JPH09105908A - アクティブマトリクス型液晶表示装置 - Google Patents
アクティブマトリクス型液晶表示装置Info
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- JPH09105908A JPH09105908A JP26123595A JP26123595A JPH09105908A JP H09105908 A JPH09105908 A JP H09105908A JP 26123595 A JP26123595 A JP 26123595A JP 26123595 A JP26123595 A JP 26123595A JP H09105908 A JPH09105908 A JP H09105908A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 色調が均一である視野角の範囲が広く、ブラ
ウン管並の視野角を実現でき、かつ、画質を向上させる
ことが可能となる横電界方式を採用したアクティブマト
リクス型液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持
される液晶層と、前記一方の基板上に形成されるアクテ
ィブ素子と、前記アクティブ素子に接続される画素電極
と、前記一対の基板のいずれか一方の基板上に形成さ
れ、前記画素電極との間で基板面にほぼ平行な電界を液
晶層に印加する対向電極とを有するアクティブマトリク
ス型液晶表示装置において、前記液晶層が、一方向の液
晶分子の初期配向方向を有し、かつ、基板面内で2方向
以上の液晶分子の駆動方向を有する。
ウン管並の視野角を実現でき、かつ、画質を向上させる
ことが可能となる横電界方式を採用したアクティブマト
リクス型液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持
される液晶層と、前記一方の基板上に形成されるアクテ
ィブ素子と、前記アクティブ素子に接続される画素電極
と、前記一対の基板のいずれか一方の基板上に形成さ
れ、前記画素電極との間で基板面にほぼ平行な電界を液
晶層に印加する対向電極とを有するアクティブマトリク
ス型液晶表示装置において、前記液晶層が、一方向の液
晶分子の初期配向方向を有し、かつ、基板面内で2方向
以上の液晶分子の駆動方向を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係わ
り、特に、横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表
示装置に適用して有効な技術に関する。
り、特に、横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表
示装置に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来技術】薄膜トランジスタ(TFT)に代表される
アクティブ素子を用いたアクティブマトリクス型液晶表
示装置は薄い、軽量という特徴とブラウン管に匹敵する
高画質という点から、OA機器等の表示端末装置として
広く普及し始めている。
アクティブ素子を用いたアクティブマトリクス型液晶表
示装置は薄い、軽量という特徴とブラウン管に匹敵する
高画質という点から、OA機器等の表示端末装置として
広く普及し始めている。
【0003】このアクティブマトリクス型液晶表示装置
の表示方式には、大別して、次の2通りの表示方式が知
られている。
の表示方式には、大別して、次の2通りの表示方式が知
られている。
【0004】1つは、2つの透明電極が形成された一対
の基板間に液晶層を封入し、2つの透明電極に駆動電圧
を印加することにより、基板界面にほぼ直角な方向の電
界により液晶層を駆動し、透明電極を透過し液晶層に入
射した光を変調して表示する方式(以下、縦電界方式と
称する)であり、現在、普及している製品が全てこの方
式を採用している。
の基板間に液晶層を封入し、2つの透明電極に駆動電圧
を印加することにより、基板界面にほぼ直角な方向の電
界により液晶層を駆動し、透明電極を透過し液晶層に入
射した光を変調して表示する方式(以下、縦電界方式と
称する)であり、現在、普及している製品が全てこの方
式を採用している。
【0005】しかしながら、前記縦電界方式を採用した
アクティブマトリクス型液晶表示装置においては、視角
方向を変化させた際の輝度変化が著しく、特に、中間調
表示を行った場合、視角方向により階調レベルが反転し
てしまう等、実用上問題があった。
アクティブマトリクス型液晶表示装置においては、視角
方向を変化させた際の輝度変化が著しく、特に、中間調
表示を行った場合、視角方向により階調レベルが反転し
てしまう等、実用上問題があった。
【0006】また、もう1つは、一対の基板間に液晶層
を封入し、同一基板あるいは両基板上に形成された2つ
の電極に駆動電圧を印加することにより、基板界面にほ
ぼ平行な方向の電界により液晶層を駆動し、2つの電極
の隙間から液晶層に入射した光を変調して表示する方式
(以下、横電界方式と称する)であるが、この横電界方
式を採用したアクティブマトリクス型液晶表示装置は未
だ実用化されていない。
を封入し、同一基板あるいは両基板上に形成された2つ
の電極に駆動電圧を印加することにより、基板界面にほ
ぼ平行な方向の電界により液晶層を駆動し、2つの電極
の隙間から液晶層に入射した光を変調して表示する方式
(以下、横電界方式と称する)であるが、この横電界方
式を採用したアクティブマトリクス型液晶表示装置は未
だ実用化されていない。
【0007】しかしながら、この横電界方式を採用した
アクティブマトリクス型液晶表示装置は、広視野角、低
負荷容量等の特徴を有しており、この横電界方式は、ア
クティブマトリクス型液晶表示装置に関して有望な技術
である。
アクティブマトリクス型液晶表示装置は、広視野角、低
負荷容量等の特徴を有しており、この横電界方式は、ア
クティブマトリクス型液晶表示装置に関して有望な技術
である。
【0008】前記横電界方式を採用したアクティブマト
リクス型液晶表示装置の特徴に関しては、特許出願公表
平5−505247号公報、特公昭63−21907号
公報、特開平6−160878号公報を参照されたい。
リクス型液晶表示装置の特徴に関しては、特許出願公表
平5−505247号公報、特公昭63−21907号
公報、特開平6−160878号公報を参照されたい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従来の横電界方式を採
用したアクティブマトリクス型液晶表示装置において
は、駆動電圧及び応答速度の改善のために、平行に配置
された画素電極と対向電極とに対し、液晶層の液晶分子
をある傾きを持ってホモジニアスに初期配向し、液晶分
子を面内で回転させることにより光を変調し、表示を行
っている。
用したアクティブマトリクス型液晶表示装置において
は、駆動電圧及び応答速度の改善のために、平行に配置
された画素電極と対向電極とに対し、液晶層の液晶分子
をある傾きを持ってホモジニアスに初期配向し、液晶分
子を面内で回転させることにより光を変調し、表示を行
っている。
【0010】これにより、前記縦電界方式を採用したア
クティブマトリクス型液晶表示装置と比較して、視野角
が著しく広いという特徴を有している。
クティブマトリクス型液晶表示装置と比較して、視野角
が著しく広いという特徴を有している。
【0011】しかしながら、前記横電界方式を採用した
アクティブマトリクス型液晶表示装置においては、ある
方向に視野角を傾けた場合に、均一な色調を実現でき
ず、視野角が狭くなり、ブラウン管(CRT)等の自発
光表示装置に匹敵する視野角を達成できないという問題
点があった。
アクティブマトリクス型液晶表示装置においては、ある
方向に視野角を傾けた場合に、均一な色調を実現でき
ず、視野角が狭くなり、ブラウン管(CRT)等の自発
光表示装置に匹敵する視野角を達成できないという問題
点があった。
【0012】即ち、液晶分子が回転したときの、その長
軸方向に視野角を傾けると、その他の方位に視野角を傾
けた場合よりも液晶分子の複屈折異方性が変化しやす
く、その方位で、他の方位より階調が反転しやすくかつ
色調が変化しやすい。
軸方向に視野角を傾けると、その他の方位に視野角を傾
けた場合よりも液晶分子の複屈折異方性が変化しやす
く、その方位で、他の方位より階調が反転しやすくかつ
色調が変化しやすい。
【0013】特に、ノーマリブッラクモードで白表示を
した場合、白色の色調が、その方位で青色にシフトす
る。
した場合、白色の色調が、その方位で青色にシフトす
る。
【0014】また、それと90°の角度をなす液晶分子
の短軸方向では、複屈折異方性は変化しないが、視野角
の傾きにしたがって光路長が増加することにより、白色
の色調が、その方位で黄色にシフトする。
の短軸方向では、複屈折異方性は変化しないが、視野角
の傾きにしたがって光路長が増加することにより、白色
の色調が、その方位で黄色にシフトする。
【0015】その結果、1部の方位において均一な色調
を実現できず、視野角が狭くなり、ブラウン管に匹敵す
る視野角を達成できないという問題点があった。
を実現できず、視野角が狭くなり、ブラウン管に匹敵す
る視野角を達成できないという問題点があった。
【0016】本発明は、前記従来技術の問題点を解決す
るためになされたものであり、本発明の目的は、横電界
方式を採用したアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、色調が均一である視野角の範囲が広く、ブラウ
ン管並の視野角を実現でき、かつ、画質を向上させるこ
とが可能となる技術を提供することにある。
るためになされたものであり、本発明の目的は、横電界
方式を採用したアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、色調が均一である視野角の範囲が広く、ブラウ
ン管並の視野角を実現でき、かつ、画質を向上させるこ
とが可能となる技術を提供することにある。
【0017】本発明の前記目的並びにその他の目的及び
新規な特徴は、本明細書の記載及び添付図面によって明
らかにする。
新規な特徴は、本明細書の記載及び添付図面によって明
らかにする。
【0018】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【0019】(1)一対の基板と、前記一対の基板間に
挟持される液晶層と、前記一方の基板上に形成される複
数の映像信号線と、前記一方の基板上に形成され前記映
像信号線と交差する複数の走査信号線と、前記複数の映
像信号線と前記複数の走査信号線との交差領域内にマト
リクス状に形成される複数の画素とを具備し、前記画素
が、前記一方の基板上に形成されるアクティブ素子と、
前記アクティブ素子に接続される画素電極と、前記一対
の基板のいずれか一方の基板上に形成され、前記画素電
極との間で基板面にほぼ平行な電界を液晶層に印加する
対向電極とを、少なくとも有するアクティブマトリクス
型液晶表示装置において、前記液晶層が、一方向の液晶
分子の初期配向方向を有し、かつ、基板面内で2方向の
液晶分子の駆動方向を有することを特徴とする。
挟持される液晶層と、前記一方の基板上に形成される複
数の映像信号線と、前記一方の基板上に形成され前記映
像信号線と交差する複数の走査信号線と、前記複数の映
像信号線と前記複数の走査信号線との交差領域内にマト
リクス状に形成される複数の画素とを具備し、前記画素
が、前記一方の基板上に形成されるアクティブ素子と、
前記アクティブ素子に接続される画素電極と、前記一対
の基板のいずれか一方の基板上に形成され、前記画素電
極との間で基板面にほぼ平行な電界を液晶層に印加する
対向電極とを、少なくとも有するアクティブマトリクス
型液晶表示装置において、前記液晶層が、一方向の液晶
分子の初期配向方向を有し、かつ、基板面内で2方向の
液晶分子の駆動方向を有することを特徴とする。
【0020】(2)前記(1)の手段において、前記液
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、前記各画素内の画素電極および対向電極
が、前記液晶分子の初期配向方向に対してある傾斜角を
持って形成される、それぞれ対向電極および画素電極と
相対向する対向面を有し、さらに、前記液晶分子の初期
配向方向に対してそれぞれ異なる傾斜角を持つ対向面が
形成された画素電極および対向電極を有する画素をマト
リクス状に配置したことを特徴とする。
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、前記各画素内の画素電極および対向電極
が、前記液晶分子の初期配向方向に対してある傾斜角を
持って形成される、それぞれ対向電極および画素電極と
相対向する対向面を有し、さらに、前記液晶分子の初期
配向方向に対してそれぞれ異なる傾斜角を持つ対向面が
形成された画素電極および対向電極を有する画素をマト
リクス状に配置したことを特徴とする。
【0021】(3)前記(2)の手段において、前記そ
れぞれ異なる傾斜角が、θあるいは−θであることを特
徴とする。
れぞれ異なる傾斜角が、θあるいは−θであることを特
徴とする。
【0022】(4)前記(3)の手段において、前記θ
が、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
が、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
【0023】(5)前記(1)の手段において、前記液
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、前記各画素内の画素電極および対向電極
が、前記液晶分子の初期配向方向に対して2つ以上の傾
斜角を持って形成される、それぞれ対向電極および画素
電極と相対向する対向面を有することを特徴とする。
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、前記各画素内の画素電極および対向電極
が、前記液晶分子の初期配向方向に対して2つ以上の傾
斜角を持って形成される、それぞれ対向電極および画素
電極と相対向する対向面を有することを特徴とする。
【0024】(6)前記(5)の手段において、前記2
つ以上の傾斜角が、θあるいは−θであることを特徴と
する。
つ以上の傾斜角が、θあるいは−θであることを特徴と
する。
【0025】(7)前記(6)の手段において、前記θ
が、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
が、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
【0026】(8)前記(1)の手段において、前記液
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、各画素の表示領域内で、前記画素電極およ
び対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向と平行であ
り、また、各画素の表示領域外で、前記画素電極および
対向電極が、2つ以上の角度を持って交差していること
を特徴とする。
晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配向
方向を有し、各画素の表示領域内で、前記画素電極およ
び対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向と平行であ
り、また、各画素の表示領域外で、前記画素電極および
対向電極が、2つ以上の角度を持って交差していること
を特徴とする。
【0027】(9)前記(8)の手段において、前記2
つ以上の角度が、θあるいは−θであることを特徴とす
る。
つ以上の角度が、θあるいは−θであることを特徴とす
る。
【0028】(10)前記(9)の手段において、前記
θが、30°≦θ≦60°であることを特徴とする。
θが、30°≦θ≦60°であることを特徴とする。
【0029】(11)前記(1)の手段において、前記
液晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配
向方向を有し、各画素の表示領域内で、前記画素電極お
よび対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向と平行で
あり、また、各画素の表示領域外で、前記画素電極およ
び対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向に対して2
つ以上の傾斜角を持って形成される、それぞれ対向電極
および画素電極と相対向する対向面を有することを特徴
とする。
液晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配
向方向を有し、各画素の表示領域内で、前記画素電極お
よび対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向と平行で
あり、また、各画素の表示領域外で、前記画素電極およ
び対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向に対して2
つ以上の傾斜角を持って形成される、それぞれ対向電極
および画素電極と相対向する対向面を有することを特徴
とする。
【0030】(12)前記(11)の手段において、前
記2つ以上の傾斜角が、θあるいは−θであることを特
徴とする。
記2つ以上の傾斜角が、θあるいは−θであることを特
徴とする。
【0031】(13)前記(12)の手段において、前
記θが、30°≦θ≦60°であることを特徴とする。
記θが、30°≦θ≦60°であることを特徴とする。
【0032】(14)前記(1)の手段において、前記
液晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配
向方向を有し、各画素の画素電極および対向電極が、前
記液晶分子の初期配向方向に対して、ある傾斜角を持っ
て互いに平行に形成され、前記液晶分子の初期配向方向
に対して、それぞれ異なる傾斜角を持つ画素電極および
対向電極を有する画素を交互に配置してなることを特徴
とする。
液晶層が、前記走査信号線に略垂直な液晶分子の初期配
向方向を有し、各画素の画素電極および対向電極が、前
記液晶分子の初期配向方向に対して、ある傾斜角を持っ
て互いに平行に形成され、前記液晶分子の初期配向方向
に対して、それぞれ異なる傾斜角を持つ画素電極および
対向電極を有する画素を交互に配置してなることを特徴
とする。
【0033】(15)前記(14)の手段において、前
記それぞれ異なる傾斜角が、θあるいは−θであること
を特徴とする。
記それぞれ異なる傾斜角が、θあるいは−θであること
を特徴とする。
【0034】(16)前記(15)の手段において、前
記θが、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
記θが、10°≦θ≦20°であることを特徴とする。
【0035】(17)前記(14)ないし(16)の手
段において、前記映像信号線が、各画素の画素電極およ
び対向電極と平行に、前記液晶分子の初期配向方向とあ
る傾斜角を持って形成されることを特徴とする。
段において、前記映像信号線が、各画素の画素電極およ
び対向電極と平行に、前記液晶分子の初期配向方向とあ
る傾斜角を持って形成されることを特徴とする。
【0036】(18)前記(1)、(5)ないし(1
3)の手段において、前記液晶層が、前記一対の基板に
対して、チルト角を有することを特徴とする。
3)の手段において、前記液晶層が、前記一対の基板に
対して、チルト角を有することを特徴とする。
【0037】(19)前記(1)ないし(18)の手段
において、前記一対の基板の液晶層を挾持する面と反対
側の面上に形成される2枚の偏光板を有し、前記2枚の
偏光板の偏光透過軸が互い直交し、かつ、いずれか一方
の偏光透過軸が液晶分子の初期配向方向と同一方向であ
ることを特徴とする。
において、前記一対の基板の液晶層を挾持する面と反対
側の面上に形成される2枚の偏光板を有し、前記2枚の
偏光板の偏光透過軸が互い直交し、かつ、いずれか一方
の偏光透過軸が液晶分子の初期配向方向と同一方向であ
ることを特徴とする。
【0038】前記各手段によれば、横電界方式を採用し
たアクティブマトリクス型液晶表示装置において、液晶
層の液晶分子を単一方向に初期配向するとともに、各画
素毎に、あるいは、1画素内で、液晶層の液晶分子の初
期配向方向と、画素電極と対向電極との間の印加電界方
向とのなす角度を異ならせて、液晶分子を2方向に駆動
するようにしたので、互いに色調のシフトを相殺して、
色調の方位による依存性を大幅に低減することが可能と
なる。
たアクティブマトリクス型液晶表示装置において、液晶
層の液晶分子を単一方向に初期配向するとともに、各画
素毎に、あるいは、1画素内で、液晶層の液晶分子の初
期配向方向と、画素電極と対向電極との間の印加電界方
向とのなす角度を異ならせて、液晶分子を2方向に駆動
するようにしたので、互いに色調のシフトを相殺して、
色調の方位による依存性を大幅に低減することが可能と
なる。
【0039】例えば、複屈折性ノーマリブッラクモード
(電圧無印加時に暗、電圧印加時に明)の場合に、2枚
の偏光板の偏光透過軸は直交し(クロスニコル)、それ
ぞれの偏光透過軸と電界によって回転した液晶分子の長
軸のなす角が45°となったとき最大透過率、すなわち
白表示を得る。
(電圧無印加時に暗、電圧印加時に明)の場合に、2枚
の偏光板の偏光透過軸は直交し(クロスニコル)、それ
ぞれの偏光透過軸と電界によって回転した液晶分子の長
軸のなす角が45°となったとき最大透過率、すなわち
白表示を得る。
【0040】その状態で、液晶分子の長軸方向の方位
(偏光透過軸から45°の角度)から白表示を見た場
合、複屈折異方性の変化し、白色の色調が、その方位で
青色にシフトする。
(偏光透過軸から45°の角度)から白表示を見た場
合、複屈折異方性の変化し、白色の色調が、その方位で
青色にシフトする。
【0041】また、それと90°の角度をなす液晶分子
の短軸方向(偏光透過軸から−45°の角度)では、複
屈折異方性は変化しないが、視野角の傾きにしたがって
光路長が増加することにより、白色の色調が、その方位
で黄色にシフトする。
の短軸方向(偏光透過軸から−45°の角度)では、複
屈折異方性は変化しないが、視野角の傾きにしたがって
光路長が増加することにより、白色の色調が、その方位
で黄色にシフトする。
【0042】青色と黄色と色度座標で補色の関係にあ
り、その2色を混合させると白色になる。
り、その2色を混合させると白色になる。
【0043】したがって、各画素毎に、あるいは、1画
素内で、液晶分子を2方向駆動方向を2方向となし、例
えば、白表示を行っている液晶分子の角度が、互いに9
0°の角度をなす2方向存在すれば、互いに色調のシフ
トを相殺して、白色色調の方位による依存性を大幅に低
減することが可能となる。
素内で、液晶分子を2方向駆動方向を2方向となし、例
えば、白表示を行っている液晶分子の角度が、互いに9
0°の角度をなす2方向存在すれば、互いに色調のシフ
トを相殺して、白色色調の方位による依存性を大幅に低
減することが可能となる。
【0044】また、同様に、階調反転についても、階調
反転しにくい液晶分子の短軸方向と、階調反転しやすい
液晶分子の長軸方向との特性が平均され、階調反転に弱
い方向での非階調反転視野角を拡大することができる。
反転しにくい液晶分子の短軸方向と、階調反転しやすい
液晶分子の長軸方向との特性が平均され、階調反転に弱
い方向での非階調反転視野角を拡大することができる。
【0045】それにより、階調の均一性および色調の均
一性が全方位で平均化または拡大し、ブラウン管に近い
広視野角を実現することが可能である。
一性が全方位で平均化または拡大し、ブラウン管に近い
広視野角を実現することが可能である。
【0046】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【0047】なお、発明の実施の形態(実施例)を説明
するための全図において、同一機能を有するものは同一
符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
するための全図において、同一機能を有するものは同一
符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0048】[発明の実施の形態1]まず始めに、本発
明の実施の形態で構成した横電界方式のアクティブ・マ
トリクス方式カラー液晶表示装置の概略を説明する。
明の実施の形態で構成した横電界方式のアクティブ・マ
トリクス方式カラー液晶表示装置の概略を説明する。
【0049】《マトリクス部(画素部)の平面構成》図
1は、本発明の一発明の実施の形態(発明の実施の形態
1)であるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示
装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
1は、本発明の一発明の実施の形態(発明の実施の形態
1)であるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示
装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【0050】各画素は隣接する2本の走査信号線(ゲー
ト信号線または水平信号線)(GL)と、隣接する2本
の映像信号線(ドレイン信号線または垂直信号線)(D
L)との交差領域内(4本の信号線で囲まれた領域内)
に配置されている。
ト信号線または水平信号線)(GL)と、隣接する2本
の映像信号線(ドレイン信号線または垂直信号線)(D
L)との交差領域内(4本の信号線で囲まれた領域内)
に配置されている。
【0051】各画素は、薄膜トランジスタ(TFT)、
蓄積容量(Cstg)、画素電極(SL)、対向電極
(CL’)および対向電圧信号線(コモン信号線)(C
L)とを含んでいる。
蓄積容量(Cstg)、画素電極(SL)、対向電極
(CL’)および対向電圧信号線(コモン信号線)(C
L)とを含んでいる。
【0052】ここで、走査信号線(GL)、対向電圧信
号線(CL)は、図1においては左右方向に延在し、上
下方向に複数本配置されている。
号線(CL)は、図1においては左右方向に延在し、上
下方向に複数本配置されている。
【0053】また、映像信号線(DL)は、上下方向に
延在し、左右方向に複数本配置されている。
延在し、左右方向に複数本配置されている。
【0054】また、画素電極(SL)は、薄膜トランジ
スタ(TFT)のソース電極(SD1)と接続され、さ
らに、対向電極(CL’)は、対向電圧信号線(CL)
と一体に構成されている。
スタ(TFT)のソース電極(SD1)と接続され、さ
らに、対向電極(CL’)は、対向電圧信号線(CL)
と一体に構成されている。
【0055】画素電極(SL)と対向電極(CL’)と
は互いに対向し、各画素電極(SL)と対向電極(C
L’)との間の電界により液晶層(LCD)の光学的な
状態を制御し、表示を制御する。
は互いに対向し、各画素電極(SL)と対向電極(C
L’)との間の電界により液晶層(LCD)の光学的な
状態を制御し、表示を制御する。
【0056】画素電極(PX)と対向電極(CT)とは
櫛歯状に構成され、図1に示すように、画素電極(S
L)は斜め下方向に延びる直線形状、対向電極(C
L’)は、対向電圧信号線(CL)から上方向に突起し
た、対向面(画素電極(SL)と対向する面)が斜め上
方向に延びる櫛歯形状をしており、画素電極(SL)と
対向電極(CL’)の間の領域は1画素内で2分割され
ている。
櫛歯状に構成され、図1に示すように、画素電極(S
L)は斜め下方向に延びる直線形状、対向電極(C
L’)は、対向電圧信号線(CL)から上方向に突起し
た、対向面(画素電極(SL)と対向する面)が斜め上
方向に延びる櫛歯形状をしており、画素電極(SL)と
対向電極(CL’)の間の領域は1画素内で2分割され
ている。
【0057】《表示マトリクス部(画素部)の断面構
成》図2は、図1に示すa−a’切断線における要部断
面を示す断面図、図3は、図1に示す4−4切断線にお
ける薄膜トランジスタ(TFT)の断面を示す断面図、
図4は、図1に示す5−5切断線における蓄積容量(C
stg)の断面を示す断面図である。
成》図2は、図1に示すa−a’切断線における要部断
面を示す断面図、図3は、図1に示す4−4切断線にお
ける薄膜トランジスタ(TFT)の断面を示す断面図、
図4は、図1に示す5−5切断線における蓄積容量(C
stg)の断面を示す断面図である。
【0058】図2〜図4に示すように、液晶層(LC
D)を基準にして下部透明ガラス基板(SUB1)側に
は、薄膜トランジスタ(TFT)、蓄積容量(Cst
g)および電極群が形成され、上部透明ガラス基板(S
UB2)側には、カラーフィルタ(FIL)、遮光用ブ
ラックマトリクスパターン(BM)が形成されている。
D)を基準にして下部透明ガラス基板(SUB1)側に
は、薄膜トランジスタ(TFT)、蓄積容量(Cst
g)および電極群が形成され、上部透明ガラス基板(S
UB2)側には、カラーフィルタ(FIL)、遮光用ブ
ラックマトリクスパターン(BM)が形成されている。
【0059】また、透明ガラス基板(SUB1、SUB
2)のそれぞれの内側(液晶層(LCD)側)の表面に
は、液晶の初期配向を制御する配向膜(OR1、OR
2)が設けられており、透明ガラス基板(SUB1、S
UB2)のそれぞれの外側の表面には、それぞれ偏光板
(POL1、POL2)が設けられている。
2)のそれぞれの内側(液晶層(LCD)側)の表面に
は、液晶の初期配向を制御する配向膜(OR1、OR
2)が設けられており、透明ガラス基板(SUB1、S
UB2)のそれぞれの外側の表面には、それぞれ偏光板
(POL1、POL2)が設けられている。
【0060】以下、より詳細な構成について説明する。
【0061】《TFT基板》まず、下部透明ガラス基板
(SUB1)側(TFT基板)の構成を詳しく説明す
る。
(SUB1)側(TFT基板)の構成を詳しく説明す
る。
【0062】《薄膜トランジスタ(TFT)》薄膜トラ
ンジスタ(TFT)は、ゲート電極(GT)に正のバイ
アスを印加すると、ソース−ドレイン間のチャネル抵抗
が小さくなり、バイアスを零にすると、チャネル抵抗は
大きくなるように動作する。
ンジスタ(TFT)は、ゲート電極(GT)に正のバイ
アスを印加すると、ソース−ドレイン間のチャネル抵抗
が小さくなり、バイアスを零にすると、チャネル抵抗は
大きくなるように動作する。
【0063】薄膜トランジスタ(TFT)は、図3に示
すように、ゲート電極(GT)、ゲート絶縁膜(G
I)、i型(真性、intrinsic、導電型決定不
純物がドープされていない)非晶質シリコン(Si)か
らなるi型半導体層(AS)、一対のソース電極(SD
1)、ドレイン電極(SD2)を有す。
すように、ゲート電極(GT)、ゲート絶縁膜(G
I)、i型(真性、intrinsic、導電型決定不
純物がドープされていない)非晶質シリコン(Si)か
らなるi型半導体層(AS)、一対のソース電極(SD
1)、ドレイン電極(SD2)を有す。
【0064】なお、ソース電極(SD1)、ドレイン電
極(SD2)は本来その間のバイアス極性によって決ま
るもので、この液晶表示装置の回路ではその極性は動作
中反転するので、ソース電極(SD1)、ドレイン電極
(SD2)は動作中入れ替わると理解されたい。
極(SD2)は本来その間のバイアス極性によって決ま
るもので、この液晶表示装置の回路ではその極性は動作
中反転するので、ソース電極(SD1)、ドレイン電極
(SD2)は動作中入れ替わると理解されたい。
【0065】しかし、以下の説明では、便宜上一方をソ
ース電極(SD1)、他方をドレイン電極(SD2)と
固定して表現する。
ース電極(SD1)、他方をドレイン電極(SD2)と
固定して表現する。
【0066】なお、本発明の実施の形態では、薄膜トラ
ンジスタ(TFT)として、非晶質(アモルファス)シ
リコン薄膜トランジスタ素子を用いたが、これに限定さ
れず、ポリシリコン薄膜トランジスタ素子、シリコンウ
エハ上のMOS型トランジスタ、有機TFT、または、
MIM(Metal−Insulator−Meta
l)ダイオード等の2端子素子(厳密にはアクティブ素
子ではないが、本発明ではアクティブ素子とする)を用
いることも可能である。
ンジスタ(TFT)として、非晶質(アモルファス)シ
リコン薄膜トランジスタ素子を用いたが、これに限定さ
れず、ポリシリコン薄膜トランジスタ素子、シリコンウ
エハ上のMOS型トランジスタ、有機TFT、または、
MIM(Metal−Insulator−Meta
l)ダイオード等の2端子素子(厳密にはアクティブ素
子ではないが、本発明ではアクティブ素子とする)を用
いることも可能である。
【0067】《ゲート電極(GT)》ゲート電極(G
T)は、走査信号線(GL)と連続して形成されてお
り、走査信号線(GL)の一部の領域がゲート電極(G
T)となるように構成されている。
T)は、走査信号線(GL)と連続して形成されてお
り、走査信号線(GL)の一部の領域がゲート電極(G
T)となるように構成されている。
【0068】ゲート電極(GT)は、薄膜トランジスタ
(TFT)の能動領域を超える部分であり、i型半導体
層(AS)を完全に覆う(下方からみて)ように、それ
より大き目に形成されている。
(TFT)の能動領域を超える部分であり、i型半導体
層(AS)を完全に覆う(下方からみて)ように、それ
より大き目に形成されている。
【0069】これにより、ゲート電極(GT)の役割の
ほかに、i型半導体層(AS)に外光やバックライト光
が当たらないように工夫されている。
ほかに、i型半導体層(AS)に外光やバックライト光
が当たらないように工夫されている。
【0070】本発明の実施の形態では、ゲート電極(G
T)は、単層の導電膜(g1)で形成されており、導電
膜(g1)としては、例えば、スパッタリングで形成さ
れたアルミニウム(Al)系の導電膜が用いられ、その
上にはアルミニウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が
設けられている。
T)は、単層の導電膜(g1)で形成されており、導電
膜(g1)としては、例えば、スパッタリングで形成さ
れたアルミニウム(Al)系の導電膜が用いられ、その
上にはアルミニウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が
設けられている。
【0071】《走査信号線(GL)》走査信号線(G
L)は、導電膜(g1)で構成されており、この走査信
号線(GL)の導電膜(g1)は、ゲート電極(GT)
の導電膜(g1)と同一製造工程で形成され、かつ一体
に構成されている。
L)は、導電膜(g1)で構成されており、この走査信
号線(GL)の導電膜(g1)は、ゲート電極(GT)
の導電膜(g1)と同一製造工程で形成され、かつ一体
に構成されている。
【0072】この走査信号線(GL)により、外部回路
からゲート電圧(VG)をゲート電極(GT)に供給す
る。
からゲート電圧(VG)をゲート電極(GT)に供給す
る。
【0073】また、走査信号線(GL)上にもアルミニ
ウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられてい
る。
ウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられてい
る。
【0074】《対向電極(CL’)》対向電極(C
L’)は、ゲート電極(GT)および走査信号線(G
L)と同層の導電膜(g1)で構成されている。
L’)は、ゲート電極(GT)および走査信号線(G
L)と同層の導電膜(g1)で構成されている。
【0075】また、対向電極(CL’)上にもアルミニ
ウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられてい
る。
ウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられてい
る。
【0076】対向電極(CL’)には、対向電圧(Vc
om)が印加されるように構成されている。
om)が印加されるように構成されている。
【0077】本発明の実施の形態では、対向電圧(Vc
om)は、映像信号線(DL)に印加される最小レベル
の駆動電圧(VDmin)と最大レベルの駆動電圧(VD
max)との中間直流電位から、薄膜トランジスタ素子
(TFT)をオフ状態にするときに発生するフィードス
ルー電圧(ΔVs分)だけ低い電位に設定されるが、映
像信号駆動回路で使用される集積回路の電源電圧を約半
分に低減したい場合は、交流電圧を印加すれば良い。
om)は、映像信号線(DL)に印加される最小レベル
の駆動電圧(VDmin)と最大レベルの駆動電圧(VD
max)との中間直流電位から、薄膜トランジスタ素子
(TFT)をオフ状態にするときに発生するフィードス
ルー電圧(ΔVs分)だけ低い電位に設定されるが、映
像信号駆動回路で使用される集積回路の電源電圧を約半
分に低減したい場合は、交流電圧を印加すれば良い。
【0078】《対向電圧信号線(CL)》対向電圧信号
線(CL)は、導電膜(g1)で構成されている。
線(CL)は、導電膜(g1)で構成されている。
【0079】この対向電圧信号線(CL)の導電膜(g
1)は、ゲート電極(GT)、走査信号線(GL)およ
び対向電極(CL’)の導電膜(g1)と同一製造工程
で形成され、かつ対向電極(CL’)と一体に構成され
ている。
1)は、ゲート電極(GT)、走査信号線(GL)およ
び対向電極(CL’)の導電膜(g1)と同一製造工程
で形成され、かつ対向電極(CL’)と一体に構成され
ている。
【0080】この対向電圧信号線(CL)により、外部
回路から対向電圧(Vcom)を対向電極(CL’)に
供給する。
回路から対向電圧(Vcom)を対向電極(CL’)に
供給する。
【0081】また、対向電圧信号線(CL)上にもアル
ミニウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられて
いる。
ミニウム(Al)の陽極酸化膜(AOF)が設けられて
いる。
【0082】また、対向電極(CL’)および対向電圧
信号線(CL)は、上部透明ガラス基板(SUB2)
(カラーフィルタ基板)側に形成してもよい。
信号線(CL)は、上部透明ガラス基板(SUB2)
(カラーフィルタ基板)側に形成してもよい。
【0083】《絶縁膜(GI)》絶縁膜(GI)は、薄
膜トランジスタ(TFT)において、ゲート電極(G
T)と共に半導体層(AS)に電界を与えるためのゲー
ト絶縁膜として使用される。
膜トランジスタ(TFT)において、ゲート電極(G
T)と共に半導体層(AS)に電界を与えるためのゲー
ト絶縁膜として使用される。
【0084】絶縁膜(GI)は、ゲート電極(GT)お
よび走査信号線(GL)の上層に形成されており、絶縁
膜(GI)としては、例えば、プラズマCVDで形成さ
れた窒化シリコン膜が選ばれ、1200〜2700オン
グストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、24
00オングストローム程度)形成される。
よび走査信号線(GL)の上層に形成されており、絶縁
膜(GI)としては、例えば、プラズマCVDで形成さ
れた窒化シリコン膜が選ばれ、1200〜2700オン
グストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、24
00オングストローム程度)形成される。
【0085】ゲート絶縁膜(GI)は、表示マトリクス
部(AR)の全体を囲むように形成され、周辺部は外部
接続端子(DTM、GTM)が露出されるように除去さ
れている。
部(AR)の全体を囲むように形成され、周辺部は外部
接続端子(DTM、GTM)が露出されるように除去さ
れている。
【0086】絶縁膜(GI)は、走査信号線(GL)お
よび対向電圧信号線(CL)と、映像信号線(DL)と
の電気的絶縁にも寄与している。
よび対向電圧信号線(CL)と、映像信号線(DL)と
の電気的絶縁にも寄与している。
【0087】《i型半導体層(AS)》i型半導体層
(AS)は、非晶質シリコンで、200〜2200オン
グストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、20
00オングストローム程度の膜厚)形成される。
(AS)は、非晶質シリコンで、200〜2200オン
グストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、20
00オングストローム程度の膜厚)形成される。
【0088】層(d0)は、オーミックコンタクト用の
リン(P)をドープしたN(+)型非晶質シリコン半導
体層であり、下側にi型半導体層(AS)が存在し、上
側に導電膜(d1、d2)が存在するところのみに残さ
れている。
リン(P)をドープしたN(+)型非晶質シリコン半導
体層であり、下側にi型半導体層(AS)が存在し、上
側に導電膜(d1、d2)が存在するところのみに残さ
れている。
【0089】i型半導体層(AS)は、走査信号線(G
L)および対向電圧信号線(CL)と映像信号線(D
L)との交差部(クロスオーバ部)の両者間にも設けら
れている。
L)および対向電圧信号線(CL)と映像信号線(D
L)との交差部(クロスオーバ部)の両者間にも設けら
れている。
【0090】この交差部のi型半導体層(AS)は、交
差部における走査信号線(GL)および対向電圧信号線
(CL)と映像信号線(DL)との短絡を低減する。
差部における走査信号線(GL)および対向電圧信号線
(CL)と映像信号線(DL)との短絡を低減する。
【0091】《ソース電極(SD1)、ドレイン電極
(SD2)》ソース電極(SD1)、ドレイン電極(S
D2)のそれぞれは、N(+)型半導体層(d0)に接
触する導電膜(d1)とその上に形成された導電膜(d
2)とから構成されている。
(SD2)》ソース電極(SD1)、ドレイン電極(S
D2)のそれぞれは、N(+)型半導体層(d0)に接
触する導電膜(d1)とその上に形成された導電膜(d
2)とから構成されている。
【0092】導電膜(d1)は、スパッタリングで形成
したクロム(Cr)膜を用い、500〜1000オング
ストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、600
オングストローム程度)形成される。
したクロム(Cr)膜を用い、500〜1000オング
ストロームの厚さに(本発明の実施の形態では、600
オングストローム程度)形成される。
【0093】クロム(Cr)膜は、膜厚を厚く形成する
とストレスが大きくなるので、2000オングストロー
ム程度の膜厚を越えない範囲で形成する。
とストレスが大きくなるので、2000オングストロー
ム程度の膜厚を越えない範囲で形成する。
【0094】クロム(Cr)膜は、N(+)型半導体層
(d0)との接着性を良好にし、アルミニウム(Al)
系の導電膜(d2)におけるアルミニウム(Al)がN
(+)型半導体層(d0)に拡散することを防止する
(いわゆるバリア層の)目的で使用される。
(d0)との接着性を良好にし、アルミニウム(Al)
系の導電膜(d2)におけるアルミニウム(Al)がN
(+)型半導体層(d0)に拡散することを防止する
(いわゆるバリア層の)目的で使用される。
【0095】導電膜(d1)として、クロム(Cr)膜
の他に、高融点金属(モリブテン(Mo)、チタン(T
i)、タンタル(Ta)、タングステン(W))膜、高
融点金属シリサイド(MoSi2、TiSi2、TaS
i2、WSi2)膜を用いてもよい。
の他に、高融点金属(モリブテン(Mo)、チタン(T
i)、タンタル(Ta)、タングステン(W))膜、高
融点金属シリサイド(MoSi2、TiSi2、TaS
i2、WSi2)膜を用いてもよい。
【0096】導電膜(d2)としては、アルミニウム
(Al)系の導電膜をスパッタリングで3000〜50
00オングストロームの厚さに(本発明の実施の形態で
は、4000オングストローム程度)形成する。
(Al)系の導電膜をスパッタリングで3000〜50
00オングストロームの厚さに(本発明の実施の形態で
は、4000オングストローム程度)形成する。
【0097】アルミニウム(Al)系の導電膜は、クロ
ム(Cr)膜に比べてストレスが小さく、厚い膜厚に形
成することが可能で、ソース電極(SD1)、ドレイン
電極(SD2)および映像信号線(DL)の抵抗値を低
減したり、ゲート電極(GT)やi型半導体層(AS)
に起因する段差乗り越えを確実にする(ステップカバー
レッジを良くする)働きがある。
ム(Cr)膜に比べてストレスが小さく、厚い膜厚に形
成することが可能で、ソース電極(SD1)、ドレイン
電極(SD2)および映像信号線(DL)の抵抗値を低
減したり、ゲート電極(GT)やi型半導体層(AS)
に起因する段差乗り越えを確実にする(ステップカバー
レッジを良くする)働きがある。
【0098】また、導電膜(d1)、導電膜(d2)を
同じマスクパターンでパターニングした後、同じマスク
を用いて、あるいは、導電膜(d1)、導電膜(d2)
をマスクとして、N(+)型半導体層(d0)が除去さ
れる。
同じマスクパターンでパターニングした後、同じマスク
を用いて、あるいは、導電膜(d1)、導電膜(d2)
をマスクとして、N(+)型半導体層(d0)が除去さ
れる。
【0099】つまり、i型半導体層(AS)上に残って
いたN(+)型半導体層(d0)は導電膜(d1)、導
電膜(d2)以外の部分がセルフアラインで除去され
る。
いたN(+)型半導体層(d0)は導電膜(d1)、導
電膜(d2)以外の部分がセルフアラインで除去され
る。
【0100】このとき、N(+)型半導体層(d0)は
その厚さ分は全て除去されるようエッチングされるの
で、i型半導体層(AS)も若干その表面部分がエッチ
ングされるが、その程度はエッチング時間で制御すれば
よい。
その厚さ分は全て除去されるようエッチングされるの
で、i型半導体層(AS)も若干その表面部分がエッチ
ングされるが、その程度はエッチング時間で制御すれば
よい。
【0101】《映像信号線(DL)》映像信号線(D
L)は、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD
2)と、同じく、導電膜(d1)と、その上に形成され
た導電膜(d2)とで構成されている。
L)は、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD
2)と、同じく、導電膜(d1)と、その上に形成され
た導電膜(d2)とで構成されている。
【0102】また、映像信号線(DL)は、ソース電極
(SD1)、ドレイン電極(SD2)と同層に形成さ
れ、さらに、像信号線(DL)は、ドレイン電極(SD
2)と一体に構成されている。
(SD1)、ドレイン電極(SD2)と同層に形成さ
れ、さらに、像信号線(DL)は、ドレイン電極(SD
2)と一体に構成されている。
【0103】《画素電極(SL)》画素電極(SL)
は、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD2)
と、同じく、導電膜(d1)と、その上に形成された導
電膜(d2)とで構成されている。
は、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD2)
と、同じく、導電膜(d1)と、その上に形成された導
電膜(d2)とで構成されている。
【0104】また、画素電極(SL)は、ソース電極
(SD1)、ドレイン電極(SD2)と同層に形成さ
れ、さらに、画素電極(SL)は、ソース電極(SD
1)と一体に構成されている。
(SD1)、ドレイン電極(SD2)と同層に形成さ
れ、さらに、画素電極(SL)は、ソース電極(SD
1)と一体に構成されている。
【0105】《蓄積容量(Cstg)》画素電極(S
L)は、薄膜トランジスタ(TFT)と接続される端部
と反対側の端部において、対向電圧信号線(CL)と重
なるように構成されている。
L)は、薄膜トランジスタ(TFT)と接続される端部
と反対側の端部において、対向電圧信号線(CL)と重
なるように構成されている。
【0106】この重ね合わせは、図4からも明らかなよ
うに、画素電極(SL)を一方の電極(PL2)とし、
対向電圧信号(CL)を他方の電極(PL1)とする蓄
積容量(静電容量素子)(Cstg)を構成する。
うに、画素電極(SL)を一方の電極(PL2)とし、
対向電圧信号(CL)を他方の電極(PL1)とする蓄
積容量(静電容量素子)(Cstg)を構成する。
【0107】この蓄積容量(Cstg)の誘電体膜は、
薄膜トランジスタ(TFT)のゲート絶縁膜として使用
される絶縁膜(GI)および陽極酸化膜(AOF)で構
成されている。
薄膜トランジスタ(TFT)のゲート絶縁膜として使用
される絶縁膜(GI)および陽極酸化膜(AOF)で構
成されている。
【0108】図1に示すように平面的には蓄積容量(C
stg)は、対向電圧信号線(CL)の導電膜(g1)
の部分に形成されている。
stg)は、対向電圧信号線(CL)の導電膜(g1)
の部分に形成されている。
【0109】《保護膜(PSV)》薄膜トランジスタ
(TFT)上には、保護膜(PSV)が設けられてい
る。
(TFT)上には、保護膜(PSV)が設けられてい
る。
【0110】保護膜(PSV)は、主に薄膜トランジス
タ(TFT)を湿気等から保護するために設けられてお
り、透明性が高く、しかも、耐湿性の良いものを使用す
る。
タ(TFT)を湿気等から保護するために設けられてお
り、透明性が高く、しかも、耐湿性の良いものを使用す
る。
【0111】保護膜(PSV)は、例えば、プラズマC
VD装置で形成した酸化シリコン膜や窒化シリコン膜で
形成されており、1μm程度の膜厚に形成する。
VD装置で形成した酸化シリコン膜や窒化シリコン膜で
形成されており、1μm程度の膜厚に形成する。
【0112】保護膜(PSV)は、表示マトリクス部
(AR)の全体を囲むように形成され、周辺部は外部接
続端子(DTM、GTM)を露出されるように除去され
ている。
(AR)の全体を囲むように形成され、周辺部は外部接
続端子(DTM、GTM)を露出されるように除去され
ている。
【0113】保護膜(PSV)とゲート絶縁膜(GI)
の厚さ関係に関しては、前者は保護効果を考え厚くさ
れ、後者はトランジスタの相互コンダクタンス(gm)
を考え薄くされる。
の厚さ関係に関しては、前者は保護効果を考え厚くさ
れ、後者はトランジスタの相互コンダクタンス(gm)
を考え薄くされる。
【0114】従って、保護効果の高い保護膜(PSV)
は、周辺部もできるだけ広い範囲に亘って保護するよう
ゲート絶縁膜(GI)よりも大きく形成されている。
は、周辺部もできるだけ広い範囲に亘って保護するよう
ゲート絶縁膜(GI)よりも大きく形成されている。
【0115】《カラーフィルタ基板》次に、図1、図2
に戻り、上部透明ガラス基板(SUB2)側(カラーフ
ィルタ基板)の構成を詳しく説明する。
に戻り、上部透明ガラス基板(SUB2)側(カラーフ
ィルタ基板)の構成を詳しく説明する。
【0116】《遮光膜(BM)》上部透明ガラス基板
(SUB2)側には、不要な間隙部(画素電極(SL)
と対向電極(CL’)の間以外の隙間)からの透過光が
表示面側に出射して、コントラスト比等を低下させない
ように遮光膜(BM)(いわゆるブラックマトリクス)
が形成される。
(SUB2)側には、不要な間隙部(画素電極(SL)
と対向電極(CL’)の間以外の隙間)からの透過光が
表示面側に出射して、コントラスト比等を低下させない
ように遮光膜(BM)(いわゆるブラックマトリクス)
が形成される。
【0117】遮光膜(BM)は、外部光またはバックラ
イト光がi型半導体層(AS)に入射しないようにする
役割も果たしている。
イト光がi型半導体層(AS)に入射しないようにする
役割も果たしている。
【0118】すなわち、薄膜トランジスタ(TFT)の
i型半導体層(AS)は上下にある遮光膜(BM)およ
び大き目のゲート電極(GT)によってサンドイッチに
され、外部の自然光やバックライト光が当たらなくな
る。
i型半導体層(AS)は上下にある遮光膜(BM)およ
び大き目のゲート電極(GT)によってサンドイッチに
され、外部の自然光やバックライト光が当たらなくな
る。
【0119】図1に示す遮光膜(BM)の閉じた多角形
の輪郭線は、その内側が遮光膜(BM)が形成されない
開口を示している。
の輪郭線は、その内側が遮光膜(BM)が形成されない
開口を示している。
【0120】遮光膜(BM)は、光に対する遮蔽性を有
し、かつ、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間
の電界に影響を与えないように絶縁性の高い膜で形成さ
れており、本発明の実施の形態では、黒色の顔料をレジ
スト材に混入し、1.2μm程度の厚さに形成してい
る。
し、かつ、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間
の電界に影響を与えないように絶縁性の高い膜で形成さ
れており、本発明の実施の形態では、黒色の顔料をレジ
スト材に混入し、1.2μm程度の厚さに形成してい
る。
【0121】遮光膜(BM)は、各画素の周囲に格子状
に形成され、この格子で1画素の有効表示領域が仕切ら
れている。
に形成され、この格子で1画素の有効表示領域が仕切ら
れている。
【0122】従って、各画素の輪郭が遮光膜(BM)に
よってはっきりとする。
よってはっきりとする。
【0123】つまり、遮光膜(BM)は、ブラックマト
リクスとi型半導体層(AS)に対する遮光との2つの
機能をもつ。
リクスとi型半導体層(AS)に対する遮光との2つの
機能をもつ。
【0124】遮光膜(BM)は、周辺部にも額縁状に形
成され、そのパターンは、ドット状に複数の開口を設け
た図1に示すマトリクス部のパターンと連続して形成さ
れている。
成され、そのパターンは、ドット状に複数の開口を設け
た図1に示すマトリクス部のパターンと連続して形成さ
れている。
【0125】周辺部の遮光膜(BM)は、シール部(S
LP)の外側に延長され、パソコン等の実装機に起因す
る反射光等の漏れ光が表示マトリクス部に入り込むのを
防いでいる。
LP)の外側に延長され、パソコン等の実装機に起因す
る反射光等の漏れ光が表示マトリクス部に入り込むのを
防いでいる。
【0126】他方、この遮光膜(BM)は上部透明ガラ
ス基板(SUB2)の縁よりも約0.3〜1.0mm程
内側に留められ、上部透明ガラス基板(SUB2)の切
断領域を避けて形成されている。
ス基板(SUB2)の縁よりも約0.3〜1.0mm程
内側に留められ、上部透明ガラス基板(SUB2)の切
断領域を避けて形成されている。
【0127】《カラーフィルタ(FIL)》カラーフィ
ルタ(FIL)は、画素に対向する位置に赤、緑、青の
繰り返しでストライプ状に形成され、また、カラーフィ
ルタ(FIL)は、遮光膜(BM)のエッジ部分と重な
るように形成されている。
ルタ(FIL)は、画素に対向する位置に赤、緑、青の
繰り返しでストライプ状に形成され、また、カラーフィ
ルタ(FIL)は、遮光膜(BM)のエッジ部分と重な
るように形成されている。
【0128】カラーフィルタ(FIL)は、次のように
して形成することができる。
して形成することができる。
【0129】まず、上部透明ガラス基板(SUB2)の
表面にアクリル系樹脂等の染色基材を形成し、フォトリ
ソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外の染色基材
を除去する。
表面にアクリル系樹脂等の染色基材を形成し、フォトリ
ソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外の染色基材
を除去する。
【0130】この後、染色基材を赤色染料で染め、固着
処理を施し、赤色フィルタ(R)を形成する。
処理を施し、赤色フィルタ(R)を形成する。
【0131】つぎに、同様な工程を施すことによって、
緑色フィルタ(G)、青色フィルタ(B)を順次形成す
る。
緑色フィルタ(G)、青色フィルタ(B)を順次形成す
る。
【0132】《オーバーコート膜(OC)》オーバーコ
ート膜(OC)は、カラーフィルタ(FIL)から染料
が液晶層(LCD)へ漏洩するのを防止し、および、カ
ラーフィルタ(FIL)、遮光膜(BM)による段差を
平坦化するために設けられている。
ート膜(OC)は、カラーフィルタ(FIL)から染料
が液晶層(LCD)へ漏洩するのを防止し、および、カ
ラーフィルタ(FIL)、遮光膜(BM)による段差を
平坦化するために設けられている。
【0133】オーバーコート膜(OC)はたとえばアク
リル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料で形成されて
いる。
リル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料で形成されて
いる。
【0134】《表示マトリクス部(AR)周辺の構成》
図5は、上下の透明ガラス基板(SUB1、SUB2)
を含む表示パネル(PNL)の表示マトリクス(AR)
部周辺の要部平面を示す図である。
図5は、上下の透明ガラス基板(SUB1、SUB2)
を含む表示パネル(PNL)の表示マトリクス(AR)
部周辺の要部平面を示す図である。
【0135】また、図6は、左側に走査回路が接続され
るべき外部接続端子(GTM)付近の断面を、右側に外
部接続端子がないところのシール部付近の断面を示す図
である。
るべき外部接続端子(GTM)付近の断面を、右側に外
部接続端子がないところのシール部付近の断面を示す図
である。
【0136】このパネルの製造では、小さいサイズであ
れば、スループット向上のため1枚のガラス基板で複数
個分のデバイスを同時に加工してから分割し、また、大
きいサイズであれば、製造設備の共用のためどの品種で
も標準化された大きさのガラス基板を加工してから、各
品種に合ったサイズに小さくし、いずれの場合も一通り
の工程を経てからガラスを切断する。
れば、スループット向上のため1枚のガラス基板で複数
個分のデバイスを同時に加工してから分割し、また、大
きいサイズであれば、製造設備の共用のためどの品種で
も標準化された大きさのガラス基板を加工してから、各
品種に合ったサイズに小さくし、いずれの場合も一通り
の工程を経てからガラスを切断する。
【0137】図5、図6は後者の例を示すもので、図
5、図6の両図とも上下透明ガラス基板(SUB1、S
UB2)の切断後を表しており、図5に示すLNは両基
板の切断前の縁を示す。
5、図6の両図とも上下透明ガラス基板(SUB1、S
UB2)の切断後を表しており、図5に示すLNは両基
板の切断前の縁を示す。
【0138】いずれの場合も、完成状態では外部接続端
子群(Tg、Td)および端子(CTM)(添字略)が
存在する(図で上辺と左辺の)部分は、それらが露出さ
れるように上部透明ガラス基板(SUB2)の大きさが
下部透明ガラス基板(SUB1)よりも内側に制限され
ている。
子群(Tg、Td)および端子(CTM)(添字略)が
存在する(図で上辺と左辺の)部分は、それらが露出さ
れるように上部透明ガラス基板(SUB2)の大きさが
下部透明ガラス基板(SUB1)よりも内側に制限され
ている。
【0139】端子群(Tg、Td)は、それぞれ後述す
る走査回路接続用端子(GTM)、映像信号回路接続用
端子(DTM)とそれらの引出配線部を集積回路チップ
(CHI)が搭載されたテープキャリアパッケージ(T
CP)(図16、図17)の単位に複数本まとめて名付
けたものである。
る走査回路接続用端子(GTM)、映像信号回路接続用
端子(DTM)とそれらの引出配線部を集積回路チップ
(CHI)が搭載されたテープキャリアパッケージ(T
CP)(図16、図17)の単位に複数本まとめて名付
けたものである。
【0140】各群の表示マトリクス部から外部接続端子
部に至るまでの引出配線は、両端に近づくにつれ傾斜し
ている。
部に至るまでの引出配線は、両端に近づくにつれ傾斜し
ている。
【0141】これは、パッケージ(TCP)の配列ピッ
チ及び各パッケージ(TCP)における接続端子ピッチ
に表示パネル(PNL)の端子(DTM、GTM)を合
わせるためである。
チ及び各パッケージ(TCP)における接続端子ピッチ
に表示パネル(PNL)の端子(DTM、GTM)を合
わせるためである。
【0142】また、対向電極端子(CTM)は、対向電
極(CL’)に対向電圧(Vcom)を外部回路から与
えるための端子である。
極(CL’)に対向電圧(Vcom)を外部回路から与
えるための端子である。
【0143】表示マトリクス部の対向電圧信号線(C
L)は、走査回路用端子(GTM)の反対側(図では右
側)に引き出し、各対向電圧信号線(CL)を共通バス
ライン(CB)(対向電極接続信号線)で一纏めにし
て、対向電極端子(CTM)に接続している。
L)は、走査回路用端子(GTM)の反対側(図では右
側)に引き出し、各対向電圧信号線(CL)を共通バス
ライン(CB)(対向電極接続信号線)で一纏めにし
て、対向電極端子(CTM)に接続している。
【0144】透明ガラス基板(SUB1、SUB2)の
間にはその縁に沿って、液晶封入口(INJ)を除き、
液晶層(LCD)を封止するようにシールパターン(S
LP)が設けられる。
間にはその縁に沿って、液晶封入口(INJ)を除き、
液晶層(LCD)を封止するようにシールパターン(S
LP)が設けられる。
【0145】シールパターン(SLP)は、例えば、エ
ポキシ樹脂から形成される。
ポキシ樹脂から形成される。
【0146】配向膜(OR1、OR2)の層は、シール
パターン(SLP)の内側に形成され、また、偏光板
(POL1、POL2)は、それぞれ下部透明ガラス基
板(SUB1)、上部透明ガラス基板(SUB2)の外
側の表面に形成されている。
パターン(SLP)の内側に形成され、また、偏光板
(POL1、POL2)は、それぞれ下部透明ガラス基
板(SUB1)、上部透明ガラス基板(SUB2)の外
側の表面に形成されている。
【0147】液晶層(LCD)は、液晶分子の向きを設
定する下部配向膜(OR1)と上部配向膜(OR2)と
の間でシールパターン(SLP)で仕切られた領域に封
入される。
定する下部配向膜(OR1)と上部配向膜(OR2)と
の間でシールパターン(SLP)で仕切られた領域に封
入される。
【0148】下部配向膜(OR1)は、下部透明ガラス
基板(SUB1)側の保護膜(PSV)の上部に形成さ
れる。
基板(SUB1)側の保護膜(PSV)の上部に形成さ
れる。
【0149】本発明の実施の形態の液晶表示装置では、
下部透明ガラス基板(SUB1)、上部透明ガラス基板
(SUB2)を別個に種々の層を積み重ねて形成した
後、シールパターン(SLP)を上部透明ガラス基板
(SUB2)側に形成し、下部透明ガラス基板(SUB
1)と上部透明ガラス基板(SUB2)とを重ね合わ
せ、シールパターン(SLP)の開口部(INJ)から
液晶(LCD)を注入し、注入口(INJ)をエポキシ
樹脂などで封止し、上下基板を切断することによって組
み立てられる。
下部透明ガラス基板(SUB1)、上部透明ガラス基板
(SUB2)を別個に種々の層を積み重ねて形成した
後、シールパターン(SLP)を上部透明ガラス基板
(SUB2)側に形成し、下部透明ガラス基板(SUB
1)と上部透明ガラス基板(SUB2)とを重ね合わ
せ、シールパターン(SLP)の開口部(INJ)から
液晶(LCD)を注入し、注入口(INJ)をエポキシ
樹脂などで封止し、上下基板を切断することによって組
み立てられる。
【0150】《ゲート端子(GTM)部》図7は、表示
マトリクス部(AR)の走査信号線(GL)からその外
部接続端子であるゲート端子(GTM)までの接続構造
を示す図であり、図7(A)は、平面図であり、図7
(B)は、図7(A)に示すB−B切断線における断面
図である。
マトリクス部(AR)の走査信号線(GL)からその外
部接続端子であるゲート端子(GTM)までの接続構造
を示す図であり、図7(A)は、平面図であり、図7
(B)は、図7(A)に示すB−B切断線における断面
図である。
【0151】なお、図7は、図5における下方付近に対
応し、斜め配線の部分は便宜状一直線状で表した。
応し、斜め配線の部分は便宜状一直線状で表した。
【0152】図7において、AOはホトレジスト直接描
画の境界線、言い換えれば選択的陽極酸化のホトレジス
トパターンである。
画の境界線、言い換えれば選択的陽極酸化のホトレジス
トパターンである。
【0153】従って、このホトレジストは陽極酸化後除
去され、図7に示すパターン(AO)は完成品としては
残らないが、ゲート配線(GL)には断面図に示すよう
に酸化膜(AOF)が選択的に形成されるのでその軌跡
が残ることになる。
去され、図7に示すパターン(AO)は完成品としては
残らないが、ゲート配線(GL)には断面図に示すよう
に酸化膜(AOF)が選択的に形成されるのでその軌跡
が残ることになる。
【0154】図7(A)の平面図において、ホトレジス
トの境界線(AO)を基準にして左側はレジストで覆い
陽極酸化をしない領域、右側はレジストから露出され陽
極酸化される領域である。
トの境界線(AO)を基準にして左側はレジストで覆い
陽極酸化をしない領域、右側はレジストから露出され陽
極酸化される領域である。
【0155】陽極酸化されたアルミニウム(AL)系の
導電膜(g1)は、表面にアルミニウム酸化膜(Al2
O3)が形成され下方の導電部は体積が減少する。
導電膜(g1)は、表面にアルミニウム酸化膜(Al2
O3)が形成され下方の導電部は体積が減少する。
【0156】勿論、陽極酸化はその導電部が残るように
適切な時間、電圧などを設定して行われる。
適切な時間、電圧などを設定して行われる。
【0157】図7において、アルミニウム(AL)系の
導電膜(g1)は、判り易くするためハッチを施してあ
るが、陽極化成されない領域は櫛状にパターニングされ
ている。
導電膜(g1)は、判り易くするためハッチを施してあ
るが、陽極化成されない領域は櫛状にパターニングされ
ている。
【0158】これは、アルミニウム(Al)系の導電膜
の幅が広いと表面にホイスカが発生するので、1本1本
の幅は狭くし、それらを複数本並列に束ねた構成とする
ことにより、ホイスカの発生を防ぎつつ、断線の確率や
導電率の犠牲を最低限に押さえる狙いである。
の幅が広いと表面にホイスカが発生するので、1本1本
の幅は狭くし、それらを複数本並列に束ねた構成とする
ことにより、ホイスカの発生を防ぎつつ、断線の確率や
導電率の犠牲を最低限に押さえる狙いである。
【0159】ゲート端子(GTM)は、アルミニウム
(Al)系の導電膜(g1)と、更にその表面を保護
し、かつ、TCP(Tape Carrier Pac
kege)との接続の信頼性を向上させるための透明導
電膜(g2)とで形成されている。
(Al)系の導電膜(g1)と、更にその表面を保護
し、かつ、TCP(Tape Carrier Pac
kege)との接続の信頼性を向上させるための透明導
電膜(g2)とで形成されている。
【0160】この透明導電膜(g2)は、スパッタリン
グで形成された透明導電膜(Indium−Tin−O
xide ITO:ネサ膜)からなり、1000〜20
00オングストロームの厚さに(本発明の実施の形態で
は、1400オングストローム程度の膜厚)形成され
る。
グで形成された透明導電膜(Indium−Tin−O
xide ITO:ネサ膜)からなり、1000〜20
00オングストロームの厚さに(本発明の実施の形態で
は、1400オングストローム程度の膜厚)形成され
る。
【0161】また、アルミニウム(Al)系の導電膜
(g1)上、および、その側面部に形成された導電膜
(d1)は、導電膜(g1)と透明導電膜(g2)との
接続不良を補うために、導電膜(g1)と透明導電膜
(g2)との両方に接続性の良いクロム(Cr)層(d
1)を接続し、接続抵抗の低減を図るためのものであ
り、導電膜(d2)は導電膜(d1)と同一マスクで形
成しているために残っているものである。
(g1)上、および、その側面部に形成された導電膜
(d1)は、導電膜(g1)と透明導電膜(g2)との
接続不良を補うために、導電膜(g1)と透明導電膜
(g2)との両方に接続性の良いクロム(Cr)層(d
1)を接続し、接続抵抗の低減を図るためのものであ
り、導電膜(d2)は導電膜(d1)と同一マスクで形
成しているために残っているものである。
【0162】図7(A)の平面図において、ゲート絶縁
膜(GI)は、その境界線(AO)よりも右側に、保護
膜(PSV)は、その境界線(AO)よりも左側に形成
されており、左端に位置する端子部(GTM)はそれら
から露出し外部回路との電気的接触ができるようになっ
ている。
膜(GI)は、その境界線(AO)よりも右側に、保護
膜(PSV)は、その境界線(AO)よりも左側に形成
されており、左端に位置する端子部(GTM)はそれら
から露出し外部回路との電気的接触ができるようになっ
ている。
【0163】図7では、ゲート線(GL)とゲート端子
の一つの対のみが示されているが、実際はこのような対
が上下に複数本並べられて、図5に示す端子群(Tg)
が構成され、ゲート端子の左端は、製造過程では、下部
透明ガラス基板(SUB1)の切断領域を越えて延長さ
れ配線(SHg)(図示せず)によって短絡される。
の一つの対のみが示されているが、実際はこのような対
が上下に複数本並べられて、図5に示す端子群(Tg)
が構成され、ゲート端子の左端は、製造過程では、下部
透明ガラス基板(SUB1)の切断領域を越えて延長さ
れ配線(SHg)(図示せず)によって短絡される。
【0164】製造過程におけるこのような短絡線(SH
g)は、陽極化成時の給電と、配向膜(OR1)のラビ
ング時等の静電破壊防止に役立つ。
g)は、陽極化成時の給電と、配向膜(OR1)のラビ
ング時等の静電破壊防止に役立つ。
【0165】《ドレイン端子(DTM)部》図8は、表
示マトリクス部(AR)の映像信号線(DL)からその
外部接続端子であるドレイン端子(DTM)までの接続
を示す図であり、図8(A)はその平面図であり、図8
(B)は、図8(A)に示すB−B切断線における断面
図である。
示マトリクス部(AR)の映像信号線(DL)からその
外部接続端子であるドレイン端子(DTM)までの接続
を示す図であり、図8(A)はその平面図であり、図8
(B)は、図8(A)に示すB−B切断線における断面
図である。
【0166】なお、図8は、図5における右上付近に対
応し、図面の向きは便宜上変えてあるが右端方向が下部
透明ガラス基板(SUB1)の上端部に該当する。
応し、図面の向きは便宜上変えてあるが右端方向が下部
透明ガラス基板(SUB1)の上端部に該当する。
【0167】図8において、TSTdは検査端子であ
り、ここには外部回路は接続されないが、プローブ針等
を接触できるよう配線部より幅が広げられている。
り、ここには外部回路は接続されないが、プローブ針等
を接触できるよう配線部より幅が広げられている。
【0168】同様に、ドレイン端子(DTM)も外部回
路との接続ができるよう配線部より幅が広げられてい
る。
路との接続ができるよう配線部より幅が広げられてい
る。
【0169】ドレイン端子(DTM)は複数本上下方向
に並べられ、図5に示す端子群(Td)(添字省略)を
構成し、さらに、ドレイン端子(DTM)は、下部透明
ガラス基板(SUB1)の切断線を越えて延長され、製
造過程中は静電破壊防止のためその全てが互いに配線
(SHd)(図示せず)によって短絡される。
に並べられ、図5に示す端子群(Td)(添字省略)を
構成し、さらに、ドレイン端子(DTM)は、下部透明
ガラス基板(SUB1)の切断線を越えて延長され、製
造過程中は静電破壊防止のためその全てが互いに配線
(SHd)(図示せず)によって短絡される。
【0170】検査端子(TSTd)は、図8に示すよう
に一本置きの映像信号線(DL)に設けられる。
に一本置きの映像信号線(DL)に設けられる。
【0171】ドレイン接続端子(DTM)は、透明導電
膜(g2)の単層で形成されており、ゲート絶縁膜(G
I)を除去した部分で映像信号線(DL)と接続されて
いる。
膜(g2)の単層で形成されており、ゲート絶縁膜(G
I)を除去した部分で映像信号線(DL)と接続されて
いる。
【0172】ゲート絶縁膜(GI)の端部上に形成され
た半導体層(AS)は、ゲート絶縁膜(GI)の縁をテ
ーパ状にエッチングするためのものである。
た半導体層(AS)は、ゲート絶縁膜(GI)の縁をテ
ーパ状にエッチングするためのものである。
【0173】ドレイン接続端子(DTM)上では、外部
回路との接続を行うため保護膜(PSV)は勿論のこと
取り除かれている。
回路との接続を行うため保護膜(PSV)は勿論のこと
取り除かれている。
【0174】表示マトリクス部(AR)からドレイン端
子部(DTM)までの引出配線は、映像信号線(DL)
と同じレベルの導電膜(d1、d2)が、保護膜(PS
V)の途中まで構成されており、保護膜(PSV)の中
で透明導電膜(g2)と接続されている。
子部(DTM)までの引出配線は、映像信号線(DL)
と同じレベルの導電膜(d1、d2)が、保護膜(PS
V)の途中まで構成されており、保護膜(PSV)の中
で透明導電膜(g2)と接続されている。
【0175】これは、電触し易いアルミニウム(Al)
系の導電膜(d2)を保護膜(PSV)やシールパター
ン(SLP)でできるだけ保護する狙いである。
系の導電膜(d2)を保護膜(PSV)やシールパター
ン(SLP)でできるだけ保護する狙いである。
【0176】《対向電極端子(CTM)》図9は、対向
電圧信号線(CL)からその外部接続端子である対向電
極端子(CTM)までの接続を示す図であり、図9
(A)は、その平面図であり、図9(B)は、図9
(A)に示すB−B切断線における断面図である。
電圧信号線(CL)からその外部接続端子である対向電
極端子(CTM)までの接続を示す図であり、図9
(A)は、その平面図であり、図9(B)は、図9
(A)に示すB−B切断線における断面図である。
【0177】なお、図9は、図5における左上付近に対
応する。
応する。
【0178】各対向電圧信号線(CL)は、共通バスラ
イン(CB)で一纏めして対向電極端子(CTM)に引
き出されている。
イン(CB)で一纏めして対向電極端子(CTM)に引
き出されている。
【0179】共通バスライン(CB)は、導電膜(g
1)の上に導電膜(d1)、導電膜(d2)を積層した
構造となっている。
1)の上に導電膜(d1)、導電膜(d2)を積層した
構造となっている。
【0180】これは、共通バスライン(CB)の抵抗を
低減し、対向電圧が外部回路から各対向電圧信号線(C
L)に十分に供給されるようにするためである。
低減し、対向電圧が外部回路から各対向電圧信号線(C
L)に十分に供給されるようにするためである。
【0181】この構造によれば、特に新たに導電膜を付
加することなく、共通バスライン(CB)の抵抗を下げ
られるのが特徴である。
加することなく、共通バスライン(CB)の抵抗を下げ
られるのが特徴である。
【0182】共通バスライン(CB)の導電膜(g1)
は、導電膜(d1)、導電膜(d2)と電気的に接続さ
れるように、陽極参加はされておらず、また、ゲート絶
縁膜(GI)からも露出している。
は、導電膜(d1)、導電膜(d2)と電気的に接続さ
れるように、陽極参加はされておらず、また、ゲート絶
縁膜(GI)からも露出している。
【0183】対向電極端子(CTM)は、導電膜(g
1)の上に透明導電膜(g2)が積層された構造になっ
ている。
1)の上に透明導電膜(g2)が積層された構造になっ
ている。
【0184】このように、その表面を保護し、また、電
食等を防ぐために耐久性のよい透明導電膜(g2)で、
導電膜(g1)を覆っている。
食等を防ぐために耐久性のよい透明導電膜(g2)で、
導電膜(g1)を覆っている。
【0185】《表示装置全体等価回路》図10は、表示
マトリクス部(AR)の等価回路とその周辺回路の結線
図を示す図である。
マトリクス部(AR)の等価回路とその周辺回路の結線
図を示す図である。
【0186】なお、図10は、回路図ではあるが、実際
の幾何学的配置に対応して描かれている。
の幾何学的配置に対応して描かれている。
【0187】図10において、ARは、複数の画素を二
次元状に配列した表示マトリクス部(マトリクス・アレ
イ)を示している。
次元状に配列した表示マトリクス部(マトリクス・アレ
イ)を示している。
【0188】図10中、SLは画素電極であり、添字
G、BおよびRがそれぞれ緑、青および赤画素に対応し
て付加されている。
G、BおよびRがそれぞれ緑、青および赤画素に対応し
て付加されている。
【0189】走査信号線(GL)のy0、y1、…、y
endは走査タイミングの順序を示している。
endは走査タイミングの順序を示している。
【0190】走査信号線(GL)は垂直走査回路(V)
に接続されており、映像信号線(DL)は映像信号駆動
回路(H)に接続されている。
に接続されており、映像信号線(DL)は映像信号駆動
回路(H)に接続されている。
【0191】回路(SUP)は、1つの電圧源から複数
の分圧した安定化された電圧源を得るための電源回路や
ホスト(上位演算処理装置)からのCRT(陰極線管)
用の情報を(TFT)液晶表示装置用の情報に交換する
回路を含む回路である。
の分圧した安定化された電圧源を得るための電源回路や
ホスト(上位演算処理装置)からのCRT(陰極線管)
用の情報を(TFT)液晶表示装置用の情報に交換する
回路を含む回路である。
【0192】《駆動方法》図11は、本発明の実施の形
態の液晶表示装置における駆動時の駆動波形を示す図で
あり、図11(a)、図11(b)は、それぞれ、(i
−1)番目、(i)番目の走査信号線(GL)に印加さ
れるゲート電圧(走査信号電圧)(VG)を示してい
る。
態の液晶表示装置における駆動時の駆動波形を示す図で
あり、図11(a)、図11(b)は、それぞれ、(i
−1)番目、(i)番目の走査信号線(GL)に印加さ
れるゲート電圧(走査信号電圧)(VG)を示してい
る。
【0193】また、図11(c)は、映像信号線(D
L)に印加される映像信号電圧(VD)を示し、図11
(d)は、対向電極(CL’)に印加される対向電圧
(Vcom)を示している。
L)に印加される映像信号電圧(VD)を示し、図11
(d)は、対向電極(CL’)に印加される対向電圧
(Vcom)を示している。
【0194】さらに、図11(e)は、(i)行、
(j)列の画素における画素電極(SL)に印加される
画素電極電圧(Vs)を示し、図11(f)は、(i)
行、(j)列の画素の液晶層(LCD)に印加される電
圧(VLC)を示している。
(j)列の画素における画素電極(SL)に印加される
画素電極電圧(Vs)を示し、図11(f)は、(i)
行、(j)列の画素の液晶層(LCD)に印加される電
圧(VLC)を示している。
【0195】本発明の実施の形態の液晶表示装置の駆動
方法においては、図11(d)に示すように、対向電極
(CL’)に印加する対向電圧(Vcom)を、VCHと
VCLの2値の交流矩型波にし、それに同期させてゲート
電極(GT)に印加するゲート電圧(VG)の非選択電
圧を1走査期間ごとに、VGLHとVGLLの2値で変化させ
る。
方法においては、図11(d)に示すように、対向電極
(CL’)に印加する対向電圧(Vcom)を、VCHと
VCLの2値の交流矩型波にし、それに同期させてゲート
電極(GT)に印加するゲート電圧(VG)の非選択電
圧を1走査期間ごとに、VGLHとVGLLの2値で変化させ
る。
【0196】この場合に、対向電圧(Vcom)の振幅
値と、ゲート電圧(VG)の非選択電圧の振幅値とは同
一にする。
値と、ゲート電圧(VG)の非選択電圧の振幅値とは同
一にする。
【0197】映像信号線(DL)に印加される映像信号
電圧(VD)は、液晶層(LCD)に印加したい電圧か
ら、対向電圧(VC)の振幅の1/2を差し引いた電圧
(VSIG)である。
電圧(VD)は、液晶層(LCD)に印加したい電圧か
ら、対向電圧(VC)の振幅の1/2を差し引いた電圧
(VSIG)である。
【0198】対向電極(CL’)に印加する対向電圧
(Vcom)は直流でもよいが、交流化することで映像
信号電圧(VD)の最大振幅を低減でき、映像信号駆動
回路(信号側ドライバ)に耐圧の低いものを用いること
が可能になる。
(Vcom)は直流でもよいが、交流化することで映像
信号電圧(VD)の最大振幅を低減でき、映像信号駆動
回路(信号側ドライバ)に耐圧の低いものを用いること
が可能になる。
【0199】《蓄積容量(Cstg)の働き》蓄積容量
(Cstg)は、画素に書き込まれた(薄膜トランジス
タ(TFT)がオフした後の)映像情報を、長く蓄積す
るために設ける。
(Cstg)は、画素に書き込まれた(薄膜トランジス
タ(TFT)がオフした後の)映像情報を、長く蓄積す
るために設ける。
【0200】本発明の実施の形態のように、電界を基板
面と平行に印加する方式では、電界を基板面に垂直に印
加する方式と異なり、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)とで構成される容量(いわゆる液晶容量(Cpi
x))がほとんど無いため、蓄積容量(Cstg)がな
いと映像情報を画素に蓄積することができない。
面と平行に印加する方式では、電界を基板面に垂直に印
加する方式と異なり、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)とで構成される容量(いわゆる液晶容量(Cpi
x))がほとんど無いため、蓄積容量(Cstg)がな
いと映像情報を画素に蓄積することができない。
【0201】したがって、電界を基板面と平行に印加す
る方式では、蓄積容量(Cstg)は必須の構成要素で
ある。
る方式では、蓄積容量(Cstg)は必須の構成要素で
ある。
【0202】また、蓄積容量(Cstg)は、薄膜トラ
ンジスタ(TFT)がスイッチングするとき、画素電極
電位(Vs)に対するゲート電位変化(ΔVG)の影響
を低減するようにも働く。
ンジスタ(TFT)がスイッチングするとき、画素電極
電位(Vs)に対するゲート電位変化(ΔVG)の影響
を低減するようにも働く。
【0203】この様子を式で表すと、次のようになる。
【0204】
【数1】ΔVs={Cgs/(Cgs+Cstg+Cp
ix)}×ΔVG ここで、Cgsは薄膜トランジスタ(TFT)のゲート
電極(GT)とソース電極(SD1)との間に形成され
る寄生容量、Cpixは画素電極(SL)と対向電極
(CL’)との間に形成される容量、ΔVsはΔVGに
よる画素電極電位の変化分いわゆるフィードスルー電圧
を表わす。
ix)}×ΔVG ここで、Cgsは薄膜トランジスタ(TFT)のゲート
電極(GT)とソース電極(SD1)との間に形成され
る寄生容量、Cpixは画素電極(SL)と対向電極
(CL’)との間に形成される容量、ΔVsはΔVGに
よる画素電極電位の変化分いわゆるフィードスルー電圧
を表わす。
【0205】この変化分(ΔVs)は、液晶層(LC
D)に加わる直流成分の原因となるが、保持容量(Cs
tg)を大きくすればする程、その値を小さくすること
ができる。
D)に加わる直流成分の原因となるが、保持容量(Cs
tg)を大きくすればする程、その値を小さくすること
ができる。
【0206】液晶層(LCD)に印加される直流成分の
低減は、液晶層(LCD)の寿命を向上し、液晶表示画
面の切り替え時に前の画像が残るいわゆる焼き付きを低
減することができる。
低減は、液晶層(LCD)の寿命を向上し、液晶表示画
面の切り替え時に前の画像が残るいわゆる焼き付きを低
減することができる。
【0207】前述したように、ゲート電極(GT)は、
i型半導体層(AS)を完全に覆うよう大きくされてい
る分、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD2)
とのオーバラップ面積が増え、従って寄生容量(Cg
s)が大きくなり、画素電極電位(Vs)は、ゲート電
圧(走査信号電圧)(VG)の影響を受け易くなるとい
う逆効果が生じる。
i型半導体層(AS)を完全に覆うよう大きくされてい
る分、ソース電極(SD1)、ドレイン電極(SD2)
とのオーバラップ面積が増え、従って寄生容量(Cg
s)が大きくなり、画素電極電位(Vs)は、ゲート電
圧(走査信号電圧)(VG)の影響を受け易くなるとい
う逆効果が生じる。
【0208】しかし、蓄積容量(Cstg)を設けるこ
とによりこのデメリットも解消することができる。
とによりこのデメリットも解消することができる。
【0209】《製造方法》つぎに、前記した液晶表示装
置の下部透明ガラス基板(SUB1)側の製造方法につ
いて図12〜図14を参照して説明する。
置の下部透明ガラス基板(SUB1)側の製造方法につ
いて図12〜図14を参照して説明する。
【0210】なお、図12〜図14において、中央の文
字は工程名の略称であり、左側は図3に示す薄膜トラン
ジスタ(TFT)部分、右側は図7に示すゲート端子付
近の断面形状でみた加工の流れを示す。
字は工程名の略称であり、左側は図3に示す薄膜トラン
ジスタ(TFT)部分、右側は図7に示すゲート端子付
近の断面形状でみた加工の流れを示す。
【0211】工程B、工程Dを除き、工程A〜工程Iは
各写真処理に対応して区分けしたもので、各工程のいず
れの断面図も写真処理後の加工が終わりフォトレジスト
を除去した段階を示している。
各写真処理に対応して区分けしたもので、各工程のいず
れの断面図も写真処理後の加工が終わりフォトレジスト
を除去した段階を示している。
【0212】なお、以下の説明においては、写真処理と
は、フォトレジストの塗布からマスクを使用した選択露
光を経てそれを現像するまでの一連の作業を示すものと
し、繰返しの説明は避ける。
は、フォトレジストの塗布からマスクを使用した選択露
光を経てそれを現像するまでの一連の作業を示すものと
し、繰返しの説明は避ける。
【0213】以下区分けした工程に従って、説明する。
【0214】(工程A、図12)ガラスからなる下部透
明ガラス基板(SUB1)上に、膜厚が3000オング
ストロームのアルミニウム(Al)−パラジウム(P
d)、アルミニウム(Al)−シリコン(Si)、アル
ミニウム(Al)−タンタル(Ta)、アルミニウム
(Al)−チタン(Ti)−タンタル(Ta)等からな
る導電膜(g1)をスパッタリングにより形成する。
明ガラス基板(SUB1)上に、膜厚が3000オング
ストロームのアルミニウム(Al)−パラジウム(P
d)、アルミニウム(Al)−シリコン(Si)、アル
ミニウム(Al)−タンタル(Ta)、アルミニウム
(Al)−チタン(Ti)−タンタル(Ta)等からな
る導電膜(g1)をスパッタリングにより形成する。
【0215】写真処理後、リン酸と硝酸と氷酢酸と水と
の混酸液で導電膜(g1)を選択的にエッチングする。
の混酸液で導電膜(g1)を選択的にエッチングする。
【0216】それによって、ゲート電極(GT)、走査
信号線(GL)、対向電極(CL’)、対向電圧信号線
(CL)、電極(PL1)、ゲート端子(GTM)、共
通バスライン(CB)の第1導電膜、対向電極端子(C
TM)の第1導電膜、ゲート端子(GTM)を接続する
陽極酸化バスライン(SHg)(図示せず)および陽極
酸化バスライン(SHg)に接続された陽極酸化パッド
(図示せず)を形成する。
信号線(GL)、対向電極(CL’)、対向電圧信号線
(CL)、電極(PL1)、ゲート端子(GTM)、共
通バスライン(CB)の第1導電膜、対向電極端子(C
TM)の第1導電膜、ゲート端子(GTM)を接続する
陽極酸化バスライン(SHg)(図示せず)および陽極
酸化バスライン(SHg)に接続された陽極酸化パッド
(図示せず)を形成する。
【0217】(工程B、図12)直接描画による陽極酸
化マスク(AO)の形成後、3%酒石酸をアンモニアに
よりPH6.25±0.05に調整した溶液をエチレン
グリコール液で1:9に稀釈した液からなる陽極酸化液
中に下部透明ガラス基板(SUB1)を浸漬し、化成電
流密度が0.5mA/cm2になるように調整する(定
電流化成)。
化マスク(AO)の形成後、3%酒石酸をアンモニアに
よりPH6.25±0.05に調整した溶液をエチレン
グリコール液で1:9に稀釈した液からなる陽極酸化液
中に下部透明ガラス基板(SUB1)を浸漬し、化成電
流密度が0.5mA/cm2になるように調整する(定
電流化成)。
【0218】次に、所定膜厚のアルミニウム酸化膜(A
OF)が得られるのに必要な化成電圧125Vに達する
まで陽極酸化を行う。
OF)が得られるのに必要な化成電圧125Vに達する
まで陽極酸化を行う。
【0219】その後、この状態で数10分保持すること
が望ましい(定電圧化成)。
が望ましい(定電圧化成)。
【0220】これは均一なアルミニウム酸化膜(AO
F)を得る上で大事なことである。
F)を得る上で大事なことである。
【0221】それによって、導電膜(g1)が陽極酸化
され、ゲート電極(GT)、走査信号線(GL)、対向
電極(CL’)、対向電圧信号線(CL)および電極
(PL1)上に膜厚が1800オングストロームの陽極
酸化膜(AOF)が形成される。
され、ゲート電極(GT)、走査信号線(GL)、対向
電極(CL’)、対向電圧信号線(CL)および電極
(PL1)上に膜厚が1800オングストロームの陽極
酸化膜(AOF)が形成される。
【0222】(工程C、図12)膜厚が1400オング
ストロームのITO膜からなる透明導電膜(g2)をス
パッタリングにより形成する。
ストロームのITO膜からなる透明導電膜(g2)をス
パッタリングにより形成する。
【0223】写真処理後、エッチング液として、塩酸と
硝酸との混酸液で透明導電膜(g2)を選択的にエッチ
ングすることにより、ゲート端子(GTM)の最上層、
ドレイン端子(DTM)および対向電極端子(CTM)
の第2導電膜を形成する。
硝酸との混酸液で透明導電膜(g2)を選択的にエッチ
ングすることにより、ゲート端子(GTM)の最上層、
ドレイン端子(DTM)および対向電極端子(CTM)
の第2導電膜を形成する。
【0224】(工程D、図13)プラズマCVD装置に
アンモニアガス、シランガス、窒素ガスを導入して、膜
厚が2200オングストロームの窒化シリコン膜(Si
NX)を設け、プラズマCVD装置にシランガス、水素
ガスを導入して、膜厚が2000オングストロームのi
型非晶質シリコン(Si)膜を設けたのち、プラズマC
VD装置に水素ガス、ホスフィンガスを導入して、膜厚
が300オングストロームのN(+)型非晶質シリコン
(Si)膜を設ける。
アンモニアガス、シランガス、窒素ガスを導入して、膜
厚が2200オングストロームの窒化シリコン膜(Si
NX)を設け、プラズマCVD装置にシランガス、水素
ガスを導入して、膜厚が2000オングストロームのi
型非晶質シリコン(Si)膜を設けたのち、プラズマC
VD装置に水素ガス、ホスフィンガスを導入して、膜厚
が300オングストロームのN(+)型非晶質シリコン
(Si)膜を設ける。
【0225】(工程E、図13)写真処理後、ドライエ
ッチングガスとして四塩化炭素(CCl4)、六弗化硫
黄(SF6)を使用してN(+)型非晶質シリコン(S
i)膜、i型非晶質シリコン(Si)膜を選択的にエッ
チングすることにより、i型半導体層(AS)の島を形
成する。
ッチングガスとして四塩化炭素(CCl4)、六弗化硫
黄(SF6)を使用してN(+)型非晶質シリコン(S
i)膜、i型非晶質シリコン(Si)膜を選択的にエッ
チングすることにより、i型半導体層(AS)の島を形
成する。
【0226】(工程F、図13)写真処理後、ドライエ
ッチングガスとして六弗化硫黄(SF6)を使用して、
窒化シリコン膜を選択的にエッチングする。
ッチングガスとして六弗化硫黄(SF6)を使用して、
窒化シリコン膜を選択的にエッチングする。
【0227】(工程G、図14)膜厚が600オングス
トロームのクロム(Cr)からなる導電膜(d1)をス
パッタリングにより設け、さらに膜厚が4000オング
ストロームのアルミニウム(Al)−タンタル(T
a)、アルミニウム(Al)−チタン(Ti)−タンタ
ル(Ta)等からなる導電膜(d2)をスパッタリング
により設ける。
トロームのクロム(Cr)からなる導電膜(d1)をス
パッタリングにより設け、さらに膜厚が4000オング
ストロームのアルミニウム(Al)−タンタル(T
a)、アルミニウム(Al)−チタン(Ti)−タンタ
ル(Ta)等からなる導電膜(d2)をスパッタリング
により設ける。
【0228】写真処理後、導電膜(d2)を、リン酸と
硝酸と氷酢酸と水とからなる混酸液でエッチングし、導
電膜(d1)を硝酸第2セリウムアンモン液でエッチン
グし、映像信号線(DL)、ソース電極(SD1)、ド
レイン電極(SD2)、画素電極(SL)、電極(PL
2)、共通バスライン(CB)の第2導電膜、第3導電
膜およびドレイン端子(DTM)を短絡するバスライン
(SHd)(図示せず)を形成する。
硝酸と氷酢酸と水とからなる混酸液でエッチングし、導
電膜(d1)を硝酸第2セリウムアンモン液でエッチン
グし、映像信号線(DL)、ソース電極(SD1)、ド
レイン電極(SD2)、画素電極(SL)、電極(PL
2)、共通バスライン(CB)の第2導電膜、第3導電
膜およびドレイン端子(DTM)を短絡するバスライン
(SHd)(図示せず)を形成する。
【0229】なお、本発明の実施の形態で用いているレ
ジスト材は、東京応化製半導体用レジストOFPR80
0(商品名)を用いた。
ジスト材は、東京応化製半導体用レジストOFPR80
0(商品名)を用いた。
【0230】つぎに、ドライエッチング装置に四塩化炭
素(CCl4)、六弗化硫黄(SF6)を導入して、N
(+)型非晶質シリコン(Si)膜をエッチングするこ
とにより、ソースとドレイン間のN(+)型半導体層
(d0)を選択的に除去する。
素(CCl4)、六弗化硫黄(SF6)を導入して、N
(+)型非晶質シリコン(Si)膜をエッチングするこ
とにより、ソースとドレイン間のN(+)型半導体層
(d0)を選択的に除去する。
【0231】(工程H、図14)プラズマCVD装置に
アンモニアガス、シランガス、窒素ガスを導入して、膜
厚が1μmの窒化シリコン膜を設ける。
アンモニアガス、シランガス、窒素ガスを導入して、膜
厚が1μmの窒化シリコン膜を設ける。
【0232】写真処理後、ドライエッチングガスとして
六弗化硫黄(SF6)を使用した写真蝕刻技術で窒化シ
リコン膜を選択的にエッチングすることによって、保護
膜(PSV)を形成する。
六弗化硫黄(SF6)を使用した写真蝕刻技術で窒化シ
リコン膜を選択的にエッチングすることによって、保護
膜(PSV)を形成する。
【0233】《表示パネル(PNL)と駆動回路基板P
CB1》図15は、図5等に示す表示パネル(PNL)
に映像信号駆動回路(H)と垂直走査回路(V)を接続
した状態を示す平面図である。
CB1》図15は、図5等に示す表示パネル(PNL)
に映像信号駆動回路(H)と垂直走査回路(V)を接続
した状態を示す平面図である。
【0234】図15において、CHIは表示パネル(P
NL)を駆動させる駆動ICチップであり、図15に示
す下側の5個は垂直走査回路側の駆動ICチップ、左の
10個は映像信号駆動回路側の駆動ICチップである。
NL)を駆動させる駆動ICチップであり、図15に示
す下側の5個は垂直走査回路側の駆動ICチップ、左の
10個は映像信号駆動回路側の駆動ICチップである。
【0235】TCPは図16、図17で後述するように
駆動用ICチップ(CHI)がテープ・オートメイティ
ド・ボンディング法(TAB)により実装されたテープ
キャリアパッケージ、PCB1は前記テープキャリアパ
ッケージ(TCP)やコンデンサ等が実装された駆動回
路基板で、映像信号駆動回路用と走査信号駆動回路用の
2つに分割されている。
駆動用ICチップ(CHI)がテープ・オートメイティ
ド・ボンディング法(TAB)により実装されたテープ
キャリアパッケージ、PCB1は前記テープキャリアパ
ッケージ(TCP)やコンデンサ等が実装された駆動回
路基板で、映像信号駆動回路用と走査信号駆動回路用の
2つに分割されている。
【0236】FGPはフレームグランドパッドであり、
シールドケース(SHD)に切り込んで設けられたバネ
状の破片が半田付けされる。
シールドケース(SHD)に切り込んで設けられたバネ
状の破片が半田付けされる。
【0237】FCは下側の駆動回路基板(PCB1)と
左側の駆動回路基板(PCB1)を電気的に接続するフ
ラットケーブルである。
左側の駆動回路基板(PCB1)を電気的に接続するフ
ラットケーブルである。
【0238】フラットケーブル(FC)としては、複数
のリード線(りん青銅の素材にスズ(Sn)鍍金を施し
たもの)をストライプ状のポリエチレン層とポリビニル
アルコール層とでサンドイッチして支持したものを使用
する。
のリード線(りん青銅の素材にスズ(Sn)鍍金を施し
たもの)をストライプ状のポリエチレン層とポリビニル
アルコール層とでサンドイッチして支持したものを使用
する。
【0239】《TCPの接続構造》図16は、走査信号
駆動回路(V)や映像信号駆動回路(H)を構成する、
集積回路チップ(CHI)がフレキシブル配線基板に搭
載されたテープキャリアパッケージ(TCP)の断面構
造を示す断面図であり、図17は、それを液晶表示パネ
ル(PNL)に接続した状態(図16では、走査信号回
路用端子(GTM)に接続した状態)を示す要部断面図
である。
駆動回路(V)や映像信号駆動回路(H)を構成する、
集積回路チップ(CHI)がフレキシブル配線基板に搭
載されたテープキャリアパッケージ(TCP)の断面構
造を示す断面図であり、図17は、それを液晶表示パネ
ル(PNL)に接続した状態(図16では、走査信号回
路用端子(GTM)に接続した状態)を示す要部断面図
である。
【0240】図16において、TTBは集積回路(CH
I)の入力端子・配線部であり、TTMは集積回路(C
HI)の出力端子・配線部であり、端子(TTB、TT
M)は、例えば、銅(Cu)から成り、それぞれの内側
の先端部(通称インナーリード)には、集積回路(CH
I)のボンディングパッド(PAD)がいわゆるフェー
スダウンボンディング法により接続される。
I)の入力端子・配線部であり、TTMは集積回路(C
HI)の出力端子・配線部であり、端子(TTB、TT
M)は、例えば、銅(Cu)から成り、それぞれの内側
の先端部(通称インナーリード)には、集積回路(CH
I)のボンディングパッド(PAD)がいわゆるフェー
スダウンボンディング法により接続される。
【0241】端子(TTB、TTM)の外側の先端部
(通称アウターリード)には、それぞれ半導体集積回路
チップ(CHI)の入力及び出力に対応し、半田付け等
によりCRT/TFT変換回路・電源回路(SUP)、
あるいは、異方性導電膜(ACF)によって液晶表示パ
ネル(PNL)が接続される。
(通称アウターリード)には、それぞれ半導体集積回路
チップ(CHI)の入力及び出力に対応し、半田付け等
によりCRT/TFT変換回路・電源回路(SUP)、
あるいは、異方性導電膜(ACF)によって液晶表示パ
ネル(PNL)が接続される。
【0242】パッケージ(TCP)は、その先端部が、
パネル(PNL)側の接続端子(GTM)が露出される
保護膜(PSV)を覆うようにパネルに接続されてお
り、従って、外部接続端子(GTM)(またはDTM)
は、保護膜(PSV)かパッケージ(TCP)の少なく
とも一方で覆われるので電触に対して強くなる。
パネル(PNL)側の接続端子(GTM)が露出される
保護膜(PSV)を覆うようにパネルに接続されてお
り、従って、外部接続端子(GTM)(またはDTM)
は、保護膜(PSV)かパッケージ(TCP)の少なく
とも一方で覆われるので電触に対して強くなる。
【0243】BF1はポリイミド等からなるベースフィ
ルムであり、SRSは半田付けの際半田が余計なところ
へつかないようにマスクするためのソルダレジスト膜で
ある。
ルムであり、SRSは半田付けの際半田が余計なところ
へつかないようにマスクするためのソルダレジスト膜で
ある。
【0244】シールパターン(SLP)の外側の上下ガ
ラス基板の隙間は洗浄後エポキシ樹脂(ESL)等によ
り保護され、パッケージ(TCP)と上部基板(SUB
2)の間には更にシリコーン樹脂(SPX)が充填され
保護が多重化されている。
ラス基板の隙間は洗浄後エポキシ樹脂(ESL)等によ
り保護され、パッケージ(TCP)と上部基板(SUB
2)の間には更にシリコーン樹脂(SPX)が充填され
保護が多重化されている。
【0245】《駆動回路基板(PCB2)》駆動回路基
板(PCB2)は、IC、コンデンサ、抵抗等の電子部
品が搭載されている。
板(PCB2)は、IC、コンデンサ、抵抗等の電子部
品が搭載されている。
【0246】この駆動回路基板(PCB2)には、1つ
の電圧源から複数の分圧した安定化された電圧源を得る
ための電源回路や、ホスト(上位演算処理装置)からの
CRT(陰極線管)用の情報を(TFT)液晶表示装置
用の情報に変換する回路を含む回路(SUP)が搭載さ
れている。
の電圧源から複数の分圧した安定化された電圧源を得る
ための電源回路や、ホスト(上位演算処理装置)からの
CRT(陰極線管)用の情報を(TFT)液晶表示装置
用の情報に変換する回路を含む回路(SUP)が搭載さ
れている。
【0247】CJは外部と接続される図示しないコネク
タが接続されるコネクタ接続部である。
タが接続されるコネクタ接続部である。
【0248】駆動回路基板(PCB1)と駆動回路基板
(PCB2)とはフラットケーブル(FC)により電気
的に接続されている。
(PCB2)とはフラットケーブル(FC)により電気
的に接続されている。
【0249】《液晶表示モジュール(MDL)の全体構
成》図18は、液晶表示モジュール(MDL)の各構成
部品を示す分解斜視図である。
成》図18は、液晶表示モジュール(MDL)の各構成
部品を示す分解斜視図である。
【0250】SHDは金属板から成る枠状のシールドケ
ース(メタルフレーム)、LCWその表示窓、PNLは
液晶表示パネル、SPBは光拡散板、LCBは導光体、
RMは反射板、BLはバックライト蛍光管、LCAはバ
ックライトケースであり、図に示すような上下の配置関
係で各部材が積み重ねられてモジュールMDLが組み立
てられる。
ース(メタルフレーム)、LCWその表示窓、PNLは
液晶表示パネル、SPBは光拡散板、LCBは導光体、
RMは反射板、BLはバックライト蛍光管、LCAはバ
ックライトケースであり、図に示すような上下の配置関
係で各部材が積み重ねられてモジュールMDLが組み立
てられる。
【0251】モジュール(MDL)は、シールドケース
(SHD)に設けられた爪とフックによって全体が固定
されるようになっている。
(SHD)に設けられた爪とフックによって全体が固定
されるようになっている。
【0252】バックライトケース(LCA)は、バック
ライト蛍光管(BL)、光拡散板(SPB)、導光体
(LCB)、反射板(RM)を収納する形状になってお
り、導光体(LCB)の側面に配置されたバックライト
蛍光管(BL)の光を、導光体(LCB)、反射板(R
M)、光拡散板(SPB)により表示面で一様なバック
ライトにし、液晶表示パネル(PNL)側に出射する。
ライト蛍光管(BL)、光拡散板(SPB)、導光体
(LCB)、反射板(RM)を収納する形状になってお
り、導光体(LCB)の側面に配置されたバックライト
蛍光管(BL)の光を、導光体(LCB)、反射板(R
M)、光拡散板(SPB)により表示面で一様なバック
ライトにし、液晶表示パネル(PNL)側に出射する。
【0253】バックライト蛍光管(BL)にはインバー
タ回路基板(PCB3)が接続されており、バックライ
ト蛍光管(BL)の電源となっている。
タ回路基板(PCB3)が接続されており、バックライ
ト蛍光管(BL)の電源となっている。
【0254】《液晶層および偏向板》次に、液晶層、配
向膜、偏光板等について説明する。
向膜、偏光板等について説明する。
【0255】《液晶層》液晶層(LCD)の液晶材料と
しては、誘電率異方性(Δε)が正で、その値が13.
2、屈折率異方性(Δn)が0.081(589nm、
20℃)のネマティック液晶を用いる。
しては、誘電率異方性(Δε)が正で、その値が13.
2、屈折率異方性(Δn)が0.081(589nm、
20℃)のネマティック液晶を用いる。
【0256】液晶層の厚み(ギャップ)は、3.9μm
とし、リタデーション(Δn・d)は0.316とす
る。
とし、リタデーション(Δn・d)は0.316とす
る。
【0257】このリタデーション(Δn・d)の値は、
バックライト光の波長特性のほぼ平均の波長の1/2と
なる様に設定され、バックライト光の波長特性との組み
合わせにより、液晶層の透過光が色調が白色(C光源、
色度座標x=0.3101、y=0.3163)となる
様に設定する。
バックライト光の波長特性のほぼ平均の波長の1/2と
なる様に設定され、バックライト光の波長特性との組み
合わせにより、液晶層の透過光が色調が白色(C光源、
色度座標x=0.3101、y=0.3163)となる
様に設定する。
【0258】偏光板の偏光透過軸と液晶分子の長軸方向
のなす角が45°になるとき最大透過率を得ることがで
き、可視光の範囲ないで波長依存性がほとんどない透過
光を得ることができる。
のなす角が45°になるとき最大透過率を得ることがで
き、可視光の範囲ないで波長依存性がほとんどない透過
光を得ることができる。
【0259】なお、液晶層の厚み(ギャップ)は、ポリ
マビーズで制御している。
マビーズで制御している。
【0260】また、誘電率異方性(Δε)は、その値が
大きいほうが、駆動電圧が低減でき、さらに、屈折率異
方性(Δn)は小さいほうが、液晶層の厚み(ギャッ
プ)を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャ
ップばらつきを少なくすることができる。
大きいほうが、駆動電圧が低減でき、さらに、屈折率異
方性(Δn)は小さいほうが、液晶層の厚み(ギャッ
プ)を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャ
ップばらつきを少なくすることができる。
【0261】《配向膜》配向膜(OR)としては、ポリ
イミドを用いる。
イミドを用いる。
【0262】配向膜の配向(ラビング)方向、即ち、液
晶層(LCD)の初期配向方向(RD)は、図1に示す
ように、上下基板で互いに平行、かつ、映像信号配線
(DL)と平行(あるいは走査信号線(GL)に垂直)
とする。
晶層(LCD)の初期配向方向(RD)は、図1に示す
ように、上下基板で互いに平行、かつ、映像信号配線
(DL)と平行(あるいは走査信号線(GL)に垂直)
とする。
【0263】《偏光板》図19は、本発明の実施の形態
の液晶表示装置における印加電界方向、偏光板(POL
1,POL2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、
および、液晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
の液晶表示装置における印加電界方向、偏光板(POL
1,POL2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、
および、液晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0264】図19に示すように、下側の偏光板(PO
L1)の偏光透過軸(OD1)と、上側の偏向板(PO
L2)の偏光透過軸(OD2)とは互いに直交し、ま
た、偏光透過軸(OD1)と偏光透過軸(OD2)との
いずれか一方は、液晶層(LCD)の初期配向方向(R
D)と同一方向にされている。
L1)の偏光透過軸(OD1)と、上側の偏向板(PO
L2)の偏光透過軸(OD2)とは互いに直交し、ま
た、偏光透過軸(OD1)と偏光透過軸(OD2)との
いずれか一方は、液晶層(LCD)の初期配向方向(R
D)と同一方向にされている。
【0265】これにより、本発明の実施の形態では、画
素に印加される電圧(画素電極SLと対向電極CL’の
間の電圧)を増加させるに伴い、透過率が上昇するノー
マリクローズ特性を得ることができる。
素に印加される電圧(画素電極SLと対向電極CL’の
間の電圧)を増加させるに伴い、透過率が上昇するノー
マリクローズ特性を得ることができる。
【0266】なお、画素に印加される電圧を増加させる
に伴い、透過率が減少するノーマリホワイト特性を得る
ためには、下側の偏光板(POL1)の偏光透過軸(O
D1)と、上側の偏向板(POL2)の偏光透過軸(O
D2)とを、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)
と同一方向にすればよい。
に伴い、透過率が減少するノーマリホワイト特性を得る
ためには、下側の偏光板(POL1)の偏光透過軸(O
D1)と、上側の偏向板(POL2)の偏光透過軸(O
D2)とを、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)
と同一方向にすればよい。
【0267】図1に示すように、本発明の実施の形態で
は、画素電極(SL)および対向電極(CL’)の対向
面(互いに対向電極(CL’)あるいは画素電極(S
L)と対向する面)を傾斜させ、画素電極(SL)およ
び対向電極(CL’)の対向面が、液晶層(LCD)の
初期配向方向(RD)に対して、反時計方向にθ(ある
いは時計方向に−θ)の傾斜角を持つようにする。
は、画素電極(SL)および対向電極(CL’)の対向
面(互いに対向電極(CL’)あるいは画素電極(S
L)と対向する面)を傾斜させ、画素電極(SL)およ
び対向電極(CL’)の対向面が、液晶層(LCD)の
初期配向方向(RD)に対して、反時計方向にθ(ある
いは時計方向に−θ)の傾斜角を持つようにする。
【0268】これにより、液晶層(LCD)の液晶分子
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θとし、1画素内の液晶駆
動領域(対向電極(CL’)と画素電極(SL)との間
の領域)での液晶分子(LC)駆動方向を図19(d)
のように規定する。
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θとし、1画素内の液晶駆
動領域(対向電極(CL’)と画素電極(SL)との間
の領域)での液晶分子(LC)駆動方向を図19(d)
のように規定する。
【0269】なお、傾斜角θは、10°ないし20°が
最適である。
最適である。
【0270】本発明の実施の形態の液晶表示装置では、
画素電極(SL)と対向電極(CL’)との間で基板面
にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのないホモ
ジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を利用
して表示する。
画素電極(SL)と対向電極(CL’)との間で基板面
にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのないホモ
ジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を利用
して表示する。
【0271】液晶分子(LC)は基板面でその長軸を回
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
【0272】また、本発明の実施の形態では、液晶分子
の駆動方向を液晶駆動領域内で揃えることにより、駆動
電圧を低減し、応答速度を早くすることができる。
の駆動方向を液晶駆動領域内で揃えることにより、駆動
電圧を低減し、応答速度を早くすることができる。
【0273】図20ないし図22は、図1に示す画素あ
るいは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示
す図である。
るいは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示
す図である。
【0274】本発明の実施の形態では、図20ないし図
22に示す配置例のように、その対向面が、液晶層(L
CD)の初期配向方向(RD)に対して、θあるいは−
θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)および画素電極
(SL)を有する画素を組み合わせて、マトリクス状に
配置することにより、画素間で液晶分子(LC)の駆動
方向を異ならせることができる。
22に示す配置例のように、その対向面が、液晶層(L
CD)の初期配向方向(RD)に対して、θあるいは−
θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)および画素電極
(SL)を有する画素を組み合わせて、マトリクス状に
配置することにより、画素間で液晶分子(LC)の駆動
方向を異ならせることができる。
【0275】これにより、本発明の実施の形態では、ホ
モジニアス配向された液晶層(LCD)における統一さ
れた駆動方向に起因する白色色調の視角による不均一性
を補償し、表示品質を向上させ、高画質の表示画像を得
ることが可能となる。
モジニアス配向された液晶層(LCD)における統一さ
れた駆動方向に起因する白色色調の視角による不均一性
を補償し、表示品質を向上させ、高画質の表示画像を得
ることが可能となる。
【0276】図20に示す配置例は、映像信号線(D
L)に平行する各画素において、液晶層(LCD)の初
期配向方向(RD)に対する、対向電極(CL’)およ
び画素電極(SL)の対向面の傾斜角が互いに等しくな
るように、その対向面が、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)に対して、同じ傾斜角(θあるいは−θ)
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を、映像信号線(DL)に平行な方向に配置
し、また、その対向面が、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)に対して、θあるいは−θの傾斜角を持つ
対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有する画
素を、走査信号線(GL)に平行な方向に交互に配置し
た配置例である。
L)に平行する各画素において、液晶層(LCD)の初
期配向方向(RD)に対する、対向電極(CL’)およ
び画素電極(SL)の対向面の傾斜角が互いに等しくな
るように、その対向面が、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)に対して、同じ傾斜角(θあるいは−θ)
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を、映像信号線(DL)に平行な方向に配置
し、また、その対向面が、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)に対して、θあるいは−θの傾斜角を持つ
対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有する画
素を、走査信号線(GL)に平行な方向に交互に配置し
た配置例である。
【0277】また、図21に示す配置例は、その対向面
が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を、映像信号線
(DL)に平行な方向に交互に配置し、さらに、走査信
号線(GL)に平行する各画素において、液晶層(LC
D)の初期配向方向(RD)に対する、対向電極(C
L’)および画素電極(SL)の対向面の傾斜角が互い
に等しくなるように、その対向面が、液晶層(LCD)
の初期配向方向(RD)に対して、同じ傾斜角(θある
いは−θ)を持つ対向電極(CL’)および画素電極
(SL)を有する画素を、走査信号線(GL)に平行な
方向に配置した配置例である。
が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を、映像信号線
(DL)に平行な方向に交互に配置し、さらに、走査信
号線(GL)に平行する各画素において、液晶層(LC
D)の初期配向方向(RD)に対する、対向電極(C
L’)および画素電極(SL)の対向面の傾斜角が互い
に等しくなるように、その対向面が、液晶層(LCD)
の初期配向方向(RD)に対して、同じ傾斜角(θある
いは−θ)を持つ対向電極(CL’)および画素電極
(SL)を有する画素を、走査信号線(GL)に平行な
方向に配置した配置例である。
【0278】さらに、図22に示す配置例は、その対向
面が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を、映像信号線
(DL)および走査信号線(GL)に平行な方向に交互
に配置した配置例である。
面が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を、映像信号線
(DL)および走査信号線(GL)に平行な方向に交互
に配置した配置例である。
【0279】図20ないし図22に示す配置例におい
て、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向
は、いずれも2方向となるが、図22に示す配置例で
は、隣接する各画素において、液晶分子(LC)の駆動
方向が異なるため、白色色調の視角による不均一性に対
する補償効果をさらに向上させることができる。
て、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向
は、いずれも2方向となるが、図22に示す配置例で
は、隣接する各画素において、液晶分子(LC)の駆動
方向が異なるため、白色色調の視角による不均一性に対
する補償効果をさらに向上させることができる。
【0280】本発明の実施の形態では、図23で定義す
る視角において、全方位に渡りφが50度までの範囲で
は完全に白色色調が均一化でき、視角方向に対する均一
性を向上できる。
る視角において、全方位に渡りφが50度までの範囲で
は完全に白色色調が均一化でき、視角方向に対する均一
性を向上できる。
【0281】また、非階調反転領域は、特性が平均化さ
れて、全方位で非階調反転領域が平均化され、特定の方
位で、特性が落ちるという問題が解決される。
れて、全方位で非階調反転領域が平均化され、特定の方
位で、特性が落ちるという問題が解決される。
【0282】これは、コントラスト比の視角依存性につ
いても同様である。
いても同様である。
【0283】以上、説明したように、本発明の実施の形
態では、色調、階調反転、コントラスト比の視角方向に
対する均一性を向上でき、ブラウン管により近い広視野
角の液晶表示装置を得ることができる。
態では、色調、階調反転、コントラスト比の視角方向に
対する均一性を向上でき、ブラウン管により近い広視野
角の液晶表示装置を得ることができる。
【0284】[発明の実施の形態2]図24は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態2)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態2)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0285】図25は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0286】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
【0287】本発明の実施の形態では、図24に示すよ
うに、画素電極(SL)は、対向面(対向電極(C
L’)と対向する面)が斜め下方向に延びる略三角形
状、また、対向電極(CL’)は、対向電圧信号線(C
L)から上方向に突起した、対向面(画素電極(SL)
と対向する面)が斜め上方向に延びる櫛歯形状をしてお
り、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
は1画素内で2分割されている。
うに、画素電極(SL)は、対向面(対向電極(C
L’)と対向する面)が斜め下方向に延びる略三角形
状、また、対向電極(CL’)は、対向電圧信号線(C
L)から上方向に突起した、対向面(画素電極(SL)
と対向する面)が斜め上方向に延びる櫛歯形状をしてお
り、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
は1画素内で2分割されている。
【0288】本発明の実施の形態では、配向膜の配向
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図24に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)に垂直)とする。
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図24に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)に垂直)とする。
【0289】また、図24に示すように、本発明の実施
の形態では、画素電極(SL)および対向電極(C
L’)の対向面(互いに対向電極(CL’)あるいは画
素電極(SL)と対向する面)を傾斜させ、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の対向面が、液晶層
(LCD)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方
向にθ、−θ(あるいは時計方向に−θ、θ)の傾斜角
を持つようにする。
の形態では、画素電極(SL)および対向電極(C
L’)の対向面(互いに対向電極(CL’)あるいは画
素電極(SL)と対向する面)を傾斜させ、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の対向面が、液晶層
(LCD)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方
向にθ、−θ(あるいは時計方向に−θ、θ)の傾斜角
を持つようにする。
【0290】これにより、液晶層(LCD)の液晶分子
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θ、90°+θとし、1画
素内の液晶駆動領域(対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間の領域)での液晶分子(LC)駆動方向
を図25(d)のように規定する。
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θ、90°+θとし、1画
素内の液晶駆動領域(対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間の領域)での液晶分子(LC)駆動方向
を図25(d)のように規定する。
【0291】したがって、本発明の実施の形態では、液
晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向とする
ことができる。
晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向とする
ことができる。
【0292】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
【0293】液晶分子(LC)は、基板面でその長軸を
回転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから
見た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分
子の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現でき
る。
回転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから
見た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分
子の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現でき
る。
【0294】また、液晶分子(LC)の駆動方向を液晶
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
【0295】なお、この時、傾斜度θは10〜20°が
最適である。
最適である。
【0296】本発明の実施の形態では、1画素内の液晶
駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異ならせる
ことができ、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)
における統一された駆動方向に起因する白色色調の視角
による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を向上さ
せ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異ならせる
ことができ、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)
における統一された駆動方向に起因する白色色調の視角
による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を向上さ
せ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
【0297】図26、図27は、図24に示す画素ある
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
【0298】図26に示す配置例は、図24に示す画素
をマトリクス状に配置した配置例でり、また、図27に
示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、図
24に示す画素、および、図24に示す画素と対向電極
(CL’)と画素電極(SL)の形状が対称である画素
を交互に並べてマトリクス状に配置した配置例である。
をマトリクス状に配置した配置例でり、また、図27に
示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、図
24に示す画素、および、図24に示す画素と対向電極
(CL’)と画素電極(SL)の形状が対称である画素
を交互に並べてマトリクス状に配置した配置例である。
【0299】図26、図27に示す配置例において、液
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図27に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図27に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
【0300】[発明の実施の形態3]図28は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態3)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態3)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0301】図29は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0302】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
【0303】本発明の実施の形態においては、図28に
示すように、画素電極(SL)は、画素の表示領域内
(遮光膜(BM)の開口領域)の部分が傾斜部とされた
上開きのコの字型、また、対向電極(CL’)は対向電
圧信号線(CL)から上方向に突起した櫛歯形状をして
おり、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領
域は1画素内で4分割されている。
示すように、画素電極(SL)は、画素の表示領域内
(遮光膜(BM)の開口領域)の部分が傾斜部とされた
上開きのコの字型、また、対向電極(CL’)は対向電
圧信号線(CL)から上方向に突起した櫛歯形状をして
おり、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領
域は1画素内で4分割されている。
【0304】本発明の実施の形態では、配向膜の配向
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図28に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)と垂直)とする。
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図28に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)と垂直)とする。
【0305】また、対向電極(CL’)を、液晶層(L
CD)の初期配向方向(RD)と平行にし、画素電極
(SL)を傾斜させ、画素電極(SL)が、液晶層(L
CD)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方向に
θ、−θの傾斜角を持つようにする。
CD)の初期配向方向(RD)と平行にし、画素電極
(SL)を傾斜させ、画素電極(SL)が、液晶層(L
CD)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方向に
θ、−θの傾斜角を持つようにする。
【0306】これにより、液晶層(LCD)の液晶分子
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θ、90°+θとし、1画
素内の液晶駆動領域(対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間の領域)で液晶分子(LC)駆動方向
を、図29(b)のように規定する。
(LC)の初期配向方向(RD)と印加電界方向(E
D)とのなす角度を90°−θ、90°+θとし、1画
素内の液晶駆動領域(対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間の領域)で液晶分子(LC)駆動方向
を、図29(b)のように規定する。
【0307】したがって、本発明の実施の形態において
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
【0308】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)との間で
基板面にほぼ平行に電界(ED)が印加され、ねじれの
ないホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折
性を利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)との間で
基板面にほぼ平行に電界(ED)が印加され、ねじれの
ないホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折
性を利用して表示する。
【0309】液晶分子(LC)は基板面でその長軸を回
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
【0310】また、液晶分子(LC)の駆動方向を液晶
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
【0311】なお、この時、角度θは10〜20°が最
適である。
適である。
【0312】本発明の実施の形態では、1画素内の液晶
駆動領域で、液晶分子(LC)の駆動方向を異ならせる
ことができ、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)
における統一された駆動方向に起因する白色色調の視角
による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を向上さ
せ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
駆動領域で、液晶分子(LC)の駆動方向を異ならせる
ことができ、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)
における統一された駆動方向に起因する白色色調の視角
による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を向上さ
せ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
【0313】図30、図31は、図28に示す画素およ
び類似の画素を、マトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
び類似の画素を、マトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
【0314】図30に示す配置例は、図28に示す画素
をマトリクス状に配置した配置例であり、また、図31
に示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、
図28に示す画素、および、図28に示す画素と映像信
号線(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号線
(CL)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリク
ス状に配置した配置例である。
をマトリクス状に配置した配置例であり、また、図31
に示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、
図28に示す画素、および、図28に示す画素と映像信
号線(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号線
(CL)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリク
ス状に配置した配置例である。
【0315】図30、図31に示す配置例において、液
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図31に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図31に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
【0316】また、前記発明の実施の形態1、発明の実
施の形態2よりも、1画素あたりの表示面積を大きくす
ることができ、高輝度、低消費電力の表示が可能とな
る。
施の形態2よりも、1画素あたりの表示面積を大きくす
ることができ、高輝度、低消費電力の表示が可能とな
る。
【0317】[発明の実施の形態4]図32は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態4)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態4)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0318】図33は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0319】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
【0320】本発明の実施の形態では、図32に示すよ
うに、画素電極(SL)は下方向に延びる直線形状、対
向電極(CL’)は対向電圧信号線(CL)から上方向
に突起した、画素の表示領域内の部分が上方向に延びる
櫛歯形状をしており、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)の間の領域は1画素内で2分割されている。
うに、画素電極(SL)は下方向に延びる直線形状、対
向電極(CL’)は対向電圧信号線(CL)から上方向
に突起した、画素の表示領域内の部分が上方向に延びる
櫛歯形状をしており、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)の間の領域は1画素内で2分割されている。
【0321】また、本発明の実施の形態においては、図
32中のA部に示すように、対向電極(CL’)におけ
る画素の表示領域外の部分の、画素電極(SL)と対向
する側が、テーパ状に形成される。
32中のA部に示すように、対向電極(CL’)におけ
る画素の表示領域外の部分の、画素電極(SL)と対向
する側が、テーパ状に形成される。
【0322】これにより、画素の表示領域外の部分で、
対向電極(CL’)と画素電極(SL)とが、保護膜
(PSV)を介して、反時計方向にθ、−θの角度をも
って交差されている。
対向電極(CL’)と画素電極(SL)とが、保護膜
(PSV)を介して、反時計方向にθ、−θの角度をも
って交差されている。
【0323】この交差部は、対向電極(CL’)および
画素電極(SL)との電極間距離が最も短く、最も強い
電界が加わるために、液晶層(LCD)に電界(ED)
が印加されると、この交差部の液晶層(LCD)の液晶
分子(LC)が逸早く駆動し始める。
画素電極(SL)との電極間距離が最も短く、最も強い
電界が加わるために、液晶層(LCD)に電界(ED)
が印加されると、この交差部の液晶層(LCD)の液晶
分子(LC)が逸早く駆動し始める。
【0324】これにより、画素の表示領域における対向
電極(CL’)と画素電極(SL)との間の液晶駆動領
域内の液晶分子(LC)は、交差部の液晶分子(LC)
の初期駆動方向の影響を受け、交差部の液晶分子(L
C)と同じ方向に駆動される。
電極(CL’)と画素電極(SL)との間の液晶駆動領
域内の液晶分子(LC)は、交差部の液晶分子(LC)
の初期駆動方向の影響を受け、交差部の液晶分子(L
C)と同じ方向に駆動される。
【0325】このように、本発明の実施の形態では、前
記交差部により、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)
の初期駆動方向を規定する。
記交差部により、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)
の初期駆動方向を規定する。
【0326】即ち、本発明の実施の形態では、対向電極
(CL’)と画素電極(SL)との交差角度を反時計方
向にθ、−θとし、対向電極(CL’)と画素電極(S
L)との間での液晶分子(LC)の駆動方向を図33
(b)のように規定する。
(CL’)と画素電極(SL)との交差角度を反時計方
向にθ、−θとし、対向電極(CL’)と画素電極(S
L)との間での液晶分子(LC)の駆動方向を図33
(b)のように規定する。
【0327】したがって、本発明の実施の形態において
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
【0328】なお、角度θは、0°を越え90°未満で
あればよいが、30°〜60°が最適である。
あればよいが、30°〜60°が最適である。
【0329】また、本発明の実施の形態では、配向膜の
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図32に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図32に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
【0330】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
【0331】液晶層(LCD)の液晶分子(LC))は
基板面でその長軸を回転させるため、パネルを正面から
見た場合と斜めから見た場合、さらには階調表示した場
合において、液晶分子の見え方の差が小さいため、広い
視野角が実現できる。
基板面でその長軸を回転させるため、パネルを正面から
見た場合と斜めから見た場合、さらには階調表示した場
合において、液晶分子の見え方の差が小さいため、広い
視野角が実現できる。
【0332】また、液晶分子(LC)の初期駆動方向を
規定し、液晶駆動方向を揃えることにより、駆動電圧を
低減し、応答速度を早くすることができる。
規定し、液晶駆動方向を揃えることにより、駆動電圧を
低減し、応答速度を早くすることができる。
【0333】また、本発明の実施の形態では、1画素内
の液晶駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異な
らせることができ、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を1画素内で補償補償し、表示品
質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能とな
る。
の液晶駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異な
らせることができ、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を1画素内で補償補償し、表示品
質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能とな
る。
【0334】図34、図35は、図32に示す画素ある
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
【0335】図34に示す配置例は、図32の画素をマ
トリクス状に配置した配置例であり、また、図35に示
す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で図32
に示す画素、および、図32に示す画素とは映像信号線
(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号線(C
L)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリクス状
に配置した配置例である。
トリクス状に配置した配置例であり、また、図35に示
す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で図32
に示す画素、および、図32に示す画素とは映像信号線
(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号線(C
L)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリクス状
に配置した配置例である。
【0336】図34、図35に示す配置例において、液
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図35に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図35に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
【0337】また、本発明の実施の形態では、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)が、配向膜のラビン
グ方向と平行に形成されるため、配向膜をラビング処理
する際に、画素の表示領域内の電極脇の部分にバフ布の
毛がスムーズに当てることが可能となるので、電極の端
面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われるの
で、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好にす
ることが可能となる。
(SL)および対向電極(CL’)が、配向膜のラビン
グ方向と平行に形成されるため、配向膜をラビング処理
する際に、画素の表示領域内の電極脇の部分にバフ布の
毛がスムーズに当てることが可能となるので、電極の端
面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われるの
で、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好にす
ることが可能となる。
【0338】[発明の実施の形態5]図36は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態5)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態5)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0339】図37は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0340】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
【0341】本発明の実施の形態では、図36に示すよ
うに、画素電極(SL)は、画素の表示領域内の部分が
下方向に延びる直線形状、対向電極(CL’)は対向電
圧信号線(CL)から上方向に突起した櫛歯形状をして
おり、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領
域は1画素内で2分割されている。
うに、画素電極(SL)は、画素の表示領域内の部分が
下方向に延びる直線形状、対向電極(CL’)は対向電
圧信号線(CL)から上方向に突起した櫛歯形状をして
おり、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領
域は1画素内で2分割されている。
【0342】また、本発明の実施の形態では、図36中
のA部に示すように、画素電極(SL)の下側で対向電
圧信号線(CL)に近接する部分が台形形状に形成さ
れ、画素の表示領域外の部分で、対向電極(CL’)と
画素電極(SL)とが、保護膜(PSV)を介して、反
時計方向にθ、−θの角度をもって交差されている。
のA部に示すように、画素電極(SL)の下側で対向電
圧信号線(CL)に近接する部分が台形形状に形成さ
れ、画素の表示領域外の部分で、対向電極(CL’)と
画素電極(SL)とが、保護膜(PSV)を介して、反
時計方向にθ、−θの角度をもって交差されている。
【0343】本発明の実施の形態においても、前記交差
部により、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期
駆動方向を図37(b)のように規定する。
部により、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期
駆動方向を図37(b)のように規定する。
【0344】即ち、前記発明の実施の形態4では、直線
形状の画素電極(SL)と角度を持った対向電極(C
L’)で液晶分子(LC)の初期駆動方向を規定し表示
を行っているのに対し、本発明の実施の形態では、直線
形状の対向電極(CL’)と角度を持った画素電極(S
L)で、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期駆
動方向を規定し、表示を行っている。
形状の画素電極(SL)と角度を持った対向電極(C
L’)で液晶分子(LC)の初期駆動方向を規定し表示
を行っているのに対し、本発明の実施の形態では、直線
形状の対向電極(CL’)と角度を持った画素電極(S
L)で、液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期駆
動方向を規定し、表示を行っている。
【0345】したがって、本発明の実施の形態において
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で2方向
とすることができる。
【0346】なお、角度θは、0°を越え90°未満で
あればよいが、30°〜60°が最適である。
あればよいが、30°〜60°が最適である。
【0347】また、本発明の実施の形態では、配向膜の
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図36に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図36に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
【0348】図38、図39は、図36に示す画素ある
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
【0349】本発明の実施の形態においても、前記発明
の実施の形態3と同様に、ホモジニアス配向された液晶
層(LCD)における統一された駆動方向に起因する白
色色調の視角による不均一性を1画素内で補償し、表示
品質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能と
なる。
の実施の形態3と同様に、ホモジニアス配向された液晶
層(LCD)における統一された駆動方向に起因する白
色色調の視角による不均一性を1画素内で補償し、表示
品質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能と
なる。
【0350】また、本発明の実施の形態においても、配
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
【0351】[発明の実施の形態6]図40は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態6)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態6)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0352】図41は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0353】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
(SL)および対向電極(CL’)の形状が前記発明の
実施の形態1と相違するが、それ以外の構成は前記発明
の実施の形態1と同じである。
【0354】本発明の実施の形態においては、図40に
示すように、画素電極(SL)は、下開きのコの字型、
また、対向電極(CL’)は対向電圧信号線(CL)か
ら上方向に突起した櫛歯形状をしており、画素電極(S
L)と対向電極(CL’)の間の領域は1画素内で4分
割されている。
示すように、画素電極(SL)は、下開きのコの字型、
また、対向電極(CL’)は対向電圧信号線(CL)か
ら上方向に突起した櫛歯形状をしており、画素電極(S
L)と対向電極(CL’)の間の領域は1画素内で4分
割されている。
【0355】また、本発明の実施の形態では、図40中
のA部に示すように、画素電極(SL)は、対向電極
(CL’)に近接する部分がテーパ形状にされ、画素の
表示領域外の部分で、対向電極(CL’)と画素電極
(SL)とが、保護膜(PSV)を介して、反時計方向
にθ、−θの角度をもって交差されている。
のA部に示すように、画素電極(SL)は、対向電極
(CL’)に近接する部分がテーパ形状にされ、画素の
表示領域外の部分で、対向電極(CL’)と画素電極
(SL)とが、保護膜(PSV)を介して、反時計方向
にθ、−θの角度をもって交差されている。
【0356】前記発明の実施の形態4で説明した如く、
この交差部は、対向電極(CL’)および画素電極(S
L)との電極間距離が最も短く、最も強い電界が加わる
ために、液晶層(LCD)に電界(ED)が印加される
と、この交差部の液晶層(LCD)の液晶分子(LC)
が逸早く駆動し始め、これにより、画素の表示領域内に
おける画素電極(SL)と中央の対向電極(CL’)と
の間の液晶駆動領域内の液晶分子(LC)は、交差部
(図40中のA部)の液晶分子(LC)の初期駆動方向
の影響を受け、交差部の液晶分子(LC)と同じ方向に
駆動される。
この交差部は、対向電極(CL’)および画素電極(S
L)との電極間距離が最も短く、最も強い電界が加わる
ために、液晶層(LCD)に電界(ED)が印加される
と、この交差部の液晶層(LCD)の液晶分子(LC)
が逸早く駆動し始め、これにより、画素の表示領域内に
おける画素電極(SL)と中央の対向電極(CL’)と
の間の液晶駆動領域内の液晶分子(LC)は、交差部
(図40中のA部)の液晶分子(LC)の初期駆動方向
の影響を受け、交差部の液晶分子(LC)と同じ方向に
駆動される。
【0357】また、本発明の実施の形態においては、図
40中のB部に示すように、対向電極(CL’)におけ
る画素の表示領域外の部分の、画素電極(SL)と近接
する側が、画素電極(SL)と同様にテーパ状にされ、
当該テーパ状にされた対向電圧信号線(CL)と、中央
の対向電極(CL’)とのなす角度は、反時計方向に
θ、−θとされている。
40中のB部に示すように、対向電極(CL’)におけ
る画素の表示領域外の部分の、画素電極(SL)と近接
する側が、画素電極(SL)と同様にテーパ状にされ、
当該テーパ状にされた対向電圧信号線(CL)と、中央
の対向電極(CL’)とのなす角度は、反時計方向に
θ、−θとされている。
【0358】さらに、図40に示すB部では、対向電極
(CL’)と画素電極(SL)との間隔が、画素の表示
領域(遮光層(BM)の開口領域)内における対向電極
(CL’)と画素電極(SL)との間隔よりも狭くされ
ている。
(CL’)と画素電極(SL)との間隔が、画素の表示
領域(遮光層(BM)の開口領域)内における対向電極
(CL’)と画素電極(SL)との間隔よりも狭くされ
ている。
【0359】このように、図40に示すB部では、画素
の表示領域内よりも、対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間隔を狭くし、かつ、電界方向(ED)と
液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期配向方向と
のなす角度を90−θ、90+θとして、図40に示す
B部における液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初
期駆動方向を規定する。
の表示領域内よりも、対向電極(CL’)と画素電極
(SL)との間隔を狭くし、かつ、電界方向(ED)と
液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初期配向方向と
のなす角度を90−θ、90+θとして、図40に示す
B部における液晶層(LCD)の液晶分子(LC)の初
期駆動方向を規定する。
【0360】これにより、画素の表示領域における画素
電極(SL)と両端の対向電極(CL’)との間の液晶
駆動領域内の液晶分子(LC)は、図40に示すB部の
液晶分子(LC)の初期駆動方向の影響を受け、図40
に示すB部の液晶分子(LC)と同じ方向に駆動され
る。
電極(SL)と両端の対向電極(CL’)との間の液晶
駆動領域内の液晶分子(LC)は、図40に示すB部の
液晶分子(LC)の初期駆動方向の影響を受け、図40
に示すB部の液晶分子(LC)と同じ方向に駆動され
る。
【0361】したがって、本発明の実施の形態において
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で、2方
向とすることができる。
も、液晶分子(LC)の駆動方向を、1画素内で、2方
向とすることができる。
【0362】なお、角度θは、0°を越え90°未満で
あればよいが、30°〜60°が最適である。
あればよいが、30°〜60°が最適である。
【0363】また、本発明の実施の形態では、配向膜の
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図40に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
配向(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期
配向方向(RD)は、図40に示すように、上下基板で
互いに平行、かつ、映像信号線(DL)と平行(あるい
は走査信号線(GL)と垂直)とする。
【0364】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
【0365】液晶分子(LC)は基板面でその長軸を回
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
【0366】また、本発明の実施の形態では、1画素内
の液晶駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異な
らせることができ、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を
向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
の液晶駆動領域毎に液晶分子(LC)の駆動方向を異な
らせることができ、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を1画素内で補償し、表示品質を
向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
【0367】図42、図43は、図40に示す画素ある
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
いは類似の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す
図である。
【0368】図42に示す配置例は、図40に示す画素
をマトリクス状に配置した配置例であり、また、図43
に示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、
図40に示す画素、および、図40に示す画素とは映像
信号線(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号
線(CL)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリ
クス状に配置した配置例である。
をマトリクス状に配置した配置例であり、また、図43
に示す配置例は、映像信号線(DL)に平行な方向で、
図40に示す画素、および、図40に示す画素とは映像
信号線(DL)方向で対称である画素を、対向電圧信号
線(CL)を2画素で共有しながら交互に並べてマトリ
クス状に配置した配置例である。
【0369】図42、図43に示す配置例において、液
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図43に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
晶層(LCD)の液晶分子(LC)の駆動方向は、いず
れも2方向となるが、図43に示す配置例では、隣接す
る各画素において、液晶分子(LC)の駆動方向が異な
るため、白色色調の視角による不均一性に対する補償効
果をさらに向上させることができる。
【0370】この場合に、図40に示すA部とB部の角
度θの値を違う値とすることも可能である。
度θの値を違う値とすることも可能である。
【0371】また、本発明の実施の形態においても、配
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
【0372】[発明の実施の形態7]図44は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態7)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態7)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0373】図45、図46は、本発明の実施の形態の
液晶表示装置における印加電界方向、偏光板(POL
1,POL2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、
および、液晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
液晶表示装置における印加電界方向、偏光板(POL
1,POL2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、
および、液晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0374】なお、本発明の実施の形態は、画素電極
(SL)、対向電極(CL’)および映像信号線(D
L)の形状が前記発明の実施の形態1と相違するが、そ
れ以外の構成は前記発明の実施の形態1と同じである。
(SL)、対向電極(CL’)および映像信号線(D
L)の形状が前記発明の実施の形態1と相違するが、そ
れ以外の構成は前記発明の実施の形態1と同じである。
【0375】本発明の実施の形態においては、図44に
示すように、画素電極(SL)は、斜め下方向に延びる
直線形状、また、対向電極(CL’)は対向電圧信号線
(CL)から斜め上方向に突起した櫛歯形状をしてお
り、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
は1画素内で2分割されている。
示すように、画素電極(SL)は、斜め下方向に延びる
直線形状、また、対向電極(CL’)は対向電圧信号線
(CL)から斜め上方向に突起した櫛歯形状をしてお
り、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
は1画素内で2分割されている。
【0376】本発明の実施の形態では、配向膜の配向
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図44に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、走査信号線(GL)と垂直とする。
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図44に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、走査信号線(GL)と垂直とする。
【0377】また、図44に示すように、対向電極(C
L’)および画素電極(SL)を平行にし、かつ、対向
電極(CL’)および画素電極(SL)を傾斜させ、各
電極が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対
して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜角を持つよう
にする。
L’)および画素電極(SL)を平行にし、かつ、対向
電極(CL’)および画素電極(SL)を傾斜させ、各
電極が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対
して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜角を持つよう
にする。
【0378】また、映像信号線(DL)を、対向電極
(CL’)および画素電極(SL)と平行にし、映像信
号線(DL)も、液晶層(LCD)の初期配向方向(R
D)に対して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜角を
持つようにする。
(CL’)および画素電極(SL)と平行にし、映像信
号線(DL)も、液晶層(LCD)の初期配向方向(R
D)に対して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜角を
持つようにする。
【0379】さらに、液晶層(LCD)の初期配向方向
(RD)に対して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜
角を持つ対向電極(CL’)と画素電極(SL)とを有
する画素および映像信号線(DL)をジグザグに配置す
る。
(RD)に対して、反時計方向にθあるいは−θの傾斜
角を持つ対向電極(CL’)と画素電極(SL)とを有
する画素および映像信号線(DL)をジグザグに配置す
る。
【0380】これにより、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)と電界方向(ED)とのなす角度を90°
−θ、90°+θとし、画素電極(SL)と対向電極
(CL’)との間での液晶分子(LC)の駆動方向を図
45(b)、図46(b)のように規定する。
方向(RD)と電界方向(ED)とのなす角度を90°
−θ、90°+θとし、画素電極(SL)と対向電極
(CL’)との間での液晶分子(LC)の駆動方向を図
45(b)、図46(b)のように規定する。
【0381】なお、角度θは10〜20°が最適であ
る。
る。
【0382】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
【0383】液晶分子(LC)は基板面でその長軸を回
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
【0384】また、液晶分子(LC)の駆動方向を液晶
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低減し、応
答速度を早くすることができる。
【0385】本発明の実施の形態では、液晶層(LC
D)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方向にθ
あるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)と画素
電極(SL)とを有する画素をジグザグに配置するよう
にしたので、映像信号線(DL)に沿って連続する画素
で、2つの異なる液晶分子(LC)の駆動方向を交互に
有することとなり、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を補償し、表示品質を向上させ、
高画質の表示画像を得ることが可能となる。
D)の初期配向方向(RD)に対して、反時計方向にθ
あるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)と画素
電極(SL)とを有する画素をジグザグに配置するよう
にしたので、映像信号線(DL)に沿って連続する画素
で、2つの異なる液晶分子(LC)の駆動方向を交互に
有することとなり、ホモジニアス配向された液晶層(L
CD)における統一された駆動方向に起因する白色色調
の視角による不均一性を補償し、表示品質を向上させ、
高画質の表示画像を得ることが可能となる。
【0386】[発明の実施の形態8]図47は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態8)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態8)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0387】図48は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
装置における印加電界方向、偏光板(POL1,POL
2)の偏光透過軸(OD1,OD2)方向、および、液
晶分子(LC)の駆動方向を示す図である。
【0388】なお、本発明の実施の形態は、下記の構成
を除いて、前記発明の実施の形態1と同じである。
を除いて、前記発明の実施の形態1と同じである。
【0389】本発明の実施の形態では、図48に示すよ
うに、液晶層(LCD)を基準にして上部透明ガラス基
板(SUB2)側には、上部配向膜(OR2)、保護膜
(PSV1)、対向電圧信号線(CL)および対向電極
(CL’)、オーバーコート膜(OC)、および、カラ
ーフィルタ(FIL)、遮光用ブラックマトリクスパタ
ーン(BM)が形成されている。
うに、液晶層(LCD)を基準にして上部透明ガラス基
板(SUB2)側には、上部配向膜(OR2)、保護膜
(PSV1)、対向電圧信号線(CL)および対向電極
(CL’)、オーバーコート膜(OC)、および、カラ
ーフィルタ(FIL)、遮光用ブラックマトリクスパタ
ーン(BM)が形成されている。
【0390】また、蓄積容量(Cstdg)は、画素電
極(SL)の他端と、次段の走査信号線(GL)とを重
畳して構成されている。
極(SL)の他端と、次段の走査信号線(GL)とを重
畳して構成されている。
【0391】本発明の実施の形態では、配向膜の配向
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図47に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、対向電極(CL’)、画素電極(S
L)、および、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)に垂直)とする。
(ラビング)方向、即ち、液晶層(LCD)の初期配向
方向(RD)は、図47に示すように、上下基板で互い
に平行、かつ、対向電極(CL’)、画素電極(S
L)、および、映像信号線(DL)と平行(あるいは走
査信号線(GL)に垂直)とする。
【0392】また、対向電圧信号線(CL)および対向
電極(CL’)を、上部透明ガラス基板(SUB2)に
配置し、図48(b)に示すように、画素電極(SL)
と対向電極(CL’)との間の電界に極わずか基板に対
して傾斜を与える。
電極(CL’)を、上部透明ガラス基板(SUB2)に
配置し、図48(b)に示すように、画素電極(SL)
と対向電極(CL’)との間の電界に極わずか基板に対
して傾斜を与える。
【0393】ここで、液晶層(LCD)の材料やプロセ
ス条件の選定により、液晶層(LCD)の初期配向時に
プレチルトを持たせた場合に、各液晶分子(LC)に画
素電極(SL)に近い部分と対向電極(CL’)に近い
部分が生じ、図48(C)に示すように液晶駆動方向が
規定される。
ス条件の選定により、液晶層(LCD)の初期配向時に
プレチルトを持たせた場合に、各液晶分子(LC)に画
素電極(SL)に近い部分と対向電極(CL’)に近い
部分が生じ、図48(C)に示すように液晶駆動方向が
規定される。
【0394】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
ても、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間で基
板面にほぼ平行に電界(ED)を印加し、ねじれのない
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)の複屈折性を
利用して表示する。
【0395】液晶分子(LC)は基板面でその長軸を回
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
転させるため、パネルを正面から見た場合と斜めから見
た場合、さらには階調表示した場合において、液晶分子
の見え方の差が小さいため、広い視野角が実現できる。
【0396】また、本発明の実施の形態では、図48に
示すように、上部透明ガラス基板(SUB2)上に形成
されている対向電極(CL’)と、下部透明ガラス基板
(SUB1)上に形成される画素電極(SL)とは交互
に配置されるために、1画素内の液晶駆動領域(画素電
極(SL)と対向電極(CL’)との間の領域)で、電
界(ED)の基板に対する傾斜方向が逆になる。
示すように、上部透明ガラス基板(SUB2)上に形成
されている対向電極(CL’)と、下部透明ガラス基板
(SUB1)上に形成される画素電極(SL)とは交互
に配置されるために、1画素内の液晶駆動領域(画素電
極(SL)と対向電極(CL’)との間の領域)で、電
界(ED)の基板に対する傾斜方向が逆になる。
【0397】したがって、本発明の実施の形態では、1
画素内で異なる2方向の液晶駆動方向を持つことなり、
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)における統一
された駆動方向に起因する白色色調の視角による不均一
性を1画素内で補償し、表示品質を向上させ、高画質の
表示画像を得ることが可能となる。
画素内で異なる2方向の液晶駆動方向を持つことなり、
ホモジニアス配向された液晶層(LCD)における統一
された駆動方向に起因する白色色調の視角による不均一
性を1画素内で補償し、表示品質を向上させ、高画質の
表示画像を得ることが可能となる。
【0398】図49は、図47に示す画素あるいは類似
の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す図であ
る。
の画素をマトリクス状に配置する配置例を示す図であ
る。
【0399】また、本発明の実施の形態においても、配
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
向膜をラビング処理する際に、画素の表示領域内の電極
の端面付近でのラビング処理が円滑かつ確実に行われる
ので、電極脇の部分の液晶層の液晶分子の配向を良好に
することが可能となる。
【0400】なお、上部透明ガラス基板(SUB2)上
に形成される対向電極(CL’)の形状、下部透明ガラ
ス基板(SUB1)上に形成される画素電極(SL)の
形状、および、上部透明ガラス基板(SUB2)上に形
成される対向電極(CL’)と下部透明ガラス基板(S
UB1)上に形成される画素電極(SL)との相対関係
を、前記発明の実施の形態2、4、5と同様にすること
により、液晶分子(LC)の駆動方向の規定に有効とな
り、駆動電圧の低下が見込める。
に形成される対向電極(CL’)の形状、下部透明ガラ
ス基板(SUB1)上に形成される画素電極(SL)の
形状、および、上部透明ガラス基板(SUB2)上に形
成される対向電極(CL’)と下部透明ガラス基板(S
UB1)上に形成される画素電極(SL)との相対関係
を、前記発明の実施の形態2、4、5と同様にすること
により、液晶分子(LC)の駆動方向の規定に有効とな
り、駆動電圧の低下が見込める。
【0401】[発明の実施の形態9]図50は、本発明
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態9)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態9)である
アクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の一画
素とその周辺を示す平面図である。
【0402】図51は、図50に示すa−a′切断線に
おける画素の断面図である。
おける画素の断面図である。
【0403】本発明の実施の形態は、対向電極(C
L’)が画素電極(SL)と同層に形成されている以外
は、前記発明の実施の形態1と同じである。
L’)が画素電極(SL)と同層に形成されている以外
は、前記発明の実施の形態1と同じである。
【0404】図51に示すように、本発明の実施の形態
においては、画素電極(SL)と対向電極(CL’)は
同層に構成されており、対向電極(CL’)と対向電圧
信号線(CL)とは、ゲート絶縁膜(GI)にスルーホ
ール(SH)を形成し、両者を電気的に接続している。
においては、画素電極(SL)と対向電極(CL’)は
同層に構成されており、対向電極(CL’)と対向電圧
信号線(CL)とは、ゲート絶縁膜(GI)にスルーホ
ール(SH)を形成し、両者を電気的に接続している。
【0405】ここで、対向電圧信号線(CL)をアルミ
ニウム(Al)系の導電膜(g1)で形成する場合に
は、対向電極(CL’)と対向電圧信号線(CL)との
接続をとるために、対向電圧信号線(CL)とそれと同
一材料、同工程で形成されるものについて陽極酸化は行
わない。
ニウム(Al)系の導電膜(g1)で形成する場合に
は、対向電極(CL’)と対向電圧信号線(CL)との
接続をとるために、対向電圧信号線(CL)とそれと同
一材料、同工程で形成されるものについて陽極酸化は行
わない。
【0406】なお、この場合に、対向電圧信号線(C
L)、および、それと同一材料、同工程で形成される導
電膜としてクロム(Cr)を用いれば、陽極酸化を行う
必要がない。
L)、および、それと同一材料、同工程で形成される導
電膜としてクロム(Cr)を用いれば、陽極酸化を行う
必要がない。
【0407】また、対向電圧信号線(CL)を画素電極
(SL)と同層に設けることにより、スルーホールを
(SH)構成しないようにすることも可能であり、さら
に、画素電極(SL)を対向電極(CL’)と同層に同
工程で形成してもよい。
(SL)と同層に設けることにより、スルーホールを
(SH)構成しないようにすることも可能であり、さら
に、画素電極(SL)を対向電極(CL’)と同層に同
工程で形成してもよい。
【0408】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、前記発明の実施の形態1と同様に、その対向面
が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を組み合わせて、
マトリクス状に配置することにより、ホモジニアス配向
された液晶層(LCD)における統一された駆動方向に
起因する白色色調の視角による不均一性を補償し、表示
品質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能と
なる。
ても、前記発明の実施の形態1と同様に、その対向面
が、液晶層(LCD)の初期配向方向(RD)に対し
て、θあるいは−θの傾斜角を持つ対向電極(CL’)
および画素電極(SL)を有する画素を組み合わせて、
マトリクス状に配置することにより、ホモジニアス配向
された液晶層(LCD)における統一された駆動方向に
起因する白色色調の視角による不均一性を補償し、表示
品質を向上させ、高画質の表示画像を得ることが可能と
なる。
【0409】また、前記発明の実施の形態2ないし発明
の実施の形態7においても、対向電極(CL’)を画素
電極(SL)と同層に形成することが可能であり、それ
により、前記各発明の実施の形態と同様な効果を得るこ
とが可能である。
の実施の形態7においても、対向電極(CL’)を画素
電極(SL)と同層に形成することが可能であり、それ
により、前記各発明の実施の形態と同様な効果を得るこ
とが可能である。
【0410】[発明の実施の形態10]図52は、本発
明の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態10)で
あるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の
一画素とその周辺を示す平面図である。
明の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態10)で
あるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の
一画素とその周辺を示す平面図である。
【0411】本発明の実施の形態は、以下の構成を除い
て、前記発明の実施の形態1と同じである。
て、前記発明の実施の形態1と同じである。
【0412】本発明の実施の形態は、前記発明の実施の
形態1に示す液晶表示装置において、隣接する走査信号
線(GL)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vco
m)を供給するようにした発明の実施の形態である。
形態1に示す液晶表示装置において、隣接する走査信号
線(GL)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vco
m)を供給するようにした発明の実施の形態である。
【0413】図52に示すように、本発明の実施の形態
においては、ゲート電極(GT)、および、対向電極
(CL’)が、査信号線(GL)と連続して一体に構成
される。
においては、ゲート電極(GT)、および、対向電極
(CL’)が、査信号線(GL)と連続して一体に構成
される。
【0414】また、映像信号線(DL)と交差する部分
は、映像信号線(DL)との短絡の確率を小さくするた
め細くし、また、短絡しても、レーザートリミングで切
り離すことができるように二股にされている。
は、映像信号線(DL)との短絡の確率を小さくするた
め細くし、また、短絡しても、レーザートリミングで切
り離すことができるように二股にされている。
【0415】ここで、対向電極(CL’)は、1つ前の
ラインの走査信号線(GL)に接続される。
ラインの走査信号線(GL)に接続される。
【0416】なお、本発明の実施の形態における画素の
断面(図1に示すa−a′切断線における断面)は、図
2と同じである。
断面(図1に示すa−a′切断線における断面)は、図
2と同じである。
【0417】図53は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における表示マトリクス部(AR)の等化回路とそ
の周辺回路を示す図である。
装置における表示マトリクス部(AR)の等化回路とそ
の周辺回路を示す図である。
【0418】図53も、回路図ではあるが、実際の幾何
学的配置に対応して描かれている。
学的配置に対応して描かれている。
【0419】図53において、ARは、複数の画素を二
次元状に配列した表示マトリクス部(マトリクス・アレ
イ)を示している。
次元状に配列した表示マトリクス部(マトリクス・アレ
イ)を示している。
【0420】図53中、SLは画素電極であり、添字
G、BおよびRがそれぞれ緑、青および赤画素に対応し
て付加されている。
G、BおよびRがそれぞれ緑、青および赤画素に対応し
て付加されている。
【0421】GLは走査信号線であり、y0、…、ye
ndは走査タイミングの順序を示している。
ndは走査タイミングの順序を示している。
【0422】走査信号線(GL)は垂直走査回路(V)
に接続されており、映像信号線(DL)は映像信号駆動
回路(H)に接続されている。
に接続されており、映像信号線(DL)は映像信号駆動
回路(H)に接続されている。
【0423】回路(SUP)は、1つの電圧源から複数
の分圧した安定化された電圧源を得るための電源回路や
ホスト(上位演算処理装置)からのCRT(陰極線管)
用の情報を(TFT)液晶表示装置用の情報に交換する
回路を含む回路である。
の分圧した安定化された電圧源を得るための電源回路や
ホスト(上位演算処理装置)からのCRT(陰極線管)
用の情報を(TFT)液晶表示装置用の情報に交換する
回路を含む回路である。
【0424】図54は、本発明の実施の形態の液晶表示
装置における駆動時の駆動波形を示す図であり、図54
(a)、図54(b)は、それぞれ、(i−1)番目、
(i)番目の走査信号線(GL)に供給されるゲート電
圧(走査信号電圧)(VG)を示している。
装置における駆動時の駆動波形を示す図であり、図54
(a)、図54(b)は、それぞれ、(i−1)番目、
(i)番目の走査信号線(GL)に供給されるゲート電
圧(走査信号電圧)(VG)を示している。
【0425】なお、図54では、(i)は偶数であり、
したがって、(i−1)番目の走査信号線(GL)は奇
数番目の走査信号線(GL)を、(i)番目の走査信号
線(GL)は偶数番目の走査信号線(GL)をそれぞれ
示している。
したがって、(i−1)番目の走査信号線(GL)は奇
数番目の走査信号線(GL)を、(i)番目の走査信号
線(GL)は偶数番目の走査信号線(GL)をそれぞれ
示している。
【0426】また、図54(c)は、映像信号線(D
L)に印加される映像信号電圧(VD)を示し、さら
に、図54(d)は、(i)行、(j)列の画素におけ
る画素電極(SL)に印加される画素電極電圧(Vs)
を示し、図54(e)は、(i)行、(j)列の画素の
液晶層(LCD)に印加される電圧(VLC)を示してい
る。
L)に印加される映像信号電圧(VD)を示し、さら
に、図54(d)は、(i)行、(j)列の画素におけ
る画素電極(SL)に印加される画素電極電圧(Vs)
を示し、図54(e)は、(i)行、(j)列の画素の
液晶層(LCD)に印加される電圧(VLC)を示してい
る。
【0427】本発明の実施の形態の液晶表示装置の駆動
方法においては、走査信号線(GL)から対向電極(C
L’)に対向電圧(Vcom)を印加しなければならな
いので、走査信号線(GL)に供給されるゲート電圧
(VG)の非選択電圧を、各フレーム毎に、VGLHとVGL
Mの2値の矩形波、あるいは、VGLMとVGLLの2値の矩
形波で変化させる。
方法においては、走査信号線(GL)から対向電極(C
L’)に対向電圧(Vcom)を印加しなければならな
いので、走査信号線(GL)に供給されるゲート電圧
(VG)の非選択電圧を、各フレーム毎に、VGLHとVGL
Mの2値の矩形波、あるいは、VGLMとVGLLの2値の矩
形波で変化させる。
【0428】さらに、隣接する走査信号線(GL)に供
給されるゲート電圧(VG)の非選択電圧の変化が同じ
にならないようにする。
給されるゲート電圧(VG)の非選択電圧の変化が同じ
にならないようにする。
【0429】図54(a)、図54(b)に示す例で
は、(i−1)番目の走査信号線(GL)に供給される
ゲート電圧(VG)の非選択電圧は、奇フレームで、VG
LM、VGLLの2値、偶フレームで、VGLH、VGLMの2値
で変化させ、また、(i)番目の走査信号線(GL)に
供給されるゲート電圧(VG)の非選択電圧は、奇フレ
ームで、VGLH、VGLMの2値、偶フレームで、VGLM、
VGLLの2値で変化させる。
は、(i−1)番目の走査信号線(GL)に供給される
ゲート電圧(VG)の非選択電圧は、奇フレームで、VG
LM、VGLLの2値、偶フレームで、VGLH、VGLMの2値
で変化させ、また、(i)番目の走査信号線(GL)に
供給されるゲート電圧(VG)の非選択電圧は、奇フレ
ームで、VGLH、VGLMの2値、偶フレームで、VGLM、
VGLLの2値で変化させる。
【0430】この場合に、VGLHとVGLMの中心電位はV
GL1、VGLMとVGLLの中心電位はVGL2であり、VGLHと
VGLMの振幅値、および、VGLMとVGLLの振幅値は、等
しく2VBとする。
GL1、VGLMとVGLLの中心電位はVGL2であり、VGLHと
VGLMの振幅値、および、VGLMとVGLLの振幅値は、等
しく2VBとする。
【0431】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、その対向面が、液晶層(LCD)の液晶分子(L
C)の初期配向方向に対して、θあるいは−θの傾斜角
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を組み合わせて、マトリクス状に配置すること
で、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)における
統一された駆動方向に起因する白色色調の視角による不
均一性を補償し、表示品質を向上させ、高画質の表示画
像を得ることが可能となる。
ても、その対向面が、液晶層(LCD)の液晶分子(L
C)の初期配向方向に対して、θあるいは−θの傾斜角
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を組み合わせて、マトリクス状に配置すること
で、ホモジニアス配向された液晶層(LCD)における
統一された駆動方向に起因する白色色調の視角による不
均一性を補償し、表示品質を向上させ、高画質の表示画
像を得ることが可能となる。
【0432】また、前記発明の実施の形態2ないし発明
の実施の形態7においても、隣接する走査信号線(G
L)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vcom)を
供給することが可能であり、それにより、前記各発明の
実施の形態と同様な効果を得ることが可能である。
の実施の形態7においても、隣接する走査信号線(G
L)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vcom)を
供給することが可能であり、それにより、前記各発明の
実施の形態と同様な効果を得ることが可能である。
【0433】さらに、本発明の実施の形態の液晶表示装
置においては、開口率を向上させることが可能となる。
置においては、開口率を向上させることが可能となる。
【0434】[発明の実施の形態11]図55は、本発
明の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態11)で
あるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の
一画素とその周辺を示す平面図である。
明の他の発明の実施の形態(発明の実施の形態11)で
あるアクティブマトリクス方式のカラー液晶表示装置の
一画素とその周辺を示す平面図である。
【0435】本発明の実施の形態は、前記発明の実施の
形態10に示す液晶表示装置において、対向電極(C
L’)を画素電極(SL)と同層に形成した発明の実施
の形態である。
形態10に示す液晶表示装置において、対向電極(C
L’)を画素電極(SL)と同層に形成した発明の実施
の形態である。
【0436】図55に示すように、本発明の実施の形態
の液晶表示装置においては、ゲート電極(GT)が、査
信号線(GL)と連続して一体に構成される。
の液晶表示装置においては、ゲート電極(GT)が、査
信号線(GL)と連続して一体に構成される。
【0437】また、対向電極(CL’)は、スルホール
(SH)を介して1つ前の走査信号線(GL)に接続さ
れる。
(SH)を介して1つ前の走査信号線(GL)に接続さ
れる。
【0438】なお、本発明の実施の形態における画素の
断面(図50に示すa−a′切断線における断面)は、
図51と同じである。
断面(図50に示すa−a′切断線における断面)は、
図51と同じである。
【0439】この場合に、走査信号線(GL)をアルミ
ニウム(Al)系の導電膜(g1)で形成する場合に
は、対向電極(CL’)と走査信号線(GL)との接続
をとるために、走査信号線(GL)とそれと同一材料、
同工程で形成されるものについて陽極酸化は行わない。
ニウム(Al)系の導電膜(g1)で形成する場合に
は、対向電極(CL’)と走査信号線(GL)との接続
をとるために、走査信号線(GL)とそれと同一材料、
同工程で形成されるものについて陽極酸化は行わない。
【0440】なお、この場合に、走査信号線(GL)、
および、それと同一材料、同工程で形成される導電膜と
してクロム(Cr)を用いれば、陽極酸化を行う必要が
ない。
および、それと同一材料、同工程で形成される導電膜と
してクロム(Cr)を用いれば、陽極酸化を行う必要が
ない。
【0441】本発明の実施の形態の液晶表示装置におい
ても、その対向面が、液晶層(LCD)の液晶分子(L
C)の初期配向方向に対して、θあるいは−θの傾斜角
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を組み合わせて、ホモジニアス配向された液晶
層(LCD)における統一された駆動方向に起因する白
色色調の視角による不均一性を補償し、表示品質を向上
させ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
ても、その対向面が、液晶層(LCD)の液晶分子(L
C)の初期配向方向に対して、θあるいは−θの傾斜角
を持つ対向電極(CL’)および画素電極(SL)を有
する画素を組み合わせて、ホモジニアス配向された液晶
層(LCD)における統一された駆動方向に起因する白
色色調の視角による不均一性を補償し、表示品質を向上
させ、高画質の表示画像を得ることが可能となる。
【0442】また、前記発明の実施の形態2ないし発明
の実施の形態7においても、隣接する走査信号線(G
L)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vcom)を
供給し、かつ、対向電極(CL’)を画素電極(SL)
と同層に形成することが可能であり、それにより、前記
各発明の実施の形態と同様な効果を得ることが可能であ
る。
の実施の形態7においても、隣接する走査信号線(G
L)から対向電極(CL’)に対向電圧(Vcom)を
供給し、かつ、対向電極(CL’)を画素電極(SL)
と同層に形成することが可能であり、それにより、前記
各発明の実施の形態と同様な効果を得ることが可能であ
る。
【0443】さらに、本発明の実施の形態の液晶表示装
置においては、開口率を向上させることが可能となる。
置においては、開口率を向上させることが可能となる。
【0444】なお、前記各発明の実施の形態において
は、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
を、1画素内で2または4に分割するようにしたが、画
素電極(SL)と対向電極(CL’)とを周期的に追加
することにより、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)の間の領域を、1画素内で2または4以上に分割
することも可能である。
は、画素電極(SL)と対向電極(CL’)の間の領域
を、1画素内で2または4に分割するようにしたが、画
素電極(SL)と対向電極(CL’)とを周期的に追加
することにより、画素電極(SL)と対向電極(C
L’)の間の領域を、1画素内で2または4以上に分割
することも可能である。
【0445】以上、本発明を発明の実施の形態に基づき
具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施の形態
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更し得ることは言うまでもない。
具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施の形態
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更し得ることは言うまでもない。
【0446】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
【0447】(1)本発明によれば、横電界方式を採用
したアクティブマトリクス型液晶表示装置において、互
いに色調のシフトを相殺して、白色色調の方位による依
存性を大幅に低減することが可能となる。
したアクティブマトリクス型液晶表示装置において、互
いに色調のシフトを相殺して、白色色調の方位による依
存性を大幅に低減することが可能となる。
【0448】さらに、階調反転しにくい液晶分子の短軸
方向と、階調反転しやすい液晶分子の長軸方向との特性
が平均され、階調反転に弱い方向での非階調反転視野角
を拡大することが可能となる。
方向と、階調反転しやすい液晶分子の長軸方向との特性
が平均され、階調反転に弱い方向での非階調反転視野角
を拡大することが可能となる。
【0449】これにより、全方位における視野角の範囲
を向上させ、かつ、階調の均一性および色調の均一性が
全方位で平均化または拡大することが可能となる。
を向上させ、かつ、階調の均一性および色調の均一性が
全方位で平均化または拡大することが可能となる。
【0450】(2)本発明によれば、液晶分子の駆動方
向を液晶駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低
減し、応答速度を早くすることが可能である。
向を液晶駆動領域内で揃えることにより、駆動電圧を低
減し、応答速度を早くすることが可能である。
【0451】(3)本発明によれば、液晶層の液晶分子
の初期配向方向が、単一方向であるため、製造プロセス
を増加させる必要がない。
の初期配向方向が、単一方向であるため、製造プロセス
を増加させる必要がない。
【0452】(4)本発明によれば、極めて広視野角
で、色調の視角特性に優れ、ブラウン管並の視野角を実
現でき、高コントラスト比を有し、表示品質にも優れた
極めて高画質の液晶表示装置を得ることが可能となる。
で、色調の視角特性に優れ、ブラウン管並の視野角を実
現でき、高コントラスト比を有し、表示品質にも優れた
極めて高画質の液晶表示装置を得ることが可能となる。
【図1】本発明の一発明の実施の形態(発明の実施の形
態1)であるアクティブマトリックス型カラー液晶表示
装置の一画素とその周辺を示す要部平面図である。
態1)であるアクティブマトリックス型カラー液晶表示
装置の一画素とその周辺を示す要部平面図である。
【図2】図1のa−a′切断線における画素の断面図で
ある。
ある。
【図3】図1の4−4切断線における薄膜トランジスタ
素子(TFT)の断面図である。
素子(TFT)の断面図である。
【図4】図1の5−5切断線における蓄積容量(Cst
g)の断面図である。
g)の断面図である。
【図5】発明の実施の形態1の液晶表示装置における表
示パネル(PNL)のマトリクス周辺部の構成を説明す
るための平面図である。
示パネル(PNL)のマトリクス周辺部の構成を説明す
るための平面図である。
【図6】発明の実施の形態1の液晶表示装置における左
側に走査信号端子、右側に外部接続端子のないパネル縁
部分を示す断面図である。
側に走査信号端子、右側に外部接続端子のないパネル縁
部分を示す断面図である。
【図7】発明の実施の形態1の液晶表示装置における表
示マトリクス部(AR)の走査信号線(GL)からその
外部接続端子であるゲート端子(GTM)までの接続構
造を示す図である。
示マトリクス部(AR)の走査信号線(GL)からその
外部接続端子であるゲート端子(GTM)までの接続構
造を示す図である。
【図8】発明の実施の形態1の液晶表示装置における表
示マトリクス部(AR)の映像信号線(DL)からその
外部接続端子であるドレイン端子(DTM)までの接続
を示す図である。
示マトリクス部(AR)の映像信号線(DL)からその
外部接続端子であるドレイン端子(DTM)までの接続
を示す図である。
【図9】発明の実施の形態1の液晶表示装置における対
向電圧信号線(CL)からその外部接続端子である対向
電極端子(CTM)までの接続を示す図である。
向電圧信号線(CL)からその外部接続端子である対向
電極端子(CTM)までの接続を示す図である。
【図10】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
表示マトリクス部(AR)の等化回路とその周辺回路を
示す図である。
表示マトリクス部(AR)の等化回路とその周辺回路を
示す図である。
【図11】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
駆動時の駆動波形を示す図である。
駆動時の駆動波形を示す図である。
【図12】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
透明基板(SUB1)側の工程A〜Cの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
透明基板(SUB1)側の工程A〜Cの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
【図13】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
透明基板(SUB1)側の工程D〜Fの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
透明基板(SUB1)側の工程D〜Fの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
【図14】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
透明基板(SUB1)側の工程G〜Hの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
透明基板(SUB1)側の工程G〜Hの製造工程を示す
画素部とゲート端子部の断面図のフローチャートであ
る。
【図15】発明の実施の形態1における液晶表示パネル
(PNL)に周辺の駆動回路を実装した状態を示す平面
図である。
(PNL)に周辺の駆動回路を実装した状態を示す平面
図である。
【図16】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
駆動回路を構成する集積回路チップ(CHI)がフレキ
シブル配線基板に搭載されたテープキャリアパッケージ
(TCP)の断面構造を示す断面図である。
駆動回路を構成する集積回路チップ(CHI)がフレキ
シブル配線基板に搭載されたテープキャリアパッケージ
(TCP)の断面構造を示す断面図である。
【図17】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
テープキャリアパッケージ(TCP)を液晶表示パネル
(PNL)の走査信号回路用端子(GTM)に接続した
状態を示す要部断面図である。
テープキャリアパッケージ(TCP)を液晶表示パネル
(PNL)の走査信号回路用端子(GTM)に接続した
状態を示す要部断面図である。
【図18】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
液晶表示モジュールの分解斜視図である。
液晶表示モジュールの分解斜視図である。
【図19】発明の実施の形態1の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図20】図1に示す画素あるいは類似の画素をマトリ
クス状に配置する配置例を示す図である。
クス状に配置する配置例を示す図である。
【図21】図1に示す画素あるいは類似の画素をマトリ
クス状に配置する配置例を示す図である。
クス状に配置する配置例を示す図である。
【図22】図1に示す画素あるいは類似の画素をマトリ
クス状に配置する配置例を示す図である。
クス状に配置する配置例を示す図である。
【図23】発明の実施の形態1における視角の定義を示
す図である。
す図である。
【図24】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態2)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態2)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図25】発明の実施の形態2の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図26】図24に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図27】図24に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図28】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態3)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態3)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図29】発明の実施の形態3の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図30】図28に示す画素および類似の画素をマトリ
クス状に配置する配置例を示す図である。
クス状に配置する配置例を示す図である。
【図31】図28に示す画素および類似の画素を、マト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図32】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態4)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態4)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図33】発明の実施の形態4の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図34】図32に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図35】図32に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図36】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態5)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態5)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図37】発明の実施の形態5の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図38】図36に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図39】図36に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図40】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態6)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態6)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図41】発明の実施の形態6の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図42】図40に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図43】図40に示す画素あるいは類似の画素をマト
リクス状に配置する配置例を示す図である。
リクス状に配置する配置例を示す図である。
【図44】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態7)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態7)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図45】発明の実施の形態7の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図46】発明の実施の形態7の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図47】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態8)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態8)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図48】発明の実施の形態8の液晶表示装置における
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
印加電界方向、偏光板(POL1,POL2)の偏光透
過軸(OD1,OD2)方向、および、液晶分子(L
C)の駆動方向を示す図である。
【図49】図47に示す画素をマトリクス状に配置する
配置例を示す図である。
配置例を示す図である。
【図50】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態9)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態9)であるアクティブマトリクス方式のカラー液
晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図51】図50のa−a′切断線における画素の断面
図である。
図である。
【図52】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態10)であるアクティブマトリクス方式のカラー
液晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態10)であるアクティブマトリクス方式のカラー
液晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
【図53】発明の実施の形態10の液晶表示装置におけ
る表示マトリクス部(AR)の等化回路とその周辺回路
を示す図である。
る表示マトリクス部(AR)の等化回路とその周辺回路
を示す図である。
【図54】発明の実施の形態10の液晶表示装置におけ
る駆動時の駆動波形を示す図である。
る駆動時の駆動波形を示す図である。
【図55】本発明の他の発明の実施の形態(発明の実施
の形態11)であるアクティブマトリクス方式のカラー
液晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
の形態11)であるアクティブマトリクス方式のカラー
液晶表示装置の一画素とその周辺を示す平面図である。
SUB…透明ガラス基板、GL…走査信号線、DL…映
像信号線、CL…対向電圧信号線、SL…画素電極、C
L’…対向電極、GI…絶縁膜、GT…ゲート電極、A
S…i型半導体層、SD…ソース電極またはドレイン電
極、OR…配向膜、OC…オーバーコート膜、POL…
偏光板、PSV…保護膜、BM…遮光膜、FIL…カラ
ーフィルタ、LCD…液晶層、LC…液晶分子、TFT
…薄膜トランジスタ、g,d…導電膜、Cstg…蓄積
容量、AOF…陽極酸化膜、AO…陽極酸化マスク、G
TM…ゲート端子、DTM…ドレイン端子、CTM…対
向電極端子、CB…共通バスライン、SHD…シールド
ケース、PNL…液晶表示パネル、SPB…光拡散板、
LCB…導光体、BL…バックライト蛍光管、LCA…
バックライトケース、RM…反射板。
像信号線、CL…対向電圧信号線、SL…画素電極、C
L’…対向電極、GI…絶縁膜、GT…ゲート電極、A
S…i型半導体層、SD…ソース電極またはドレイン電
極、OR…配向膜、OC…オーバーコート膜、POL…
偏光板、PSV…保護膜、BM…遮光膜、FIL…カラ
ーフィルタ、LCD…液晶層、LC…液晶分子、TFT
…薄膜トランジスタ、g,d…導電膜、Cstg…蓄積
容量、AOF…陽極酸化膜、AO…陽極酸化マスク、G
TM…ゲート端子、DTM…ドレイン端子、CTM…対
向電極端子、CB…共通バスライン、SHD…シールド
ケース、PNL…液晶表示パネル、SPB…光拡散板、
LCB…導光体、BL…バックライト蛍光管、LCA…
バックライトケース、RM…反射板。
フロントページの続き (72)発明者 柳川 和彦 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 箭内 雅弘 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 近藤 克己 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 大江 昌人 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 小西 信武 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (19)
- 【請求項1】 一対の基板と、前記一対の基板間に挟持
される液晶層と、前記一方の基板上に形成される複数の
映像信号線と、前記一方の基板上に形成され前記映像信
号線と交差する複数の走査信号線と、前記複数の映像信
号線と前記複数の走査信号線との交差領域内にマトリク
ス状に形成される複数の画素とを具備し、前記画素が、
前記一方の基板上に形成されるアクティブ素子と、前記
アクティブ素子に接続される画素電極と、前記一対の基
板のいずれか一方の基板上に形成され、前記画素電極と
の間で基板面にほぼ平行な電界を液晶層に印加する対向
電極とを、少なくとも有するアクティブマトリクス型液
晶表示装置において、前記液晶層が、一方向の液晶分子
の初期配向方向を有し、かつ、基板面内で2方向の液晶
分子の駆動方向を有することを特徴とするアクティブマ
トリクス型液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記液晶層が、前記走査信号線に略垂直
な液晶分子の初期配向方向を有し、前記各画素内の画素
電極および対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向に
対してある傾斜角を持って形成される、それぞれ対向電
極および画素電極と相対向する対向面を有し、さらに、
前記液晶分子の初期配向方向に対してそれぞれ異なる傾
斜角を持つ対向面が形成された画素電極および対向電極
を有する画素をマトリクス状に配置したことを特徴とす
る請求項1に記載されたアクティブマトリクス型液晶表
示装置。 - 【請求項3】 前記それぞれ異なる傾斜角が、θあるい
は−θであることを特徴とする請求項2に記載されたア
クティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項4】 前記θが、10°≦θ≦20°であるこ
とを特徴とする請求項3に記載されたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置。 - 【請求項5】 前記液晶層が、前記走査信号線に略垂直
な液晶分子の初期配向方向を有し、前記各画素内の画素
電極および対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向に
対して2つ以上の傾斜角を持って形成される、それぞれ
対向電極および画素電極と相対向する対向面を有するこ
とを特徴とする請求項1に記載されたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置。 - 【請求項6】 前記2つ以上の傾斜角が、θあるいは−
θであることを特徴とする請求項5に記載されたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項7】 前記θが、10°≦θ≦20°であるこ
とを特徴とする請求項6に記載されたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置。 - 【請求項8】 前記液晶層が、前記走査信号線に略垂直
な液晶分子の初期配向方向を有し、各画素の表示領域内
で、前記画素電極および対向電極が、前記液晶分子の初
期配向方向と平行であり、また、各画素の表示領域外
で、前記画素電極および対向電極が、2つ以上の角度を
持って交差していることを特徴とする請求項1に記載さ
れたアクティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項9】 前記2つ以上の角度が、θあるいは−θ
であることを特徴とする請求項8に記載されたアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項10】 前記θが、30°≦θ≦60°である
ことを特徴とする請求項9に記載されたアクティブマト
リクス型液晶表示装置。 - 【請求項11】 前記液晶層が、前記走査信号線に略垂
直な液晶分子の初期配向方向を有し、各画素の表示領域
内で、前記画素電極および対向電極が、前記液晶分子の
初期配向方向と平行であり、また、各画素の表示領域外
で、前記画素電極および対向電極が、前記液晶分子の初
期配向方向に対して2つ以上の傾斜角を持って形成され
る、それぞれ対向電極および画素電極と相対向する対向
面を有することを特徴とする請求項1に記載されたアク
ティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項12】 前記2つ以上の傾斜角が、θあるいは
−θであることを特徴とする請求項11に記載されたア
クティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項13】 前記θが、30°≦θ≦60°である
ことを特徴とする請求項12に記載されたアクティブマ
トリクス型液晶表示装置。 - 【請求項14】 前記液晶層が、前記走査信号線に略垂
直な液晶分子の初期配向方向を有し、各画素の画素電極
および対向電極が、前記液晶分子の初期配向方向に対し
て、ある傾斜角を持って互いに平行に形成され、前記液
晶分子の初期配向方向に対して、それぞれ異なる傾斜角
を持つ画素電極および対向電極を有する画素を交互に配
置してなることを特徴とする請求項1に記載されたアク
ティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項15】 前記それぞれ異なる傾斜角が、θある
いは−θであることを特徴とする請求項14に記載され
たアクティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項16】 前記θが、10°≦θ≦20°である
ことを特徴とする請求項15に記載されたアクティブマ
トリクス型液晶表示装置。 - 【請求項17】 前記映像信号線が、各画素の画素電極
および対向電極と平行に、前記液晶分子の初期配向方向
とある傾斜角を持って形成されることを特徴とする請求
項14ないし請求項16のいずれか1項に記載されたア
クティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項18】 前記液晶層が、前記一対の基板に対し
て、チルト角を有することを特徴とする請求項1、請求
項5ないし請求項10のいずれか1項に記載されたアク
ティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項19】 前記一対の基板の液晶層を挾持する面
と反対側の面上に形成される2枚の偏光板を有し、前記
2枚の偏光板の偏光透過軸が互い直交し、かつ、いずれ
か一方の偏光透過軸が液晶分子の初期配向方向と同一方
向であることを特徴とする請求項1ないし請求項18の
いずれか1項に記載されたアクティブマトリクス型液晶
表示装置。
Priority Applications (18)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26123595A JPH09105908A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
TW085111750A TW454101B (en) | 1995-10-04 | 1996-09-25 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two different kinds of reorientation directions and its manufacturing method |
US08/722,849 US6266116B1 (en) | 1995-10-04 | 1996-09-26 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
KR1019960043785A KR100282934B1 (ko) | 1995-10-04 | 1996-10-04 | 2종류이상의 재배향방향을 가진 액정분자로 구성된 횡전계방식의 액정표시장치 및 그제조방법 |
JP2000004161A JP3423909B2 (ja) | 1995-10-09 | 2000-01-13 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
US09/841,100 US6545658B2 (en) | 1995-10-04 | 2001-04-25 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/237,756 US7046324B2 (en) | 1995-10-04 | 2002-09-10 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/400,498 US7088414B2 (en) | 1995-10-04 | 2003-03-28 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/400,668 US7079212B2 (en) | 1995-10-04 | 2003-03-28 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/400,637 US7095470B2 (en) | 1995-10-04 | 2003-03-28 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/400,448 US7158202B2 (en) | 1995-10-04 | 2003-03-28 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US10/637,495 US7046325B2 (en) | 1995-10-04 | 2003-08-11 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US11/453,023 US7345729B2 (en) | 1995-10-04 | 2006-06-15 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US12/046,873 US7724334B2 (en) | 1995-10-04 | 2008-03-12 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US12/649,582 US7956973B2 (en) | 1995-10-04 | 2009-12-30 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US13/152,781 US8427613B2 (en) | 1995-10-04 | 2011-06-03 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US13/152,821 US8154698B2 (en) | 1995-10-04 | 2011-06-03 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
US13/785,327 US8704988B2 (en) | 1995-10-04 | 2013-03-05 | In-plane field type liquid crystal display device comprising liquid crystal molecules with more than two kinds of reorientation directions |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26123595A JPH09105908A (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000004161A Division JP3423909B2 (ja) | 1995-10-09 | 2000-01-13 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP2003026136A Division JP2003280037A (ja) | 2003-02-03 | 2003-02-03 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09105908A true JPH09105908A (ja) | 1997-04-22 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09105908A (ja) |
Cited By (87)
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---|---|---|---|---|
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KR100279257B1 (ko) * | 1997-12-03 | 2001-01-15 | 김영환 | 액정표시장치 |
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