JPH1075051A - Visual inspection device - Google Patents

Visual inspection device

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JPH1075051A
JPH1075051A JP9180096A JP18009697A JPH1075051A JP H1075051 A JPH1075051 A JP H1075051A JP 9180096 A JP9180096 A JP 9180096A JP 18009697 A JP18009697 A JP 18009697A JP H1075051 A JPH1075051 A JP H1075051A
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JP
Japan
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center
gravity
inspection
light source
reflected light
Prior art date
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Pending
Application number
JP9180096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuji Imai
勝次 今井
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
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Publication of JPH1075051A publication Critical patent/JPH1075051A/en
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the illuminance irregularity for the objects of inspection, in an visual inspection device. SOLUTION: Circular illumination light sources L1-L5, capable of adjustment of brightness are provided in tiers in vertical direction at the inside periphery face of a semicircular dome 7, and the brightness of the circular illumination sources L1-L5 in each stage can be adjusted and controlled by a probability distribution illumination producing circuit 6. A board 9 is arranged under the circular illumination light sources L1-L5, and the probability distribution illumination producing circuit 6 adjusts the brightness of circular illumination light sources at each stage, so that the brightness of the circular illumination light sources at the specified stage may be higher and that the brightness of the circular illumination light sources at the periphery of its specified stage. Under this illumination, the image of the solder fillets 11 on the board 9 are picked up by an image pickup device 3. Hereafter, a computer 5 switches the angle of illumination to the board by changing the specified stage high in brightness. At each of this switching, the said image pickup device 3 picks up the image of the object of inspection.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外観検査装置に係
り、特に電子部品の実装基板におけるはんだ付け部の外
観検査に適した外観検査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a visual inspection device, and more particularly to a visual inspection device suitable for visual inspection of a soldered portion on a mounting board of an electronic component.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子部品の実装基板のはんだ
付け部を光学的に外観検査する装置は、種々提案されて
いる。これらの装置は、照明を検査対象物であるはんだ
付け部に当てて、その画像をCCDカメラ等の撮像装置
にて取り込み、その取り込んだ画像に基づいてコンピュ
ータにてその外観を判定するものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, various devices have been proposed for optically inspecting the appearance of a soldered portion of a mounting board for electronic components. In these apparatuses, illumination is applied to a soldering portion to be inspected, the image is captured by an imaging device such as a CCD camera, and the appearance is determined by a computer based on the captured image. .

【0003】これら従来の外観検査装置を分類すると、
凡そ次の5種類に分類することができる。 1)1段の照明装置を検査対象を取り囲むように配置し
て環状照明を行い、取り込んだ画像に基づいて領域数判
定を行うもの。
[0003] When these conventional visual inspection devices are classified,
It can be roughly classified into the following five types. 1) A device in which a one-stage illumination device is arranged so as to surround an inspection target, performs annular illumination, and determines the number of regions based on a captured image.

【0004】2)上下2段の照明装置を検査対象物に対
して取り囲むように環状に配置して、それぞれの段の照
明装置を切り替え照明を行い、切替え前の画像と切替え
後の画像データとの差分をとり、その差分判定を行うも
の。
[0004] 2) An upper and lower two-stage illuminating device is annularly arranged so as to surround the inspection object, and the illuminating device of each stage is switched and illuminated. That takes the difference between the two and determines the difference.

【0005】3)多段の照明装置を検査対象物に対して
取り囲むように環状に配置して、それぞれの段の照明装
置の切替照明を行い、それぞれの段の照明において取り
込んだ画像の面積判定を行うもの。
[0005] 3) A multi-stage lighting device is arranged in a ring shape so as to surround the inspection object, the switching lighting of the lighting device of each stage is performed, and the area of the image captured by the lighting of each stage is determined. What to do.

【0006】4)多段の照明装置を検査対象物に対して
取り囲むように環状に配置して、全段の照明装置を一括
照明を行い、取り込んだ画像に基づいて面積判定を行う
もの。
[0006] 4) Multi-stage lighting devices are arranged in a ring shape so as to surround the inspection object, all the lighting devices are collectively illuminated, and the area is determined based on the captured image.

【0007】5)多段の照明装置を検査対象物に対して
取り囲むように環状に配置して、それぞれの段の照明装
置の切替照明を行い、それぞれの段の照明において取り
込んだ画像に基づいて2次元行列判定を行うもの。
[0007] 5) A multi-stage lighting device is annularly arranged so as to surround the inspection object, and the switching lighting of the lighting device of each stage is performed. Performs dimensional matrix judgment.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、1)の技術
においては、はんだ付け状態が区別できない問題があ
る。その例を図64及び図65に基づいて説明する。
However, the technique 1) has a problem that the soldering state cannot be distinguished. An example thereof will be described with reference to FIGS.

【0009】図64(a)及び図65(a)は、電子部
品に対するはんだ付け状態の側面図であり、図64
(b)及び図65(b)は、上方から撮像装置を介して
取り込んだ画像データであって、ハッチング部分は、所
定値以上の反射率があった領域(以下、像という)Wを
表している(以下、画像データにおける従来技術及び実
施の形態において同じ)。
FIGS. 64 (a) and 65 (a) are side views showing a state of soldering to an electronic component.
(B) and FIG. 65 (b) are image data captured from above through the imaging device, and a hatched portion represents a region (hereinafter, referred to as an image) W having a reflectance equal to or higher than a predetermined value. (Hereinafter, the same applies to the related art and the embodiment of the image data).

【0010】図64(a)では、電子部品の電極52と
はんだ53とが接合されており、図65(a)では、電
極52とはんだ53とが接合されていないものである。
そして、この両図(a)の状態を撮像装置により取り込
んだ画像データは両図64(b)及び図65(b)に示
すように全く同じものとなる。従って、このような状態
のものでは、判別がつかず、はんだ付け不良を検出でき
ないことになる。
In FIG. 64 (a), the electrode 52 of the electronic component and the solder 53 are joined, and in FIG. 65 (a), the electrode 52 and the solder 53 are not joined.
Then, the image data captured by the image pickup apparatus in the state of both FIGS. (A) is exactly the same as shown in FIGS. 64 (b) and 65 (b). Therefore, in such a state, the determination cannot be made, and a defective soldering cannot be detected.

【0011】前記2)の技術では、判定方法が差分値に
基づいて判定するため、ノイズに弱いという欠点があ
る。撮像装置によって撮影する以上、同一のものを撮影
したつもりでも、ノイズが混入した場合、差分値は0と
はならない。例えば、図66(a)に示すように全く未
はんだの場合、2回の撮影の結果は、図66(b)及び
(c)のように分かれる可能性がある。図66(d)は
図66(b)の画像と同図66(c)の画像との差分を
とった後の画像データである。シェーディングむらによ
るノイズは非常に発生範囲が広い種類のものであり、突
発的に発生する。補正方法はあるが、誤差を丸める手法
であり、むらを一様にならすことは不可能である。差分
値は領域の広さが広くなると大きくなるため閾値を簡単
に超える恐れがあり、また防ぐ方法もないため、この差
分による検査方法ははんだ検査方法の技術としては不完
全である。
The technique 2) has a drawback that it is susceptible to noise because the determination method is based on the difference value. As long as the image is taken by the imaging device, the difference value does not become 0 when noise is mixed even if the same thing is intended to be taken. For example, as shown in FIG. 66 (a), when there is no soldering, the result of the two shootings may be divided as shown in FIGS. 66 (b) and (c). FIG. 66D shows image data after the difference between the image of FIG. 66B and the image of FIG. 66C is obtained. Noise due to shading unevenness is of a kind that has a very wide range of occurrence, and occurs suddenly. Although there is a correction method, it is a method of rounding an error, and it is impossible to make unevenness uniform. Since the difference value increases as the area becomes larger, the difference value may easily exceed the threshold value, and there is no method for preventing the difference value. Therefore, the inspection method based on the difference is incomplete as a technique of the solder inspection method.

【0012】前記3)及び4)の技術は、多段照明を検
査対象物に照射することにより、全く同一の画像となる
ことはなく、1)の問題を解消している。また、面積値
を算出するに当たり2値化処理を行うが、シェーディン
グむらの生じる輝度範囲と照明光による輝度範囲は大き
く異なるため、この処理時にシェーディングむらは切り
落とされることにより、2)のノイズの問題を解消して
いる。
The techniques 3) and 4) eliminate the problem 1) by irradiating the inspection object with multi-stage illumination, so that the same image is not obtained. In addition, when the area value is calculated, binarization processing is performed. However, since the luminance range in which shading unevenness occurs and the luminance range due to illumination light are significantly different, shading unevenness is cut off during this processing, and the problem of 2) noise occurs. Has been eliminated.

【0013】しかし、面積値による判定を行うときに、
図67〜図69に示す問題がある。図67(a)は電子
部品の電極52の角が丸い場合を示しており、図68
(a)ははんだは電子部品の電極52に接合してはいる
が、低位置照明光による像が同電極52のエッジ側に寄
っている場合を示している。
However, when making a determination based on the area value,
There is a problem shown in FIGS. FIG. 67A shows a case where the corner of the electrode 52 of the electronic component is round, and FIG.
(A) shows the case where the solder is bonded to the electrode 52 of the electronic component, but the image by the low-position illumination light is shifted to the edge side of the electrode 52.

【0014】図67(b)及び図68(b)はそれぞれ
図67(a)及び図68(a)の画像データである。図
67(b)及び図68(b)には像Wの現れる位置に微
少の差があるため、理論的には判別可能である。しか
し、実際には電子部品を実装するための機械的な誤差が
生じるために判定の境界を定めることが難しい。そのた
め、未はんだ品を誤って検査ラインから通すことがない
ように検査基準を厳格にする必要がある。このため、全
体的には認識率を低下させることになる。
FIGS. 67 (b) and 68 (b) show the image data of FIGS. 67 (a) and 68 (a), respectively. Since there is a slight difference in the position where the image W appears in FIGS. 67 (b) and 68 (b), it can be theoretically determined. However, in practice, it is difficult to determine the boundary of the determination because a mechanical error occurs in mounting the electronic component. Therefore, it is necessary to tighten the inspection standards so that unsoldered products do not accidentally pass through the inspection line. For this reason, the recognition rate is reduced as a whole.

【0015】又、図69(a)は、はんだ53が電子部
品の電極52に接合している状態を示し、図69(b)
ははんだ53が同電極52に対して未はんだ状態である
ことを示している。上記の2つの状態を撮像した場合、
面積判定を行うために2値化を行うと、両者の画像にほ
とんど差がなくなってしまう問題がある。理論的にはわ
ずかな差があるが、実際にはノイズが生じるために両者
の識別は容易ではない。さらに、図69(a)の電子部
品の電極52上部まではんだが接合されている場合に
は、過はんだとして判定してもよいが、問題を生じない
ためには同電極52にわずかでもはんだが被っている場
合には、はんだ不良として判定する必要がある。従っ
て、図69(a)に示すはんだ付け状態をはんだ不良と
判定しなかった場合には、検査による製品の歩留まりに
正確さを欠くおそれも生じる。
FIG. 69 (a) shows a state where the solder 53 is joined to the electrode 52 of the electronic component, and FIG. 69 (b)
Indicates that the solder 53 is not soldered to the electrode 52. When the above two states are imaged,
If binarization is performed to determine the area, there is a problem that there is almost no difference between the two images. Although there is a slight difference in theory, it is not easy to discriminate between the two due to noise actually occurring. Further, when the solder is joined to the upper part of the electrode 52 of the electronic component in FIG. 69 (a), it may be determined that the solder is over-soldering. If it does, it must be determined as a solder defect. Therefore, if the soldering state shown in FIG. 69 (a) is not determined to be a solder defect, there is a possibility that the yield of the product by inspection lacks accuracy.

【0016】5)の技術においてはパターンマッチング
を行っており、2次元行列判定を行う場合には条件数が
多くなり、全てのケースを網羅すると画像処理プログラ
ムが膨大となってしまう。そのため、現実的には全ての
ケースを網羅することは不可能であり、チェックもれに
よって誤認識を生じ易い問題がある。
In the technique 5), pattern matching is performed, and when performing two-dimensional matrix determination, the number of conditions increases, and if all cases are covered, the image processing program becomes enormous. Therefore, it is practically impossible to cover all cases, and there is a problem that erroneous recognition easily occurs due to missing check.

【0017】上記のような従来技術において、2),
3),5)の技術は環状照明光源をオン・オフによって
他の段の環状照明光源に切換えるようにしている。例え
ば、特開平5−303627号公報の技術では、環状多
段照明を順次切換え照射し、この切換え毎に撮像カメラ
にて撮像することにより、はんだ付け部の品質検査を行
うようにしている。
In the prior art as described above, 2),
The techniques 3) and 5) switch the annular illumination light source to another stage of the annular illumination light source by turning on and off. For example, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-303627, the quality of the soldered portion is inspected by sequentially switching and irradiating the annular multi-stage illumination, and taking an image with an imaging camera for each switching.

【0018】しかし、光源をオン・オフによって切換え
照明を行うと、残像効果により検査対象物に照度むらが
生じ易い問題がある。本発明は上記問題点を解決するた
めになされたものであって、検査対象物の照度むらを軽
減することができる外観検査装置を提供することにあ
る。
However, when illumination is performed by switching the light source between on and off, there is a problem that illuminance unevenness easily occurs on the inspection object due to an afterimage effect. The present invention has been made in order to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a visual inspection device capable of reducing uneven illuminance of an inspection object.

【0019】さらに、他の目的は、画像データの処理が
簡略化されるとともに高精度に検査対象物の外観を検査
することができる外観検査装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an appearance inspection apparatus which can simplify the processing of image data and can inspect the appearance of an inspection object with high accuracy.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、請求項1記載の発明は、輝度が調整可能な環状照明
光源を複数段備えた検査用光源と、各段の環状照明光源
の輝度を調整制御する光源制御手段と、環状照明光源下
に配置される検査対象物を撮像する撮像手段と、前記光
源制御手段により、複数段の環状照明光源のうち所定段
の環状照明光源の輝度を高くその所定段周辺部の環状照
明光源の輝度を低くした状態で、その所定段を変更する
ことにより、検査対象物に対する照射角度を他段階に切
換制御する照射制御手段と、を含む外観検査装置をその
要旨としている。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 comprises an inspection light source having a plurality of annular illumination light sources whose brightness can be adjusted, and an annular illumination light source of each stage. A light source control unit for adjusting and controlling the luminance; an imaging unit for imaging an inspection object arranged under the annular illumination light source; and the luminance of a predetermined stage of the annular illumination light source among the plurality of annular illumination light sources by the light source control unit. An illumination control means for controlling the switching of the irradiation angle to the inspection object to another stage by changing the predetermined stage in a state where the luminance of the annular illumination light source around the predetermined stage is lowered. The device is the gist.

【0021】請求項2の発明は、請求項1において、前
記光源制御手段は、前記複数段の環状照明光源の輝度分
布が確率分布となるように調整することをその要旨とし
ている。
The gist of the invention of claim 2 is that, in claim 1, the light source control means adjusts the luminance distribution of the plurality of annular illumination light sources to be a probability distribution.

【0022】請求項3の発明は、請求項1又は請求項2
において、撮像手段から得た撮像データに基づいて検査
対象物の反射光分布データを得る反射光分布取得手段
と、検査対象物に対する照射角度を他段階に切換して、
得た各反射光分布データに基づいて各反射光分布データ
における反射光分布領域の重心を算出する重心算出手段
と、前記重心算出手段にて得られた各反射光分布データ
における重心位置に基づいて重心の移動軌跡を判定する
重心移動軌跡判定手段と、重心移動軌跡の標準データを
記憶する記憶手段と、前記記憶手段が記憶した標準デー
タと、前記重心移動軌跡判定手段が判定した重心移動軌
跡データとを比較し、検査対象物の外観を判定する外観
判定手段とを含むことをその要旨としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the first or second aspect.
In, reflected light distribution obtaining means for obtaining reflected light distribution data of the inspection object based on the imaging data obtained from the imaging means, by switching the irradiation angle to the inspection object to another stage,
A center of gravity calculating means for calculating the center of gravity of the reflected light distribution area in each reflected light distribution data based on each of the obtained reflected light distribution data; and a barycentric position in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculating means. A center-of-gravity movement trajectory determining means for determining a center-of-gravity movement trajectory; a storage means for storing standard data of the center-of-gravity movement trajectory; a standard data stored by the storage means; And an appearance determination unit that determines the appearance of the object to be inspected.

【0023】請求項4の発明は、請求項3に記載の外観
検査装置において、前記照射制御手段により前記検査用
光源のうち検査対象物に対して低角度の光源から該検査
対象物に照明光を照射させてその反射光量を測定し、該
反射光量に基づいて該検査対象物の平坦性を検出する平
坦検出手段を含むことをその要旨としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the appearance inspection apparatus according to the third aspect, the irradiation control means illuminates the inspection object with a light from a light source at a low angle with respect to the inspection object among the inspection light sources. It is intended to include a flat detecting means for measuring the amount of reflected light by irradiating the object and detecting the flatness of the inspection object based on the amount of reflected light.

【0024】請求項5の発明は、請求項1又は請求項2
において、撮像手段から得た撮像データに基づいて検査
対象物の反射光分布データを得る反射光分布取得手段
と、検査対象物に対する照射角度を他段階に切換して、
得た各反射光分布データに基づいて各反射光分布データ
における反射光分布領域の重心を算出する重心算出手段
と、前記重心算出手段にて得られた各反射光分布データ
における重心位置に基づいて重心の移動軌跡を判定する
重心移動軌跡判定手段と、前記重心移動軌跡判定手段が
判定した重心移動軌跡データに基づいて検査対象物のは
んだブリッジの有無を判定するはんだブリッジ有無判定
手段とを含むことをその要旨としている。
The invention of claim 5 is the invention of claim 1 or claim 2.
In, reflected light distribution obtaining means for obtaining reflected light distribution data of the inspection object based on the imaging data obtained from the imaging means, by switching the irradiation angle to the inspection object to another stage,
A center of gravity calculating means for calculating the center of gravity of the reflected light distribution area in each reflected light distribution data based on each of the obtained reflected light distribution data; and a barycentric position in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculating means. A center-of-gravity movement trajectory determining means for determining a center-of-gravity movement trajectory; and a solder bridge presence / absence determination means for determining presence / absence of a solder bridge of the inspection object based on the center-of-gravity movement trajectory data determined by the center-of-gravity movement trajectory determination means Is the gist.

【0025】(作用)請求項1及び請求項2の構成によ
れば、検査対象物を検査用光源下に配置し、この状態で
まず光源制御手段は所定段の環状照明光源の輝度を高
く、その所定段周辺部の環状照明光源の輝度を低くなる
ように各段の環状照明光源の輝度を調整し、この照明下
で撮像手段により、検査対象物を撮像する。以下、照射
制御手段は、輝度が高い所定段を変更して、検査対象物
に対する照射角度を切換制御する。この切換制御毎に、
前記撮像手段は、検査対象物を撮像する。また前記光源
制御手段は、前記複数段の環状照明光源の輝度分布が確
率分布となるように調整する。
According to the first and second aspects of the present invention, the inspection object is placed under the inspection light source, and in this state, the light source control means first increases the luminance of the annular illumination light source of the predetermined stage. The brightness of the annular illumination light source in each stage is adjusted so that the brightness of the annular illumination light source in the periphery of the predetermined stage is reduced, and an imaging object is imaged by the imaging means under this illumination. Hereinafter, the irradiation control means controls the switching of the irradiation angle with respect to the inspection object by changing the predetermined stage having a high luminance. For each switching control,
The imaging unit captures an image of the inspection target. Further, the light source control means adjusts the luminance distribution of the plurality of annular illumination light sources so as to be a probability distribution.

【0026】本発明において、従来技術と異なるところ
は、多段環状照明による問題がないというところにあ
る。従来の多段環状照明法では、各段の環状照明光源を
オン・オフして切換え照明する方法である。しかし、こ
の方法は照明の光度が境界で著しく変化し、例えば実装
基板のはんだ付け部を検査する場合、図70(a)に示
すようにはんだ付け部(はんだフィレット)53表面の
酸化膜54の状態や、図71(a)に示すようにブロー
ホール55等の微妙な凹凸によって、画像データとして
は図70(b)又は、図71(b)の左に示すように1
つの反射光による輝点56が2つに分かれてしまう問題
がある。なお、図71(b)の右に示すのは、輝点56
が分裂しない場合の画像データである。このような場
合、その部分を1つの領域として扱いたくても、輝点5
6における反射率(輝度)に応じて取り込んだ画像デー
タを領域分割する時に2つに分裂する。
The present invention differs from the prior art in that there is no problem due to the multistage annular illumination. The conventional multi-stage annular illumination method is a method in which the annular illumination light source of each stage is turned on / off to perform switching illumination. However, in this method, the luminous intensity of the illumination significantly changes at the boundary. For example, when inspecting the soldering portion of the mounting board, as shown in FIG. 70A, the oxide film 54 on the surface of the soldering portion (solder fillet) 53 is formed. Due to the state and delicate unevenness of the blow hole 55 and the like as shown in FIG. 71 (a), image data as shown in FIG. 70 (b) or FIG.
There is a problem that the bright spot 56 due to one reflected light is divided into two. Note that the right side of FIG.
Is image data in the case where is not divided. In such a case, even if it is desired to treat that part as one area, the bright spot 5
When the image data taken in according to the reflectance (luminance) in No. 6 is divided into regions, it is split into two.

【0027】それに対して、本発明の複数段の環状照明
光源の照明法は、所定の段における環状光源の光度をピ
ークとし、そのピーク点からある基準範囲内の裾野をも
って光度が低下するように他の段の環状照明光源を確率
分布関数に従って照明するものである。このような確率
分布形の照明強度の光を検査対象物に照射すると、微妙
な凹凸部分にも明暗が生ずることはなく、微妙な凹凸部
分は、実際には強い光同士が干渉しあって一体化して撮
像される。従って、本発明では、照度むらが生ずること
はない。
On the other hand, in the illumination method of the annular illumination light source having a plurality of stages according to the present invention, the luminous intensity of the annular light source at a predetermined stage is set as a peak, and the luminous intensity is reduced at a base within a certain reference range from the peak point. This illuminates the annular illumination light source of another stage according to the probability distribution function. When light of such a probability distribution type illumination intensity is applied to the inspection object, no light and dark occurs in subtle irregularities, and intense light actually interferes with each other in the subtle irregularities. And imaged. Therefore, in the present invention, illuminance unevenness does not occur.

【0028】なお、画像処理の1手法には平滑化フィル
ターがある。この平滑化フィルターにより、このような
微妙な凹凸部分をうめてしまうことも可能であるが、実
際の観測すべき部分もつぶれてしまう弊害がある。又、
照明光を散光するために拡散板を用いる方法もあるが、
拡散板を使用すると、光が広範囲に広がってしまい、後
の処理、例えば、認識処理において認識率が悪化する。
One method of image processing includes a smoothing filter. Although it is possible to fill such a fine uneven portion with this smoothing filter, there is a problem that a portion to be actually observed is crushed. or,
There is also a method using a diffuser to diffuse the illumination light,
When a diffuser is used, light is spread over a wide area, and the recognition rate is deteriorated in subsequent processing, for example, in recognition processing.

【0029】本発明における確率分布形照明では、光は
拡散せず(実際には、多少の拡散は伴うが、互いに隣接
する他の段の光源による光同士が互いに干渉するため、
拡散が抑制される)、検査対象物に対して照明光を集中
させることができる。
In the probability distribution type illumination according to the present invention, light is not diffused (actually, there is some diffusion, but light from light sources in other stages adjacent to each other interferes with each other.
Diffusion is suppressed), and the illumination light can be concentrated on the inspection object.

【0030】さらに、従来の多段環状照明法では、切換
え照明により、検査対象物の表面をミクロ的に検査する
ことになる。従って、検査対象物の表面の微妙な凹凸に
起因する反射光のむらの影響を強く受けることになる。
このようなミクロ的な検査対象物(例えば、はんだ付け
部)の形状認識を行おうとすると、どこが凹んでいると
か、凹んでいる長さはどれくらいといった条件を細かく
設定する必要がある。この発明では、形状認識をマクロ
的に行うため、このような条件設定は必要ではなく、容
易に形状認識を行うことが可能である。
Further, in the conventional multistage annular illumination method, the surface of the inspection object is inspected microscopically by switching illumination. Therefore, it is strongly affected by the unevenness of the reflected light due to the fine irregularities on the surface of the inspection object.
When trying to recognize the shape of such a microscopic inspection object (for example, a soldered portion), it is necessary to precisely set conditions such as where the concave is and how long the concave is. In the present invention, since the shape recognition is performed macroscopically, such condition setting is not necessary, and the shape recognition can be easily performed.

【0031】また、請求項3の構成によれば、反射光分
布取得手段は、撮像手段から得た撮像データに基づいて
検査対象物の反射光分布データを得る。重心算出手段
は、検査対象物に対する照射角度を他の段に切換して、
得た各反射光分布データに基づいて各反射光分布データ
における反射光分布領域の重心を算出する。重心移動軌
跡判定手段は、前記重心算出手段にて得られた各反射光
分布データにおける重心位置に基づいて重心の移動軌跡
を判定する。外観判定手段は、記憶手段が記憶した標準
データと、前記重心移動軌跡判定手段が判定した重心移
動軌跡データとを比較し、検査対象物の外観を判定す
る。
According to the third aspect of the present invention, the reflected light distribution obtaining means obtains reflected light distribution data of the inspection object based on the image data obtained from the imaging means. The center of gravity calculating means switches the irradiation angle with respect to the inspection object to another stage,
The center of gravity of the reflected light distribution area in each reflected light distribution data is calculated based on each of the obtained reflected light distribution data. The center of gravity movement trajectory determining means determines the center of gravity movement trajectory based on the position of the center of gravity in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculation means. The appearance determining unit compares the standard data stored in the storage unit with the center-of-gravity moving trajectory data determined by the center-of-gravity moving trajectory determining unit to determine the appearance of the inspection object.

【0032】また請求項4の構成によれば、上述した請
求項3の構成と同様の構成によって検査対象物の外観を
判定するとともに、平坦検出手段は、前記照射制御手段
を前記検査用光源のうち検査対象物に対して低角度から
の光源を該検査対象物に照射させてその反射光量を測定
する。そして、該反射光量に基づいて該検査対象物の平
坦性を検出する。
According to a fourth aspect of the present invention, the external appearance of the inspection object is determined by the same configuration as the third aspect of the present invention, and the flatness detection means controls the irradiation control means to control the light source of the inspection light source. The inspection object is irradiated with a light source from a low angle, and the amount of reflected light is measured. Then, the flatness of the inspection object is detected based on the reflected light amount.

【0033】また請求項5の発明によれば、反射光分布
取得手段は、撮像手段から得た撮像データに基づいて検
査対象物の反射光分布データを得る。重心算出手段は、
検査対象物に対する照射角度を他段階に切換して、得た
各反射光分布データに基づいて各反射光分布データにお
ける反射光分布領域の重心を算出する。重心移動軌跡判
定手段は、重心算出手段にて得られた各反射光分布デー
タにおける重心位置に基づいて重心の移動軌跡を判定す
る。はんだブリッジ有無判定手段は、重心移動軌跡判定
手段が判定した重心移動軌跡データに基づいて検査対象
物のはんだブリッジの有無を判定する。
According to the fifth aspect of the present invention, the reflected light distribution obtaining means obtains reflected light distribution data of the inspection object based on the image data obtained from the imaging means. The center of gravity calculation means,
The irradiation angle with respect to the inspection object is switched to another stage, and the center of gravity of the reflected light distribution area in each reflected light distribution data is calculated based on the obtained reflected light distribution data. The center of gravity movement trajectory determination means determines the center of gravity movement trajectory based on the position of the center of gravity in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculation means. The solder bridge presence / absence determination means determines the presence / absence of a solder bridge of the inspection object based on the center-of-gravity movement trajectory data determined by the center-of-gravity movement trajectory determination means.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(第1の実施の形態)以下、本発明を具体化した一実施
の形態を図1〜図26に従って説明する。
(First Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0035】図1(a)は本実施の形態の外観検査装置
(以下、単に「装置」と記す)1の全体概略構成図であ
る。この装置1は、大きくは照明装置2、撮像デバイス
3、画像処理デバイス4、コンピュータ5、同コンピュ
ータ5にて制御される確率分布照明生成回路6とから構
成され、はんだ付部の外観検査を行うものである。
FIG. 1A is an overall schematic configuration diagram of an appearance inspection apparatus (hereinafter, simply referred to as “apparatus”) 1 of the present embodiment. This apparatus 1 is mainly composed of an illumination device 2, an imaging device 3, an image processing device 4, a computer 5, and a probability distribution illumination generation circuit 6 controlled by the computer 5, and performs an appearance inspection of a soldered portion. Things.

【0036】照明装置2は、半球状をなすドーム7と、
同ドーム7の内周面に設けられた複数のLED8とから
構成されている。この実施の形態では複数のLED8は
上下5段となるように、第1段から第5段の各段におい
て等間隔に環状に配置されており、第1段環状照明光源
L1〜第5段環状照明光源L5とされている。すべての
光源からの光を等価に扱う点で等間隔が望ましいが、必
ずしも等間隔である必要はない。前記LED8は単なる
オン・オフ制御のみでなく、最小輝度Lmin から最大輝
度Lmax まで段階的に調節可能なものである。
The illumination device 2 comprises a dome 7 having a hemispherical shape,
The dome 7 includes a plurality of LEDs 8 provided on the inner peripheral surface. In this embodiment, the plurality of LEDs 8 are annularly arranged at equal intervals in each of the first to fifth stages so as to be five stages vertically, and the first stage annular illumination light source L1 to the fifth stage annular The illumination light source L5 is used. Equal intervals are desirable in terms of treating light from all light sources equally, but they are not necessarily equal. The LED 8 can be adjusted not only by simple on / off control but also stepwise from a minimum luminance Lmin to a maximum luminance Lmax.

【0037】ドーム7の上部中央には開口部が設けられ
ており、同開口部には撮像デバイス3が配置されてい
る。本実施の形態では、撮像デバイス3はCCDカメラ
から構成されている。撮像デバイス3は画像処理デバイ
ス4を介してコンピュータ5に接続されている。また、
コンピュータ5は、確率分布照明生成回路6を制御して
前記各段のLED8の輝度を調整して照明させる。
An opening is provided in the upper center of the dome 7, and the imaging device 3 is arranged in the opening. In the present embodiment, the imaging device 3 is constituted by a CCD camera. The imaging device 3 is connected to a computer 5 via an image processing device 4. Also,
The computer 5 controls the probability distribution illumination generation circuit 6 to adjust the luminance of the LEDs 8 at the respective stages to illuminate.

【0038】なお、図1(a)においてはドーム7は断
面で示され、また、基板9はその上面に電子部品の電極
10とはんだ付部(以下、はんだフィレットという)1
1とが接合された状態で図示されている。
In FIG. 1A, the dome 7 is shown in cross section, and the substrate 9 has electrodes 10 of an electronic component and soldered portions (hereinafter referred to as solder fillets) 1 on its upper surface.
1 are shown in a state where they are joined.

【0039】ここで、撮像デバイス3が取り込む画像の
内、画像処理される基板9上の範囲と、画像処理される
画像データとの対応を図2に従って説明する。図2
(b)は図2(a)に示すはんだフィレット11断面の
平面図を示し、図2(b)の点線で示す所定の枠Dが画
像処理される基板9上の範囲を示すものである(以下、
単に「枠D」と記す)。なお、実際に撮像デバイス3が
取り込む基板9上の画像範囲は枠Dより広い。また、画
像図2(b)に示すように、枠Dには電子部品の電極1
0の一部も含まれる。
Here, the correspondence between the area on the substrate 9 to be image-processed and the image data to be image-processed in the image captured by the imaging device 3 will be described with reference to FIG. FIG.
2B shows a plan view of a cross section of the solder fillet 11 shown in FIG. 2A, and a predetermined frame D indicated by a dotted line in FIG. Less than,
Simply referred to as “frame D”). Note that the image range on the substrate 9 actually captured by the imaging device 3 is wider than the frame D. In addition, as shown in the image FIG.
Part of 0 is also included.

【0040】撮像デバイス3により取り込まれる画像の
うち枠D内の画像は、画像処理デバイス4により図2
(c)に示すような縦横m×n(1≦p≦m,1≦q≦
n)個のマトリックス状画像ドットデータに変換され、
画像処理デバイス4以下、画像はドットデータとして処
理される。因みに、図2(c)に示す(1,1)ドット
は、枠Dの左上隅Aに対応するドットデータである。
The image in the frame D among the images captured by the imaging device 3 is
M × n (1 ≦ p ≦ m, 1 ≦ q ≦
n) is converted into matrix image dot data,
From the image processing device 4 onward, the image is processed as dot data. Incidentally, the (1, 1) dot shown in FIG. 2C is dot data corresponding to the upper left corner A of the frame D.

【0041】なお、図2(b)においてKは検査線を示
す。この検査線Kは、マトリックス状の画像ドットデー
タ上に設定される1ドット幅のデータ線であり、基板9
上に設定されるものではない。
In FIG. 2B, K indicates an inspection line. The inspection line K is a data line of one dot width set on the matrix image dot data.
Not set above.

【0042】また、図2(b)において、Qは前記検査
線K上の所定幅を示す。またtは、枠Dの左端を原点と
した同右端方向への座標軸を示し、t1 は枠D内におけ
る電極10端面の位置座標である。なお、このtの座標
軸方向と、図2(c)に示すqの座標軸方向とは等し
い。
In FIG. 2B, Q indicates a predetermined width on the inspection line K. Also, t indicates a coordinate axis in the direction of the right end with the left end of the frame D as the origin, and t1 indicates the position coordinates of the end face of the electrode 10 in the frame D. The direction of the coordinate axis of t is equal to the direction of the coordinate axis of q shown in FIG.

【0043】次に、前記確率分布照明生成回路6を図3
を参照して説明する。コンピュータ5の出力ポートであ
るI/Oポート13には、D/Aチャンネル0〜D/A
チャンネル8(以下、「CH0」〜「CH8」と記す)
が接続されており、各CH0〜CH8の出力は電圧フォ
ロア回路14の非反転入力端子に接続されている。各電
圧フォロア回路14の出力端子は、各々抵抗R1を介し
てトランジスタTRのベースに接続されている。各トラ
ンジスタTRのコレクタは、前記LED8の各々24個
ずつからなる直列回路を介して直流電源(48V)に接
続されている。なお、図3において、LED8には各チ
ャンネル別に2桁又は3桁の添字を付す。この2桁また
は3桁の添字のうち先頭の桁はチャンネルを表し、他の
桁はそのチャンネルにおけるLED8の個別番号を示し
ている。各トランジスタTRのエミッタは各々抵抗R2
を介して接地されている。それらエミッタと抵抗R2の
各接続点は前記各電圧フォロア回路14の反転入力端子
に接続されている。
Next, the probability distribution illumination generation circuit 6 is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. The I / O port 13 as an output port of the computer 5 has D / A channels 0 to D / A
Channel 8 (hereinafter referred to as “CH0” to “CH8”)
Are connected, and the output of each of CH0 to CH8 is connected to the non-inverting input terminal of the voltage follower circuit 14. The output terminal of each voltage follower circuit 14 is connected to the base of the transistor TR via a resistor R1. The collector of each transistor TR is connected to a DC power supply (48 V) via a series circuit consisting of 24 LEDs 8 each. In FIG. 3, the LED 8 is given a 2-digit or 3-digit suffix for each channel. The first digit of the two- or three-digit suffix indicates a channel, and the other digits indicate the individual numbers of the LEDs 8 in that channel. The emitter of each transistor TR is connected to a resistor R2.
Grounded. Each connection point between the emitter and the resistor R2 is connected to the inverting input terminal of each voltage follower circuit 14.

【0044】確率分布照明生成回路6には各チャンネル
毎にD/Aコモン(COMMON)ポート15が設けら
れ、各D/Aコモンポート15は電圧フォロア回路14
に設けられた調整抵抗R4に接続されている。また、各
D/Aチャンネルと各D/Aコモンポート15との出力
端子間には抵抗R3が接続されるとともに各D/Aコモ
ンポート15の出力端子は接地されている。そして、前
記調整抵抗R4により、各電圧フォロア回路14のオフ
セットが予め調整されている。
The probability distribution illumination generation circuit 6 is provided with a D / A common (COMMON) port 15 for each channel, and each D / A common port 15 is provided with a voltage follower circuit 14.
Is connected to the adjustment resistor R4 provided in the first stage. A resistor R3 is connected between the output terminal of each D / A channel and each D / A common port 15, and the output terminal of each D / A common port 15 is grounded. The offset of each voltage follower circuit 14 is adjusted in advance by the adjustment resistor R4.

【0045】図4は各段における、LED8の配列を示
している。すなわち、第1段(図において段数1)は、
CH0に対応するLED8(L01〜L024 )にて構成さ
れ、これらのLED8から第1段環状照明光源L1が構
成されている。第2段(図において段数2)は、CH1
及びCH2に対応するLED8(L11〜L124 、L21〜
L224 )が交互に入り込んで配列され、これらのLED
8から第2段環状照明光源L2が構成されている。第3
段(図において段数3)は、CH3及びCH4に対応す
るLED8(L31〜L324 、L41〜L424 )が交互に入
り込んで配列され、これらのLED8から第3段環状照
明光源L3が構成されている。第4段(図において段数
4)は、CH5及びCH6に対応するLED8(L51〜
L524 、L61〜L624 )が交互に入り込んで配列され、
これらのLED8から第4段環状照明光源L4が構成さ
れている。第5段(図において段数5)は、CH7及び
CH8に対応するLED8(L71〜L724 、L81〜L82
4 )が交互に入り込んで配列され、これらのLED8か
ら第5段環状照明光源L5が構成されている。
FIG. 4 shows the arrangement of the LEDs 8 in each stage. That is, the first stage (the number of stages in the figure is 1)
The first stage annular illumination light source L1 is composed of LEDs 8 (L01 to L024) corresponding to CH0. The second stage (the number of stages in the figure) is CH1
And LED 8 corresponding to CH2 (L11 to L124, L21 to
L224) are interleaved and arranged, and these LEDs
8, a second-stage annular illumination light source L2 is formed. Third
In the stage (the number of stages is 3 in the figure), LEDs 8 (L31 to L324, L41 to L424) corresponding to CH3 and CH4 are alternately arranged and arranged, and these LEDs 8 constitute a third stage annular illumination light source L3. The fourth tier (the number of tiers in the figure is four) includes LEDs 8 (L51 to L5) corresponding to CH5 and CH6.
L524, L61 to L624) are alternately arranged and arranged,
These LEDs 8 constitute a fourth-stage annular illumination light source L4. The fifth stage (five stages in the figure) is the LED 8 (L71 to L724, L81 to L82) corresponding to CH7 and CH8.
4) are arranged alternately, and a fifth-stage annular illumination light source L5 is constituted by these LEDs 8.

【0046】従って、例えば第1段環状照明光源L1を
所定の輝度に発光させる場合、コンピュータ5は、CH
0をアドレス指定してこれに所定のデジタル信号(所定
のアナログ電圧に対応したデジタル信号、以下同様)を
入力する。するとCH0は、このデジタル信号に対応す
る所定のアナログ電圧に変換してこれを対応する電圧フ
ォロア回路14の非反転入力端子に入力する。電圧フォ
ロア回路14は、入力されたアナログ電圧を正確にトラ
ンジスタTRのベースに印加する。すると、このトラン
ジスタTRにはベースに印加された電圧に対応した所定
のコレクタ電流が流れる。つまり、CH0に入力された
所定のデジタル信号に対応した所定の電流がLED8
(L01〜L024 )に流れ、その電流量に応じてこれらの
LED8が発光する。
Therefore, for example, when the first-stage annular illumination light source L1 is caused to emit light at a predetermined luminance, the computer 5
A 0 is designated and a predetermined digital signal (a digital signal corresponding to a predetermined analog voltage, the same applies hereinafter) is input thereto. Then, CH0 converts the digital signal into a predetermined analog voltage corresponding to the digital signal and inputs the same to the non-inverting input terminal of the corresponding voltage follower circuit 14. The voltage follower circuit 14 accurately applies the input analog voltage to the base of the transistor TR. Then, a predetermined collector current corresponding to the voltage applied to the base flows through the transistor TR. That is, the predetermined current corresponding to the predetermined digital signal input to CH0 is
(L01-L024), and these LEDs 8 emit light according to the amount of current.

【0047】又、例えば第2段環状照明光源L2を所定
の輝度に発光させる場合、コンピュータ5は、CH1及
びCH2をアドレス指定してこれらにデジタル信号を入
力する。この結果、対応する電圧フォロア回路14が対
応するトランジスタTRに所定のベース電圧を印加し、
該印加された所定のベース電圧に対応した電流がLED
8(L11〜L124 、L21〜L224 )に流れ、その電流量
に応じてこれらのLED8が発光することになる。他の
段においても同様に、各々対応するD/Aチャンネルに
所定のデジタル信号が入力されることにより、そのデジ
タル信号に対応した電流が各対応するLED8に流れ、
それら電流量に応じて各段のLED8が各々所定の輝度
に発光する。
For example, when the second-stage annular illumination light source L2 emits light at a predetermined luminance, the computer 5 addresses CH1 and CH2 and inputs a digital signal to them. As a result, the corresponding voltage follower circuit 14 applies a predetermined base voltage to the corresponding transistor TR,
The current corresponding to the applied predetermined base voltage is an LED.
8 (L11 to L124, L21 to L224), and these LEDs 8 emit light according to the amount of current. Similarly, in the other stages, when a predetermined digital signal is input to the corresponding D / A channel, a current corresponding to the digital signal flows through each corresponding LED 8,
The LEDs 8 at each stage emit light with a predetermined luminance according to the amount of current.

【0048】ここで、コンピュータ5が前記各段のLE
D8を所定の輝度に発光するためにI/Oポート13か
ら確率分布照明生成回路6の各チャンネルに印加する電
圧値を算出するための計算方法等について説明する。な
お、実際このコンピュータ5のI/Oポート13から各
チャンネルに印加される電圧値はデジタル値であるが、
以下では便宜上、アナログ電圧値に換算した値として説
明する。
Here, the computer 5 operates the LE of each stage.
A calculation method and the like for calculating a voltage value applied to each channel of the probability distribution illumination generation circuit 6 from the I / O port 13 in order to emit D8 with a predetermined luminance will be described. Although the voltage value actually applied to each channel from the I / O port 13 of the computer 5 is a digital value,
Hereinafter, for convenience, the description will be made as a value converted into an analog voltage value.

【0049】図5は、検査対象である基板9と、光源
(LED)と、撮像デバイス3の撮像中心軸Mとの関係
を示している。撮像中心軸Mを通る基板9の部位を基点
Oとし、同基点Oを通過する任意の光源P(すなわちL
ED8の任意のもの)からの光軸と基板9の平面とのな
す角度をθとする。ある光源Pの光軸に関してある角度
θTYP を与えると、各段におけるそれぞれのLED8の
輝度は角度θTYP を中心値とした確率分布としてのポア
ソン分布をなすようにこの実施の形態では与えられる。
なお、図中、θcはドーム7と撮像デバイス3とが干渉
しないための物理的限界値の角度であり、θ0 はθの初
期値、すなわち、検査対象である実装基板9に実装され
た電子部品により影を作らない角度である。
FIG. 5 shows the relationship among the substrate 9 to be inspected, the light source (LED), and the imaging center axis M of the imaging device 3. A portion of the substrate 9 passing through the imaging center axis M is defined as a base point O, and any light source P (that is, L
The angle between the optical axis from the ED 8 and the plane of the substrate 9 is defined as θ. Given a certain angle θTYP with respect to the optical axis of a certain light source P, the brightness of each LED 8 at each stage is given in this embodiment so as to form a Poisson distribution as a probability distribution centered at the angle θTYP.
In the drawing, θc is an angle of a physical limit value for preventing the dome 7 and the imaging device 3 from interfering with each other, and θ0 is an initial value of θ, that is, an electronic component mounted on the mounting board 9 to be inspected. This is an angle that does not create shadows.

【0050】図6は、前記角度θTYP の光軸を有する光
源(LED)の輝度をピークとし、他の光源をポアソン
分布曲線に沿わせた場合の発光輝度分布を示している。
そしてコンピュータ5は、下記の式により、確率分布照
明生成回路6の各チャンネルに対する印加電圧(アナロ
グ換算値、以下同様)を計算する。
FIG. 6 shows a light emission luminance distribution when the luminance of the light source (LED) having the optical axis of the angle θTYP is peaked and another light source is along the Poisson distribution curve.
Then, the computer 5 calculates an applied voltage (analog converted value, hereinafter the same) for each channel of the probability distribution illumination generation circuit 6 by the following equation.

【0051】Vouti=Vconi×Ci ここで、Voutiはi段照明(i=1 ,2 ,3 ,4 ,5 )
用のコンピュータ5の出力電圧値(アナログ換算値)、
Vconiは同じくi段照明による輝度理論値から導き出さ
れる理論電圧値、Ciはその補正値である。
Vouti = Vconi × Ci where Vouti is i-stage illumination (i = 1, 2, 3, 4, 5).
Output voltage value (analog conversion value) of the computer 5 for
Vconi is a theoretical voltage value derived from the theoretical luminance value of the i-th stage illumination, and Ci is a correction value thereof.

【0052】各段における理論電圧値Vconiは、ポアソ
ン分布に基づいて得た輝度理論値のテーブルから得られ
る。このテーブルの求め方は下記の通りである。図7は
縦軸を輝度、横軸を分布距離とした確率分布曲線として
のポアソン分布曲線を示している。同図においては、ピ
ーク値をLTABLE1とし、このピーク値を中心としたそれ
ぞれ等距離の位置に対応して、それぞれ同ポアソン分布
に従った輝度レベルLTABLE2,LTABLE3,LTABLE4,L
TABLE5を定めてしている。なお、この実施の形態では、
ピーク値を中心として他の輝度レベルLTABLE を分布距
離が等間隔となるようにしたが、これに限定されるもの
ではなく、要は実験によってはんだ検査の検出率が最大
となるように定めればよい。
The theoretical voltage value Vconi at each stage is obtained from a table of theoretical luminance values obtained based on the Poisson distribution. The method for obtaining this table is as follows. FIG. 7 shows a Poisson distribution curve as a probability distribution curve with luminance on the vertical axis and distribution distance on the horizontal axis. In the figure, the peak value is set to LTABLE1, and the brightness levels LTABLE2, LTABLE3, LTABLE4, and LABLE according to the Poisson distribution are respectively corresponding to equidistant positions around the peak value.
TABLE5 is defined. In this embodiment,
The distribution distances of the other brightness levels LTABLE around the peak value are set to be at equal intervals. However, the present invention is not limited to this. Good.

【0053】そして、上記のように得られた輝度レベル
LTABLE1〜LTABLE5に対応させた電圧値、つまりレベル
LTABLE1〜LTABLE5の輝度でLEDが発光するためのコ
レクタ電流を得るための電圧値VTABLE1〜VTABLE5(理
論値)は、予めコンピュータ5の記憶手段としてのRO
M5aに格納されている。
The voltage values corresponding to the luminance levels LTABLE1 to LTABLE5 obtained as described above, that is, the voltage values VTABLE1 to VTABLE5 () for obtaining the collector currents for the LEDs to emit light at the luminances of the levels LTABLE1 to LTABLE5. The theoretical value) is stored in advance in the RO as a storage means of the computer 5.
It is stored in M5a.

【0054】ここで、例えば、第3段を最も明るくする
場合には、コンピュータ5は第3段環状照明光源L3の
理論電圧値Vcon3としてテーブル値VTABLE1を選択す
る。そして、第2段環状照明光源L2及び第4段環状照
明光源L4の理論電圧値Vcon2及びVcon4として、コン
ピュータ5はテーブル値VTABLE2を選択し、第1段環状
照明光源L1及び第5段の環状照明光源L5の理論電圧
値Vcon1及びVcon5として、テーブル値VTABLE3を選択
する。また、例えば第5段環状照明光源L5を最も明る
くする場合には、コンピュータ5は第5段環状照明光源
L5の理論電圧値Vcon5として、テーブル値VTABLE1を
選び出す。そしてコンピュータ5は、第4段環状照明光
源L4の理論電圧値Vcon4としてテーブル値VTABLE2を
選択し、第3段環状照明光源L3の理論電圧値Vcon3と
してテーブルVTABLE3を選択する。さらに、第2段環状
照明光源L2の理論電圧値Vcon2としてテーブル値VTA
BLE4を選択し、第1段環状照明光源L1の理論電圧値V
con1としてテーブル値VTABLE5を選択する。
Here, for example, when making the third stage the brightest, the computer 5 selects the table value VTABLE1 as the theoretical voltage value Vcon3 of the third stage annular illumination light source L3. Then, the computer 5 selects the table value VTABLE2 as the theoretical voltage values Vcon2 and Vcon4 of the second-stage annular illumination light source L2 and the fourth-stage annular illumination light source L4, and the first-stage annular illumination light source L1 and the fifth-stage annular illumination. The table value VTABLE3 is selected as the theoretical voltage values Vcon1 and Vcon5 of the light source L5. For example, when making the fifth-stage annular illumination light source L5 brightest, the computer 5 selects a table value VTABLE1 as the theoretical voltage value Vcon5 of the fifth-stage annular illumination light source L5. Then, the computer 5 selects the table value VTABLE2 as the theoretical voltage value Vcon4 of the fourth-stage annular illumination light source L4, and selects the table VTABLE3 as the theoretical voltage value Vcon3 of the third-stage annular illumination light source L3. Further, a table value VTA is set as a theoretical voltage value Vcon2 of the second-stage annular illumination light source L2.
BLE4 is selected, and the theoretical voltage value V of the first-stage annular illumination light source L1 is selected.
The table value VTABLE5 is selected as con1.

【0055】本実施の形態にあっては上記のように、コ
ンピュータ5は、所定の段において最も明るい理論電圧
値を選択すると、その所定の段から離間する段に対して
は順次輝度が低くなるようにポアソン分布に従った理論
電圧値を選択する。
In the present embodiment, as described above, when the computer 5 selects the brightest theoretical voltage value in a predetermined stage, the luminance sequentially decreases for the stages separated from the predetermined stage. The theoretical voltage value according to the Poisson distribution is selected as described above.

【0056】次に補正値Ciの算出方法について説明す
る。この補正値Ciは予め試験により求められる。図8
は補正値Ciを算出するための試験法を説明するための
図を示している。ここでは第3段環状照明光源L3にお
ける補正値C3 を算出する場合を説明する。図8におい
て球形物体20を撮像デバイス3の撮像中心軸M上に載
置し、第3段環状照明光源L3のみを前記テーブル値V
TABLE3に基づいて発光させ、他の環状照明光源は消灯す
る。この状態で撮像デバイス3にて撮像し、画像処理デ
バイス4にて所定の画像処理を行ってからコンピュータ
5に画像データを入力する。なお、画像データは前述の
ように縦横m×n個からなるマトリックス状に配置され
た画素の集合からなる。
Next, a method of calculating the correction value Ci will be described. This correction value Ci is obtained in advance by a test. FIG.
Shows a diagram for explaining a test method for calculating the correction value Ci. Here, the case where the correction value C3 for the third-stage annular illumination light source L3 is calculated will be described. In FIG. 8, the spherical object 20 is placed on the imaging center axis M of the imaging device 3, and only the third-stage annular illumination light source L3 has the table value V
Light is emitted based on TABLE3, and the other annular illumination light sources are turned off. In this state, the image is taken by the imaging device 3, the image processing device 4 performs predetermined image processing, and then inputs image data to the computer 5. As described above, the image data is composed of a set of pixels arranged in a matrix of m × n pixels in the vertical and horizontal directions.

【0057】図9はコンピュータ5が入力した画像デー
タを視覚化して示しており、ハッチング部は暗部Aを、
非ハッチング部分はLEDにより反射した部分B(以
下、「反射光データ部B」と記す)を示している。同図
において、コンピュータ5は反射光データ部Bの反射率
の高い領域を区画し、その反射率が高い方から順に輝度
値x31,x32,x33,……x310 をサンプリングする。
そして、輝度値の総和X3を下式から求める。
FIG. 9 shows the image data input by the computer 5 in a visualized manner.
The non-hatched portion indicates a portion B reflected by the LED (hereinafter, referred to as “reflected light data portion B”). In the figure, the computer 5 divides an area of the reflected light data portion B having a high reflectance, and samples luminance values x31, x32, x33,... X310 in order from the one having the highest reflectance.
Then, the sum X3 of the luminance values is obtained from the following equation.

【0058】[0058]

【数1】 同様にして、各段の環状照明光源のみをそれぞれテーブ
ル値VTABLE3に基づいて発光させ、他の環状照明光源は
消灯し、得た画像データを基にして、輝度値の総和X1
,X2 ,X4 ,X5 を求める。
(Equation 1) Similarly, only the annular illumination light source of each stage emits light based on the table value VTABLE3, and the other annular illumination light sources are turned off. Based on the obtained image data, the sum X1 of the luminance values is obtained.
, X2, X4, X5.

【0059】そして、上記のように得たそれぞれの輝度
値の総和X1 〜X5 の中から、 XMAX =max (X1 ,X2 ,X3 ,X4 ,X5 ) とし、最大値XMAX を得る。
Then, from the sums X1 to X5 of the luminance values obtained as described above, the maximum value XMAX is obtained by setting XMAX = max (X1, X2, X3, X4, X5).

【0060】上記のように得られた最大値XMAX と、各
段の環状光源が発光したときの画像データにおける輝度
値の総和X1〜X5とを下式に代入することにより各段
における補正値Ciが算出されている。
By substituting the maximum value XMAX obtained as described above and the sums X1 to X5 of the luminance values in the image data when the annular light source in each stage emits light, the correction value Ci in each stage is obtained. Is calculated.

【0061】C1 =X1 /XMAX C2 =X2 /XMAX C3 =X3 /XMAX C4 =X4 /XMAX C5 =X5 /XMAX 次に、上記のように構成された装置1によるはんだフィ
レット11の外観検査方法を図10〜図26を参照して
説明する。
C1 = X1 / XMAX C2 = X2 / XMAX C3 = X3 / XMAX C4 = X4 / XMAX C5 = X5 / XMAX Next, the appearance inspection method of the solder fillet 11 by the apparatus 1 configured as above will be described. This will be described with reference to FIGS.

【0062】図10は、本実施の形態にかかる装置1に
あって、コンピュータ5が実行する検査処理ルーチンを
示している。ステップ10において、実装基板9をセッ
トし、セット完了後ステップ20において、角度カウン
タθをθ0 に設定する。ステップ30においては、角度
θ0に最も近接した最下段の環状光源(この実施の形態
では第5段環状光源L5)の輝度をピークとするLED
発光パターンをコンピュータ5のROM5aから呼び出
し、その発光パターンに基づいて発光する。
FIG. 10 shows an inspection processing routine executed by the computer 5 in the apparatus 1 according to the present embodiment. In step 10, the mounting substrate 9 is set, and after the setting is completed, in step 20, the angle counter θ is set to θ0. In step 30, the LED having the peak luminance of the lowermost annular light source (the fifth annular light source L5 in this embodiment) closest to the angle θ0.
The light emission pattern is called from the ROM 5a of the computer 5 and emits light based on the light emission pattern.

【0063】なお、ROM5aに格納されている発光パ
ターンはこの実施の形態では5種類あり、上記発光パタ
ーンを第5パターンとして、角度カウンタθがθ0 +θ
stepのときは第4パターン、θ0 +2θstepのときは第
3パターン、θ0 +3θstepのときは第2パターン、θ
0 +4θstepのときは第1パターンがそれぞれ読み出さ
れ、前記LED8は、このLED発光パターンに基づい
て発光する。なお、各段におけるLED8と撮像デバイ
ス3と基板9との配置状態は、図1(b)に示す通りで
ある。同図に示すように、θstepは、基板9上の基点O
に向かう各環状照明光源L1〜L5の光軸において、隣
接する光軸間とのなす角度を表すもので一定の角度幅で
ある。従って、各光軸間の角度は互いに等しく設定され
ている。そして、各パターンに基づいてコンピュータ5
が確率分布照明生成回路6に印加する電圧(アナログ換
算値)は下記の通りである。なお、下式中においてVou
t1〜Vout5は、それぞれ第1段〜第5段環状照明光源L
1〜L5に対応するものである。
In this embodiment, there are five types of light emission patterns stored in the ROM 5a, and the light emission pattern is set as a fifth pattern, and the angle counter θ is set to θ0 + θ.
The fourth pattern at step, the third pattern at θ0 + 2θstep, the second pattern at θ0 + 3θstep, θ
In the case of 0 + 4θ step, the first pattern is read out, and the LED 8 emits light based on this LED light emission pattern. The arrangement of the LED 8, the imaging device 3, and the substrate 9 in each stage is as shown in FIG. As shown in the figure, θstep is a base point O on the substrate 9.
Represents the angle between the optical axes of the annular illumination light sources L1 to L5 and the adjacent optical axes, and has a constant angular width. Therefore, the angles between the optical axes are set equal to each other. Then, based on each pattern, the computer 5
Are applied to the probability distribution illumination generation circuit 6 (analog converted value) as follows. In the following equation, Vou
t1 to Vout5 are the first to fifth stage annular illumination light sources L, respectively.
These correspond to 1 to L5.

【0064】第5段(最下段)環状照明光源L5が最も
明るい第5パターンの場合は、 Vout1=VTABLE5 × C1 Vout2=VTABLE4 × C2 Vout3=VTABLE3 × C3 Vout4=VTABLE2 × C4 Vout5=VTABLE1 × C5 第4段環状照明光源L4が最も明るい第4パターンの場
合は、 Vout1=VTABLE4 × C1 Vout2=VTABLE3 × C2 Vout3=VTABLE2 × C3 Vout4=VTABLE1 × C4 Vout5=VTABLE2 × C5 第3段環状照明光源L3が最も明るい第3パターンの場
合は、 Vout1=VTABLE3 × C1 Vout2=VTABLE2 × C2 Vout3=VTABLE1 × C3 Vout4=VTABLE2 × C4 Vout5=VTABLE3 × C5 第2段環状照明光源L2が最も明るい第2パターンの場
合は、 Vout1=VTABLE2 × C1 Vout2=VTABLE1 × C2 Vout3=VTABLE2 × C3 Vout4=VTABLE3 × C4 Vout5=VTABLE4 × C5 第1段(最上段)環状照明光源L1が最も明るい第1パ
ターンの場合は、 Vout1=VTABLE1 × C1 Vout2=VTABLE2 × C2 Vout3=VTABLE3 × C3 Vout4=VTABLE4 × C4 Vout5=VTABLE5 × C5 となる。
When the fifth (lowest) annular illumination light source L5 has the brightest fifth pattern, Vout1 = VTABLE5.times.C1 Vout2 = VTABLE4.times.C2 Vout3 = VTABLE3.times.C3 Vout4 = VTABLE2.times.C4 Vout5 = VTABLE1.times.C5 When the four-stage annular illumination light source L4 has the brightest fourth pattern, Vout1 = VTABLE4.times.C1 Vout2 = VTABLE3.times.C2 Vout3 = VTABLE2.times.C3 Vout4 = VTABLE1.times.C4 Vout5 = VTABLE2.times.C5 The third-stage annular illumination light source L3 is the brightest. In the case of the bright third pattern, Vout1 = VTABLE3.times.C1 Vout2 = VTABLE2.times.C2 Vout3 = VTABLE1.times.C3 Vout4 = VTABLE2.times.C4 Vout5 = VTABLE3.times.C5 If the second stage annular illumination light source L2 is the brightest second pattern, Vout1 = VTABLE2.times.C1 Vout2 = VTABLE1.times.C2 Vout3 = VTABLE2.times.C3 Vout4 = VTABLE3.times.C4 Vout5 = VTABLE4.times.C5 The first stage (uppermost stage) annular illumination light source L1 is the brightest. For one pattern becomes Vout1 = VTABLE1 × C1 Vout2 = VTABLE2 × C2 Vout3 = VTABLE3 × C3 Vout4 = VTABLE4 × C4 Vout5 = VTABLE5 × C5.

【0065】最初にステップ30に入った時には、第5
パターンが読み出され、この第5パターンに基づいて、
各環状光源に対応するチャネルに対してコンピュータ5
が印加電圧を印加する。この結果、このパターンに基づ
いて各段の環状照明光源L1〜L5が発光する。すなわ
ち、照明装置2のうち最下段である第5段環状照明光源
L5が最も明るく発光し、他の段はポアソン分布に従っ
て発光する。
When step 30 is first entered, the fifth
The pattern is read, and based on this fifth pattern,
Computer 5 for the channel corresponding to each annular light source
Apply the applied voltage. As a result, the annular illumination light sources L1 to L5 at each stage emit light based on this pattern. That is, the fifth stage annular illumination light source L5, which is the lowermost stage of the illumination device 2, emits the brightest light, and the other stages emit light according to the Poisson distribution.

【0066】続くステップ40においては、この第5段
環状照明L5が最も明るく発光した状態で実装基板9の
はんだフィレット11を撮像した撮像デバイス3からの
画像を取り込む。取り込まれた画像のうち画像処理され
る領域は、前記枠D(図2)で示される領域である。
In the following step S40, an image from the image pickup device 3 which picks up an image of the solder fillet 11 of the mounting substrate 9 in a state where the fifth-stage annular illumination L5 emits the brightest light is captured. The area where the image processing is performed in the captured image is the area indicated by the frame D (FIG. 2).

【0067】次にステップ50において、この撮像デー
タに対して各種の「フィルター処理」を行う。この「フ
ィルター処理」を図11を参照して説明する。図11の
ステップ51に入ると、平均値フィルター処理を行う。
この平均値フィルター処理は、取り込んだデータの平均
値以下のレベル部分を除去する処理である。ステップ5
2においては、平滑化カウンタ値jを0にリセットす
る。ステップ53では平滑化フィルター処理を行う。平
滑化フィルター処理は画像データの山の形を変えないよ
うに微量のスムージングをかける処理であり、 例えば、
図12(a)の波形が、平滑化処理を行うと、図12
(b)に示すようになる。この処理を終えると平滑化カ
ウンタ値jをインクリメントしてステップ54に移行す
る。
Next, in step 50, various "filter processes" are performed on the image data. This “filter processing” will be described with reference to FIG. In step 51 of FIG. 11, an average value filtering process is performed.
This average value filtering process is a process of removing a level portion below the average value of the acquired data. Step 5
In 2, the smoothing counter value j is reset to 0. In step 53, a smoothing filter process is performed. Smoothing filter processing is processing to apply a small amount of smoothing so as not to change the shape of the mountain of image data. For example,
When the waveform in FIG. 12A is subjected to the smoothing process, the waveform in FIG.
The result is as shown in FIG. When this process ends, the smoothing counter value j is incremented and the routine goes to step 54.

【0068】ステップ54においては、平滑化カウンタ
値jが規定回数J未満か否かを判定し、 規定回数J未満
であれば、 ステップ53に戻る。従って、規定回数の平
滑化処理が行われるまでステップ53及びステップ54
の処理が繰り返される。
In step 54, it is determined whether or not the smoothing counter value j is less than a specified number J. If the value is less than the specified number J, the process returns to step 53. Therefore, steps 53 and 54 are performed until the specified number of smoothing processes are performed.
Is repeated.

【0069】ステップ54において、 平滑化カウンタ値
jが規定回数Jに達したときには、ステップ55に移行
し、輝度正規化を行う。この輝度正規化は、画素の明る
さ(輝度)の値を0〜255の範囲で正規化し、A/D
変換後のデータ処理での誤差を少なくするために行う処
理である。図13(a)は輝度正規化処理の前における
一定単位時間毎の撮像データを表しており、 輝度正規化
により、図13(a)の破線間の波形が図13(b)の
ようになる。この輝度正規化処理を終えるとこのフィル
ター処理を抜け出る。このフィルター処理を終えた画像
データを以下反射光分布データ[I]という。
In step 54, when the smoothing counter value j has reached the specified number of times J, the flow shifts to step 55 to perform luminance normalization. This luminance normalization normalizes the value of the brightness (luminance) of the pixel in the range of 0 to 255, and A / D
This is a process performed to reduce errors in data processing after conversion. FIG. 13A shows imaging data for each fixed unit time before the luminance normalization processing. Due to the luminance normalization, the waveform between the broken lines in FIG. 13A becomes as shown in FIG. . When the brightness normalization process is completed, the process exits from the filter process. The image data that has been subjected to this filtering is hereinafter referred to as reflected light distribution data [I].

【0070】再び、図10のフローチャートに戻って説
明する。以下、本実施の形態における反射光分布データ
[I]の処理は、m×n個の画素からなる画像データの
うち前記図2(b)に示した検査線K上の画像データの
みについて行われるものである。
Returning to the flowchart of FIG. 10, the description will be continued. Hereinafter, the processing of the reflected light distribution data [I] in the present embodiment is performed only on the image data on the inspection line K shown in FIG. 2B among the image data composed of m × n pixels. Things.

【0071】前記「フィルター処理」からステップ60
に移行すると、 同ステップにおいては図2(b)に示す
枠Dで囲まれる画像データのうち、同図において矢印で
示す検査線K上に並ぶ画素における輝度データの「領域
分割」を行う。この「領域分割」は輝度の極小値を境界
として行われる。なお、この輝度ははんだフィレット1
1から反射した光の強度に比例するものである。すなわ
ち、極小値の部分ははんだフィレット11部における曲
面(平面も含む)のうち、形状変化が少ない部分であ
る。
From the above-mentioned “filter processing” to step 60
Then, in the same step, “region division” of the luminance data of the pixels of the image data surrounded by the frame D shown in FIG. This “region division” is performed using the minimum value of the luminance as a boundary. Note that this brightness is based on the solder fillet 1
It is proportional to the intensity of light reflected from 1. In other words, the portion having the minimum value is a portion of the curved surface (including the flat surface) of the solder fillet 11 where the shape change is small.

【0072】例えば、図14(a)は実装基板9に電子
部品10がはんだ付けされた状態を示す側面図を示して
おり、図14(b)は同実装基板9のはんだフィレット
11を撮像した画像データのうち、検査線K上に並ぶ画
素における輝度曲線(データ)を示している。そして、
図15は前記図14(b)における輝度曲線(データ)
を領域分割したときを示し、図の例では座標位置t2 ,
t3 において極小値が存在し、その座標位置において分
割されている。
For example, FIG. 14A is a side view showing a state where the electronic component 10 is soldered to the mounting board 9, and FIG. 14B is an image of the solder fillet 11 of the mounting board 9. In the image data, a luminance curve (data) at pixels arranged on the inspection line K is shown. And
FIG. 15 shows the luminance curve (data) in FIG. 14B.
Is divided into regions, and in the example of the figure, the coordinate positions t2,
At t3, a local minimum exists, and the coordinate is divided at the coordinate position.

【0073】ステップ60において、こうして「領域分
割」が行われると、コンピュータ5は領域分割した個数
(以下、「分割数」という。)NをRAM5bの所定の
記憶領域に格納する。
When the "area division" is performed in step 60, the computer 5 stores the number N of the divided areas (hereinafter referred to as "number of divisions") in a predetermined storage area of the RAM 5b.

【0074】ここで、分割数Nは、検査対象物の断面形
状の変曲点数に1プラスしたものに対応する。例えば、
図17(a)の例では、はんだフィレット11が単調な
凹状をなし、図17(c)では単調な凸状をなし、共に
変曲点が0である。従って、分割数Nは1となる。図1
7(b)の例では、凹凸が組み合わされたものとなって
おり、変曲点数は1、すなわち分割数Nは2となる。図
17(d)の例では、凹凸凹が連続して組み合わされた
形状であり、変曲点数は2、すなわち、分割数Nは3と
なる。
Here, the number of divisions N corresponds to one obtained by adding one to the number of inflection points of the sectional shape of the inspection object. For example,
In the example of FIG. 17A, the solder fillet 11 has a monotonous concave shape, and in FIG. 17C, the solder fillet 11 has a monotonous convex shape, and both have an inflection point of zero. Therefore, the division number N is 1. FIG.
In the example of FIG. 7B, the unevenness is combined, and the number of inflection points is 1, that is, the number of divisions N is 2. In the example of FIG. 17D, the concave and convex portions are continuously combined, and the number of inflection points is 2, that is, the number of divisions N is 3.

【0075】次にステップ70の「重心計算」では、上
記「領域分割」により分割された領域毎に輝度分布の重
心座標値計算を行う。なお、図16は、前記領域分割し
た図15の領域1の拡大図を示しており、この図に基づ
いて重心座標値Gの計算方法を説明する。
Next, in "calculation of the center of gravity" of step 70, the coordinates of the center of gravity of the luminance distribution are calculated for each of the regions divided by the "region division". FIG. 16 is an enlarged view of the area 1 in FIG. 15 obtained by dividing the area, and a method of calculating the barycentric coordinate value G will be described based on this figure.

【0076】この重心座標値Gは、分割した領域の中で
それぞれ独立して、図16に示すようなTを中心とした
をモーメントの釣り合いを演算し、次式(数2)の計算
式の結果が最小となるTの座標値として得られる。すな
わち、Tを中心とした左右のモーメントの差Pを算出
し、その差Pが最小となる検査線K上の座標位置Tが重
心座標値Gである。なお、L(t)は輝度、t1 は前記
したように電子部品の電極10の端面座標である。
The center-of-gravity coordinate values G are calculated independently from each other in the divided areas by calculating the balance of the moment about T as shown in FIG. The result is obtained as the coordinate value of T which minimizes the result. That is, the difference P between the left and right moments about T is calculated, and the coordinate position T on the inspection line K at which the difference P is minimum is the barycentric coordinate value G. Here, L (t) is the luminance, and t1 is the end face coordinates of the electrode 10 of the electronic component as described above.

【0077】[0077]

【数2】 こうして各領域における重心座標値の算出が終了する
と、コンピュータ5は、この第5パターンで照明が行わ
れた場合において画像データから得られた各領域の重心
座標値をRAM5bに一旦格納し、次のステップ80に
おいて、角度カウントθをインクリメントする。すなわ
ち、前回の角度カウント値θに対して新たにθstepを加
算する。続くステップ90においては、角度カウント値
θがθc未満か否かを判定する。角度カウント値θがθ
c未満であれば、この判定を「YES」としてステップ
30に戻る。
(Equation 2) When the calculation of the barycentric coordinate value in each area is completed, the computer 5 temporarily stores the barycentric coordinate value of each area obtained from the image data in the RAM 5b when the illumination is performed in the fifth pattern, and In step 80, the angle count θ is incremented. That is, θstep is newly added to the previous angle count value θ. In the following step 90, it is determined whether or not the angle count value θ is smaller than θc. Angle count value θ is θ
If less than c, this determination is “YES” and the process returns to step 30.

【0078】従って、ステップ30においては、角度カ
ウント値θがインクリメントされて、θ0 +θstepとな
っているため、コンピュータ5は、発光パターンとして
前記第4パターンを読み出し、この第4パターンに基づ
いて、各環状光源に対応するチャネルに対して所定電圧
を印加する。この結果、この発光パターンに基づいて各
段の環状照明光源L1〜L5が発光する。すなわち、照
明装置2のうち第4段環状照明光源L4が最も明るく発
光し、他の段はポアソン分布に従って発光する。
Accordingly, in step 30, since the angle count value θ is incremented to be θ0 + θstep, the computer 5 reads the fourth pattern as a light emission pattern, and based on the fourth pattern, A predetermined voltage is applied to a channel corresponding to the annular light source. As a result, the annular illumination light sources L1 to L5 in each stage emit light based on this light emission pattern. That is, the fourth stage annular illumination light source L4 of the illumination device 2 emits the brightest light, and the other stages emit light according to the Poisson distribution.

【0079】以下、次のステップ40〜80も同様に処
理して、第4パターンにおけるポアソン分布の照明状態
における各領域の重心座標値を求め、RAM5bにその
重心座標値を格納する。続く、ステップ90では「YE
S」と判定処理され、ステップ30に戻る。
The following steps 40 to 80 are processed in the same manner to determine the barycentric coordinate value of each area in the illumination state of the Poisson distribution in the fourth pattern, and store the barycentric coordinate value in the RAM 5b. In the following step 90, "YE
S ”is determined, and the process returns to step 30.

【0080】以下同様に処理され、ステップ90におい
て、角度カウント値θがθcに達するまで、コンピュー
タ5は同様の処理を行う。この間において、第3パター
ン、第2パターン、第1パターンによるポアソン分布の
照明状態における各領域の重心座標値がRAM5bに格
納される。
The computer 5 performs the same processing until the angle count value θ reaches θc in step 90. During this time, the coordinates of the center of gravity of each area in the illumination state of the Poisson distribution based on the third pattern, the second pattern, and the first pattern are stored in the RAM 5b.

【0081】ステップ90において、角度カウント値θ
がθc以上となって「NO」と判定されステップ100
に移行すると、同ステップ100では検査を行った画像
データに関して、検査線K上の画素に基づいた認識数列
{Xk }の作成を行う。
At step 90, the angle count value θ
Is greater than or equal to θc, the determination is “NO”, and step 100
In step 100, a recognition sequence {Xk} based on the pixels on the inspection line K is created for the image data that has been inspected.

【0082】以下、認識数列{Xk }の作成について説
明する。ここでは、角度カウント値θが、角度θ0 〜θ
cの範囲でRAM5bに格納したz個の全重心座標値
を、角度θ0 〜θcに関係なく座標値の小さい順に並べ
る。
Hereinafter, creation of the recognition sequence {Xk} will be described. Here, the angle count value θ is the angle θ0 to θ
The z total barycentric coordinate values stored in the RAM 5b in the range of c are arranged in ascending order of coordinate values regardless of the angles θ0 to θc.

【0083】そうして得られた重心座標値をG1 ,G2
,…Gzとする(G1 <G2 <…<Gz)。次にG1
,G2 ,…Gzを求めたときの角度カウント値(以
下、照射角度という)θの値をθ1 、θ2 、…、θzと
してそれら重心座標値G1 ,G2 ,…Gzに対比させ
る。
The barycentric coordinate values thus obtained are represented by G 1, G 2
,... Gz (G1 <G2 <... <Gz). Then G1
, G2,..., Gz are determined as θ1, θ2,..., Θz, and are compared with the barycentric coordinate values G1, G2,.

【0084】次に、 Xk =(θk −θ0 )/θstep (k=1,2,…z)と定義し、上記の照射角度に対応
して認識数列をつくると下記のようになる。
Next, Xk = (. Theta.k-.theta.0) /. Theta.step (k = 1, 2,... Z) is defined, and a recognition sequence corresponding to the above-mentioned irradiation angles is as follows.

【0085】 重心座標値 G1 ,G2 ,G3 ,…,Gk …,Gz 照射角度 θ1 ,θ2 ,θ3 ,…,θk …,θz 認識数列 X1 ,X2 ,X3 ,…,Xk …,Xz 例えば、θstep=10°、θ0 =30°及び、θc=7
0°とし照明段数を5段とすると、照射角度θは、30
°,40°,50°,60°及び70°となる。このと
き、例えばθ1 =30°,θ2 =50°,θ3 =40
°,θ4 =30°,θ5 =60°,θ6 =70°,…と
すると、上記定義式に従って認識数列{Xk }は以下の
ようになる。
Coordinate values G1, G2, G3,..., Gk,..., Gz Irradiation angle θ1, θ2, θ3,..., Θk, θz Recognition sequence X1, X2, X3,. 10 °, θ0 = 30 ° and θc = 7
Assuming 0 ° and five illumination stages, the irradiation angle θ is 30
°, 40 °, 50 °, 60 ° and 70 °. At this time, for example, θ1 = 30 °, θ2 = 50 °, θ3 = 40
If θ, θ4 = 30 °, θ5 = 60 °, θ6 = 70 °,..., The recognition sequence {Xk} is as follows in accordance with the above defined equation.

【0086】 重心座標値 G1 ,G2 ,G3 ,G4 ,G5 ,G6 ,…… 照射角度 30°,50°,40°,30°,60°,70°,…… 認識数列 0 ,2 ,1 ,0 ,3 ,4 ,…… 次に、この認識数列{Xk }の「グループ」について説
明する。例えば上記照明構成において認識数列{Xk }
が{0, 1,2,3,4,4,3,2,1, 0}であっ
た場合について説明する。
The coordinates of the center of gravity G 1, G 2, G 3, G 4, G 5, G 6,..., The irradiation angles 30 °, 50 °, 40 °, 30 °, 60 °, 70 °,..., The recognition sequence 0, 2, 1, 0, 3, 4,... Next, the “group” of the recognition sequence {Xk} will be described. For example, in the above illumination configuration, the recognition sequence {Xk}
Is {0, 1, 2, 3, 4, 4, 3, 2, 1, 0}.

【0087】この数列において全ての数字が昇順又は降
順に並んでいるところ、つまり(0, 1,2,3,4)
及び(4,3,2,1, 0)を「グループ」と定義す
る。そして、数列中に存在する「グループ」の数をこの
認識数列{Xk }のグループ数Sとする。この例では、
グループ数Sは2である。
In this sequence, all the numbers are arranged in ascending or descending order, that is, (0, 1, 2, 3, 4)
And (4,3,2,1,0) are defined as a "group". Then, the number of “groups” existing in the sequence is defined as the number S of groups in the recognition sequence {Xk}. In this example,
The number of groups S is two.

【0088】また、この「グループ」には左から順にグ
ループ番号sを付ける。この例では、「グループ」
(0, 1,2,3,4)がグループ番号1であり、「グ
ループ」(4,3,2,1, 0)がグループ番号2であ
る。(以下、グループ番号1のグループをグループ1の
ように記す) この「グループ」の意味するところを以下に説明する。
Further, this “group” is given a group number s in order from the left. In this example, "group"
(0, 1, 2, 3, 4) is the group number 1 and “group” (4, 3, 2, 1, 0) is the group number 2. (Hereinafter, the group of group number 1 is described as group 1) The meaning of this "group" will be described below.

【0089】認識数列{Xk }の数字は、その定義に従
うと、環状照明光源L1〜L5に対応させることができ
る。すなわち、環状照明光源「L5」を認識数列の
「0」に、以下同様に「L4」を「1」、「L3」を
「2」に、「L2」を「3」に、「L1」を「4」に対
応させることができる。つまり、認識数列{Xk }の数
字が前記昇順又は降順に並ぶこと(「グループ」が存在
すること)は、環状照明光源L1〜L5の切り換え順に
重心座標の移動が起こることを意味する。すなわち、認
識数列{Xk }に「グループ」が存在することは、はん
だフィレット11の形状に規則性があることを意味す
る。例えば、「昇順グループ」(0, 1,2,3,4)
が存在すれば図17(a)に示す凹形状が、「降順グル
ープ」(4,3,2,1, 0)が存在すれば図17
(c)に示す凸形状が認識される。本実施の形態におい
ては、このような認識数列{Xk }の規則性に基づいて
はんだフィレット11の様々な形状を認識するようにし
ている。
According to the definition, the numbers in the recognition sequence {Xk} can correspond to the annular illumination light sources L1 to L5. That is, the annular illumination light source “L5” is set to “0” in the recognition sequence, “L4” is set to “1”, “L3” is set to “2”, “L2” is set to “3”, and “L1” is set similarly. "4" can be corresponded. That is, the fact that the numbers in the recognition sequence {Xk} are arranged in the ascending or descending order (the existence of a “group”) means that the barycentric coordinates move in the switching order of the annular illumination light sources L1 to L5. That is, the presence of “group” in the recognition sequence {Xk} means that the shape of the solder fillet 11 has regularity. For example, "ascending group" (0, 1, 2, 3, 4)
17A, the concave shape shown in FIG. 17A is obtained, and if the “descending group” (4, 3, 2, 1, 0) is present, FIG.
The convex shape shown in (c) is recognized. In the present embodiment, various shapes of the solder fillet 11 are recognized based on the regularity of the recognition sequence {Xk}.

【0090】さて、コンピュータ5は上記認識数列{X
k }を作成し、その作成した認識数列{Xk }と、同認
識数列{Xk }を構成している数値と関係する重心座標
値とをともにRAM5bに格納して、ステップ110に
移行する。ステップ110では、「マスターパターンと
の照合」ルーチンを実行し、その処理を終えると、この
はんだ付部の検査処理ルーチンを終了する。
The computer 5 recognizes the recognition sequence {X}
k} is created, and the created recognition sequence {Xk} and the barycentric coordinate values related to the numerical values constituting the recognition sequence {Xk} are both stored in the RAM 5b, and the process proceeds to step 110. In step 110, a "collation with master pattern" routine is executed, and when the processing is completed, the inspection processing routine for the soldered portion is terminated.

【0091】次に、図18〜図21に示すフローチャー
ト並びに図22〜図26を参照して「マスターパターン
との照合」ルーチンを詳細に説明する。このルーチンに
入ると、ステップ200において、グループ番号sをカ
ウントするグループ番号カウンタ(s)を1にセット
し、ステップ201においてグループsについてのデー
タ整理を行う。すなわち、グループ番号sのグループに
おける重心座標値の内、最大値をGMAXsとし最小値をG
MINsとすると、この最大値GMAXsと最小値GMINsとの差
GRANGEsを算出する。
Next, the "collation with master pattern" routine will be described in detail with reference to the flowcharts shown in FIGS. 18 to 21 and FIGS. 22 to 26. When this routine is entered, in step 200, a group number counter (s) for counting the group number s is set to 1, and in step 201, data reduction for the group s is performed. That is, of the barycentric coordinate values in the group of group number s, the maximum value is GMAXs and the minimum value is GMAX.
Assuming MINs, a difference GRANGEs between the maximum value GMAXs and the minimum value GMINs is calculated.

【0092】ステップ202においては、差GRANGEs
が、真にはんだフィレット11の存在を示しているがど
うかを判定するための基準値Q以下か否かを判定する。
前記基準値Qは、検査線K上の所定幅であり、はんだ材
料、電子部品の型、形状等で決まる所定の値である。ス
テップ202において、差GRANGEsが基準値Q以下であ
れば「YES」と判定し、ステップ209に移行して、
真性判定フラグBsを1にセットし、ステップ208に
ジャンプする。すなわち、はんだフィレット11部のデ
ータに異物や酸化膜等のノイズデータ含まれていると判
定するのである。ステップ202において、差GRANGEs
が基準値Qを超えていれば、「NO」と判定して、ステ
ップ203に移行して、真性判定フラグBsを0にリセ
ットしてステップ204に移行する。すなわち、はんだ
フィレット11が確実に存在していると判定するのであ
る。
In step 202, the difference GRANGEs
Is determined to be equal to or less than a reference value Q for determining whether or not the data actually indicates the presence of the solder fillet 11.
The reference value Q is a predetermined width on the inspection line K, and is a predetermined value determined by the solder material, the type and shape of the electronic component, and the like. In step 202, if the difference GRANGEs is equal to or less than the reference value Q, it is determined to be “YES”, and the process proceeds to step 209.
The intrinsic judgment flag Bs is set to 1, and the routine jumps to step 208. That is, it is determined that the data of the solder fillet 11 includes noise data such as a foreign substance and an oxide film. In step 202, the difference GRANGEs
Is greater than the reference value Q, the determination is "NO", the routine proceeds to step 203, the intrinsic judgment flag Bs is reset to 0, and the routine proceeds to step 204. That is, it is determined that the solder fillet 11 exists without fail.

【0093】ステップ204においては、最小重心座標
値GMINsが判定値t1 以下か否かを判定する。これは電
子部品の電極10上に最小重心座標値GMINsがあるか否
かを判定するのである。なお、判定値t1 は、図2
(b)に示したように枠Dの左端面を0としたとき、枠
D内における電子部品の電極10端面の位置座標を示す
ものである。
In step 204, it is determined whether or not the minimum barycentric coordinate value GMINs is equal to or smaller than a determination value t1. This is to determine whether or not there is a minimum barycentric coordinate value GMINs on the electrode 10 of the electronic component. It should be noted that the judgment value t1 is the same as that in FIG.
As shown in (b), when the left end face of the frame D is set to 0, the position coordinates of the end face of the electrode 10 of the electronic component in the frame D are shown.

【0094】ステップ204において、最小重心座標値
GMINsが判定値t1 を超えていれば、「NO」と判定
し、ステップ210に移行して、重心有無属性フラグA
sを0にリセットし、ステップ206に移行する。少な
くとも最小重心座標値GMINsが、電極10上にないと判
定するのである。
In step 204, if the minimum barycentric coordinate value GMINs exceeds the determination value t1, "NO" is determined, and the routine proceeds to step 210, where the barycentric attribute flag A
s is reset to 0, and the routine proceeds to step 206. It is determined that at least the minimum barycentric coordinate value GMINs is not on the electrode 10.

【0095】ステップ204において、最小重心座標値
GMINsが判定値t1 以下であれば、「YES」と判定
し、ステップ205に移行して、重心有無属性フラグA
sを1にセットし、ステップ206に移行する。すなわ
ち、最小重心座標値GMINsが電極10上にあり、はんだ
が電極10上にあると判定するのである。
If it is determined in step 204 that the minimum barycentric coordinate value GMINs is equal to or smaller than the determination value t1, the determination is "YES".
s is set to 1 and the routine proceeds to step 206. That is, it is determined that the minimum barycentric coordinate value GMINs is on the electrode 10 and the solder is on the electrode 10.

【0096】前記ステップ205又はステップ210か
らステップ206に移行すると、ステップ206では、
グループ番号sのグループの認識数列が昇順の数列とな
っているか否かを判定する。
When the process proceeds from step 205 or step 210 to step 206, in step 206,
It is determined whether the recognized number sequence of the group with the group number s is an ascending sequence.

【0097】ここで認識数列{Xk }の昇順、降順とは
んだフィレットの形状との対応を説明する。例えば図2
2(a)に示すはんだフィレットの形状の認識数列は、
{Xk }={0, 1,2,3,4,4,3,2,1,
0}からなる。前半の(0, 1,2,3,4)の列がグ
ループ1を構成し、後半の(4,3,2,1, 0)の列
がグループ2を構成している。グループ1では、数列
中、「0」が最小座標値GMIN1、「4」が最大座標値G
MAX1のものである。又、グループ2では、数列中、
「4」が最小座標値GMIN2、「0」が最大座標値GMAX2
のものである。
Here, the correspondence between the ascending order and the descending order of the recognition sequence {Xk} and the shape of the solder fillet will be described. For example, FIG.
The sequence of recognition of the shape of the solder fillet shown in FIG.
{Xk} = {0, 1, 2, 3, 4, 4, 3, 2, 1,
It consists of 0}. The column of (0, 1, 2, 3, 4) in the first half constitutes group 1, and the column of (4, 3, 2, 1, 0) in the latter half constitutes group 2. In group 1, “0” is the minimum coordinate value GMIN1 and “4” is the maximum coordinate value G in the sequence.
MAX1. In group 2, in the sequence,
"4" is the minimum coordinate value GMIN2, "0" is the maximum coordinate value GMAX2
belongs to.

【0098】従って、この例に従えば、グループ1は
「01234」の昇順と判定される。なお、グループ2
では「43210」の降順となる。図22(b)は、電
極10の平面を示しており、枠Dの中において、左向き
矢印は降順、右向き矢印は昇順を示しており、環状照明
光源L1〜L5の切り換えとともに重心座標値がこのよ
うに昇順、又は降順の向き(図中、矢印方向)に移動す
る。
Therefore, according to this example, group 1 is determined to be in ascending order of "01234". Group 2
In this case, the order is “43210” in descending order. FIG. 22 (b) shows the plane of the electrode 10, and in the frame D, the left arrow indicates the descending order, and the right arrow indicates the ascending order. Move in the ascending or descending direction (the direction of the arrow in the figure).

【0099】又、他の例として、図23(a)に示され
ているはんだフィレット11の場合、{Xk }={0,
1,2,3,4,4,3,2,1,0, 0, 1,2,
3,4}となる。前半の(0, 1,2,3,4)の列が
グループ1(昇順)を構成し、中間の(4,3,2,
1,0)の列がグループ2(降順)を構成し、後半の
(0, 1,2,3,4)の列がグループ3(昇順)を構
成している。
As another example, in the case of the solder fillet 11 shown in FIG. 23A, {Xk} = {0,
1,2,3,4,4,3,2,1,0,0,1,2,2
3, 4}. The column of (0, 1, 2, 3, 4) in the first half constitutes group 1 (ascending order), and the middle (4, 3, 2, 2)
The column of (1, 0) constitutes group 2 (descending order), and the column of (0, 1, 2, 3, 4) in the latter half constitutes group 3 (ascending order).

【0100】このグループ1では、数列中、「0」が最
小座標値GMIN1、「4」が最大座標値GMAX1のものであ
る。又、グループ2では、数列中、「4」が最小座標値
GMIN2、「0」が最大座標値GMAX2のものである。又、
グループ3では、数列中、「0」が最小座標値GMIN3、
「4」が最大座標値GMAX3のものである。図23(b)
は、電極10の平面を示しており、枠Dの中において、
左向き矢印は降順、右向き矢印は昇順を示し、同じく重
心座標値がこの向きに移動する。
In the group 1, "0" is the minimum coordinate value GMIN1 and "4" is the maximum coordinate value GMAX1 in the sequence. In the group 2, “4” is the minimum coordinate value GMIN2 and “0” is the maximum coordinate value GMAX2 in the sequence. or,
In group 3, “0” is the minimum coordinate value GMIN3 in the sequence,
“4” is the maximum coordinate value GMAX3. FIG. 23 (b)
Indicates a plane of the electrode 10, and in a frame D,
A leftward arrow indicates a descending order, and a rightward arrow indicates an ascending order, and the barycentric coordinate value similarly moves in this direction.

【0101】前記のようにステップ206において、グ
ループsの数列が昇順か否かを判定して、昇順であると
判定すると、ステップ207において昇順属性フラグC
sを1にセットし、ステップ208に移行する。ステッ
プ206において、グループ番号sのグループの数列が
昇順ではなく、降順である場合には、ステップ211に
おいて昇順属性フラグCsを0にリセットし、ステップ
208に移行する。
As described above, at step 206, it is determined whether or not the sequence of the group s is in ascending order. If it is determined that the sequence is ascending, at step 207, the ascending attribute flag C is determined.
s is set to 1 and the process proceeds to step 208. If it is determined in step 206 that the numerical sequence of the group having the group number s is not ascending but descending, the ascending attribute flag Cs is reset to 0 in step 211, and the process proceeds to step 208.

【0102】前記ステップ207、ステップ211又は
ステップ209からステップ208に移行すると、グル
ープ番号sがグループ数S未満であるか、否かを判定す
る。なお、グループ番号sがグループ数S未満であれ
ば、まだ、他のグループの属性フラグのセット、或いは
リセットの処理がすんでいないものとしてステップ21
2に移行し、グループ番号カウンタをインクリメントし
て、ステップ201に移行する。
When the process proceeds from step 207, step 211 or step 209 to step 208, it is determined whether or not the group number s is less than the group number S. If the group number s is less than the group number S, it is determined that the setting or resetting of the attribute flag of another group has not been completed yet (step 21).
Then, the process proceeds to step 201 where the group number counter is incremented.

【0103】全てのグループについて重心有無属性フラ
グAs、真性判定フラグBs、昇順属性フラグCsのセ
ット、或いはリセットの処理が終了すると、ステップ2
08ではグループ番号sがグループ数Sと等しくなるた
め、このステップ208の判定を「NO」とし、ステッ
プ213(図19)に移行する。
When the process of setting or resetting the center-of-gravity attribute flag As, the intrinsic judgment flag Bs, and the ascending attribute flag Cs is completed for all groups, step 2 is executed.
At 08, the group number s is equal to the group number S, so the determination in step 208 is “NO”, and the routine proceeds to step 213 (FIG. 19).

【0104】ステップ213において、グルーブ番号カ
ウンタを1にセットし、ステップ214に移行して真性
判定フラグBsが「1」にセットされているか否かを判
定する。真性判定フラグBsが0にリセットされている
ときには、このステップ214を「NO」と判定して、
ステップ217にジャンプする。ステップ214におい
て、真性判定フラグBsが「1」にセットされていると
きには、はんだフィレット11部のデータにノイズが含
まれているとして、このステップ214を「YES」と
判定し、ステップ215に移行する。
In step 213, the groove number counter is set to 1, and the flow shifts to step 214 to determine whether or not the intrinsic judgment flag Bs is set to "1". When the intrinsic judgment flag Bs has been reset to 0, this step 214 is judged as “NO”,
Jump to step 217. In step 214, when the intrinsic judgment flag Bs is set to "1", it is determined that the data of the solder fillet 11 includes noise, so that step 214 is determined as "YES", and the process proceeds to step 215. .

【0105】ステップ215では現在処理中のグループ
にはノイズが含まれていると判定したため、このノイズ
を含むデータを削除し、削除した後のグループに関する
番号を全てのグループに対して1つずつ減らして更新す
る。
In step 215, since it is determined that the group currently being processed contains noise, the data containing this noise is deleted, and the number of the group after deletion is reduced by one for all groups. Update.

【0106】例えば、図24(a)は、各グループ番号
s(この例では、sは1〜4である)のグループにおけ
る、重心有無属性フラグAs、真性判定フラグBs、昇
順属性フラグCsの行列である。このうち、グループ2
の真性判定フラグB2 は「1」となっているため、グル
ープ2にはノイズが含まれていると判定される。このた
め、このグループ2に関する列αを削除する。削除した
後は、次の列のグループ(この例では、グループ3)が
新たにグループ2とされ、さらに次の列のグループ(こ
の例ではグループ4)が新たにグループ3とされる(図
24(b)参照)。
For example, FIG. 24A shows a matrix of the center-of-gravity attribute flag As, the intrinsic determination flag Bs, and the ascending attribute flag Cs in the group of each group number s (s is 1 to 4 in this example). It is. Group 2
Is set to "1", it is determined that group 2 contains noise. Therefore, the column α related to the group 2 is deleted. After deletion, the next column group (in this example, group 3) is newly set as group 2, and the next column group (in this example, group 4) is newly set as group 3 (FIG. 24). (B)).

【0107】次のステップ216では、ステップ215
のノイズに関するグループが削除されているため、グル
ープ数S及びグループ番号sを1つ減らし、ステップ2
17に移行して、現在処理したグループ番号s(ステッ
プ215において、行われた更新後の番号)がグループ
数S未満か否かを判定する。ステップ217において、
グループ番号sがグループ数S未満であれば、まだ処理
すべきグループが残っているとして、ステップ218に
移行し、グループ番号カウンタをインクリメントして、
ステップ214に戻る。
In the next step 216, step 215
Since the group related to the noise of the above has been deleted, the number of groups S and the group number s are reduced by one, and
In S17, it is determined whether or not the currently processed group number s (the updated number performed in step 215) is less than the number S of groups. In step 217,
If the group number s is less than the group number S, it is determined that there is still a group to be processed, the process proceeds to step 218, and the group number counter is incremented.
Return to step 214.

【0108】従って、全グループについてこの処理が完
了するまで、ステップ214〜ステップ217の処理が
繰り返される。ステップ217において、全てのグルー
プに関してこれらの処理が終了し、グループ番号カウン
タがグループ数Sと同じとなったときには、ステップ2
17の判定を「NO」とし、ステップ219(図20)
に移行する。
Therefore, the processing of steps 214 to 217 is repeated until this processing is completed for all groups. In step 217, when these processes are completed for all groups and the group number counter becomes equal to the group number S, step 2
The determination in step 17 is “NO”, and step 219 (FIG. 20)
Move to

【0109】このステップ213〜218の処理ルーチ
ンが設けられている理由は、次の通りである。例えば、
図17(b)において、はんだフィレット11部のデー
タにノイズが含まれない場合、このはんだフィレット1
1に関する認識数列は下記の通りになったとする。
The reason why the processing routines of steps 213 to 218 are provided is as follows. For example,
In FIG. 17B, when the data of the solder fillet 11 does not include noise, the solder fillet 1
Assume that the recognition sequence for 1 is as follows.

【0110】{Xk }={0,1,2,3,4,4,
3,2,1,0} ところが、はんだフィレット11表面に、一点鎖線で示
すようにブローホール20あるいはゴミなどの異物、酸
化物等があると、このはんだフィレット11に関する認
識数列は例えば下記の通りとなってしまうことがある。
{X k} = {0, 1, 2, 3, 4, 4,
However, if the surface of the solder fillet 11 has a blowhole 20 or a foreign substance such as dust or an oxide as shown by a dashed line, the recognition sequence for the solder fillet 11 is as follows, for example. It may be.

【0111】{Xk }={0,1,2,3,4,2,
1,0,4,3,2,1,0} このため、このブローホール20に関するノイズを除去
するために、上記ステップ213〜218の処理ルーチ
ンが設けられている。
{Xk} = {0, 1, 2, 3, 4, 2,
1,0,4,3,2,1,0} Therefore, the processing routine of the above-mentioned steps 213 to 218 is provided in order to remove the noise relating to the blowhole 20.

【0112】次にステップ219以後の説明をする。ス
テップ219に移行すると、グループ番号カウンタを1
にセットし、ステップ220に移行する。ステップ22
0では、グループ番号sのグループとグループ番号(s
+1 )のグループの間にオイラー数が1となるものがあ
るか否かを判定する。すなわち、 両グループの間に孔と
なっている部分があるか否かを判定するのである。 な
お、 オイラー数の検出は、このはんだ付け検査処理ルー
チンとは別の図示しない処理ルーチンで行われる。この
オイラー数の検出については公知であるため、詳細な説
明は省略するが、画像データ全体において、同輝度の画
素が連結してリング状の連結成分を備えており、その連
結成分の中に輝度が低い部分、すなわち、孔となってい
る場合に、オイラー数が1とされるものである。
Next, a description will be given of the steps after step 219. At step 219, the group number counter is set to 1
And the process proceeds to step 220. Step 22
0, the group of group number s and the group number (s
+1) It is determined whether or not there is a group in which the Euler number is 1 among the groups. That is, it is determined whether there is a hole between both groups. The number of Eulers is detected by a processing routine (not shown) different from the soldering inspection processing routine. Since the detection of the Euler number is publicly known, a detailed description thereof is omitted. However, in the entire image data, pixels having the same luminance are connected to form a ring-shaped connected component. Is a low portion, that is, when it is a hole, the Euler number is set to 1.

【0113】ステップ220において、オイラー数が1
でない場合には、ステップ220の判定を「NO」と
し、ステップ228において、オイラー数属性フラグE
sを0にリセットする。ステップ220において、オイ
ラー数が1の場合には、ステップ220の判定を「YE
S」とし、ステップ221において、オイラー数属性フ
ラグEsを1にセットする。ステップ222において
は、現在処理したグループ番号sがグループ数S未満か
否かを判定する。ステップ222においてグループ番号
sがグループ数S未満であれば、まだ処理すべきグルー
プが残っているとして、ステップ229に移行し、グル
ープ番号カウンタをインクリメントし、ステップ220
に戻る。
In step 220, the Euler number is 1
If not, the determination in step 220 is “NO”, and in step 228, the Euler number attribute flag E
Reset s to zero. If the Euler number is 1 in step 220, the determination in step 220 is “YE
S ", and in step 221, the Euler number attribute flag Es is set to 1. In step 222, it is determined whether or not the currently processed group number s is less than the group number S. If the group number s is smaller than the group number S in step 222, it is determined that there is still a group to be processed, the process proceeds to step 229, and the group number counter is incremented.
Return to

【0114】従って、全グループについてこの処理が完
了するまで、ステップ220、221、228、22
2、229の処理が繰り返される。ステップ222にお
いて、全てのグループに関してこれらの処理が終了し、
グルーブ番号カウンタがグループ数Sと同じとなったと
きには、ステップ222の判定を「NO」とし、ステッ
プ223に移行する。
Therefore, steps 220, 221, 228, and 22 are performed until this processing is completed for all groups.
Steps 2 and 229 are repeated. In step 222, these processes are completed for all groups,
When the groove number counter becomes equal to the group number S, the determination in step 222 is “NO”, and the process proceeds to step 223.

【0115】このステップ219〜222、228及び
229の処理ルーチンが設けられている理由は、次の通
りである。図25に示すように領域Dの範囲(画像デー
タの範囲と対応する)で図に示すようにハッチング部分
がリング状(閉ループ)の反射光が検出された場合に
は、図23(a)のように山形状のはんだフィレット1
1が過はんだ状態となっている。このことから、上記の
ステップでは、オイラー数を別ルーチンで検出し、この
オイラー数が1である時に、リング状の部分が連結成分
となり、この連結成分の中に孔が存在することになる。
従って、前記ステップ220において、グループ番号s
のグループとグループ番号(s+1)のグループの間に
孔が存在すれば、これを過はんだ状態における外観形状
と判定できる。
The processing routine of steps 219 to 222, 228 and 229 is provided for the following reason. As shown in FIG. 25, when reflected light having a ring-shaped (closed loop) hatched portion is detected in the range of the region D (corresponding to the range of image data) as shown in FIG. So shaped solder fillet 1
1 is in an over-soldering state. Therefore, in the above step, the Euler number is detected by another routine, and when the Euler number is 1, the ring-shaped portion becomes a connected component, and a hole exists in the connected component.
Accordingly, in step 220, the group number s
If there is a hole between the group of (a) and the group of the group number (s + 1), this can be determined as the appearance shape in the over-soldered state.

【0116】次に、ステップ223においてはグループ
数Sが0か否かを判定する。グループ数が0である場合
にはステップ230に移行して、未はんだ判定を行い、
この処理ルーチンを抜け出る。なお、グループ数Sが0
ということは、環状照明光源L1〜L5の照明をポアソ
ン分布にて輝度がピークとなる環状照明光源を切換えて
も、重心位置が昇順、或いは降順に移動しなかったとい
うことを示しており、重心位置が移動しないことは、曲
面が存在しない、すなわち、平面であるということであ
る。従って、未はんだと判定するのである。
Next, in step 223, it is determined whether or not the number of groups S is 0. If the number of groups is 0, the process proceeds to step 230, in which non-soldering determination is performed,
Exit this processing routine. Note that the number of groups S is 0
This means that even if the illumination of the annular illumination light sources L1 to L5 is switched to the annular illumination light source whose luminance is peaked in the Poisson distribution, the position of the center of gravity did not move in ascending or descending order. The fact that the position does not move means that there is no curved surface, that is, the surface is flat. Therefore, it is determined that there is no solder.

【0117】ステップ223において、グループ数Sが
0でない場合には、ステップ224に移行してグループ
数Sが1か否かを判定する。グループ数Sが1でない場
合には、検査対象のはんだフィレット11が単純な形状
ではないとして、ステップ233(図21)にジャンプ
する。
If the number of groups S is not 0 in step 223, the process shifts to step 224 to determine whether or not the number of groups S is 1. If the group number S is not 1, it is determined that the solder fillet 11 to be inspected does not have a simple shape, and the process jumps to step 233 (FIG. 21).

【0118】ステップ224において、グループ数Sが
1である場合には、検査対象のはんだフィレット11の
外観が単純な形状、すなわち、凹状か、凸状であると判
定し、ステップ225に移行する。
If the number of groups S is 1 in step 224, it is determined that the appearance of the solder fillet 11 to be inspected is a simple shape, that is, concave or convex, and the process proceeds to step 225.

【0119】ステップ225においては、グループ番号
が1であるグループ(グループ1)のオイラー数属性フ
ラグE1 (=Es)が1であるか否かを判定する。オイ
ラー数属性フラグE1 が1の場合には、ステップ231
に移行して、エラー判定を行い、この処理ルーチンを終
了する。
In step 225, it is determined whether or not the Euler number attribute flag E1 (= Es) of the group (group 1) whose group number is 1 is 1. If the Euler number attribute flag E1 is 1, the step 231 is executed.
Then, an error determination is made, and this processing routine ends.

【0120】この処理をエラー判定とするのは、下記の
理由による。すなわち、ステップ224において、グル
ープ数Sが1と判定されているが、一方、別の処理ルー
チンにおいては、オイラー数が1と検出されているた
め、ステップ221にてオイラー数属性フラグE1 が1
にセットされている。仮に、オイラー数が1とした検出
が正しければ、はんだフィレット11の形状は、山形状
をしており、少なくともグループ数は2となるはずであ
る。従って、オイラー数の検出結果とグループ数とが一
致していないため、これをエラーと判定するのである。
This processing is determined as an error for the following reason. That is, in step 224, the number of groups S is determined to be one. On the other hand, in another processing routine, since the number of Eulers is detected to be one, the Euler number attribute flag E1 is set to one in step 221.
Is set to If the detection that the Euler number is 1 is correct, the shape of the solder fillet 11 is a mountain shape, and the number of groups should be at least two. Therefore, since the detection result of the Euler number and the group number do not match, this is determined as an error.

【0121】前記ステップ225において、グループ1
のオイラー数属性フラグE1 (=Es)が1でない、す
なわち、0の場合には、ステップ226に移行して、昇
順属性フラグC1 (=Cs)が1か否かの判定を行う。
昇順属性フラグC1 が1である場合には、ステップ23
2においてはんだフィレット11の外観形状が先の図1
7(a)に示されるような凹状の形状であると正常判定
し、この処理ルーチンを終了する。一方、昇順属性フラ
グC1 が0である場合においても、ステップ227にお
いて、はんだフィレット11の外観形状が先の図17
(c)に示されるような凸状の形状であると正常判定
し、この処理ルーチンを終了する。
At the step 225, the group 1
If the Euler number attribute flag E1 (= Es) is not 1, that is, if it is 0, the process proceeds to step 226 to determine whether the ascending attribute flag C1 (= Cs) is 1.
If the ascending attribute flag C1 is 1, step 23
2 shows the appearance of the solder fillet 11 shown in FIG.
Normally, it is determined that the shape is concave as shown in FIG. 7A, and this processing routine ends. On the other hand, even when the ascending attribute flag C1 is 0, in step 227, the external shape of the solder fillet 11 is changed as shown in FIG.
It is normally determined that the shape is a convex shape as shown in (c), and this processing routine ends.

【0122】次に、ステップ233(図21)にジャン
プした場合を説明する。ステップ233に移行すると、
まずグループ数Sが基準値未満か否かを判定する。この
基準値はグループ数Sの最大数を制限するためのもので
あり、それ以上のグループ数はあり得ない数値として実
験によって決定される。従って、基準値を超えている場
合には、ステップ237に移行して、エラー判定を行
い、この処理ルーチンを終了する。グループ数Sが基準
値未満であれば、ステップ234に移行する。
Next, the case where the process jumps to step 233 (FIG. 21) will be described. Moving to step 233,
First, it is determined whether the group number S is less than a reference value. This reference value is used to limit the maximum number of groups S, and the number of groups larger than this is determined by experiments as an impossible value. Therefore, if the value exceeds the reference value, the process proceeds to step 237 to determine an error, and the processing routine is terminated. If the group number S is less than the reference value, the process proceeds to step 234.

【0123】ステップ234では、グループ数Sが2以
上のグループに関してオイラー数属性フラグE1 が1で
あり、かつ、昇順属性フラグC1 が1であるか否かを判
定する。すなわち、この判定ステップは、はんだフィレ
ット11がリング状の反射光を有する山形状をなしてお
り、かつ、重心移動が昇順であるか否かを判定する。
In step 234, it is determined whether or not the Euler number attribute flag E1 is 1 and the ascending attribute flag C1 is 1 for the groups having the group number S of 2 or more. That is, in this determination step, it is determined whether or not the solder fillet 11 has a mountain shape having a ring-shaped reflected light and the movement of the center of gravity is in ascending order.

【0124】このステップ234において、オイラー数
属性フラグE1 が1であり、かつ、昇順属性フラグC1
が1である場合には、ステップ235に移行して、重心
有無属性フラグA1 が0か否かを判定する。すなわち、
グループ1が電子部品の電極10の上に位置している
か、否かを判定するのである。重心有無属性フラグA1
が0の場合には、ステップ235の判定を「YES」と
し、ステップ238に移行して、このグループ1が電極
10の上面にはなく、かつ、例えば図26(b)のはん
だフィレット11に示すような山形形状をしているた
め、はんだのぬれ不良であると判定し、この処理ルーチ
ンを終了する。
In this step 234, the Euler number attribute flag E1 is 1 and the ascending order attribute flag C1
Is 1, the flow shifts to step 235 to determine whether or not the gravity center presence / absence attribute flag A1 is 0. That is,
It is determined whether or not the group 1 is located on the electrode 10 of the electronic component. Center of gravity attribute flag A1
Is 0, the determination in step 235 is made “YES”, and the process proceeds to step 238, where the group 1 is not on the upper surface of the electrode 10 and is shown, for example, in the solder fillet 11 in FIG. Since it has such a chevron shape, it is determined that solder wetting is defective, and this processing routine ends.

【0125】前記ステップ235において、重心有無属
性フラグA1 が0でなく、1の場合には、ステップ23
5の判定を「NO」とし、ステップ236に移行して、
このグループ番号1のグループが電極10の上面にあ
り、かつ、例えば図23(a)のはんだフィレット11
に示すような山形形状をしているため、過はんだである
と判定し、この処理ルーチンを終了する。
If it is determined in step 235 that the gravity center presence / absence attribute flag A1 is not 0 but is 1, then step 23 is executed.
The determination of 5 is “NO”, and the process proceeds to step 236,
The group of group number 1 is on the upper surface of the electrode 10 and, for example, the solder fillet 11 shown in FIG.
Since it has a chevron shape as shown in (1), it is determined that the solder is excessive, and this processing routine ends.

【0126】前記ステップ234から移行してステップ
239においては、グループ1に関してオイラー数属性
フラグE1 が1であり、かつ、昇順属性フラグC1 が0
であるか否かを判定する。すなわち、この判定ステップ
は、はんだフィレット11がリング状の反射光を有する
山形状をなしており、かつ、重心移動が降順であるか否
かを判定するのである。
At step 239 after shifting from step 234, the Euler number attribute flag E1 is 1 for group 1, and the ascending attribute flag C1 is 0 for group 1.
Is determined. That is, in this determination step, it is determined whether or not the solder fillet 11 has a mountain shape having a ring-shaped reflected light and the movement of the center of gravity is in descending order.

【0127】オイラー数属性フラグE1 が1であり、か
つ、昇順属性フラグC1 が0である場合には、ステップ
240に移行して、重心有無属性フラグA1 が0か否か
を判定する。すなわち、グループ1が電子部品の電極1
0の上に位置しているか、否かを判定するのである。
If the Euler number attribute flag E1 is 1 and the ascending order attribute flag C1 is 0, the flow shifts to step 240 to determine whether or not the gravity center presence / absence attribute flag A1 is 0. That is, group 1 is the electrode 1 of the electronic component.
It is determined whether or not it is located above zero.

【0128】重心有無属性フラグA1 が0の場合には、
ステップ240の判定を「YES」とし、ステップ24
2に移行して、このグループ1が電極10の上面にはな
く、かつ、はんだフィレット11が山形形状をしている
ため、過はんだであると判定し、この処理ルーチンを終
了する。
When the center-of-gravity attribute flag A1 is 0,
The determination in step 240 is made “YES”, and step 24
In step 2, the group 1 is not on the upper surface of the electrode 10 and the solder fillet 11 has a chevron shape. Therefore, it is determined that the solder is over-soldered, and the processing routine ends.

【0129】前記ステップ240において、重心有無属
性フラグA1 が0でなく、1の場合には、ステップ24
0の判定を「NO」とし、ステップ241に移行して、
このグループ1が電極10の上面にあり、かつ、例えば
図26(a)のはんだフィレット11に示すような上方
に延びたつらら山形形状をしているため、過はんだであ
ると判定し、この処理ルーチンを終了する。
If it is determined in step 240 that the barycenter presence / absence attribute flag A1 is 1 instead of 0, the process proceeds to step 24.
The determination of 0 is "NO", and the process proceeds to step 241.
Since this group 1 is on the upper surface of the electrode 10 and has an upwardly extending icicle ridge shape as shown, for example, in the solder fillet 11 of FIG. End the routine.

【0130】前記ステップ239において、グループ1
に関してオイラー数属性フラグE1が1であり、かつ、
昇順属性フラグC1 が0の両条件を満足していない場合
には、ステップ243に移行する。ここでは、はんだフ
ィレット11が山形形状をなさず、例えば、図17
(b)、図17(d)等のような外観形状がS字形状を
有しているとして正常判定を行い、この処理ルーチンを
終了する。
In the step 239, the group 1
, The Euler number attribute flag E1 is 1, and
If the ascending attribute flag C1 does not satisfy both conditions of 0, the process proceeds to step 243. Here, the solder fillet 11 does not form a chevron shape, for example, as shown in FIG.
(B), a normality determination is made assuming that the external shape as shown in FIG. 17 (d) has an S-shape, and the processing routine ends.

【0131】以上説明した実施の形態によって得られる
効果について、以下に記載する。 ・ 本実施の形態では、認識数列の各グループ毎に、重
心有無属性フラグAs、真性判定フラグBs、昇順属性
フラグCs及びオイラー数判定フラグEsを有してお
り、前記属性フラグ及び判定フラグの組み合わせに基づ
いて、はんだフィレット11の形状を認識するようにし
た。そして、属性フラグをセット、リセットする基準
は、すべて重心座標値に関するデータに基づいて決定さ
れている。そして、重心座標値の移動軌跡があるグルー
プ単位毎に分割し、そのグループ単位が昇順か、降順の
数列を判定することによって、外観形状が把握できる。
重心座標値の算出は簡単な計算によって行われるため、
簡易な手法にも拘わらず、はんだフィレット11の外観
形状の認識を確実に行うことができる。
The effects obtained by the above-described embodiment will be described below. In the present embodiment, each group of the recognition sequence has a center-of-gravity attribute flag As, an intrinsic determination flag Bs, an ascending attribute flag Cs, and an Euler number determination flag Es, and a combination of the attribute flag and the determination flag , The shape of the solder fillet 11 was recognized. The criteria for setting and resetting the attribute flag are all determined based on the data relating to the barycentric coordinate values. Then, by dividing the movement locus of the barycentric coordinate value into groups each having a certain group, and determining whether the group unit is an ascending or descending sequence, the external shape can be grasped.
Since the calculation of the barycentric coordinate value is performed by a simple calculation,
Despite the simple technique, the appearance shape of the solder fillet 11 can be reliably recognized.

【0132】・ 本実施の形態では、上記確率分布とし
てポアソン分布を採用し、環状照明光源L1〜L5のう
ち1つをピークの光度となるように照明し、そのピーク
点からポアソン分布関数に従って光度が低下するように
他の段の環状照明光源を照明した。この結果、ポアソン
分布形の照明強度の光を実装基板9に照射すると、微妙
な凹凸部分にも明暗が生ずることはなく、同微妙な凹凸
部分は、実際には強い光同士が干渉しあって一体化して
撮像される。そのため、本実施の形態では、環状照明光
源L1〜L5による照度むらやはんだフィレット11表
面の光沢むらの影響が軽減され、上記はんだフィレット
11の撮像データとしてより精度の高い画像データが得
られるようになる。
In the present embodiment, a Poisson distribution is adopted as the probability distribution, one of the annular illumination light sources L1 to L5 is illuminated to have a peak luminous intensity, and the luminous intensity is calculated from the peak point according to the Poisson distribution function. The annular illumination light source of the other stage was illuminated so that the image quality was reduced. As a result, when light having a Poisson distribution-type illumination intensity is applied to the mounting substrate 9, no light or darkness occurs in the subtle irregularities, and intense light actually interferes with the subtle irregularities. The image is integrated. Therefore, in the present embodiment, the influence of the uneven illuminance and the uneven gloss of the surface of the solder fillet 11 due to the annular illumination light sources L1 to L5 is reduced, so that more accurate image data can be obtained as the imaging data of the solder fillet 11. Become.

【0133】・ 本実施の形態では、図18〜21に示
したルーチンのステップ215において行われているよ
うに、前記グループデータにノイズが含まれている場
合、真性判定フラグに基づいてそのグループを除去し
て、残りのグループにて外観形状を認識するようにし
た。その結果、異物や酸化膜等のノイズデータに惑わさ
れることなく、はんだフィレット11の外観形状を正確
に認識することができる。
In this embodiment, as described in step 215 of the routine shown in FIGS. 18 to 21, when noise is included in the group data, the group is determined based on the intrinsic determination flag. It was removed so that the remaining groups could recognize the external shape. As a result, the external shape of the solder fillet 11 can be accurately recognized without being disturbed by noise data such as foreign substances and oxide films.

【0134】(第2の実施の形態)次に第2の実施の形
態を実施の形態を図27〜図29を参照して説明する。
この実施の形態では、第1の実施の形態と異なるところ
を中心に説明する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS.
In this embodiment, a description will be given mainly of points different from the first embodiment.

【0135】さてこの実施の形態では、上記の実施の形
態と同様に各環状光源L1〜L5をポアソン分布に従っ
て照明するとともに所定の段がピークの光度となるよう
に切換えて、得られた複数の重心座標値(移動軌跡)を
利用してはんだフイレット11の断面形状を描画するも
のである。
In this embodiment, each of the annular light sources L1 to L5 is illuminated in accordance with the Poisson distribution and the predetermined steps are switched so as to have a peak luminous intensity, similarly to the above-described embodiment. The sectional shape of the solder fillet 11 is drawn using the coordinates of the center of gravity (moving locus).

【0136】図27は、はんだ付けされていない基板9
の断面図を示し、同図27において、検査領域D(図2
(b)を参照)の検査線Kの長さをLとし、電子部品の
電極10端面からの同図27に示す検査領域Dの右端ま
での長さをlとする。
FIG. 27 shows the substrate 9 not soldered.
FIG. 27 shows a sectional view of the inspection area D (FIG.
(See (b)), the length of the inspection line K is L, and the length from the end face of the electrode 10 of the electronic component to the right end of the inspection area D shown in FIG. 27 is l.

【0137】図28に、コンピュータ5が実行する描画
制御ルーチンを示す。この描画制御ルーチンは、前記第
1の実施の形態の外観検査処理ルーチンが終了した後に
同外観検査処理ルーチンにより得られたデータを使用し
て実行される。そしてこの描画制御ルーチンに基づい
て、コンピュータ5が図示しないディスプレイにはんだ
フイレット11の断面形状を描画する。
FIG. 28 shows a drawing control routine executed by the computer 5. This drawing control routine is executed using the data obtained by the appearance inspection processing routine after the appearance inspection processing routine of the first embodiment is completed. Then, based on the drawing control routine, the computer 5 draws the sectional shape of the solder fillet 11 on a display (not shown).

【0138】又、前記外観検査処理ルーチンにより得ら
れた重心座標値Gのうち、(L−l)≦G≦Lのものを
この描画制御ルーチンに使用する有効重心座標値G’k
とする。そして、描画制御ルーチンに入る前にコンピュ
ータ5は、この有効重心座標値G’kを小さい順にソー
トし、その番号kを付け直して1〜Dの値としている
(D≦z)。
[0138] Of the barycentric coordinate values G obtained by the visual inspection processing routine, those of (L-1) ≤G≤L are used as effective barycentric coordinate values G'k used in this drawing control routine.
And Before entering the drawing control routine, the computer 5 sorts the effective center-of-gravity coordinate values G'k in ascending order and renumbers the effective center-of-gravity coordinate values G'k to values 1 to D (D≤z).

【0139】この有効重心座標値G’kの数列は下記の
通りである。 有効重心数列 {G’1 ,G’2 ,…,G’k,…、
G’D } なお、この有効重心数列に対応して、G’kの重心座標
値が求められたときの照射角度θを数列にすると、下記
の通りとなる。
The sequence of the effective barycentric coordinate values G'k is as follows. The sequence of effective centroids'G'1,G'2, ..., G'k, ...,
G′D} In addition, when the irradiation angle θ when the barycentric coordinate value of G′k is obtained is represented by a sequence corresponding to this sequence of effective centroids, the following is obtained.

【0140】{θ1 ,θ2 ,…,θk,…、θD } 又、この照射角度に対して対応する補間直線の傾き(ta
n θk)は、予め実験値等により分かっており、この補
間直線の傾きをaとすると、下記の通りとなる。
{Θ1, θ2,..., Θk,..., ΘD} Also, the slope (ta
n θk) is known in advance from experimental values and the like, and assuming that the slope of this interpolation line is a, the following is obtained.

【0141】{a1 ,a2 ,…,ak,…aD } なお、前記照射角度θ、及び補間直線の傾きaは、照明
装置2における環状照明光源L1〜L5が可動するもの
ではないため固定値であり、これらの値は予めコンピュ
ータのROM5aに格納されている。
{A1, a2,..., Ak,... AD} The irradiation angle θ and the inclination a of the interpolation line are fixed values because the annular illumination light sources L1 to L5 in the illumination device 2 are not movable. These values are stored in the ROM 5a of the computer in advance.

【0142】例えば、環状照明光源L1〜L5の照射角
度が下記のような数列の場合、補間曲線の傾きの数列
は、それに対応して、下記の通りとなっている。 照射角度数列 :{20,30,40,50,60} 補間直線の傾き数列:{tan35 °,tan30 °,tan25
°,tan20 °.tan15 °} さて、この制御ルーチンに入り、ステップ300におい
ては、下記の各種データを格納するRAM5bの記憶領
域を下記のように初期化する。
For example, when the irradiation angles of the annular illumination light sources L1 to L5 are in the following sequence, the sequence of the slope of the interpolation curve is as follows. Irradiation angle sequence: {20, 30, 40, 50, 60} Sequence of inclination of interpolation straight line: {tan35 °, tan30 °, tan25
°, tan20 °. tan15 ° Now, the control routine is entered. In step 300, the storage area of the RAM 5b for storing the following various data is initialized as follows.

【0143】 q=0、b*=0、p=L、b=0、k=D ここでq及びb*は、補間直線の終点(補間点という)
のx座標、及びy座標を表している。同様にp及びbは
補間直線の始点のx座標、及びy座標を表している。な
お、この描画制御ルーチンにおいては、最も有効重心座
標値番号の大きなもの、すなわち番号Dから描画が開始
される。
Q = 0, b * = 0, p = L, b = 0, k = D Here, q and b * are the end points of the interpolation straight line (referred to as interpolation points).
Represents the x coordinate and the y coordinate. Similarly, p and b represent the x coordinate and y coordinate of the start point of the interpolation line. In this drawing control routine, drawing is started from the one having the largest effective barycentric coordinate value number, that is, the number D.

【0144】ステップ310においては、有効重心座標
値の番号がk≠1であるか否かを判定する。有効重心座
標値がk≠1であれば、「YES」と判定し、ステップ
320に移行する。ステップ320では、有効重心座標
値G’kとG’(k-1) との間の補間点のx座標値qを下
式にて演算して求め、ステップ330に移行する。
In step 310, it is determined whether or not the number of the effective barycentric coordinate value is k ≠ 1. If the effective barycentric coordinate value is k ≠ 1, “YES” is determined, and the routine proceeds to step 320. In step 320, the x coordinate value q of the interpolation point between the effective barycentric coordinate values G′k and G ′ (k−1) is calculated by the following equation, and the process proceeds to step 330.

【0145】q=(G’k+G’k-1 )/2 又、前記ステップ310において、有効重心座標値の番
号がk=1であれば、「NO」と判定し、ステップ36
0に移行して、x座標値q=0とし、ステップ330に
移行する。
Q = (G'k + G'k-1) / 2 If the number of the effective barycentric coordinate value is k = 1 in step 310, "NO" is determined, and step 36 is performed.
Then, the process proceeds to step 330, where the x coordinate value q = 0, and the process proceeds to step 330.

【0146】ステップ320、或いはステップ360に
おいて補間点のx座標値qの算出後、ステップ330に
おいて、有効重心座標値G’kとG’(k-1) との間の補
間点のy座標値b*を下式にて演算して求め、ステップ
340に移行する。
After calculating the x coordinate value q of the interpolation point in step 320 or 360, in step 330, the y coordinate value of the interpolation point between the effective barycentric coordinate values G'k and G '(k-1) b * is calculated by the following equation, and the process proceeds to step 340.

【0147】b*=ak×(p−q)+b なお、有効重心座標値G’k=(p,b)である。従っ
て、ステップ320及びステップ330において求めた
補間点(q, b*)と、補間直線の始点(p, b)との
間を、コンピュータ5は直線描画し、ステップ350に
おいて、番号kを(k−1)に、更新し、補間直線の始
点のx座標pをqに、y座標bをb*に更新して、ステ
ップ370に移行する。
B * = ak × (p−q) + b The effective barycentric coordinate value G′k = (p, b). Accordingly, the computer 5 draws a straight line between the interpolation point (q, b *) obtained in steps 320 and 330 and the start point (p, b) of the interpolation straight line, and in step 350, assigns the number k to (k -1), the x coordinate p of the start point of the interpolation straight line is updated to q, and the y coordinate b is updated to b *.

【0148】ステップ370では、番号k≠0か否かを
判定する。同ステップ370において、番号k≠0であ
ればステップ310に戻り、同様に続けてステップ31
0〜360のステップを処理する。
At step 370, it is determined whether or not the number k ≠ 0. In step 370, if the number k ≠ 0, the process returns to step 310, and the process is continued in step 31.
Process steps 0 to 360.

【0149】このステップ310〜360処理により、
ステップ370において、番号k=0となると、判定を
「NO」とし、このルーチンを終了する。有効重心座標
値がk=3の場合の、描写される例を図29に示す。図
中Hは補間点を示している。
By the processing of steps 310 to 360,
In step 370, when the number k = 0, the determination is “NO” and the routine ends. FIG. 29 shows an example in which the effective barycenter coordinate value is k = 3. In the figure, H indicates an interpolation point.

【0150】以上説明した実施の形態によって得られる
効果について、以下に記載する。 ・上記第2の実施の形態においては、はんだフィレット
11の外観形状の断面構造を知ることができる。又、検
査線Kをいくつか取って、同様にはんだフィレット11
の断面を得れば、はんだフィレット11のはんだ量を演
算することができる。
The effects obtained by the above-described embodiment will be described below. In the second embodiment, the cross-sectional structure of the outer shape of the solder fillet 11 can be known. Also, several inspection lines K are taken, and the solder fillet 11 is similarly formed.
By obtaining the cross section, the amount of solder in the solder fillet 11 can be calculated.

【0151】(第3の実施の形態)前記第1及び第2の
実施の形態では、実装基板9に対する電子部品の電極に
おけるはんだフィレット11の外観形状検査を行った
が、この実施の形態では、はんだフィレット11を対象
とせず、汎用的に外観検査を行うものである。また、こ
の実施の形態では、第1の実施の形態と同じハードウェ
ア構成を備えている。
(Third Embodiment) In the first and second embodiments, the appearance and shape of the solder fillet 11 in the electrode of the electronic component with respect to the mounting board 9 were inspected. The purpose is to perform a general-purpose appearance inspection without targeting the solder fillet 11. In this embodiment, the same hardware configuration as in the first embodiment is provided.

【0152】図30(a)は、検査対象物16の平面
図、同図30(b)は断面図である。従来、検査対象物
16の外観が図30(a),(b)に示すような形の場
合には、画像処理を行っても画像にエッジ等の明確な特
徴が出にくく、明暗がついているだけで、従来の画像処
理では対処する方法がない。
FIG. 30A is a plan view of the inspection object 16 and FIG. 30B is a sectional view. Conventionally, in the case where the appearance of the inspection object 16 is as shown in FIGS. 30A and 30B, even if image processing is performed, a clear feature such as an edge does not easily appear in the image, and the image is light and dark. However, there is no way to cope with the conventional image processing.

【0153】すなわち、従来の画像処理技術において
は、図31(a)に示すような孔17、或いは、図31
(b)に示すように角部を備えた凹部18等の特異点が
必要であった。なお、図31(a),(b)は、検査対
象物16の平面図を表している。
That is, in the conventional image processing technique, the hole 17 as shown in FIG.
As shown in (b), a singular point such as a concave portion 18 having a corner was required. FIGS. 31A and 31B are plan views of the inspection object 16.

【0154】本実施の形態では、図32(a)に示すよ
うに、撮像デバイス3にて撮像して得た画像データを検
査線Kを直線ではなく、検査対象物16の形状に対応さ
せ、或いは、検査に必要な外観に沿って検査線Kを決定
するものである。従って、この実施の形態では、検査線
Kが直線であった第1の実施の形態とは異なり、検査線
Kは曲線となっており、画像データを構成する画素のう
ち、検査線K上に対応した画素が選択されて、この画素
上の輝度に基づいて外観検査が行われる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 32 (a), image data obtained by imaging with the imaging device 3 is set so that the inspection line K is not a straight line but corresponds to the shape of the inspection object 16. Alternatively, the inspection line K is determined according to the appearance required for the inspection. Therefore, in this embodiment, unlike the first embodiment in which the inspection line K is a straight line, the inspection line K is a curve, and among the pixels constituting the image data, A corresponding pixel is selected, and a visual inspection is performed based on the luminance on this pixel.

【0155】図32(b)において、図のような検査線
Kでは、例えば、図32(c)の一次元の輝度曲線が得
られることになる。従って、第1の実施の形態と同様に
外観検査処理ルーチンを実行処理すると、このサンプリ
ングしたデータに基づいて、第1の実施の形態と同様に
領域分割等の処理をコンピュータ5は行い、領域分割し
た各領域毎に重心移動軌跡を求め、求めた後に、マスタ
ーパターンと照合して、検査対象物16の外観を検査す
る。なお、このマスターパターンは、この実施の形態で
は、前記検査対象物16の外観に対応した種々の形状デ
ータ、すなわち、各形状に対応した重心移動軌跡データ
がマスターパターンとして予めROM5aに格納されて
いるものとする。
In FIG. 32 (b), a one-dimensional luminance curve of FIG. 32 (c) is obtained, for example, on the inspection line K as shown. Accordingly, when the appearance inspection processing routine is executed and processed in the same manner as in the first embodiment, the computer 5 performs processing such as area division based on the sampled data in the same manner as in the first embodiment, and performs area division. The center-of-gravity movement trajectory is obtained for each of the regions, and after obtaining the trajectory, the appearance of the inspection object 16 is inspected by comparing it with the master pattern. In this embodiment, in this embodiment, various shape data corresponding to the appearance of the inspection object 16, that is, center-of-gravity movement trajectory data corresponding to each shape is stored in the ROM 5 a in advance as a master pattern. Shall be.

【0156】以上説明した実施の形態によって得られる
効果について、以下に記載する。 ・上記第3の実施の形態においては、検査線Kを、例え
ば、図33に示すような平面円形のものでは、検査線K
を円形にしたり、或いは、図34に示すような検査対象
物では、複数の検査線Kを互いに交差したりすることに
より、多様な形状の外観検査を行うことができる。
The effects obtained by the above-described embodiment will be described below. In the third embodiment, the inspection line K is, for example, a plane circle as shown in FIG.
In the inspection object as shown in FIG. 34, or by crossing a plurality of inspection lines K with each other, the appearance inspection of various shapes can be performed.

【0157】・第3の実施の形態で得た各重心座標値を
もとに、第2実施の形態と同様に描画制御ルーチンで処
理すれば、検査対象物16の断面形状がわかり、従っ
て、図31(c)や(d)に示すように検査対象物16
の画像データ上に等高線Rを描くことも可能となる。
If the drawing control routine is used in the same manner as in the second embodiment based on the respective barycentric coordinate values obtained in the third embodiment, the cross-sectional shape of the inspection object 16 can be determined. As shown in FIGS. 31C and 31D, the inspection target 16
It is also possible to draw a contour line R on the image data.

【0158】・第3の実施の形態では外観に特異形状が
なくても、外観を検査、認識することができる。そのた
め、特に、特異形状がないワーク(検査対象物)の位置
決めを行う場合には、検査対象物以外の部位に、特異形
状、パターンを有した画像認識処理のための位置決め部
を設ける必要がなく、検査対象物のみで位置決めを行う
ことも可能である。 (第4の実施の形態)次に、第4の実施の形態を図35
〜図47を参照して説明する。
In the third embodiment, the appearance can be inspected and recognized even if the appearance does not have a peculiar shape. Therefore, in particular, when positioning a work (inspection object) having no peculiar shape, there is no need to provide a positioning part for image recognition processing having a peculiar shape and pattern in a part other than the inspection object. It is also possible to perform positioning using only the inspection object. (Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS.

【0159】この実施の形態は、実装基板9に対しては
んだ付けされた電子部品の電極10におけるはんだフィ
レット11と、隣接する他の電子部品の電極10におけ
るはんだフィレット11との間にはんだブリッジが形成
されているか否かを検査することができる外観検査装置
に関するものである。
In this embodiment, a solder bridge is provided between a solder fillet 11 of an electrode 10 of an electronic component soldered to a mounting board 9 and a solder fillet 11 of an electrode 10 of another adjacent electronic component. The present invention relates to a visual inspection device capable of inspecting whether or not it is formed.

【0160】図35(a)は、はんだブリッジがない場
合の、基板9上に実装された電子部品のはんだフィレッ
ト11の平面図、同図35(b)は、はんだブリッジ2
4が存在する場合の平面図、同図35(c)はランド1
2間にシルクスクリーン印刷26がされている場合を示
している。
FIG. 35A is a plan view of the solder fillet 11 of the electronic component mounted on the substrate 9 when there is no solder bridge, and FIG.
FIG. 35 (c) shows a land 1
The case where the silk screen printing 26 is performed between the two is shown.

【0161】従来のはんだブリッジ検査は、反射光の面
積をもとに判定し、同反射光の面積が多ければ、はんだ
ブリッジがあるとしているものである。しかし、従来技
術の場合、部品ランド間にシルクスクリーン印刷がされ
ていたり、ランド12に段差があると、その部分に照明
光が当たりその反射光が撮像されるため、はんだブリッ
ジがなくても、はんだブリッジがあると誤判定する場合
がある。
In the conventional solder bridge inspection, a judgment is made based on the area of the reflected light, and if the area of the reflected light is large, it is assumed that there is a solder bridge. However, in the case of the prior art, if silk screen printing is performed between the component lands or if there is a step on the land 12, the illumination light hits the portion and the reflected light is imaged, so even if there is no solder bridge, There is a case where it is erroneously determined that there is a solder bridge.

【0162】この実施の形態では、そのような誤判定の
虞がないはんだブリッジ検出のための外観検査装置であ
り、ハードウェア構成は前記第1の実施の形態と同一構
成を備えているため、同一構成には同一符号を付す。
In this embodiment, there is provided a visual inspection apparatus for detecting a solder bridge without the risk of such erroneous determination. Since the hardware configuration is the same as that of the first embodiment, The same components are denoted by the same reference numerals.

【0163】図36は、実装基板9の平面図、図37は
(a)ははんだブリッジの断面図、同図37(b)はそ
の平面図を示している。図38は、撮像デバイス3と、
基板9、環状照明光源L1〜L5との配置関係を示して
いる。
FIG. 36 is a plan view of the mounting board 9, FIG. 37 (a) is a sectional view of the solder bridge, and FIG. 37 (b) is a plan view thereof. FIG. 38 shows the imaging device 3 and
The arrangement relationship between the substrate 9 and the annular illumination light sources L1 to L5 is shown.

【0164】この実施の形態では、検査線Kは図36に
示すように、はんだブリッジが発生しやすいランド12
間を亘る方向、すなわち、電子部品の実装方向Aとは直
交する方向に設定されている。なお、この実施の形態に
おいても、検査線Kの幅は画素の1ドット幅とされてい
る。
In this embodiment, the inspection line K is, as shown in FIG. 36, a land 12 where solder bridges are likely to occur.
The direction is set so as to extend across, that is, a direction orthogonal to the mounting direction A of the electronic component. In this embodiment, the width of the inspection line K is also one dot width of the pixel.

【0165】そして、この実施の形態においても、図3
9に示す外観検査処理ルーチンが実行される。この処理
ルーチン中、ステップ10〜100までは、第1の実施
の形態と同じ処理を行う。従って、例えば、図40に示
すように1次元の輝度データを得たとき、極小値がある
ときは、第1の実施の形態と同様にステップ60におい
て、領域分割を行う。
Also in this embodiment, FIG.
9 is executed. In this processing routine, the same processing as in the first embodiment is performed in steps 10 to 100. Therefore, for example, when one-dimensional luminance data is obtained as shown in FIG. 40 and there is a minimum value, region division is performed in step 60 as in the first embodiment.

【0166】そして、ステップ120では、第1の実施
の形態で説明した「グループ」(環状照明光源の切換え
に伴なう昇順または降順の重心座標の移動)の存在の有
無を判断する。
In step 120, it is determined whether or not the "group" (moving of the center of gravity in ascending or descending order accompanying the switching of the annular illumination light source) described in the first embodiment exists.

【0167】すなわち、同ステップでは分割された各領
域毎に、得られた認識数列{Xk}の中で、降順に並ん
でいる部分があるか、又は、昇順に並んでいる部分があ
るかが判断される。
That is, in this step, for each of the divided areas, whether the obtained recognition sequence {Xk} has a portion arranged in descending order or a portion arranged in ascending order is determined. Is determined.

【0168】例えば、前記したようにある領域におい
て、{Xk}={4,3,2,1,0,1,3}の数列
が得られた場合、(4,3,2,1,0)の部分が降順
になっているとされる。又、{Xk}={3,4,0,
1,2,3,4}の数列が得られた場合、(0,1,
2,3,4)の部分が昇順になっているとされる。
For example, when a sequence of {Xk} = {4,3,2,1,0,1,3} is obtained in a certain region as described above, (4,3,2,1,0 ) Is in descending order. Also, {Xk} = {3,4,0,
If a sequence of 1,2,3,4} is obtained, (0,1,
2, 3, 4) are assumed to be in ascending order.

【0169】このように認識数列の中に降順又は昇順が
或場合には、「グループ」が存在すると判断される。そ
して、ステップ130においては、ステップ120にお
いて「グループ」が存在すると判断されるとはんだブリ
ッジがあると判定される。一方、同ステップ120にお
いて「グループ」が存在しないと判断されればはんだブ
リッジはないと判定される。そして、この処理ルーチン
を終了する。前記ステップ120及びステップ130は
はんだブリッジ有無判定手段を構成している。
When there is a descending order or an ascending order in the recognition sequence, it is determined that a "group" exists. Then, in step 130, when it is determined in step 120 that a "group" exists, it is determined that there is a solder bridge. On the other hand, if it is determined in step 120 that no “group” exists, it is determined that there is no solder bridge. Then, this processing routine ends. Steps 120 and 130 constitute a solder bridge presence / absence determining means.

【0170】さて、上記の実施の形態では、図38にお
いて、環状照明光源L5からL1に順次輝度のピークを
図の矢印に示すように切換えるとともに、かつ、ポアソ
ン分布に従うように他の環状照明光源を切換えた。
In the above-described embodiment, in FIG. 38, the luminance peaks are sequentially switched from the annular illumination light sources L5 to L1 as shown by arrows in FIG. 38, and the other annular illumination light sources follow the Poisson distribution. Was switched.

【0171】図41(a)ははんだブリッジがない場合
の検査線上の側面図、同図41(b)はその時に撮像さ
れた画像を示す。また、図42〜図45において、各図
(a)ははんだブリッジ24がある場合の検査線上の模
式断面図を示し、各図(b)はその時に撮像された画像
を示している。ここで、図42(b)〜図45(b)に
おいて、環状照明光源L5をピークの輝度に発光させた
場合を、右上がりのハッチングで示し、環状照明光源L
1をピークの輝度に発光させた場合を、右下がりのハッ
チングで示す。
FIG. 41A shows a side view on the inspection line when there is no solder bridge, and FIG. 41B shows an image taken at that time. 42 to 45, each figure (a) shows a schematic cross-sectional view on an inspection line when the solder bridge 24 is present, and each figure (b) shows an image taken at that time. Here, in FIG. 42 (b) to FIG. 45 (b), the case where the annular illumination light source L5 emits light at the peak luminance is indicated by hatching rising to the right, and the annular illumination light source L5 is shown.
The case where 1 is emitted at the peak luminance is indicated by hatching to the lower right.

【0172】図41では、はんだブリッジが存在しない
ため、画像は反射光がなにもなく、「グループ」(重心
移動)が存在しなかったものである。図42(a)の山
形のはんだブリッジ24の場合には、図42(b)に示
すように環状照明光源L5をピークに発光したとき左右
に分裂していた反射光が、環状照明光源L1をピークに
発光したときは中央に集まった。
In FIG. 41, since there is no solder bridge, the image has no reflected light and no "group" (shift of the center of gravity) exists. In the case of the chevron-shaped solder bridge 24 in FIG. 42 (a), as shown in FIG. 42 (b), when the annular illumination light source L5 emits light at its peak, the reflected light that has been split into left and right light forms the annular illumination light source L1. When the light emitted at the peak, it gathered at the center.

【0173】図43(a)の凹形のはんだブリッジ24
の場合にも、図43(b)に示すように環状照明光源L
5をピークに発光したとき左右に分裂していた反射光
が、環状照明光源L1をピークに発光したときは中央に
集まった。
The concave solder bridge 24 shown in FIG.
Also in the case of FIG. 43, as shown in FIG.
The reflected light, which was split right and left when the light emitted at the peak of 5, was collected at the center when emitted at the peak of the annular illumination light source L1.

【0174】図44(a)に示す左上がりはんだブリッ
ジ24の場合には、図44(b)に示すように環状照明
光源L5をピークに発光したとき左にあった反射光が、
環状照明光源L1をピークに発光したときは右側に移動
した。
In the case of the upward-sloping solder bridge 24 shown in FIG. 44 (a), as shown in FIG.
When the annular illumination light source L1 emitted light at the peak, it moved to the right.

【0175】図45(a)に示す右上がりはんだブリッ
ジ24の場合には、図45(b)に示すように環状照明
光源L5をピークに発光したとき右にあった反射光が、
環状照明光源L1をピークに発光したときは左側に移動
した。
In the case of the upward-sloping solder bridge 24 shown in FIG. 45 (a), as shown in FIG.
When the annular illumination light source L1 emitted light at the peak, it moved to the left.

【0176】このように、「グループ」(重心移動)は
はんだブリッジの形状によって種々生ずるが、いずれに
しても「グループ」が存在する。従って、図41に示す
ようにはんだブリッジがない場合には、「グループ」は
存在しないため、この「グループ」の存在を判断するこ
とによりはんだブリッジが検出できる。
As described above, the "group" (movement of the center of gravity) varies depending on the shape of the solder bridge, but in any case, the "group" exists. Accordingly, when there is no solder bridge as shown in FIG. 41, there is no “group”, and therefore, by judging the existence of this “group”, the solder bridge can be detected.

【0177】また従来、撮像デバイスにて取り込んだ画
像データは2値化した上で、認識処理している。しか
し、図35(c)に示したようにランド12間にシルク
スクリーン印刷26がされている場合、或いは図46に
示すようにランド12間に配線パターン27がある場合
に、多段環状光源をオン・オフにて切換えて照明する
と、光の当たりかたにムラが生じる。そのため、特に配
線パターン27がある場合には、画像データを2値化し
た場合、画像データに残ったり、残らなかったりする。
このため、はんだブリッジの検出ができないことがあ
る。ところが、本実施の形態では2値化処理を行なって
いないため、配線パターン27等の部分が残ったり、残
らなかったりすることがなく、安定した認識処理を行う
ことができ、上記のような問題はない。
Conventionally, image data captured by an imaging device is binarized and then subjected to recognition processing. However, when the silk screen printing 26 is performed between the lands 12 as shown in FIG. 35C, or when the wiring pattern 27 is between the lands 12 as shown in FIG. -If the illumination is switched off, uneven lighting occurs. Therefore, especially when the wiring pattern 27 exists, when the image data is binarized, the image data may or may not remain in the image data.
For this reason, detection of a solder bridge may not be possible. However, in the present embodiment, since the binarization processing is not performed, a portion such as the wiring pattern 27 does not remain or does not remain, so that stable recognition processing can be performed, and the above-described problem occurs. There is no.

【0178】又、従来の画像認識の場合、図46のラン
ド12間を撮像すると、図47に示すような配線パター
ンの画像27aが取り込まれる。この取り込まれた配線
パターンの画像27aに基づいて認識処理を行うと、同
画像27aのためにはんだブリッジが存在しないにも関
わらず、はんだブリッジがあると判定することがある。
ところが、本実施の形態では、画像を2値化処理を行っ
ていないため、そのようなことはない。
In the case of the conventional image recognition, when an image is taken between the lands 12 in FIG. 46, an image 27a of the wiring pattern as shown in FIG. 47 is captured. When the recognition process is performed based on the captured wiring pattern image 27a, it may be determined that there is a solder bridge even though the solder bridge does not exist for the image 27a.
However, in the present embodiment, such a case does not occur because the image is not subjected to the binarization processing.

【0179】以上説明した第4の実施の形態によって得
られる効果について、以下に記載する。・上記第4の実
施の形態によれば、ランド12間のはんだブリッジ24
が確実に検出されるとともに、シルクスクリーン印刷2
6及び配線パターン27がはんだブリッジ24と誤認さ
れることもない。 (第5の実施の形態)次に、第5の実施の形態を図48
〜図51を参照して説明する。なお、この実施の形態で
は、そのハードウェア構成は前記第1の実施の形態と同
一構成を備えているため、同一構成には同一符号を付
す。
The effects obtained by the above-described fourth embodiment will be described below. According to the fourth embodiment, the solder bridge 24 between the lands 12
Is reliably detected and silk screen printing 2
6 and the wiring pattern 27 are not mistaken for the solder bridge 24. (Fifth Embodiment) Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS. In this embodiment, since the hardware configuration has the same configuration as that of the first embodiment, the same configuration is denoted by the same reference numeral.

【0180】この実施の形態は、図48に示すように、
はんだフィレットの断面形状が直角三角形、すなわちは
んだフィレットの照明反射面が平坦である場合(以下、
平坦フィレット11a)であっても認識可能とするもの
である。
In this embodiment, as shown in FIG.
When the cross-sectional shape of the solder fillet is a right triangle, that is, when the illumination reflection surface of the solder fillet is flat (hereinafter, referred to as
Even the flat fillet 11a) can be recognized.

【0181】こうした、前記平坦フィレット11aにお
いては、はんだフィレットの曲率変化がほとんどないた
め、上述した重心移動が起こらない。そのため、図48
に示すような平坦フィレット11aは正常なはんだフィ
レット形状と判定されてよいにもかかわらず、先の外観
検査処理ルーチン(図10)ではこの平坦フィレット1
1aは正常と判定されない。
In the flat fillet 11a, since the curvature of the solder fillet hardly changes, the above-described shift in the center of gravity does not occur. Therefore, FIG.
Although the flat fillet 11a as shown in FIG. 10 may be determined to have a normal solder fillet shape, the flat fillet 1a is not used in the appearance inspection processing routine (FIG. 10).
1a is not determined to be normal.

【0182】そこで本実施の形態は、上記外観検査処理
ルーチンに「平坦フィレット検出」処理を追加したもの
である。その外観検査処理ルーチンを図50に示す。以
下、この図50に示す外観検査処理ルーチンのステップ
15の処理として行われる「平坦フィレット検出」処理
を図51を参照して説明する。
Therefore, in this embodiment, a "flat fillet detection" process is added to the above-described appearance inspection process routine. FIG. 50 shows the appearance inspection processing routine. The "flat fillet detection" process performed as the process of step 15 of the visual inspection process routine shown in FIG. 50 will be described below with reference to FIG.

【0183】同図51のステップ151においては、環
状照明光源L1〜L5のうち2種類の低角度光源、例え
ば図49(a)に示すように、環状照明光源L4及びL
5を選択して各々個別にはんだフィレットに照射しその
反射光を各々画像データ化する。なお、この画像データ
は所定の閾値によりハイレベル「1」かローレベル
「0」かに2値化される。
In step 151 of FIG. 51, two types of low-angle light sources among the annular illumination light sources L1 to L5, for example, as shown in FIG.
5 and individually irradiate the solder fillets to convert the reflected light into image data. Note that this image data is binarized into a high level “1” or a low level “0” by a predetermined threshold.

【0184】ここで低角度から環状照明光源を照射する
のは、はんだフィレットの形状が平坦フィレット11a
である場合、図49(b)に示すように、低照射角から
の照明光に対して同フィレット11aが広い面積Bfで
強く反射するからである。すなわち、本実施の形態にお
いては、この平坦フィレット11aに特有の反射光パタ
ーンBfを利用して平坦フィレット11aの検出を行
う。
Here, the annular illumination light source is irradiated from a low angle because the shape of the solder fillet is flat.
This is because, as shown in FIG. 49B, the fillet 11a strongly reflects the illumination light from a low irradiation angle with a wide area Bf as shown in FIG. That is, in the present embodiment, the flat fillet 11a is detected using the reflected light pattern Bf unique to the flat fillet 11a.

【0185】ステップ152においては、ステップ15
1で得られた画像データ(2値化データ)の論理和(O
R)をとり、その総和Uθを求める。続くステップ15
3においては、次の不等号の判定を行う。
In step 152, step 15
OR of the image data (binary data) obtained in step 1
R), and obtain the sum Uθ. Next step 15
In 3, the following inequality sign is determined.

【0186】Uθ > U×F3 (0<F3 <1) ここで、 Uθ:論理和された画素データの総和 U :全ての画素データをハイレベル「1」としたその
総和(以下、単にハイレベル総和S) F3 :実験によって求められる所定の定数(以下、単に
定数F3 ) とする。
Uθ> U × F 3 (0 <F 3 <1) where, Uθ: the sum of logically ORed pixel data U: the sum of all pixel data at high level “1” (hereinafter simply referred to as “1”) High-level sum S) F 3 : A predetermined constant determined by an experiment (hereinafter simply referred to as a constant F 3 ).

【0187】すなわち、ステップ153において総和U
θがハイレベル総和Uに定数F3 を掛けたものより大き
い場合は、反射輝度量が所定値より多く平坦フィレット
11aが検出されたと判定される。そして次のステップ
154において、正常判定として外観検査処理ルーチン
を終了する。
That is, in step 153, the sum U
If θ is larger than the sum of the high-level sum U and the constant F 3 , it is determined that the reflection fill amount is larger than the predetermined value and the flat fillet 11a is detected. Then, in the next step 154, the appearance inspection processing routine ends as normality determination.

【0188】一方、同ステップ153において総和Uθ
がハイレベル総和Uに定数F3 を掛けたものより小さい
か等しい場合は、反射輝度量が所定値より少なく平坦フ
ィレット11aが検出されなかったものと判定される。
そして図50のステップ20に移行して、以下上述した
外観検査処理ルーチンが行われる。
On the other hand, in step 153, the total sum Uθ
If is less than or equal multiplied by the constant F 3 to the high-level sum U is the amount of reflected luminance is flat fillets 11a smaller than a predetermined value is judged not to have been detected.
Then, the flow shifts to step 20 in FIG. 50, where the appearance inspection processing routine described above is performed.

【0189】以上説明した第5の実施の形態によって得
られる効果について、以下に記載する。 ・上記第5の実施の形態によれば、重心移動が起こらな
い平坦フィレット11aの検出も可能となる。 (第6の実施の形態)次に、第6の実施の形態を図52
〜図53を参照して説明する。なお、この実施の形態で
は、そのハードウェア構成は前記第1の実施の形態と同
一構成を備えているため、同一構成には同一符号を付
す。
The effects obtained by the fifth embodiment described above will be described below. According to the fifth embodiment, it is possible to detect the flat fillet 11a in which the center of gravity does not move. (Sixth Embodiment) Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS. In this embodiment, since the hardware configuration has the same configuration as that of the first embodiment, the same configuration is denoted by the same reference numeral.

【0190】この実施の形態は、図52に示すように、
はんだカス,粉じん,はんだメッキによる突起,フラッ
クスのかたまり等の小片の異物(以下、単に異物)28
が未はんだのランド12上、またははんだフィレット1
1上に付着している場合、同異物28からの反射光の影
響を除去するものである。
In this embodiment, as shown in FIG.
Small particles (hereinafter simply referred to as foreign particles) 28 such as solder residue, dust, protrusions due to solder plating, and lump of flux.
On the unsoldered land 12 or the solder fillet 1
In the case where it adheres to the surface 1, the influence of the reflected light from the foreign matter 28 is removed.

【0191】以下、図53に示す外観検査処理ルーチン
のステップ16の処理として行われるこの「異物検出」
処理を説明する。まず、全ての環状照明光源L1〜L5
を検査対象物に対して照射する。そして、その反射光を
撮像してその輝度をデータ化する。次に、図52に示す
ように、画像データの同図52に示すX方向及びY方向
の射影をとり、同射影によるデータ幅をそれぞれAX
びAY とする。また、同図52に示すように、X方向及
びY方向のデータ幅をそれぞれLX 及びLY とする。こ
のとき、データ幅LX 及びLY に対する射影によるデー
タ幅AX 及びAY の比をそれぞれRX 及びRY とする。
それを下式に表わす。
This "foreign substance detection" is performed as the processing of step 16 of the appearance inspection processing routine shown in FIG.
The processing will be described. First, all the annular illumination light sources L1 to L5
Is irradiated on the inspection object. Then, the reflected light is imaged to convert the luminance into data. Next, as shown in FIG. 52, the image data is projected in the X direction and the Y direction shown in FIG. 52, and the data widths of the projection are assumed to be A X and A Y , respectively. Further, as shown in FIG. 52, X-direction and Y-direction data width, respectively and L X and L Y. At this time, the ratios of the data widths A X and A Y by projection to the data widths L X and L Y are R X and R Y , respectively.
It is represented by the following equation.

【0192】 RX = AX /LX , RY = AY /LY このとき、RX 及びRY に対してそれぞれTRX及びTRY
なる所定の閾値を設定し、以下の条件式 (6−1) RX ≧TRX (6−2) RY ≧TRY のいずれも満足した場合のみ未はんだのランド12上、
またははんだフィレット11上に小片の異物28が存在
しないと判定される。そして、以下は図53のステップ
20以降に示される上述した外観検査処理ルーチンが行
われる。
R X = A X / L X , R Y = A Y / L Y At this time, T RX and T RY are used for R X and R Y , respectively.
A predetermined threshold value is set, and only when all of the following conditional expressions (6-1) R X ≧ T RX (6-2) R Y ≧ T RY are satisfied,
Alternatively, it is determined that the small foreign matter 28 does not exist on the solder fillet 11. Thereafter, the above-described visual inspection processing routine shown in step 20 and subsequent steps in FIG. 53 is performed.

【0193】一方、上記条件式(6−1),(6−2)
のうち少なくとも1つが満たされない場合は、未はんだ
のランド12上、またははんだフィレット11上に小片
の異物28が存在すると判定され、マスク処理が行われ
る。このマスク処理は、前記小片の異物28に関する反
射光データを画素データから除く、すなわち同小片の異
物28に関する反射光データを「0」リセットするもの
である。そして、以下は同様に図53のステップ20以
降に示される上述した外観検査処理ルーチンが行われ
る。
On the other hand, the above conditional expressions (6-1) and (6-2)
If at least one of them is not satisfied, it is determined that the small foreign matter 28 exists on the unsoldered land 12 or on the solder fillet 11, and the mask processing is performed. In this masking process, the reflected light data on the foreign matter 28 of the small piece is removed from the pixel data, that is, the reflected light data on the foreign matter 28 of the same small piece is reset to “0”. Thereafter, the above-described visual inspection processing routine shown in step 20 and subsequent steps in FIG. 53 is similarly performed.

【0194】なお、この「異物検出」処理は、図53に
示すステップ50の「フィルタ処理」の中で行うように
してもよい。その場合同「異物検出」処理は、図11に
示す「フィルタ処理」のフローチャートにおいて、ステ
ップ55の輝度正規化の前で行い、また各環状照明光源
ごとに行う。
This "foreign matter detection" processing may be performed in the "filter processing" in step 50 shown in FIG. In this case, the "foreign matter detection" processing is performed before the luminance normalization in step 55 in the flowchart of the "filter processing" shown in FIG. 11, and is performed for each annular illumination light source.

【0195】以上説明した第6の実施の形態によって得
られる効果について、以下に記載する。 ・上記第6の実施の形態によれば、小片の異物28が未
はんだのランド12上、またははんだフィレット11上
に付着している場合であっても、同異物28からの反射
光の影響を除去することができ、外観検査の精度が向上
する。 (第7の実施の形態)次に、第7の実施の形態を図54
〜図62を参照して説明する。なお、この実施の形態で
は、そのハードウェア構成は前記第1の実施の形態と同
一構成を備えているため、同一構成には同一符号を付
す。
The effects obtained by the above-described sixth embodiment will be described below. According to the sixth embodiment, even when the small foreign matter 28 adheres to the unsoldered land 12 or the solder fillet 11, the influence of the reflected light from the foreign matter 28 is reduced. Can be removed, and the accuracy of the appearance inspection is improved. (Seventh Embodiment) Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS. In this embodiment, since the hardware configuration has the same configuration as that of the first embodiment, the same configuration is denoted by the same reference numeral.

【0196】この実施の形態は、特異形状の反射光検出
が可能で、例えば図55(a)に示すリード10aのは
んだ付け部に生じる三日月形の反射光Bmについても短
時間でその旨を判定することができるようにするもので
ある。
In this embodiment, the reflected light having a peculiar shape can be detected, and for example, the crescent-shaped reflected light Bm generated at the soldered portion of the lead 10a shown in FIG. Is what you can do.

【0197】図54に示すリード10aがはんだ付けさ
れた部分(以下、リードはんだフィレット)11bの反
射光は、正常にはんだ付けされている場合、図55
(a)に示すような三日月状で鮮明に光る。また、未は
んだの場合は、リードのエッジ部でわずかに反射して同
図55(b)に示すようにコ字状Bsとなる。
When the lead 10a shown in FIG. 54 is soldered normally (hereinafter referred to as a lead solder fillet) 11b, the reflected light is reflected in FIG.
It shines clearly in a crescent shape as shown in FIG. In the case of no solder, the lead slightly reflects at the edge of the lead and becomes a U-shaped Bs as shown in FIG. 55 (b).

【0198】リードはんだフィレット11bの外観検出
は、上述した重心移動法においても反射光画像を高解像
度化すれば検出できるものであるが、そうするとデータ
画素数が増えてその処理(計算)に時間を要し、その結
果検査に時間がかるものとなる。そのためこの実施の形
態では、図62に示す本実施の形態の外観検査処理ルー
チンのステップ17において、定点サンプリング法によ
り「特異形状の検出」を行って、その検査時間の短縮を
図るものである。以下、この「特異形状の検出」を説明
する。
The appearance of the lead solder fillet 11b can be detected by increasing the resolution of the reflected light image in the above-described method of moving the center of gravity. However, the number of data pixels increases, and the processing (calculation) takes time. In short, the inspection takes a long time. Therefore, in this embodiment, in step 17 of the appearance inspection processing routine of this embodiment shown in FIG. 62, "singular shape detection" is performed by the fixed point sampling method to shorten the inspection time. Hereinafter, this “detection of a unique shape” will be described.

【0199】まず、検査対象物であるリードはんだフィ
レット11b近傍に全ての環状照明光源L1〜L5を照
射する。そして、その反射光を撮像してその輝度をデー
タ化する。次に、図56に示すように、X,Y軸方向に
それぞれ前記撮像データの射影をとり、データ上のはん
だフィレット11b位置を検出する。すなわち、同図5
6に示すX1 ,X2 ,Y1 及びY2 の座標を決定する。
First, all the annular illumination light sources L1 to L5 are irradiated to the vicinity of the lead solder fillet 11b to be inspected. Then, the reflected light is imaged to convert the luminance into data. Next, as shown in FIG. 56, the imaging data is projected in the X and Y axis directions, respectively, and the position of the solder fillet 11b on the data is detected. That is, FIG.
The coordinates of X 1 , X 2 , Y 1 and Y 2 shown in FIG. 6 are determined.

【0200】次に、この上記X1 ,X2 ,Y1 及びY2
の座標に基づいて図57に示すような領域Aを決定し、
同領域Aの輝度データをサンプリングして(定点サンプ
リング法)リード部のはんだの有無を検出する。
Next, the above X 1 , X 2 , Y 1 and Y 2
The area A as shown in FIG. 57 is determined based on the coordinates of
The brightness data of the area A is sampled (fixed point sampling method) to detect the presence or absence of solder at the lead portion.

【0201】図58は図57に示す領域Aの拡大図で、
同図58においてMX ,MY ,LX及びLY は各部品サ
イズに応じて予め定められている所定の長さである。ま
た、UL ,UM1及びUM2は各々同図58に示す領域内の
画素の輝度の総和である。ここで次の不等号に基づいて
領域Aの輝点形状を判定する。すなわち、 (7−1) ( UM1+UM2 )≦ FM (7−2) UL ≦ FL (ここでFM ,FL は実験により定められる定数)のい
ずれも満足した場合のみ、領域Aの輝点形状が三日月状
と判定されて、リード10aのはんだ付けが正常である
と判定される。
FIG. 58 is an enlarged view of the area A shown in FIG.
In FIG. 58, M X , M Y , L X and L Y are predetermined lengths determined in advance according to the component sizes. Also, UL , UM1 and UM2 are the sums of the luminances of the pixels in the area shown in FIG. Here, the shape of the bright spot in the area A is determined based on the following inequality sign. That, (7-1) (U M1 + U M2) ≦ F M (7-2) U L ≦ F L ( where F M, F L is a constant determined by experiment) when satisfied either alone, region The bright spot shape of A is determined to be a crescent shape, and it is determined that the soldering of the lead 10a is normal.

【0202】一方、上記条件式(7−1),(7−2)
のうち少なくとも1つが満たされない場合は、領域Aの
輝点形状がコ字状と判定され、リード10aのはんだ付
けが未はんだであると判定される。
On the other hand, the above conditional expressions (7-1) and (7-2)
If at least one of them is not satisfied, the bright spot shape of the region A is determined to be a U-shape, and the soldering of the lead 10a is determined to be unsoldered.

【0203】なお、これらの判定結果は、図62に示す
ステップ17の「特異形状の検出」でフラグ化し、同図
62に示すステップ110の「マスターパターンとの照
合」処理の中で未はんだ判定がされたときに、このフラ
グを参照するものとする。すなわち、同「マスターパタ
ーンとの照合」で未はんだ判定がされたとしても、この
「特異形状の検出」ではんだ付けが正常であるというフ
ラグが立っていれば、リード10aのはんだ付けが最終
的に正常であると判定されるものとする。
The results of these determinations are flagged in “detection of unusual shape” in step 17 shown in FIG. 62, and in the “collation with master pattern” process in step 110 shown in FIG. This flag is referred to when is performed. That is, even if the unsoldering judgment is made in the “matching with the master pattern”, if the flag indicating that the soldering is normal in the “detection of the unique shape” is raised, the soldering of the lead 10a is finally finished. Is determined to be normal.

【0204】ところで、この「特異形状の検出」処理に
よって検出される特異形状は上記三日月状に限らない。
例えば、図59に示すように、リード10aのはんだ付
けの際に形成されるV字形の反射光Bvも検出可能であ
る。以下V字形の特異形状の検出について説明する。
By the way, the unique shape detected by this "single shape detection" process is not limited to the above crescent shape.
For example, as shown in FIG. 59, a V-shaped reflected light Bv formed at the time of soldering the lead 10a can also be detected. Hereinafter, detection of the V-shaped singular shape will be described.

【0205】まず、上記三日月形の特異形状の検出と同
様に、検査対象物であるリードはんだフィレット11b
近傍に全ての環状照明光源L1〜L5を照射する。そし
て、その反射光を撮像してその輝度をデータ化する。
First, similar to the above-described detection of the crescent-shaped peculiar shape, the lead solder fillet 11b to be inspected is used.
All the annular illumination light sources L1 to L5 are irradiated to the vicinity. Then, the reflected light is imaged to convert the luminance into data.

【0206】次に、図60(b)に示すY軸方向に前記
撮像データの射影をとり、その射影の平均値を求める。
そして、同図60(b)に示すように前記平均値と射影
値の交点から、図61に示す領域(A),(B)及び
(C)を決定するための領域幅VWA,VWB及びVWCを求
める。なお、同図61に示すVgap は検査対象物毎に定
められるサンプリングしない領域の所定の幅である。
Next, the image data is projected in the Y-axis direction shown in FIG. 60B, and the average value of the projection is obtained.
Then, as shown in FIG. 60 (b), the area widths V WA and V WB for determining the areas (A), (B) and (C) shown in FIG. 61 from the intersection of the average value and the projection value. And VWC . Vgap shown in FIG. 61 is a predetermined width of a non-sampling region defined for each inspection object.

【0207】続いて、上述したように決定された図61
に示す領域(A),(B)及び(C)において、定点サ
ンプリング法によりそれぞれの明るい画素数VA ,VB
及びVC をカウントする。そして、以下の不等号条件に
基づいてV字形の特異形状の検出判定を行う。
Subsequently, FIG. 61 determined as described above
In the areas (A), (B) and (C) shown in FIG. 7, the bright pixel numbers V A , V B
And to count the V C. Then, based on the following inequality conditions, detection and determination of a V-shaped singular shape are performed.

【0208】すなわち、 (7−3) VC (1−F1 )< VA < VC (1+F1 ) (7−4) VB 2 < VA (7−5) VB 2 < VC (ここでF1 ,F2 は実験により定められる定数で、0
<F1 <1,1≪F2 とする)の3つ条件をすべて満た
した場合のみV字形の特異形状を検出する。ここで、条
件式(7−3)では領域(A)の輝点数と領域(C)の
輝点数とに大差がないことを条件としている。また、条
件式(7−4)及び(7−5)は、領域(B)が領域
(A)及び(C)に比べ輝点数が少ないことを条件とし
ている。
That is, (7-3) V C (1-F 1 ) <V A <V C (1 + F 1 ) (7-4) V B F 2 <V A (7-5) V B F 2 < V C (where F 1 and F 2 are constants determined by experiments, and 0
Only when all three conditions of <F 1 < 1, 1≪F 2 ) are satisfied, the V-shaped singular shape is detected. Here, in the conditional expression (7-3), the condition is that there is no great difference between the number of bright points in the area (A) and the number of bright points in the area (C). The conditional expressions (7-4) and (7-5) are based on the condition that the number of bright spots in the area (B) is smaller than that in the areas (A) and (C).

【0209】すなわち上記3つ条件がすべて満たされた
場合のみ、図59及び図60(a)に示すようなV字形
の輝点形状が検出される。そしてV字形の輝点形状が検
出された場合は、リード10aのはんだ付けが正常と判
定される。
That is, only when all of the above three conditions are satisfied, a V-shaped bright spot shape as shown in FIGS. 59 and 60A is detected. When the V-shaped bright spot shape is detected, it is determined that the soldering of the lead 10a is normal.

【0210】以上説明した第7の実施の形態によって得
られる効果について、以下に記載する。 ・上記第7の実施の形態によれば、重心移動法では高解
像度化が必要となりその画像処理に時間を要するリード
はんだフィレット11bの検出が、三日月形及びV字形
等の特異輝点形状を検出することにより容易となり、ひ
いては外観検査に要する時間が短縮化される。
[0210] The effects obtained by the seventh embodiment described above will be described below. According to the seventh embodiment, detection of the lead solder fillet 11b, which requires high resolution in the method of moving the center of gravity and requires time for image processing, detects a singular bright spot shape such as a crescent shape and a V shape. By doing so, the time required for appearance inspection can be shortened.

【0211】なお、上述した実施の形態は次のように構
成を変更して具体化することもできる。 ・ 上記全ての実施の形態においては、環状照明光源の
段数をL1〜L5の5段で構成したがこれに限定される
ものではない。例えば環状照明光源の段数を、4段、6
段あるいは8段で構成してもよい。また、1段の光源を
構成するLEDの個数も24個と48個に限定されるも
のではない。
The above embodiment can be embodied by changing the configuration as follows. In all of the above embodiments, the annular illumination light source has five stages L1 to L5, but is not limited thereto. For example, the number of stages of the annular illumination light source is four, six,
It may be composed of stages or eight stages. Further, the number of LEDs constituting one light source is not limited to 24 or 48.

【0212】・ 上記全ての実施の形態においては、確
率分布照明をポアソン分布照明としたが、ピーク点をも
ち、ある基準範囲内の裾野をもった確率分布関数に沿っ
たものであるならば、前記ポアソン分布照明に代えて使
用することが可能である。また、基本的には多段照明に
より順次光照射を行うものであればよく、必ずしも確率
分布関数に沿ったものである必要もない。
In all the above embodiments, the probability distribution illumination is the Poisson distribution illumination. However, if the probability distribution illumination is along a probability distribution function having a peak point and a base within a certain reference range, It can be used instead of the Poisson distributed illumination. In addition, basically, it is only necessary to sequentially irradiate light by multi-stage illumination, and it is not always necessary to follow the probability distribution function.

【0213】・ 上記全ての形態においては、光源とし
てLEDを使用したが、その変わりにドーム7内周面
に、レーザ光線を導入するための、光ファイバーを挿入
し、その端面にから検査対象物に対して照射するように
してもよい。
In all of the above embodiments, the LED is used as the light source. Instead, an optical fiber for introducing a laser beam is inserted into the inner peripheral surface of the dome 7, and the inspection object is inserted from the end surface. You may make it irradiate with respect to it.

【0214】・ 上記全ての実施の形態においては、環
状照明光源L1〜L5の照射順をL5からL1、つまり
最下段から最上段としたが、逆に最上段から最下段の照
射順としてもよい。
In all of the above embodiments, the irradiation order of the annular illumination light sources L1 to L5 is from L5 to L1, that is, from the bottom to the top, but may be from the top to the bottom. .

【0215】・ 上記全ての実施の形態においては、重
心座標値の算出に(数2)に示す数式を使用したが、こ
れに限定されない。画質が悪い場合(光の明暗が不明確
である場合)、例えば画像の背景が明るくその背景画像
の輝度レベルが最大輝度レベルの20%以上ある場合
や、画像の明及び暗部を問わず画像にむらがある場合
は、(数2)において画素の輝度L(t)の代わりにそ
の2乗値L2 (t)を用いた次式、
In all of the above embodiments, the equation shown in (Equation 2) is used for calculating the barycentric coordinate value, but the present invention is not limited to this. When the image quality is poor (when the brightness of the light is unclear), for example, when the background of the image is bright and the luminance level of the background image is 20% or more of the maximum luminance level, or when the image If there is unevenness, the following equation using the squared value L 2 (t) instead of the pixel luminance L (t) in (Equation 2 ):

【0216】[0216]

【数3】 を使用して同(数3)式P2 を最小にする座標値tから
重心座標値を算出してもよい。
(Equation 3) May be used to calculate the barycentric coordinate value from the coordinate value t that minimizes equation ( 2 ).

【0217】この(数3)に示す式P2 を使用して求め
られた重心座標値は、高輝度レベルがより強調されるた
め、最小2乗法を用いて輝度が最も高い画素位置を統計
的に分析したことと同一の効果が得られる。すなわち、
光の明暗が不明確である影響を減少させて重心座標値が
計算されるため、画質が悪い場合であってもより正確に
重心座標値が求められる。
In the barycentric coordinate value obtained by using the equation P 2 shown in (Equation 3), since the high luminance level is further emphasized, the pixel position having the highest luminance is statistically determined using the least squares method. The same effect as obtained by the analysis is obtained. That is,
Since the barycentric coordinate value is calculated by reducing the influence of unclear light and darkness, the barycentric coordinate value can be more accurately obtained even when the image quality is poor.

【0218】・ 上記全ての実施の形態において、外観
検査処理ルーチンのステップ50でフィルタ処理を行う
が、フィルタ処理の内容は図11に示すものに限定され
るものではない。例えば、同フィルタ処理として検査線
K上の画素輝度データL(t)に対して「慣性フィル
タ」処理を、同図11のフィルタ処理ルーチンに示すス
テップ55の輝度正規化の前に追加してもよい。
In all of the above embodiments, the filter processing is performed in step 50 of the appearance inspection processing routine, but the contents of the filter processing are not limited to those shown in FIG. For example, an “inertia filter” process may be added to the pixel luminance data L (t) on the inspection line K before the luminance normalization in step 55 shown in the filter processing routine of FIG. Good.

【0219】この慣性フィルタ処理を数式で表わすと次
式のようになる。 L(t)={I(t−1)×I(t)×I(t+1)}
/65,536 (ただし、0≦I(t)≦255の場合) この慣性フィルタ処理により図63(a)に示すような
データノイズNを同図63(b)に示すように除くこと
ができ、例えばCCDカメラ3の白点(撮像素子の欠
陥)の影響をなくしたり、はんだフィレット11に付着
した基板の削りカス等の影響をなくしたりすることがで
きる。また、この慣性フィルタ処理により中間的な画像
データ値が上下にシフトされるため、画像データが鮮鋭
化される。その結果、検査対象物の外観検査の精度が向
上する。
This inertial filter processing is expressed by the following equation. L (t) = {I (t-1) × I (t) × I (t + 1)}
/ 65,536 (provided that 0 ≦ I (t) ≦ 255) By this inertial filter processing, data noise N as shown in FIG. 63 (a) can be removed as shown in FIG. 63 (b). For example, it is possible to eliminate the influence of white spots (defects of the image pickup device) of the CCD camera 3 and the influence of shavings of the substrate attached to the solder fillet 11. In addition, since the intermediate image data value is shifted up and down by the inertial filter processing, the image data is sharpened. As a result, the accuracy of the appearance inspection of the inspection object is improved.

【0220】・ 上記全ての実施の形態は、各々その任
意の組み合わせが可能であり、またそれら全ての実施の
形態を含めたかたちで実施することも勿論可能である。
さらに、上記実施の形態から把握される技術思想のう
ち、請求項以外の技術思想を以下に効果とともに記載す
る。
All of the above embodiments can be arbitrarily combined with each other, and it is of course possible to implement all of the above embodiments.
Furthermore, of the technical ideas grasped from the above-described embodiment, technical ideas other than the claims are described below together with effects.

【0221】1)重心の移動軌跡範囲を算出する重心移
動軌跡範囲算出手段と、重心の移動軌跡範囲が所定値よ
りも大きいか否かを判定する真性判定手段と、前記真性
判定手段がノイズデータがあると判定したときには、該
ノイズデータを除去するノイズデータ除去手段を備えた
請求項3または請求項4に記載の外観検査装置。
1) A center-of-gravity movement trajectory calculating means for calculating a center-of-gravity movement trajectory range, an intrinsic judgment means for judging whether or not the center-of-gravity movement trajectory range is larger than a predetermined value, and a noise data 5. The visual inspection apparatus according to claim 3, further comprising a noise data removing unit that removes the noise data when it is determined that there is a noise data.

【0222】同構成によれば、画像データに酸化膜等の
影響によりノイズデータが取り込まれても該ノイズデー
タが除去されるため、他の判定に悪影響を及ぼすことが
なく、より精度の高い外観検査が可能となる。
According to the configuration, even if noise data is taken in due to the influence of an oxide film or the like in the image data, the noise data is removed, so that other judgments are not adversely affected and a more accurate external appearance is achieved. Inspection becomes possible.

【0223】[0223]

【発明の効果】請求項1及び請求項2の発明は、検査対
象物の照度むらを軽減することができる。
According to the first and second aspects of the present invention, the illuminance unevenness of the inspection object can be reduced.

【0224】請求項3の発明は、得られた複数の検査対
象物の画像データにおける反射光分布領域の重心を求
め、他の画像データと関連する重心に関してその重心移
動を求めることにより、外観検査を容易に、しかも確実
に行うことができる。
According to a third aspect of the present invention, the visual inspection is performed by obtaining the center of gravity of the reflected light distribution area in the obtained image data of a plurality of inspection objects, and calculating the shift of the center of gravity with respect to the center of gravity related to other image data. Can be performed easily and reliably.

【0225】請求項4の発明は、検査対象物の照明反射
面の平坦性が判別できるため、照明反射面が平坦な形状
のはんだフィレットを検出できる。請求項5の発明は、
重心の移動軌跡により、検査対象物の凹凸の有無が判別
できるため、はんだブリッジの検出を容易に行うことが
できる。
According to the invention of claim 4, since the flatness of the illumination reflection surface of the inspection object can be determined, a solder fillet having a flat illumination reflection surface can be detected. The invention of claim 5 is
Since the presence or absence of unevenness of the inspection object can be determined from the movement locus of the center of gravity, the detection of the solder bridge can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる外観検査装置をはんだ付部の検
査装置に適用した一実施の形態を示す概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment in which a visual inspection device according to the present invention is applied to a soldering portion inspection device.

【図2】実装基板のはんだ付部と処理される画像データ
との関係を示す略図。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a relationship between a soldered portion of a mounting board and image data to be processed.

【図3】確率分布照明生成回路の電気的構成を示すブロ
ック図。
FIG. 3 is a block diagram showing an electrical configuration of a probability distribution illumination generation circuit.

【図4】照明装置のLED配列を示す略図。FIG. 4 is a schematic diagram showing an LED array of a lighting device.

【図5】検査対象である基板と、光源と、撮像デバイス
の撮像中心軸Mとの関係を示す略図。
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a relationship between a substrate to be inspected, a light source, and an imaging center axis M of the imaging device.

【図6】同実施の形態による照明装置の発光態様を示す
グラフ。
FIG. 6 is a graph showing a light emission mode of the lighting device according to the embodiment.

【図7】ポアソン分布に従ったテーブル例を示すグラ
フ。
FIG. 7 is a graph showing an example of a table according to a Poisson distribution.

【図8】補正値Ci を算出するための試験法の略図。FIG. 8 is a schematic diagram of a test method for calculating a correction value Ci.

【図9】補正値Ci を得るために撮像デバイスにより得
られた画像データ例を示す略図。
FIG. 9 is a schematic diagram showing an example of image data obtained by an imaging device to obtain a correction value Ci.

【図10】同実施の形態による撮像画像の処理手順を示
すフローチャート。
FIG. 10 is an exemplary flowchart illustrating the processing procedure of a captured image according to the embodiment;

【図11】同撮像画像の処理ルーチンにおけるフィルタ
ー処理手順を示すフローチャート。
FIG. 11 is a flowchart showing a filter processing procedure in a processing routine of the captured image.

【図12】同フィルター処理での平均化処理態様を示す
グラフ。
FIG. 12 is a graph showing an averaging process in the filter process.

【図13】同フィルター処理での正規化処理態様を示す
グラフ。
FIG. 13 is a graph showing a normalization processing mode in the filter processing.

【図14】はんだフィレット側面と検査線に基づく1次
元輝度曲線との関係を示す略図。
FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a relationship between a side surface of a solder fillet and a one-dimensional luminance curve based on an inspection line.

【図15】同輝度曲線に基づく領域分割態様を示すグラ
フ。
FIG. 15 is a graph showing a region division mode based on the luminance curve.

【図16】同領域分割した領域1を拡大して示すグラ
フ。
FIG. 16 is a graph showing an enlarged region 1 obtained by dividing the region.

【図17】各種はんだフィレット形状を示す断面(側
面)図。
FIG. 17 is a cross-sectional (side) view showing various solder fillet shapes.

【図18】検査ルーチンにおけるマスターパターンとの
照合処理手順を示すフローチャート。
FIG. 18 is a flowchart illustrating a procedure of a process for checking a master pattern in an inspection routine;

【図19】検査ルーチンにおけるマスターパターンとの
照合処理手順を示すフローチャート。
FIG. 19 is a flowchart showing a procedure of a matching process with a master pattern in an inspection routine.

【図20】検査ルーチンにおけるマスターパターンとの
照合処理手順を示すフローチャート。
FIG. 20 is a flowchart showing a procedure of a matching process with a master pattern in an inspection routine.

【図21】検査ルーチンにおけるマスターパターンとの
照合処理手順を示すフローチャート。
FIG. 21 is a flowchart showing a procedure of a collation process with a master pattern in an inspection routine.

【図22】はんだフィレット形状とグループとの関係を
示す略図。
FIG. 22 is a schematic diagram showing a relationship between a solder fillet shape and a group.

【図23】はんだフィレット形状とグループとの関係を
示す略図。
FIG. 23 is a schematic diagram showing a relationship between a solder fillet shape and a group.

【図24】画像データグループからのノイズ除去態様を
示す略図。
FIG. 24 is a schematic diagram illustrating a mode of removing noise from an image data group.

【図25】オイラー数が1となるはんだフィレット例を
示す略図。
FIG. 25 is a schematic view showing an example of a solder fillet in which the number of Eulers is 1;

【図26】各種はんだフィレット形状を示す断面(側
面)図。
FIG. 26 is a cross-sectional (side) view showing various solder fillet shapes.

【図27】基板の断面図。FIG. 27 is a cross-sectional view of a substrate.

【図28】第2の実施の形態の描画制御ルーチンを示す
フローチャート。
FIG. 28 is a flowchart illustrating a drawing control routine according to the second embodiment;

【図29】はんだフィレットを描画した説明図。FIG. 29 is an explanatory view illustrating a solder fillet.

【図30】検査対象物の平面図及び断面図。FIG. 30 is a plan view and a cross-sectional view of an inspection object.

【図31】検査対象物の説明図。FIG. 31 is an explanatory diagram of an inspection object.

【図32】検査対象物と検査線及び輝度曲線との関係を
示す説明図。
FIG. 32 is an explanatory diagram showing a relationship between an inspection object, an inspection line, and a luminance curve.

【図33】検査対象物と検査線との関係を示す説明図。FIG. 33 is an explanatory diagram showing a relationship between an inspection object and an inspection line.

【図34】検査対象物と検査線との関係を示す説明図。FIG. 34 is an explanatory diagram showing a relationship between an inspection object and an inspection line.

【図35】基板上のはんだフィレット、はんだブリッジ
及びシルクスクリーン印刷を示す平面図。
FIG. 35 is a plan view showing solder fillets, solder bridges, and silk-screen printing on a substrate.

【図36】第4の実施の形態における検査線を示す平面
図。
FIG. 36 is a plan view showing inspection lines in a fourth embodiment.

【図37】はんだブリッジの断面及び平面図。FIG. 37 is a cross-sectional view and a plan view of a solder bridge.

【図38】撮像デバイス3と、基板9、環状照明光源L
1〜L5との配置関係を示す説明図。
FIG. 38 shows an imaging device 3, a substrate 9, and an annular illumination light source L.
Explanatory drawing which shows arrangement | positioning relationship with 1-L5.

【図39】第4の実施の形態の外観検査処理ルーチンを
示すフローチャート。
FIG. 39 is a flowchart illustrating an appearance inspection processing routine according to the fourth embodiment;

【図40】一次元の輝度曲線を示すグラフ。FIG. 40 is a graph showing a one-dimensional luminance curve.

【図41】検査線K上にはんだブリッジがない場合の説
明図。
FIG. 41 is an explanatory diagram in the case where there is no solder bridge on the inspection line K.

【図42】同検査線K上に山形のはんだブリッジがある
場合の説明図。
FIG. 42 is an explanatory diagram in the case where a chevron-shaped solder bridge is present on the inspection line K;

【図43】同検査線K上に凹形のはんだブリッジがある
場合の説明図。
FIG. 43 is an explanatory diagram in the case where there is a concave solder bridge on the inspection line K;

【図44】同検査線K上に他の形状のはんだブリッジが
ある場合の説明図。
FIG. 44 is an explanatory diagram in the case where there is a solder bridge of another shape on the inspection line K.

【図45】同検査線K上に他の形状のはんだブリッジが
ある場合の説明図。
FIG. 45 is an explanatory diagram in the case where there is a solder bridge of another shape on the inspection line K.

【図46】検査対象物の平面図。FIG. 46 is a plan view of the inspection object.

【図47】従来の画像処理で得た画像を表す説明図。FIG. 47 is an explanatory diagram showing an image obtained by conventional image processing.

【図48】平坦はんだフィレット形状を示す断面(側
面)図。
FIG. 48 is a cross-sectional (side) view showing the shape of a flat solder fillet.

【図49】平坦はんだフィレット検出の説明図。FIG. 49 is an explanatory diagram of flat solder fillet detection.

【図50】第5の実施の形態による撮像画像の処理手順
を示すフローチャート。
FIG. 50 is a flowchart showing a processing procedure of a captured image according to the fifth embodiment;

【図51】同撮像画像の処理ルーチンにおける平坦フィ
レット検出処理手順を示すフローチャート。
FIG. 51 is a flowchart showing a flat fillet detection processing procedure in the processing routine of the captured image;

【図52】異物とその射影との関係を示す説明図。FIG. 52 is an explanatory diagram showing the relationship between a foreign object and its projection.

【図53】第6の実施の形態による撮像画像の処理手順
を示すフローチャート。
FIG. 53 is a flowchart showing a processing procedure of a captured image according to the sixth embodiment;

【図54】リード線のはんだフィレット形状を示す断面
(側面)図。
FIG. 54 is a cross-sectional (side) view showing a solder fillet shape of a lead wire.

【図55】リード線のはんだフィレットの反射光形態を
示す説明図。
FIG. 55 is an explanatory diagram showing a reflected light form of a solder fillet of a lead wire.

【図56】三日月形反射光とその射影との関係を示す説
明図。
FIG. 56 is an explanatory diagram showing the relationship between crescent-shaped reflected light and its projection.

【図57】検査領域Aの説明図。FIG. 57 is an explanatory diagram of an inspection area A.

【図58】図57に示す領域Aの拡大図。FIG. 58 is an enlarged view of a region A shown in FIG. 57;

【図59】V字形反射光を示す説明図。FIG. 59 is an explanatory diagram showing V-shaped reflected light.

【図60】V字形反射光とその射影との関係を示す説明
図。
FIG. 60 is an explanatory diagram showing the relationship between V-shaped reflected light and its projection.

【図61】検査領域D内の領域区分の説明図。FIG. 61 is an explanatory diagram of an area division in an inspection area D.

【図62】第7の実施の形態による撮像画像の処理手順
を示すフローチャート。
FIG. 62 is a flowchart showing a processing procedure of a captured image according to the seventh embodiment;

【図63】慣性フィルター処理の処理態様を示すグラ
フ。
FIG. 63 is a graph showing a processing mode of inertial filter processing.

【図64】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 64 is an explanatory diagram showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【図65】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 65 is an explanatory diagram showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【図66】電子部品の未はんだ状態及びその撮像画像を
示す説明図。
FIG. 66 is an explanatory view showing an unsoldered state of an electronic component and a captured image thereof.

【図67】電子部品の電極形状及びその撮像画像を示す
説明図。
FIG. 67 is an explanatory diagram showing electrode shapes of an electronic component and a captured image thereof.

【図68】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 68 is an explanatory diagram showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【図69】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 69 is an explanatory view showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【図70】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 70 is an explanatory view showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【図71】電子部品のはんだ付け状態及びその撮像画像
を示す説明図。
FIG. 71 is an explanatory diagram showing a soldering state of an electronic component and a captured image thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…外観検査装置、2…照明装置、3…撮像デバイス、
4…画像処理デバイス、5…コンピュータ、6…確率分
布照明生成回路、7…ドーム、8…LED、9…基板、
10…電極、11…はんだフィレット、13…I/Oポ
ート、16…検査対象物、20…ブローホール、24…
はんだブリッジ、26…シルクスクリーン印刷、27…
配線パターン、L1〜L5…環状照明光源。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Appearance inspection apparatus, 2 ... Illumination apparatus, 3 ... Imaging device,
4 image processing device, 5 computer, 6 probability distribution illumination generation circuit, 7 dome, 8 LED, 9 substrate
Reference numeral 10: electrode, 11: solder fillet, 13: I / O port, 16: inspection object, 20: blow hole, 24:
Solder bridge, 26 ... Silk screen printing, 27 ...
Wiring pattern, L1 to L5 ... annular illumination light source.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】輝度が調整可能な環状照明光源を複数段備
えた検査用光源と、 各段の環状照明光源の輝度を調整制御する光源制御手段
と、 環状照明光源下に配置される検査対象物を撮像する撮像
手段と、 前記光源制御手段により、複数段の環状照明光源のうち
所定段の環状照明光源の輝度を高くその所定段周辺部の
環状照明光源の輝度を低くした状態で、その所定段を変
更することにより、検査対象物に対する照射角度を切換
制御する照射制御手段と、 を含む外観検査装置。
1. An inspection light source having a plurality of annular illumination light sources whose brightness can be adjusted, light source control means for adjusting and controlling the brightness of each stage of the annular illumination light source, and an inspection object arranged under the annular illumination light source Imaging means for imaging an object, by the light source control means, in a state in which the brightness of the annular illumination light source of a predetermined stage among the plurality of annular illumination light sources is high and the brightness of the annular illumination light source of the periphery of the predetermined stage is low, An illumination control means for switching and controlling an illumination angle with respect to the inspection object by changing a predetermined stage.
【請求項2】前記光源制御手段は、前記複数段の環状照
明光源の輝度分布が確率分布となるように調整するもの
である請求項1に記載の外観検査装置。
2. An appearance inspection apparatus according to claim 1, wherein said light source control means adjusts the luminance distribution of said plurality of annular illumination light sources to be a probability distribution.
【請求項3】撮像手段から得た撮像データに基づいて検
査対象物の反射光分布データを得る反射光分布取得手段
と、 検査対象物に対する照射角度を他段階に切換して、得た
各反射光分布データに基づいて各反射光分布データにお
ける反射光分布領域の重心を算出する重心算出手段と、 前記重心算出手段にて得られた各反射光分布データにお
ける重心位置に基づいて重心の移動軌跡を判定する重心
移動軌跡判定手段と、 重心移動軌跡の標準データを記憶する記憶手段と、 前記記憶手段が記憶した標準データと、前記重心移動軌
跡判定手段が判定した重心移動軌跡データとを比較し、
検査対象物の外観を判定する外観判定手段とを含む請求
項1又は請求項2に記載の外観検査装置。
3. A reflected light distribution obtaining means for obtaining reflected light distribution data of an inspection object based on image data obtained from an imaging means; A center of gravity calculating means for calculating the center of gravity of the reflected light distribution region in each reflected light distribution data based on the light distribution data; and a movement locus of the center of gravity based on the position of the center of gravity in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculating means A center-of-gravity movement trajectory determining unit, a storage unit that stores standard data of a center-of-gravity movement trajectory, ,
The appearance inspection apparatus according to claim 1, further comprising: an appearance determination unit configured to determine an appearance of the inspection object.
【請求項4】前記照射制御手段により前記検査用光源の
うち検査対象物に対して低角度の光源から該検査対象物
に照明光を照射させてその反射光量を測定し、該反射光
量に基づいて該検査対象物の平坦性を検出する平坦検出
手段を含む請求項3に記載の外観検査装置。
4. An illumination control means for irradiating the inspection object with illumination light from a light source having a low angle with respect to the inspection object among the inspection light sources, measuring an amount of reflected light, and based on the amount of reflected light. 4. The visual inspection apparatus according to claim 3, further comprising flatness detection means for detecting the flatness of the inspection object.
【請求項5】撮像手段から得た撮像データに基づいて検
査対象物の反射光分布データを得る反射光分布取得手段
と、 検査対象物に対する照射角度を他段階に切換して、得た
各反射光分布データに基づいて各反射光分布データにお
ける反射光分布領域の重心を算出する重心算出手段と、 前記重心算出手段にて得られた各反射光分布データにお
ける重心位置に基づいて重心の移動軌跡を判定する重心
移動軌跡判定手段と、 前記重心移動軌跡判定手段が判定した重心移動軌跡デー
タに基づいて検査対象物のはんだブリッジの有無を判定
するはんだブリッジ有無判定手段とを含む請求項1又は
請求項2に記載の外観検査装置。
5. A reflected light distribution obtaining means for obtaining reflected light distribution data of an inspection object based on image data obtained from an imaging means; A center of gravity calculating means for calculating the center of gravity of the reflected light distribution region in each reflected light distribution data based on the light distribution data; and a movement locus of the center of gravity based on the position of the center of gravity in each reflected light distribution data obtained by the center of gravity calculating means And a solder bridge presence / absence determining means for determining the presence or absence of a solder bridge of the inspection object based on the center of gravity movement trajectory data determined by the center of gravity movement trajectory determination means. Item 3. An appearance inspection apparatus according to Item 2.
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