JPH10333601A - エレクトロ・ルミネセンス素子及びその製造法 - Google Patents

エレクトロ・ルミネセンス素子及びその製造法

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JPH10333601A
JPH10333601A JP9143836A JP14383697A JPH10333601A JP H10333601 A JPH10333601 A JP H10333601A JP 9143836 A JP9143836 A JP 9143836A JP 14383697 A JP14383697 A JP 14383697A JP H10333601 A JPH10333601 A JP H10333601A
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Japan
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electroluminescent
thin film
substrate
adhesive
film transistor
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JP9143836A
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English (en)
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Masaki Kuribayashi
正樹 栗林
Eiju Tsuzuki
英寿 都築
Kazunori Ueno
和則 上野
Yuichi Hashimoto
雄一 橋本
Akihiro Senoo
章弘 妹尾
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Canon Inc
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/127Active-matrix OLED [AMOLED] displays comprising two substrates, e.g. display comprising OLED array and TFT driving circuitry on different substrates
    • H10K59/1275Electrical connections of the two substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細、高密度、高輝度発光の大型カラーデ
ィスプレイを実現させるEL素子及びその製造法を提供
すること。 【解決手段】 ドレイン電極パッド、及び該ドレイン電
極パッドと並列接続したコンデンサを備えたトランジス
タ基板、並びに複数の行及び列に沿って配置し、一対の
電極及び該一対の電極間に配置したエレクトロ、ルミネ
センス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を有
し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体
とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ
・ルミネセンス基板とを配向配置し、ドレイン電極パッ
ドと一対の電極の一方の電極とを接着性電気接続体を通
して接続してなるエレクトロ・ルミネセンス素子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、発光光
源又は電子写真プリンタのプリンタ・ヘッドに適用可能
なエレクトロ・ルミネセンス素子及びその製造法に関す
る。特に、本発明は、大画面のフルカラー表示に適した
有機エレクトロ・ルミネセンス体を用いた素子及びその
製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機エレクトロ・ルミネセンス体とし
て、例えば特開昭特開平6−256759号公報、特開
平6−136360号公報、特開平6−188074号
公報、特開平6−192654号公報や特開平8−41
452号公報に開示されたものが知られている。
【0003】また、これらの有機エレクトロ・ルミネセ
ンス体は、例えば特開平8−241048号公報に記載
の薄膜トランジスタによって駆動することが知られてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機エ
レクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジスタによって
駆動するために、薄膜トランジスタのドレイン電極パッ
ド毎に有機エレクトロ・ルミネセンス体を設けることを
必要とし、特にフルカラー表示の場合には、青色、緑色
及び赤色の三原色をエレクトロ・ルミネセンス発光させ
る3種のエレクトロ・ルミネセンス体を薄膜トランジス
タ基板上で、パターニング形成することが必要であった
が、薄膜トランジスタ表面は、エレクトロ・ルミネセン
ス体薄膜と比較し、大きい凹凸面を形成しているため、
エレクトロ・ルミネセンス体薄膜を高精細・高密度でパ
ターニングするのが困難であり、更に薄膜トランジスタ
基板上にトランジスタとエレクトロ・ルミネセンス体と
の2種の機能素子を集中させたことに基づく低レベルの
生産性に問題点を持っていた。
【0005】本発明の目的は、上記問題点を解決する大
画面のフルカラー表示に適した有機エレクトロ・ルミネ
センス体を用いた素子及びその製造法を提供することに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、第1に、複数
の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎
に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲートを共通に
接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄膜トラン
ジスタのソースを共通に接続したソース線、薄膜トラン
ジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、
及び該ドレイン電極パッドと並列接続したコンデンサを
備えたトランジスタ基板、並びに複数の行及び列に沿っ
て配置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置したエ
レクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネ
センス基板を有し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・
ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基
板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、ド
レイン電極パッドと一対の電極の一方の電極とを接着性
電気接続体を通して接続してなるエレクトロ・ルミネセ
ンス素子に、第1の特徴を有し、第2に、複数の行及び
列に沿って配置した第1薄膜トランジスタ、行毎に、該
行上の複数の第1薄膜トランジスタのゲートを共通に接
続したゲート線、列毎に、該列上の複数の第1薄膜トラ
ンジスタのソースを共通に接続したソース線、第1薄膜
トランジスタの各ドレイン毎に接続した第2薄膜トラン
ジスタ、及び該第2薄膜トランジスタと並列接続したコ
ンデンサを備え、該第2薄膜トランジスタのゲートを第
1薄膜トランジスタのドレインに接続させ、該第2薄膜
トランジスタの各ドレイン毎にドレイン電極パッドを接
続させ、そして第2薄膜トランジスタのソースと該コン
デンサの一方の電極とを接続させてなるトランジスタ基
板、並びに複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極
及び該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセン
ス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を有し、ド
レイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対
向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミ
ネセンス基板とを配向配置し、ドレイン電極パッドと一
対の電極の一方の電極とを接着性電気接続体を通して接
続してなるエレクトロ・ルミネセンス素子に、第2の特
徴を有し、第3に、複数の行及び列に沿って配置した薄
膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジ
スタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列
上の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続した
ソース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続した
ドレイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列
接続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意
し、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意し、トラン
ジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミ
ネセンス体のうち少なくとも一方に接着性電気接続体を
配置し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセン
ス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレク
トロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、重ね合せるエ
レクトロ・ルミネセンス素子の製造法に、第3の特徴を
有し、第4に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜ト
ランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタ
のゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の
複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソー
ス線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレ
イン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続
したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工
程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該
一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を
備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、
トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ
・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気
接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電
極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少な
くとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の
外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン電極
パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様
に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス
基板とを配向配置し、重ね合せる工程を有するエレクト
ロ・ルミネセンス素子の製造法に、第4の特徴を有し、
第5に、複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジ
スタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲー
トを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の
薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、
薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電
極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続したコ
ンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工程、複
数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の
電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えた
エレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、トラン
ジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミ
ネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体
を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電極パッ
ド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも
一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の外周部
となる位置に配置する工程、ドレイン電極パッドとエレ
クトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トラン
ジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向配
置し、重ね合せる工程、並びに薄膜トランジスタ基板と
エレクトロ・ルミネセンス基板との間を真空排気し、接
着性電気接続体及び接着性静電気絶縁体を加熱硬化させ
る工程を有するエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法
に、第5の特徴を有する。
【0007】前記エレクトロ・クロシック体としては、
青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体であって、
有機エレクトロ・ルミネセンス体が好ましい。
【0008】前記接着性電気接続体としては、導電性粒
子を接着剤中に分散含有させ、特にシランカップリング
剤を含有させたものが好ましい。
【0009】前記接着性電気接続体の外周部は、接着性
電気絶縁体を配置した接着構造を採用するのが好まし
い。
【0010】前記薄膜トランジスタは、ポリシリコン半
導体、結晶シリコン半導体、微結晶シリコン半導体又は
アモルファスシリコン半導体を用いるのが好ましい。
【0011】前記エレクトロ・ルミネセンス体をはさむ
一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テクスチ
ャ構造をもつZnO透明電極であるのが好ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明を図面に沿って説明する。
以下、上記薄膜トランジスタを「TFT」と記載し、上
記エレクトロ・ルミネセンス体を「EL」と記憶する。
【0013】図1は能動マトリックス4端子TFT−E
L素子の概略図を示す。各画素の素子は2つのTFTと
記憶コンデンサとEL素子とを含む。4端子方式の主な
特徴はEL励起信号からのアドレッシング信号を分離す
る能力である。EL素子は論理TFT(T1)を介して
選択され、EL素子に対する励起電力は電力TFT(T
2)により制御される。記憶コンデンサはそれがいった
ん選択されたアドレスされたEL素子に励起電力を留め
ることを可能にする。斯くして回路はEL素子がアドレ
ッシングに対して割り当てられた時間を無視して100
%に近いデュティサイクルで動作することを許容する。
【0014】ゲートラインYj ,Yj+1 は、好ましくは
640本、1120本などの様に多数本数配線し、順次
ゲートパルスが印加される。ゲートパルスは、インター
レース走査またはノン・インタレース走査の何れであっ
てもよい。
【0015】ソース・ラインXj ,Xj+1 ,Xj+2 は、
好ましくは840本、1280本などの様に多数本数配
線し、ゲートパルスと同期させて、映像データに応じて
設定した電圧の情報信号パルスが印加される。
【0016】図中のRELは赤色発光EL、GELは緑
色発光EL、BELは青色発光ELで、ソースラインX
j には赤色の情報信号パルス、Xj+1 には緑色情報パル
ス、Xj+2 には赤色情報パルスが印加される。これによ
ってフルカラー表示が行なわれる。
【0017】図2は、本発明のTFT基板3の代表例を
示す平面図である。TFT1は図1のT1に対応し、T
FT2は図1のT2に対応し、コンデンサ21は図1の
Csに対応し、ドレイン電極パッド22は図1の各EL
毎のT2 のドレイン接続電極に対応している。
【0018】図3は、図2のA−A′断面図である。図
4は、図2のB−B′断面図である。
【0019】本発明で用いたTFT1及びTFT2とし
ては、ソースバス24をn+ ポリシリコンに接続し、ド
レインをn+ ポリシリコンに接続し、I型ポリシリコン
膜をはさんで配置したゲート絶縁膜にPECVD(プラ
ズマ増強CVD)−SiO2膜32を配置し、ゲートバ
スをn+ ポリシリコンに接続したトランジスタ構造を採
用した。
【0020】本発明は、上述したトランジスタ構造に限
定されることなく、アモルファスシリコンC微結晶シリ
コン半導体を用いたスタガー構造又はコプレナー構造の
何れをも適用することができる。
【0021】また、本発明は、結晶シリコンを用いたS
O1(シリコン・オン・インシュレータ)構造のMOS
トランジスタに適用することができる。
【0022】コンデンサCsは、図4の一対のコンデン
サ電極41と42及び該一対のコンデンサ電極間に設け
たSiO2 膜33によって形成される。コンデンサ電極
は、Al等によって成膜され、グランドバス25と接続
配線され、コンデンサ電極42はn+ ポリシリコン膜に
よって成膜され、TFT2のドレインに接続される。
【0023】ゲートバス23及びソースバス24は、ク
ロム/アルミ積層配線が好ましく用いられる。
【0024】パシベーション34としては、プラズマC
VDによってチッ化シリコン膜が適している。
【0025】ドレイン電極パット22としては、反射性
能を持たせるために、アルミニウム、銀などの金属膜を
用いることができるが、ITOやZnOの様な透明導電
膜であってもよい。
【0026】図5は、本発明で用いたEL基板6の平面
図で、図6のは、図5のC−C′断面図である。
【0027】EL基板6は、ガラス基板61、ガラス基
板61上に設けた一対の電極である透明電極51と反射
面を形成するアルミニウムなどのEL電極パッド62及
び該一対の電極間に設けたELによって構成される。
【0028】EL52としては、有機ELが好ましく、
特にREL、GEL及びBELを構成するものが配置さ
れる。
【0029】具体的なREL、GEL及びBELを下記
に列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、また有機ELの代わりに無機ELを適用することも
できる。
【0030】本発明の有機ELでの材料は、Scozz
afavaのEPA349,265(1990);Ta
ngのアメリカ特許第4,356,429号;VanS
lyke等のアメリカ特許第4,539,507号;V
anSlyke等のアメリカ特許第4,720,43
2;Tang等のアメリカ特許第4,769,292
号;Tang等のアメリカ特許第4,885,211
号;Perry等のアメリカ特許第4,950,95
0;Littman等のアメリカ特許第5,059,8
61号;VanSlykeのアメリカ特許第5,04
7,687号;Scozzafava等のアメリカ特許
第5,073,446号;VanSlyke等のアメリ
カ特許第5,059,862号;VanSlyke等の
アメリカ特許第5,061,617号;VanSlyk
eのアメリカ特許第5,151,629号;Tang等
のアメリカ特許第5,294,869号;Tang等の
アメリカ特許第5,294,870号)に開示のものを
用いることができる。EL層は陽極と接触する有機ホー
ル注入及び移動帯と、有機ホール注入及び移動帯と接合
を形成する電子注入及び移動帯とからなる。ホール注入
及び移動帯は単一の材料又は複数の材料から形成され
え、陽極及び、ホール注入層と電子注入及び移動帯の間
に介装される連続的なホール移動層と接触するホール注
入層からなる。同様に電子注入及び移動帯は単一材料又
は複数の材料から形成されえ、陽極及び、電子注入層と
ホール注入及び移動帯の間に介装される連続的な電子移
動層と接触する電子注入層からなる。ホールと電子の再
結合とルミネセンスは電子注入及び移動帯とホール注入
及び移動帯の接合に隣接する電子注入及び移動帯内で発
生する。有機EL層を形成する化合物は典型的には蒸着
により堆積されるが、他の従来技術によりまた堆積され
うる。
【0031】好ましい実施例ではホール注入層からなる
有機材料は以下のような一般的な式を有する:
【0032】
【外1】
【0033】ここで:QはN又はC−R Mは金属、金属酸化物、又は金属ハロゲン化物 T1、T2は水素を表すか又はアルキル又はハロゲンの
ような置換器を含む不飽和六員環を共に満たす。好まし
いアルキル部分は約1から6の炭素原子を含む一方でフ
ェニルは好ましいアリル部分を構成する。
【0034】好ましい実施例ではホール移動層は芳香族
第三アミンである。芳香族第三アミンの好ましいサブク
ラスは以下の式を有するテトラアリルジアミンを含む:
【0035】
【外2】
【0036】ここでAreはアリレン群であり、nは1
から4の整数であり、Ar、R7 ,R8 ,R9 はそれぞ
れ選択されたアリル群である。好ましい実施例ではルミ
ネセンス、電子注入及び移動帯は金属オキシノイド(o
xinoid)化合物を含む。金属オキシノイド化合物
の好ましい例は以下の一般的な式を有する:
【0037】
【外3】
【0038】ここでR2 −R7 は置き換え可能性を表
す。他の好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は
以下の式を有する:
【0039】
【外4】
【0040】ここでR2 −R7 は上記で定義されたもの
であり、L1−L5は集中的に12又はより少ない炭素
原子を含み、それぞれ別々に1から12の炭素原子の水
素又は炭水化物群を表し、L1,L2は共に、又はL
2,L3は共に連合されたベンゾ環を形成しうる。他の
好ましい実施例では金属オキシノイド化合物は以下の式
である。
【0041】
【外5】
【0042】ここでR2 −R6 は水素又は他の置き換え
可能性を表す。上記例は単にエレクトロルミネセンス層
内で用いられるある好ましい有機材料を表すのみであ
る。それらは本発明の視野を制限することを意図するも
のではなく、これは一般に有機エレクトロルミネセンス
層を指示するものである。上記例からわかるように有機
EL材料は有機リガンドを有する配位化合物を含む。
【0043】次のプロセス段階ではEL陽極84はデバ
イスの表面上に堆積される。EL陽極はどのような導電
性の材料でも良いが、好ましくは4eV以下の仕事関数
を有する材料で作られる(Tang等のアメリカ国特許
等4885211号を参照)。低い仕事関数材料は陽極
に好ましい。何故ならばそれらは電子移動層内に容易に
電子を放出するからである。最も低い仕事関数の金属は
アルカリ金属であるが、しかしながらそれらの空気中で
の不安定性はそれらの使用をある条件下で実際的でなく
している。陽極材料は典型的には化学蒸着により堆積さ
れるが、他の適切堆積技術も適用可能である。EL陽極
に対して特に好ましい材料は10:1(原子比で)マグ
ネシウム:銀合金であることが見いだされた。好ましく
は陽極は表示パネルの全表面にわたる連続層として適用
される。他の実施例ではEL陽極は有機電子注入及び移
動帯に隣接した低い仕事関数の金属のより低い層からな
り、低い仕事関数の金属をオーバーレイし、低い仕事関
数の金属を酸素及び湿度から保護する保護層とからな
る。
【0044】典型的には陽極材料は透明であり、陰極材
料は不透明であり、それにより光は陽極材料を通して透
過する。しかしながら代替実施例では光は陽極よりもむ
しろ陰極を等して放射される。この場合には陰極は光透
過性であり、陽極は不透明である。光透過と技術的伝導
性の実際的なバランスは典型的には5−25nmの範囲
の厚さである。
【0045】また、本発明では、EL基板6に用いたガ
ラス基板61に代えて、プラスチックフィルムを用いる
ことができ、また透明電極51としてITO、ZnOを
用いることができる。
【0046】透明電極51は、EL52の表面積を増大
させるために、その表面を微細な凹凸をもつテクスチャ
ー構造を採用することができる。好適なテクスチャー構
造を形成するためには、ZnOを堆積する時の基板温度
を250℃−300℃の様な比較的高湿度とした条件下
でのスパッタ法を用いることができる。
【0047】また、透明電極51の非EL52領域は、
遮光マスク(図示せず)を設けることができる。この際
の遮光マスクとしては、アルミニウム膜、クロス膜の様
な金属膜、またはこれら金属膜による反射光の発生を防
止するための酸化クロム膜や酸化アルミニウム膜を単独
で、あるいは金属膜に積層させて設けることができる。
金属膜は透明電極51の抵抗を実質的に低下させるの
で、透明電極51の上に金属膜を積層し、さらにこの上
に酸化金属膜を設けるのが好ましい。
【0048】透明電極51は、本発明のEL素子に駆動
中は、アースまたは所定のDC電圧に設定される。
【0049】図7は、本発明のEL素子の断面図であ
る。EL素子は、TFT基板3とEL基板6とが互いに
対向し、これによってEL基板6側のEL電極パッド6
2とTFT基板3側のドレイン電極パッド22とを対向
配置し、両方の電極間を接着性電気接続体71によって
電気的な接続を行なう。
【0050】接着性電気接続体71は、エポキシ系又は
フェノール系熱硬化接着剤中にカーボン粒子、銀粒子や
銅粒子の様な導電性粒子が分散含有された導電性接着剤
を用い、これをスクリーン印刷法、オフセット印刷法又
はディスペンサー塗布法などの採用によって、EL基板
6またはTFT基板3、あるいはその両方の所定位置に
塗布し、乾燥させることによって得られる。
【0051】上述の導電性接着剤中には、界面接着力を
増強するために、N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノ
エチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤を含
有させることができる。
【0052】接着性電気接続体71の他の例としては、
ハンダなどが挙げられる。
【0053】上述の接着性電気接続体71の外周部に
は、接着性電気絶縁体72が設けられる。接着性電気絶
縁体72は、エポキシ系又はフェノール系絶縁接着剤を
EL基板6またはTFT基板、あるいはその両方の所定
位置に、オフセット印刷法、スクリーン印刷法又はディ
スペンサー塗布法などの方法によって、塗布し、乾燥さ
せることによって得られる。この際、絶縁接着剤及び導
電性接着剤の塗布に当って、EL基板6またはTFT基
板3の一方の基板に対して絶縁接着剤を設け、この絶縁
接着剤を設けていない方の基板に対して導電性接着剤を
設ける製造方法を用いるのが好適である。
【0054】また、本発明では、上述の接着性電気絶縁
体72に代えて、接着力を持っていない絶縁体、例えば
有機溶媒、特に高沸点有機溶媒やネマチック液晶、コレ
ステリック液晶、スメクチック液晶の様な液晶などの液
体絶縁体を用いることもできる。
【0055】また、上述の接着性電気絶縁体72または
非接着性電気絶縁体には、遮光硬化を併せ持つ様に、着
色顔料や塗料などの着色体を含有させることもできる。
【0056】本発明のEL素子の製造に当って、TFT
基板3のドレイン電極パッド22の上に導電性接着剤を
例えばオフセット印刷法を用いて塗布し、EL基板6の
EL電極パッド62以外の領域(EL電極パッド62の
外周部)に絶縁接触剤を例えばオフセット印刷法を用い
て塗布し、ドレイン電極パッド22とEL電極パッド6
2とが相対向する様に、TFT基板3とEL基板6とを
重ね合せ、次いでTFT基板3とEL基板6との間隔の
空気を通常の方法で排気し、両基板3と6とに対し圧着
加熱を付加し、密着固定する方法を採用することができ
る。
【0057】図8は、上記間隔の空気を排気した時に用
いた真空排気装置である。TFT基板3とEL基板6と
を重ね合せた状態で、ステージ81の上に載置し、周囲
に配置固定された一対O−リング82と83との間にプ
ラスチックフィルムなどのシート83によって、図示の
如く覆い、しかる後に真空排気ポンプ84を作動させ、
シート83内の空気を排気する。
【0058】図9は、本発明の別のEL素子の等価回路
である。
【0059】
【発明の効果】本発明によれば、高精細で、且つ高密度
のEL画素を大面積に亘って、高い生産性をもって得る
ことができた。
【0060】また、本発明によれば、高輝度の発光を得
ることができ、高精細で、高密度でしかも高輝度発光の
カラーディスプレイを高い生産性を持って得ることがで
きた。
【0061】さらに、本発明によれば、衝撃に対する安
定性、長期間の使用における表示安定性を実現したカラ
ーディスプレイを得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のEL素子の等価回路図である。
【図2】本発明のEL素子で用いたTFT基板側におけ
るEL画素の平面図である。
【図3】図2のA−A′断面図である。
【図4】図3のB−B′断面図である。
【図5】本発明のEL素子で用いたEL基板側における
EL画素の平面図である。
【図6】図5のC−C′断面図である。
【図7】本発明のEL素子の断面図である。
【図8】本発明の方法で用いた真空排気装置の断面図で
ある。
【図9】本発明の別のEL素子の等価回路図である。
【符号の説明】
T1 第1薄膜トランジスタ T2 第2薄膜トランジスタ Cs コンデンサ REL 赤色発光EL GEL 緑色発光EL BEL 青色発光EL 21 コンデンサ 22 ドレイン電極パッド 23 ゲートバス 24 ソースバス 25 グランドバス 3 TFT基板 31 ガラス基板 32 PECVD膜 33 SiO 膜 34 パシベーション膜 41、42 コンデンサ電極 6 EL基板 51 透明電極 52 EL 61 ガラス基板 62 EL電極パッド 71 接着性電気接続体 72 接着性電気絶縁体 81 ステージ 82、83 O−リング 83 シート 84 真空排気ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 雄一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 妹尾 章弘 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜ト
    ランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄型トランジスタ
    のゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の
    複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソー
    ス線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレ
    イン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接続
    したコンデンサを備えたトランジスタ基板、並びに複数
    の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電
    極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエ
    レクトロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッ
    ドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄
    膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板と
    を配向配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方
    の電極とを接着性電気接続体を通して接続してなるエレ
    クトロ・ルミネセンス素子。
  2. 【請求項2】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、青
    色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこと
    を特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセンス
    素子。
  3. 【請求項3】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、青
    色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を備
    えたことを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミ
    ネセンス素子。
  4. 【請求項4】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子を
    接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求項
    1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
  5. 【請求項5】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子を
    接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング剤
    を含有させてなることを特徴とする請求項1記載のエレ
    クトロ・ルミネセンス素子。
  6. 【請求項6】 前記接着性電気接続体の外周部に電気絶
    縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載のエレク
    トロ・ルミネセンス素子。
  7. 【請求項7】 前記接着性電気接続体の外周部に接着性
    電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
    エレクトロ・ルミネセンス素子。
  8. 【請求項8】 前記接着性電気接続体の外周部に着色体
    を含有した電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求
    項1記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
  9. 【請求項9】 前記接着性電気接続体の外周部に液体状
    電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項1記載の
    エレクトロ・ルミネセンス素子。
  10. 【請求項10】 前記薄膜トランジスタは、ポリシリコ
    ン半導体層を有することを特徴とする請求項1記載のエ
    レクトロ・ルミネセンス素子。
  11. 【請求項11】 前記薄膜トランジスタは、アモルファ
    スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
    とを特徴とする請求項1記載のエレクトロ・ルミネセン
    ス素子。
  12. 【請求項12】 前記薄膜トランジスタは、結晶シリコ
    ン半導体を有することを特徴とする請求項1記載のエレ
    クトロ・ルミネセンス素子。
  13. 【請求項13】 前記エレクトロ・ルミネセンス体をは
    さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
    スチャ構造をもつ透明電極である請求項1記載のエレク
    トロ・ルミネセンス素子。
  14. 【請求項14】 前記エレクトロ・ルミネセンス体をは
    さむ一対の電極のうち、少なくとも一方の電極は、テク
    スチャ構造をもつZnO透明電極である請求項1記載の
    エレクトロ・ルミネセンス素子。
  15. 【請求項15】 複数の行及び列に沿って配置した第1
    薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の第1薄膜ト
    ランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎
    に、該列上の複数の第1薄膜トランジスタのソースを共
    通に接続したソース線、第1薄膜トランジスタの各ドレ
    イン毎に接続した第2薄膜トランジスタ、及び該第2薄
    膜トランジスタと並列接続したコンデンサを備え、該第
    2薄膜トランジスタのゲートを第1薄膜トランジスタの
    ドレインに接続させ、該第2薄膜トランジスタの各ドレ
    イン毎にドレイン電極パッドと接続させ、そして第2薄
    膜トランジスタのソースと該コンデンサの一方の電極と
    を接続させてなるトランジスタ基板、並びに複数の行及
    び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間に
    配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクト
    ロ・ルミネセンス基板を有し、ドレイン電極パッドとエ
    レクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トラ
    ンジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを配向
    配置し、ドレイン電極パッドと一対の電極の一方の電極
    とを接着性電気接続体を通して接続してなるエレクトロ
    ・ルミネセンス素子。
  16. 【請求項16】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
    青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
    とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
    ンス素子。
  17. 【請求項17】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
    青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
    備えたことを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・
    ルミネセンス素子。
  18. 【請求項18】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
    を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
    項15記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
  19. 【請求項19】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
    を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
    剤を含有させてなることを特徴とする請求項15記載の
    エレクトロ・ルミネセンス素子。
  20. 【請求項20】 前記接着性電気接続体の外周部に接着
    性電気絶縁体を配置したことを特徴とする請求項15記
    載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
  21. 【請求項21】 前記薄膜トランジスタは、ポリシリコ
    ン半導体層を有することを特徴とする請求項請求項15
    記載のエレクトロ・ルミネセンス素子。
  22. 【請求項22】 前記薄膜トランジスタは、アモルファ
    スシリコン半導体又は微結晶シリコン半導体を有するこ
    とを特徴とする請求項15記載のエレクトロ・ルミネセ
    ンス素子。
  23. 【請求項23】 前記薄膜トランジスタは、結晶シリコ
    ン半導体を有することを特徴とする請求項15記載のエ
    レクトロ・ルミネセンス素子。
  24. 【請求項24】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
    トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
    タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
    の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
    ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
    レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
    続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意し、
    複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対
    の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備え
    たエレクトロ・ルミネセンス基板を用意し、トランジス
    タ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセ
    ンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体を配
    置し、ドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス
    体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクト
    ロ・ルミネセンス基板とを配向配置し、重ね合せること
    を特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
  25. 【請求項25】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
    青色、緑色及び赤色の三原色を発光する媒体を備えたこ
    とを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・ルミネセ
    ンス素子の製造法。
  26. 【請求項26】 前記エレクトロ・ルミネセンス体は、
    青色、緑色及び赤色の三原色を発光する有機物質媒体を
    備えたことを特徴とする請求項24記載のエレクトロ・
    ルミネセンス素子の製造法。
  27. 【請求項27】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
    を接着剤中に分散含有させてなることを特徴とする請求
    項24記載のエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
  28. 【請求項28】 前記接着性電気接続体は、導電性粒子
    を接着剤中に分散含有させ、そしてシランカップリング
    剤を含有させてなることを特徴とする請求項27記載の
    エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
  29. 【請求項29】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
    トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
    タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
    の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
    ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
    レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
    続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する
    工程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び
    該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体
    を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工
    程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレク
    トロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性
    電気接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイ
    ン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの
    少なくとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続
    体の外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン
    電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する
    様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセン
    ス基板とを配向配置し、重ね合せる工程を有することを
    特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。
  30. 【請求項30】 複数の行及び列に沿って配置した薄膜
    トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジス
    タのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上
    の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソ
    ース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したド
    レイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドと並列接
    続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する
    工程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び
    該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体
    を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工
    程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレク
    トロ・ルミネセンス体のうち少なくとも一方に接着性電
    気接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン
    電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少
    なくとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体
    の外周部となる位置に配置する工程、ドレイン電極パッ
    ドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄
    膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板と
    を配向配置し、重ね合せる工程、並びに薄膜トランジス
    タ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板との間を真空排
    気し、接着性電気接続体及び接着性静電気絶縁体を加熱
    硬化させる工程を有することを特徴とするエレクトロ・
    ルミネセンス素子の製造法。
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US09/084,994 US6175345B1 (en) 1997-06-02 1998-05-28 Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof
EP98304275A EP0883191A3 (en) 1997-06-02 1998-05-29 Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof
EP09172441A EP2151865A1 (en) 1997-06-02 1998-05-29 Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof
US09/694,274 US6373455B1 (en) 1997-06-02 2000-10-24 Electroluminescence device, electroluminescence apparatus, and production methods thereof

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Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001035663A (ja) * 1999-07-27 2001-02-09 Pioneer Electronic Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置及びその製造方法
JP2001093661A (ja) * 1999-09-22 2001-04-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd El表示装置及び電子装置
JP2003157029A (ja) * 2001-09-06 2003-05-30 Sharp Corp 表示装置及びその製造方法
KR20030086166A (ko) * 2002-05-03 2003-11-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
KR20030086165A (ko) * 2002-05-03 2003-11-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
JP2004006343A (ja) * 2002-05-03 2004-01-08 Lg Phillips Lcd Co Ltd 有機電界発光素子とその製造方法
KR100426964B1 (ko) * 2002-03-20 2004-04-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100460210B1 (ko) * 2002-10-29 2004-12-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100464864B1 (ko) * 2002-04-25 2005-01-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100472853B1 (ko) * 2002-07-10 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자의 제조방법
KR100474001B1 (ko) * 2002-08-14 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100474000B1 (ko) * 2002-08-13 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100479002B1 (ko) * 2002-09-04 2005-03-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100482166B1 (ko) * 2002-08-26 2005-04-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100482161B1 (ko) * 2002-08-13 2005-04-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100489591B1 (ko) * 2002-11-13 2005-05-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
JP2005209651A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Lg Electronics Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
KR100512900B1 (ko) * 2002-08-14 2005-09-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100553248B1 (ko) * 2003-12-15 2006-02-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광소자 및 그 제조방법
KR100653265B1 (ko) 2004-04-19 2006-12-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
US7222981B2 (en) 2001-02-15 2007-05-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. EL display device and electronic device
KR100731044B1 (ko) 2003-12-30 2007-06-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
US7402446B2 (en) 2003-11-17 2008-07-22 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing an electroluminescence device
US7550774B2 (en) 2001-12-18 2009-06-23 Seiko Epson Corporation Light emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device
KR100904523B1 (ko) 2002-12-26 2009-06-25 엘지디스플레이 주식회사 액티브 매트릭스형 유기전계발광 소자용 박막트랜지스터
KR100963406B1 (ko) 2003-12-29 2010-06-14 엘지디스플레이 주식회사 액티브 매트릭스형 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
US7755279B2 (en) 2002-02-22 2010-07-13 Lg Display Co., Ltd. Organic electroluminescent device and fabricating method thereof
JP2010192451A (ja) * 2003-09-19 2010-09-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置
US20120224251A1 (en) * 2010-03-22 2012-09-06 Hong Wang-Su Electrophoretic display device and method for manufacturing same
JP2016191921A (ja) * 1999-10-21 2016-11-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、表示モジュール及び電子機器
CN109273588A (zh) * 2018-09-20 2019-01-25 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜传感器及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275193A (ja) * 1988-09-08 1990-03-14 Tosoh Corp 薄膜elパネルの封止方法
JPH0431299U (ja) * 1990-07-06 1992-03-13
JPH07288183A (ja) * 1994-03-08 1995-10-31 Planar Syst Inc エレクトロルミネッセント装置及びtfel装置並びに薄膜光吸収層の形成方法
JPH08171988A (ja) * 1994-12-20 1996-07-02 Showa Shell Sekiyu Kk エレクトロルミネッセンス素子
JPH08180974A (ja) * 1994-12-26 1996-07-12 Nippondenso Co Ltd El素子およびその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275193A (ja) * 1988-09-08 1990-03-14 Tosoh Corp 薄膜elパネルの封止方法
JPH0431299U (ja) * 1990-07-06 1992-03-13
JPH07288183A (ja) * 1994-03-08 1995-10-31 Planar Syst Inc エレクトロルミネッセント装置及びtfel装置並びに薄膜光吸収層の形成方法
JPH08171988A (ja) * 1994-12-20 1996-07-02 Showa Shell Sekiyu Kk エレクトロルミネッセンス素子
JPH08180974A (ja) * 1994-12-26 1996-07-12 Nippondenso Co Ltd El素子およびその製造方法

Cited By (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001035663A (ja) * 1999-07-27 2001-02-09 Pioneer Electronic Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置及びその製造方法
JP2001093661A (ja) * 1999-09-22 2001-04-06 Semiconductor Energy Lab Co Ltd El表示装置及び電子装置
JP2016191921A (ja) * 1999-10-21 2016-11-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、表示モジュール及び電子機器
US7222981B2 (en) 2001-02-15 2007-05-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. EL display device and electronic device
JP2003157029A (ja) * 2001-09-06 2003-05-30 Sharp Corp 表示装置及びその製造方法
US7550774B2 (en) 2001-12-18 2009-06-23 Seiko Epson Corporation Light emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device
US8101946B2 (en) 2001-12-18 2012-01-24 Seiko Epson Corporation Light-emission device, method of manufacturing same, electro-optical device and electronic device
US7755279B2 (en) 2002-02-22 2010-07-13 Lg Display Co., Ltd. Organic electroluminescent device and fabricating method thereof
KR100426964B1 (ko) * 2002-03-20 2004-04-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100464864B1 (ko) * 2002-04-25 2005-01-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
JP2004006341A (ja) * 2002-05-03 2004-01-08 Lg Phillips Lcd Co Ltd 有機電界発光素子とその製造方法
US7312099B2 (en) 2002-05-03 2007-12-25 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Organic electroluminescent device and fabricating method thereof
JP2009015344A (ja) * 2002-05-03 2009-01-22 Lg Display Co Ltd 有機電界発光素子とその製造方法
KR20030086166A (ko) * 2002-05-03 2003-11-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
KR20030086165A (ko) * 2002-05-03 2003-11-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
JP2004006343A (ja) * 2002-05-03 2004-01-08 Lg Phillips Lcd Co Ltd 有機電界発光素子とその製造方法
KR100465883B1 (ko) * 2002-05-03 2005-01-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
KR100472853B1 (ko) * 2002-07-10 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자의 제조방법
KR100482161B1 (ko) * 2002-08-13 2005-04-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100474000B1 (ko) * 2002-08-13 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100512900B1 (ko) * 2002-08-14 2005-09-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100474001B1 (ko) * 2002-08-14 2005-03-10 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100482166B1 (ko) * 2002-08-26 2005-04-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100479002B1 (ko) * 2002-09-04 2005-03-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
KR100460210B1 (ko) * 2002-10-29 2004-12-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
US6982524B2 (en) 2002-11-13 2006-01-03 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Dual panel-type organic electroluminescent display device and method of fabricating the same
KR100489591B1 (ko) * 2002-11-13 2005-05-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
KR100904523B1 (ko) 2002-12-26 2009-06-25 엘지디스플레이 주식회사 액티브 매트릭스형 유기전계발광 소자용 박막트랜지스터
JP2010192451A (ja) * 2003-09-19 2010-09-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置
US8129900B2 (en) 2003-09-19 2012-03-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same
US8970106B2 (en) 2003-09-19 2015-03-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same
US7402446B2 (en) 2003-11-17 2008-07-22 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing an electroluminescence device
KR100553248B1 (ko) * 2003-12-15 2006-02-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계발광소자 및 그 제조방법
KR100963406B1 (ko) 2003-12-29 2010-06-14 엘지디스플레이 주식회사 액티브 매트릭스형 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
KR100731044B1 (ko) 2003-12-30 2007-06-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
JP2005209651A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Lg Electronics Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
KR100653265B1 (ko) 2004-04-19 2006-12-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼패널타입 유기전계발광 소자 및 그 제조방법
US20120224251A1 (en) * 2010-03-22 2012-09-06 Hong Wang-Su Electrophoretic display device and method for manufacturing same
US8446662B2 (en) * 2010-03-22 2013-05-21 Samsung Display Co., Ltd. Electrophoretic display device and method for manufacturing same
CN109273588A (zh) * 2018-09-20 2019-01-25 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜传感器及其制备方法
CN109273588B (zh) * 2018-09-20 2023-10-24 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜传感器及其制备方法

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