applied to a margin around the laminated portion including the near-infrared absorbing layer on the electromagnetic wave shielding layer 12 on the surface of the support film 11. The conductive adhesive layer 14 is formed by applying the conductive tape 19 on the entire surface of the substrate 18 to which the conductive adhesive layer 14 is attached as described above, and then the conductive adhesive 19 is applied to the surface of the conductive tape 19 located on the surface. The conductive adhesive layer 14 may be formed in advance.
【0036】ここで各層を構成する材料について簡単に
説明すると、支持フィルム11である透明樹脂フィルム
は、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない樹
脂フィルムであればよく、特に制限はない。透明樹脂フ
ィルムに使用される樹脂の具体的な例としては、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポ
リスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリア
リレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等をあげるこ
とができる。Here, the material constituting each layer will be briefly described. The transparent resin film serving as the support film 11 may be any resin film which is substantially transparent and does not have large absorption and scattering. Absent. Specific examples of the resin used for the transparent resin film include polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, and polyarylate. Resins, polyethersulfone resins and the like.
【0037】これらの中では、特に非晶質のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましく、非晶
質ポリオレフィン系樹脂の中では環状ポリオレフィン
が、ポリエステル系樹脂の中ではポリエチレンテレフタ
レートが特に好ましい。Among these, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polyarylate resin, and polyether sulfone resin are particularly preferable. Among resins, cyclic polyolefin is particularly preferable, and among polyester resins, polyethylene terephthalate is particularly preferable.
【0038】上記樹脂には、一般的に公知である添加
剤、例えばフェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロ
ゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯
電防止剤等を配合することができる。透明樹脂フィルム
は、上記樹脂を公知のTダイ成形、カレンダー成形、圧
縮成形などの方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティ
ングする方法等を用いて成形される。The above resins are generally known additives such as phenolic and phosphorus-based antioxidants, halogen-based and phosphoric acid-based flame retardants, heat-resistant anti-aging agents, lubricants, antistatic agents and the like. Can be blended. The transparent resin film is formed by a known method such as T-die molding, calender molding, or compression molding, or a method of dissolving in an organic solvent and casting.
【0039】フィルムの厚みとしては、目的に応じて、
10μm〜1mmの範囲が望ましい。該透明樹脂フィル
ムは、未延伸でも延伸されていても良い。また、他のプ
ラスチック基材と積層されていても良い。更に該透明樹
脂フィルムは、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処
理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公
知の方法による表面処理や、プライマー等のコーティン
グを片面あるいは両面に施しても良い。As the thickness of the film, depending on the purpose,
A range of 10 μm to 1 mm is desirable. The transparent resin film may be unstretched or stretched. Further, it may be laminated with another plastic substrate. Further, the transparent resin film is subjected to a surface treatment by a conventionally known method such as a corona discharge treatment, a flame treatment, a plasma treatment, a glow discharge treatment, a surface roughening treatment, a chemical treatment, or a coating such as a primer on one or both surfaces. Is also good.
【0040】次に、電磁波シールド層12としては、導
電性繊維のメッシュ、導電性物質の蒸着或いはそれらの
組み合わせ等が用いられるが、視認性の点から導電性物
質の蒸着が好ましい。支持フィルム11の表面に蒸着さ
れる導電性物質は、PDPより放出される電磁波を遮蔽
する目的で蒸着されるもので、金属又は金属酸化物など
が用いられるが、400〜700nmの可視光線領域を
70%以上透過し、表面固有抵抗値が50Ω/口以下で
あれば、いかなるものであっても良い。Next, as the electromagnetic wave shielding layer 12, a mesh of a conductive fiber, vapor deposition of a conductive substance, or a combination thereof is used, and vapor deposition of a conductive substance is preferable from the viewpoint of visibility. The conductive material deposited on the surface of the support film 11 is deposited for the purpose of shielding electromagnetic waves emitted from the PDP, and a metal or a metal oxide is used, but a visible light region of 400 to 700 nm is used. Any material may be used as long as it transmits 70% or more and has a surface specific resistance of 50Ω / port or less.
【0041】好ましくは、酸化スズ、酸化インジウムス
ズ(以下、ITOという)、酸化アンチモンスズ(以下
ATOという。)等の金属酸化物、あるいは金属酸化物
と金属を交互に積層させる。金属酸化物と金属の積層
は、表面固有抵抗を低くできるので、より好ましい。金
属酸化物としては、酸化スズ、ITO、ATOであり、
金属としては銀あるいは銀ーパラジウム合金が一般的で
あり、通常金属酸化物層より始まり3乃至11層程度積
層する。Preferably, a metal oxide such as tin oxide, indium tin oxide (hereinafter, referred to as ITO), antimony tin oxide (hereinafter, referred to as ATO), or a metal oxide and a metal are alternately laminated. Lamination of a metal oxide and a metal is more preferable because the surface resistivity can be reduced. Metal oxides include tin oxide, ITO and ATO,
Silver or silver-palladium alloy is generally used as the metal, and usually about 3 to 11 layers are stacked starting from a metal oxide layer.
【0042】また、電磁波シールド層12を形成する導
電性物質としては、更にアルミニウム酸化亜鉛(以下、
AZOという)をスパッタリングにより蒸着して構成す
ることも好ましい。このAZOは、電磁波をシールドす
る性能だけではなく、紫外線、特に350nm以下の波
長の紫外線を吸収する性能があることから、電磁波シー
ルド層12をこのAZOで構成すれば、紫外線遮蔽層を
兼用することができる。Further, as a conductive material forming the electromagnetic wave shielding layer 12, aluminum zinc oxide (hereinafter, referred to as aluminum zinc oxide)
It is also preferable to form the film by sputtering AZO). Since this AZO has not only the performance of shielding electromagnetic waves, but also the performance of absorbing ultraviolet rays, particularly ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or less, if the electromagnetic wave shielding layer 12 is made of this AZO, it can also serve as an ultraviolet shielding layer. Can be.
【0043】導電性物質の膜厚は、要求される物性、用
途などにより異なるが、透明性から10〜500nm、
好ましくは50〜300nmが好ましい。膜厚は膜の各
部分が均一であることが望ましい。また、導電性物質を
透明樹脂フィルムに直接蒸着して構成することもでき
る。その際には、相互の密着性を向上させるため、予め
透明樹脂フィルムの被蒸着面にべースコート剤をコーテ
ィングしておくことが望ましい。The thickness of the conductive material varies depending on required physical properties, applications, etc.
Preferably, it is 50 to 300 nm. It is desirable that the thickness of each part of the film is uniform. Alternatively, the conductive material may be directly deposited on the transparent resin film. In that case, in order to improve mutual adhesion, it is desirable to coat the base surface of the transparent resin film beforehand with a base coat agent.
【0044】次に、電磁波シールド層12の表面上に設
けられる近赤外線吸収層13は、例えば近赤外線吸収剤
塗工液をコーティングすることにより得られる。近赤外
線吸収剤塗工液は、近赤外線吸収剤を有機溶剤に分散あ
るいは溶解させてバインダー樹脂を添加したもの、又は
近赤外線吸収剤を例えば、ポリウレタンアクリレートや
エポキシアクリレート等の単官能または多官能アクリレ
ートと、光重合開始剤および有機溶剤を含むハードコー
ト剤、イソシアネート系、ポリウレタン系、ポリエステ
ル系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系又はア
ルキルチタネート系などの、アンカーコート剤や接着
剤、等に添加したもので、該塗工液を電磁波シールド層
12上にコーティングする。Next, the near-infrared absorbing layer 13 provided on the surface of the electromagnetic wave shielding layer 12 is obtained by, for example, coating a near-infrared absorbing agent coating solution. The near-infrared absorbing agent coating liquid is obtained by dispersing or dissolving a near-infrared absorbing agent in an organic solvent and adding a binder resin, or a near-infrared absorbing agent, for example, a monofunctional or polyfunctional acrylate such as polyurethane acrylate or epoxy acrylate. And a hard coat agent containing a photopolymerization initiator and an organic solvent, such as an isocyanate-based, polyurethane-based, polyester-based, polyethyleneimine-based, polybutadiene-based or alkyl titanate-based anchor coat agent or adhesive, and the like. Then, the coating liquid is coated on the electromagnetic wave shielding layer 12.
【0045】用いられる近赤外線吸収剤としては、有機
物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン
系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム
系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、又はアミノ化合物、アミ
ニウム塩系化合物、あるいは無機物であるカーボンブラ
ックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周
期表4A、5A又は6A族に属する金属の酸化物、もし
くは炭化物、又はホウ化物などが挙げられる。これらの
うち少なくとも2種類を用いる。Examples of the near-infrared absorbing agent to be used include nitroso compounds which are organic substances and metal complex salts thereof, cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex salt compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triallylmethane compounds. Compound, immonium-based compound, diimonium-based compound, naphthoquinone-based compound, anthraquinone-based compound or amino compound, aminium salt-based compound, or inorganic carbon black, indium tin oxide, antimony tin oxide, periodic table 4A, 5A or 6A An oxide, a carbide, or a boride of a metal belonging to the group may be used. At least two of these are used.
【0046】更に、少なくとも1種は、イモニウム系化
合物、ジイモニウム系化合物、あるいはアミニウム塩系
化合物から選ばれる近赤外線吸収剤を用いることが好ま
しい。より好ましくは、イモニウム系化合物、ジイモニ
ウム系化合物及びアミニウム塩系化合物以外の、上記近
赤外線吸収剤より選ばれる少なくとも1種を併用する。Further, it is preferable to use at least one kind of near-infrared absorbing agent selected from an immonium compound, a diimonium compound and an aminium salt compound. More preferably, at least one selected from the above-mentioned near-infrared absorbing agents other than the immonium-based compound, the diimonium-based compound and the aminium salt-based compound is used in combination.
【0047】基板18は、実質的に透明であって、吸
収、散乱が大きくない樹脂基板であればよく、特に制限
はない。用いる樹脂の具体的な例としては、ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリ
レート樹脂、ボリエーテルサルホン樹脂等をあげること
ができる。The substrate 18 is not particularly limited as long as it is a resin substrate which is substantially transparent and does not have large absorption and scattering. Specific examples of resins used include polyolefin resins, polyester resins, polycarbonate resins, poly (meth) acrylate resins, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyacrylate resins, polyethersulfone. Resins and the like can be given.
【0048】これらの中では、特に非晶質のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。上記
透明樹脂基板用樹脂には、一般的に公知である添加剤、
例えばフエノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン
系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防
止剤等を配合することができる。Of these, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polyarylate resin, and polyether sulfone resin are particularly preferable. In the resin for the transparent resin substrate, generally known additives,
For example, a phenol-based or phosphorus-based antioxidant, a halogen-based or phosphoric acid-based flame retardant, a heat-resistant anti-aging agent, a lubricant, an antistatic agent, and the like can be added.
【0049】透明樹脂基板18は、公知の射出成形、T
ダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形などの方法を用
い、シート(板)状に成形される。シート状の厚みとし
ては、目的に応じて、1mm〜8mmの範囲が望まし
い。かかる透明な基板18は、他のプラスチック基材と
積層されていても良い。この透明樹脂基板の一方の面に
は、図2に示されるように傷付き防止のため傷付き防止
層23を形成することも好ましい。The transparent resin substrate 18 is made by a known injection molding, T
It is formed into a sheet (plate) using a method such as die forming, calendering, or compression molding. The thickness of the sheet is preferably in the range of 1 mm to 8 mm depending on the purpose. Such a transparent substrate 18 may be laminated with another plastic substrate. It is also preferable to form an anti-scratch layer 23 on one surface of the transparent resin substrate to prevent damage as shown in FIG.
【0050】この傷付き防止層即ちハードコート層23
は、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ートなどの単官能あるいは多官能アクリレートと、光重
合開始剤、及び有機溶剤を主成分とするハードコート剤
より形成される。また、耐摩耗性向上のため、コロイド
状金属酸化物、有機溶剤を分散媒としたシリカゾルを加
えることもできる。The anti-scratch layer, that is, the hard coat layer 23
Is formed from, for example, a monofunctional or polyfunctional acrylate such as urethane acrylate or epoxy acrylate, a photopolymerization initiator, and a hard coat agent mainly containing an organic solvent. In order to improve abrasion resistance, a silica sol using a colloidal metal oxide and an organic solvent as a dispersion medium can be added.
【0051】また、このPDP用フィルター10に反射
防止層21を設けることは、PDP前面にこのPDP用
フィルター10を設置した場合、PDP側の反射防止層
21がPDPからの光の透過率を上げ、逆側(人の目の
近い方)の反射防止層21が蛍光灯などの外光の写り込
みを防ぐ効果があり、画像の視認性を向上させる効果が
ある。The provision of the anti-reflection layer 21 on the PDP filter 10 means that when the PDP filter 10 is provided on the front surface of the PDP, the anti-reflection layer 21 on the PDP side increases the transmittance of light from the PDP. The anti-reflection layer 21 on the opposite side (closer to the human eye) has the effect of preventing reflection of external light such as fluorescent light, and has the effect of improving the visibility of an image.
【0052】反射防止層21は、比較的低屈折率である
酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、フッ化マ
グネシウム、フッ化カルシウム、酸化アルミニウム、あ
るいは特開平2ー19801号公報に開示されているよ
うな非晶性含フッ素重合体から構成される。形成方法と
しては、金属アルコキシドを塗布後焼成する方法、真空
蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーティング法、
CVD法、あるいはロールコート法、浸漬塗装法等が挙
げられる。経済性、ハンドリングの点より、非晶性含フ
ッ素重合体をフッ素系溶剤に溶解させた溶液を、浸漬塗
装によりコーティングすることが好ましい。コーティン
グの膜厚は、10〜1000nm、好ましくは20〜5
00nmである。The antireflection layer 21 has a relatively low refractive index, such as silicon oxide, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium fluoride, calcium fluoride, aluminum oxide, or as disclosed in JP-A-2-19801. It is composed of a non-crystalline fluorine-containing polymer. As a forming method, a method of applying and firing a metal alkoxide, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method,
A CVD method, a roll coating method, a dip coating method, and the like can be given. From the viewpoint of economy and handling, it is preferable to coat a solution obtained by dissolving the amorphous fluoropolymer in a fluorinated solvent by dip coating. The coating has a thickness of 10 to 1000 nm, preferably 20 to 5 nm.
00 nm.
【0053】本発明のPDP用フィルターは、400〜
700nmの可視光線透過率が50%以上、好ましくは
65%以上、また850〜1000nmの近赤外線透過
率が15%以下、好ましくは10%以下であり、更に3
0〜100MHzの電磁波シールド性能が30dB以上
の性能を有し、PDP用フィルターとして好適なもので
ある。The filter for PDP of the present invention is 400 to
The transmittance of visible light at 700 nm is 50% or more, preferably 65% or more, and the transmittance of near infrared light at 850 to 1000 nm is 15% or less, preferably 10% or less, and 3% or less.
It has an electromagnetic shielding performance of 0 dB to 100 MHz of 30 dB or more, and is suitable as a filter for PDP.
【0054】なお、前述したPDP用フィルター10の
層構成は、単に一例を挙げただけで、本発明はこのよう
な層構成に限定されるものではない。例えば、紫外線遮
蔽層を加えてもよく、また紫外線吸収剤を支持フィルム
11を形成する樹脂に、又は基板18を形成する樹脂に
練り混ぜてもよく、若しくは前述したベースコート剤等
に添加してもよい。The above-described layer configuration of the PDP filter 10 is merely an example, and the present invention is not limited to such a layer configuration. For example, an ultraviolet shielding layer may be added, or an ultraviolet absorber may be kneaded and mixed with the resin forming the support film 11 or the resin forming the substrate 18, or may be added to the above-described base coat agent or the like. Good.
【0055】[0055]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネル用フィルターによれば、樹脂フィル
ムの一方の面に形成された電磁波シールド層の表面上に
部分的に形成された近赤外線吸収層の周囲に導電性接着
剤層を設ける際、この導電性接着剤層と近赤外線吸収層
との間の空間部に連通する残溶剤抜き穴を支持フィルム
を含む積層体に形成したことから、導電性接着剤に含ま
れる溶剤による近赤外線吸収層への浸食作用を防止する
ことができる。As described above, according to the filter for a plasma display panel of the present invention, the near infrared absorbing layer partially formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer formed on one surface of the resin film. When providing a conductive adhesive layer around the periphery, since the residual solvent drain hole communicating with the space between the conductive adhesive layer and the near-infrared absorbing layer was formed in the laminate including the support film, the conductive The erosion of the near-infrared absorbing layer by the solvent contained in the adhesive can be prevented.
【0056】その結果、導電性接着剤と近赤外線吸収剤
との隣接部分を透過するプラズマディスプレイパネルか
らの光が色ムラとなって現れるのを防止でき、全体的に
鮮明なカラー画像を得ることのできるプラズマディスプ
レイパネル用フィルターを提供することができる。As a result, it is possible to prevent the light from the plasma display panel, which passes through the adjacent portion between the conductive adhesive and the near-infrared absorbing agent, from appearing as color unevenness, and to obtain a clear color image as a whole. It is possible to provide a filter for a plasma display panel that can be used.
【図1】本発明の一実施形態に係るPDP用フィルター
の端部における層構造を示す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a layer structure at an end of a PDP filter according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施形態に係るPDP用フィルター
の中央部における層構造を示すため、図1の2−2線に
沿って得た断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1 to show a layer structure in a central portion of the PDP filter according to one embodiment of the present invention.
【図3】図1に示される本発明の一実施形態に係るPD
P用フィルターを製造する工程を概略的に示す工程説明
図である。FIG. 3 is a PD according to an embodiment of the present invention shown in FIG.
It is process explanatory drawing which shows the process of manufacturing a filter for P schematically.
【図4】図3に示されるPDPフィルター製造工程にお
いて電磁波シールド層が形成された支持フィルムのその
電磁シール層表面に部分的に近赤外線吸収層を形成する
状態を示す断片的な斜視図である。4 is a fragmentary perspective view showing a state in which a near-infrared absorbing layer is partially formed on the surface of the electromagnetic seal layer of the support film on which the electromagnetic wave shield layer is formed in the PDP filter manufacturing process shown in FIG. 3; .
10 プラズマディスプレイパネル用フィルター 11 支持フィルム 12 電磁波シールド層 13 近赤外線吸収層 14 導電性接着剤(塗料)層 15 溝部(空間部) 16 残溶剤抜き穴 17 粘着剤層 18 基板 19 導電テープ 20 プロテクトテープ 21 反射防止層 22 電極 23 ハードコート層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Plasma display panel filter 11 Support film 12 Electromagnetic wave shielding layer 13 Near-infrared absorbing layer 14 Conductive adhesive (paint) layer 15 Groove (space) 16 Residual solvent drain hole 17 Adhesive layer 18 Substrate 19 Conductive tape 20 Protect tape 21 Anti-reflection layer 22 Electrode 23 Hard coat layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 11/02 H01J 11/02 Z H04N 5/66 101 H04N 5/66 101Z // H05K 9/00 H05K 9/00 V ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01J 11/02 H01J 11/02 Z H04N 5/66 101 H04N 5/66 101Z // H05K 9/00 H05K 9/00 V
Claims (6)
り付けられるフィルターであって、 基材となる樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの一方の
面に形成された電磁波シールド層と、この電磁波シール
ド層における周囲領域を除いた表面上に形成された近赤
外線吸収層と、前記電磁波シールド層の表面周囲領域に
おける近赤外線吸収層非形成領域に、前記近赤外線吸収
層との間に空間部を設けて形成された導電性接着剤層と
を含み、この導電性接着剤層と前記近赤外線吸収層との
前記空間部を大気に連通すべくこの空間部に沿って、前
記支持フィルムを含む積層体に複数の残溶剤抜き穴を形
成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
フィルター。1. A filter attached to a front surface of a plasma display panel, comprising: a resin film serving as a base material; an electromagnetic wave shielding layer formed on one surface of the resin film; and a surrounding area in the electromagnetic wave shielding layer. The near-infrared absorbing layer formed on the removed surface, and a conductive portion formed by providing a space between the near-infrared absorbing layer in the near-infrared absorbing layer non-forming region in the area around the surface of the electromagnetic wave shielding layer Along with the conductive adhesive layer and the near-infrared absorbing layer, the laminate including the support film is provided along the space so as to communicate with the atmosphere. A filter for a plasma display panel, wherein a hole is formed.
ルターは、前記近赤外線吸収層の表面とその周囲に形成
された前記導電性接着剤層の表面とが基板に貼り合わさ
れ、前記導電性接着剤層が位置する前記基板表面の周囲
領域において前記基板と前記導電性接着剤層との間に配
置され、外部アース用端子に前記導電性接着剤層を電気
的に導通させる導電材を少なくとも備え、前記電磁波シ
ールド層が前記導電性接着剤層及び前記導電材を介して
前記外部アース用端子に電気的に接続される構造とされ
ていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディ
スプレイパネル用フィルター。2. The plasma display panel filter according to claim 1, wherein a surface of the near-infrared absorbing layer and a surface of the conductive adhesive layer formed around the near-infrared absorbing layer are bonded to a substrate, and the conductive adhesive layer is positioned on the substrate. The electromagnetic wave shield, comprising at least a conductive material disposed between the substrate and the conductive adhesive layer in a peripheral region of the substrate surface to electrically connect the conductive adhesive layer to an external ground terminal. The filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein a layer is configured to be electrically connected to the external ground terminal via the conductive adhesive layer and the conductive material.
にまで及んで設けられていることを特徴とする請求項2
に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。3. The substrate according to claim 2, wherein the conductive material is provided at least to a side surface of the substrate.
3. The filter for a plasma display panel according to 1.).
電磁波シールド層上に前記近赤外線吸収層及びその周囲
に存する前記導電性接着剤層が配置され、更にこれら近
赤外線吸収層及び前記導電性接着剤層の表面に、外周に
導電材が設けられた基板が順次に積層されてなるフィル
ター本体の周囲縁部を包囲するように電極が設けられ、
この電極が前記導電材と積層して電気的に導通し、この
電極が前記外部アース用端子に電気的に接続される構造
とされていることを特徴とする請求項2又は3に記載の
プラズマディスプレイパネル用フィルター。4. The near-infrared absorbing layer and the conductive adhesive layer surrounding the near-infrared absorbing layer are disposed on the electromagnetic wave shielding layer formed on the surface of the support film, and the near-infrared absorbing layer and the conductive adhesive On the surface of the agent layer, an electrode is provided so as to surround a peripheral edge of a filter body in which substrates provided with a conductive material on the outer periphery are sequentially laminated.
The plasma according to claim 2, wherein the electrode is electrically connected to the conductive material by being laminated, and the electrode is electrically connected to the external ground terminal. 5. Filter for display panel.
ム内表面に蒸着された銀蒸着膜であることを特徴とする
請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル用フィル
ター。5. The filter according to claim 2, wherein the electromagnetic wave shielding layer is a silver vapor-deposited film deposited on an inner surface of the resin film.
から構成されていることを特徴とする請求項2〜5のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
ー。6. The filter for a plasma display panel according to claim 2, wherein the conductive material and the electrode are made of a metal foil tape.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10079964A JPH11282363A (en) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | Filter for plasma display panel |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10079964A JPH11282363A (en) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | Filter for plasma display panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11282363A true JPH11282363A (en) | 1999-10-15 |
Family
ID=13705004
Family Applications (1)
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JP (1) | JPH11282363A (en) |
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- 1998-03-26 JP JP10079964A patent/JPH11282363A/en active Pending
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