JPH10319579A - Direct writing waterless lithographic printing master plate - Google Patents

Direct writing waterless lithographic printing master plate

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JPH10319579A
JPH10319579A JP9127306A JP12730697A JPH10319579A JP H10319579 A JPH10319579 A JP H10319579A JP 9127306 A JP9127306 A JP 9127306A JP 12730697 A JP12730697 A JP 12730697A JP H10319579 A JPH10319579 A JP H10319579A
Authority
JP
Japan
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printing plate
group
lithographic printing
heat
plate precursor
Prior art date
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Pending
Application number
JP9127306A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigehiko Ichikawa
成彦 市川
Norimasa Ikeda
憲正 池田
Ken Kawamura
建 河村
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10319579A publication Critical patent/JPH10319579A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the production of a harmful gas such as nitrogen oxides by the radiation of laser light by forming a thermosensitive layer containing a hydroxyl group-contg. compd. and a photothermal converting material and having a crosslinked structure. SOLUTION: This direct writing waterless lithographic printing master plate is produced by successively forming at least a thermosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate. The thermosensitive layer contains a hydroxyl group-contg. compd. and a photothermal converting material and has a crosslinked structure. This method features that if the thermosensitive layer does not contain an easily pyrolyzable compd. such as nitrocellulose, only the bonds which crosslink the silicone layer and the thermosensitive layer are broken by the radiation of laser beam, but the thermosensitive layer is not damaged or at least a part of the layer remains. Therefore, even when the thermosensitive layer contains a nitrogen-contg. compd. as a binder, the binder itself is not decomposed or combusted, thereby producing no nitrogen oxides as a harmful gas.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いること
なしに印刷が可能となる、水なし平版印刷版原版に関す
る物であり、特にレーザー光で直接製版できる直描型水
なし平版印刷版原版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waterless lithographic printing plate precursor capable of printing without using dampening water, and more particularly to a direct drawing type waterless lithographic printing plate which can be directly made by laser light. It concerns the original.

【0002】[0002]

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。
2. Description of the Related Art Direct plate making, in which an offset printing plate is produced directly from an original without using a plate making film, is simple, does not require skill, is quick in obtaining a printing plate in a short time, Utilizing features such as rationality that can be selected according to quality and cost from the system,
In addition to the light printing industry, it has begun to enter the general offset printing and gravure printing fields.

【0003】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンターなどの出力システム
の急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料
が開発されている。
[0003] In recent years, new types of various lithographic printing materials have been developed with the rapid progress of output systems such as prepress systems, imagesetters, and laser printers.

【0004】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで
書き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方
法、インクジェットでインキ反発層またはインキ着肉層
を形成する方法などが挙げられる。 なかでも、レーザ
ー光を用いる方法は解像度、および製版速度の面で他の
方式よりも優れており、その種類も多い。
[0004] These lithographic printing plates can be classified according to plate-making methods, such as a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode, an ink repelling layer or an ink coating with an ink jet. Examples include a method of forming a layer. Above all, the method using laser light is superior to other methods in terms of resolution and plate making speed, and there are many types.

【0005】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードタイプのものと、光熱
変換を行って熱反応を起こさせるヒートモードタイプの
2つに分けられる。
[0005] Lithographic printing plates using this laser beam are further classified into two types: a photon mode type by photoreaction and a heat mode type by which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction.

【0006】フォトンモードタイプとしては (1)フォトポリマーを用いた高感度PS版 (2)有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 (3)銀塩方式平版 (4)銀塩複合方式平版 (5)直描マスター などがあり、ヒートモードタイプとしては (6)熱破壊方式平版 が挙げられる。The photon mode type includes (1) a high-sensitivity PS plate using a photopolymer, (2) an electrophotographic lithographic plate using an organic photoconductor and zinc oxide, (3) a silver salt lithographic plate, and (4) a silver salt composite. Method lithography (5) Direct drawing master and the like, and the heat mode type includes (6) Thermal destruction method lithography.

【0007】しかしながら、(1)の方式はレーザー光
源に主としてアルゴンイオンレーザーを使用しているた
め装置が大型となり、また印刷版も高感度のフォトポリ
マーを使用しているため、印刷版の取り扱いに注意が必
要で、なおかつ保存安定性も低下しやすいといった欠点
がある。
However, the method (1) uses an argon ion laser mainly as a laser light source, so that the apparatus becomes large, and the printing plate uses a high-sensitivity photopolymer. There is a drawback that care must be taken and the storage stability tends to decrease.

【0008】(2)の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後2〜5分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処置をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。
The electrophotographic lithographic plate (2) has the advantage that it can be handled in a bright room, but the dark decay becomes large between 2 and 5 minutes after charging of the photosensitive layer, so that the exposure and development treatment is performed in a short time after charging. Therefore, it is difficult to output a large format with high resolution.

【0009】(3)の銀塩方式は、様々な波長のレーザ
ーに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液が出る
ことが問題となっており、また感度が高いために、取り
扱いに注意を要するといった問題もある。
In the silver salt method (3), printing plates corresponding to lasers of various wavelengths have been developed. However, there is a problem that silver waste liquid comes out, and the sensitivity is high. There is also a problem that requires attention.

【0010】(4)の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度のハロゲン化銀乳剤層をアルゴンイオンレーザー
で露光、現像後それをマスクとしてさらに紫外線で露
光、現像を行うものである。しかし、この印刷版は露
光、現像工程が2回あるため、印刷版の処理が複雑にな
るという問題がある。
In the silver halide composite lithographic plate (4), a high-sensitivity silver halide emulsion layer is exposed on a photosensitive layer with an argon ion laser, developed, and then exposed and developed with ultraviolet rays using the exposed layer as a mask. . However, since this printing plate has two exposure and development steps, there is a problem that the processing of the printing plate becomes complicated.

【0011】(5)の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザーで書き込むわけではないが、レーザープリンター
で形成されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版
上に転写するものである。しかし、印刷版の解像度とい
う面では、他の方式と比較して劣っている。
The direct drawing master of (5) does not directly write on a printing plate with a laser, but transfers a toner image formed by a laser printer onto a printing plate as an ink-coated portion. However, the resolution of the printing plate is inferior to other methods.

【0012】以上のフォトンモードタイプに対して、
(6)の熱破壊方式は、明室で取り扱えるというといっ
た利点があり、また光源となる半導体レーザーの出力の
急激な進歩によって、また光源となる半導体レーザーの
出力の急激な進歩によって、最近その有用性が見直され
てきている。
For the above photon mode type,
The thermal destruction method (6) has the advantage that it can be handled in a bright room, and has recently become useful due to the rapid progress of the output of the semiconductor laser serving as a light source and the rapid progress of the output of the semiconductor laser serving as a light source. Sex is being reviewed.

【0013】例えば、USP5379698号には、金
属薄膜を感熱層として用いる直描型水なし平版印刷版が
記載されているが、金属薄膜自体がレーザー光が透過す
るために、印刷版の感度が悪いという問題があった。こ
のため、レーザー光の吸収率を上げるためには、反射防
止層を設けなければならず、塗布工程がさらに増えて、
コストがかかる結果となる。
For example, US Pat. No. 5,379,698 describes a direct-drawing waterless lithographic printing plate using a metal thin film as a heat-sensitive layer. However, the sensitivity of the printing plate is poor because the metal thin film itself transmits laser light. There was a problem. For this reason, in order to increase the absorptance of laser light, an antireflection layer must be provided, and the coating process is further increased,
The consequences are costly.

【0014】また、特開平6−199064号、USP
5339737号、EP0580393号、特開平6−
55723号、EP0573091号、USP5378
580号公報、特開平7−164773号、USP53
33705号、EPO0644647号にも、にもレー
ザー光を光源として用いる、直描型水なし平版印刷版原
版が記載されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-199064, USP
No. 5,339,737, EP 0580393,
55723, EP0573091, USP5378
580, JP-A-7-164773, USP53
33705 and EPO0644647 also describe a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor using laser light as a light source.

【0015】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
例えばレーザー光吸収化合物としてカーボンブラックを
用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用して
おり、その表面にシリコーン層が塗布されている。感熱
層中のカーボンブラックがレーザー光を吸収し熱エネル
ギーに変換され、さらにその熱で感熱層が破壊される。
そして最終的に、現像によってこの部分を除去すること
によって、インキを着肉しないシリコーンゴム層が同時
に剥離され、インキの着肉する画線部となる。しかし感
熱破壊の際、ニトロセルロースの分解により窒素酸化物
(NOx)といった有害ガスが生じ、さらには化学種の
分解によって異臭が発生するため、環境衛生上好ましく
ないという問題があった。
The heat-sensitive layer of the printing plate precursor of this thermal destruction method is
For example, carbon black is used as a laser light absorbing compound, nitrocellulose is used as a thermal decomposition compound, and a silicone layer is applied to the surface thereof. The carbon black in the heat-sensitive layer absorbs laser light and is converted into heat energy, and the heat destroys the heat-sensitive layer.
Finally, by removing this portion by development, the silicone rubber layer on which the ink is not deposited is simultaneously peeled off, and an image portion on which the ink is deposited is formed. However, at the time of heat-sensitive destruction, nitrocellulose is decomposed to generate harmful gases such as nitrogen oxides (NO x ), and further, chemical species are decomposed to generate an unpleasant odor.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点を改良するため、感熱層中にニトロセルロース
に代わる易分解性の化合物を含有させることにより、レ
ーザー照射によってNOxなどの有害ガスを発すること
のない、直描型水なし平版印刷版原版を提供することに
ある。
To improve the shortcomings of the invention will to challenge Solved] The present invention is the prior art, by containing the easily decomposable compound in place of the nitrocellulose in the heat-sensitive layer, harmful gases such as NO x by laser irradiation The object of the present invention is to provide a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor that does not emit a lithographic printing plate.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は下記の構成からなる。
To achieve the above object, the present invention comprises the following constitution.

【0018】(1)基板上に少なくとも、感熱層および
シリコーンゴム層を順次積層してなる直描型水なし平版
印刷版原版において、該感熱層が水酸基含有化合物およ
び光熱変換物質を含有し、かつ架橋構造を有することを
特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
(1) A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor comprising at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer sequentially laminated on a substrate, wherein the heat-sensitive layer contains a hydroxyl group-containing compound and a light-to-heat conversion material, and A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having a crosslinked structure.

【0019】(2)水酸基含有化合物がニトロセルロー
ス以外の物質であることを特徴とする(1)に記載の直
描型水なし平版印刷版原版。
(2) The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor as described in (1), wherein the hydroxyl group-containing compound is a substance other than nitrocellulose.

【0020】(3)水酸基含有化合物がレゾール樹脂、
ノボラック樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合性ま
たは架橋性の官能基を有するフェノールおよび/または
ポリフェノール類、の少なくとも1種以上を含有するこ
とを特徴とする(1)〜(2)に記載の直描型水なし平
版印刷版原版。
(3) The compound containing a hydroxyl group is a resole resin,
The direct drawing according to (1) or (2), comprising at least one of a novolak resin, a rosin-modified phenol resin, a phenol having a polymerizable or crosslinkable functional group and / or a polyphenol. Lithographic printing plate precursor without mold water.

【0021】(4)水酸基含有化合物が下記一般式
(I)〜(VII)の中から選ばれる一種以上の化合物
であることを特徴とする請求項1〜2に記載の直描型水
なし平版印刷版原版。
(4) The direct-drawing waterless lithographic plate according to claim 1, wherein the hydroxyl group-containing compound is at least one compound selected from the following formulas (I) to (VII). Printing plate original.

【0022】[0022]

【化8】 Embedded image

【化9】 Embedded image

【化10】 Embedded image

【化11】 Embedded image

【化12】 Embedded image

【化13】 Embedded image

【化14】 [式中、L1,L2,L3,L4は水素原子またはメチル基
である。R1は水素原子、メチル基、エチル基またはピ
ロピル基であり、R2は水素原子、メチル基またはシク
ロヘキシル基であり、R3,R4,R5,R6,R7は水素
原子またはメチル基である。X1は水酸基、水素原子、
メチル基、メトキシ基またはエトキシ基であり、Xる。
1は水酸基、水素原子、メチル基、メトキシ基または
エトキシ基であり、X2は水酸基またはp−ヒドロキシ
ベンジル基であり、X3は水酸基または水素原子であ
り、X4はメチロール基またはメチル基である。Zはメ
チレン基またはカルボニル基である。pは0または1で
あり、qは0、1または2であり、r,sは0または1
である。] (5)水酸基含有化合物が、エポキシ化合物の反応物で
あることを特徴とする(1)記載の直描型水なし平版印
刷版原版。
Embedded image [Wherein L 1 , L 2 , L 3 , and L 4 are a hydrogen atom or a methyl group. R 1 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a propyl group, R 2 is a hydrogen atom, a methyl group or a cyclohexyl group, and R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are a hydrogen atom or a methyl group. Group. X 1 is a hydroxyl group, a hydrogen atom,
X represents a methyl group, a methoxy group or an ethoxy group.
X 1 is a hydroxyl group, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group or an ethoxy group, X 2 is a hydroxyl group or a p-hydroxybenzyl group, X 3 is a hydroxyl group or a hydrogen atom, and X 4 is a methylol group or a methyl group. It is. Z is a methylene group or a carbonyl group. p is 0 or 1, q is 0, 1 or 2, r and s are 0 or 1
It is. (5) The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor as described in (1), wherein the hydroxyl group-containing compound is a reaction product of an epoxy compound.

【0023】(6)光熱変換物質がカーボンブラックで
あることを特徴とする(1)〜(5)に記載の直描型水
なし平版印刷版原版。
(6) The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (5), wherein the light-to-heat conversion material is carbon black.

【0024】(7)感熱層中のバインダー樹脂のガラス
転移温度Tgが0℃以下であることを特徴とする(1)
〜(6)に記載の直描型水なし平版印刷版原版。
(7) The glass transition temperature T g of the binder resin in the heat-sensitive layer is 0 ° C. or less (1).
A direct drawing type waterless planographic printing plate precursor according to any one of (1) to (6).

【0025】(8)感熱層がバインダーとしてポリウレ
タン樹脂を含有することを特徴とする(1)〜(7)に
記載の直描型水なし平版印刷版原版。
(8) The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (7), wherein the heat-sensitive layer contains a polyurethane resin as a binder.

【0026】(9)感熱層中の水酸基含有化合物、およ
び架橋反応によって水酸基を生成する反応性の官能基を
含有する化合物の含有量が、全感熱層組成物に対して5
〜60重量%であることを特徴とする(1)〜(8)に
記載の直描型水なし平版印刷版原版。
(9) The content of the hydroxyl group-containing compound in the heat-sensitive layer and the compound containing a reactive functional group that generates a hydroxyl group by a crosslinking reaction is 5 to the total heat-sensitive layer composition.
The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (8), wherein the lithographic printing plate precursor is described in (1) to (8).

【0027】(10)感熱層の下層が青、緑、あるいは
紫に着色していることを特徴とする(1)〜(9)のい
ずれかに記載の直描型水なし平版印刷版原版。
(10) The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (9), wherein the lower layer of the heat-sensitive layer is colored blue, green or purple.

【0028】(11)(1)〜(10)のいずれかに記
載の直描型水なし平版印刷版原版を露光後、水または水
を主成分とする液で現像してなる水なし平版印刷版。
(11) Waterless lithographic printing obtained by exposing the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (10) and developing with water or a liquid containing water as a main component. Edition.

【0029】(12)(11)に記載の現像済みの水な
し平版印刷版に染色液を用い、露出している感熱層ある
いはプライマー層を染色することを特徴とする水なし平
版印刷版。
(12) A waterless planographic printing plate characterized in that the exposed heat-sensitive layer or primer layer is dyed by using a dye solution on the developed waterless planographic printing plate as described in (11).

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】本発明において、直描型とは、露
光時にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版
上に直接記録ヘッドから、画像形成を行うことをいう。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, the direct drawing type means that an image is formed directly from a recording head on a printing plate without using a negative or positive film at the time of exposure.

【0031】次に、本発明の直描型水なし平版印刷版に
ついて説明する。
Next, the direct drawing type waterless planographic printing plate of the present invention will be described.

【0032】本発明で使用される感熱層は、レーザー光
を効率よく吸収して、その熱によって容易に分解する
か、あるいは上層のシリコーンゴム層との接着力が低下
することが重要である。このためには、感熱層中に光熱
変換物質および熱分解性化合物を含有させる必要があ
る。
It is important that the heat-sensitive layer used in the present invention efficiently absorbs the laser beam and is easily decomposed by the heat, or the adhesive strength with the upper silicone rubber layer is reduced. For this purpose, it is necessary to include a light-to-heat conversion substance and a thermally decomposable compound in the heat-sensitive layer.

【0033】まず熱分解性化合物としては、従来、硝酸
アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、ニトロ
セルロースなどのニトロ化合物や、アゾ化合物、ジアゾ
化合物あるいはヒドラジン誘導体といった窒素含有化合
物が挙げられるが、燃焼時に窒素酸化物が発生するとい
う問題があった。
First, examples of the thermally decomposable compounds include nitro compounds such as ammonium nitrate, potassium nitrate, sodium nitrate and nitrocellulose, and nitrogen-containing compounds such as azo compounds, diazo compounds and hydrazine derivatives. There was a problem that occurs.

【0034】本発明ではこれらの窒素含有化合物を用い
ず、水酸基含有化合物を用いる。感熱層中の水酸基は、
シリコーンゴム層中のアルコキシ基、アルケノキシ基、
アセトキシ基、オキシム基、アミド基、シラノール基、
ハイドロジェンシロキサンなどと縮合し、感熱層とシリ
コーンゴム層はC−O−Si結合によって架橋する。こ
のC−Oエーテル性結合の結合解離エネルギーは比較的
低いことが知られており、熱エネルギーによって容易に
解離しうる。この場合感熱層中にニトロセルロースの如
き易熱分解性化合物を含んでいなければ、レーザー照射
時にシリコーン層と感熱層とを架橋している結合が解裂
するのみで、感熱層は破壊されないか、少なくとも一部
分は残存するのが特徴である。従って、感熱層中にバイ
ンダー用途として窒素含有物を含んでいても、バインダ
ー自体は破壊、燃焼することがないので、有害ガスであ
る窒素酸化物は発生しない。
In the present invention, a hydroxyl-containing compound is used instead of these nitrogen-containing compounds. Hydroxyl groups in the thermosensitive layer are
An alkoxy group, an alkenoxy group in the silicone rubber layer,
Acetoxy group, oxime group, amide group, silanol group,
Condensed with hydrogen siloxane or the like, and the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer are cross-linked by C—O—Si bonds. It is known that the bond dissociation energy of this CO etheric bond is relatively low, and the bond can be easily dissociated by thermal energy. In this case, if the heat-sensitive layer does not contain a thermally decomposable compound such as nitrocellulose, the bond that crosslinks the silicone layer and the heat-sensitive layer is only broken at the time of laser irradiation, and the heat-sensitive layer is not destroyed. , At least in part. Therefore, even if a nitrogen-containing substance is contained in the heat-sensitive layer as a binder, the binder itself does not break or burn, so that nitrogen oxides, which are harmful gases, are not generated.

【0035】本発明ではそれ自体が熱によって分解する
化合物を含有させるのではなく、熱によって分解する結
合をシリコーンゴム層と感熱層との間に作るのであり、
そういった結合を為さしめるために水酸基含有化合物を
感熱層中に含有させる。
In the present invention, a bond which decomposes by heat is formed between the silicone rubber layer and the heat-sensitive layer instead of containing a compound which decomposes by heat.
In order to achieve such a bond, a hydroxyl group-containing compound is contained in the thermosensitive layer.

【0036】感熱層中に含有させる水酸基含有化合物
は、固体、あるいは架橋によって形状維持の可能なもの
でなければならない。また水酸基含有化合物の代わり
に、架橋反応によって水酸基を生成する反応性の官能基
を含有する化合物を用いても良い。
The hydroxyl group-containing compound contained in the heat-sensitive layer must be solid or capable of maintaining its shape by crosslinking. Further, instead of the hydroxyl group-containing compound, a compound containing a reactive functional group that generates a hydroxyl group by a crosslinking reaction may be used.

【0037】水酸基含有化合物および架橋反応によって
水酸基を生成する反応性の官能基を有する化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the hydroxyl-containing compound and the compound having a reactive functional group that generates a hydroxyl group by a crosslinking reaction are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0038】(1)エポキシ化合物 ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型
エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエポキシ樹脂、フェ
ノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラック
エポキシ樹脂などが挙げられ、エポキシ官能基が3官能
以上であることが好ましい。これらの化合物は水酸基を
含有していても良いが、架橋反応によってエポキシ環が
解裂し水酸基が生成するので、水酸基を含有しなくても
よい。
(1) Epoxy compounds Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, glycidyl ether epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, etc., and the epoxy functional group may be three or more. preferable. These compounds may contain a hydroxyl group, but do not need to contain a hydroxyl group since the epoxy ring is cleaved by a crosslinking reaction to form a hydroxyl group.

【0039】(2)フェノール樹脂類 レゾール樹脂、ノボラック樹脂、ロジン変性フェノール
樹脂、エポキシ変性フェノール樹脂、リグニン変性フェ
ノール樹脂、アニリン変性フェノール樹脂、メラミン変
性フェノール樹脂など (3)重合性のあるいは架橋性の官能基を有するフェノ
ールおよびポリフェノール類 一般式(I)に示されるアリルビフェノール、あるいは
アリルビスフェノール、および一般式(II)に示され
るビスフェノールカルボン酸、あるいはビスフェノール
カルボン酸エステルなど (4)水酸基を1分子中に3基以上含有する化合物 一般式(III)に示される4,4’,4’’−メチリ
ジントリスフェノール、一般式(IV)に示されるビス
(4−ヒドロキシフェニルメチル)ベンゼンヂオール
類、一般式(V)に示されるピロガロール化合物、一般
式(VI)に示されるメチロールビフェノール、あるい
はメチロールビスフェノール、一般式(VII)に示さ
れる4,4’,4’’,4’’’−エチリジンテトラキ
スフェノール、あるいは4,4’,4’’,4’’’−
(1,4−フェニレンジメチリジン)テトラキスフェノ
ールなど、および4,4’,4’’−メチリジントリス
シクロヘキサノールなど (5)その他 末端水酸基キシレン樹脂、セルロースなど これらの化合物のなかでも、(2)のフェノール樹脂
類、(3)の重合性(あるいは架橋性)の官能基を有す
るフェノールおよびポリフェノール類が感度が高いた
め、好ましく用いられる。
(2) Phenolic resins Resol resin, novolak resin, rosin-modified phenol resin, epoxy-modified phenol resin, lignin-modified phenol resin, aniline-modified phenol resin, melamine-modified phenol resin, etc. (3) Polymerizable or crosslinkable Phenols and polyphenols having a functional group such as allyl biphenol or allyl bisphenol represented by the general formula (I) and bisphenol carboxylic acid or bisphenol carboxylic acid ester represented by the general formula (II) (4) hydroxyl group in one molecule 4,4 ′, 4 ″ -methylidine trisphenol represented by the general formula (III), bis (4-hydroxyphenylmethyl) benzenediol represented by the general formula (IV), Shown in general formula (V) A pyrogallol compound, a methylol biphenol represented by the general formula (VI), or a methylol bisphenol; a 4,4 ′, 4 ″, 4 ′ ″-ethylidinetetrakisphenol represented by the general formula (VII); ', 4'',4'''-
(1,4-phenylenedimethylidyne) tetrakisphenol and the like, and 4,4 ′, 4 ″ -methylidinetriscyclohexanol and the like (5) Others terminal hydroxyl group xylene resin, cellulose and the like Among these compounds, (2) Phenol resins having a polymerizable (or crosslinkable) functional group of (3) and polyphenols are preferably used because of their high sensitivity.

【0040】これら水酸基含有化合物および架橋反応に
よって水酸基を生成する反応性の官能基を有する化合物
はそれぞれ単独でも使用できるし、2種以上を混合して
使用することもでき、その含有量は、全感熱層組成物に
対して5〜60重量%が好ましく、より好ましくは20
〜50重量%である。含有量が5重量%よりも少ない
と、印刷版の感度が低下し、60重量%よりも多いと、
印刷版の溶剤耐性が低下しやすい。
These hydroxyl group-containing compounds and compounds having a reactive functional group capable of forming a hydroxyl group by a crosslinking reaction can be used alone or as a mixture of two or more kinds. It is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 20 to 60% by weight based on the heat-sensitive layer composition.
5050% by weight. When the content is less than 5% by weight, the sensitivity of the printing plate is reduced, and when the content is more than 60% by weight,
The solvent resistance of the printing plate tends to decrease.

【0041】印刷版としての形態保持性、耐溶剤性、耐
刷性を持たせるため、上記成分が液状である場合には特
に、架橋によりネットワーク構造を形成させる必要があ
る。
In order to impart form retention, solvent resistance, and printing durability as a printing plate, it is necessary to form a network structure by crosslinking, particularly when the above components are in liquid form.

【0042】架橋方法としては、加熱することにより架
橋反応を進行させる熱架橋型と、光照射による光架橋型
があり、それぞれの化合物に対して適宜選択する。光架
橋型は対象物が光を充分に透過する必要があるが、熱架
橋型に比べてキュアが短時間でかつ低温で行うことがで
きるという特徴がある。
As a cross-linking method, there are a thermal cross-linking type in which a cross-linking reaction proceeds by heating and a photo-cross-linking type by light irradiation, and it is appropriately selected for each compound. The photo-crosslinking type requires that the object sufficiently transmit light, but has the characteristic that curing can be performed in a shorter time and at a lower temperature than the thermal crosslinking type.

【0043】例えば、上記分類の(1)に示されるエポ
キシ化合物は、ブチル化尿素樹脂、ブチル化メラミン樹
脂、ブチル化ベンゾグアナミン樹脂、ブチル化尿素メラ
ミン共縮合樹脂、アミノアルキッド樹脂、イソブチル化
メラミン樹脂、メチル化メミニン樹脂、ヘキサメトキシ
メチロールメラミン、メチル化ベンゾグアナミン樹脂、
ブチル化ベンゾグアナミン樹脂、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミ
ン、ジエチルアミノプロピルアミン、Nーアミノエチル
ピペラジン、メタキシレンジアミン、メタフェニレンジ
アミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニ
ルスルホン、イソホロンジアミンなどのアミン系化合
物、ポリアミド系硬化剤やジシアンジアミドなどのアミ
ド系化合物、フェノール樹脂や多価アルコールのような
水酸基含有化合物、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ドデシニルコハク酸、ピロメリ
ット酸、クロレン酸、マレイン酸、フマル酸などのカル
ボン酸化合物やこれらの無水物、多価チオールとの組み
合わせで熱架橋することができる。架橋反応によって水
酸基が生成するので、エポキシ樹脂中に必ずしも水酸基
を含有させる必要はない。
For example, the epoxy compounds represented by the above classification (1) include butylated urea resin, butylated melamine resin, butylated benzoguanamine resin, butylated urea melamine cocondensation resin, aminoalkyd resin, isobutylated melamine resin, Methylated meminin resin, hexamethoxymethylolmelamine, methylated benzoguanamine resin,
Butylated benzoguanamine resin, amine compounds such as diethylenetriamine, triethylenetriamine, tetraethylenepentamine, diethylaminopropylamine, N-aminoethylpiperazine, metaxylenediamine, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, and polyamides Amide compounds such as a system curing agent and dicyandiamide, hydroxyl-containing compounds such as phenolic resins and polyhydric alcohols, phthalic acid, hexahydrophthalic acid,
Thermal cross-linking can be performed by a combination with a carboxylic acid compound such as tetrahydrophthalic acid, dodecynylsuccinic acid, pyromellitic acid, chlorenic acid, maleic acid, and fumaric acid, or an anhydride or polyvalent thiol. Since a hydroxyl group is generated by the crosslinking reaction, it is not always necessary to include a hydroxyl group in the epoxy resin.

【0044】またこれらの場合、反応を促進させるため
の触媒として4級アンモニウム塩やKOH、SnC
4、Zn(BF42、イミダゾール化合物などの公知
の触媒を用いることが好ましい。
In these cases, a quaternary ammonium salt, KOH or SnC is used as a catalyst for accelerating the reaction.
It is preferable to use a known catalyst such as l 4 , Zn (BF 4 ) 2 and an imidazole compound.

【0045】上記の架橋剤のなかでも、硬化速度や取り
扱い性の問題で多官能エポキシ化合物とアミン系化合物
の組み合わせがさらに好ましい。
Among the above cross-linking agents, a combination of a polyfunctional epoxy compound and an amine compound is more preferable from the viewpoints of curing speed and handleability.

【0046】さらに、有機シリル基を持った多官能性架
橋剤やアミン基含有モノマーも好ましく使用できる。
Further, a polyfunctional crosslinking agent having an organic silyl group or an amine group-containing monomer can be preferably used.

【0047】上記分類の(2)の化合物は、それ単独
で、あるいは触媒を用いて熱架橋することも可能である
し、多官能エポキシ樹脂あるいは多官能イソシアネート
化合物との組み合わせで架橋させることが可能だが、水
酸基が架橋官能基となるので、架橋後にも水酸基が残存
するよう配合比に留意する必要がある。
The compounds of the above-mentioned category (2) can be thermally cross-linked by themselves or with a catalyst, or can be cross-linked with a polyfunctional epoxy resin or a polyfunctional isocyanate compound. However, since the hydroxyl group becomes a cross-linking functional group, it is necessary to pay attention to the mixing ratio so that the hydroxyl group remains even after cross-linking.

【0048】上記分類の(3)の様に水酸基含有化合物
内に二重結合が存在する場合は、その二重結合をラジカ
ルで解離させて重合させる方法が一般的である。
When a double bond is present in a hydroxyl group-containing compound as in (3) of the above classification, a method of dissociating the double bond with a radical and polymerizing is generally used.

【0049】熱で架橋を行う場合には、過酸化アセチ
ル、過酸化クミル、過酸化tert−ブチル、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸カリウム、ペルオ
キシ炭酸ジイソプロピル、テトラリンヒドロペルオキシ
ド、tert−ブチルヒドロペルオキシド、過酢酸te
rt−ブチル、過安息香酸tert−ブチルなどの過酸
化物、2,2’−アゾビスプロパン、1,1’−アゾ
(メチルエチル)ジアセテート、2,2’−アゾビスイ
ソブチルアミド、2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ルなどのアゾ化合物やベンゼンスルホニルアジド、1,
4−ビス(ペンタメチレン)−2−テトラゼンなどが、
ラジカル発生剤として用いられる。
In the case of crosslinking by heat, acetyl peroxide, cumyl peroxide, tert-butyl peroxide, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, potassium persulfate, diisopropyl peroxycarbonate, tetralin hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide Peroxide, peracetic acid te
peroxides such as rt-butyl and tert-butyl perbenzoate, 2,2′-azobispropane, 1,1′-azo (methylethyl) diacetate, 2,2′-azobisisobutylamide, Azo compounds such as 2'-azobisisobutyronitrile and benzenesulfonyl azide,
4-bis (pentamethylene) -2-tetrazene and the like,
Used as a radical generator.

【0050】光で架橋を行う場合には、ジエトキシアセ
トフェノン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキ
シシクロヘキシル−フェニルケトンなどのアセトフェノ
ン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテルなどのベンゾイン系化合物、ベンゾフェノ
ン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−
4’−メチルージフェニルサルファイドなどのベンゾフ
ェノン系化合物、2−イソプロピルチオキサントン、
2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチ
オキサントンなどのチオキサントン系化合物、トリエタ
ノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル、4,4’−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベ
ンゾフェノン(ミヒラーケトン)などのアミン系化合物
や、ベンジル、カンファーキノン、2−エチルアンスラ
キノン、9,10−フェナンスレンキノンなどがラジカ
ル発生剤として用いられる。
In the case of crosslinking by light, acetophenone compounds such as diethoxyacetophenone, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, benzoin, benzoin ethyl ether,
Benzoin based compounds such as benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-benzoyl-
Benzophenone compounds such as 4′-methyldiphenyl sulfide, 2-isopropylthioxanthone,
Thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone, triethanolamine, triisopropanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, and 4,4′-bis Amine compounds such as dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), benzyl, camphorquinone, 2-ethylanthraquinone, and 9,10-phenanthrenequinone are used as radical generators.

【0051】水酸基を1分子中に少なくとも3基以上含
有する、上記分類(4)のような化合物の場合、水酸基
自体を架橋性基として用いても良い。この場合には多官
能イソシアネート化合物や多官能エポキシ樹脂と組み合
わせることにより、熱架橋させることができる。ただこ
の場合も水酸基が架橋官能基となるので、架橋後にも水
酸基が残存するよう配合比に留意する必要がある。
In the case of a compound having at least three hydroxyl groups in one molecule as in the above-mentioned classification (4), the hydroxyl group itself may be used as a crosslinkable group. In this case, thermal crosslinking can be performed by combining with a polyfunctional isocyanate compound or a polyfunctional epoxy resin. However, also in this case, since the hydroxyl group becomes a cross-linking functional group, it is necessary to pay attention to the mixing ratio so that the hydroxyl group remains even after cross-linking.

【0052】これらの架橋剤およびラジカル発生剤の含
有量はそれぞれ、水酸基含有化合物の官能基および二重
結合の数によって決められる。
The content of these crosslinking agents and radical generators is determined by the number of functional groups and double bonds of the hydroxyl-containing compound, respectively.

【0053】光熱変換物質としては、光を吸収して熱に
変換しうる物質であれば、特に限定されるものではな
く、例えばカーボンブラック、アニリンブラック、シア
ニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファイト、鉄
粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェ
ノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金
属錯体、アリールアルミニウム金属塩類、結晶水含有無
機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化
チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化
コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化物、これら
の金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマス、スズ、テ
ルル、鉄、アルミの金属粉などの添加剤を添加すること
が好ましい。
The photothermal conversion material is not particularly limited as long as it can absorb light and convert it into heat. For example, black pigments such as carbon black, aniline black and cyanine black, phthalocyanine and naphthalocyanine Green pigment, carbon graphite, iron powder, diamine-based metal complex, dithiol-based metal complex, phenolthiol-based metal complex, mercaptophenol-based metal complex, arylaluminum metal salts, inorganic water-containing inorganic compounds, copper sulfate, chromium sulfide, Metal oxides such as silicate compounds, titanium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, and tungsten oxide; hydroxides and sulfates of these metals; and bismuth, tin, tellurium, iron, and aluminum It is preferable to add an additive such as a metal powder.

【0054】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。
Of these, carbon black is preferred from the viewpoints of light-to-heat conversion, economy and handling.

【0055】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。
In addition to the above substances, dyes absorbing infrared or near-infrared rays are also preferably used as photothermal conversion substances.

【0056】これら染料としては400nm〜1200
nmの範囲に極大吸収波長を有する全ての染料が使用で
きるが、好ましい染料としては、エレクトロニクス用、
記録用色素であるシアニン系、フタロシアニン系、フタ
ロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン系、ナフタロ
シアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体系、ナフトキ
ノン系、アントラキノン系、インドフェノール系、イン
ドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スク
ワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、トリフェニルメタンフタリド
系、トリアリルメタン系、フェノチアジン系、フェノキ
サジン系、フルオラン系、チオフルオラン系、キサンテ
ン系、インドリルフタリド系、スピロピラン系、アザフ
タリド系、クロメノピラゾール系、ロイコオーラミン
系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサ
ンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン系、モノアゾ
系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、メチン系、オキサジ
ン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン
系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビスアゾフルオレノ
ン系、ビスアゾヒドロキシペリノン系、アゾクロム錯塩
系、トリスアゾトリフェニルアミン系、チオインジゴ
系、ペリレン系、ニトロソ系、1:2型金属錯塩系、分
子間型CT系、キノリン系、キノフタロン系、フルキド
系の酸性染料、塩基性染料、色素、油溶性染料や、トリ
フェニルメタン系ロイコ色素、カチオン染料、アゾ系分
散染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、3,9−ジ
ブロモアントアントロン、インダンスロン、フェノール
フタレイン、スルホフタレイン、エチルバイオレット、
メチルオレンジ、フルオレッセイン、メチルビオロゲ
ン、メチレンブルー、ジムロスベタインなどが挙げられ
る。
As these dyes, 400 nm to 1200
Any dye having a maximum absorption wavelength in the range of nm can be used. Preferred dyes include those for electronics,
Recording dyes cyanine, phthalocyanine, phthalocyanine metal complex, naphthalocyanine, naphthalocyanine metal complex, dithiol metal complex, naphthoquinone, anthraquinone, indophenol, indoaniline, pyrylium, thiopyrylium , Squarylium, croconium, diphenylmethane,
Triphenylmethane, triphenylmethanephthalide, triallylmethane, phenothiazine, phenoxazine, fluoran, thiofluorane, xanthene, indolylphthalide, spiropyran, azaphthalide, chromenopyrazole, Leuco auramine, rhodamine lactam, quinazoline, diazaxanthene, bislactone, fluorenone, monoazo, ketone imine, diazo, methine, oxazine, nigrosine, bisazo, bisazostilbene, bis Azooxadiazole, bisazofluorenone, bisazohydroxyperinone, azochrome complex, trisazotriphenylamine, thioindigo, perylene, nitroso, 1: 2 type metal complex, intermolecular CT System, quinoline Quinophthalone-based, fluid-based acid dyes, basic dyes, pigments, oil-soluble dyes, triphenylmethane-based leuco dyes, cationic dyes, azo-based disperse dyes, benzothiopyran-based spiropyrans, 3,9-dibromoanthanthrone, indanth Ron, phenolphthalein, sulfophthalein, ethyl violet,
Methyl orange, fluorescein, methyl viologen, methylene blue, dimrosbetaine and the like can be mentioned.

【0057】これらのなかでも、エレクトロニクス用や
記録用の色素で、最大吸収波長が700nm〜900n
mの範囲にある、シアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アゾ
系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、ナフトキノン
系色素、アントラキノン系色素、ペリレン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属錯体系色素、
ジチオールニッケル錯体系色素、インドアニリン金属錯
体色素、分子間型CT色素、ベンゾチオピラン系スピロ
ピラン、ニグロシン染料などの黒色染料が好ましく使用
される。
Of these, dyes for electronics and recording, having a maximum absorption wavelength of 700 nm to 900 n
m, cyanine-based dye, azurenium-based dye, squarylium-based dye, croconium-based dye, azo-based disperse dye, bisazostilbene-based dye, naphthoquinone-based dye, anthraquinone-based dye, perylene-based dye, phthalocyanine-based dye, na Phthalocyanine metal complex dyes,
Black dyes such as dithiol nickel complex dyes, indoaniline metal complex dyes, intermolecular CT dyes, benzothiopyran spiropyrans, and nigrosine dyes are preferably used.

【0058】さらにこれらの染料のなかでも、モル吸光
度係数の大きなものが好ましく使用される。具体的には
ε=1×104以上が好ましく、より好ましくは1×1
5以上である。εが1×104より小さいと、感度の向
上効果が発現しにくいためである。
Further, among these dyes, those having a large molar absorbance coefficient are preferably used. Specifically, ε = 1 × 10 4 or more is preferable, and more preferably 1 × 1 4
Is 0 5 or more. This is because if ε is smaller than 1 × 10 4 , the effect of improving sensitivity is unlikely to be exhibited.

【0059】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、2種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。
These light-to-heat converting substances alone have an effect of improving sensitivity, but the sensitivity can be further improved by using two or more kinds in combination.

【0060】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して2〜70重量%が好もしく、より好ま
しくは5〜60重量%である。2重量%よりも少ない場
合には感度の向上効果が見られず、70重量%よりも多
い場合には印刷版の耐刷性が低下しやすい。
The content of these light-to-heat converting substances is preferably from 2 to 70% by weight, more preferably from 5 to 60% by weight, based on the whole heat-sensitive layer composition. When the amount is less than 2% by weight, the effect of improving sensitivity is not seen, and when the amount is more than 70% by weight, the printing durability of the printing plate tends to decrease.

【0061】また感熱層には、耐刷性および保存安定性
を向上させる目的で、バインダーポリマーを含有させる
ことが好ましく、バインダーのガラス転移温度Tgが0
℃以下のものが効果的である。
The heat-sensitive layer preferably contains a binder polymer for the purpose of improving printing durability and storage stability, and has a glass transition temperature T g of 0 for the binder.
Those below ° C are effective.

【0062】Tgが0℃以下のバインダーとして、ポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、クロロプレンなどのポリ
ジエン類、ポリメチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ンなどのポリアルケン類、ポリアクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸プロピル、ポリアクリル酸ブチル、ポリアク
リル酸sec−ブチルなどのポリアクリル酸エステル、
ポリメタクリル酸ヘキシル、ポリメタクリル酸オクチ
ル、ポリメタクリル酸デシルなどポリメタクリル酸エス
テル類、ポリ−N−オクチルアクリルアミド、ポリ−N
−ドデシルアクリルアミドなどのポリアクリルアミド
類、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエー
テル、ポリビニルプロピルエーテル、ポリビニルチオエ
ーテルなどのポリビニルエーテル類、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニリデンなどのポリビニルハライド
類、ポリ−4−ヘキシルスチレン、ポリ−4−オクチル
スチレン、ポリ−4−デシルスチレン、ポリ−4−テト
ラデシルスチレンなどのポリスチレン類、ポリメチレン
オキシド、ポリエチレンオキシド、ポリトリメチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシド、ポリアセトアルデヒ
ドなどのポリオキシド類、ポリデカメチレンテレフタレ
ート、ポリヘキサメチレンイソフタレート、ポリアジポ
イルオキシデカメチレン、ポリオキシ−2−ブチニレン
オキシセバコイル、ポリジオキシエチレンオキシマロニ
ルなどのポリエステル類、ポリオキシ−2−ブテニレン
オキシカルボニルイミノヘキサメチレンイミノカルボニ
ル、ポリオキシテトラメチレンオキシカルボニルイミノ
ヘキサメチレンイミノカルボニル、ポリオキシ−2,
2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキサメ
チレンオキシカルボニルイミノヘキサメチレンイミノカ
ルボニルなどのポリウレタン類、セルロース、セルロー
ストリヘキサノエートなどが挙げられる。さらに、エチ
レン、ブタジエン、アクリル酸、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、アクリルアミド、ビニルアルコ
ール、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルハライ
ド、エチレンオキシド、アセタールから選ばれる2種以
上のモノマーの共重合体なども挙げられるが、本発明は
これらに限定されない。
As binders having a T g of 0 ° C. or less, polydienes such as polybutadiene, polyisoprene and chloroprene, polyalkenes such as polymethylene, polyethylene and polypropylene, ethyl polyacrylate, polypropyl acrylate, polybutyl acrylate and polybutylene Polyacrylates such as sec-butyl acrylate,
Polymethacrylates such as polyhexyl methacrylate, polyoctyl methacrylate, polydecyl methacrylate, poly-N-octyl acrylamide, poly-N
-Polyacrylamides such as dodecylacrylamide, polyvinyl ethers such as polyvinyl methyl ether, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl propyl ether, polyvinyl thioether, polyvinyl halides such as polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, poly-4-hexyl styrene, poly Polystyrenes such as -4-octylstyrene, poly-4-decylstyrene and poly-4-tetradecylstyrene; polyoxides such as polymethylene oxide, polyethylene oxide, polytrimethylene oxide, polypropylene oxide and polyacetaldehyde; polydecamethylene Terephthalate, polyhexamethylene isophthalate, polyadipoyloxydecamethylene, polyoxy-2-butynyleneoxysebacoyl, Polyesters such as di oxyethyleneoxy malonyl, polyoxy-2-butenyl, alkylenedioxy carbonylimino hexamethyleneimino carbonyl, polyoxytetramethylene oxycarbonyl imino hexamethyleneimino carbonyl, polyoxy -2,
Examples thereof include polyurethanes such as 2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexamethyleneoxycarbonyliminohexamethyleneiminocarbonyl, cellulose, and cellulose trihexanoate. In addition, ethylene, butadiene, acrylic acid, acrylate,
A methacrylic acid ester, acrylamide, vinyl alcohol, vinyl ether, vinyl ester, vinyl halide, ethylene oxide, and a copolymer of two or more monomers selected from acetal are also included, but the present invention is not limited thereto.

【0063】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して10〜60重量%が好ましく、より好ま
しくは20〜50重量%である。含有量が10%よりも
少ないと耐刷性が低下しやすく、60重量%よりも多い
と感度が低下しやすい。
The content of these binders is preferably from 10 to 60% by weight, more preferably from 20 to 50% by weight, based on the total heat-sensitive layer composition. If the content is less than 10%, the printing durability tends to decrease, and if it exceeds 60% by weight, the sensitivity tends to decrease.

【0064】さらに前記感熱層には、防腐剤、ハレーシ
ョン防止染料、消泡剤、帯電防止剤、分散剤、乳化剤、
界面活性剤などの添加剤を適宜含有させても良い。
Further, in the heat-sensitive layer, a preservative, an antihalation dye, an antifoaming agent, an antistatic agent, a dispersant, an emulsifier,
An additive such as a surfactant may be appropriately contained.

【0065】特に塗工性を向上させるために、フッ素系
界面活性剤を添加することは好ましい。これらの添加剤
の含有量は、通常全感熱層組成物に対して10重量%以
下である。
In particular, it is preferable to add a fluorine-based surfactant in order to improve coatability. The content of these additives is usually 10% by weight or less based on the total heat-sensitive layer composition.

【0066】また、シリコーンゴム層に付加型シリコー
ンゴムを使用する場合には感熱層とシリコーンゴム層の
接着性を向上させる目的でエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物を添加することができる。エチレン性不飽
和二重結合を有する化合物としては、下記の化合物が挙
げられ、中でもエポキシアクリレート類が特に好まし
い。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用量
は、全感熱破壊層組成物に対して0.5〜30重量%が
好ましい。
When an addition type silicone rubber is used for the silicone rubber layer, a compound having an ethylenically unsaturated double bond can be added for the purpose of improving the adhesion between the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer. Examples of the compound having an ethylenically unsaturated double bond include the following compounds, and among them, epoxy acrylates are particularly preferable. The amount of the compound having an ethylenically unsaturated double bond to be used is preferably 0.5 to 30% by weight based on the total composition of the heat-sensitive rupture layer.

【0067】(1)多官能水酸基含有化合物とアクリル
酸、メタクリル酸のエステル化物。
(1) An esterified product of a polyfunctional hydroxyl group-containing compound and acrylic acid or methacrylic acid.

【0068】多官能水酸基含有化合物としては、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジ
オール、1,9−ノナンジオール、ヒドロキノン、ジヒ
ドロキシアントラキノン、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールS、レゾール樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、
ヒドロキシスチレンの共重合体、グリセリン、ペンタエ
リスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロー
ルプロパン、ポリビニルアルコール、セルロース、およ
びその誘導体、ヒドロキシアクリレート、ヒドロキシメ
タクリレートの重合体および共重合体が挙げられる。こ
れらの多官能水酸基含有化合物とアクリル酸、メタクリ
ル酸は公知の方法によりエステル化反応させることによ
り目的とする化合物を得ることができる。この際、水酸
基含有化合物1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基
を含有する比率で反応させることが必要である。
Examples of the polyfunctional hydroxyl group-containing compound include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, hydroquinone, dihydroxyanthraquinone, bisphenol A, bisphenol S, resole resin, pyrogallol acetone resin,
Examples include hydroxystyrene copolymer, glycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolpropane, polyvinyl alcohol, cellulose, and derivatives thereof, and polymers and copolymers of hydroxyacrylate and hydroxymethacrylate. The target compound can be obtained by subjecting these polyfunctional hydroxyl group-containing compounds to an acrylic acid or methacrylic acid esterification reaction by a known method. At this time, it is necessary to carry out the reaction at a ratio containing two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule of the hydroxyl group-containing compound.

【0069】(2)エポキシ化合物とアクリル酸、メタ
クリル酸あるいはグリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレートを反応させたエポキシアクリレート類。
(2) Epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy compound with acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl acrylate, or glycidyl methacrylate.

【0070】エポキシ化合物の具体例としては(1)項
で記載した水酸基含有化合物にエピハロヒドリンを反応
させることにより得られる化合物が挙げられる。
Specific examples of the epoxy compound include compounds obtained by reacting the hydroxyl-containing compound described in the section (1) with epihalohydrin.

【0071】また、上記の水酸基含有化合物の水酸基の
それぞれにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド
を付加したものも同様に使用することができる。
In addition, those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to each of the hydroxyl groups of the above-mentioned hydroxyl group-containing compound can also be used.

【0072】これらのエポキシ化合物とアクリル酸、メ
タクリル酸あるいはグリシジルアクリレート、グリシジ
ルメタクリルレートを公知の方法で反応させることによ
り目的とするエポキシアクリレート類を得ることができ
る。
The desired epoxy acrylates can be obtained by reacting these epoxy compounds with acrylic acid, methacrylic acid or glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate in a known manner.

【0073】(3)アミン化合物とグリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレートあるいはアクリル酸ク
ロライド、メタクリル酸クロライドを反応させたもの。
(3) A compound obtained by reacting an amine compound with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or acrylic acid chloride or methacrylic acid chloride.

【0074】アミン化合物としては、オクチルアミン、
ラウリルアミン等の1価のアミン化合物、ジオキシエチ
レンジアミン、トリオキシエチレンジアミン、テトラオ
キシエチレンジアミン、ペンタオキシエチレンジアミ
ン、ヘキサオキシエチレンジアミン、ヘプタオキシエチ
レンジアミン、オクタオキシエチレンジアミン、ノナオ
キシエチレンジアミン、モノオキシプロピレンジアミ
ン、ジオキシプロピレンジアミン、トリオキシプロピレ
ンジアミン、テトラオキシプロピレンジアミン、ペンタ
オキシプロピレンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジ
アミン、ヘプタオキシプロピレンジアミン、オキタオキ
シプロピレンジアミン、ノナオキシプロピレンジアミ
ン、ポリメチレンジアミン、ポリエーテルジアミン、ジ
エチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラ
エチルペンタミン、等の脂肪族ポリアミン化合物や、m
−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−
フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、ベ
ンジジン、4,4’−ビス(o−トルイジン)、4,
4’−チオジアニリン、o−フェニレンジアミン、ジア
ニシジン、4−クロロ−o−フェニレンジアミン、4−
メトキシ−6−メチル−m−フェニレンジアミン等のポ
リアミン化合物が挙げられる。これらのアミン化合物と
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートあ
るいはアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド
を公知の方法により反応さることにより目的とする化合
物を得ることができる。
As the amine compound, octylamine,
Monovalent amine compounds such as laurylamine, dioxyethylenediamine, trioxyethylenediamine, tetraoxyethylenediamine, pentaoxyethylenediamine, hexaoxyethylenediamine, heptaoxyethylenediamine, octaoxyethylenediamine, nonaoxyethylenediamine, monooxypropylenediamine, dioxypropylene Diamine, trioxypropylenediamine, tetraoxypropylenediamine, pentaoxypropylenediamine, hexaoxypropylenediamine, heptaoxypropylenediamine, okitaoxypropylenediamine, nonaoxypropylenediamine, polymethylenediamine, polyetherdiamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine , Tetraethylpentamine, etc. Aliphatic polyamine compound and, m
-Xylylenediamine, p-xylylenediamine, m-
Phenylenediamine, diaminodiphenyl ether, benzidine, 4,4′-bis (o-toluidine), 4,
4'-thiodianiline, o-phenylenediamine, dianisidine, 4-chloro-o-phenylenediamine, 4-
And polyamine compounds such as methoxy-6-methyl-m-phenylenediamine. The target compound can be obtained by reacting these amine compounds with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or acrylic acid chloride or methacrylic acid chloride by a known method.

【0075】(4)カルボキシル基を有する化合物とグ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートを反
応させたもの。
(4) A compound obtained by reacting a compound having a carboxyl group with glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.

【0076】カルボキシル基含有化合物としては、マロ
ン酸、コハク酸、リンゴ酸、チオリンゴ酸、ラセミ酸、
クエン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマ
ール酸、イタコン酸、ダイマー酸、トリメリット酸、未
加硫ゴムのカルボキシ変性物等が挙げられる。
Examples of the carboxyl group-containing compound include malonic acid, succinic acid, malic acid, thiomalic acid, racemic acid,
Examples thereof include citric acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, speric acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, dimer acid, trimellitic acid, and carboxy-modified unvulcanized rubber.

【0077】これらカルボキシル基を有する化合物は公
知の方法によりグリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレートと反応させて目的とする化合物を得ること
ができる。
The compound having a carboxyl group can be reacted with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate by a known method to obtain a desired compound.

【0078】(5)ウレタンアクリレート類 グリセリンジアクリレートイソホロンジイソシアネート
ウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアク
リレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレ
ポリマー等が挙げられる。
(5) Urethane acrylates Glycerin diacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer and the like can be mentioned.

【0079】上記の1分子中にエチレン性不飽和二重結
合を2個以上有する化合物はそれぞれ単独でも使用でき
るし、2種以上を混合して使用することもできる。
The compounds having two or more ethylenically unsaturated double bonds in one molecule can be used alone or in combination of two or more.

【0080】さらに場合によっては、上層の付加型シリ
コーンゴム層との接着性を向上させるために、シリカ粉
末や、表面を(メタ)アクリロイル基やアリル基含有シ
ランカップリング剤で処理した疎水性シリカ粉末を、全
感熱層組成物に対して20重量%以下の量で添加しても
良い。
Further, in some cases, in order to improve the adhesiveness to the additional silicone rubber layer as the upper layer, hydrophobic silica whose surface is treated with a silane coupling agent containing a (meth) acryloyl group or an allyl group is used. The powder may be added in an amount of 20% by weight or less based on the total heat-sensitive layer composition.

【0081】上記の感熱層を形成するための組成物は、
ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、ジオキサン、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミ
ル、プロピオン酸メチル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、アセトン、メタノール、エタノ
ール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、ジア
セトンアルコール、ベンジルアルコール、酪酸ブチル、
乳酸エチルなどの適当な有機溶剤に溶解させることによ
って組成物溶液として調製される。かかる組成物溶液を
基板上に均一に塗布し必要な温度で必要な時間熱硬化す
ることにより、感熱層が形成される。
The composition for forming the heat-sensitive layer is as follows:
Dimethylformamide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isoamyl acetate, methyl propionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol diethyl ether , Acetone, methanol, ethanol, cyclopentanol, cyclohexanol, diacetone alcohol, benzyl alcohol, butyl butyrate,
It is prepared as a composition solution by dissolving in a suitable organic solvent such as ethyl lactate. Such a composition solution is uniformly applied on a substrate and thermally cured at a required temperature for a required time to form a heat-sensitive layer.

【0082】これら感熱層の膜厚は0.1g/m2から
10g/m2が好ましく、より好ましくは0.2g/m2
から5g/m2である。膜厚が0.1g/m2よりも薄い
場合は耐刷性が低下し易く、また10g/m2よりも厚
い場合には、経済的見地から不利となるため、上記の範
囲が特に好ましい。
The thickness of these heat-sensitive layers is preferably from 0.1 g / m 2 to 10 g / m 2 , more preferably 0.2 g / m 2.
From 5 g / m 2 . When the film thickness is less than 0.1 g / m 2, the printing durability tends to decrease, and when the film thickness is more than 10 g / m 2 , it is disadvantageous from an economic viewpoint.

【0083】この印刷版の基板としては、寸法的に安定
な板状物が用いられる。このような寸法的に安定な板状
物としては、従来印刷版の基板として使用されたものが
含まれ、それらを好適に使用することが出来る。かかる
基板としては、紙、プラスチック(例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)、亜鉛、銅な
どのような金属板、例えばセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、セルロースアセテート、ポリエチレン、
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネイト、ポリビニルア
セテートなどのようなプラスチックフィルム、上記の如
き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラ
スチックフィルムなどが含まれる。これらの基板のう
ち、アルミニウム板は寸法安定性に優れており、しかも
安価であるので特に好ましい。また、軽印刷用の基板と
して用いられている、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムも好ましく使用される。
A dimensionally stable plate is used as the substrate of the printing plate. Such dimensionally stable plate-like objects include those conventionally used as a substrate for a printing plate, and they can be suitably used. Such substrates include paper, plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plates such as zinc, copper, etc., such as cellulose, carboxymethylcellulose, cellulose acetate, polyethylene,
Examples include a plastic film such as polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetate, and the like, and a paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above. Among these substrates, an aluminum plate is particularly preferable because it has excellent dimensional stability and is inexpensive. Further, a polyethylene terephthalate film used as a substrate for light printing is also preferably used.

【0084】本発明で使用する直描型水なし平版印刷版
は、基板と感熱層との接着を強固にするため、プライマ
ー層を用いても良い。本発明で使用する直描型水なし平
版印刷版原版のプライマー層は、次の条件を満たすこと
が必要である。すなわち、基板と感熱層とを良く接着
し、経時において安定であること、さらに現像液の溶剤
に対する耐性がよいことである。このような条件を満た
すものとして、特公昭61−54219号公報に示され
るようなエポキシ樹脂を含むものの他、ポリウレタン樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、メ
ラニン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール樹
脂、ポリアクリロニトリル−ブタジエン共重合体、レゾ
ール樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシフェノール尿素
樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ミルクガゼイン、
ゼラチンなどを使用することができる。これらの樹脂は
単独あるいは二種以上混合して用いることができる。
The direct-drawing waterless planographic printing plate used in the present invention may use a primer layer in order to strengthen the adhesion between the substrate and the heat-sensitive layer. The primer layer of the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor used in the present invention needs to satisfy the following conditions. That is, the substrate and the heat-sensitive layer are well adhered to each other, are stable over time, and have good resistance to the solvent of the developing solution. As those satisfying such conditions, in addition to those containing an epoxy resin as described in JP-B-61-54219, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, acrylic resins, alkyd resins, polyester resins, polyamide resins, melanin Resin, urea resin, benzoguanamine resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral resin, polyacrylonitrile-butadiene copolymer, resole resin, polyether resin, epoxy phenol urea resin, polyether sulfone resin, milk casein,
Gelatin or the like can be used. These resins can be used alone or in combination of two or more.

【0085】また感熱層と類似の組成物を光または熱硬
化したものを使用しても良い。
A composition similar to that of the heat-sensitive layer may be cured by light or heat.

【0086】これらのなかでは、ポリウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹
脂、エポキシフェノール尿素樹脂、レゾール樹脂などを
単独で、あるいは二種以上混合して用いることが好まし
い。
Among these, it is preferable to use a polyurethane resin, a polyester resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urea resin, an epoxyphenol urea resin, a resole resin, or the like alone or as a mixture of two or more.

【0087】これらのポリマーの含有量は全プライマー
層の組成物に対して、20〜98重量%が好ましく、よ
り好ましくは40〜95重量%である。
The content of these polymers is preferably from 20 to 98% by weight, more preferably from 40 to 95% by weight, based on the total primer layer composition.

【0088】また、プライマー層中には溶剤耐性を付与
するために架橋剤を含有させることが好ましい。
It is preferable that a crosslinking agent is contained in the primer layer in order to impart solvent resistance.

【0089】架橋剤としては、上記の樹脂、例えばエポ
キシ樹脂とアミノ樹脂(尿素樹脂、メラミン樹脂、ベン
ゾグアナミン樹脂など)の組み合わせでも可能である
が、それ以上にイソシアネート化合物と水酸基含有化合
物に組み合わせも可能である。
As the crosslinking agent, a combination of the above resins, for example, an epoxy resin and an amino resin (a urea resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, etc.) can be used, but a combination of an isocyanate compound and a hydroxyl group-containing compound can be used. It is.

【0090】そのようなイソシアネート化合物として
は、例えばパラフェニレンジイソシアネート、2,4−
または、2,6−トルイレンジイソシアネート(TD
I)、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート(M
DI)、トリレンジイソシアネート(TODI)、キシ
リレンジイソシアネート(XDI)、水素化キシリレン
ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、
メタキシリレンジイソシアネート(MXDI)、リジン
ジイソシアネート(LDI)(別名2,6−ジイソシア
ネートメチルカプロレート)、水素化MDI(別名4,
4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(別名メチルシクロヘキサン2,
4(2,6)−ジイソシアネート)、水素化XDI(別
名1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサ
ン)、イソホロンジイソシアネート(IPI)、ジフェ
ニルエーテルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート(TMDI)、テトラメチルキシ
リレンジイソシアネート、ポリメチレンフェニルイソシ
アネート、ダイマー酸ジイソシアネート(DDI)、ト
リフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシ
アネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチル
キシリレンジイソシアネート、リジンエステルトリイソ
シアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネ
ート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネート
メチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソ
シアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネートなど
や、ポリイソシアネート類の高アルコールアダクト体、
あるいはポリイソシアネート類の重合体が挙げられる。
As such isocyanate compounds, for example, paraphenylene diisocyanate, 2,4-
Or 2,6-toluylene diisocyanate (TD
I), 4,4-diphenylmethane diisocyanate (M
DI), tolylene diisocyanate (TODI), xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate,
Meta-xylylene diisocyanate (MXDI), lysine diisocyanate (LDI) (also known as 2,6-diisocyanatomethylcaprolate), hydrogenated MDI (also known as 4,
4'-methylenebis (cyclohexylisocyanate)), hydrogenated TDI (also known as methylcyclohexane 2,
4 (2,6) -diisocyanate), hydrogenated XDI (also known as 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane), isophorone diisocyanate (IPI), diphenyl ether diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), tetramethyl xylylene diisocyanate, polymethyl Methylenephenyl isocyanate, dimer acid diisocyanate (DDI), triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, tetramethylxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8- Diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicyclo And the like heptane triisocyanate, high alcohol adduct polyisocyanates,
Alternatively, a polymer of a polyisocyanate is used.

【0091】また上記のイソシアネート化合物をメチル
エチルケトオキシム、フェノール、ε−カプロラクタム
などでブロックしたブロックドイソシアネートも同様に
使用できる。
Blocked isocyanates obtained by blocking the above isocyanate compounds with methyl ethyl ketoxime, phenol, ε-caprolactam and the like can also be used.

【0092】これらのイソシアネート化合物と反応でき
る、水酸基を有する化合物としては例えばエポキシ樹
脂、フェノール樹脂、レゾール樹脂、水酸基含有ポリウ
レタン、アクリル樹脂、水酸基含有モノマーまたはオリ
ゴマーが挙げられる。
Examples of the compound having a hydroxyl group that can react with these isocyanate compounds include an epoxy resin, a phenol resin, a resole resin, a hydroxyl group-containing polyurethane, an acrylic resin, and a hydroxyl group-containing monomer or oligomer.

【0093】これらの架橋剤の含有量は全プライマー層
組成物に対して20〜70重量%が好ましく、より好ま
しくは30〜60重量%である。
The content of these crosslinking agents is preferably from 20 to 70% by weight, more preferably from 30 to 60% by weight, based on the total primer layer composition.

【0094】さらにこれらの反応を促進する触媒として
酸や有機スズ化合物などを添加したり、塗工性を改良す
る目的で、界面活性剤を添加することも任意である。
Further, it is optional to add an acid or an organotin compound as a catalyst for accelerating these reactions, or to add a surfactant for the purpose of improving coatability.

【0095】また印刷版の露光部は感熱層が一部剥離し
てプライマー層の色相が露出することがあるため、この
プライマー層中に染料、顔料などの添加剤を含有させて
検版性を向上させることが好ましい。この場合の染料、
顔料は感熱層と異なる色相であれば、どのようなもので
も使用できるが、緑色、青色、紫色系の染料および顔料
が好ましい。
Further, in the exposed area of the printing plate, the heat sensitive layer may be partially peeled off to expose the hue of the primer layer. Preferably, it is improved. Dye in this case,
Any pigment can be used as long as it has a different hue from that of the heat-sensitive layer, but green, blue and purple dyes and pigments are preferred.

【0096】上記のプライマー層を形成するための組成
物は、ジメチルホルムアミド、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、ジオキサンなどの適当な有機溶
剤に溶解させることによって組成物溶液として調達され
る。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必要な温
度で必要な時間加熱することにより、プライマー層は形
成される。
The composition for forming the above-mentioned primer layer is obtained as a composition solution by dissolving in a suitable organic solvent such as dimethylformamide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane and the like. The primer layer is formed by uniformly applying such a composition solution on a substrate and heating it at a required temperature for a required time.

【0097】プライマー層の厚さは被膜層にして0.5
〜50g/m2が好ましく、より好ましくは1〜10g
/m2である。厚さが0.5g/m2よりもうすいと基板
表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果があり、
50g/m2よりも厚いと経済的見地から不利となるの
で上記の範囲が好ましい。
The thickness of the primer layer is 0.5
5050 g / m 2 , preferably 1-10 g
/ M 2 . When the thickness is less than 0.5 g / m 2 , there is an effect of blocking morphological defects and chemical adverse effects on the substrate surface,
If the thickness is more than 50 g / m 2, it is disadvantageous from an economic viewpoint, so the above range is preferable.

【0098】最上層のシリコーンゴム層としては、従来
の水なし平版のシリコーン組成物が全て使用できる。
As the uppermost silicone rubber layer, any conventional waterless planographic silicone composition can be used.

【0099】このようなシリコーンゴム層は線状オルガ
ノポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサ
ン)をまばらに架橋することにより得られるものであ
り、代表的なシリコーンゴム層は、次式(VIII)に
示されるような繰り返し単位を有するものである。
Such a silicone rubber layer is obtained by sparsely cross-linking a linear organopolysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane). A typical silicone rubber layer is represented by the following formula (VIII). It has a repeating unit as shown below.

【0100】[0100]

【化15】 (ここでnは2以上の整数である。Rは炭素数1〜10
のアルキル、アリール、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のRの40%以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Rの60%以
上がメチル基であるものが好ましい。また鎖末端もしく
は側鎖の形で分子鎖中に少なくとも一つ以上の水酸基を
有する。) 本発明の印刷版に適用するシリコーンゴム層の場合には
次に示すような縮合型の架橋を行うシリコーンゴム(R
TV、LTVシリコーンゴム)を用いることができる。
このようなシリコーンゴムとしてはオルガノポリシロキ
サン鎖のRの一部がHに置換されたものが使用できる
が、通常(IX)と(X)、(XI)で表される末端基
どうしの縮合によって架橋される。これにさらに過剰の
架橋剤を存在させる場合もある。
Embedded image (Here, n is an integer of 2 or more. R has 1 to 10 carbon atoms.)
Alkyl, aryl, or cyanoalkyl group. Preferably, 40% or less of the whole R is vinyl, phenyl, vinyl halide, or halogenated phenyl, and 60% or more of R is a methyl group. It has at least one or more hydroxyl groups in the molecular chain in the form of a chain terminal or side chain. In the case of the silicone rubber layer applied to the printing plate of the present invention, a silicone rubber (R
TV, LTV silicone rubber).
As such a silicone rubber, those in which a part of R of the organopolysiloxane chain is substituted by H can be used, and usually, by condensation of terminal groups represented by (IX) and (X) and (XI), Crosslinked. In some cases, an excess of a crosslinking agent may be present.

【0101】[0101]

【化16】 Embedded image

【化17】 Embedded image

【化18】 (ここでRは式(VIII)で説明したRと同様であ
り、R1、R2は1価の低級アルキル基であり、Acはア
セチル基である。) このような縮合型の架橋を行うシリコーンゴムには、ス
ズ、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボ
ン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、スズ(II)
オクトエート、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸
のような触媒が添加される。
Embedded image (Here, R is the same as R described in the formula (VIII), R 1 and R 2 are monovalent lower alkyl groups, and Ac is an acetyl group.) Such condensation type crosslinking is performed. Silicone rubber includes metal carboxylate such as tin, zinc, lead, calcium, manganese, for example, dibutyltin laurate, tin (II)
A catalyst such as octoate, naphthenate, or chloroplatinic acid is added.

【0102】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着性付与剤を添加するこ
とや、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含
有オルガノポリシロキサン、加水分解性官能基含有シラ
ン(もしくはシロキサン)を添加することも任意であ
り、またゴム強度を向上させる目的で、シリカなどの公
知充填剤を添加することも任意である。
In addition to these compositions, known adhesion-imparting agents such as alkenyl trialkoxysilanes may be added, and the composition of the condensation-type silicone rubber layer may be a hydroxyl-containing organopolysiloxane, a hydrolyzable functional group. The addition of a silane (or siloxane) is optional, and a known filler such as silica is optionally added for the purpose of improving rubber strength.

【0103】さらに、本発明においては、上述の縮合型
シリコーンゴムの他に、付加型のシリコーンゴムを用い
ることも可能である。
Further, in the present invention, in addition to the above-mentioned condensation type silicone rubber, an addition type silicone rubber can be used.

【0104】付加型のシリコーンゴムとしては、下記に
示すようにSi−H結合を有するハイドロジェンポリシ
ロキサンとCH=CH結合を有するビニルポリシロキサ
ンを白金系の触媒で架橋硬化させたものが好ましく用い
られる。
As the addition type silicone rubber, those obtained by crosslinking and curing a hydrogen polysiloxane having an Si—H bond and a vinyl polysiloxane having a CH = CH bond with a platinum-based catalyst as shown below are preferably used. Can be

【0105】 (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(好ましくはビニル 基)を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくともSiH基を2個有するオルガノハイドロジェンポ リシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 成分(1)のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれ
にあっても良く、アルケニル基以外の有機基としては置
換もしくは非置換のアルキル基、アリール基である。成
分(1)は水酸基を微量有していてもよい。成分(2)
は成分(1)と反応してシリコーンゴム層を形成する
が、感熱層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分
(2)の水素基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よく、水素以外の有機基としては成分(1)と同様のも
のから選ばれる。成分(1)と成分(2)の有機基はイ
ンキ反発性の向上の点で総じて基数の60%以上がメチ
ル基であることが好ましい。成分(1)および(2)の
分子構造は直鎖状、環状、分枝状のいずれでもよく、ど
ちらか少なくとも一方の分子量が1000を超えること
がゴム物性の面で好ましく、さらに成分(2)の分子量
が1000を超えることが好ましい。成分(1)として
は、α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、両末端
メチル基の(メチルビニルシロキサン)(ジメチルシロ
キサン)共重合体などが例示され、成分(2)として
は、両末端水素基のポリジメチルシロキサン、α,ω−
ジメチルポリメチルハイドロジェンシロキサン、両末端
メチル基の(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメ
チルシロキサン)共重合体、環状ポリメチルハイドロジ
ェンシロキサンなどが例示される。成分(3)の付加触
媒は、公知のもののなかから任意に選ばれるが、特に白
金系の化合物が好ましく、白金単体、塩化白金、塩化白
金酸、オレフィン配位白金などが例示される。これらの
組成物の硬化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メ
チルビニル)シロキサンなどのビニル基含有のオルガノ
ポリシロキサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど
の架橋抑制剤を添加することも可能である。これらの組
成物は、3成分を混合した時点において付加反応が起
き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高くなるに
従い急激に大きくなる特徴を有する。故に組成物のゴム
化までのポットライフを長くし、かつ感熱層上での硬化
時間を短くする目的で、組成物の硬化条件は、基板、感
熱層の特性が変わらない範囲の温度条件で、かつ完全に
硬化するまで高温に保持しておくことが、感熱層との接
着力の安定性の面で好ましい。
(1) 100 parts by weight of an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule. (2) An organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule. Hydrogenpolysiloxane 0.1 to 1000 parts by weight (3) Addition catalyst 0.00001 to 10 parts by weight The alkenyl group of the component (1) may be located at the terminal of the molecular chain or in the middle, and may be an organic compound other than the alkenyl group. The group is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Component (1) may have a trace amount of hydroxyl groups. Ingredient (2)
Reacts with the component (1) to form a silicone rubber layer, which plays a role in providing adhesion to the heat-sensitive layer. The hydrogen group of the component (2) may be at the terminal of the molecular chain or at the middle, and the organic group other than hydrogen is selected from those similar to the component (1). It is preferable that 60% or more of the organic groups of the component (1) and the component (2) are methyl groups as a whole in view of improvement of ink repellency. The molecular structure of the components (1) and (2) may be any of linear, cyclic and branched, and it is preferable that at least one of the molecular weights exceeds 1,000 from the viewpoint of rubber physical properties. Preferably has a molecular weight of more than 1,000. Examples of the component (1) include α, ω-divinylpolydimethylsiloxane, a (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having a methyl group at both terminals, and the like. As the component (2), a hydrogen group having a hydrogen group at both terminals. Polydimethylsiloxane, α, ω-
Examples thereof include dimethyl polymethyl hydrogen siloxane, (methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymer having both terminal methyl groups, and cyclic polymethyl hydrogen siloxane. The addition catalyst of the component (3) is arbitrarily selected from known catalysts, and is particularly preferably a platinum-based compound, and examples thereof include simple platinum, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. In order to control the curing rate of these compositions, organopolysiloxanes containing vinyl groups such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, alcohols containing carbon-carbon triple bonds, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as. These compositions have the characteristic that an addition reaction occurs when the three components are mixed and curing starts, but the curing rate rapidly increases as the reaction temperature increases. Therefore, for the purpose of extending the pot life until rubberization of the composition, and shortening the curing time on the heat-sensitive layer, the curing conditions of the composition, the substrate, a temperature condition in a range that does not change the properties of the heat-sensitive layer, In addition, it is preferable to keep the temperature at a high temperature until it is completely cured, from the viewpoint of the stability of the adhesive force with the thermosensitive layer.

【0106】これらの組成物の他に、感熱層との接着性
を向上させる目的で前述の公知のシランカップリング剤
を添加することも有効である。
In addition to these compositions, it is also effective to add the above-mentioned known silane coupling agents for the purpose of improving the adhesion to the heat-sensitive layer.

【0107】これ以外にも、縮合型シリコーンゴム層の
組成物である水酸基含有オルガノポリシロキサン、加水
分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)を添加
することも任意であり、またゴム強度を向上させる目的
で、シリカなどの公知の充填剤を添加させることも任意
である。
In addition to the above, it is optional to add a hydroxyl group-containing organopolysiloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane) as a composition of the condensation type silicone rubber layer, and to improve the rubber strength. It is optional to add a known filler such as silica for the purpose.

【0108】これら、シリコーンゴム層の膜厚は0.5
〜50g/m2が好ましく、さらに好ましくは0.5〜
10g/m2である。膜厚が0.5g/m2よりも小さい
場合には、印刷版のインキ反撥性が低下しやすく、50
g/m2よりも大きい場合には、経済的見地から不利で
ある。
The thickness of these silicone rubber layers is 0.5
To 50 g / m 2 , more preferably 0.5 to 50 g / m 2.
10 g / m 2 . When the film thickness is less than 0.5 g / m 2 , the ink repellency of the printing plate tends to decrease, and
If it is larger than g / m 2 , it is disadvantageous from an economic point of view.

【0109】以上説明されたように構成された水なし平
版印刷版原版の表面のシリコーンゴム層を保護するなど
の目的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹
凸処理した薄い保護フィルムをラミネートしたり、特開
平5−323588号公報に記載の現像溶媒に溶解する
ような、ポリマー塗膜を形成することも可能である。
For the purpose of, for example, protecting the silicone rubber layer on the surface of the waterless planographic printing plate precursor configured as described above, a plain or irregularly-treated thin protective film is laminated on the surface of the silicone rubber layer. It is also possible to form a polymer coating film which can be dissolved in a developing solvent described in JP-A-5-323588.

【0110】特に、保護フィルムをラミネートした場合
には、保護フィルム上からレーザー露光を行い、その後
保護フィルムを剥離することによって印刷版上にパター
ンを形成する、いわゆる剥離現像を行うことによって印
刷版を形成することも可能である。
In particular, when a protective film is laminated, laser exposure is performed from above the protective film, and then the protective film is peeled off to form a pattern on the printing plate. It is also possible to form.

【0111】本発明における水なし平版印刷版の製造方
法について説明する。基板上にリバースロールコータ
ー、エアーナイフコーター、メーヤバーコーターなどの
通常コーターあるいはホエラーのような回転塗布装置を
用い、必要に応じてプライマー層組成物を100〜30
0℃で数分間熱硬化した後、感熱層組成物塗液を塗布、
50〜180℃で数分間熱硬化、または光硬化し、シリ
コーンゴム層組成物塗液を塗布、50〜200℃の温度
で数分間処理してゴム硬化させて形成する。その後、必
要に応じて保護フィルムをラミネートするか、あるいは
保護層を形成する。
A method for producing a waterless planographic printing plate according to the present invention will be described. Using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a spin coater such as a wheyer, apply the primer layer composition to the substrate as needed.
After thermosetting at 0 ° C. for several minutes, a heat-sensitive layer composition coating liquid is applied,
The composition is heat-cured or light-cured at 50 to 180 ° C. for several minutes, coated with a silicone rubber layer composition coating solution, and treated at a temperature of 50 to 200 ° C. for several minutes to cure the rubber. Thereafter, a protective film is laminated or a protective layer is formed as necessary.

【0112】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、または保
護フィルム上からレーザー光で画像上に露光する。
The thus-obtained direct drawing type waterless planographic printing plate precursor is exposed on the image with a laser beam after the protective film is peeled off or from above the protective film.

【0113】露光には通常レーザー光が使用されるが、
この時の光源としては発信波長が300nm〜1500
nmの範囲にあるArイオンレーザー、Krイオンレー
ザー、He−Neレーザー、He−Cdレーザー、ルビ
ーレーザー、ガラスレーザー、半導体レーザー、YAG
レーザー、チタンサファイアレーザー、色素レーザー、
窒素レーザー、金属蒸気レーザーなどの種種のレーザー
が使用できる。なかでも半導体レーザーは、近年の技術
的進歩により、小型化し、経済的にも他のレーザー光源
よりも有利であるので好ましい。
For the exposure, a laser beam is usually used.
At this time, the light source has a transmission wavelength of 300 nm to 1500.
Ar ion laser, Kr ion laser, He-Ne laser, He-Cd laser, ruby laser, glass laser, semiconductor laser, YAG in the nm range
Laser, titanium sapphire laser, dye laser,
Various lasers such as a nitrogen laser and a metal vapor laser can be used. Among them, a semiconductor laser is preferable because it is downsized due to recent technological progress and is economically more advantageous than other laser light sources.

【0114】上記の方法で露光された直描型水なし平版
印刷版は、必要に応じて剥離現像、または通常の溶剤現
像処理される。
The direct drawing type waterless lithographic printing plate exposed by the above method is subjected to peeling development or ordinary solvent development if necessary.

【0115】本発明で用いられる現像液としては、例え
ば水や、水に下記の極性溶媒を添加したものや、脂肪族
炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーE、
G、H」(ESSO製イソパラフィン系炭化水素の商品
名)、ガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トル
エン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化水素類(トリク
レンなど)など少なくとも1種類以上の混合溶媒に下記
の極性溶媒を少なくとも1種類添加したものが好ましく
用いられる。
Examples of the developer used in the present invention include water, those obtained by adding the following polar solvents to water, and aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isoper E,
G, H "(brand name of isoparaffin hydrocarbons manufactured by ESSO), gasoline, kerosene, etc.), at least one kind of aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (trichlene, etc.) A solvent obtained by adding at least one of the following polar solvents to a solvent is preferably used.

【0116】アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、2−エチル−1,3
−ヘキサンジオールなど) エーテル類(エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノヘキシルエーテル、ジエチレングリコール−2−エ
チルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノエ
チルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランなど) エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテートなど) カルボン酸(2−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、2−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など) また上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加す
ることも自由に行われる。また、さらにアルカリ剤、例
えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコールアミ
ン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添
加することもできる。
Alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
Tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, hexylene glycol, 2-ethyl-1,3
Ethers (ethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol-2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl Ethers, dioxane, tetrahydrofuran, etc. Esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.) Carboxylic acid (2-ethyl Butyric acid, caproic acid, caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, capric acid, oleic acid,
(Lauric acid, etc.) It is also possible to freely add a known surfactant to the above developer composition. Further, an alkali agent such as sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, diglycolamine, monoglycolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added. .

【0117】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッ
ドなど公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して、現像と同時に画像部の染色化を行うことができ
る。
To these developers, known basic dyes such as crystal violet, Victoria Pure Blue and Astrazone Red, acid dyes and oil-soluble dyes are added, and the image area is dyed simultaneously with the development. Can be.

【0118】現像する際には、これらの現像液を不織
布、脱脂綿、布、スポンジなどに含浸させて版面を拭き
取ることによって、現像することができる。
In the development, the developer can be developed by impregnating a nonwoven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge or the like with such a developer and wiping the plate surface.

【0119】また、現像には 特開昭63−16335
7に記載されているような自動現像記を用い、上記の現
像液で版面を処理した後に水道水などでシャワーしなが
ら回転ブラシで版面を擦ることによって、好適に現像す
ることができる。
For the development, see JP-A-63-16335.
By using the automatic developing method described in No. 7, the plate can be suitably developed by treating the plate with the above developer and then rubbing the plate with a rotary brush while showering with tap water or the like.

【0120】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。
Development is also possible by injecting hot water or steam into the plate instead of the above-mentioned developer.

【0121】[0121]

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0122】実施例1 厚さ0.15mmの脱脂したアルミ板上に下記の組成か
らなるプライマー液をバーコーターを用いて塗布し、2
00℃で2分間乾燥し、膜厚4g/m2 のプライマー層
を塗布した。
Example 1 A primer solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.15 mm using a bar coater.
After drying at 00 ° C. for 2 minutes, a primer layer having a thickness of 4 g / m 2 was applied.

【0123】 (a)ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−T1331、三洋化成工業(株)製 ) 90重量部 (b)ブロックドイシシアネート(タケネートB830、武田薬品(株)製) 35重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂(SJ9372、関西ペイント(株)製 ) 8重量部 (d)ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感熱層組成物をバーコーターを用
いて塗布し、150℃で1分間乾燥し、膜厚1g/m2
の感熱層を設けた。 (a)カーボンブラック分散アクリル樹脂 30重量部 (内カーボンブラック15重量部) (b)ノボラック樹脂(スミライトレジンPR50731、住友デュレス(株) 製) 50重量部 (c)ポリウレタン樹脂(サンプレンT1331、三洋化成工業(株)製)) 50重量部 (d)ジメチルホルムアミド 500重量部 (e)エチルセロソルブ 500重量部 続いてこの上に下記の組成を有するシリコーンゴム層組
成物をバーコーターを用いて塗布し、200℃で2分間
乾燥し、膜厚2g/m2 のシリコーンゴム層を設けた。
(A) Polyurethane resin (Samprene LQ-T1331, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 90 parts by weight (b) Blocked isocyanate (Takenate B830, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 35 parts by weight (c) Epoxy 8 parts by weight of phenol / urea resin (SJ9372, manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) (d) 725 parts by weight of dimethylformamide Subsequently, the following heat-sensitive layer composition was applied thereon using a bar coater, and then applied at 150 ° C. for 1 minute. Dry, film thickness 1 g / m 2
Was provided. (A) 30 parts by weight of carbon black dispersed acrylic resin (15 parts by weight of carbon black) (b) 50 parts by weight of novolak resin (Sumilite Resin PR50731, manufactured by Sumitomo Durres Co., Ltd.) (c) Polyurethane resin (Samprene T1331, Sanyo 50 parts by weight (d) Dimethylformamide 500 parts by weight (e) Ethyl cellosolve 500 parts by weight Subsequently, a silicone rubber layer composition having the following composition was applied thereon using a bar coater. After drying at 200 ° C. for 2 minutes, a silicone rubber layer having a thickness of 2 g / m 2 was provided.

【0124】 (a)ビニル基含有ポリシロキサン(末端水酸基) 90重量部 (b)ハイドロジェンポリシロキサン 8重量部 (c)硬化遅延剤 2重量部 (d)触媒 0.2重量部 (e)DY39−067(接着成分) 0.8重量部 (f)“アイソパーE”(エクソン化学(株)製) 1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ8μmのポリ
エステルフィルム“ルミラー”(東レ(株)製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。
(A) 90 parts by weight of vinyl group-containing polysiloxane (terminal hydroxyl group) (b) 8 parts by weight of hydrogen polysiloxane (c) 2 parts by weight of curing retarder (d) 0.2 part by weight of catalyst (e) DY39 -067 (adhesive component) 0.8 parts by weight (f) "Isopar E" (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 1400 parts by weight On the laminate obtained as described above, an 8 μm-thick polyester film "Lumirror" was added. (Manufactured by Toray Industries, Inc.) was laminated using a calendar roller to obtain a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor.

【0125】この後、この印刷版原版の“ルミラー”を
剥離し、X−Yテーブルに装着した半導体レーザー(O
PC−A001−mmm−FC、出力0.75W、波長
780nm、OPTO POWER CORPORAT
ION製)を用いて、ビーム直径20μm、露光時間1
0μsで、パルス露光を行った。この際、レーザーの出
力を、(a)550mW、(b)500mW、(c)4
50mW、(d)400mW、(e)350mW、
(f)300mWに変化させ、それぞれ2分間ずつ露光
した。
Thereafter, the "Lumirror" of the printing plate precursor was peeled off, and the semiconductor laser (O) mounted on the XY table was removed.
PC-A001-mmm-FC, output 0.75W, wavelength 780nm, OPTO POWER CORPORATE
ION), beam diameter 20 μm, exposure time 1
Pulse exposure was performed at 0 μs. At this time, the output of the laser was set to (a) 550 mW, (b) 500 mW, (c) 4
50 mW, (d) 400 mW, (e) 350 mW,
(F) The exposure was changed to 300 mW for 2 minutes each.

【0126】続いて上記露光済みの版を、水を含浸させ
た木綿パッドで版面を60回擦り、現像を行った。ハン
ドローラーで水なし平版用インキ(Waterless
S、ザ・インテック(株)製、赤)を、現像済みの版
面全面に展開して、インキ着肉性を調べた。
Subsequently, the exposed plate was rubbed 60 times with a cotton pad impregnated with water to develop the plate. Waterless lithographic ink (Waterless)
S, manufactured by The Intec Co., Ltd., red) was spread over the entire surface of the developed plate, and the ink adhesion was examined.

【0127】(a)から(f)の版面を観察し、インキ
の着肉している部分を感熱部分と判断し、版の感度を調
べた。尚、ここで言う版の感度とは、感熱部分のなか
で、レーザーの出力が最低なものを指し、そのエネルギ
ー値で表す。結果を表1に示す。
The plate surfaces of (a) to (f) were observed, the portion where the ink was deposited was judged to be the heat-sensitive portion, and the sensitivity of the plate was examined. The sensitivity of the plate mentioned here refers to the heat-sensitive portion having the lowest laser output and is represented by its energy value. Table 1 shows the results.

【0128】実施例2〜3、比較例1 実施例1において、感熱層中のノボラック樹脂およびポ
リウレタン樹脂の配合量を表1に代えた以外は全て同様
にして版材を作製し、感度評価した。結果を表1に示
す。
Examples 2 to 3 and Comparative Example 1 A plate material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the novolak resin and the polyurethane resin in the heat-sensitive layer were changed to Table 1, and the sensitivity was evaluated. . Table 1 shows the results.

【0129】実施例4 実施例1において、感熱層中のノボラック樹脂をロジン
変性フェノール樹脂(テスポール1355、日立化成ポ
リマー(株)製)に代えた以外は全て同様にして版材を
作製し、感度評価した。結果を表2に示す。
Example 4 A plate material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the novolak resin in the heat-sensitive layer was changed to a rosin-modified phenol resin (Tespol 1355, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.). evaluated. Table 2 shows the results.

【0130】実施例5〜6、比較例2 実施例4において、感熱層中のロジン変性フェノール樹
脂、ポリウレタン樹脂の配合量を表1に代えた以外は全
て同様にして版材を作製し、感度評価した。結果を表2
に示す。
Examples 5 to 6, Comparative Example 2 A plate material was prepared in the same manner as in Example 4 except that the amounts of the rosin-modified phenolic resin and polyurethane resin in the heat-sensitive layer were changed to those in Table 1. evaluated. Table 2 shows the results
Shown in

【0131】比較例3 実施例1において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に版材を作製し、感度評価し
た。結果を表3に示す。
Comparative Example 3 A plate material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat-sensitive layer coating solution was changed to the composition shown below, and the sensitivity was evaluated. Table 3 shows the results.

【0132】 (a)カーボンブラック 15重量部 (b)ニトロセルロース 12重量部 (c)エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェルエポキシ(株)製) 37重量部 (d)メラミン樹脂(ユーバン2061、三井東圧(株)製) 36重量部 (e)ジメチルホルムアミド 100重量部 (f)メチルイソブチルケトン 800重量部 比較例4 実施例1において、感熱層塗液の組成を以下に示すもの
に代えた以外は全て同様に版材を作製し、感度評価し
た。結果を表3に示す。
(A) carbon black 15 parts by weight (b) nitrocellulose 12 parts by weight (c) epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 37 parts by weight (d) melamine resin (Uban 2061, Mitsui (Manufactured by Toatsu Co., Ltd.) 36 parts by weight (e) 100 parts by weight of dimethylformamide (f) 800 parts by weight of methyl isobutyl ketone Comparative Example 4 In Example 1, except that the composition of the heat-sensitive layer coating liquid was changed to the composition shown below. All prepared plate materials in the same manner and evaluated the sensitivity. Table 3 shows the results.

【0133】 (a)カーボンブラック分散アクリル樹脂 30重量部 (内カーボンブラック15重量部) (b)エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェルエポキシ(株)製) 35重量部 (c)メラミン樹脂(ユーバン2061、三井東圧(株)製) 35重量部 (d)ジメチルホルムアミド 100重量部 (e)メチルイソブチルケトン 800重量部 感熱層中に水酸基含有化合物(ノボラック樹脂、ロジン
変性フェノール樹脂)を含む版はレーザー光を感知し、
レーザー照射部のシリコーンゴム層が剥離しており、印
刷版としての機能を有していることが判る。またニトロ
セルロースを含有する版と異なり、NOx のような有害
ガスを発生する事がない。
(A) 30 parts by weight of carbon black dispersed acrylic resin (including 15 parts by weight of carbon black) (b) 35 parts by weight of epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) (c) Melamine resin (Uban 2061, manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.) 35 parts by weight (d) 100 parts by weight of dimethylformamide (e) 800 parts by weight of methyl isobutyl ketone The plate containing a hydroxyl group-containing compound (novolak resin, rosin-modified phenol resin) in the heat-sensitive layer is as follows. Detects laser light,
The silicone rubber layer of the laser irradiation part was peeled off, indicating that it has a function as a printing plate. Also unlike the plate containing nitrocellulose, it has never generates noxious gases such as NO x.

【0134】[0134]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【0135】[0135]

【発明の効果】本発明は、感熱層中にニトロセルロース
以外の水酸基含有化合物を含有させることにより、レー
ザー照射時にNOxの発生する事のない直描型水なし平
版印刷版が得られた。
According to the present invention, by containing a hydroxyl group-containing compound other than nitrocellulose in the heat-sensitive layer, have never directly imageable waterless planographic printing plate produced of the NO x during laser irradiation was obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/023 511 G03F 7/023 511 7/035 7/035 7/40 521 7/40 521 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/023 511 G03F 7/023 511 7/035 7/035 7/40 521 7/40 521

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に少なくとも、感熱層およびシリコ
ーンゴム層を順次積層してなる直描型水なし平版印刷版
原版において、該感熱層が水酸基含有化合物および光熱
変換物質を含有し、かつ架橋構造を有することを特徴と
する直描型水なし平版印刷版原版。
1. A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor comprising at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer sequentially laminated on a substrate, wherein the heat-sensitive layer contains a hydroxyl group-containing compound and a light-to-heat conversion material, and is crosslinked. A direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor characterized by having a structure.
【請求項2】水酸基含有化合物がニトロセルロース以外
の物質であることを特徴とする請求項1に記載の直描型
水なし平版印刷版原版。
2. The direct drawing type waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the hydroxyl group-containing compound is a substance other than nitrocellulose.
【請求項3】水酸基含有化合物がレゾール樹脂、ノボラ
ック樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合性または架
橋性の官能基を有するフェノールおよび/またはポリフ
ェノール類、の少なくとも1種以上を含有することを特
徴とする請求項1〜2に記載の直描型水なし平版印刷版
原版。
3. The method according to claim 1, wherein the hydroxyl group-containing compound contains at least one of a resol resin, a novolak resin, a rosin-modified phenol resin, a phenol and / or a polyphenol having a polymerizable or crosslinkable functional group. The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor according to claim 1.
【請求項4】水酸基含有化合物が下記一般式(I)〜
(VII)の中から選ばれる一種以上の化合物であるこ
とを特徴とする請求項1〜2に記載の直描型水なし平版
印刷版原版。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】 【化7】 (式中、L1,L2,L3,L4は水素原子またはメチル基
である。R1は水素原子、メチル基、エチル基またはプ
ロピル基であり、R2は水素原子、メチル基またはシク
ロヘキシル基であり、R3,R4,R5,R6,R7は水素
原子またはメチル基である。X1は水酸基、水素原子、
メチル基、メトキシ基またはエトキシ基であり、X2
水酸基またはp−ヒドロキシベンジル基であり、X3
水酸基または水素原子であり、X4はメチロール基また
はメチル基である。Zはメチレン基またはカルボニル基
である。pは0または1であり、qは0、1または2で
あり、r,sは0または1である。)
4. The compound having a hydroxyl group according to the following general formula (I):
The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor is a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor. Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image (Wherein L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are hydrogen atoms or methyl groups. R 1 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group or propyl group, and R 2 is a hydrogen atom, methyl group or R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 are a hydrogen atom or a methyl group, X 1 is a hydroxyl group, a hydrogen atom,
A methyl group, a methoxy group or an ethoxy group, X 2 is a hydroxyl group or a p-hydroxybenzyl group, X 3 is a hydroxyl group or a hydrogen atom, and X 4 is a methylol group or a methyl group. Z is a methylene group or a carbonyl group. p is 0 or 1, q is 0, 1 or 2, and r and s are 0 or 1. )
【請求項5】水酸基含有化合物が、エポキシ化合物の反
応物であることを特徴とする請求項1記載の直描型水な
し平版印刷版原版。
5. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the hydroxyl group-containing compound is a reaction product of an epoxy compound.
【請求項6】光熱変換物質がカーボンブラックであるこ
とを特徴とする請求項1〜5に記載の直描型水なし平版
印刷版原版。
6. A direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the photothermal conversion material is carbon black.
【請求項7】感熱層中のバインダー樹脂のガラス転移温
度Tgが0℃以下であることを特徴とする請求項1〜6
に記載の直描型水なし平版印刷版原版。
7. A claim glass transition temperature T g of the binder resin in the thermosensitive layer is equal to or is 0 ℃ less 1-6
The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor described in.
【請求項8】感熱層がバインダーとしてポリウレタン樹
脂を含有することを特徴とする請求項1〜7に記載の直
描型水なし平版印刷版原版。
8. The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the heat-sensitive layer contains a polyurethane resin as a binder.
【請求項9】感熱層中の水酸基含有化合物、および架橋
反応によって水酸基を生成する反応性の官能基を有する
化合物の含有量が、全感熱層組成物に対して5〜60重
量%であることを特徴とする請求項1〜8に記載の直描
型水なし平版印刷版原版。
9. The content of the hydroxyl group-containing compound in the heat-sensitive layer and the compound having a reactive functional group that generates a hydroxyl group by a crosslinking reaction is 5 to 60% by weight based on the total heat-sensitive layer composition. The direct drawing type waterless planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 8, wherein
【請求項10】感熱層の下層が青、緑、あるいは紫に着
色していることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに
記載の直描型水なし平版印刷版原版。
10. A direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the lower layer of the heat-sensitive layer is colored blue, green or purple.
【請求項11】請求項1〜10のいずれかに記載の直描
型水なし平版印刷版原版を露光後、水または水を主成分
とする液で現像してなる水なし平版印刷版。
11. A waterless lithographic printing plate obtained by exposing the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1 to development with water or a liquid containing water as a main component.
【請求項12】請求項11に記載の現像済みの水なし平
版印刷版に染色液を用い、露出している感熱層あるいは
プライマー層を染色することを特徴とする水なし平版印
刷版。
12. A waterless lithographic printing plate characterized in that the exposed heat-sensitive layer or primer layer is dyed by using a dyeing solution on the developed waterless lithographic printing plate according to claim 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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