JPH11186658A - Semiconductor laser device - Google Patents
Semiconductor laser deviceInfo
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- JPH11186658A JPH11186658A JP36725297A JP36725297A JPH11186658A JP H11186658 A JPH11186658 A JP H11186658A JP 36725297 A JP36725297 A JP 36725297A JP 36725297 A JP36725297 A JP 36725297A JP H11186658 A JPH11186658 A JP H11186658A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、複数の異なるモ
ードのレーザ光を出力する半導体レーザ素子を含むレー
ザ装置にかかり、例えば、CD−R,DVD,あるいは
MD用の光ピックアップに好適な半導体レーザ装置の改
良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser device including a semiconductor laser device for outputting a plurality of different modes of laser light, and for example, a semiconductor laser suitable for an optical pickup for CD-R, DVD, or MD. It relates to improvement of the device.
【0002】[0002]
【背景技術】CD−RやDVDなどのディスク再生に用
いられる光ピックアップの光源としては、一般に半導体
レーザ素子が用いられている。CD−R用とDVD用で
は、レーザ素子の発光波長が異なる。すなわち、DVD
再生には635nmないし650nm帯の短波長可視レーザ
が使用されるのに対し、CD−R再生には780nm帯の
近赤外レーザが使用される。このように、使用レーザ光
の波長は異なるものの、一つのプレーヤでCD,CD−
R,DVDなどの各種のディスクを再生することができ
ると好都合である。そこで、それら各種のディスクの再
生を可能にするため、650nm/780nmの二波長の光
源を内蔵した光ピックアップが検討されている。2. Description of the Related Art A semiconductor laser device is generally used as a light source of an optical pickup used for reproducing a disk such as a CD-R or a DVD. The emission wavelength of the laser element is different for CD-R and DVD. That is, DVD
While a short-wavelength visible laser in the 635 nm to 650 nm band is used for reproduction, a near-infrared laser in the 780 nm band is used for CD-R reproduction. As described above, although the wavelength of the laser light used is different, a single player can use a CD or CD-ROM.
It is advantageous to be able to play various discs such as R and DVD. Therefore, in order to enable reproduction of these various discs, an optical pickup incorporating a light source having two wavelengths of 650 nm / 780 nm is being studied.
【0003】一方、MDプレーヤにおいては、光ピック
アップの半導体レーザ装置に対して、信号記録時に数1
0mW程度の高出力,信号読取時に数mW程度の小出力が要
求される。また、信号読取時には、戻り光雑音が小さい
ことも要求される。戻り光雑音に対して強くするために
はレーザ出力光の可干渉性を低減すればよい。このた
め、CD用の半導体レーザ装置では、戻り光雑音対策と
して自励発振が利用されている。On the other hand, in an MD player, when recording a signal with respect to a semiconductor laser device of an optical pickup, an equation (1) is used.
A high output of about 0 mW and a small output of about several mW when reading signals are required. In reading a signal, it is also required that the return light noise is small. In order to increase the return light noise, the coherence of the laser output light may be reduced. For this reason, in a semiconductor laser device for CD, self-excited oscillation is used as a measure against return optical noise.
【0004】しかし、一般的な自励発振レーザでは、高
出力域まで光−電流(I−L)特性のリニアリティを得
ることができない。このため、実用上の高出力限界が低
く、従ってそれらのレーザ装置をMD用に用いることは
できない。このような理由から、MD用としては、高出
力限界の高い通常の定常発振レーザ(非自励発振レー
ザ)を用い、低出力の読出時には付加回路により高周波
重畳をかけて、レーザ出力光の可干渉性を低減する手法
がとられている。しかし、この場合も、自励発振レーザ
素子と、高出力限界の高い高出力レーザ素子の二波長光
源を内蔵すれば、高周波重畳用の付加回路を必要とする
ことなく、MD用の光ピックアップを構成することが可
能となる。However, a general self-excited oscillation laser cannot obtain linearity of light-current (IL) characteristics up to a high output range. For this reason, the practical high power limit is low, so that these laser devices cannot be used for MD. For this reason, a normal steady-state laser (non-self-excited oscillation laser) having a high output limit is used for the MD, and a high-frequency superposition is applied by an additional circuit at the time of low-output reading, so that the laser output light can be used. A technique for reducing coherence has been adopted. However, also in this case, if a two-wavelength light source of a self-pulsation laser element and a high-output laser element with a high output limit is built in, an optical pickup for MD can be used without requiring an additional circuit for superimposing high frequency. It becomes possible to configure.
【0005】このような二波長のレーザ装置としては、
例えば、1988年,春季応用物理関係連合講演会予稿
集「30p−ZQ−3」に開示された近接2ビーム・ハ
イブリッド型レーザアレイがある。これは、2つの半導
体レーザ素子を、発光領域が頂部となるように個別のブ
ロックにサブマウントを介して半田で固定するととも
に、発光領域が対峙するようにブロックを対向配置する
ようにしたものである。これにより、波長が異なる独立
駆動可能な2つのレーザ素子が近接して配置される。[0005] Such a two-wavelength laser device includes:
For example, there is a proximity two-beam hybrid type laser array disclosed in a preprint of "Spring Applied Physics Related Lectures", 1988, "30p-ZQ-3". In this method, two semiconductor laser elements are fixed to individual blocks by a solder via a submount so that a light emitting region is a top portion, and the blocks are arranged to face each other such that the light emitting regions face each other. is there. Thereby, two independently operable laser elements having different wavelengths are arranged close to each other.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような背景技術には、次のような不都合がある。 (1)発光領域が頂部となるように、別言すればレーザ素
子の基板側がブロック側となるように取付けが行われ
る。このため、発熱する発光領域がブロックから離れた
位置となってしまう。従って、放熱が十分に行われず、
温度特性を悪化させてしまう恐れがある。 (2)2つのレーザ素子を別々のブロックに搭載した後
に、それらの位置を調整しながらレーザ素子を背中合わ
せに配置するなど、組立作業が複雑で困難を伴う。However, the above background art has the following disadvantages. (1) The mounting is performed so that the light emitting region is on the top, in other words, the substrate side of the laser element is on the block side. For this reason, the light emitting region that generates heat is located at a position distant from the block. Therefore, heat is not sufficiently released,
There is a possibility that the temperature characteristics may be deteriorated. (2) Assembly work is complicated and difficult, such as mounting two laser elements on separate blocks and then arranging the laser elements back to back while adjusting their positions.
【0007】この発明は、以上の点に着目したもので、
その目的は、レーザ素子の放熱を良好に行って温度特性
の悪化を低減するとともに、組立も簡便な二波長の半導
体レーザ装置を提供することを、その目的とするもので
ある。The present invention focuses on the above points,
It is an object of the present invention to provide a two-wavelength semiconductor laser device that satisfactorily dissipates heat from a laser element, reduces deterioration in temperature characteristics, and is easy to assemble.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、この発明は、ストライプ構造の半導体レーザ素子を
サブマウント上に複数搭載した半導体レーザ装置におい
て、前記ストライプ構造を、前記半導体レーザ素子のチ
ップ中心から偏った位置に形成するとともに、前記サブ
マントに、略90度で交差する複数のマウント面を形成
し、レーザ光が略平行に出射され、かつ、レーザ光出射
位置が、前記マウント面側であって、マウント面が交差
する稜線に近接する位置となるように、前記マウント面
上に前記半導体レーザ素子を配置したことを特徴とす
る。主要な形態の一つによれば、前記レーザ光の間隔は
100μm以下に設定される。In order to achieve the above object, the present invention relates to a semiconductor laser device having a plurality of semiconductor laser devices having a stripe structure mounted on a submount, wherein the stripe structure is replaced by a chip of the semiconductor laser device. While being formed at a position deviated from the center, a plurality of mounting surfaces that intersect at substantially 90 degrees are formed on the submount, laser light is emitted substantially in parallel, and the laser light emission position is at the mounting surface side. The semiconductor laser device is disposed on the mounting surface such that the mounting surface is located at a position close to an intersecting ridge line. According to one of the main modes, the interval between the laser beams is set to 100 μm or less.
【0009】この発明の前記及び他の目的,特徴,利点
は、以下の詳細な説明及び添付図面から明瞭になろう。The above and other objects, features and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description and the accompanying drawings.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。最初に、図3を参照しながら本形態
にかかる半導体レーザ素子を説明する。同図において、
n型GaAs基板10の主面上には、第1のクラッド層
12,活性層14,第2のクラッド層16が順に積層形
成されている。クラッド層16上には絶縁層18が形成
されており、この絶縁層18にストライプ20が存在す
る。更に、表裏面それぞれに電極22,24が形成され
ている。Embodiments of the present invention will be described below in detail. First, the semiconductor laser device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the figure,
On the main surface of the n-type GaAs substrate 10, a first cladding layer 12, an active layer 14, and a second cladding layer 16 are sequentially laminated. An insulating layer 18 is formed on the cladding layer 16, and a stripe 20 exists on the insulating layer 18. Further, electrodes 22 and 24 are formed on each of the front and back surfaces.
【0011】このようなダブルヘテロ構造の半導体レー
ザ素子の基本的な作用は、よく知られた一般的なものと
同様であり、矢印FAで示すように電流が流れる。この
電流は、絶縁層18によってストライプ20の部分に流
入する。このため、活性層14のストライプ20に対応
する部分にのみ電流が流れるようになり、この部分にお
けるキャリアの密度が増大してしきい値電流が低下し、
矢印FBで示す単一モードの安定したレーザ発振が行わ
れる。The basic function of such a semiconductor laser device having a double heterostructure is the same as that of a well-known general device, and a current flows as shown by an arrow FA. This current flows into the stripe 20 by the insulating layer 18. Therefore, current flows only in a portion of the active layer 14 corresponding to the stripe 20, the carrier density in this portion increases, and the threshold current decreases.
A single mode stable laser oscillation indicated by an arrow FB is performed.
【0012】ところで、前記ストライプ20は、通常は
チップの中央部分に形成される。しかし、本形態では、
チップのいずれか一方に偏った位置に形成されている。
このような構造は、製造時のスクライブラインを変更す
るのみで簡単に得ることができる。図3の例では、図の
左側に偏ってストライプ20が形成されている。このた
め、活性層14の発光点26も、素子の中央付近ではな
くストライプ20に対応した偏った位置となる。The stripe 20 is usually formed at the center of the chip. However, in this embodiment,
It is formed at a position biased to one of the chips.
Such a structure can be easily obtained only by changing the scribe line at the time of manufacturing. In the example of FIG. 3, the stripe 20 is formed so as to be deviated to the left of the figure. Therefore, the light emitting point 26 of the active layer 14 is not located near the center of the element but at a position corresponding to the stripe 20.
【0013】次に、図1(A)及び図2を参照しながら、
本形態の主要構成を説明する。なお、図1(A)は主要部
の正面図,図2は主要部の斜視図である。これらの図に
おいて、半導体レーザ素子A,半導体レーザ素子Bは、
それぞれ650nm帯,780nm帯のレーザ光を出力する
素子である。これらは、一般的な埋込みリッジストライ
プ構造を備えるダブルヘテロ(DH)構造の半導体レー
ザ素子である。そして、いずれも、基板10A,10B
の主面上に、MOCVD法によってレーザ発振を行う上
述したダブルヘテロ構造30A,30Bを成長形成した
ウエハから、所定形状のチップに加工することで得られ
る。表裏には、電極32A,34A,32B,34Bが
それぞれ形成されている。Next, referring to FIGS. 1A and 2,
The main configuration of this embodiment will be described. FIG. 1A is a front view of a main part, and FIG. 2 is a perspective view of the main part. In these figures, a semiconductor laser device A and a semiconductor laser device B
These devices output laser light of 650 nm band and 780 nm band, respectively. These are semiconductor laser devices having a double hetero (DH) structure having a general buried ridge stripe structure. And, in both cases, the substrates 10A, 10B
Is obtained by processing a wafer having the above-described double heterostructures 30A and 30B, which perform laser oscillation by the MOCVD method, grown and formed on the main surface into chips of a predetermined shape. Electrodes 32A, 34A, 32B and 34B are formed on the front and back, respectively.
【0014】一方、これらレーザ素子A,Bがマウント
されるサブマウント(放熱器)50は、例えばシリコン
基板を直方体にダイシングして形成され、図に示すよう
に略90度の角度で交わるマウント面52A,52Bを
備えている。これらマウント面52A,52Bには、例
えばAlなどのスパッタによって電極54が形成されて
いる。On the other hand, the submount (radiator) 50 on which the laser elements A and B are mounted is formed by, for example, dicing a silicon substrate into a rectangular parallelepiped, and as shown in FIG. 52A and 52B are provided. The electrodes 54 are formed on the mount surfaces 52A and 52B by, for example, sputtering of Al or the like.
【0015】レーザ素子A,Bのチップは、サブマウン
ト50のマウント面52A,52B上に、光出射方向が
同一方向となるように近接して配置され、ヘテロ構造3
0A,30B側がSnをろう材とする接合材などで固定
される。これによって、レーザ素子A,Bのヘテロ構造
側電極34A,34Bがサブマウント側電極54と接続
する。レーザチップのマウント搭載後、図1(A)に示す
ように、ワイヤボンディングが所定個所に行われる。す
なわち、レーザ素子A,Bの他方の電極32A,32B
には、Auなどによるワイヤ38A,38Bがそれぞれ
ボンディングされる。レーザ素子A,Bの駆動電圧は、
ワイヤ38A,38Bとサブマウント側の電極54との
間に印加される。ワイヤ38A,38Bはマイナス,電
極54はプラスである。The chips of the laser elements A and B are arranged close to each other on the mounting surfaces 52A and 52B of the submount 50 so that the light emission directions are the same.
The 0A and 30B sides are fixed with a joining material using Sn as a brazing material. As a result, the heterostructure electrodes 34A and 34B of the laser elements A and B are connected to the submount electrode 54. After the mounting of the laser chip, wire bonding is performed at a predetermined location as shown in FIG. That is, the other electrodes 32A, 32B of the laser elements A, B
Are bonded to wires 38A and 38B by Au or the like, respectively. The driving voltage of the laser elements A and B is
The voltage is applied between the wires 38A and 38B and the electrode 54 on the submount side. The wires 38A and 38B are negative, and the electrode 54 is positive.
【0016】ところで、本形態では、レーザ素子A,B
の光出射位置40A,40Bが、図3に示したように、
チップの一方に偏る構成となっている。このため、光出
射位置40A,40Bは、マウント面52A,52Bが
略90度で交差する稜線56に近接する位置となる。一
方、半導体レーザ素子A,Bの活性層は、チップ表面よ
りわずか数μm程度内側に位置する。すなわち、光出射
位置40A,40Bは、基板10A,10Bの表面近傍
に位置することになる。In this embodiment, the laser elements A and B
As shown in FIG. 3, the light emission positions 40A and 40B of
The configuration is biased toward one side of the chip. For this reason, the light emission positions 40A and 40B are positions close to the ridgeline 56 where the mounting surfaces 52A and 52B intersect at approximately 90 degrees. On the other hand, the active layers of the semiconductor laser devices A and B are located on the inside of the chip surface by only a few μm. That is, the light emission positions 40A and 40B are located near the surfaces of the substrates 10A and 10B.
【0017】従って、図1(A)のような配置をとる場
合、各レーザ素子A,Bの綾線56側のチップ側面36
A,36Bから光出射位置40A,40Bまでの距離L
1,L2が、いずれも50μm程度であるとすれば、両レ
ーザ素子A,Bの光出射位置40A,40Bの間隔L3
(≒√2L1)を、容易に100μm以下とすることがで
きる。更に、このような配置とすると、レーザ素子A,
Bの光出射位置40A,40Bがサブマウント50側に
位置するようになる。このため、光出射位置40A,4
0Bで発生する熱がサブマウント50側に伝達されるよ
うになり、温度特性の悪化が低減されるようになる。Therefore, when the arrangement as shown in FIG. 1A is adopted, the chip side surface 36 on the side of the twill wire 56 of each of the laser elements A and B is used.
Distance L from A, 36B to light emitting positions 40A, 40B
If both L1 and L2 are about 50 μm, the distance L3 between the light emission positions 40A and 40B of both laser elements A and B is set to L3.
(≒ √2L1) can be easily reduced to 100 μm or less. Further, with such an arrangement, the laser elements A,
The light emission positions 40A and 40B of B are located on the submount 50 side. Therefore, the light emission positions 40A, 4A
The heat generated at 0B is transmitted to the submount 50 side, and the deterioration of the temperature characteristics is reduced.
【0018】このように、本形態によれば、レーザ素子
A,Bの光出射位置40A,40Bからほぼ平行に出射
されるレーザ光の間隔を狭くすることができるととも
に、放熱も良好に行われるようになる。また、マウント
50の稜線56に沿ってレーザ素子A,Bを取付ければ
よく、その後の位置合せは不要であるので、組み立ての
作業性,生産性も改善される。As described above, according to this embodiment, the interval between the laser beams emitted almost in parallel from the light emitting positions 40A and 40B of the laser elements A and B can be narrowed, and the heat can be radiated well. Become like Also, the laser elements A and B may be attached along the ridgeline 56 of the mount 50, and subsequent alignment is not required, so that the workability and productivity of assembly are improved.
【0019】なお、図1(B)のように、マウント面52
A,52Bの交差する角度を90度以上とした場合は、
レーザ素子A,Bの光出射位置40A,40Bの間隔,
すなわちレーザ光間隔が前記形態よりも大きくなってし
まう。更に、マウント面52A,52Bの交差角度を1
80度としてレーザ素子A,Bを並列に並べたときの間
隔は、本形態の√2倍にもなる。しかし、サブマウント
50は容積が大きくなるため、放熱効果は増大する。逆
に、図1(C)のように、マウント面52A,52Bの交
差する角度を90度以下とした場合は、レーザ素子A,
Bの光出射位置40A,40Bの間隔は前記形態よりも
小さくなるものの、サブマウント50による放熱効果は
低下する。従って、上記形態のように、マウント面の交
差角度は略90度が好適である。Note that, as shown in FIG.
When the angle at which A and 52B intersect is 90 degrees or more,
The distance between the light emitting positions 40A and 40B of the laser elements A and B,
That is, the laser beam interval becomes larger than in the above-described embodiment. Further, the intersection angle between the mounting surfaces 52A and 52B is set to 1
The interval when the laser elements A and B are arranged in parallel at 80 degrees is √2 times that of the present embodiment. However, since the submount 50 has a large volume, the heat radiation effect increases. Conversely, as shown in FIG. 1C, when the angle at which the mounting surfaces 52A, 52B intersect is 90 degrees or less, the laser elements A,
Although the distance between the light emitting positions 40A and 40B of B is smaller than that in the above-described embodiment, the heat radiation effect by the submount 50 is reduced. Therefore, as in the above-described embodiment, the intersection angle of the mount surfaces is preferably approximately 90 degrees.
【0020】この発明には数多くの実施形態があり、以
上の開示に基づいて多様に改変することが可能である。
例えば、次のようなものも含まれる。 (1)前記形態においては、MOCVD法によって製造で
きるリッジ導波型レーザ素子を用いたが、製造方法,発
振モード,素子構造などは各種のものが知られており、
前記形態に限定されるものではない。使用する半導体材
料,電極材料なども同様である。 (2)本発明は、DVD,CD,CD−Rの互換再生やM
Dが好適な適用例であるが、モードが異なる複数のレー
ザ光を得る場合であれば、一般的に適用可能である。There are many embodiments of the present invention, and various modifications can be made based on the above disclosure.
For example, the following is also included. (1) In the above embodiment, a ridge waveguide type laser device which can be manufactured by the MOCVD method is used, but various manufacturing methods, oscillation modes, device structures, etc. are known.
It is not limited to the above-described embodiment. The same applies to semiconductor materials and electrode materials used. (2) The present invention provides DVD, CD, CD-R compatible playback and M
D is a preferred application example, but is generally applicable if a plurality of laser beams having different modes are obtained.
【0021】(3)半導体レーザ素子Aを、波長780nm
帯であって、かつ、低出力動作時において自励発振動作
を行う自励発振レーザ素子とするとともに、半導体レー
ザ素子Bを半導体レーザ素子Aよりも高出力限界の高い
高出力レーザ素子とすることで、高周波重畳用の付加回
路を必要とすることなく、MD用の光ピックアップを構
成することが可能となる。(3) The semiconductor laser device A is set to a wavelength of 780 nm.
A self-sustained pulsating laser device that is self-oscillating at low power operation, and the semiconductor laser device B is a high-power laser device having a higher output limit than the semiconductor laser device A. Thus, an optical pickup for MD can be configured without requiring an additional circuit for high frequency superposition.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ストライプ構造を半導体レーザ素子のチップ中心から偏
った位置に形成するとともに、サブマントに略90度で
交差する複数のマウント面を形成し、レーザ光が略平行
に出射され、かつ、レーザ光出射位置が、前記マウント
面側であって、マウント面が交差する稜線に近接する位
置となるように、前記マウント面上に前記半導体レーザ
素子を配置することとしたので、半導体レーザ素子の放
熱を良好に行って温度特性の悪化を低減するとともに、
二波長の平行レーザ光を出力するレーザ装置を簡便に生
産性よく得ることができる。As described above, according to the present invention,
The stripe structure is formed at a position deviated from the center of the chip of the semiconductor laser element, and a plurality of mounting surfaces that intersect the submant at approximately 90 degrees are formed, so that the laser light is emitted substantially in parallel, and the laser light emission position is The semiconductor laser device is arranged on the mount surface so as to be located on the mount surface side and at a position close to a ridge line at which the mount surface intersects. To reduce the deterioration of temperature characteristics,
A laser device that outputs two wavelengths of parallel laser light can be easily obtained with high productivity.
【図1】本発明及び比較例の一形態の正面を示す図であ
る。FIG. 1 is a front view of one embodiment of the present invention and a comparative example.
【図2】前記形態の主要部を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a main part of the embodiment.
【図3】ストライプがチップの一方に偏った半導体レー
ザ素子の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a semiconductor laser device in which a stripe is biased to one side of a chip.
10,10A,10B…基板 12,16…クラッド層 14…活性層 18…絶縁層 20…ストライプ 22,24,32A,32B,34A,34B,54…
電極 26…発光点 30A,30B…ヘテロ構造 36A,36B…稜線側チップ側面 38A,38B…ワイヤ 40A,40B…光出射位置 50…サブマウント 52A,52B…マウント面 56…稜線 A,B…レーザ素子10, 10A, 10B ... substrates 12, 16 ... cladding layer 14 ... active layer 18 ... insulating layer 20 ... stripes 22, 24, 32A, 32B, 34A, 34B, 54 ...
Electrode 26 Light-emitting point 30A, 30B Heterostructure 36A, 36B Ripple-side chip side surface 38A, 38B Wire 40A, 40B Light-emitting position 50 Submount 52A, 52B Mounting surface 56 Ridge A, B Laser element
Claims (2)
ブマウント上に複数搭載した半導体レーザ装置におい
て、 前記ストライプ構造を、前記半導体レーザ素子のチップ
中心から偏った位置に形成するとともに、 前記サブマントに、略90度で交差する複数のマウント
面を形成し、 レーザ光が略平行に出射され、かつ、レーザ光出射位置
が、前記マウント面側であって、マウント面が交差する
稜線に近接する位置となるように、前記マウント面上に
前記半導体レーザ素子を配置したことを特徴とする半導
体レーザ装置。1. A semiconductor laser device having a plurality of semiconductor laser elements having a stripe structure mounted on a submount, wherein the stripe structure is formed at a position deviated from the center of a chip of the semiconductor laser element. A plurality of mounting surfaces that intersect at 90 degrees are formed, and the laser light is emitted substantially in parallel, and the laser light emission position is on the mounting surface side and is a position close to a ridge line where the mounting surfaces intersect. A semiconductor laser device having the semiconductor laser element arranged on the mount surface as described above.
したことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装
置。2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein an interval between the laser beams is set to 100 μm or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36725297A JPH11186658A (en) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | Semiconductor laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36725297A JPH11186658A (en) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | Semiconductor laser device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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-
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- 1997-12-24 JP JP36725297A patent/JPH11186658A/en active Pending
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