JPH1027838A - Substrate carrying device - Google Patents
Substrate carrying deviceInfo
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- JPH1027838A JPH1027838A JP8179316A JP17931696A JPH1027838A JP H1027838 A JPH1027838 A JP H1027838A JP 8179316 A JP8179316 A JP 8179316A JP 17931696 A JP17931696 A JP 17931696A JP H1027838 A JPH1027838 A JP H1027838A
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- substrate
- transfer
- roller
- rollers
- substrates
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は基板の搬送装置に関
し、特に方形状の液晶ガラス基板,プリント基板或いは
半導体基板などを非接触の垂直状態で一定方向に搬送す
る搬送装置の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly to an improvement of a transfer apparatus for transferring a rectangular liquid crystal glass substrate, a printed circuit board, a semiconductor substrate or the like in a non-contact vertical state in a certain direction.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶ガラス基板,プリント基板
或いは半導体基板などの方形状で薄板状の基板は、例え
ば製造工程などにおいて、その製造内容に応じてそれぞ
れの製造ポジションに水平状態にして搬送ベルトや搬送
ロ−ラを利用して搬送されている。2. Description of the Related Art In general, a rectangular thin plate-like substrate such as a liquid crystal glass substrate, a printed substrate, or a semiconductor substrate is placed in a horizontal state at a respective manufacturing position in a manufacturing process or the like in accordance with the manufacturing content. And transported using a transport roller.
【0003】例えば前者の搬送ベルトによる搬送方法
は、装置のシンプル化が可能であり、装置価格も低廉化
できるなどの特徴を有するものの、搬送ベルトから基板
にゴミなどが付着し易い。後者の搬送ロ−ラによる搬送
方法は、基板の両端をロ−ラに載置した状態で搬送する
ものであり、前者と同様の効果が期待できるものの、ロ
−ラに載置される基板部分に傷が付き易く、このために
捨て代が必要になり、その分だけ基板が不所望に大きく
なるという問題がある。しかも、水平搬送であるため
に、基板にゴミが付着し易いのみならず、搬送時に基板
が撓み易い。従って、例えば基板の検査工程における精
度が損なわれるという問題もある。[0003] For example, the former transport method using a transport belt has features that the apparatus can be simplified and the apparatus price can be reduced, but dust and the like easily adhere to the substrate from the transport belt. The latter transport method using a transport roller transports the substrate with both ends of the substrate placed on the roller, and although the same effect as the former can be expected, the substrate portion placed on the roller The substrate is apt to be scratched, which requires a disposal allowance, and there is a problem that the substrate becomes undesirably large. In addition, since the substrate is horizontally transferred, not only dust easily adheres to the substrate, but also the substrate is easily bent during the transfer. Therefore, for example, there is also a problem that accuracy in a substrate inspection process is impaired.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従って、従来において
は、例えば図9に示す搬送装置が提案されている(特開
平5−36658号公報参照)。同図において、Aは基
板GPの搬送方向に沿ってほぼ垂直に配置されたベ−ス
板であって、それの下方部分には複数の搬送ロ−ラBが
搬送方向に向けて配列されている。尚、この搬送ロ−ラ
Bは図示しない駆動モ−タなどを含む駆動手段によって
所定の方向に回転駆動される。ベ−ス板Aの上方部分に
は突出部Cが配置されており、その下面には搬送方向に
向けてコ字形のガイド溝Dが形成されている。このガイ
ド溝Dの対向する壁面には流体通路E,Eが開口(E
a,Ea)しており、流体通路E,Eにはクリ−ンエア
などの流体源Fが接続されている。Therefore, conventionally, for example, a transfer device shown in FIG. 9 has been proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-36658). In the drawing, reference numeral A denotes a base plate which is disposed substantially vertically along the transport direction of the substrate GP, and a plurality of transport rollers B are arranged below the base plate in the transport direction. I have. The transport roller B is driven to rotate in a predetermined direction by driving means including a drive motor (not shown). A protruding portion C is arranged on an upper portion of the base plate A, and a U-shaped guide groove D is formed on a lower surface thereof in the transport direction. Fluid passages E, E are opened (E
a, Ea), and a fluid source F such as clean air is connected to the fluid passages E, E.
【0005】この搬送装置による基板GPの搬送は次の
ように行なわれる。まず、流体源Fから例えばクリ−ン
エアを流体通路E,Eに供給すると共に、開口Ea,E
aからの吹き出し強さが均一となるように調整する。こ
の状態において、搬送ロ−ラBを図示しない駆動手段に
よって一定方向に回転・駆動させると共に、搬送ロ−ラ
Bに基板GPを垂直状態で載置させる。これによって基
板GPは搬送ロ−ラBにより前進し、やがて基板GPの
上端部分がガイド溝Dに挿入される。この状態におい
て、基板GPはそれの両面に吹き付けられる均一なクリ
−ンエアによって、それの姿勢が垂直状態に保持され
る。そして、基板GPはこの垂直状態を保持したまま
で、搬送ロ−ラBの回転により一定方向に搬送される。The transfer of the substrate GP by this transfer device is performed as follows. First, for example, clean air is supplied from the fluid source F to the fluid passages E, E, and the openings Ea, E
Adjust so that the blowing strength from a becomes uniform. In this state, the transport roller B is rotated and driven in a fixed direction by a driving unit (not shown), and the substrate GP is placed on the transport roller B in a vertical state. Thereby, the substrate GP advances by the transport roller B, and the upper end portion of the substrate GP is inserted into the guide groove D. In this state, the posture of the substrate GP is held in a vertical state by the uniform clean air blown to both surfaces thereof. The substrate GP is transported in a certain direction by the rotation of the transport roller B while maintaining this vertical state.
【0006】この搬送装置によれば、基板GPを非接触
で搬送できるために、搬送過程における基板GPの撓み
や傷の発生が解消されるのみならず、ゴミの付着も軽減
される。従って、例えば基板GPの検査工程での検査精
度を有効に改善できるものである。According to this transfer device, since the substrate GP can be transferred in a non-contact manner, not only the bending and scratching of the substrate GP during the transfer process are eliminated, but also the adhesion of dust is reduced. Therefore, for example, the inspection accuracy in the inspection process of the substrate GP can be effectively improved.
【0007】しかしながら、この搬送方法では、基板G
Pの上端部分が突出部Cのガイド溝Dに挿入されている
ために、例えば搬送途上の検査工程で基板GPの全面に
ついて検査する必要がある場合には、ガイド溝Dに挿入
されている部分は検査できないという問題がある。However, in this transfer method, the substrate G
Since the upper end portion of P is inserted into the guide groove D of the protruding portion C, for example, when it is necessary to inspect the entire surface of the substrate GP in an inspection process during transport, the portion inserted into the guide groove D Cannot be tested.
【0008】又、製造ラインの稼動率を高めるために、
各種サイズの基板GPを流す場合には搬送ロ−ラBと突
出部Cとの間隔を調整しなければならないのであるが、
搬送方向の全長に亘って調整しなければならないため
に、品種の切り替え作業が煩雑化するという問題もあ
る。In order to increase the operation rate of the production line,
When flowing substrates GP of various sizes, the distance between the transport roller B and the protruding portion C must be adjusted.
Since the adjustment has to be performed over the entire length in the transport direction, there is also a problem that the operation of changing the type becomes complicated.
【0009】それ故に、本発明の目的は、比較的に簡単
な構成によって基板を不所望に隠蔽することなく、しか
も、サイズの異なる品種の搬送にも対応可能な基板の搬
送装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus which does not undesirably conceal a substrate with a relatively simple structure and which can cope with the transfer of products of different sizes. It is in.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】従って、本発明は上述の
目的を達成するために、薄板状の基板を搬送方向に配列
した複数の受けロ−ラにほぼ垂直に載置した状態で一定
方向に搬送する基板の搬送装置であって、前記受けロ−
ラに隣接する部位に搬送方向に沿ってほぼ垂直に配置し
たベ−ス板と、このベ−ス板に搬送方向に分散して配置
したベルヌ−イチャックと、基板の搬送手段とを具備
し、前記基板の一方の面にベルヌ−イチャックによる吸
着力を作用させることにより、基板を受けロ−ラ上でベ
ルヌ−イチャックに接触させることなく、ほぼ垂直状態
に姿勢保持し、この状態で基板を搬送手段によって一定
方向に搬送するように構成したものであり、本発明の第
2の発明は、前記受けロ−ラを、搬送方向に向かって昇
り勾配となるように配列したことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, in order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a thin plate-like substrate which is placed almost vertically on a plurality of receiving rollers arranged in a transport direction and is fixed in a certain direction. A transfer device for transferring substrates to the receiving roaming device.
A base plate disposed substantially vertically along a transfer direction at a portion adjacent to the base plate, a Bernoulli chuck disposed dispersedly in the transfer direction on the base plate, and a substrate transfer means. By applying the suction force of the Bernoulli chuck to one surface of the substrate, the substrate is held in a substantially vertical state without receiving the substrate on the roller, and the substrate is transported in this state. According to a second aspect of the present invention, the receiving rollers are arranged so as to be inclined upward in the transport direction.
【0011】又、本発明の第3の発明は、薄板状の基板
をロ−ダ部から1枚づつ切り出すと共に、搬送方向に配
列した複数の受けロ−ラにほぼ垂直に載置した状態で一
定方向に搬送する基板の搬送装置であって、前記受けロ
−ラに隣接する部位に搬送方向に沿ってほぼ垂直に配置
したベ−ス板と、このベ−ス板に搬送方向に分散して配
置し、基板を無接触でほぼ垂直状態に姿勢保持する第1
のベルヌ−イチャックと、基板の搬送手段と、受けロ−
ラの始端側に配置したロ−ダ部とを有し、前記ロ−ダ部
は少なくとも、基板を垂直状態で一定の間隔を保って収
容し、基板の切り出しに関連して一定方向に間欠的に移
動するトレ−と、上下動可能な支持ア−ムの下端に複数
のロ−ラをほぼ同一平面に位置するように配列した切出
部と、この切出部の上昇位置に対応するベ−ス板部分に
配置した第2のベルヌ−イチャックとから構成し、下降
状態の切出部のロ−ラ上にトレ−の移動に基づいて基板
を位置させると共に、切出部の上昇により基板をロ−ラ
に載置した状態でトレ−から切り出し、切り出し状態に
おいて基板を第2のベルヌ−イチャックによりほぼ垂直
に姿勢保持し、搬送手段によって受けロ−ラ側に移送さ
せることを特徴とし、第4の発明は、前記受けロ−ラ及
びロ−ダ部のロ−ラを、搬送方向に向かって昇り勾配と
なるように配列したことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, a thin plate-like substrate is cut out one by one from a loader, and is placed almost vertically on a plurality of receiving rollers arranged in the transport direction. A substrate transfer device for transferring a substrate in a fixed direction, comprising: a base plate disposed substantially vertically along a transfer direction at a portion adjacent to the receiving roller; And hold the substrate in a substantially vertical state without contact.
Bernoulli chuck, substrate transfer means, and receiving roll
A loader portion disposed at the start end side of the rack, the loader portion accommodating at least a substrate in a vertical state at a constant interval, and intermittently intermittently in a certain direction in relation to cutting out of the substrate. And a cutout in which a plurality of rollers are arranged at the lower end of a vertically movable support arm so as to be positioned on substantially the same plane, and a base corresponding to the raised position of the cutout. A second Bernoulli chuck disposed on the base plate portion, the substrate is positioned on the roller of the cut-out portion in the lowered state based on the movement of the tray, and the substrate is raised by raising the cut-out portion. Is mounted on a roller and cut out from the tray, and in the cut-out state, the substrate is held substantially vertically by a second Bernoulli chuck, and is transported to a receiving roller side by transport means. According to a fourth aspect of the present invention, the receiving roller and the loader of the loader section are provided. And characterized by being arranged such that the rising gradient toward the conveying direction.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】次に、本発明の1実施例について
図1〜図8を参照して説明する。同図において、本発明
の搬送装置はロ−ダ部P1と、始端部分がロ−ダ部P1
に隣接するように配設された検査部P2と、検査部P2
の終端に隣接して配設されたアンロ−ダ部P3とから構
成されている。特に、ロ−ダ部P1及びアンロ−ダ部P
3は基本的な動作・機能はほぼ同一となるように構成さ
れている。例えばロ−ダ部P1は搬送部P1Aと基板の
切出部P1Bとから、アンロ−ダ部P3は搬送部P3A
と基板の収容部P3Bとからそれぞれ構成されており、
搬送部P1Aと搬送部P3A並びに基板の切出部P1B
と基板の収容部P3Bの基本的な動作・機能はほぼ同一
となるように構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawing, a transfer device according to the present invention has a loading portion P1 and a starting end portion having a loading portion P1.
An inspection unit P2 disposed adjacent to the inspection unit P2;
And an unloader P3 disposed adjacent to the end of the unloader. In particular, the loading section P1 and the unloading section P
Reference numeral 3 is configured so that basic operations and functions are almost the same. For example, the loading section P1 includes the transport section P1A and the cutout section P1B of the substrate, and the unloading section P3 includes the transport section P3A.
And an accommodation portion P3B for the substrate.
Conveying unit P1A, conveying unit P3A, and cutout portion P1B of substrate
The basic operations and functions of the board and the substrate accommodating portion P3B are substantially the same.
【0013】基板GPの搬送ラインSLに沿う部位には
ベ−ス板1が、ロ−ダ部P1,検査部P2,アンロ−ダ
部P3に跨がってほぼ垂直に配置されている。尚、この
ベ−ス板1は適宜に分割して配置されているが、一体化
することも可能である。そして、ベ−ス板1の表面側
(搬送ラインSL側)には基板GPのサイズに関連して
適宜の間隔で複数の第1のベルヌ−イチャック2が配置
されており、それの表面側の下方部分には複数の受けロ
−ラ3が一定の間隔で配列されている。特に、この受け
ロ−ラ3は基板GPの搬送ラインSLを形成しており、
搬送ラインSLはロ−ダ部P1より検査部P2,アンロ
−ダ部P3に向けて昇り勾配となるように構成されてい
る。即ち、それぞれの受けロ−ラ3は搬送方向に向かっ
て昇り勾配が付与されるように配置されている。A base plate 1 is disposed at a position along the transport line SL of the substrate GP so as to extend substantially vertically across a loading section P1, an inspection section P2, and an unloading section P3. Although the base plate 1 is appropriately divided and arranged, it can be integrated. A plurality of first Bernoulli chucks 2 are arranged on the front side of the base plate 1 (on the side of the transport line SL) at appropriate intervals in relation to the size of the substrate GP. A plurality of receiving rollers 3 are arranged at regular intervals in the lower part. In particular, this receiving roller 3 forms a transport line SL for the substrate GP,
The transport line SL is configured so as to be inclined upward from the loading section P1 toward the inspection section P2 and the unloading section P3. That is, the respective receiving rollers 3 are arranged so as to be inclined upward in the transport direction.
【0014】上述のようにロ−ダ部P1は搬送部P1A
と基板の切出部P1Bとから構成されているが、搬送部
P1Aは次のように構成されている。即ち、ほぼ垂直に
配置されたベ−ス板1の表面側には第2のベルヌ−イチ
ャック2a〜2d(第1チャック2a,第2チャック2
b,第3チャック2c,第4チャック2d)が適宜の間
隔で配置されている。特に、第3チャック2c,第4チ
ャック2dの下方部分には検査部P2の搬送ラインSL
に連続するように複数の受けロ−ラ3が配置されてい
る。又、ベ−ス板1の裏面側の一方の端部にはプ−リ4
aを有するパルスモ−タ4が、他方の端部には従動プ−
リ4bがそれぞれ配置されており、それぞれのプ−リ4
a,4bにはベルト5が張架されている。このベルト5
の所定部分には、ベ−ス板1の上端部分に跨がるように
位置するコ字形のア−ム6の一端が固定されており、他
端(表面側)には搬送手段としての爪7が、ベ−ス板1
に対してほぼ直角となるように固定されている。このア
−ム6の裏面側に位置する適宜の部分にはガイドブロッ
ク8が固定されており、そのコ字形のガイド凹部はベ−
ス板1の裏面側に固定された長尺状のレ−ル部9に摺動
自在なるように係合されている。As described above, the loading section P1 is connected to the transport section P1A.
And the cut-out portion P1B of the substrate. The transport portion P1A is configured as follows. That is, the second Bernoulli chucks 2a to 2d (the first chuck 2a and the second chuck 2a) are provided on the surface side of the base plate 1 which is arranged substantially vertically.
b, the third chuck 2c, and the fourth chuck 2d) are arranged at appropriate intervals. In particular, the transport line SL of the inspection unit P2 is provided below the third chuck 2c and the fourth chuck 2d.
A plurality of receiving rollers 3 are arranged so as to be continuous. A pulley 4 is provided at one end of the back side of the base plate 1.
a pulse motor 4 having a driven motor at the other end.
4b are arranged respectively, and each pulley 4b
A belt 5 is stretched between a and 4b. This belt 5
One end of a U-shaped arm 6 positioned so as to straddle the upper end portion of the base plate 1 is fixed to a predetermined portion, and the other end (surface side) is provided with a claw as a conveying means. 7 is a base plate 1
Are fixed so as to be substantially at right angles. A guide block 8 is fixed to an appropriate portion located on the back side of the arm 6, and its U-shaped guide recess is formed by a base.
It is slidably engaged with a long rail portion 9 fixed to the back side of the base plate 1.
【0015】一方、基板GPを1枚づつ切り出して搬送
部P1Aに供給する切出部P1Bは次のように構成され
ている。即ち、例えばベ−ス板1の下方部分にはシリン
ダ−10が配置されており、それのロッド10aの先端
には第1の支持ア−ム11が固定されている。この第1
の支持ア−ム11の端部にはそれより薄板状で逆T形状
の第2の支持ア−ム12が、ロッド10aとほぼ平行と
なるように固定されており、さらに上昇位置において、
下端部分のベ−ス板1に対向する側には複数のロ−ラ1
3が同一平面内に位置するように配置されている。又、
第2の支持ア−ム12の下降位置に対応する部位にはト
レ−14が配置されている。このトレ−14は、例えば
一対の側板15,15に複数の棒状のスペ−サ16を、
側面形状がほぼコ字状となるように分散・配置すると共
に、それぞれのスペ−サ16にそろばん様の溝16aを
一定のピッチ間隔で形成して構成されている。尚、これ
らのスペ−サ16のそれぞれの溝16aには基板GPが
挿入・配置されている。特に、このトレ−14は、例え
ばスライダ−17によって一定のピッチ間隔で間欠的に
移動するように構成されている。On the other hand, the cutout portion P1B which cuts out the substrate GP one by one and supplies it to the transport portion P1A is configured as follows. That is, for example, a cylinder 10 is disposed below the base plate 1, and a first support arm 11 is fixed to a tip of a rod 10a thereof. This first
At the end of the support arm 11, a second support arm 12 having a thinner and inverted T shape is fixed so as to be substantially parallel to the rod 10a.
A plurality of rollers 1 are provided at the lower end of the side facing the base plate 1.
3 are arranged in the same plane. or,
A tray 14 is arranged at a position corresponding to the lowered position of the second support arm 12. The tray 14 includes, for example, a plurality of rod-shaped spacers 16 on a pair of side plates 15, 15.
The spacers 16 are distributed and arranged so that the side surfaces thereof have a substantially U-shape, and the abacus-like grooves 16a are formed in each spacer 16 at a constant pitch. The substrate GP is inserted and arranged in each groove 16a of these spacers 16. In particular, the tray 14 is configured to intermittently move at a constant pitch interval by, for example, a slider 17.
【0016】次に、この搬送装置による基板GPの搬送
方法について図1〜図8を参照して説明する。まず、図
8に示すように、図中、右側のトレ−14に基板GP
を、スペ−サ16の溝16aに挿入されるように収容す
る。その後、このトレ−14をスライダ−17と共に左
側方向に移動させ、トレ−14の最左端の基板が切り出
し位置にて停止させる。そして、シリンダ−10の昇降
動作に関連して1ピッチづつ左側方向に間欠的に移動す
るようにセッティングする。次に、図5及び図6に示す
ように、シリンダ−10の下降動作によって第1,第2
の支持ア−ム11,12が二点鎖線で示す位置にまで下
降して停止すると、トレ−14が1ピッチだけ移動す
る。これによって、第2の支持ア−ム12のロ−ラ13
の上方部分に基板GPの下端が位置するようになる。こ
の状態で、シリンダ−10を上昇動作させると、基板G
Pは特に上方に位置するそれぞれのスペ−サ16の溝1
6aによって位置決めされながら上昇する。そして、基
板GPがスペ−サ16の溝16aから完全に脱出し切ら
ないうちに、基板GPの上方部分は第1チャック2a,
第2チャック2bの非接触吸着による姿勢制御機能の影
響下に至る。従って、基板GPはスペ−サ16の溝16
aと第1チャック2a,第2チャック2bとによって位
置規制及び姿勢制御がなされる。第2の支持ア−ム12
が図示実線位置まで上昇して停止すると、基板GPはト
レ−14から完全に切り出され、スペ−サ16の溝16
aから完全に脱出することになる。この状態において、
基板GPは第1チャック2a,第2チャック2bの非接
触吸着によってほぼ垂直に姿勢制御される。Next, a method of transferring the substrate GP by the transfer device will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 8, the substrate GP is placed on the right tray 14 in the figure.
Is accommodated so as to be inserted into the groove 16 a of the spacer 16. Thereafter, the tray 14 is moved to the left along with the slider 17, and the leftmost substrate of the tray 14 is stopped at the cutout position. Then, the setting is made so as to intermittently move in the leftward direction by one pitch in association with the vertical movement of the cylinder-10. Next, as shown in FIG. 5 and FIG.
When the supporting arms 11 and 12 are lowered to the position indicated by the two-dot chain line and stopped, the tray 14 moves by one pitch. Thereby, the roller 13 of the second support arm 12 is
The lower end of the substrate GP is located at the upper part of the substrate GP. When the cylinder 10 is raised in this state, the substrate G
P is the groove 1 of each spacer 16 located particularly above.
It rises while being positioned by 6a. Before the substrate GP has completely escaped from the groove 16a of the spacer 16, the upper portion of the substrate GP has the first chuck 2a,
The influence of the attitude control function by the non-contact suction of the second chuck 2b is reached. Accordingly, the substrate GP is provided with the groove 16 of the spacer 16.
a and the first chuck 2a and the second chuck 2b perform position regulation and attitude control. Second support arm 12
Rises to the position shown by the solid line and stops, the substrate GP is completely cut out of the tray 14 and the groove 16 of the spacer 16 is removed.
You will completely escape from a. In this state,
The posture of the substrate GP is controlled almost vertically by non-contact suction of the first chuck 2a and the second chuck 2b.
【0017】次に、パルスモ−タ4を正方向に回転させ
ると、ベルト5に固定されたア−ム6は、ガイドブロッ
ク8がレ−ル部9に係合された状態で、図2,図3にお
いて左方向に移動し、これに伴って爪7も同方向に移動
する。これによって、基板GPは爪7に引っ掛けられて
垂直に姿勢制御された状態のままで、左方向に搬送され
る。この際、基板GPの下端はロ−ラ13に載置されて
いる関係で、円滑に移動し、やがて、受けロ−ラ3の搬
送ラインSLに移し替えられる。この基板GPが検査部
P2の所定のポジションまで搬送されると、パルスモ−
タ4は回転を停止し、これに伴って爪7の移動も停止す
る。これと同時に、パルスモ−タ4は逆方向に回転し始
める。従って、爪7は基板GPから離れ、ア−ム6,爪
7は原点に復帰し、次の基板GPの切り出しのために待
機する。尚、この状態において、基板GPは第1のベル
ヌ−イチャック2によって引き続き非接触状態で吸着さ
れている。基板GPが検査ポジションで停止すると、基
板の品質,外観状態などの所定の検査項目について検査
が行なわれる。検査が終了すると、基板GPはアンロ−
ダ部P3の搬送部P3Aに搬送され、切出部P3Bのロ
−ラ(13)に載置される。以下、ロ−ダ部P1の動作
とは逆の動作によってトレ−14に1枚づつ収容され
る。尚、検査部P2に搬送された基板GPは後続の基板
によって押せ押せの状態で一定方向に向けて搬送される
が、それぞれの作業ポジションに爪を設け、それぞれの
爪で個々に引っ掛けて搬送することもできる。Next, when the pulse motor 4 is rotated in the forward direction, the arm 6 fixed to the belt 5 is moved with the guide block 8 engaged with the rail portion 9 as shown in FIG. 3, the claw 7 moves in the same direction. As a result, the substrate GP is transported leftward while being caught by the claws 7 and controlled in a vertical posture. At this time, the lower end of the substrate GP moves smoothly because it is placed on the roller 13, and is eventually transferred to the transport line SL of the receiving roller 3. When the substrate GP is transported to a predetermined position of the inspection section P2, a pulse mode
The tab 4 stops rotating, and accordingly, the movement of the pawl 7 also stops. At the same time, the pulse motor 4 starts rotating in the reverse direction. Accordingly, the pawl 7 separates from the substrate GP, the arm 6 and the pawl 7 return to the origin, and waits for cutting out the next substrate GP. In this state, the substrate GP is continuously sucked by the first Bernoulli chuck 2 in a non-contact state. When the substrate GP stops at the inspection position, inspection is performed on predetermined inspection items such as the quality and appearance of the substrate. When the inspection is completed, the substrate GP is unlocked.
The paper P is transported to the transport section P3A of the roller section P3, and is placed on the roller (13) of the cutout section P3B. Hereinafter, the sheets are stored one by one in the tray 14 by an operation reverse to the operation of the loading section P1. The substrate GP conveyed to the inspection unit P2 is conveyed in a certain direction in a state of being pressed by a subsequent substrate. However, a claw is provided at each work position, and each claw is individually hooked and conveyed by each claw. You can also.
【0018】この実施例によれば、搬送ラインSLに載
置された基板GPは、その裏面側をベルヌ−イチャック
2の非接触吸着によってほぼ垂直に姿勢制御された状態
で一定方向に搬送されるために、搬送のための捨て代が
不要となり、その分だけ基板GPのサイズを小形化でき
る。According to this embodiment, the substrate GP placed on the transport line SL is transported in a fixed direction with its back side controlled substantially vertically by non-contact suction of the Bernoulli chuck 2. This eliminates the need for a throw-away allowance for transport, and the size of the substrate GP can be reduced accordingly.
【0019】その上、基板GPは、その裏面側をベルヌ
−イチャック2の非接触吸着によって姿勢制御した状態
で搬送され、上方部分には何ら搬送手段が存在しない関
係で、基板GPのサイズが変更されても的確に搬送でき
る。従って、サイズの異なる品種を、設備の煩雑な切り
替えを要することなく、混合状態で搬送することが可能
となる。In addition, the substrate GP is transported in a state in which the back side is controlled in attitude by non-contact suction of the Bernoulli chuck 2, and the size of the substrate GP is changed because there is no transport means in the upper part. Even if it is done, it can be transported accurately. Therefore, it is possible to transport varieties of different sizes in a mixed state without requiring complicated switching of equipment.
【0020】しかも、基板GPは裏面側がベルヌ−イチ
ャック2によって非接触吸着されるために、その表面側
は全面が開放された状態になっている。従って、例えば
検査部P2において、特別の工夫なしに基板GPの全面
に亘って所定の検査を行なうことができる。In addition, since the back surface of the substrate GP is non-contactly adsorbed by the Bernoulli chuck 2, the entire front surface is open. Therefore, for example, the inspection unit P2 can perform a predetermined inspection over the entire surface of the substrate GP without any special measures.
【0021】特に、搬送ラインSLはロ−ダ部P1から
検査部P2,アンロ−ダ部P3に向けて例えば10°程
度の昇り勾配が付与されているために、基板GPを爪7
によって搬送する際に、基板GPには常にブレ−キ力が
作用している状態になっている。従って、基板GPを停
止させた際に、慣性によって基板GPが行きすぎること
はなく、所定の位置に停止させることができる。In particular, since the transport line SL is provided with a rising gradient of, for example, about 10 ° from the loading section P1 toward the inspection section P2 and the unloading section P3, the substrate GP is held by the claws 7.
When the substrate GP is conveyed, a braking force is constantly acting on the substrate GP. Therefore, when the substrate GP is stopped, the substrate GP does not go too far due to inertia, and can be stopped at a predetermined position.
【0022】さらには、ロ−ダ部P1(又はアンロ−ダ
部P3)において、基板GPをトレ−14から切出部P
1Bによって切り出す際に、基板GPはスペ−サ16の
溝16aによる位置規制と、第2のベルヌ−イチャック
2a,2bの非接触吸着とによって姿勢制御されている
ために、切り出し工程で基板GPが倒れることはなく、
円滑に切り出すことができる。Further, in the loading section P1 (or the unloading section P3), the substrate GP is cut out from the tray 14 by the cutting section P.
When the substrate GP is cut by 1B, the position of the substrate GP is controlled by the position regulation by the groove 16a of the spacer 16 and the non-contact suction of the second Bernoulli chucks 2a and 2b. Do not fall,
It can be cut out smoothly.
【0023】尚、本発明は何ら上記実施例にのみ制約さ
れることなく、例えば搬送ラインは水平に構成すること
もできる。基板の搬送手段は爪による他、往復動するプ
ッシャ−,受けロ−ラの能動的回転などによる手段も適
用可能である。又、ベルヌ−イチャックの設置数は適宜
に増減できる。さらに、ロ−ダ部,アンロ−ダ部はエレ
ベ−タ方式以外の構造に変更可能であるし、又、人手に
よって搬送部に供給することもできる。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and for example, the transport line may be formed horizontally. The means for transporting the substrate may be a means using a pusher that reciprocates, an active rotation of a receiving roller, or the like in addition to the claw. Further, the number of the Bernoulli chucks can be appropriately increased or decreased. Further, the structure of the loading section and the unloading section can be changed to a structure other than the elevator system, and the structure can be manually supplied to the transport section.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、搬送ライ
ンに載置された基板は、その裏面側をベルヌ−イチャッ
クの非接触吸着によってほぼ垂直に姿勢制御された状態
で一定方向に搬送されるために、搬送のための捨て代が
不要となり、その分だけ基板のサイズを小形化できる。As described above, according to the present invention, the substrate placed on the transport line is transported in a fixed direction with its back side controlled almost vertically by non-contact suction of the Bernoulli chuck. This eliminates the need for a throw-away allowance for transport, and the size of the substrate can be reduced accordingly.
【0025】その上、基板は、その裏面側をベルヌ−イ
チャックの非接触吸着によって姿勢制御した状態で搬送
され、上方部分には何ら搬送手段が存在しない関係で、
基板のサイズが変更されても的確に搬送できる。従っ
て、サイズの異なる品種を、設備の煩雑な切り替えを要
することなく、混合状態で搬送することが可能となる。In addition, the substrate is conveyed in a state where the back surface of the substrate is posture-controlled by non-contact suction of the Bernoulli chuck, and there is no conveying means in the upper part.
Even if the size of the substrate is changed, it can be transported accurately. Therefore, it is possible to transport varieties of different sizes in a mixed state without requiring complicated switching of equipment.
【0026】しかも、基板は裏面側がベルヌ−イチャッ
クによって非接触吸着されるために、その表面側は全面
が開放された状態になっている。従って、例えば検査部
において、基板の全面に亘って所定の検査を行なうこと
ができる。Further, since the back side of the substrate is non-contactly adsorbed by the Bernoulli chuck, the entire front side is open. Therefore, for example, in the inspection section, the predetermined inspection can be performed over the entire surface of the substrate.
【0027】特に、搬送ラインに搬送方向に向けて昇り
勾配を付与すれば、基板を搬送する際に、基板には常に
ブレ−キ力が作用することになる。従って、基板を停止
させた際に、慣性によって基板が行きすぎることはな
く、所定の位置に確実に停止させることができる。In particular, if the transport line is provided with an upward gradient in the transport direction, a brake force will always act on the substrate when transporting the substrate. Therefore, when the substrate is stopped, the substrate does not go too far due to inertia, and the substrate can be reliably stopped at a predetermined position.
【0028】さらには、ロ−ダ部における基板の切り出
し位置に第2のベルヌ−イチャックを配設すると共に、
トレ−に基板を離隔配置する溝を設ければ、基板をトレ
−から切出部によって切り出す際に、基板はスペ−サの
溝による位置規制と、第2のベルヌ−イチャックの非接
触吸着とによって姿勢制御されているために、切り出し
工程で基板が倒れることはなく、円滑に切り出すことが
できる。Further, a second Bernoulli chuck is provided at a cut-out position of the substrate in the loading section.
If the tray is provided with a groove for separating the substrate, when the substrate is cut out from the tray by the cutout portion, the substrate is restricted in position by the groove of the spacer, and non-contact suction of the second Bernoulli chuck is performed. , The substrate can be smoothly cut without falling down in the cutting process.
【図1】本発明の1実施例を示す正面図。FIG. 1 is a front view showing one embodiment of the present invention.
【図2】本発明の搬送装置にかかる搬送部の正面図。FIG. 2 is a front view of a transport unit according to the transport device of the present invention.
【図3】図2の平面図。FIG. 3 is a plan view of FIG. 2;
【図4】図2のX−X矢視図。FIG. 4 is a view taken in the direction of arrows XX in FIG. 2;
【図5】本発明の搬送装置にかかる基板の切出部の拡大
正面図。FIG. 5 is an enlarged front view of a cutout portion of a substrate according to the transfer device of the present invention.
【図6】図5の側面図。FIG. 6 is a side view of FIG. 5;
【図7】図5のY−Y断面図。FIG. 7 is a sectional view taken along line YY of FIG. 5;
【図8】本発明の搬送装置にかかる基板のトレ−の側面
図。FIG. 8 is a side view of a tray of a substrate according to the transfer apparatus of the present invention.
【図9】従来例の一部破断状態の側面図。FIG. 9 is a side view of a conventional example in a partially broken state.
GP 基板 P1 ロ−ダ部 P1A 搬送部 P1B 基板の切出部 P2 検査部 P3 アンロ−ダ部 P3A 搬送部 P3B 基板の収容部 SL 搬送ライン 1 ベ−ス板 2 第1のベルヌ−イチャック 2a〜2d 第2のベルヌ−イチャック 3 受けロ−ラ 4 パルスモ−タ 4a,4b プ−リ 5 ベルト 6 ア−ム 7 爪 8 ガイドブロック 9 レ−ル部 10 シリンダ− 11,12 支持ア−ム 13 ロ−ラ 14 トレ− 15 側板 16 スペ−サ 16a 溝 17 スライダ− GP board P1 Loader section P1A Transfer section P1B Board cutout section P2 Inspection section P3 Unloader section P3A Transfer section P3B Board storage section SL Transfer line 1 Base plate 2 First Bernoulli chuck 2a to 2d Second Bernoulli chuck 3 Receiving roller 4 Pulse motor 4a, 4b pulley 5 Belt 6 Arm 7 Claw 8 Guide block 9 Rail 10 Cylinder 11, 12 Support arm 13 Roll La 14 Tray 15 Side plate 16 Spacer 16a Groove 17 Slider
Claims (4)
の受けロ−ラにほぼ垂直に載置した状態で一定方向に搬
送する基板の搬送装置であって、前記受けロ−ラに隣接
する部位に搬送方向に沿ってほぼ垂直に配置したベ−ス
板と、このベ−ス板に搬送方向に分散して配置したベル
ヌ−イチャックと、基板の搬送手段とを具備し、前記基
板の一方の面にベルヌ−イチャックによる吸着力を作用
させることにより、基板を受けロ−ラ上でベルヌ−イチ
ャックに接触させることなく、ほぼ垂直状態に姿勢保持
し、この状態で基板を搬送手段によって一定方向に搬送
することを特徴とする基板の搬送装置。An apparatus for transporting a substrate in a fixed direction in a state where a thin plate-like substrate is placed substantially vertically on a plurality of receiving rollers arranged in the transport direction, wherein the substrate is adjacent to the receiving roller. A base plate disposed substantially vertically along the transfer direction at a portion to be transferred, a Bernoulli chuck dispersively disposed in the transfer direction on the base plate, and a transfer means for the substrate. By applying the suction force of the Bernoulli chuck to one surface, the substrate is held in a substantially vertical state without contact with the Bernoulli chuck on the roller, and the substrate is kept constant by the transport means in this state. A substrate transfer device for transferring a substrate in a direction.
昇り勾配となるように配列したことを特徴とする請求項
1記載の基板の搬送装置。2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein said receiving rollers are arranged so as to be inclined upward in a transfer direction.
り出すと共に、搬送方向に配列した複数の受けロ−ラに
ほぼ垂直に載置した状態で一定方向に搬送する基板の搬
送装置であって、前記受けロ−ラに隣接する部位に搬送
方向に沿ってほぼ垂直に配置したベ−ス板と、このベ−
ス板に搬送方向に分散して配置し、基板を非接触でほぼ
垂直状態に姿勢保持する第1のベルヌ−イチャックと、
基板の搬送手段と、受けロ−ラの始端側に配置したロ−
ダ部とを有し、前記ロ−ダ部は少なくとも、基板を垂直
状態で一定の間隔を保って収容し、基板の切り出しに関
連して一定方向に間欠的に移動するトレ−と、上下動可
能な支持ア−ムの下端に複数のロ−ラをほぼ同一平面に
位置するように配列した切出部と、この切出部の上昇位
置に対応するベ−ス板部分に配置した第2のベルヌ−イ
チャックとから構成し、下降状態の切出部のロ−ラ上に
トレ−の移動に基づいて基板を位置させると共に、切出
部の上昇により基板をロ−ラに載置した状態でトレ−か
ら切り出し、切り出し状態において基板を第2のベルヌ
−イチャックによりほぼ垂直に姿勢保持し、搬送手段に
よって受けロ−ラ側に移送させることを特徴とする基板
の搬送装置。3. A substrate transfer apparatus for cutting a thin plate-like substrate one by one from a loader portion and transferring the substrate in a fixed direction while being placed substantially vertically on a plurality of receiving rollers arranged in the transfer direction. A base plate disposed substantially vertically along a conveying direction at a portion adjacent to the receiving roller;
A first Bernoulli chuck that is arranged in a dispersing manner in the transport direction on the substrate and holds the substrate in a substantially vertical state in a non-contact manner;
Means for transporting the substrate, and a roller arranged on the starting end side of the receiving roller.
A loading section, wherein the loading section at least holds the substrate in a vertical state at a constant interval, and intermittently moves in a fixed direction in relation to the cutting of the substrate; A cut-out portion in which a plurality of rollers are arranged at substantially the same plane at the lower end of a possible support arm, and a second portion disposed on a base plate portion corresponding to the raised position of the cut-out portion. The substrate is positioned on the roller of the cut-out portion in the lowered state based on the movement of the tray, and the substrate is placed on the roller by raising the cut-out portion. Wherein the substrate is held substantially vertically by a second Bernoulli chuck in the cutout state, and is transferred to a receiving roller by a transfer means.
を、搬送方向に向かって昇り勾配となるように配列した
ことを特徴とする請求項3記載の基板の搬送装置。4. The substrate transfer apparatus according to claim 3, wherein the receiving rollers and the rollers of the loader section are arranged so as to be inclined upward in the transfer direction.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8179316A JP3042598B2 (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Substrate transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP8179316A JP3042598B2 (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Substrate transfer device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH1027838A true JPH1027838A (en) | 1998-01-27 |
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JP8179316A Expired - Fee Related JP3042598B2 (en) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Substrate transfer device |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3042598B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6379103B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-04-30 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Substrate transfer apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6297660B1 (en) | 2016-11-22 | 2018-03-20 | 株式会社荏原製作所 | Processing apparatus, plating apparatus provided with the same, conveying apparatus, and processing method |
-
1996
- 1996-07-09 JP JP8179316A patent/JP3042598B2/en not_active Expired - Fee Related
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US6379103B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-04-30 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Substrate transfer apparatus |
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