JPH08297699A - System and method for supporting production failure analysis and production system - Google Patents
System and method for supporting production failure analysis and production systemInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、製造ラインにおける製
品不良の発生に対する対策の効果の解析を行う製造不良
解析システムおよび製造不良解析方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a manufacturing defect analysis system and a manufacturing defect analysis method for analyzing the effect of countermeasures against the occurrence of product defects in a manufacturing line.
【0002】[0002]
【従来の技術】原因究明が必要とされる製造不良につい
て、その原因を類推する方法として、特開平2−234
451号公報の「LSI製造工程の不良工程抽出方法」
では、LSI製造工程において発生する不良の原因を推
定する各工程で起きたトラブルと、該トラブルが原因と
なって発生した(ウェハ)上の不良の対応を示すトラブ
ルデータベースを作成し、該データベースに基づき、不
良工程を抽出する方法が述べられている。2. Description of the Related Art As a method for inferring the cause of a manufacturing defect that requires investigation of the cause, it is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-234.
No. 451 publication “Method of extracting defective process in LSI manufacturing process”
Then, a trouble database showing correspondences between troubles occurring in each process of estimating the cause of defects occurring in the LSI manufacturing process and defects on the (wafer) caused by the troubles is created and stored in the database. Based on this, a method for extracting a defective process is described.
【0003】また、特開平2−287241公報記載の
「外観検査方法及びその装置並びに製品の製造工程中に
おける異常原因除去方法」では、外観検査装置の欠陥検
査データを収集、蓄積し、欠陥の空間的分布や時間的変
動を解析して特徴パラメータを抽出し、知識ベースシス
テムを用いて、製造工程の異常診断を行い原因を推定す
る。Further, in "Appearance inspection method and apparatus therefor and method for removing cause of abnormality in manufacturing process of product" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-287241, defect inspection data of an appearance inspection apparatus is collected and accumulated to detect defect space. The characteristic parameters are extracted by analyzing the statistical distribution and temporal variation, and the cause is estimated by performing abnormality diagnosis of the manufacturing process using the knowledge base system.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】トラブルデータベース
に基づき、不良工程を抽出する方法では、真の不良原因
工程を特定するために、その工程での不良発生頻度の高
い順または発生日時の浅い順に原因工程を抽出する。ま
た、製品の製造工程中における異常原因除去方法では、
原因としての可能性の大きさを表す確信度を、経験的知
識の一部として予め設定しておき、解析に利用する。こ
れらの方法は、解析結果や設定者の経験的知識をもとに
解析の信頼性向上に寄与している。In the method of extracting defective processes based on a trouble database, in order to identify a true defective cause process, the cause is determined in the descending order of defect occurrence frequency or in ascending order of occurrence date and time. Extract steps. In addition, in the method of eliminating the cause of abnormalities during the manufacturing process of the product,
The certainty factor representing the degree of possibility as a cause is set in advance as a part of empirical knowledge and used for analysis. These methods contribute to the improvement of the reliability of the analysis based on the analysis result and the empirical knowledge of the setter.
【0005】しかし、これらの従来技術では、対策の結
果、それらの方法で不良発生をどのくらい抑えたかとい
う対策効果の解析については考慮されていない。また、
対策の効果の把握は、膨大な実績データを参照、分析し
なければならず、人手ではすべてのデータを対象にする
のはきわめて困難である。However, these prior arts do not consider the analysis of the effect of countermeasures such as how much the defect occurrence is suppressed by those methods as a result of the countermeasures. Also,
To understand the effect of the measures, it is necessary to refer to and analyze a huge amount of actual data, and it is extremely difficult to manually cover all the data.
【0006】そこで、本発明は、対策の効果の判断と、
対策の選択とを支援する製造不良解析支援方法と、該方
法を用いた製造不良解析支援システムおよび製造システ
ムとを提供することを目的とする。Therefore, the present invention is to judge the effect of the countermeasure and
An object of the present invention is to provide a manufacturing defect analysis support method for supporting selection of measures, and a manufacturing defect analysis support system and a manufacturing system using the method.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、製品の製造ラインにおいて発生する製
品不良の解析を行う製造不良解析支援システムにおい
て、上記製造ラインにおいて実行された対策の対策内容
および対策時刻を有する対策情報とをもとに、上記対策
情報の少なくともいずれかについて、該対策情報に含ま
れる上記対策内容、および、該対策情報に含まれる上記
対策時刻の前後の不良率管理期間における上記製品不良
の発生率である不良率と、該対策情報とを、対応付けて
出力することにより、製造不良解析を支援することを特
徴とする製造不良解析支援方法が提供される。To achieve the above object, in the present invention, in a manufacturing defect analysis support system for analyzing a product defect that occurs in a product manufacturing line, the measures taken in the manufacturing line are Based on the countermeasure content and the countermeasure information having the countermeasure time, the defect content before and after the countermeasure content included in the countermeasure information and the countermeasure time included in the countermeasure information with respect to at least one of the countermeasure information. A manufacturing defect analysis support method is provided, which supports the manufacturing defect analysis by associating and outputting the defect ratio, which is the occurrence ratio of the product defects in the management period, and the countermeasure information.
【0008】さらに、本発明では、この方法を用いた製
造不良解析支援システム、および、製造システムが提供
される。Further, the present invention provides a manufacturing defect analysis support system and a manufacturing system using this method.
【0009】なお、ここで製造ラインとは、なんらかの
製品を製造するための一以上のプロセスを有する機構で
あり、複数の装置を備えるシステムであっても、単一の
装置であってもよい。また、製品として、同一の製品を
多数製造する場合のみならず、多品種の製品を少数(あ
るいは一つ)ずつ製造する場合であっても、本発明の製
造ラインに含まれる。また、製品の製造には、単なる複
写等も含む。Here, the production line is a mechanism having one or more processes for producing some kind of product, and may be a system including a plurality of devices or a single device. Further, not only the case where a large number of the same products are manufactured, but also the case where a small number (or one) of a variety of products are manufactured are included in the manufacturing line of the present invention. Further, the production of a product includes simple copying and the like.
【0010】[0010]
【作用】本発明では、不良実績から求められる不良率
と、対策実績から求められる対策内容および対策時刻と
を関連付けて管理する。このようにすれば、不良解析の
結果に基づき、対策を実施した不良に関し、不良率と対
策内容とを時刻で関連づけることができるので、対策実
施時刻前後の不良率の変動から、対策(すなわち、該対
策の選択を導いた解析方法)が不良低減に有効であった
か否かの判定を容易に行うことができる。According to the present invention, the defect rate obtained from the defect record, the countermeasure content and the countermeasure time obtained from the countermeasure record are managed in association with each other. In this way, based on the result of the failure analysis, the defect rate and the content of the countermeasure can be associated with the time with respect to the defect for which the countermeasure is taken. Therefore, the countermeasure (that is, It is possible to easily determine whether or not the analysis method that led to the selection of the countermeasure) was effective in reducing defects.
【0011】例えば、過去に実行された対策の内容と、
その対策の実行時刻前後の不良率とを、出力装置に対応
付けて出力する場合には、使用者は、対策内容ごとに、
その対策による不良率の変化とを一目で認識することが
でき、実施すべき対策を容易に選択することができる。
なお、この場合、不良率はグラフとして表示することが
望ましい。不良率の推移の認識が一層容易になるからで
ある。For example, the contents of the measures executed in the past,
When outputting the failure rate before and after the time of execution of the countermeasure in association with the output device, the user, for each content of the countermeasure,
The change in the defective rate due to the countermeasure can be recognized at a glance, and the countermeasure to be implemented can be easily selected.
In this case, it is desirable to display the defect rate as a graph. This is because it becomes easier to recognize the transition of the defective rate.
【0012】また、この場合、対策実績記憶手段に保持
された対策情報のうち、あらかじめ定められた条件を満
たす対策情報について上述の出力処理を行うことが望ま
しい。このようにすれば、特に選択支援のために有用と
考えられる情報を選択的に提示することになるからであ
る。Further, in this case, it is desirable to perform the above-mentioned output processing for the countermeasure information satisfying a predetermined condition among the countermeasure information stored in the countermeasure result storage means. This is because information that is considered to be particularly useful for supporting selection is selectively presented.
【0013】上述したように、本発明によれば、対策実
施時刻前後の不良率の変動から、実施された対策が有効
であったか否かを容易に判定することができる。そこ
で、あらかじめ定められた条件を、例えば、はじめて行
われたか(すなわち、該対策内容が対策実績記憶手段に
最初に登録されたか)、対策時刻の前後で不良率があら
かじめ定められた値以上に変化したか、あるいは、対策
時刻の前後で不良率があらかじめ定められた値以下にし
か変化しなかったか、などにすることができる。このよ
うにすることは、特に不良低減に有効または無効、ある
いは、新規な対策を抽出することができ、選択支援のた
めに有効である。As described above, according to the present invention, it is possible to easily determine whether or not the implemented countermeasure is effective from the variation of the defect rate before and after the countermeasure implementation time. Therefore, a predetermined condition is set, for example, whether it is performed for the first time (that is, whether the countermeasure content is first registered in the countermeasure result storage means), or the defect rate changes to a predetermined value or more before and after the countermeasure time. It is possible to determine whether or not the defective rate has changed to a value equal to or less than a predetermined value before and after the countermeasure time. This is particularly effective or ineffective in reducing defects, or can extract new measures, and is effective in supporting selection.
【0014】さらに、本発明では、解析知識を蓄積する
ためのチェック項目データベースと、発生した不良の現
象の原因候補を、蓄積された解析知識をもとに推定する
解析処理手段を、さらに備えることが望ましい。ここ
で、解析知識は、具体的には原因推定のためのチェック
項目と、該チェック項目ごとにあらかじめ定められた現
象に該当する場合に推定される原因とを有するチェック
項目レコードにより実現される。この場合、本発明で
は、不良の発生傾向等がチェック項目の基準に適合する
かどうかにより、原因候補が提示される。そこで、使用
者は、対策候補だけでなく、推定される原因候補につい
ても提示されるので、さらに対策の選択が容易になる。Further, the present invention further comprises a check item database for accumulating analysis knowledge, and an analysis processing means for estimating a cause candidate of a phenomenon of a defect that has occurred based on the accumulated analysis knowledge. Is desirable. Here, the analysis knowledge is specifically realized by a check item record having a check item for estimating a cause and a cause estimated when the phenomenon corresponds to a predetermined phenomenon for each check item. In this case, according to the present invention, cause candidates are presented depending on whether or not the tendency of defect occurrence and the like meet the criteria of check items. Therefore, the user is presented not only with the measure candidate but also with the estimated cause candidate, so that it becomes easier to select the measure.
【0015】なお、原因に応じて対策内容を示す情報
(テキスト情報や図面情報など)をあらかじめ記憶して
いる対策内容記憶手段を、さらに備え、解析処理手段
は、上記原因の候補のうちのいずれかの選択を受け付け
て、選択された原因に応じてあらかじめ上記対策内容記
憶手段に保持されている上記対策を示す情報を出力する
ようにしてもよい。このようにすれば、使用者は、推定
される原因候補のいずれかを選択するだけで、実行すべ
き対策の内容を認識することができる。ここで、対策内
容を示す情報は、表示装置に表示出力してもよいが、製
造ラインが対策指示信号を受け付けて、その指示された
対策を実行する手段(少なくとも、製造ラインの操作者
に指示内容を表示する手段)を有しているのであれば、
対策信号として製造ラインに出力してもよい。この場
合、使用者を介することなく、本発明の製造不良解析支
援システムから直接製造ラインに対策の指示が通知され
ることになるので、使用者の負担を軽減できる。The analysis processing means further comprises a countermeasure content storage means for pre-storing information (text information, drawing information, etc.) indicating the countermeasure content according to the cause, and the analysis processing means is any of the above cause candidates. Alternatively, the selection may be accepted, and the information indicating the countermeasure stored in the countermeasure content storage unit in advance may be output according to the selected cause. By doing so, the user can recognize the content of the countermeasure to be executed by only selecting one of the estimated cause candidates. Here, the information indicating the content of the countermeasure may be displayed and output on the display device, but the manufacturing line receives the countermeasure instruction signal and executes the instructed countermeasure (at least the instruction of the operator of the manufacturing line is instructed). If you have a means to display the contents),
You may output to a manufacturing line as a countermeasure signal. In this case, the manufacturing defect analysis support system of the present invention directly notifies the manufacturing line of the countermeasures without the intervention of the user, so that the burden on the user can be reduced.
【0016】また、不良発生原因候補ごとに、該候補の
優先順位を示す得点を付し、チェック項目レコードが、
推定原因の確からしさの指標である相関値をさらに有す
るようにして、解析処理手段が、発生した不良現象が、
登録された各チェック項目の判断基準に適合するような
チェック項目レコードに登録されている不良発生原因候
補の得点を、該レコードに含まれている相関値分増加さ
せるようにして、得点が、あらかじめ定められた値より
大きい原因候補を、推定される原因候補とするようにし
てもよい。このようにすれば、相関性と、条件に適合す
る不良現象の出現頻度とを加味して、より確度の高い原
因候補を提示することができる。For each defect cause candidate, a score indicating the priority of the candidate is attached, and the check item record is
By further having a correlation value that is an index of the probability of the probable cause, the analysis processing means,
The score of the defect occurrence cause candidate registered in the check item record that meets the judgment criteria of each registered check item is increased by the correlation value included in the record, and the score is calculated in advance. Cause candidates larger than a predetermined value may be set as the estimated cause candidates. By doing so, it is possible to present a more accurate cause candidate in consideration of the correlation and the appearance frequency of the failure phenomenon that meets the conditions.
【0017】なお、チェック項目および対応する上記原
因候補の入力を受け付け、入力されたチェック項目およ
び対応する上記原因候補と、チェック項目データベース
に既に保持されているチェック項目レコードの内容とが
矛盾するかどうか判定し、矛盾しない場合、入力された
チェック項目および対応する上記原因候補をもとに、チ
ェック項目レコードを作成して、チェック項目データベ
ースに格納するようにしてもよい。このようにすれば、
新たなチェック項目レコードを、チェック項目レコード
間の整合性を確保しながら、簡便に登録することができ
る。なお、矛盾する場合であっても、登録することが選
択されれば、同様にチェック項目レコードを作成して、
チェック項目データベースに格納するようにしてもよ
い。It should be noted that the input of the check item and the corresponding cause candidate is accepted, and the entered check item and the corresponding cause candidate are inconsistent with the contents of the check item record already held in the check item database. If it is determined that there is no contradiction, a check item record may be created based on the input check item and the corresponding cause candidate, and stored in the check item database. If you do this,
It is possible to easily register a new check item record while ensuring the consistency between the check item records. Even if there is a contradiction, if you select to register, create a check item record in the same way,
It may be stored in the check item database.
【0018】なお、上述した製造不良解析支援方法/シ
ステムは、製品の製造システムに組み込むことができ
る。すなわち、本発明では、製造ラインと、上述した製
造不良解析支援方法とを接続した製造システムが提供さ
れる。The manufacturing failure analysis support method / system described above can be incorporated into a product manufacturing system. That is, the present invention provides a manufacturing system in which the manufacturing line is connected to the manufacturing defect analysis support method described above.
【0019】製造ラインが、製品の製造を行う手段の他
に、対策作業の指示を受け付けて、指示された対策作業
を実行する手段と、検出された製品不良の内容を上記製
造不良解析装置に通知する手段と、製造実績情報および
対策実績情報を上記製造不良解析装置に通知する手段と
を有している場合であって、製造不良解析装置が、製造
ラインから通知された上記製品不良の内容をもとに、不
良実績データを作成し、上記不良実績記憶手段に格納す
る不良実績収集手段と、製造ラインから通知された上記
製造実績情報および上記対策実績情報をもとに、上記対
策情報を作成して、上記対策実績記憶手段に格納する手
段とを有しており、上述の対策を示す情報を、対策作業
の指示として、製造ラインに出力する手段を有する場合
には、不良実績の情報の作成、蓄積、および対策指示に
使用者を介する必要がない。従って、このような本発明
の製造システムによれば、使用者の負担をさらに軽減す
ることができる。In addition to the means for manufacturing the product, the manufacturing line receives the instruction for the countermeasure work and executes the instructed countermeasure work, and the detected product defect content to the manufacturing defect analysis apparatus. In the case of having a means for notifying and a means for notifying the manufacturing defect analysis device of the manufacturing performance information and the countermeasure performance information, the manufacturing defect analysis device, the content of the product defect notified from the manufacturing line. Based on the defect record data, the defect record data is created and stored in the defect record storage unit, and the countermeasure information is collected based on the manufacturing record information and the countermeasure record information notified from the manufacturing line. In the case where there is a means for creating and storing in the above-mentioned countermeasure record storage means and outputting the above-mentioned countermeasure information as a countermeasure work instruction to the manufacturing line, The creation of broadcast, accumulation, and there is no need through the user to countermeasure instruction. Therefore, according to such a manufacturing system of the present invention, the burden on the user can be further reduced.
【0020】さらに、製造ラインが、修正作業の指示を
受け付けて、指示された修正作業を実行する手段を備
え、製造不良解析装置が、製造ラインから通知された上
記製品不良の内容をもとに、修正作業の指示情報を作成
し、製造ラインに出力する手段をさらに有するようにし
てもよい。このようにすれば、製造ラインの操作者が、
自ら不良の発生を検知して修正作業を指示することな
く、製造システムが、不良の発生を検知すると自動的に
修正作業を実行するので、操作者の負担を軽減し、さら
に、指示の誤りや見落とし等によって、修正作業の行わ
れない不良製品の発生を阻止することができる。Further, the manufacturing line is provided with means for receiving the instruction of the repair work and executing the instructed repair work, and the manufacturing defect analysis device is based on the content of the product defect notified from the manufacturing line. It is also possible to further include means for creating correction work instruction information and outputting it to the production line. This way, the operator of the production line
The manufacturing system automatically executes the repair work when it detects the occurrence of a defect without detecting the occurrence of the defect itself and instructing the repair work. By oversight, it is possible to prevent the generation of defective products that are not repaired.
【0021】なお、本発明の製造不良解析支援システム
に、不良の種類別に、該不良の発生原因となりうる製造
条件管理項目、設計仕様項目と、該不良の発生原因特有
の不良発生傾向との相関を設定したチェック項目データ
ベースと、チェック項目データベース記載の原因に対応
する対策内容を設定した原因/対策対応データベースを
設けてもよい。この製造不良解析支援システムは、検査
結果から不良の発生位置、不良部品、製造条件等の発生
傾向を抽出し、上記データベースを検索し、不良原因お
よび対策を提示する。この際、製造不良解析支援システ
ムは、不良率管理データにチェック項目別にその情報を
蓄積し、不良率管理データから、不良率の変化が特異な
時期の対策内容を抽出し、チェック項目データベースを
更新する必要があることを警告し、同時に行った各対策
内容と不良傾向を表示し、利用者の支援を行うことによ
り、対策効果を定量的に把握し、不良原因の推定、及び
対策に用いるチェック項目データベースを更新する。In the manufacturing defect analysis support system of the present invention, the manufacturing condition management items and design specification items that may cause the defects are correlated with the defect occurrence tendency peculiar to the cause of the defects in each defect type. It is also possible to provide a check item database in which is set and a cause / countermeasure correspondence database in which countermeasure contents corresponding to the cause described in the check item database are set. This manufacturing failure analysis support system extracts the occurrence position of a defect, defective part, manufacturing condition, etc. from the inspection result, searches the above database, and presents the cause of failure and countermeasures. At this time, the manufacturing defect analysis support system accumulates the information for each check item in the defect rate management data, extracts the countermeasure content at the time when the change of the defect rate is peculiar from the defect rate management data, and updates the check item database. It warns that there is a need to do it, displays the details of each measure taken at the same time and the tendency of failure, and by supporting the user, quantitatively grasps the effect of the measure, estimates the cause of the failure, and checks for use in the measure. Update the item database.
【0022】[0022]
(実施例1)以下、本発明の一実施例として、プリント
板実装で発生する不良の解析を対象とした製造不良の解
析システムおよび方法について説明する。(Embodiment 1) As an embodiment of the present invention, a manufacturing defect analysis system and method for analyzing defects occurring in printed circuit board mounting will be described below.
【0023】A.解析対象 まず、解析の対象となるプリント板実装ラインについて
説明する。本実施例において解析対象とするプリント板
実装ラインを、図3に示す。プリント板実装ラインは、
印刷機301、実装機302、リフローはんだ装置30
3、外観検査装置304、はんだ修正手段305、挿入
機306、フローはんだ装置307、手組手段308、
目視検査手段309、修正手段310、インサーキット
テスタ311、および、ファンクションテスタ312を
備える。これらの装置等301〜312は、それぞれ、
工程1〜12に対応しており、処理対象の基板は、工程
1〜12の順に処理される。A. Analysis Target First, the printed circuit board mounting line to be analyzed will be described. The printed board mounting line to be analyzed in this embodiment is shown in FIG. The printed board mounting line is
Printing machine 301, mounting machine 302, reflow soldering device 30
3, appearance inspection device 304, solder correction means 305, insertion machine 306, flow soldering device 307, hand assembly means 308,
The visual inspection means 309, the correction means 310, the in-circuit tester 311, and the function tester 312 are provided. These devices and the like 301 to 312 are, respectively,
Corresponding to steps 1 to 12, the substrate to be processed is processed in the order of steps 1 to 12.
【0024】印刷機301、実装機302、リフローは
んだ装置303、挿入機306、フローはんだ装置30
7は製造装置である。印刷機301は基板上にはんだペ
ーストを塗布する装置であり、実装機302は、基板上
に部品を載置する装置であり、リフローはんだ装置30
3は、はんだペーストを融解し、部品と基板とを電気的
に接続する装置である。また、挿入機306は基板上に
挿入部品を載置する装置であり、フローはんだ装置30
7は基板上に載置された挿入部品と基板とをはんだ付け
する装置である。Printing machine 301, mounting machine 302, reflow soldering apparatus 303, inserting machine 306, flow soldering apparatus 30
7 is a manufacturing apparatus. The printing machine 301 is an apparatus that applies a solder paste onto a board, and the mounting machine 302 is an apparatus that places a component on the board.
Reference numeral 3 is a device for melting the solder paste and electrically connecting the component and the substrate. Further, the inserter 306 is a device for placing an insert component on the board, and the flow soldering device 30
Reference numeral 7 is an apparatus for soldering the insertion part placed on the board and the board.
【0025】外観検査装置304、インサーキットテス
タ311、ファンクションテスタ312は検査装置であ
る。外観検査装置304は、はんだの状態を検査し、は
んだ不足、はんだブリッジ、あるいははんだ過剰、等の
はんだ付けの不良および、部品の搭載位置ずれ、極性相
違(逆付)等の組込不良を検出する装置である。インサ
ーキットテスタ311は、はんだブリッジ、ショートオ
ープン、実装部品の良否等を判定する装置であり、ファ
ンクションテスタ312は、処理対象の実装部品の機能
ごとにテストを行う装置である。The visual inspection device 304, the in-circuit tester 311, and the function tester 312 are inspection devices. The visual inspection device 304 inspects the state of the solder, and detects defective soldering such as insufficient solder, excessive solder bridge or excessive solder, and defective mounting such as component mounting position deviation and polarity difference (reverse mounting). It is a device that does. The in-circuit tester 311 is a device that determines solder bridge, short open, and quality of mounted components, and the function tester 312 is a device that performs a test for each function of the mounted component to be processed.
【0026】手組手段308、はんだ修正手段305、
目視検査手段309、修正手段310では、人手による
作業が行われる。手組手段308では、人手実装部品
の、搭載およびはんだ付けが行われる。はんだ修正手段
305では、外観検査装置で発見された不良、あるい
は、後述の目視検査工程等で発見された不良の修正、即
ち、部品の付替、はんだの付け直し等が、修正作業担当
者により行われる。目視検査手段309では、検査者に
より、はんだ付けの不良および組込不良の有無が検査さ
れる。また、修正手段310では、目視検査手段309
で発見された不良の修正が行われる。Hand assembly means 308, solder correction means 305,
The visual inspection means 309 and the correction means 310 perform manual work. The hand-assembling means 308 mounts and solders manually mounted components. The solder repair means 305 repairs defects found in the visual inspection device or defects found in the visual inspection process described later, that is, parts replacement, solder remounting, etc. Done. In the visual inspection means 309, the inspector inspects for the presence of soldering defects and assembling defects. Further, in the correction means 310, the visual inspection means 309
The defect found in is corrected.
【0027】処理対象の基板は、先頭工程から投入さ
れ、印刷機301によりはんだペーストが基板上に塗ら
れ(実装工程1)、実装機302により部品が載置され
(実装工程2)、リフローはんだ装置303によりはん
だペーストが融解され(実装工程3)、部品と基板とが
電気的に接続される。これにより、基板上に部品が搭載
される。The substrate to be processed is loaded from the first step, the solder paste is applied on the substrate by the printing machine 301 (mounting step 1), the components are placed by the mounting machine 302 (mounting step 2), and the reflow soldering is performed. The device 303 melts the solder paste (mounting step 3) and electrically connects the component and the substrate. As a result, the component is mounted on the board.
【0028】部品が搭載された基板は、つぎに、外観検
査装置304により、はんだの状態が検査され、はんだ
不足、はんだブリッジ、あるいははんだ過剰、等のはん
だ付けの不良および、部品の搭載位置ずれ、極性相違
(逆付)等の組込不良の有無が判定される(実装工程
4)。外観検査装置304により不良が検出されると、
はんだ修正手段305により、部品の付替、はんだの付
け直し等が行われる(実装工程5)。The board on which the components are mounted is then inspected by the appearance inspection device 304 for the state of solder, and the soldering failure such as insufficient solder, solder bridge, or excessive solder, and displacement of the mounting position of the components. , Whether or not there is a built-in defect such as polarity difference (reverse attachment) is determined (mounting process 4). When the appearance inspection device 304 detects a defect,
The solder correcting means 305 replaces the parts, reseats the solder, and the like (mounting step 5).
【0029】つぎに、部品の搭載された基板には、挿入
機306により挿入部品が載置され(実装工程6)、フ
ローはんだ装置303によりはんだ付けされる(実装工
程7)。さらに、手組手段308では、基板への人手実
装部品の搭載およびはんだ付けが行われる(実装工程
7)。Next, the inserted component is placed on the board on which the component is mounted by the inserter 306 (mounting step 6) and soldered by the flow soldering device 303 (mounting step 7). Further, the hand-assembling means 308 mounts and solders the manually mounted components on the board (mounting step 7).
【0030】目視検査手段309により、はんだ付けの
不良および組込不良の有無が検査され(実装工程9)、
不良が検出されると、修正手段310により、部品の付
替、はんだの付け直し等によって、検出された不良が修
正される(実装工程10)。さらに、インサーキットテ
スタ311において、はんだブリッジ、ショートオープ
ン、実装部品の良否等が判定され(実装工程11)、フ
ァンクションテスタ312では機能ごとにテストが行わ
れて、実装された基板の不良の有無が判定される(実装
工程12)。The visual inspection means 309 inspects for soldering defects and assembling defects (mounting step 9).
When a defect is detected, the correcting unit 310 corrects the detected defect by replacing parts, re-soldering, or the like (mounting step 10). Further, the in-circuit tester 311 determines solder bridge, short open, quality of mounted components, etc. (mounting process 11), and the function tester 312 performs a test for each function to check whether the mounted substrate is defective or not. It is determined (mounting process 12).
【0031】本実施例で解析対象とする実装工程におい
て発生する不良の現象とその発生原因との例を、図4に
示す。不良発生原因は、不良が発生したときの各装置の
製造条件、基板と該製造条件のマッチング、どの位置に
どんな不良が発生しているか、過去にどんな原因で各不
良が発生したか等を検討することにより特定される。FIG. 4 shows an example of a phenomenon of a defect occurring in the mounting process which is an analysis target in the present embodiment and its cause. The cause of failure is to examine the manufacturing conditions of each device when the failure occurred, the matching of the board and the manufacturing conditions, what kind of failure has occurred at what position, and what causes each failure in the past. It is specified by
【0032】本実施例の解析システムは、不良実績に登
録された不良の発生原因を解析し、原因に対応する対策
を選択して、該当する工程に通知し、さらに、その後の
不良率の推移を管理、分析して分析結果を表示すること
により、解析/対策方法の有効性の把握の支援をする。The analysis system of this embodiment analyzes the cause of the defect registered in the defect record, selects the countermeasure corresponding to the cause, notifies the corresponding process, and then changes the defect rate. By managing and analyzing the data and displaying the analysis result, it helps to grasp the effectiveness of the analysis / countermeasure method.
【0033】B.解析システムの構成 本実施例の解析システムは、図30に示すように、主記
憶装置3007と中央演算処理装置(CPU)3006
とを備える処理装置3002と、磁気ディスク装置30
01と、フロッピーディスク入力装置3003と、入出
力装置3004と、プリンタ3005とを備える。磁気
ディスク装置3001は、チェック項目DB、不良実
績、不良率管理データ等を記憶するための外部記憶装置
である。フロッピーディスク入力装置3003は、フロ
ッピーディスクに保持された情報を読み出し、処理装置
3002に通知する装置であり、入出力装置3004
は、出力装置であるディスプレイと、入力装置であるキ
ーボードおよびマウスとを備える。プリンタ3005
は、補助出力装置である。B. Configuration of Analysis System In the analysis system of the present embodiment, as shown in FIG. 30, a main storage device 3007 and a central processing unit (CPU) 3006.
And a magnetic disk device 30
01, a floppy disk input device 3003, an input / output device 3004, and a printer 3005. The magnetic disk device 3001 is an external storage device for storing a check item DB, a defect record, defect rate management data, and the like. The floppy disk input device 3003 is a device for reading out the information held on the floppy disk and notifying the information to the processing device 3002.
Includes a display which is an output device and a keyboard and a mouse which are input devices. Printer 3005
Is an auxiliary output device.
【0034】本実施例の処理装置3002の機能ブロッ
ク図を、図2に示す。本実施例の処理装置3002は、
不良率管理手段201と、対策分析手段202と、対策
状況表示手段203とを備える。対策状況表示手段20
3は、対策内容/不良傾向表示手段204を備える。こ
れらの手段201〜204は、主記憶装置3007にあ
らかじめ保持されたインストラクションを、CPU30
06が実行することにより、実現される。A functional block diagram of the processing apparatus 3002 of this embodiment is shown in FIG. The processing device 3002 of this embodiment is
A defect rate management unit 201, a countermeasure analysis unit 202, and a countermeasure status display unit 203 are provided. Countermeasure status display means 20
3 includes a countermeasure content / defective tendency display means 204. These means 201 to 204 execute instructions stored in the main storage device 3007 in advance in the CPU 30.
It is realized by executing 06.
【0035】さらに、処理装置3002は、不良実績記
憶手段206と、基板製造実績記憶手段207と、検査
ポイント情報記憶手段208と、不良率管理データ記憶
手段209と、画面表示用データ記憶手段210と、不
良発生傾向テーブル212と、対策実績記憶手段213
とを備える。これらの記憶手段206〜210,21
2,213は、主記憶装置3007に確保された、情報
を保持するための記憶領域である。Further, the processing apparatus 3002 includes a defect record storage unit 206, a board manufacturing record storage unit 207, an inspection point information storage unit 208, a defect rate management data storage unit 209, and a screen display data storage unit 210. , Defect occurrence tendency table 212 and countermeasure result storage means 213
With. These storage means 206 to 210, 21
Reference numerals 2 and 213 are storage areas secured in the main storage device 3007 for holding information.
【0036】C.記憶手段 つぎに、主記憶装置3007の備える各記憶手段206
〜210,212,213について説明する。C. Storage Means Next, each storage means 206 provided in the main storage device 3007
210 to 212, 213 will be described.
【0037】(1)不良実績記憶手段206 不良実績記憶手段206のデータ構造例を図9に模式的
に示す。不良実績記憶手段206は、不良の生成に関す
る履歴情報を保持するための記憶領域であり、不良の生
成ごとに、生成番号の格納領域908と、基板種を表す
組図番号の格納領域901と、個々の基板の識別子であ
るシリアル番号の格納領域902と、不良が検出された
部品の名称である不良部品名の格納領域903と、該不
良部品の基板上の実装位置の格納領域904と、不良部
品を発見した検査工程の名称の格納領域905と、該不
良を発見した日時の格納領域906と、該不良の具体的
現象を示す情報の格納領域907とを備える。(1) Defect record storage means 206 FIG. 9 schematically shows an example of the data structure of the defect record storage means 206. The defect record storage unit 206 is a storage region for holding history information related to defect generation, and stores a generation number storage region 908, a set drawing number storage region 901 indicating a board type, for each defect generation. A serial number storage area 902 that is an identifier of each board, a defective part name storage area 903 that is a name of a part in which a defect is detected, a mounting area 904 of a mounting position of the defective part on the board, and a defect. A storage area 905 for the name of the inspection process in which the part is found, a storage area 906 for the date and time when the defect was found, and a storage area 907 for information indicating a specific phenomenon of the failure are provided.
【0038】(2)基板製造実績記憶手段207 基板製造実績記憶手段207のデータ構造例を図8に模
式的に示す。基板製造実績記憶手段207は、各実装工
程ごとに備えられ、該実装工程における製造実績を示す
情報を保持するための記憶領域である。(2) Substrate manufacturing record storage means 207 FIG. 8 schematically shows an example of the data structure of the board manufacturing record storage means 207. The board manufacturing record storage unit 207 is a storage area provided for each mounting process and for holding information indicating the manufacturing record in the mounting process.
【0039】個々の基板製造実績記憶手段207は、そ
れぞれ、処理した基板ごとに、基板の該工程への投入開
始時刻の格納領域801と、投入終了時刻の格納領域8
04と、該基板の種類を示す組図番号の格納領域802
と、個々の基板の識別子であるシリアル番号の格納領域
803とを有する。The individual board manufacturing record storage means 207 stores, for each processed board, a storage area 801 for storing the start time of the board and a storage area 8 for storing the end time of the board.
04 and a storage area 802 for the assembly drawing number indicating the type of the board
And a storage area 803 for storing a serial number which is an identifier of each board.
【0040】(3)検査ポイント情報記憶手段208 検査ポイント情報記憶手段208のデータ構造例を図1
0に模式的に示す。検査ポイント情報記憶手段208
は、組図番号ごとに、組図番号の格納領域1001と、
該組図番号の組図の製品が検査される検査工程を示す情
報を保持する検査工程格納領域1002、および、該検
査工程における検査すべきポイントの数を保持する検査
ポイント格納領域1003とを備える記憶領域である。
検査ポイント情報記憶手段208は、検査工程の格納領
域1002と検査ポイント数格納領域1003との組を
複数備えることができる。図10に示した例では、検査
工程格納領域1002aに保持された情報の示す検査工
程における検査ポイントの数がポイント数格納領域10
03aに保持され、検査工程格納領域1002bに保持
された情報の示す検査工程における検査ポイントの数が
ポイント数格納領域1003bに保持される。(3) Inspection point information storage means 208 An example of the data structure of the inspection point information storage means 208 is shown in FIG.
0 schematically shows. Inspection point information storage means 208
Is a storage area 1001 for storing the set drawing number for each set drawing number,
An inspection process storage area 1002 for holding information indicating an inspection process for inspecting the product of the assembly diagram number and an inspection point storage area 1003 for holding the number of points to be inspected in the inspection process are provided. It is a storage area.
The inspection point information storage unit 208 can include a plurality of sets of an inspection process storage area 1002 and an inspection point number storage area 1003. In the example shown in FIG. 10, the number of inspection points in the inspection process indicated by the information held in the inspection process storage area 1002a is the point number storage area 10
03a, and the number of inspection points in the inspection process indicated by the information held in the inspection process storage area 1002b is retained in the point number storage area 1003b.
【0041】検査工程情報と、ポイント数とは、あらか
じめ格納されている。本実施例では、外観検査工程(実
装工程4)と、目視検査工程(実装工程9)とにおける
検査結果について解析する。そこで、本実施例の検査ポ
イント情報記憶手段208は、あらかじめ、外観検査工
程(実装工程4)と、目視検査工程(実装工程9)とに
ついて、それぞれ、その検査ポイント数を保持する。The inspection process information and the number of points are stored in advance. In the present embodiment, the inspection results in the visual inspection step (mounting step 4) and the visual inspection step (mounting step 9) are analyzed. Therefore, the inspection point information storage unit 208 of this embodiment holds the number of inspection points for each of the visual inspection step (mounting step 4) and the visual inspection step (mounting step 9) in advance.
【0042】(4)不良率管理データ記憶手段209 不良率管理データ記憶手段209のデータ構造例を、図
5に模式的に示す。本実施例では、検査工程について、
各不良現象ごとに、任意の期間にわたって情報を蓄積
し、該期間中の不良率等を求めて、不良の発生原因の解
析および対策方法の選択の基礎とする。この情報を蓄積
する期間を、不良率管理期間と呼ぶ。(4) Defect Rate Management Data Storage Means 209 An example of the data structure of the defect rate management data storage means 209 is schematically shown in FIG. In this embodiment, regarding the inspection process,
Information is accumulated for each defect phenomenon for an arbitrary period, and the defect rate and the like during the period are obtained, which is used as the basis for analyzing the cause of defect occurrence and selecting a countermeasure method. The period for accumulating this information is called the defect rate management period.
【0043】不良率管理データ記憶手段209は、検査
工程および不良現象ごとに設けられている。個々の不良
率管理データ記憶手段209は、不良率管理期間ごと
に、管理状態を示すフラグの格納領域501と、不良率
管理期間の開始日時および終了日時を格納するための不
良率管理期間格納領域502と、該不良率管理期間中の
不良率の格納領域504と、処理対象の基板の種類を示
す組図番号の格納領域505と、不良発生傾向レコード
(不良発生傾向テーブル212に保持されている)の識
別子である傾向データ番号の格納領域509と、実行し
た対策の数の格納領域506と、選択された対策の内容
を示す対策内容番号の格納領域507と、対策を実施し
た日時の格納領域508とを備えるテーブルである。こ
のテーブルの各行には、それぞれ一回の不良率管理期間
に関する情報(不良率管理データ)が格納される。な
お、各不良率管理期間の情報は、その行番号が開始日時
の早い順になるように格納される。The defective rate management data storage means 209 is provided for each inspection process and defective phenomenon. The individual defective rate management data storage unit 209 stores a storage area 501 of a flag indicating a management state and a defective rate management period storage area for storing the start date and end date and time of the defective rate management period for each defective rate management period. 502, a storage area 504 for the defect rate during the defect rate management period, a storage area 505 for the assembly number indicating the type of substrate to be processed, and a defect occurrence tendency record (held in the defect occurrence tendency table 212). ) Storage area 509 for the trend data number, storage area 506 for the number of executed countermeasures, storage area 507 for the countermeasure content number indicating the content of the selected countermeasure, and storage area for the date and time when the countermeasure was implemented. 508 and the table. Each row of this table stores information (defective rate management data) regarding one defective rate management period. The information of each defective rate management period is stored such that the line numbers are in ascending order of start date and time.
【0044】フラグ格納領域501に格納される管理状
態フラグは、「0」〜「6」の番号であり、該フラグの
格納されている行により示されている不良率管理期間の
結果についての分析および対策が、どの段階にあるかが
示される。「0」は対策をまだ実施していないことを示
し、「1」は対策を実施したがその結果については未解
析であることを示し、「2」は結果の分析済であってつ
ぎの「3」〜「5」に該当しないことを示す。「3」は
対策を実施したが効果がなかったことを示し、「4」は
対策を実施して顕著な効果が得られたことを示し、
「5」は実施された対策が新規な対策であったことを示
す。また、「6」は結果を表示済みであることを示す。The management status flag stored in the flag storage area 501 is a number from "0" to "6", and an analysis of the result of the defective rate management period indicated by the line in which the flag is stored is carried out. And at what stage the countermeasures are in place. “0” indicates that the countermeasure has not been implemented yet, “1” indicates that the countermeasure has been implemented but the result has not been analyzed, and “2” indicates that the result has been analyzed and the next “ It shows that it does not correspond to “3” to “5”. "3" indicates that the measures were implemented but there was no effect, "4" indicates that the measures were implemented and a remarkable effect was obtained,
"5" indicates that the implemented measure was a new measure. Further, "6" indicates that the result has already been displayed.
【0045】また、対策内容格納領域507は、複数の
対策番号を保持することができる。この対策内容格納領
域507に保持されている対策番号の数が、対策数格納
領域506に保持される。Further, the countermeasure content storage area 507 can hold a plurality of countermeasure numbers. The number of countermeasure numbers stored in the countermeasure content storage area 507 is stored in the countermeasure number storage area 506.
【0046】(5)画面表示用データ記憶手段210 画面表示用データ記憶手段210は、画面のフォーマッ
トなど、画面表示のための情報をあらかじめ保持する記
憶領域である。(5) Screen display data storage means 210 The screen display data storage means 210 is a storage area for holding in advance information for screen display such as screen format.
【0047】(6)不良発生傾向テーブル212 不良発生傾向テーブル212のデータ構造例を、図6に
模式的に示す。不良発生傾向テーブル212は、不良発
生の傾向を表す不良発生傾向レコードを保持するための
テーブルであり、1行が1レコードを表している。(6) Defect occurrence tendency table 212 An example of the data structure of the defect occurrence tendency table 212 is schematically shown in FIG. The defect occurrence tendency table 212 is a table for holding a defect occurrence tendency record indicating a tendency of defect occurrence, and one row represents one record.
【0048】本実施例では、不良発生の傾向について、
あらかじめ傾向チェック項目が定められており、図13
に示すように、該チェック項目ごとに、該項目を表す符
号として、傾向コードが定められている。不良発生傾向
テーブル212は、この各傾向コードごとに、その傾向
についての偏向率を保持するための偏向率格納領域60
0を備える。なお、図6は、傾向チェック項目がn個
(ここで、nは任意の正の整数)である場合を例にとっ
て、テーブル212を図示したものであり、各傾向チェ
ック項目に対応する傾向コード1〜nの偏向率格納領域
601〜60nが備えられている。In the present embodiment, regarding the tendency of occurrence of defects,
The tendency check items are set in advance, and FIG.
As shown in, the tendency code is defined for each check item as a code representing the item. The defect occurrence tendency table 212 has a deflection rate storage area 60 for holding the deflection rate for each tendency code for each tendency code.
Equipped with 0. Note that FIG. 6 illustrates the table 212 by taking the case where the number of trend check items is n (where n is an arbitrary positive integer) as an example, and the trend code 1 corresponding to each trend check item is shown. Deflection ratio storage areas 601 to 60n for .about.n are provided.
【0049】また、不良発生傾向レコードには、その識
別符号として、傾向データ番号が付される。そこで、不
良発生傾向テーブル212は、さらに、各行に傾向デー
タ番号格納領域610を備える。The defect occurrence tendency record is provided with a tendency data number as its identification code. Therefore, the defect occurrence tendency table 212 further includes a tendency data number storage area 610 in each row.
【0050】(7)対策実績記憶手段213 対策実績記憶手段213のデータ構造例を、図11に模
式的に示す。対策実績記憶手段213は、対策の実行さ
れた機会ごとの、該機会に実行された対策についての情
報である対策実績レコードを保持するテーブルである。
対策実績レコードは、対策が実行されるごとに対策実績
記憶手段213に追加される。(7) Countermeasure result storage means 213 FIG. 11 schematically shows an example of the data structure of the countermeasure result storage means 213. The countermeasure record storage unit 213 is a table that holds, for each opportunity in which the countermeasure is executed, a countermeasure record record that is information about the countermeasure executed in the opportunity.
The countermeasure record is added to the countermeasure record storage unit 213 every time the countermeasure is executed.
【0051】図11において、一つの対策実績レコード
は、1行に表現されている。テーブル213の各行は、
対策の行われた時刻を保持するための対策実行日時格納
領域1102と、対策の対象である不良実績を示す番号
の格納領域である対策対象格納領域1101と、該日時
に実行された対策の内容を示す情報の格納領域である対
策内容格納領域1103とを有する。In FIG. 11, one countermeasure result record is represented by one line. Each row of table 213 is
A countermeasure execution date / time storage area 1102 for holding the time when the countermeasure is taken, a countermeasure target storage area 1101 which is a storage area of a number indicating a defect record as a countermeasure target, and the content of the countermeasure executed at that date / time And a countermeasure content storage area 1103, which is a storage area of information indicating
【0052】各行の対策対象格納領域1101は、その
機会に行われた対策の対象であった不良の不良実績番号
(不良実績記憶手段206の生成番号格納領域908に
保持されている不良実績レコードの識別子)を保持する
ための不良実績番号格納領域1104を、それぞれ複数
備えることができる。すなわち、本実施例では、一つの
対策実績レコードに、対策対象である不良実績を複数登
録することができる。The countermeasure target storage area 1101 of each row stores the defect record number of the defect which is the target of the countermeasure performed on that occasion (of the defect record record held in the generation number storage area 908 of the defect record storage means 206). A plurality of defect record number storage areas 1104 for holding (identifiers) can be provided respectively. That is, in the present embodiment, it is possible to register a plurality of defect records as countermeasure targets in one countermeasure record record.
【0053】また、対策実績記憶手段213は、対策内
容格納領域1103を一行に複数備えることができる。
すなわち、本実施例では、一つの対策実績レコードに、
同一機会に実行された対策を複数登録することができ
る。Further, the countermeasure record storage means 213 can be provided with a plurality of countermeasure content storage areas 1103 in one line.
In other words, in this embodiment, one measure record is
It is possible to register multiple measures that were executed at the same opportunity.
【0054】D.処理装置3002の処理 上述したように、本実施例の処理装置3002は、不良
率管理手段201と、対策分析手段202と、対策状況
表示手段203とを備える。D. Processing of Processing Device 3002 As described above, the processing device 3002 of this embodiment includes the defect rate management unit 201, the countermeasure analysis unit 202, and the countermeasure status display unit 203.
【0055】不良率管理手段201は、入力装置300
3、3004を介して入力された不良発生に関する情報
を用いて、不良率管理のための情報を作成、蓄積する手
段である。すなわち、本実施例では、不良率管理手段2
01は、入力された情報と、不良発生傾向テーブル21
2および検査ポイント情報記憶手段208および不良実
績記憶手段206および基板製造実績記憶手段207に
保持された情報とを基に、不良率管理期間に関するレコ
ードを作成して、不良率管理データ記憶手段209に格
納する。The defect rate management means 201 is the input device 300.
3, 3004 is a means for creating and accumulating information for defect rate management using the information on defect occurrence input via 3004. That is, in this embodiment, the defect rate management means 2
01 indicates the input information and the defect occurrence tendency table 21.
2 and the inspection point information storage unit 208, the defect record storage unit 206, and the information held in the board manufacturing record storage unit 207, a record relating to the defect rate management period is created and stored in the defect rate management data storage unit 209. Store.
【0056】対策分析手段202は、不良率管理データ
記憶手段209に蓄積されている不良率管理のための情
報と、不良発生傾向テーブル212に保持された情報
と、入力装置3003、3004を介して入力を受け付
けた、対策内容および不良発生傾向とを用いて、不良率
管理データ記憶手段209に保持されているレコードを
更新し、さらに、画面表示のための情報を作成して、画
面表示用データ記憶手段210に格納する。The countermeasure analysis unit 202 receives information for defect rate management accumulated in the defect rate management data storage unit 209, information held in the defect occurrence tendency table 212, and the input devices 3003 and 3004. The record held in the defect rate management data storage unit 209 is updated using the countermeasure content and defect occurrence tendency that have been input, and further, information for screen display is created, and screen display data is created. It is stored in the storage means 210.
【0057】対策状況表示手段203は、対策内容/不
良傾向表示手段204を備え、対策内容および不良傾向
の表示を行う。The countermeasure status display means 203 includes a countermeasure content / defective tendency display means 204 and displays the countermeasure content and defective tendency.
【0058】対策内容/不良傾向表示手段204は、画
像表示用データ記憶手段210に保持されている、対策
分析手段202の作成した画像表示用データを用いて、
出力装置3004、3005に対策内容または不良傾向
を表示する手段である。つぎに、上述した各手段201
〜205の処理の詳細について説明する。The countermeasure content / defective tendency display means 204 uses the image display data created by the countermeasure analysis means 202, which is held in the image display data storage means 210,
It is means for displaying the contents of countermeasures or the tendency of defects on the output devices 3004 and 3005. Next, each means 201 described above
Details of the processing of steps 205 to 205 will be described.
【0059】(1)不良率管理手段201 上述したように、本実施例の不良率管理手段201は、
さらに、不良率管理期間に関するレコード(不良率管理
データ)を作成して、不良率管理データ記憶手段209
に格納する。(1) Defect Rate Management Unit 201 As described above, the defect rate management unit 201 of this embodiment is
Further, a record (defective rate management data) relating to the defective rate management period is created, and the defective rate management data storage means 209.
To be stored.
【0060】まず、不良率管理データの作成および格納
について説明する。不良率管理手段201は、あらかじ
め定められた周期で、図7に示す不良率管理データ作成
処理を行う。なお、不良率管理データ作成のタイミング
は、どのくらいの母数で不良解析/対策を行うかに依存
して決定され、1日分のデータを基に解析/対策を行う
場合は1回/日、1か月分のデータを基に解析/対策を
行う場合は1回/月とする。First, the creation and storage of defect rate management data will be described. The defect rate management means 201 performs the defect rate management data creation process shown in FIG. 7 at a predetermined cycle. The timing of creating the defect rate management data is determined depending on how many parameters the defect analysis / countermeasure is performed, and once when the analysis / countermeasure is performed based on the data for one day, once a day, When analysis / countermeasures are performed based on the data for one month, it is once a month.
【0061】不良率管理データ作成処理の流れを、図7
に示す。この処理は、不良が発生すると、不良率管理デ
ータを作成して不良率管理データ記憶手段209に格納
し(ステップ701〜706)、実行された対策につい
ての情報を、不良率管理データ記憶手段209に格納/
更新する(ステップ707〜709)処理である。ステ
ップ701〜709は、処理対象の検査工程すべてにつ
いて、不良現象の数分繰り返される。なお、図7におい
て、矢印はファイルの更新または読み出しを表す。The flow of the defect rate management data creation process is shown in FIG.
Shown in In this process, when a defect occurs, defective rate management data is created and stored in the defective rate management data storage unit 209 (steps 701 to 706), and information on the executed countermeasures is stored as defective rate management data storage unit 209. Stored in /
This is a process of updating (steps 707 to 709). Steps 701 to 709 are repeated for all the inspection steps to be processed for the number of defective phenomena. It should be noted that in FIG. 7, the arrow indicates updating or reading of the file.
【0062】まず、不良率管理手段201は、フロッピ
ーディスク入力装置3003を介して、処理対象の検査
工程/不良現象の不良率管理データを読み込む(ステッ
プ701)。つぎに、不良率管理手段201は、処理対
象の検査工程の基板製造実績記憶手段207をオープン
し、基板製造実績記憶手段207から、投入開始日時格
納領域801に保持された日時が、不良率管理データ記
憶手段209に保持された各不良率管理データの不良率
管理期間終了日時(不良率管理期間格納領域502に保
持されている)のうち、最も遅いものよりも、さらに遅
い日時であるレコード(行)をすべて検出する。また、
不良率管理手段201は、検出したレコードすべてにつ
いて、シリアル番号の種類の数をカウントし、それらの
総計を求めることで、処理対象の不良率管理データの基
板枚数を算出する(ステップ702)。First, the defect rate management means 201 reads in the defect rate management data of the inspection process / defective phenomenon to be processed through the floppy disk input device 3003 (step 701). Next, the defect rate management unit 201 opens the substrate manufacturing record storage unit 207 of the inspection process to be processed, and the date and time held in the loading start date and time storage area 801 from the substrate manufacturing record storage unit 207 is the defect rate management unit 207. Of the defective rate management period end dates and times (held in the defective rate management period storage area 502) of the respective defective rate management data held in the data storage unit 209, the record having a later date and time than the latest one ( Line). Also,
The defect rate management unit 201 counts the number of types of serial numbers for all the detected records, and obtains the total number thereof, thereby calculating the number of substrates of the defect rate management data to be processed (step 702).
【0063】つぎに、不良率管理手段201は、不良実
績記憶手段206をオープンし(ステップ703)、該
不良実績記憶手段206に保持された情報から、処理対
象の工程における、処理対象の組図番号の、処理対象の
不良現象の不良件数を計算する(ステップ704)。Next, the defect rate management means 201 opens the defect record storage means 206 (step 703) and, based on the information held in the defect record storage means 206, a process target assembly diagram in the process target process. The number of defective cases of the defective phenomenon to be processed of the number is calculated (step 704).
【0064】さらに、不良率管理手段201は、組図番
号ごとの不良率を算出する(ステップ705)。なお、
ステップ704で不良実績の件数が0件であった組図番
号の不良率は、「0」とされ、それ以外の場合の不良率
は、つぎの算出式により求められる。Further, the defect rate management means 201 calculates the defect rate for each assembly drawing number (step 705). In addition,
In step 704, the defective rate of the assembly drawing number whose number of defective records is 0 is set to “0”, and the defective rate in other cases is calculated by the following calculation formula.
【0065】 不良率 = (ステップ704で算出した不良実績の件数) ÷(検査ポイント数×基板枚数) ×100 ここで、基板枚数は、ステップ702で算出した該組図
番号の基板枚数であり、検査ポイント数とは、各検査工
程ごとに各々の組図番号の検査すべきポイント数を表
し、検査ポイント情報記憶手段208の、処理対象組図
番号を組図番号格納領域1001に保持する行の、処理
対象の検査工程を示す情報を保持する検査工程格納領域
1002に対応するポイント数格納領域1003に保持
されている。つぎに、不良率管理手段201は、新たに
不良率管理データを格納する領域を、処理対象の不良率
管理データ記憶手段209に確保した上で、不良率管理
データを作成し、この確保した領域に格納する(ステッ
プ706)。Defect rate = (number of defective records calculated in step 704) / (number of inspection points × number of substrates) × 100 where the number of substrates is the number of substrates of the assembly drawing number calculated in step 702, The number of inspection points represents the number of points to be inspected in each assembly drawing number for each inspection process, and is the number of lines in the inspection point information storage unit 208 that holds the processing assembly drawing number in the assembly drawing number storage area 1001. It is held in the point number storage area 1003 corresponding to the inspection step storage area 1002 that holds information indicating the inspection step to be processed. Next, the defect rate management unit 201 secures an area for newly storing defect rate management data in the defect rate management data storage unit 209 to be processed, creates defect rate management data, and secures this region. (Step 706).
【0066】すなわち、不良率管理手段201は、ステ
ップ701で検出したすべてのレコードについて、その
不良率管理期間(該レコードの投入開始日時格納領域8
01に保持されている時刻を開始日時とし、投入終了日
時格納領域804に保持されている日時を終了日時とす
る)を、新たに確保した不良率管理データ記憶手段20
9の行の、不良率管理期間格納領域502に格納し、組
図番号を領域802から読み出して、領域505に格納
する。また、不良率管理手段201は、ステップ705
で算出した不良率を不良率格納領域504に格納し、フ
ラグ領域501には、未対策を示す「0」を格納し、傾
向データ番号格納領域509、対策数格納領域506、
対策内容格納領域507、および対策時刻格納領域50
8を初期化する。なお、作成した不良率管理データは、
既存の不良率管理データとの時系列が維持される順番に
なるような位置に追加される。That is, the defect rate management means 201, for all the records detected in step 701, its defect rate management period (the start date and time storage area 8 of the records).
01 is set as the start date and time, and the date and time held in the insertion end date and time storage area 804 is set as the end date and time).
The row 9 is stored in the defective rate management period storage area 502, the assembly drawing number is read from the area 802, and stored in the area 505. In addition, the defect rate management unit 201, step 705.
The defective rate calculated in step S4 is stored in the defective rate storage area 504, "0" indicating that no countermeasure has been taken is stored in the flag area 501, the tendency data number storage area 509, the countermeasure number storage area 506,
Measure content storage area 507 and measure time storage area 50
Initialize 8. In addition, the created defect rate management data is
It is added at a position such that the time series with the existing defect rate management data is maintained in the order of being maintained.
【0067】このようにして不良率管理データが作成さ
れると、不良率管理手段201は、不良率が0より大き
く、フラグが未対策を示す「0」である不良率管理デー
タについて、該データの示す不良に対する対策がすでに
実行されているかどうか検出するために、対策実績記憶
手段213を読みこむ(ステップ707)。When the defect rate management data is created in this manner, the defect rate management means 201 extracts the defect rate management data whose defect rate is larger than 0 and whose flag is "0" indicating that no countermeasure has been taken. In order to detect whether the countermeasure against the defect indicated by is already executed, the countermeasure result storage means 213 is read (step 707).
【0068】対策実績記憶手段213をオープンした不
良率管理手段201は、不良率管理データ記憶手段20
9から、不良が発生しているが、フラグが未対策になっ
ている不良率管理データを検出し、該データに対応する
不良実績を検出して、該不良実績についてなされた対策
を示すレコードを対策実績記憶手段213から検出し、
その内容を、不良率管理データ記憶手段209に格納す
る(ステップ708)。The defect rate management means 201 which has opened the countermeasure record storage means 213 is the defect rate management data storage means 20.
From 9, the defect rate management data in which a defect has occurred but the flag is not taken as a countermeasure is detected, the defect record corresponding to the data is detected, and a record indicating the countermeasure taken for the defect record is obtained. Detected from the countermeasure record storage means 213,
The content is stored in the defective rate management data storage unit 209 (step 708).
【0069】具体的には、まず、不良率管理手段201
は、不良率(不良率格納領域504に保持されている)
が0より大きく、フラグ(フラグ格納領域501に保持
されている)が未対策を示す「0」である行の不良率管
理データを検出して、処理対象とする。つぎに、不良率
管理手段201は、不良実績記憶手段206から、この
処理対象の不良率管理データと、検査工程、不良現象、
および組図番号が同一であって、さらに、不良実績の不
良発見日が、該不良率管理データの不良率管理期間内に
入っている不良実績レコードを検出する。つぎに、不良
率管理手段201は、検出した不良実績レコードの不良
生成番号(生成番号格納領域908に保持されている)
を検出し、対策実績記憶手段213から、該番号を不良
実績番号格納領域1101の生成番号格納領域1104
に保持するレコードを検索する。このとき、レコードが
検出されれば、対策が実行されたことになるので、不良
率管理手段201は、処理対象の行のフラグ格納領域5
01に対策済を示す「1」を格納し、検出された対策実
績レコードに登録された対策の数を、対策数格納領域5
06に格納し、それらの対策内容(対策内容格納領域1
103に保持されている)を示す符号を対策内容格納領
域507に格納し、対策日時格納領域1102に保持さ
れた日時を対策日時格納領域508に格納する。Specifically, first, the defect rate management means 201
Is the defect rate (held in the defect rate storage area 504)
Is larger than 0 and the flag (held in the flag storage area 501) has a defect rate management data of "0" which indicates an unmeasured condition, and is processed. Next, the defect rate management unit 201, from the defect record storage unit 206, the defect rate management data of the processing target, the inspection process, the defect phenomenon,
Further, the defect record record having the same set drawing number and the defect discovery date of the defect record within the defect rate management period of the defect rate management data is detected. Next, the defect rate management means 201 determines the defect generation number of the detected defect record (held in the generation number storage area 908).
Is detected and the number is stored in the generation record storage area 1104 of the defect record number storage area 1101 from the countermeasure record storage means 213.
Search for the record to be stored in. At this time, if a record is detected, it means that the countermeasure has been executed. Therefore, the defect rate management unit 201 causes the flag storage area 5 of the row to be processed.
“1” indicating that the countermeasure has been taken is stored in 01, and the number of countermeasures registered in the detected countermeasure result record is stored in the countermeasure number storage area 5
06, and the contents of the countermeasures (the countermeasure contents storage area 1
A code indicating that (held in 103) is stored in the countermeasure content storage area 507, and the date and time held in the countermeasure date and time storage area 1102 is stored in the countermeasure date and time storage area 508.
【0070】対策内容の登録を終えると、不良率管理手
段201は、対策分析手段202に制御を渡して、フラ
グ格納領域501に対策済を示す「1」が保持されてい
る不良率管理データについて、不良率の変化が特異な時
期の対策内容を抽出させる(ステップ709)。When the countermeasure content registration is completed, the defect rate management means 201 passes control to the countermeasure analysis means 202, and with respect to the defect rate management data in which “1” indicating that the countermeasure is completed is held in the flag storage area 501. Then, the content of the countermeasure at the time when the change of the defective rate is peculiar is extracted (step 709).
【0071】(2)対策分析手段202 ステップ709では、図1に示すように、不良率の変化
が特異な時期の対策内容の抽出と、抽出結果次回解析へ
の反映が行われる。このステップ709における対策分
析手段202の処理についてつぎに説明する。なお、図
1において、矢印はファイルへのデータの書き込みを示
している。(2) Countermeasure Analysis Means 202 In step 709, as shown in FIG. 1, the countermeasure contents at the time when the change of the defect rate is peculiar are extracted and the extraction result is reflected in the next analysis. The processing of the countermeasure analysis means 202 in this step 709 will be described below. Note that, in FIG. 1, arrows indicate writing of data to files.
【0072】まず、対策分析手段202は、対策につい
ての分析と抽出を行う(ステップ100)。ステップ1
00において、まず、対策分析手段202は、フラグ格
納領域501に未分析であることを示す「1」が保持さ
れているすべての行を分析対象として、不良率の変化が
特異であったかどうかを検査し、特異であった不良率管
理データ(レコード)を抽出する。なお、不良率の変化
が特異であったとは、ここでは、対策の効果がなかった
か(ステップ101)、効果が顕著にあったか(ステッ
プ102)、あるいは、実施された対策が新規なもので
あったこと(ステップ103)を意味する。First, the countermeasure analysis means 202 analyzes and extracts countermeasures (step 100). Step 1
In 00, first, the countermeasure analysis unit 202 examines whether or not the change in the defect rate is peculiar, by analyzing all the rows in which “1” indicating that the flag storage area 501 has not been analyzed is held. Then, the defect rate management data (record) that was unique is extracted. It should be noted that the change in the defect rate was peculiar to here, whether the measure had no effect (step 101), the effect was remarkable (step 102), or the measure implemented was new. Means (step 103).
【0073】ここでの、不良率の変化が特異であるかど
うかの判定は、つぎの判定式により行われる。すなわ
ち、時系列に並んだ不良率管理データを1、2、…i、
…、n、不良率管理データiの不良率をri(1≦i≦
n)とした場合(この場合、対策後の不良率はri+1と
して表される)、 ri+α≦ri+1 であれば対策の効果はなかったものと判定され、 [max{r1…ri}−min{r1…ri}]×β ≧ ri+1 であれば対策の効果が顕著であったものと判定される。
なお、α、βは、不良現象別に予め設定されている数値
である。α、βの値の具体例を図12に示す。また、対
策内容が、不良率管理データ記憶手段209の他の行の
対策内容格納領域507のいずれにも登録されていない
場合は、新規対策であると判定される。新規対策と対策
効果なし、および対策効果顕著、のいずれかの判定が重
なった場合は、新規対策であると判定される。Whether or not the change in the defective rate is peculiar is determined by the following determination formula. That is, the failure rate management data arranged in chronological order is 1, 2, ...
, N, the defect rate of the defect rate management data i is expressed as r i (1 ≦ i ≦
n) (in this case, the defective rate after the countermeasure is expressed as r i + 1 ), if r i + α ≦ r i + 1 , it is determined that the countermeasure has no effect, and [max { If r 1 ... R i } -min {r 1 ... R i }] × β ≧ r i + 1 , it is determined that the effect of the countermeasure is remarkable.
It should be noted that α and β are numerical values preset for each defect phenomenon. A specific example of the values of α and β is shown in FIG. If the countermeasure content is not registered in any of the countermeasure content storage areas 507 of other rows of the defect rate management data storage unit 209, it is determined that the countermeasure is a new countermeasure. If the judgments of the new countermeasure, no countermeasure effect, and remarkable countermeasure effect overlap, it is determined that the countermeasure is a new countermeasure.
【0074】ステップ101において、対策に効果のな
かった不良率管理データが抽出されると、対策分析手段
202は、そのレコードの行のフラグ格納領域501に
「3」を格納する。ステップ102において、対策に顕
著な効果のあった不良率管理データが抽出されると、対
策分析手段202は、そのレコードの行のフラグ格納領
域501に「4」を格納する。また、ステップ103に
おいて、新規な対策の行われた不良率管理データが抽出
されると、対策分析手段202は、そのレコードの行の
フラグ格納領域501に「5」を格納する。最後に、対
策分析手段202は、ステップ101〜103のいずれ
でも抽出されなかった不良率管理データであって、フラ
グ格納領域501に未分析であることを示す「1」が保
持されているすべての行のフラグ格納領域501に、分
析済みを示す「2」を格納する。In step 101, when the defect rate management data that is not effective in the countermeasure is extracted, the countermeasure analysis means 202 stores "3" in the flag storage area 501 of the row of the record. In step 102, when the defect rate management data having a remarkable effect on the countermeasure is extracted, the countermeasure analysis unit 202 stores “4” in the flag storage area 501 of the row of the record. Further, when the defect rate management data for which a new measure is taken is extracted in step 103, the measure analysis means 202 stores “5” in the flag storage area 501 of the row of the record. Finally, the countermeasure analysis unit 202 stores all the defect rate management data that has not been extracted in any of the steps 101 to 103 and holds “1” indicating that the flag storage area 501 has not been analyzed. The flag storage area 501 of the row stores “2” indicating that analysis has been completed.
【0075】以上のステップ100におけるステップ1
01〜103により、不良率管理データが抽出されなけ
れば、対策分析手段202は処理を終了して対策状況表
示手段203に制御を渡し(ステップ104)、いずれ
かの不良率管理データが抽出されれば、該不良率管理デ
ータについて、不良発生傾向を定義する(ステップ10
5)。不良発生傾向は、あらかじめ定められた傾向チェ
ック項目に対する偏向率によって定義される。傾向チェ
ック項目の具体例を、図13に示す。Step 1 in the above step 100
If the defect rate management data is not extracted from 01 to 103, the countermeasure analysis unit 202 ends the process and passes control to the countermeasure status display unit 203 (step 104), and any defect rate management data is extracted. For example, a defect occurrence tendency is defined for the defect rate management data (step 10).
5). The defect occurrence tendency is defined by a bias rate with respect to a predetermined tendency check item. A specific example of the trend check item is shown in FIG.
【0076】ステップ105において、対策分析手段2
02は、不良発生テーブル212に新たなレコードを格
納する領域を確保した上で、一意になるような傾向デー
タ番号を発番して、新たに確保された行の傾向データ番
号格納領域610と、処理対象の不良率管理データの傾
向データ番号格納領域509とに格納する。さらに、対
策分析手段202は、各傾向チェック項目ごとに、ステ
ップ708において検出された、処理対象の不良率管理
データの期間内に発生した不良の不良実績レコード(こ
の総数をxとする)のうち、不良現象格納領域907に
保持された情報が、該傾向チェック項目に対してあらか
じめ定められた不良現象に該当するもの(この総数をy
とする)を検出し、y÷x×100を求めて、偏向率と
し、新たに確保された行の当該傾向チェック項目を表す
傾向コードの偏向率格納領域600に格納する。In step 105, the countermeasure analysis means 2
02 secures an area for storing a new record in the defect occurrence table 212, and then issues a unique trend data number to store a trend data number storage area 610 of a newly secured row, The defect rate management data to be processed is stored in the tendency data number storage area 509. Further, the countermeasure analysis unit 202 selects, for each tendency check item, among the defect record records of defects that have occurred within the period of the defect rate management data to be processed detected in step 708 (this total number is x). , The information held in the failure phenomenon storage area 907 corresponds to the failure phenomenon predetermined for the tendency check item (this total number is y
Is calculated, and y ÷ x × 100 is obtained to obtain the deflection rate, which is stored in the deflection rate storage area 600 of the trend code representing the relevant trend check item of the newly secured row.
【0077】つぎに、対策分析手段202は、編集結果
を入出力装置3004のディスプレイに表示するための
画面表示データを、不良率管理データ記憶手段209、
基板製造実績記憶手段207、不良実績記憶手段20
6、検査ポイント情報記憶手段208、対策実績記憶手
段213、および不良発生傾向テーブル記憶手段212
を参照して作成し、画面表示用データ記憶手段210に
格納して、処理を終了する(ステップ106)。Next, the countermeasure analysis means 202 stores the screen display data for displaying the edited result on the display of the input / output device 3004 as the defective rate management data storage means 209.
Substrate manufacturing record storage means 207, defect record storage means 20
6, inspection point information storage means 208, countermeasure record storage means 213, and defect occurrence tendency table storage means 212
Is created and stored in the screen display data storage means 210, and the process ends (step 106).
【0078】(3)対策状況表示手段203 入力装置3004を介して、対策内容および不良傾向の
表示の指示が入力されると、対策状況表示手段203が
起動される。対策状況表示手段203は、この表示指示
を受けて、対策内容/不良傾向表示手段204に、対策
内容および不良傾向を表示させる。(3) Countermeasure Status Display Means 203 When the instruction to display the countermeasure contents and defect tendency is input through the input device 3004, the countermeasure status display means 203 is activated. Upon receipt of this display instruction, the countermeasure status display means 203 causes the countermeasure content / defective tendency display means 204 to display the countermeasure content and defective tendency.
【0079】(4)対策内容/不良傾向表示手段204 対策内容/不良傾向表示手段204は、画面表示用デー
タ記憶手段210に保持されている情報をもとにして、
画像を入出力装置3004のディスプレイに表示する。(4) Countermeasure content / defective tendency display means 204 The measure content / defective tendency display means 204 is based on the information stored in the screen display data storage means 210.
The image is displayed on the display of the input / output device 3004.
【0080】ここで表示される画像の例を、図14に示
す。この画面は、不良種類1401、ライン(工程)系
列1402、組図#1403、不良部品の実装工程14
04、対策内容の表1409、同時対策内容非表示指示
領域1408、および終了指示領域1412を備える。
本実施例では、表示内容の指示等の入力は、入出力装置
3004のキーボードのキーの押下、または、入出力装
置3004のマウスのクリックによる表示画面上の領域
の指定により行われる。FIG. 14 shows an example of the image displayed here. This screen shows defect type 1401, line (process) series 1402, assembly drawing # 1403, defective component mounting process 14
04, a countermeasure content table 1409, a simultaneous countermeasure content non-display instruction area 1408, and an end instruction area 1412.
In this embodiment, the input of the display content instruction is performed by pressing the key of the keyboard of the input / output device 3004 or by specifying the area on the display screen by clicking the mouse of the input / output device 3004.
【0081】なお、対策内容は、効果なし、効果顕著、
新規対策のいずれであるかに応じて3種類の表になって
おり、入出力装置3004を介して受け付けられた選択
に応じて、選択された表1409が表示される。なお、
図14では、例として、新規対策が選択された場合の表
1409が図示されている。The contents of the measures are as follows: no effect, remarkable effect,
There are three types of tables depending on which of the new measures is taken, and the selected table 1409 is displayed according to the selection accepted via the input / output device 3004. In addition,
In FIG. 14, as an example, a table 1409 when a new countermeasure is selected is shown.
【0082】入出力装置3004を介して、表1409
のいずれかの項目1405の指定を受け付けると、対策
内容/不良傾向表示手段204は、指定された項目の対
策内容に関する、対策実施前後の不良率の推移を表すグ
ラフ1406と、傾向コード別の偏向率を示すグラフ1
407とを、図14に示すように、ウインド(既に表示
されている画像の上に重ねて表示される矩形領域)14
10として表示する。なお、グラフ1406を表示する
際に、対策内容/不良傾向表示手段204は、入出力装
置3004を介して、いずれの不良率管理期間に関する
不良率の推移を表示するかを受け付け、指定された不良
率管理期間の不良率の推移を、グラフ1406として表
示し、不良率管理データ記憶手段209の、指定された
不良率管理期間の不良率管理データを保持する行の、フ
ラグ格納領域501に、結果表示済を示す「6」を格納
する。A table 1409 is input through the input / output device 3004.
When the designation of any of the items 1405 is received, the countermeasure content / defective tendency display means 204 causes the graph 1406 showing the transition of the defective rate before and after the countermeasure implementation regarding the countermeasure content of the designated item, and the deviation for each tendency code. Graph 1 showing rate
As shown in FIG. 14, a window (a rectangular area displayed overlaid on the already displayed image) 14
Display as 10. When displaying the graph 1406, the countermeasure content / defective tendency display unit 204 accepts, via the input / output device 3004, which defective rate management period the defective rate transition is to be displayed in, and the designated defective rate. The transition of the defective rate during the rate management period is displayed as a graph 1406, and the result is displayed in the flag storage area 501 of the row of the defective rate management data storage unit 209 which holds the defective rate management data during the designated defective rate management period. “6” indicating that the display has been completed is stored.
【0083】また、入出力装置3004を介して、同時
対策内容表示指示領域1408が指示されると、対策内
容/不良傾向表示手段204は、対策時刻の入力を受け
付け、受け付けた時刻に行われた対策(対策実績記憶手
段213に保持されている、該時刻を対策実施日時(領
域1102に保持されている)とする対策実績レコード
に含まれる対策内容(領域1103に保持されてい
る))を、ウインドとして表示する。Further, when the simultaneous countermeasure content display instruction area 1408 is instructed via the input / output device 3004, the countermeasure content / defective tendency display means 204 accepts the input of the countermeasure time, and is performed at the accepted time. Measures (contents of the measures (held in the region 1103), which are held in the countermeasure result storage unit 213 and are included in the measure result record having the time as the countermeasure implementation date and time (held in the region 1102)), Display as a window.
【0084】また、入出力装置3004を介して、終了
指示領域1412が指示されると、対策内容/不良傾向
表示手段204は、処理を終了する。When the end instruction area 1412 is instructed via the input / output device 3004, the countermeasure content / defective tendency display means 204 ends the processing.
【0085】(実施例2)他の実施例として、不良解析
の方法を解析知識としてチェック項目データベース(D
B)に蓄積し、チェック項目を用いて不良解析を行い、
解析の結果からその不良発生原因と対策方法を立案し利
用者に提示する、解析処理方式を付加した製造不良解析
装置および方法がある。本実施例の不良解析システム
は、解析知識を蓄積し、この解析知識を用いて不良発生
原因を推定、評価して、対策の候補を提示することがで
きる。なお、本実施例の不良解析システムのハードウエ
ア構成は、実施例1のシステムと同様である。(Embodiment 2) As another embodiment, a check item database (D
Accumulate in B), perform failure analysis using check items,
2. Description of the Related Art There is a manufacturing failure analysis apparatus and method that adds an analysis processing method, which proposes a cause of failure and a countermeasure method from the result of analysis and presents it to a user. The failure analysis system of the present embodiment can accumulate analysis knowledge, estimate and evaluate the cause of failure using this analysis knowledge, and present candidates for countermeasures. The hardware configuration of the failure analysis system of this embodiment is the same as that of the system of the first embodiment.
【0086】本実施例の不良解析システムは、チェック
項目データベースに保持されている解析項目について、
不良率の変動に伴って分析の必要な対策方法を抽出し、
その対策方法を指示したチェック項目の更新支援を行
う。The failure analysis system of the present embodiment, regarding the analysis items held in the check item database,
Extract the necessary countermeasures for analysis according to the fluctuation of the defective rate,
We will support the update of the check items instructing the countermeasures.
【0087】本実施例の不良解析システム1600は、
図31に示すように、解析知識更新支援手段1602
と、チェック項目データベース211と、解析処理手段
215とを備え、さらに、解析処理手段215の参照す
る情報を保持するための、基準データ記憶手段216
と、良品製造条件データベース217と、対策内容記憶
手段218とを備える。The failure analysis system 1600 of this embodiment is
As shown in FIG. 31, analysis knowledge update support means 1602
And a check item database 211 and an analysis processing unit 215, and further, a reference data storage unit 216 for holding information referred to by the analysis processing unit 215.
And a non-defective product manufacturing condition database 217 and countermeasure content storage means 218.
【0088】チェック項目データベース211は、解析
知識を蓄積するためのデータベースである。チェック項
目データベース211と、基準データ記憶手段216
と、良品製造条件データベース217と、対策内容記憶
手段218とは、主記憶装置3007に確保された記憶
領域である。The check item database 211 is a database for accumulating analysis knowledge. Check item database 211 and reference data storage means 216
The non-defective product manufacturing condition database 217 and the countermeasure content storage unit 218 are storage areas secured in the main storage device 3007.
【0089】解析処理手段214は、チェック項目デー
タベース211に蓄積された解析知識をもとに、発生し
た不良に対する対策の候補を提示する手段である。解析
知識更新支援手段1602は、発生した不良と、実施さ
れた対策と、対策の結果との情報をもとに、解析知識を
生成、蓄積する手段である。解析処理手段214および
解析知識更新支援手段1602は、主記憶装置3007
にあらかじめ保持されたインストラクションを、CPU
3006が実行することにより実現される。The analysis processing means 214 is means for presenting candidates for countermeasures against the defects that have occurred, based on the analysis knowledge accumulated in the check item database 211. The analysis knowledge update support means 1602 is means for generating and accumulating analysis knowledge on the basis of information on the defects that have occurred, the countermeasures taken, and the results of the countermeasures. The analysis processing means 214 and the analysis knowledge update support means 1602 are the main storage device 3007.
Instructions previously stored in the CPU
It is realized by executing 3006.
【0090】解析知識更新支援手段1602は、実施例
1のシステムと同様に、不良率管理手段201、対策分
析手段202、対策状況表示手段203、不良実績記憶
手段206、基板製造実績記憶手段207、検査ポイン
ト情報記憶手段208、不良率管理データ記憶手段20
9、画面表示用データ記憶手段210、不良発生傾向テ
ーブル記憶手段212、対策実績記憶手段213を備
え、さらに、チェック項目データベース211を備え
る。なお、本実施例の対策状況表示手段203は、対策
内容/不良傾向表示手段204に加えて、さらに解析知
識更新支援手段205を備える。Similar to the system of the first embodiment, the analysis knowledge update support means 1602 has a defect rate management means 201, a countermeasure analysis means 202, a countermeasure status display means 203, a defect record storage means 206, a board manufacturing record storage means 207, Inspection point information storage means 208, defect rate management data storage means 20
9, a screen display data storage unit 210, a defect occurrence tendency table storage unit 212, a countermeasure record storage unit 213, and a check item database 211. The countermeasure status display means 203 of this embodiment further includes an analysis knowledge update support means 205 in addition to the countermeasure content / defective tendency display means 204.
【0091】本実施例の不良解析システム1600にお
ける情報の流れの概略を、図16に示す。本実施例で
は、プリント板実装ライン1601において検出された
不良実績を分析することにより、解析知識更新支援手段
1602が解析知識をチェック項目データベース211
に蓄積する。チェック項目データベース211に蓄積さ
れた解析知識を用いて不良現象を解析することにより、
解析処理手段215は、該不良現象に対する対策の候補
を提示し、対策の内容を表示する。FIG. 16 shows an outline of the flow of information in the failure analysis system 1600 of this embodiment. In the present embodiment, the analysis knowledge update support unit 1602 analyzes the analysis knowledge by analyzing the defect record detected in the printed board mounting line 1601 and checks the analysis knowledge database 211.
Accumulate in. By analyzing the failure phenomenon by using the analysis knowledge accumulated in the check item database 211,
The analysis processing means 215 presents candidates for measures against the defective phenomenon and displays the details of the measures.
【0092】A.記憶手段 ここでは、実施例1に追加された記憶手段についてのみ
説明する。他の記憶手段は、実施例1のものと同様であ
る。A. Storage Means Here, only the storage means added to the first embodiment will be described. Other storage means are the same as those in the first embodiment.
【0093】(1)基準データ記憶手段216 基準データ記憶手段216は、本実施例の不良解析シス
テムの解析対象であるプリント板実装ラインの各工程ご
とに、あらかじめ定められた作業基準の情報をあらかじ
め保持する記憶領域である。(1) Reference Data Storage Means 216 The reference data storage means 216 stores in advance information on work standards that have been determined in advance for each process of the printed circuit board mounting line to be analyzed by the failure analysis system of this embodiment. This is a storage area to hold.
【0094】(2)良品製造条件データベース217 良品製造条件データベース217は、組図番号の良品を
製造した際の製造条件を示す製造条件レコードを保持す
る。図36に示すように、良品製造条件データベース2
17は、組図番号の格納領域361と、製造条件種別の
格納領域362と、過去にその製品の良品を製造した製
造条件の範囲(不良率が許容基準以下である製造条件が
最も広範囲にわたり連続する範囲)である良品製造条件
の格納領域363とを備え、図36では、1行が1製造
条件レコードを表現している。(2) Non-defective product manufacturing condition database 217 The non-defective product manufacturing condition database 217 holds a manufacturing condition record indicating a manufacturing condition when the non-defective product having the assembly drawing number is manufactured. As shown in FIG. 36, the good product manufacturing condition database 2
Reference numeral 17 denotes a storage area 361 for the assembly drawing number, a storage area 362 for the manufacturing condition type, and a range of manufacturing conditions in which a good product of the product has been manufactured in the past (manufacturing conditions in which the defect rate is less than or equal to the acceptable standard are the most continuous 36) and a storage area 363 for storing non-defective item manufacturing conditions, and in FIG. 36, one line represents one manufacturing condition record.
【0095】(3)対策内容記憶手段218 対策内容記憶手段218は、不良発生原因候補ごとに、
その不良の発生に対する対策の内容に関する情報を保持
する記憶領域である。(3) Countermeasure Content Storage Means 218 The countermeasure content storage means 218 stores, for each defect cause candidate,
It is a storage area that holds information regarding the content of measures against the occurrence of the defect.
【0096】(4)チェック項目データベース211 解析知識は、チェック項目データベース211に蓄積さ
れる。チェック項目データベース211は、解析対象の
各検査工程における、あらかじめ定められたチェック項
目ごとに、その項目についての不良発生に対する対策に
関する解析知識を表現したレコードであるチェック項目
レコードを保持するためのデータベースである。チェッ
ク項目データベース211のデータ構造を、図15に模
式的に示す。図15では、チェック項目データベース2
11は複数の行を備える表の形で表現されており、各行
が、それぞれ一つのチェック項目レコードを表してい
る。(4) Check item database 211 The analysis knowledge is stored in the check item database 211. The check item database 211 is a database for holding a check item record which is a record expressing, for each predetermined check item in each inspection step to be analyzed, analysis knowledge about measures against a defect occurrence of the item. is there. The data structure of the check item database 211 is schematically shown in FIG. In FIG. 15, the check item database 2
11 is represented in the form of a table including a plurality of rows, and each row represents one check item record.
【0097】本実施例では、チェック項目は、不良種類
別、実装ライン別、不良発生部品の実装工程別に設定さ
れる。これは不良の種類が異なれば発生原因が異なり、
また実装ラインおよび不良発生部品の実装工程が異なれ
ば、発生原因となった装置等が異なるためである。ここ
で、チェック項目は、チェックすべき項目と、該チェッ
ク結果に関連する不良発生原因の候補と、それらの間の
相関性の強さを表す相関値とからなるチェック項目レコ
ードにより定義される。In this embodiment, the check items are set for each defect type, each mounting line, and each mounting process of the defective parts. The cause of this is different for different types of defects,
Further, if the mounting line and the mounting process of the defective component are different, the device or the like that is the cause of the generation will be different. Here, the check item is defined by a check item record including an item to be checked, a candidate of a defect occurrence cause related to the check result, and a correlation value indicating the strength of correlation between them.
【0098】そこで、チェック項目データベース211
は、チェック項目と不良発生原因との関係を表すチェッ
ク項目レコードごとに、該チェック項目のチェック項目
レコードを格納するための領域、すなわち、チェックす
べき項目を格納するためのチェック項目格納領域151
と、不良発生工程および原因を格納するための原因格納
領域152と、不良発生原因(工程)別の相関値を格納
するための相関値格納領域153を備える。原因格納領
域152は、原因となった不良発生工程と、該工程にお
ける不良発生原因事象とからなる不良発生原因情報を複
数保持することができる。なお、図15では、不良発生
工程は工程番号によって示され、不良発生原因事象は、
該事象の生じた不良発生工程を示す番号の直後に記載さ
れたかっこ内に示されている。Therefore, the check item database 211
Is an area for storing the check item record of the check item, that is, a check item storage area 151 for storing the item to be checked, for each check item record indicating the relationship between the check item and the cause of the defect occurrence.
And a cause storage area 152 for storing a defect occurrence process and a cause, and a correlation value storage area 153 for storing a correlation value for each defect occurrence cause (process). The cause storage area 152 can hold a plurality of pieces of defect occurrence cause information including a defect occurrence process causing the cause and a defect occurrence cause event in the process. In FIG. 15, the defect occurrence process is indicated by the process number, and the defect occurrence cause event is
It is shown in parentheses immediately after the number indicating the defective process in which the event occurred.
【0099】また、相関値格納領域153は、不良検出
工程ごとに、相関値を保持する。本実施例では、外観検
査工程(実装工程4)と目視検査工程(実装工程9)と
において検出された不良についての解析を行う。そこ
で、相関値格納領域153は、外観検査工程の相関値の
格納領域1531と、目視工程用の相関値の格納領域1
532とを備える。図15に図示した例では、第5番目
のチェック項目レコードが、不良発生原因を2種類有し
ており、5行目の相関値記憶領域1531,1352
は、それぞれ原因ごと検査工程ごとに2種類の相関値を
備える。なお、本実施例では、相関値の初期値は、チェ
ック項目、不良発生原因、および不良検出工程に応じ
て、あらかじめ定められている。The correlation value storage area 153 holds a correlation value for each defect detection process. In the present embodiment, the defects detected in the visual inspection process (mounting process 4) and the visual inspection process (mounting process 9) are analyzed. Therefore, the correlation value storage area 153 includes a correlation value storage area 1531 for the visual inspection process and a correlation value storage area 1 for the visual inspection process.
And 532. In the example illustrated in FIG. 15, the fifth check item record has two types of defect occurrence causes, and the correlation value storage areas 1531 and 1352 in the fifth row are included.
Has two types of correlation values for each cause and for each inspection process. In the present embodiment, the initial value of the correlation value is determined in advance according to the check item, the cause of defect occurrence, and the defect detection process.
【0100】また、本実施例では、一つのチェック項目
レコードに、複数のチェックすべき項目を登録する。そ
こで、チェック項目格納領域151は、複数設けられて
おり、図15では、例としてn個(nは任意の正整数)
のチェック項目格納領域151(1511〜151n)
が備えられている場合を図示している。In this embodiment, a plurality of check items are registered in one check item record. Therefore, a plurality of check item storage areas 151 are provided, and in FIG. 15, as an example, n pieces (n is an arbitrary positive integer)
Check item storage area 151 (1511-151n)
The case where is provided is illustrated.
【0101】チェック項目格納領域151に格納される
「チェックすべき項目」とは、工程での製造条件に関す
る情報、あるいは、発生した不良に関する情報(不良発
生位置等の傾向)である。チェックすべき項目が、工程
での製造条件に関する情報であれば、チェック項目格納
領域151には、工程番号と、どの製造条件を対象とす
るかを示す管理項目番号とが格納される。また、チェッ
クすべき項目が発生した不良に関する情報であれば、不
良発生の傾向を示す傾向コード番号が格納される。傾向
コード番号は、図13に示すように、あらかじめ定義さ
れている不良発生傾向に付された識別符号であり、正の
値と負の値とがある。傾向コードの絶対値が同じで、符
号が逆であることは、同一の事象における傾向が逆であ
ることを示す。例えば、図15に示した第4番目のチェ
ック項目レコードの第1のチェック項目格納領域151
1に保持された傾向コード「3」は、不良発生部品が同
一部品に集中する傾向を示し、第5番目のチェック項目
レコードの第1のチェック項目格納領域1511に保持
された傾向コード「−3」は、その逆で、不良発生部品
が同一部品に集中しない傾向を示す。The “items to be checked” stored in the check item storage area 151 are information relating to manufacturing conditions in a process or information relating to defects that have occurred (trends such as defect occurrence positions). If the item to be checked is information related to manufacturing conditions in a process, the check item storage area 151 stores a process number and a management item number indicating which manufacturing condition is the target. If the item to be checked is information on a defect that has occurred, a tendency code number indicating the tendency of defect occurrence is stored. As shown in FIG. 13, the tendency code number is an identification code assigned to a predefined failure occurrence tendency, and has a positive value and a negative value. The same absolute value of the tendency code and the opposite sign indicates that the tendency in the same event is opposite. For example, the first check item storage area 151 of the fourth check item record shown in FIG.
The tendency code “3” held in 1 indicates a tendency in which defective parts are concentrated in the same part, and the tendency code “-3” held in the first check item storage area 1511 of the fifth check item record. ", On the contrary, indicates a tendency that defective parts do not concentrate on the same part.
【0102】B.解析処理手段215 つぎに、解析処理手段215の処理の流れを、図17を
用いて説明する。なお、図17において点線の矢印は、
ファイルからのデータの読み込みを意味する。システム
1600が起動され(ステップ1701)、解析処理を
実行することの選択が入力されると(ステップ170
2)、解析処理手段215が起動され、図17に示した
ステップ1711〜1717が実行される。B. Analysis Processing Unit 215 Next, the flow of processing of the analysis processing unit 215 will be described with reference to FIG. Note that the dotted arrow in FIG.
Means reading data from a file. When the system 1600 is started (step 1701) and the selection to execute the analysis process is input (step 170).
2), the analysis processing means 215 is activated, and steps 1711 to 1717 shown in FIG. 17 are executed.
【0103】解析処理手段215は、まず、入出力装置
3004を介して、解析対象の組図番号、不良部品、不
良種類の指定を受け付け(ステップ1711)、指定さ
れた組図番号、不良部品、不良種類、および不良検出工
程を基に、該当するすべてのチェック項目レコードを、
チェック項目データベース211から読み込む(ステッ
プ1712)。組図番号、不良部品、不良種類、および
不良検出工程と、チェック項目レコードとの対応関係
は、あらかじめ定められている。The analysis processing means 215 first accepts the designation of the assembly drawing number, the defective part, and the defect type of the analysis target via the input / output device 3004 (step 1711), and the specified assembly drawing number, defective part, Based on the defect type and defect detection process, all applicable check item records are
It is read from the check item database 211 (step 1712). The correspondence relationship between the assembly drawing number, the defective part, the defective type, the defective detection process, and the check item record is predetermined.
【0104】読み込まれたチェック項目レコードには、
複数のチェック項目が登録されている。そこで、これら
のチェック項目のそれぞれについて、解析処理手段21
5は、チェック項目ごとにあらかじめ定められたチェッ
クを行ない、そのチェック結果を用いて、不良発生原因
候補に優先順位を付与する(ステップ1713)。In the read check item record,
Multiple check items are registered. Therefore, for each of these check items, the analysis processing means 21
5 performs a predetermined check for each check item, and uses the check result to give priority to defect occurrence cause candidates (step 1713).
【0105】すなわち、まず、解析処理手段215は、
得点を記憶するための一時的記憶領域である得点テーブ
ルの領域を、主記憶装置3007に確保する。得点テー
ブル340は、図34に示すように、不良発生原因候補
ごとに、該原因候補を示す情報を格納するための原因候
補格納領域341と、該原因候補の確からしさを示す指
標である得点を格納するための得点格納領域342とを
備えるテーブルである。なお、得点格納領域342に
は、初期値として「0」が格納される。That is, first, the analysis processing means 215
An area of the score table, which is a temporary storage area for storing the score, is secured in the main storage device 3007. As shown in FIG. 34, the score table 340 shows, for each defect occurrence cause candidate, a cause candidate storage area 341 for storing information indicating the cause candidate, and a score that is an index indicating the likelihood of the cause candidate. It is a table including a score storage area 342 for storing. The score storage area 342 stores “0” as an initial value.
【0106】一時的領域を確保すると、解析処理手段2
15は、ステップ1712において読み込まれたすべて
のチェック項目レコードの原因格納領域152に保持さ
れた不良発生原因候補を、得点テーブル340の原因候
補格納領域341に格納する。なお、一つの原因が複数
のチェック項目レコードに登録されている場合あって
も、該原因の登録される得点テーブル340の原因候補
格納領域341は一箇所であり、得点テーブル340に
ひとつの原因が重複して登録されることはない。また、
図15に図示した5番目のチェック項目レコードのよう
に、原因格納領域152に複数の原因が登録されている
場合、個々の原因がそれぞれ異なる原因候補格納領域3
41に格納される。When the temporary area is secured, the analysis processing means 2
15 stores the defect occurrence cause candidates held in the cause storage areas 152 of all the check item records read in step 1712 in the cause candidate storage area 341 of the score table 340. Even when one cause is registered in a plurality of check item records, there is only one cause candidate storage area 341 of the score table 340 in which the cause is registered, and one cause is stored in the score table 340. There will be no duplicate registration. Also,
When a plurality of causes are registered in the cause storage area 152 as in the fifth check item record shown in FIG. 15, each cause has a different cause candidate storage area 3
It is stored in 41.
【0107】このようにして得点テーブル340を作成
すると、解析処理手段215は、ステップ1712にお
いて読み込まれたすべてのチェック項目レコードに基づ
いて、原因候補の得点を算出する。When the score table 340 is created in this way, the analysis processing means 215 calculates the score of the cause candidate based on all the check item records read in step 1712.
【0108】すなわち、例えば、ステップ1712にお
いて読み込まれたチェック項目レコードのチェック項目
格納領域151に「工程での製造条件」が保持されてい
た場合、解析処理手段215は、不良が発生した基板を
製造していたときの製造条件が、製造実績データ記憶手
段207から読み込み、あらかじめ定められた作業基準
(基準データ記憶手段216に保持されている)に適合
しているかどうか検査する。さらに、解析処理手段21
5は、不良発生時の製造条件が、過去に同じ基板の良品
を製造したときの条件(良品製造条件データベース21
7に保持されている)と同じかどうか検査する。また、
解析処理手段215は、製造条件が不良の発生直前で変
更されていないかどうか検査する。That is, for example, if the "manufacturing condition in the process" is held in the check item storage area 151 of the check item record read in step 1712, the analysis processing means 215 manufactures the defective board. The manufacturing conditions at that time are read from the manufacturing performance data storage means 207 and it is inspected whether or not they meet a predetermined work standard (held in the standard data storage means 216). Furthermore, the analysis processing means 21
No. 5 is a manufacturing condition when a defect occurs, which is a condition when a non-defective product of the same substrate is manufactured in the past (non-defective product manufacturing condition database 21).
(Held in 7)). Also,
The analysis processing means 215 inspects whether the manufacturing conditions have been changed immediately before the occurrence of the defect.
【0109】ここで、製造条件が作業基準に適合してい
なかったこと、製造条件が良品製造条件とは異なってい
たこと、または、製造条件が変更されていたことを検出
すると、解析処理手段215は、該チェック項目に対応
付けられた原因候補の得点を、相関値の分だけ増加させ
る。Here, when it is detected that the manufacturing conditions do not meet the work standard, the manufacturing conditions are different from the non-defective manufacturing conditions, or the manufacturing conditions are changed, the analysis processing means 215 is executed. Causes the score of the cause candidate associated with the check item to be increased by the correlation value.
【0110】すなわち、まず、解析処理手段215は、
該チェック項目をチェック項目格納領域151に保持す
るチェック項目レコードの行の原因格納領域152に保
持された原因すべてと、ステップ1711において入力
された工程に対応する相関値(相関値格納領域(153
1または1532)に保持されている)を検出する。つ
ぎに、検出されたすべての原因のそれぞれについて、解
析処理手段215は、その原因を原因候補格納領域34
1に保持する得点テーブル340の行を検出し、その行
の得点格納領域154に保持されている値に、上記検出
された相関値のうち、処理対象の原因候補に対応するも
のを加算して、もとの原因候補格納領域341に格納す
る。That is, first, the analysis processing means 215
All the causes held in the cause storage region 152 of the row of the check item record holding the check item in the check item storage region 151 and the correlation value (correlation value storage region (153
1 or 1532)) is detected. Next, for each of all the detected causes, the analysis processing means 215 sets the cause to the cause candidate storage area 34.
The row of the score table 340 held in 1 is detected, and the value stored in the score storage area 154 of that row is added to the detected correlation value corresponding to the cause candidate to be processed. , Are stored in the original cause candidate storage area 341.
【0111】また、読み込まれたチェック項目レコード
のチェック項目格納領域151に傾向コードが保持され
ていた場合、解析処理手段215は、その傾向コードに
対応する傾向チェック項目(具体例を図13に図示)に
ついて、その傾向チェック項目に応じてあらかじめ定め
られた基準に、不良現象(領域907に保持されてい
る)があてはまる、解析対象の不良実績レコード(不良
実績記憶手段206に保持されている不良実績レコード
のうち、解析対象としてステップ1711において指定
された組図番号、不良部品、不良種類のもの)の数を検
出し、この数と解析対象の不良実績レコードの総数とか
ら偏向率を求め、その偏向率が、あらかじめ定められた
範囲内にあるか否かにより、該傾向の有無を判定する。
なお、偏向率の算出方法は、前述のステップ105の場
合と同様である。When the tendency code is held in the check item storage area 151 of the read check item record, the analysis processing means 215 causes the tendency check item (specific example shown in FIG. 13) corresponding to the tendency code. ), A failure phenomenon (held in the area 907) is applied to a criterion determined in advance according to the tendency check item, and a failure history record to be analyzed (a failure history stored in the failure history storage unit 206). Of the records, the number of assembly drawing numbers, defective parts, and defective types specified in step 1711 as the analysis target is detected, and the deflection rate is calculated from this number and the total number of failure record records to be analyzed. Whether or not the tendency is present is determined by whether or not the deflection rate is within a predetermined range.
The method of calculating the deflection rate is the same as that in step 105 described above.
【0112】ここで、傾向があると判断すると、解析処
理手段215は、上述のチェック項目が製造条件であっ
た場合と同様にして、解析処理手段215は、該チェッ
ク項目に対応付けられた原因候補の得点を、相関値の分
だけ増加させる。If it is determined that there is a tendency, the analysis processing means 215 causes the analysis processing means 215 to associate the check item with the check item in the same manner as when the above-mentioned check item is the manufacturing condition. The candidate score is increased by the correlation value.
【0113】すべてのチェックが終了すると、解析処理
手段215は、各原因候補の得点を比較し、得点の他界
順に列挙したすべての原因候補(あらかじめ定められた
得点以上の原因候補ににしてもよい)と、その得点と
を、入出力装置3004のディスプレイに表示し(ステ
ップ1714)、不良発生原因の選択の入力を受け付け
る(ステップ1715)。When all the checks are completed, the analysis processing means 215 compares the scores of the respective cause candidates, and all the cause candidates listed in the other boundary order of the scores (may be the cause candidates having a predetermined score or more). ) And the score thereof are displayed on the display of the input / output device 3004 (step 1714), and the input for selecting the cause of the defect is accepted (step 1715).
【0114】入出力装置3004を介して、不良発生原
因の選択を受け付けると、解析処理手段215は、チェ
ック項目データベース211の各行のうち、選択された
不良発生原因を原因格納領域152に保持するすべての
行の、ステップ1711において入力された不良発見工
程に対応する相関値格納領域(1531または153
2)に保持された、当該原因に対応する相関値を1増加
させる(ステップ1716)。なお、ここで、ステップ
1715を行わず、ステップ1716以降において、最
も優先順位の高い原因候補を、選択されたものとして扱
うようにしてもよい。このようにする場合、ステップ1
714の実行も省略してもよい。When the selection of the cause of the defect occurrence is accepted via the input / output device 3004, the analysis processing unit 215 holds the selected cause of the defect occurrence in the cause storage area 152 in each row of the check item database 211. Of the correlation value storage area (1531 or 153) corresponding to the defect finding process input in step 1711
The correlation value corresponding to the cause held in 2) is incremented by 1 (step 1716). Here, step 1715 may be omitted and the cause candidate with the highest priority may be treated as the selected one after step 1716. If you do this, step 1
The execution of 714 may also be omitted.
【0115】さらに、解析処理手段215は、選択され
た不良発生原因に対応する対策内容を、対策内容記憶手
段218から読み出し、入出力装置3004のディスプ
レイに、選択された不良発生原因と、読み出した対策内
容とを表示する(ステップ1717)。なお、ステップ
1717の処理をステップ1714の処理で行い、原因
候補と対策内容とその得点とを、ディスプレイに表示し
てもよい。Further, the analysis processing means 215 reads the countermeasure content corresponding to the selected cause of failure from the countermeasure content storage means 218 and reads the selected cause of failure on the display of the input / output device 3004. The contents of countermeasures are displayed (step 1717). The process in step 1717 may be performed in the process in step 1714, and the cause candidate, the countermeasure content, and the score thereof may be displayed on the display.
【0116】なお、本実施例では、対策内容はディスプ
レイに表示されるのみであるが、不良解析システム16
00に、プリント板実装ラインの製造条件を変更する手
段を設け、ステップ1717において表示された対策
を、この製造条件変更手段により実行するようにしても
よい。この場合、ステップ1717において表示された
対策内容のうち、実際に実行する対策の選択を、入出力
装置3004を介して受け付けるようにしてもよい。In the present embodiment, the countermeasure content is only displayed on the display, but the failure analysis system 16
00, a means for changing the manufacturing condition of the printed board mounting line may be provided, and the countermeasure displayed in step 1717 may be executed by this manufacturing condition changing means. In this case, of the countermeasures displayed in step 1717, the selection of the countermeasure to be actually executed may be accepted via the input / output device 3004.
【0117】C.解析知識更新支援手段1602 上述したように、解析知識更新支援手段1602は、対
策状況表示手段203が、チェック項目更新手段205
を備える点で、実施例1の解析システムとは異なってい
る。他の点は、実施例1において説明したものと同様で
あるので、ここでは、実施例1との相違点であるチェッ
ク項目更新手段205について説明する。C. Analysis Knowledge Update Support Unit 1602 As described above, the analysis knowledge update support unit 1602, the countermeasure status display unit 203, and the check item update unit 205.
Is different from the analysis system of the first embodiment. Since the other points are the same as those described in the first embodiment, the check item updating unit 205, which is a difference from the first embodiment, will be described here.
【0118】本実施例において、対策内容/不良傾向表
示手段204の表示する画像の例を図32に示す。実施
例1において表示される画像(図14に図示)との相違
点は、更新指示領域1411を備える点である。FIG. 32 shows an example of an image displayed by the countermeasure content / defective tendency display means 204 in this embodiment. The difference from the image (illustrated in FIG. 14) displayed in the first embodiment is that the update instruction area 1411 is provided.
【0119】入出力装置3004を介して、更新指示領
域1411が指示されると、対策内容/不良傾向表示手
段204は、チェック項目更新手段205を起動する。
起動されたチェック項目更新手段205は、入出力装置
3004を介して、チェック項目レコードの更新(レコ
ードの追加、削除または変更)の指示を受け付け、指示
に従って、チェック項目データベース211の各格納領
域151〜153の更新を行う。なお、チェック項目レ
コードの変更には、チェック項目の変更、削除、および
追加や、不良発生原因の変更、削除、および追加などが
含まれる。なお、不良発生原因の削除または追加に際し
ては、相関値の削除または追加も要求される。また、チ
ェック項目レコードの変更として、相関値を変更するこ
ともできる。When the update instruction area 1411 is instructed via the input / output device 3004, the countermeasure content / defective tendency display means 204 activates the check item update means 205.
The activated check item updating unit 205 receives an instruction to update a check item record (add, delete, or change a record) via the input / output device 3004, and according to the instruction, each storage area 151 to 1 of the check item database 211. 153 is updated. The change of the check item record includes the change, deletion, and addition of the check item, and the change, deletion, and addition of the defect occurrence cause. Note that when deleting or adding the cause of failure, it is also required to delete or add the correlation value. Also, the correlation value can be changed as the change of the check item record.
【0120】(実施例3)本実施例の不良解析システム
1800は、図35に示すように、実施例2と同様の構
成に加えて、さらに、良品完成実績編集手段219と、
判断来歴データベース220と、画面別参照内容データ
ベース221と、良品/不良品一覧データ記憶手段22
3とを備える。また、本実施例の解析処理手段222
は、実施例2の解析処理手段215の有する機能に加
え、さらに統計表示機能をも備えている。他の構成は、
実施例2のものと同様であるので、ここではおもに、実
施例2との相違点について説明する。(Third Embodiment) As shown in FIG. 35, the failure analysis system 1800 of the present embodiment has a configuration similar to that of the second embodiment, and further includes a non-defective product completion record editing means 219.
Judgment history database 220, screen-specific reference content database 221, and non-defective / defective product list data storage 22
3 and 3. Further, the analysis processing means 222 of this embodiment
Has a statistical display function in addition to the function of the analysis processing means 215 of the second embodiment. Other configurations are
Since it is the same as that of the second embodiment, differences from the second embodiment will be mainly described here.
【0121】まず、図18に示した、本実施例の本実施
例の不良解析システム1800における情報の流れの概
略について説明する。本実施例では、プリント板実装ラ
イン1601における実績データを分析することによ
り、解析知識更新支援手段1602が、解析知識をチェ
ック項目データベース211に蓄積する。また、良品製
造条件編集手段219は、実績データをもとに、良品製
造条件データベース217に良品製造条件の知識を蓄積
する。これらのチェック項目データベース211および
良品製造条件データベース217に蓄積された知識を用
いて不良現象を解析することにより、解析処理手段22
2は、該不良現象に対する対策の候補を提示し、対策の
内容を表示する。First, an outline of the flow of information in the failure analysis system 1800 of this embodiment shown in FIG. 18 will be described. In this embodiment, the analysis knowledge update support means 1602 accumulates the analysis knowledge in the check item database 211 by analyzing the performance data in the printed board mounting line 1601. Further, the non-defective item manufacturing condition editing means 219 accumulates knowledge of the non-defective item manufacturing condition in the non-defective item manufacturing condition database 217 based on the actual data. By using the knowledge accumulated in the check item database 211 and the non-defective product manufacturing condition database 217 to analyze the failure phenomenon, the analysis processing means 22
2 presents candidates for measures against the defective phenomenon and displays the contents of measures.
【0122】A.記憶手段 実施例2のシステムに追加された記憶手段は、判断来歴
データベース220と、画面別参照内容データベース2
21と、良品/不良品数一覧データ記憶手段223とで
ある。これらの記憶手段もまた、主記憶装置3007に
確保された記憶領域である。A. Storage Means The storage means added to the system of the second embodiment is the judgment history database 220 and the reference content database 2 for each screen.
21 and non-defective / defective product number list data storage means 223. These storage means are also storage areas secured in the main storage device 3007.
【0123】(1)判断来歴データベース220 判断来歴データベース220は、表示画面および表示内
容等の選択の履歴を示す判断来歴レコードを格納するた
めのデータベースである。判断来歴データベース220
は、図24に示すように、判断来歴レコードの格納順を
示すシーケンス番号の格納領域240と、表示画面を示
す符号を格納するための表示画面情報格納領域241
と、表示内容の格納領域242と、表示条件の格納領域
243とを備える。なお、図24では、1レコードが一
行に格納されるように図示されている。(1) Judgment History Database 220 The judgment history database 220 is a database for storing judgment history records indicating the history of selection of the display screen and display contents. Judgment history database 220
24, as shown in FIG. 24, a storage area 240 of a sequence number indicating the storage order of judgment history records and a display screen information storage area 241 for storing a code indicating a display screen.
And a storage area 242 for display contents and a storage area 243 for display conditions. In addition, in FIG. 24, one record is illustrated as being stored in one line.
【0124】表示条件格納領域243は、表示対象に関
する各種の情報を保持するために、組図番号の格納領域
2431と、表示対象のシリアル番号格納領域2432
と、工程/製造期間の格納領域2433と、検査工程/
不良検出期間の格納領域2434とを備える。The display condition storage area 243 holds a set drawing number storage area 2431 and a display target serial number storage area 2432 in order to hold various kinds of information regarding the display target.
And a process / production period storage area 2433 and an inspection process /
A defect detection period storage area 2434 is provided.
【0125】(2)画面別参照内容データベース221 画面別参照内容データベース221は、表示画面ごと
に、該画面に表示される(すなわち、該画面から判断で
きる)チェック項目があらかじめ登録されているデータ
ベースである。図25に画面別参照内容データベース2
21の一例を模式的に示す。画面別参照内容データベー
ス221は、表示画面を示す符号を保持するための表示
画面情報格納領域251と、該領域に保持された情報の
示す表示画面に対応してあらかじめ定められたチェック
項目を保持するためのチェック項目格納領域252とを
備える。(2) Screen-by-screen reference content database 221 The screen-by-screen reference content database 221 is a database in which check items displayed on each screen (that is, which can be judged from the screen) are registered in advance. is there. 25. Reference content database 2 for each screen in FIG.
An example of 21 is shown typically. The screen-specific reference content database 221 holds a display screen information storage area 251 for holding a code indicating a display screen and check items that are predetermined in correspondence with the display screen indicated by the information held in the area. And a check item storage area 252 for
【0126】(3)良品/不良品数一覧データ記憶手段
223 良品/不良品数一覧データ記憶手段223は、製造条件
別に、良品/不良品数一覧データを保持する記憶領域で
ある。製造条件別良品/不良品数一覧データ280は、
図28に示すように、いずれの組図番号の製品の製造条
件であるかを示す情報286と、いずれの製造条件種別
に関するデータであるかを示す情報287とが付されて
おり、該製造条件種別の代表条件値(領域281にあら
かじめ保持されている)ごとに、全製造件数格納領域2
82と、良品製造件数格納領域283と、不良品製造件
数格納領域284と、不良率格納領域285とを備える
表である。(3) Non-defective / Defective Product Number List Data Storage Means 223 The non-defective / defective product number list data storage means 223 is a storage area for holding non-defective / defective product number list data for each manufacturing condition. The number of non-defective / defective product list data 280 by manufacturing condition is
As shown in FIG. 28, information 286 indicating which manufacturing condition of the product has the manufacturing condition and information 287 indicating which manufacturing condition type the data belong to are attached. Storage area 2 for the total number of manufactured items for each representative condition value of the type (previously held in the area 281)
82, a non-defective product manufacturing number storage area 283, a defective product manufacturing number storage area 284, and a defective rate storage area 285.
【0127】B.良品製造条件編集手段219 良品製造条件編集手段219は、不良を発生させずに製
造していた時期の製造条件を、製品の種類別に編集し
て、良品製造条件として良品製造条件データベース21
7に蓄積する手段である。良品製造条件編集手段219
は、製造条件別良品/不良品数一覧データをもとに、良
品製造条件レコードを作成し、良品製造条件データベー
スに蓄積する。この良品製造条件編集手段219の良品
製造条件蓄積処理の流れを図27を用いて説明する。B. Non-defective manufacturing condition editing means 219 The non-defective manufacturing condition editing means 219 edits the manufacturing conditions at the time of manufacturing without causing a defect for each type of product, and sets the non-defective manufacturing condition database 21 as the non-defective manufacturing conditions.
7 is a means for accumulating. Non-defective manufacturing condition editing means 219
Creates a good product manufacturing condition record based on the list of good product / defective product number by manufacturing condition, and stores it in the good product manufacturing condition database. The flow of the non-defective item manufacturing condition accumulating process of the non-defective item manufacturing condition editing means 219 will be described with reference to FIG.
【0128】まず、良品製造条件編集手段219は、良
品製造条件DBの最終更新日を検索(ステップ270
1)し、製造実績記憶手段207から、最終更新日以降
の製造実績レコードを検出して、それらのレコードをも
とに、各製造条件において製造された良品数、および不
良品数をカウントし、製造条件別良品/不良品数一覧デ
ータの、領域282〜284の内容を更新する(ステッ
プ2702)。この時、不良の発生した製品のうち、不
良の発生原因が明らかに現在対象の製造条件とは異なる
ことが判明している場合、該製品は、良品としてカウン
トするようにしてもよい。First, the non-defective item manufacturing condition editing means 219 searches for the last update date of the non-defective item manufacturing condition DB (step 270).
1) Then, the manufacturing record after the last update date is detected from the manufacturing record storage means 207, and the number of non-defective products and the number of defective products manufactured under each manufacturing condition are counted based on these records, The contents of the areas 282 to 284 of the condition-defective product / defective product number list data are updated (step 2702). At this time, among the defective products, if it is known that the cause of the defective products is clearly different from the current manufacturing conditions, the product may be counted as a good product.
【0129】つぎに、良品製造条件編集手段219は、
全製造件数格納領域282に保持された値と、不良率製
造件数格納領域284に保持された値とから、各製造条
件における不良率を算出し、不良率格納領域285に格
納する(ステップ2703)。Next, the non-defective item manufacturing condition editing means 219
From the value held in the total manufacturing number storage area 282 and the value held in the defective rate manufacturing number storage area 284, the defective rate under each manufacturing condition is calculated and stored in the defective rate storage area 285 (step 2703). .
【0130】このようにして、製造条件別良品/不良品
数一覧データに最新の実績を反映させると、良品製造条
件編集手段219は、この製造条件別良品/不良品数一
覧データから、不良率が許容範囲以下である製造条件を
検索し(ステップ2704)、不良率が許容範囲以下で
ある製造条件が最も広範囲にわたり連続する範囲を、そ
の製造条件別良品/不良品数一覧データに付された組図
番号の製品の良品製造条件として、良品製造条件データ
ベース217の組図番号および製造条件種別が一致する
行の良品製造条件格納領域363に格納して、処理を終
了する(ステップ2705)。In this way, when the latest performance is reflected in the manufacturing condition-based non-defective / defective product number list data, the non-defective product manufacturing condition editing means 219 determines that the defective rate is acceptable from the manufacturing condition-specific non-defective / defective product number list data. A manufacturing condition that is less than or equal to the range is searched (step 2704), and a range in which the defective condition is less than or equal to the allowable range and is continuous over the widest range is the assembly number assigned to the non-defective product / defective product number list data by that manufacturing condition Is stored in the non-defective product manufacturing condition storage area 363 of the row in which the assembly drawing number and the manufacturing condition type of the non-defective product manufacturing condition database 217 match (step 2705).
【0131】C.解析処理手段222 本実施例の解析処理手段222の処理の流れを図33に
示す。ステップ1701,1702,1711〜171
7の処理は、実施例2で説明したものと同様である。た
だし、本実施例では、ステップ1702において入力さ
れた選択が、統計表示の指示であれば、解析処理手段2
22は、判断来歴データベース220を初期化したの
ち、つぎのステップ1703〜1710を実行した上
で、ステップ1717を実行する。C. Analysis Processing Means 222 The flow of processing of the analysis processing means 222 of this embodiment is shown in FIG. Steps 1701, 1702, 1711 to 171
The process of 7 is the same as that described in the second embodiment. However, in the present embodiment, if the selection input in step 1702 is an instruction to display statistics, the analysis processing means 2
22 initializes the judgment history database 220, then executes the following steps 1703 to 1710, and then executes step 1717.
【0132】ステップ1703〜1710は、統計表示
機能を実現するための処理である。この統計表示機能
は、不良実績、製造実績、作業基準データ、設計基準デ
ータ、良品製造条件データの統計処理、および表示を行
ない、表示した内容を判断来歴データベース220に格
納し、判断来歴データベース221および、画面別参照
内容データベース221を参照して、解析方法の登録に
際して表示された画面と、その画面から判断できる傾向
とを提示し、チェック項目データベース221を更新す
るものである。Steps 1703 to 1710 are processes for realizing the statistical display function. This statistical display function performs statistical processing and display of defect record, manufacturing record, work standard data, design standard data, good product manufacturing condition data, stores the displayed content in the judgment history database 220, and stores the judgment history database 221 and With reference to the screen-by-screen reference content database 221, the screen displayed when the analysis method is registered and the tendency that can be judged from the screen are presented, and the check item database 221 is updated.
【0133】統計表示の指示が選択されると、解析処理
手段222は、統計表示画面の選択を受け付ける(ステ
ップ1703)。なお、解析処理手段222により表示
される統計表示画面は、例えば、不良位置表示画面、不
良発生件数の基板別パレート図表示画面、不良発生件数
の推移図表示画面、各基板がいつ、どの工程を通ったの
かを示す基板来歴表示画面、各装置の製造条件の変更履
歴を示す作業実績表示画面である。When the statistics display instruction is selected, the analysis processing means 222 accepts the selection of the statistics display screen (step 1703). The statistical display screen displayed by the analysis processing unit 222 includes, for example, a defect position display screen, a Pareto diagram for each board showing the number of defects, a transition diagram display screen for the number of defects, and when and which process is performed for each substrate. It is a board history display screen showing whether it has passed, and a work record display screen showing a change history of manufacturing conditions of each device.
【0134】不良位置表示画面190は、図19にその
例を示すように、基板191と、その基板上に搭載され
た部品192と、不良発生を示す円193を備える。不
良発生を示す円193は、その位置により不良発生位置
を表し、その大きさにより不良発生件数を表している。
なお、色により不良発生件数を表すようにしてもよい。The defective position display screen 190 includes a board 191, a component 192 mounted on the board, and a circle 193 indicating occurrence of a failure, as shown in FIG. The circle 193 indicating the occurrence of a defect represents the defect occurrence position by its position and the defect occurrence number by its size.
The number of occurrences of defects may be represented by color.
【0135】不良発生件数の基板別パレート図の表示画
面2000の例を図20に示す。図20に示した画面例
では、基板別不良発生件数のグラフ2001と、表20
02とが表示されている。FIG. 20 shows an example of a display screen 2000 of a Pareto chart for each board showing the number of defects. In the screen example shown in FIG. 20, a graph 2001 of the number of occurrences of defects by board and Table 20
02 is displayed.
【0136】不良発生件数の推移図の表示画面2100
の例を図21に示す。図21に示した画面例では、いず
れの項目についてのグラフを表示するかの選択を受け付
けるためのメニュー2102と、選択された項目(図2
1に示した例では、「B面ブリッジ」が選択されてい
る)についての不良発生件数の推移を示すグラフ210
1とが表示されている。Display screen 2100 of the transition chart of the number of defects
An example of is shown in FIG. In the screen example shown in FIG. 21, a menu 2102 for accepting selection of which item the graph is to be displayed in and a selected item (see FIG. 2).
In the example shown in FIG. 1, a graph 210 showing the transition of the number of defects generated for “B side bridge” is selected).
1 and are displayed.
【0137】基板来歴表示画面2200の例を図22に
示す。図22に示した画面例では、指定された基板の来
歴を示す表2201が表示されている。来歴表2201
は、表示対象の基板を処理した各工程の名称と、該工程
へのその基板の投入時刻とが含まれている。FIG. 22 shows an example of the board history display screen 2200. In the screen example shown in FIG. 22, a table 2201 showing the history of the designated board is displayed. History table 2201
Contains the name of each process that processed the substrate to be displayed and the time at which the substrate was put into the process.
【0138】作業実績表示画面230の例を図23に示
す。図23に示した画面例では、指定された工程におけ
る、指定された製造条件種別の製造条件の推移を示す表
231が表示されている。この製造条件の推移を示す表
231は、該製造条件の具体的データと、その条件に変
更された時刻とが含まれている。FIG. 23 shows an example of the work record display screen 230. In the screen example shown in FIG. 23, a table 231 showing the transition of the manufacturing condition of the specified manufacturing condition type in the specified process is displayed. The table 231 showing the transition of the manufacturing condition includes specific data of the manufacturing condition and the time when the condition is changed.
【0139】表示する画面の選択が入力されると、解析
処理手段222は、ステップ1703で選択された画面
の表示内容、表示範囲の指定を受け付ける(ステップ1
704)。When the selection of the screen to be displayed is input, the analysis processing means 222 accepts the designation of the display content and the display range of the screen selected in step 1703 (step 1
704).
【0140】ステップ1704において受け付けられる
指定は、例えば、図19に示した不良位置表示画面19
0が選択されている場合は、基板の種類である組図番
号、不良の発生期間、不良の種類の指定である。また、
図20に示した基板別パレート図表示画面2000が選
択されている場合は、不良の発生期間、不良の種類の指
定が受け付けられる。図21に示した不良発生件数推移
図表示画面2100が選択されている場合は、基板の種
類である組図番号、不良の発生期間、不良の種類の指定
が受け付けられる。図22に示した基板来歴表示画面2
200が選択されている場合は、基板1枚1枚を識別す
るためのシリアル番号の指定が受け付けられる。図23
に示した作業実績表示画面230が選択されている場合
は、表示対象の工程(装置)と、各工程(装置)の管理
項目との指定が受け付けられる。The designation accepted in step 1704 is, for example, the defective position display screen 19 shown in FIG.
When 0 is selected, the assembly drawing number, which is the type of the board, the defect occurrence period, and the defect type are designated. Also,
If the board-specific Pareto chart display screen 2000 shown in FIG. 20 is selected, designation of a defect occurrence period and a defect type is accepted. When the defect occurrence number transition diagram display screen 2100 shown in FIG. 21 is selected, the assembly drawing number, which is the type of the board, the defect occurrence period, and the defect type are accepted. Substrate history display screen 2 shown in FIG.
When 200 is selected, designation of a serial number for identifying each board is accepted. FIG. 23
When the work record display screen 230 shown in is selected, the designation of the process (device) to be displayed and the management item of each process (device) is accepted.
【0141】このようにして、表示する画面と、表示内
容等の指定を受け付けると、解析処理手段222は、ス
テップ1703で選択された画面を示す符号と、ステッ
プ1704で指定された表示内容および表示範囲とをも
とに判断来歴レコードを作成し、判断来歴データベース
220に格納する(ステップ1705)。In this way, when the designation of the screen to be displayed and the display content etc. is received, the analysis processing means 222 shows the code indicating the screen selected in step 1703, the display content and the display designated in step 1704. A judgment history record is created based on the range and stored in the judgment history database 220 (step 1705).
【0142】つぎに、解析処理手段222は、製造実績
データ記憶手段207および不良実績記憶手段206に
保持された情報をもとに、ステップ1703および17
04で受け付けた指定内容の表示のための画像データを
作成し、入出力装置3004のディスプレイに、指定さ
れた内容の画像を表示し、指示を受け付ける(ステップ
1706)。Next, the analysis processing means 222 uses steps 1703 and 17 based on the information held in the manufacturing performance data storage means 207 and the defect performance storage means 206.
Image data for displaying the designated content accepted in 04 is created, the image of the designated content is displayed on the display of the input / output device 3004, and the instruction is accepted (step 1706).
【0143】ステップ1706において終了以外の指示
が入力されれば(ステップ1707)、解析処理手段2
22は、ステップ1703に処理を戻し、ステップ17
03からステップ1706の処理を繰り返す。統計表示
機能終了が指示されると(ステップ1707)、解析処
理手段222は、ユーザノウハウ登録機能を実現するた
めに、つぎのステップ1708〜1710の処理を実行
する。If an instruction other than the end is input in step 1706 (step 1707), the analysis processing means 2
22 returns the processing to step 1703, and returns to step 17
The processing from 03 to step 1706 is repeated. When the end of the statistics display function is instructed (step 1707), the analysis processing means 222 executes the following steps 1708 to 1710 to realize the user know-how registration function.
【0144】まず、解析処理手段22は、判断来歴デー
タベース220から、表示された画面をすべて検出し、
画面別参照内容データベース211から、該画面を示す
符号を表示画面情報格納領域251に保持する行のチェ
ック項目格納領域252から、該画面に表示される情報
により判断できるチェック項目(または不良発生傾向)
を検出して、検出されたチェック項目(または不良発生
傾向)を、入出力装置3004のディスプレイに一覧表
示する(ステップ1708)。ここで表示されるチェッ
ク項目(または不良発生傾向)は、利用者が画面を参照
しながら不良原因探索の判断に実際に用いたと推定され
る。従って、これらは、不良原因判定のために直接利用
されるチェック項目の候補である。First, the analysis processing means 22 detects all the displayed screens from the judgment history database 220,
A check item (or a defect occurrence tendency) that can be determined from the information displayed on the screen from the check item storage area 252 of the row that holds the code indicating the screen in the display screen information storage area 251 from the screen reference content database 211
Is detected, and a list of the detected check items (or failure occurrence tendency) is displayed on the display of the input / output device 3004 (step 1708). It is presumed that the check item (or the defect occurrence tendency) displayed here is actually used by the user for determining the defect cause search while referring to the screen. Therefore, these are candidates for check items that are directly used for determining the cause of a defect.
【0145】つぎに、解析処理手段222は、表示した
候補のうちから、不良原因の推定に利用した項目の選択
の入力と、推定された不良原因の入力とを受け付け、さ
らに、ステップ1706において表示したすべての画面
(データ)を表示し、各画面において、不良原因を推定
した不良に関する情報の入力を受け付ける(ステップ1
709)。ここで受け付けられる、不良原因を推定した
不良に関する情報には、不良種類、組図番号、不良関連
部品、不良発見工程などの情報が含まれる。Next, the analysis processing means 222 accepts the input of selection of the item used for estimating the cause of failure and the input of the estimated cause of failure from the displayed candidates, and further the display in step 1706. All the screens (data) that have been displayed are displayed, and the input of the information regarding the defect whose cause is estimated is accepted on each screen (step 1
709). The information related to the defect that is estimated here for the cause of the defect includes information such as the defect type, the assembly drawing number, the defect-related part, and the defect finding process.
【0146】最後に、解析処理手段222は、ステップ
1709で受け付けた項目をもとに、チェック項目デー
タベース211を更新して(ステップ1710)、上述
のステップ1717を実行して、処理を終了する。Finally, the analysis processing means 222 updates the check item database 211 based on the items accepted in step 1709 (step 1710), executes the above step 1717, and ends the process.
【0147】つぎに、ステップ1710におけるチェッ
ク項目データベース211の更新手順を、図26を用い
て説明する。Next, the procedure for updating the check item database 211 in step 1710 will be described with reference to FIG.
【0148】すなわち、まず、解析処理手段222は、
ステップ1709で入力された組図番号(基板の種類を
示す)から、該組図番号に応じてあらかじめ定められて
いる該組図番号の基板の組立情報をもとに、基板ごとに
あらかじめ定められている該基板の実装ラインを検出す
る(ステップ2601)。また、解析手段222は、該
組図番号に対応する組立情報から、ステップ1709に
おいて入力された不良関連部品の実装工程を検出する
(ステップ2602)。That is, first, the analysis processing means 222
From the assembly number (indicating the type of board) input in step 1709, it is predetermined for each board based on the assembly information of the board of the assembly number which is predetermined according to the assembly number. The mounting line of the board which is present is detected (step 2601). The analysis unit 222 also detects the mounting process of the defect-related component input in step 1709 from the assembly information corresponding to the assembly drawing number (step 2602).
【0149】このようにして、ステップ1709で指定
された不良の発生した実装ラインおよび実装工程を検出
すると、解析処理手段222は、該実行工程で不良が発
生した場合のチェック項目を、チェック項目データベー
ス211から読み込む(ステップ2603)。すなわ
ち、解析処理手段222は、ステップ2601で検出さ
れた実装ラインに対応するチェック項目データベース2
11の各行のうち、ステップ2602で検出された工程
を示す情報を、原因格納領域152に保持する行をすべ
て検出する。In this way, when the mounting line and the mounting process in which the defect specified in step 1709 has occurred are detected, the analysis processing means 222 stores the check items in the case where the defect occurs in the execution process in the check item database. It is read from 211 (step 2603). That is, the analysis processing means 222 causes the check item database 2 corresponding to the mounting line detected in step 2601.
Of the 11 rows, all the rows holding the information indicating the process detected in step 2602 in the cause storage area 152 are detected.
【0150】つぎに、解析処理手段222は、ステップ
2603において検出した行のうち、チェック項目格納
領域151にステップ1709で入力されたチェック項
目(不良原因推定に利用できた項目)を保持し、原因格
納領域152に、ステップ1709で入力された推定原
因を保持する行があるか否か判定する(ステップ260
4)。Next, the analysis processing unit 222 holds the check items (items that can be used for defect cause estimation) input in Step 1709 in the check item storage area 151 among the lines detected in Step 2603 and It is determined whether or not there is a line in the storage area 152 that holds the presumed cause input in step 1709 (step 260).
4).
【0151】ここで、そのような行があった場合、解析
処理手段222は、該行の相関値格納領域153のう
ち、ステップ1709で受け付けた不良発見工程を示す
情報を保持する不良発見工程別相関値格納領域(153
1または1532)の保持する値を、1増加させて処理
をステップ2610に進める(ステップ2605)。Here, if there is such a line, the analysis processing unit 222 holds information indicating the defect finding process accepted in step 1709 in the correlation value storage area 153 of the line, for each defect finding process. Correlation value storage area (153
The value held in 1 or 1532) is incremented by 1 and the process proceeds to step 2610 (step 2605).
【0152】ステップ2604において行が検出されな
かった場合、解析処理手段222は、ステップ1709
で指定されたチェック項目および推定原因の組合せが、
チェック項目データベース211にすでに登録されてい
るチェック項目レコードのチェック項目および推定原因
の組み合わせと矛盾するか否か判定する(ステップ26
06)。If no line is detected in step 2604, the analysis processing means 222 executes step 1709.
The combination of check items and probable causes specified in
It is determined whether or not there is a contradiction with the combination of the check item and the probable cause of the check item record already registered in the check item database 211 (step 26).
06).
【0153】矛盾を検出すると、解析処理手段222
は、この矛盾するチェック項目および推定原因を、あら
たにチェック項目レコードとしてチェック項目データベ
ース211に登録するかどうかの入力を受け付け(ステ
ップ2607)、登録が要求されれば(ステップ260
8)、ステップ2601で検出した実装ラインと、ステ
ップ1709で指定されたチェック項目および推定原因
と、ステップ2602で検出した実装工程とから、チェ
ック項目レコードを作成して、チェック項目データベー
ス211に格納して(ステップ2609)、処理をステ
ップ2610に進める。なお、ここで、ステップ170
9において指定された不良発見工程の相関値の初期値は
「1」とし、指定されていない工程の相関値の初期値は
「0」とする。また、登録を要求されなければ(ステッ
プ2608)、解析処理手段222は、直接処理をステ
ップ2610に進める。When the contradiction is detected, the analysis processing means 222
Receives an input as to whether or not to newly register the conflicting check item and the probable cause as a check item record in the check item database 211 (step 2607), and if registration is requested (step 260).
8), create a check item record from the mounting line detected in step 2601, the check item and the probable cause specified in step 1709, and the mounting process detected in step 2602, and store it in the check item database 211. (Step 2609), the process proceeds to step 2610. Note that here, in step 170
The initial value of the correlation value of the defect finding process designated in 9 is set to "1", and the initial value of the correlation value of the process not designated is set to "0". If the registration is not requested (step 2608), the analysis processing unit 222 advances the direct processing to step 2610.
【0154】入力されたチェック項目および推定原因
が、既登録のチェック項目レコードと矛盾しない場合
(ステップ2606)、解析処理手段222は直接処理
をステップ2609に進め、入力された情報をチェック
項目データベース211に登録して、処理をステップ2
610に進める。When the input check item and the probable cause do not conflict with the already registered check item record (step 2606), the analysis processing means 222 advances the direct processing to step 2609, and inputs the input information into the check item database 211. Register in step 2
Proceed to 610.
【0155】ステップ2610において、解析処理手段
222は、ステップ1709において入力されたすべて
のチェック項目について処理を行ったかどうか判断し、
未処理のチェック項目が残っていれば、処理をステップ
2604に戻し、すべてのチェック項目について処理済
であれば、処理を終了する。In step 2610, the analysis processing means 222 determines whether or not all the check items input in step 1709 have been processed,
If unprocessed check items remain, the process returns to step 2604, and if all check items have been processed, the process ends.
【0156】なお、ステップ2606における矛盾の判
定は次のようにして行われる。すなわち、解析処理手段
222は、ステップ1709に入力されたチェック項目
が傾向コードでなければ、矛盾はないと判断する。入力
されたチェック項目が傾向コードであれば、解析処理手
段222は、ステップ2603において検出した行のう
ち、原因格納領域152に、ステップ1709で入力さ
れた推定原因を保持し、チェック項目格納領域151の
いずれかに、ステップ1709で入力されたチェック項
目(不良原因推定に利用できた項目)と絶対値が同じで
符号が逆である値を傾向コードとして保持する行がある
か否か判定して、あれば矛盾すると判定し、なければ矛
盾なしと判定する。The contradiction determination in step 2606 is performed as follows. That is, the analysis processing unit 222 determines that there is no contradiction if the check item input in step 1709 is not the tendency code. If the input check item is a tendency code, the analysis processing unit 222 holds the estimated cause input in step 1709 in the cause storage area 152 of the lines detected in step 2603, and the check item storage area 151. In any of the above, it is determined whether or not there is a line that holds a value having the same absolute value and the opposite sign as the check item (item that could be used for defect cause estimation) input in step 1709 as the tendency code. , It is determined that there is a contradiction, and if not, it is determined that there is no contradiction.
【0157】(実施例4)つぎに、実装システムの実施
例として、プリント板実装システムの実施例について説
明する。本実施例のプリント板実装システムを模式的に
図29に示す。(Embodiment 4) Next, an embodiment of a printed board mounting system will be described as an embodiment of a mounting system. The printed board mounting system of the present embodiment is schematically shown in FIG.
【0158】A.プリント板実装ライン2910 本実施例のプリント板実装ライン2910は、対策作業
の指示の入力を受け付けて、その指示内容に応じて対策
を行う手段を備える。なお、この手段により実行される
対策には、リフロー温度の変更や、メタルマスクの洗
浄、コンベア速度の変更などがある。なお、本実施例の
ように、直接ラインの速度等を信号により変更するので
はなく、プリント板実装ライン2910に表示装置(図
示せず)を備え、指示された対策内容をその表示画面に
表示することで、ライン2910の操作員に示すように
してもよい。A. Printed Circuit Board Mounting Line 2910 The printed circuit board mounting line 2910 of this embodiment includes means for receiving an input of an instruction for a countermeasure work and taking a countermeasure according to the content of the instruction. Note that measures taken by this means include changing the reflow temperature, cleaning the metal mask, and changing the conveyor speed. It should be noted that, instead of directly changing the line speed or the like by a signal as in the present embodiment, a display device (not shown) is provided in the printed board mounting line 2910 and the instructed countermeasure contents are displayed on the display screen. By doing so, it may be displayed to the operator of the line 2910.
【0159】さらに、本実施例のプリント板実装ライン
2910は、実行された対策内容、製造実績を実装不良
対策/修正指示システム2900に通知する手段を備え
る。具体的には、プリント板実装ライン2910は、入
力装置(図示せず)を備え、作業員による対策内容等の
入力を受け付けて、これを出力する手段を備える。Further, the printed board mounting line 2910 of this embodiment is provided with means for notifying the mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900 of the details of the countermeasures taken and the production record. Specifically, the printed board mounting line 2910 is provided with an input device (not shown), and is provided with means for receiving an input of countermeasure contents by an operator and outputting the input.
【0160】また、本実施例のプリント板実装ライン2
910のはんだ修正手段305および修正手段310
は、それぞれ、修正の指示の入力を受け付けて、指示内
容に応じて基板の修正作業を実行する手段を備える。具
体的には、これらの修正手段305,310では手作業
による修正が行われるので、これらの修正手段305,
310は表示装置(図示せず)をそれぞれ備え、入力さ
れた指示内容が、修正位置を示す部品実装画面などの形
で、それらの工程の作業員に対する指示として、該表示
装置に表示される。Further, the printed board mounting line 2 of this embodiment
910 solder correction means 305 and correction means 310
Each includes a unit that receives an input of a correction instruction and executes a board correction operation according to the instruction content. Specifically, since the correction means 305 and 310 perform manual correction, the correction means 305 and 310
Reference numerals 310 each include a display device (not shown), and the input instruction content is displayed on the display device as an instruction to a worker of those steps in the form of a component mounting screen indicating a correction position.
【0161】さらに、本実施例のプリント板実装ライン
2910の不良検出手段である、外観検査装置304お
よび目視検査手段309は、不良の発生を検出すると、
その内容を実装不良対策/修正指示システム2900に
通知する手段をそれぞれ有する。具体的には、例えば、
各不良検出手段が表示装置(図示せず)および入力装置
(図示せず)を備え、各不良検出手段304,309
は、その表示画面に部品実装図を表示し不良検出位置な
どの情報の入力を受け付け、入力された情報を実装不良
対策/修正指示システム2900に通知する。入力方法
としては、タッチパネル等の感圧手段や光学的手段、磁
気的手段などを介して入力する方法を用いることができ
る。なお、各不良検出手段が表示装置(図示せず)およ
び入力装置(図示せず)には、他の工程における対策作
業指示入力受け付け用、修正指示入力受け付け用、対策
内容等の入力用などの表示装置および/または入力装置
を共用してもよい。Further, when the appearance inspection device 304 and the visual inspection means 309, which are the defect detecting means of the printed board mounting line 2910 of this embodiment, detect the occurrence of the defect,
Each unit has means for notifying the mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900 of the contents. Specifically, for example,
Each defect detecting means includes a display device (not shown) and an input device (not shown), and each defect detecting means 304, 309.
Displays a component mounting diagram on the display screen, accepts input of information such as a defect detection position, and notifies the input information to the mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900. As an input method, a method of inputting via a pressure sensitive means such as a touch panel, an optical means, a magnetic means or the like can be used. It should be noted that each of the defect detecting means has a display device (not shown) and an input device (not shown) for accepting a countermeasure work instruction input in another process, for accepting a correction instruction input, for inputting a countermeasure content, etc. The display device and / or the input device may be shared.
【0162】B.実装不良対策/修正指示システム29
00 実装不良対策/修正指示システム2900は、各検査手
段304,309の検査結果から、不良実績を収集する
不良実績収集手段2901、該不良実績に基づき不良基
板の修正作業指示を行う修正作業指示手段2902、該
不良実績に基づき不良の発生原因解析をサポートする不
良解析支援手段2903、解析支援機能を用いて発見し
た不良原因に対する対策作業指示を行なう対策作業指示
手段2904と、プリント板実装ライン2910から通
知された実績情報から、製造実績および対策実績を収集
する製造実績収集手段2905と、基板の組立情報を保
持する組立情報データベース(図29には図示せず)と
を備える。B. Mounting defect countermeasure / correction instruction system 29
The mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900 includes a defect record collection unit 2901 that collects defect records from the inspection results of the inspection units 304 and 309, and a correction work instruction unit that issues a correction work instruction to a defective substrate based on the defect record. 2902, defect analysis support means 2903 for supporting failure cause analysis based on the defect record, countermeasure work instruction means 2904 for instructing countermeasure work for the defect cause found using the analysis support function, and printed board mounting line 2910 A manufacturing record collecting unit 2905 that collects the manufacturing record and the countermeasure record from the notified record information and an assembly information database (not shown in FIG. 29) that holds the board assembly information are provided.
【0163】(1)不良実績収集手段2901 不良実績収集手段2901は、各検査手段304,30
9からの検査結果の情報(不良現象、不良基板の組図番
号およびシーケンス番号、不良箇所、発見日、および発
見時刻)の通知を受け付け、フォーマット変換して不良
実績レコードを作成し、不良実績記憶手段206に格納
するとともに、不良の発生を修正作業指示手段2902
へ通知する。なお、不良実績レコードのデータ構造は、
実施例1で説明したものと同様である。本実施例の不良
実績記憶手段206は、図40に示すように、実施例1
の場合と同様のデータ構造を備え、さらに、各行に修正
実績を保持するための修正実績格納領域909を備えて
いる。(1) Defect record collecting means 2901 The defect record collecting means 2901 includes the inspection means 304, 30.
Accepts notification of inspection result information (defect phenomenon, assembly number and sequence number of defective board, defect location, discovery date, and discovery time) from 9, format conversion to create defect record, and defect record storage In addition to being stored in the means 206, a defect occurrence correction instruction means 2902
Notify to The data structure of the defect record is
This is similar to that described in the first embodiment. As shown in FIG. 40, the defect record storage unit 206 of the present embodiment is the first embodiment.
The data structure is the same as that in the above case, and further, the correction record storage area 909 for holding the correction record is provided in each row.
【0164】なお、本実施例の不良実績収集手段290
1は、検査手段ごとに、その通知のフォーマットと、不
良実績レコードへの変換方法とを示す情報を、主記憶装
置3007に記憶しており、通知に用いられるフォーマ
ットおよび符号が異なっていても、正しく不良実績レコ
ードを作成することができる。例えば、本実施例では、
ブリッジという不良現象を、外観検査装置304は
「B」という符号で表し、目視検査手段309は「B
U」という符号で表すが、不良実績収集手段2901
は、いずれも「ブリッジ」を意味する不良実績記憶手段
206用の符号に変換する。The defect record collecting means 290 of the present embodiment.
No. 1 stores information indicating the format of the notification and the method of converting into the defective record for each inspection means in the main storage device 3007, and even if the format and the code used for the notification are different, It is possible to correctly create a defect record. For example, in this embodiment,
The visual inspection device 304 represents a defect phenomenon called a bridge by a symbol "B", and the visual inspection means 309 indicates "B".
Although represented by the symbol “U”, the defect record collecting means 2901
Is converted into a code for the defect record storage means 206, which means “bridge”.
【0165】また、本実施例の不良実績収集手段290
1は、不良箇所については、座標に変換する。この座標
は、不良傾向を算出する際に用いられる組立情報の実装
位置の座標と同一座標軸によるものである。Further, the defect record collecting means 290 of this embodiment.
1 converts the defective portion into coordinates. These coordinates are based on the same coordinate axis as the coordinates of the mounting position of the assembly information used when calculating the defect tendency.
【0166】不良実績収集手段2901の処理の流れ
を、図37に示す。不良実績収集手段2901は、不良
検出通知があると起動され、該通知を受け付けて(ステ
ップ3701)、通知元の検査手段に応じてあらかじめ
主記憶装置3007に記憶されている通知された情報の
フォーマットおよび変換方法を読み込む(ステップ37
02)。つぎに、不良実績収集手段2901は、読み込
んだ変換方法を用いて、不良実績レコードを作成し(ス
テップ3703)、これを不良実績記憶手段206に格
納する(ステップ3704)。最後に、不良実績収集手
段2901は、不良実績レコードのレコード番号(不良
実績記憶手段206における行番号)を修正作業指示手
段2902に通知する(ステップ3705)。FIG. 37 shows a flow of processing of the defect record collecting means 2901. The defect record collection unit 2901 is activated when a defect detection notification is received, receives the notification (step 3701), and formats of the notified information stored in the main storage device 3007 in advance according to the inspection unit of the notification source. And the conversion method (step 37)
02). Next, the defect record collecting means 2901 creates a defect record by using the read conversion method (step 3703) and stores it in the defect record storage means 206 (step 3704). Finally, the defect record collecting means 2901 notifies the correction work instructing means 2902 of the record number of the defect record (the line number in the defect record storing means 206) (step 3705).
【0167】(2)製造実績収集手段2905 製造実績収集手段2905は、プリント板実装ライン2
910から通知された実績情報から、製造実績レコード
および対策実績レコードを作成し、製造実績記憶手段2
07および対策実績記憶手段213に格納する。なお、
製造実績レコード、対策実績レコード、製造実績記憶手
段207、および対策実績記憶手段213のデータ構造
は、実施例1で説明したものと同様である。(2) Manufacturing record collecting means 2905 The manufacturing record collecting means 2905 is used for the printed board mounting line 2
Manufacturing record and countermeasure record are created from the record information notified from 910, and the manufacturing record storage unit 2
07 and countermeasure result storage means 213. In addition,
The data structures of the manufacturing record, the countermeasure record, the manufacturing record storage unit 207, and the countermeasure record storage unit 213 are the same as those described in the first embodiment.
【0168】製造実績収集手段2905は、プリント板
実装ライン2910から製造実績情報(どの基板が、い
つ、どの工程で処理されたかを示す、基板の組図番号お
よびシリアル番号と、工程の識別符号と、工程投入時刻
および処理終了時刻とからなる進度実績の情報)が通知
されると、この情報をもとに製造実績レコードを作成
し、製造実績記憶手段207に格納する。The manufacturing record collecting means 2905 receives the manufacturing record information from the printed board mounting line 2910 (a board assembly number and a serial number indicating which board was processed in which process at which time, and an identification code of the process). , The progress record information including the process input time and the process end time) is notified, a manufacturing result record is created based on this information and stored in the manufacturing result storage unit 207.
【0169】また、製造実績収集手段2905は、プリ
ント板実装ライン2910から対策実績情報(いつ、ど
のような不良に対してどのような対策が実行されたかを
示す、一以上の対策対象の不良を示す情報と、対策実施
日時と、一以上の対策内容を示す情報とからなる対策実
績の情報)が通知されると、この情報をもとに対策実績
レコードを作成し、対策実績記憶手段213に格納す
る。Further, the manufacturing record collecting means 2905 receives the measure record information from the printed circuit board mounting line 2910 (one or more defect targets which indicate what kind of measure was executed for what defect when and what defect). Information, the date and time of implementation of the countermeasure, and information on the actual result of the countermeasure, which is composed of information indicating one or more countermeasures), a countermeasure record record is created based on this information and stored in the countermeasure record storage means 213. Store.
【0170】ここで、対策対象の不良を示す情報は、基
板の組図番号およびシリアル番号と、不良発見部品名
と、不良現象を示す符号と、不良発見工程を示す符号
と、不良発見日時投入時刻とを含む。そこで、製造実績
収集手段2905は、不良実績記憶手段206から、こ
れらの情報を保持する行(レコード)を検索し、その行
の行番号を、対策実績レコードの不良実績番号とする。Here, the information indicating the failure as the countermeasure target is the assembly drawing number and the serial number of the board, the defective finding part name, the code indicating the defective phenomenon, the code indicating the defective finding process, and the defective finding date / time input. Including time and. Therefore, the manufacturing record collecting unit 2905 searches the defect record storage unit 206 for a line (record) holding these pieces of information, and sets the line number of the line as the defect record number of the countermeasure record.
【0171】(3)修正作業指示手段2902 修正作業指示手段2902は、不良実績収集手段290
1より不良実績レコードのレコード番号が通知される
と、該レコードに含まれる組図番号およびシリアル番号
の基板の修正指示として、不良発見工程以降に最初に存
在する修正の手段に、該レコードの内容(組図番号、シ
リアル番号、不良部品名、実装位置、不良発見工程、不
良発見日時、および不良現象)を、プリント板実装ライ
ン2910に通知する。(3) Correcting work instructing means 2902 The correcting work instructing means 2902 is the defect record collecting means 290.
When the record number of the defect record is notified from 1, the content of the record is sent to the first correction means after the defect finding step as a correction instruction of the board of the assembly number and the serial number included in the record. (Assembly number, serial number, defective part name, mounting position, defective finding process, defective finding date, and defective phenomenon) is notified to the printed board mounting line 2910.
【0172】なお、通知方法として、表示装置を用いた
場合の処理例を図38に示す。この場合、まず、修正作
業指示手段2902は、修正手段305,310に備え
られている入力装置を介して、修正対象の基板の種類を
示す組図番号と、基板一枚一枚を識別するためのシリア
ル番号の入力を受け付け(ステップ3801)、該組図
番号およびシリアル番号により指定された基板の不良実
績および組立情報を、不良実績記憶手段206および組
立情報データベース380から読み込み、これらの情報
を用いて画面表示用データを編集することにより、修正
作業指示データを作成する(ステップ3802)。な
お、ここで、主記憶装置3007に修正作業指示データ
格納用の記憶領域を確保し、この領域に作成した修正作
業指示データを保持するようにしてもよい。Note that FIG. 38 shows a processing example when a display device is used as the notification method. In this case, first, the correction work instructing means 2902 identifies each of the boards and the assembly drawing number indicating the type of the board to be corrected through the input device provided in the correcting means 305, 310. Is accepted (step 3801), the defect record and the assembly information of the board designated by the assembly drawing number and the serial number are read from the defect record storage unit 206 and the assembly information database 380, and the information is used. The correction work instruction data is created by editing the screen display data (step 3802). Here, a storage area for storing the correction work instruction data may be secured in the main storage device 3007, and the correction work instruction data created in this area may be held.
【0173】また、修正作業指示データ格納用データベ
ースを設け、不良実績収集手段2901が、不良実績の
収集処理においてステップ3802と同様の処理を行っ
て修正作業指示データを作成し、修正作業指示データ格
納用データベースに格納するようにし、修正作業指示手
段2902は、ステップ3802において、修正作業指
示データを作成せず、この修正作業指示データ格納用デ
ータベースから読み込むようにしてもよい。Further, a database for storing the correction work instruction data is provided, and the defect result collecting means 2901 performs the same processing as step 3802 in the process of collecting the defect results to create the correction work instruction data and stores the correction work instruction data. The correction work instruction means 2902 may read the correction work instruction data from the correction work instruction data storage database in step 3802 without creating the correction work instruction data.
【0174】ステップ3802において作成される修正
作業指示データの格納領域のデータ構造例を図41に示
す。修正作業指示データ格納領域410は、基板ごと、
修正工程ごとに備えられ、それぞれ、識別用領域420
と、不良情報用領域421と、実装部品情報用領域42
2とを備える。FIG. 41 shows an example of the data structure of the storage area for the correction work instruction data created in step 3802. The correction work instruction data storage area 410 is
An identification area 420 is provided for each correction process.
A defect information area 421 and a mounted component information area 42
2 and.
【0175】識別用領域420は、この領域410に保
持された情報が、どの基板についての情報であるかを示
すための、組図番号とシリアル番号とを保持するため
の、組図番号格納領域411およびシリアル番号格納領
域412と、どの修正工程において修正するかを示す修
正工程情報を保持するための修正工程情報格納領域41
3とからなる。The identification area 420 is an assembly number storage area for holding an assembly number and a serial number for indicating which board the information stored in this area 410 is. 411 and a serial number storage area 412, and a correction step information storage area 41 for holding correction step information indicating in which correction step correction is performed.
3 and 3.
【0176】不良情報用領域421は、不良部品ごと
に、不良の検出された部品の名称を保持するための不良
部品名格納領域414と、該部品の実装位置を保持する
ための不良部品実装位置格納領域415と、検出された
不良位置を保持するための不良位置格納領域416と、
検出された不良現象を保持するための不良現象格納領域
417とを備える。The defect information area 421 includes, for each defective part, a defective part name storage area 414 for holding the name of the detected defective part and a defective part mounting position for holding the mounting position of the part. A storage area 415, a defective position storage area 416 for holding the detected defective position,
A defective phenomenon storage area 417 for holding the detected defective phenomenon.
【0177】また、実装部品情報用領域422は、組図
番号格納領域411およびシリアル番号格納領域412
に保持された情報により示される基板に、修正工程格納
領域413に保持された情報の示す工程までに実装され
ている部品の名称とその実装位置とを保持するための、
実装部品名格納領域418および実装位置格納領域41
9を、実装部品ごとに備える。Further, the mounting component information area 422 is the assembly drawing number storage area 411 and the serial number storage area 412.
To hold the names of the components mounted up to the step indicated by the information held in the correction step storage area 413 and their mounting positions on the board indicated by the information held in
Mounted component name storage area 418 and mounting position storage area 41
9 is provided for each mounted component.
【0178】上述した修正作業指示データ格納領域に保
持される修正作業指示データの作成手順(ステップ38
02)を、図42を用いてさらに詳細に説明する。ステ
ップ3802において、まず、修正作業指示手段290
2は、ステップ3801で受け付けた組図番号、シリア
ル番号をもとに、不良実績記憶手段206を検索し、該
組図番号およびシリアル番号の不良実績を検出して、検
査工程別にまとめる’(ステップ4201)。つぎに、
修正作業指示手段2902は、検出工程ごとに、該検出
工程以降であって最初に行われる修正工程を組立情報デ
ータベース380から検出し、その修正工程を、該不良
の修正工程とし、結果を修正工程ごとにまとめる(ステ
ップ4202)。さらに、修正作業指示手段2902
は、ステップ4202で検出した修正工程ごとに、組図
情報データベース380から、当該修正工程までに、当
該基板に実装されている部品の名称および実装位置を抽
出する(ステップ4203)。最後に、修正作業指示手
段2902は、ステップ4202において検出した修正
工程ごとに、修正作業指示データ格納領域410を主記
憶装置3007に確保し、ステップ3801において入
力を受け付けた組図番号およびシリアル番号を、組図番
号格納領域411およびシリアル番号格納領域412に
格納し、当該修正工程を示す情報を、修正工程格納領域
413に格納し、ステップ4202において修正工程ご
とにまとめられた不良実績情報を、不良情報用領域42
1の各格納領域414〜417に格納し、ステップ42
03において抽出された実装部品の情報を、実装部品情
報用領域422の各格納領域418〜419に格納する
(ステップ4204)。The procedure for creating the correction work instruction data stored in the above-mentioned correction work instruction data storage area (step 38)
02) will be described in more detail with reference to FIG. In step 3802, first, the correction work instruction means 290.
In step 2, the defect result storage means 206 is searched based on the assembly drawing number and the serial number received in step 3801, and the defect actuals of the assembly drawing number and the serial number are detected and summarized by inspection process' (step 4201). Next,
The repair work instruction means 2902 detects, for each detection process, the repair process first performed after the detection process from the assembly information database 380, sets the repair process as the defect repair process, and determines the result as the repair process. (Step 4202). Further, the correction work instruction means 2902
For each correction process detected in step 4202, extracts the name and mounting position of the component mounted on the board from the assembly drawing information database 380 until the correction process (step 4203). Finally, the correction work instruction means 2902 secures the correction work instruction data storage area 410 in the main storage device 3007 for each correction process detected in step 4202, and stores the assembly drawing number and serial number accepted in step 3801. Stored in the assembly drawing number storage area 411 and the serial number storage area 412, the information indicating the repair process is stored in the repair process storage area 413, and the defect record information collected for each repair process in step 4202 is Information area 42
1 in each of the storage areas 414 to 417, and step 42
The information of the mounted component extracted in 03 is stored in each of the storage areas 418 to 419 of the mounted component information area 422 (step 4204).
【0179】このようにして修正作業指示データを作成
すると、つぎに、修正作業指示手段2902は、作成し
た修正作業指示データを、上記修正手段305,310
に通知し、表示装置に出力させる。この際出力される修
正作業指示画面3900は、図39に示すように、基板
3901と、その基板上に搭載された部品3902と、
不良発生位置を示す円3903とを備える。この表示に
より、作業者による修正作業が行われる(ステップ38
04)。なお、修正作業の進行状況に合わせて、修正箇
所単位に修正部品とその不良位置3903の円の表示色
を変え、修正手順等をこの表示色により指示するように
してもよい。When the correction work instruction data is created in this way, the correction work instruction means 2902 then uses the created correction work instruction data to the correction means 305, 310.
And notify the display device. The correction work instruction screen 3900 output at this time is, as shown in FIG. 39, a board 3901, a component 3902 mounted on the board,
And a circle 3903 indicating a defect occurrence position. With this display, the correction work is performed by the operator (step 38).
04). It is also possible to change the display color of the circle of the repaired part and its defective position 3903 for each repaired location in accordance with the progress of the repairing work, and instruct the repairing procedure or the like by this display color.
【0180】最後に修正作業指示手段2902は、修正
作業の実績結果の入力を受け付け、該修正作業実績のデ
ータを、不良実績記憶手段206の修正実績格納領域9
09に格納する(ステップ3805)。なお、修正作業
の実績結果には、修正済み、虚報(不良ではないのに不
良と判断した検査ミス)、未修正等がある。そこで、修
正実績格納領域909には、これらを示すデータが保持
されることになる。この修正実績格納領域909に保持
されたデータは、例えば、解析処理手段222により解
析処理において、不良実績のうち、該領域909に虚報
を示すデータが保持された行は、解析対象から除くとい
った処理や、不良位置表示画面190において虚報位置
を表示するといった処理に用いられる。Finally, the correction work instructing means 2902 receives the input of the result result of the correction work, and stores the data of the correction work result in the correction result storing area 9 of the defect result storing means 206.
09 (step 3805). The results of the correction work include corrected, false reports (inspection errors that are not defective but judged to be defective), and uncorrected. Therefore, the correction result storage area 909 holds data indicating these. For example, in the analysis processing by the analysis processing unit 222, the data held in the correction result storage area 909 excludes, from the analysis target, the rows in which the data indicating the false information is held in the area 909 in the defect result. Alternatively, it is used for processing such as displaying the false alarm position on the defective position display screen 190.
【0181】(4)不良解析支援手段2903 不良解析支援手段2903は、実施例2の不良解析シス
テム1600と同様の構成を有する。本実施例の不良解
析支援手段2903は、実施例2と同様に、解析知識更
新支援手段1602により、不良実績記憶手段206、
製造実績記憶手段207および対策実績記憶手段213
に蓄積された実績データを解析し、解析知識をチェック
項目データベース211に蓄積する。(4) Defect Analysis Support Means 2903 The defect analysis support means 2903 has the same structure as the failure analysis system 1600 of the second embodiment. The failure analysis support means 2903 of this embodiment uses the analysis knowledge update support means 1602, similarly to the second embodiment, to record the failure record storage means 206,
Manufacturing record storage means 207 and countermeasure record storage means 213
The actual data stored in the check item database 211 is analyzed, and the analysis knowledge is stored in the check item database 211.
【0182】また、実施例2と同様に、不良解析支援手
段2903は、解析処理手段214により、チェック項
目データベース211に蓄積された解析知識をもとに、
発生した不良に対する対策の候補を提示し、その選択を
受け付ける。なお、本実施例の不良解析支援手段290
3は、ステップ1717において、選択された対策内容
を表示するかわりに、対策作業指示手段2904に通知
する。Further, similarly to the second embodiment, the failure analysis support means 2903 uses the analysis knowledge accumulated by the analysis processing means 214 in the check item database 211.
It presents candidates for countermeasures against the defects that have occurred and accepts the selection. In addition, the failure analysis support means 290 of the present embodiment.
In step 1717, the notification 3 notifies the countermeasure work instruction means 2904 instead of displaying the selected countermeasure content.
【0183】(5)対策作業指示手段2904 不良解析支援手段2903から通知を受けた対策内容指
示手段2904は、通知された対策内容を、プリント板
実装ライン2910の対策内容に対応してあらかじめ定
められた工程に通知する。(5) Countermeasure work instruction means 2904 The measure content instruction means 2904, which has been notified from the failure analysis support means 2903, sets the notified measure content in advance in correspondence with the measure content of the printed board mounting line 2910. Notify the process.
【0184】C.本実施例の効果 本実施例の実装不良対策/修正指示システム2900に
よれば、不良が発見されると、自動的に不良発生原因が
追求され、対策が施される。すなわち、本実施例の実装
不良対策/修正指示システム2900は、外観検査装置
304および目視検査手段309における検査結果か
ら、不良発生基板、不良発生部品、不良位置、不良内容
等を登録した不良実績レコードを生成し、蓄積する。ま
た、本実施例の実装不良対策/修正指示システム290
0は、生成した不良実績レコードにより不良実績記憶手
段206に登録された不良の発生原因を解析し、原因に
対応する対策を該当する工程に施し、さらに、その後の
不良率の推移を管理、分析することにより、解析/対策
方法の有効性の把握の支援をする。従って、本実施例に
よれば、対策の実施記録を蓄積し、不良の再発防止に役
立てることができる。C. Effects of this Embodiment According to the mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900 of this embodiment, when a defect is found, the cause of the defect occurrence is automatically pursued and a countermeasure is taken. That is, the mounting defect countermeasure / correction instruction system 2900 of the present embodiment registers a defect occurrence board, a defect occurrence component, a defect position, a defect content, etc. from the inspection results of the appearance inspection device 304 and the visual inspection means 309. Generate and accumulate. Further, the mounting defect countermeasure / correction instruction system 290 of the present embodiment
0 analyzes the cause of the defect registered in the defect record storage unit 206 based on the generated defect record, applies a countermeasure corresponding to the cause to the corresponding process, and further manages and analyzes the transition of the defect rate thereafter. By doing so, it helps to grasp the effectiveness of the analysis / countermeasure method. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to accumulate a record of implementation of countermeasures and use it for prevention of recurrence of defects.
【0185】[0185]
【発明の効果】本発明は、大量の不良実績データを処理
し、不良率を求め、この不良率の変動と実行された対策
内容とを関連付けて管理し、実行された対策の効果の有
無を判断する。これにより、本発明の使用者は、対策の
有効性を容易に認識することができる。従って、本発明
によれば、採るべき不良対策の選択が容易になる。The present invention processes a large amount of defect record data, obtains a defect rate, manages the variation of this defect rate and the details of the countermeasures taken in association with each other, and determines whether or not the effect of the countermeasures taken is effective. to decide. As a result, the user of the present invention can easily recognize the effectiveness of the countermeasure. Therefore, according to the present invention, it becomes easy to select a defect countermeasure to be taken.
【図1】 対策分析手段の処理の概略を示す流れ図であ
る。FIG. 1 is a flowchart showing an outline of processing of a countermeasure analysis means.
【図2】 実施例1の製造不良解析装置の機能構成を示
す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a functional configuration of a manufacturing defect analysis apparatus according to the first embodiment.
【図3】 解析対象であるプリント板実装ラインの概略
を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing an outline of a printed board mounting line which is an analysis target.
【図4】 解析対象であるプリント板実装ラインにおけ
る、不良現象とその原因との例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a defect phenomenon and its cause in a printed board mounting line which is an analysis target.
【図5】 不良率管理データ記憶手段のデータ構造例を
示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a data structure example of a defect rate management data storage unit.
【図6】 不良発生傾向テーブルのデータ構造例を示す
模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing a data structure example of a defect occurrence tendency table.
【図7】 不良率管理データ作成処理の概略を示す流れ
図である。FIG. 7 is a flowchart showing an outline of defect rate management data creation processing.
【図8】 基板製造実績記憶手段のデータ構造例を示す
模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of a data structure of a board manufacturing record storage means.
【図9】 不良実績記憶手段のデータ構造例を示す模式
図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a data structure example of a defect record storage means.
【図10】 検査ポイント情報記憶手段のデータ構造例
を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing a data structure example of inspection point information storage means.
【図11】 対策実績記憶手段のデータ構造例を示す模
式図である。FIG. 11 is a schematic diagram showing an example of the data structure of a countermeasure record storage means.
【図12】 対策効果の算出用データの具体例を示す説
明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing a specific example of data for calculating a countermeasure effect.
【図13】 傾向チェック項目の具体例を示す説明図で
ある。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a specific example of a tendency check item.
【図14】 実施例1における対策内容および不良傾向
の表示画面例を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of countermeasure contents and defect tendency in the first embodiment.
【図15】 チェック項目データベースのデータ構造例
を示す模式図である。FIG. 15 is a schematic diagram showing a data structure example of a check item database.
【図16】 実施例2の不良解析システムにおける情報
の流れの概略を示す模式図である。FIG. 16 is a schematic diagram illustrating an outline of information flow in the failure analysis system according to the second embodiment.
【図17】 実施例2の解析処理手段の処理の流れの概
略を示す流れ図である。FIG. 17 is a flowchart showing an outline of the processing flow of the analysis processing means of the second embodiment.
【図18】 実施例3の不良解析システムにおける情報
の流れの概略を示す模式図である。FIG. 18 is a schematic diagram illustrating an outline of information flow in the failure analysis system according to the third embodiment.
【図19】 不良位置表示画面の例を示す説明図であ
る。FIG. 19 is an explanatory diagram showing an example of a defective position display screen.
【図20】 不良発生件数の基板別パレート図の表示画
面の例を示す説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of a board-based Pareto chart showing the number of defects.
【図21】 不良発生件数推移図の表示画面の例を示す
説明図である。FIG. 21 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of a defect occurrence number transition diagram.
【図22】 基板来歴表示画面の例を示す説明図であ
る。FIG. 22 is an explanatory diagram showing an example of a board history display screen.
【図23】 作業実績表示画面の例を示す説明図であ
る。FIG. 23 is an explanatory diagram showing an example of a work record display screen.
【図24】 判断来歴データベースのデータ構造例を示
す模式図である。FIG. 24 is a schematic diagram showing an example of the data structure of a judgment history database.
【図25】 画面別参照内容データベースのデータ構造
例を示す模式図である。FIG. 25 is a schematic diagram showing an example of the data structure of a reference content database for each screen.
【図26】 チェック項目データベース更新処理の流れ
の概略を示す流れ図である。FIG. 26 is a flowchart showing an outline of the flow of check item database update processing.
【図27】 良品製造条件編集手段の処理の流れの概略
を示す流れ図である。FIG. 27 is a flowchart showing an outline of the processing flow of the non-defective product manufacturing condition editing means.
【図28】 製造条件別良品/不良品数一覧データのデ
ータ構造例を示す模式図である。FIG. 28 is a schematic diagram showing a data structure example of non-defective product / defective product number list data by manufacturing condition.
【図29】 実施例4の実装不良対策/修正指示システ
ムにおける情報の流れの概略を示す模式図である。FIG. 29 is a schematic diagram showing an outline of the flow of information in the mounting defect countermeasure / correction instruction system of the fourth embodiment.
【図30】 実施例1の不良解析システムのハードウエ
ア構成例を示す説明図である。FIG. 30 is an explanatory diagram illustrating a hardware configuration example of the failure analysis system according to the first embodiment.
【図31】 実施例2の不良解析システムの機能構成例
を示す機能ブロック図である。FIG. 31 is a functional block diagram illustrating a functional configuration example of the failure analysis system according to the second embodiment.
【図32】 実施例2における対策内容および不良傾向
の表示画面例を示す説明図である。FIG. 32 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of countermeasure contents and defect tendency in the second embodiment.
【図33】 実施例3の解析処理手段の処理の流れの概
略を示す流れ図である。FIG. 33 is a flowchart showing an outline of the processing flow of the analysis processing means of the third embodiment.
【図34】 得点テーブルのデータ構造例を示す模式図
である。FIG. 34 is a schematic diagram showing an example of the data structure of a score table.
【図35】 実施例3の不良解析システムの機能構成例
を示す機能ブロック図である。FIG. 35 is a functional block diagram illustrating a functional configuration example of the failure analysis system according to the third embodiment.
【図36】 良品製造条件データベースのデータ構造例
を示す模式図である。FIG. 36 is a schematic diagram showing a data structure example of a non-defective product manufacturing condition database.
【図37】 不良実績収集手段の処理の流れの概略を示
す流れ図である。FIG. 37 is a flowchart showing an outline of the processing flow of the defect record collecting means.
【図38】 修正作業指示手段の処理の流れの概略を示
す流れ図である。FIG. 38 is a flowchart showing an outline of the processing flow of the correction work instruction means.
【図39】 修正作業指示画面の例を示す説明図であ
る。FIG. 39 is an explanatory diagram showing an example of a correction work instruction screen.
【図40】 修正実績を負荷した不良実績記憶手段のデ
ータ構造例を示す模式図である。FIG. 40 is a schematic diagram showing an example of the data structure of a defect record storage means loaded with a correction record.
【図41】 修正作業指示データのデータ構造例示す模
式図である。FIG. 41 is a schematic diagram showing a data structure example of correction work instruction data.
【図42】 修正作業指示データ作成処理の流れを示す
流れ図である。FIG. 42 is a flow chart showing a flow of correction work instruction data creation processing.
201…不良率管理手段、202…対策分析手段、20
3…対策状況表示手段、204…対策内容/不良傾向表
示手段、205…チェック項目更新手段、206…不良
実績記憶手段、207…製造実績記憶手段、208…検
査ポイント情報記憶手段、209…不良率管理データ記
憶手段209、210…画面表示用データ記憶手段、2
11…チェック項目データベース、212…不良発生傾
向テーブル、213…対策実績記憶手段、215…解析
処理手段、216…基準データ記憶手段、217…良品
製造条件データベース、218…対策内容記憶手段、2
19…良品製造条件編集手段、220…判断来歴データ
ベース、221…画面別参照内容データベース、222
…解析処理手段、223…良品/不良品数一覧データ記
憶手段、280…製造条件別良品/不良品数一覧デー
タ、301〜312…実装工程、340…得点テーブ
ル、1600…不良解析システム、1601…プリント
板実装ライン、1602…解析知識更新支援手段、18
00…不良解析システム、2900…実装不良対策/修
正指示システム、2901…不良実績収集手段、290
2…修正作業指示手段、2903…不良解析支援手段、
2904…対策作業指示手段、2905…製造実績収集
手段、2910…プリント板実装ライン、3001…磁
気ディスク装置、3002…処理装置、3003…フロ
ッピーディスク入力装置、3004…入出力装置、30
05…プリンタ、3006…中央演算処理装置、300
7…主記憶装置。201 ... Defect rate management means, 202 ... Countermeasure analysis means, 20
3 ... Countermeasure status display means, 204 ... Countermeasure content / defective tendency display means, 205 ... Check item updating means, 206 ... Defect record storage means, 207 ... Manufacturing record storage means, 208 ... Inspection point information storage means, 209 ... Defect rate Management data storage means 209, 210 ... Screen display data storage means, 2
11 ... Check item database, 212 ... Defect occurrence tendency table, 213 ... Countermeasure record storage means, 215 ... Analysis processing means, 216 ... Standard data storage means, 217 ... Non-defective manufacturing condition database, 218 ... Countermeasure content storage means, 2
19 ... Non-defective manufacturing condition editing means, 220 ... Judgment history database, 221 ... Screen reference content database, 222
... analysis processing means, 223 ... non-defective / defective product number list data storage means, 280 ... non-defective / defective product number list data by manufacturing conditions, 301 to 312 ... mounting process, 340 ... score table, 1600 ... failure analysis system, 1601 ... printed board Mounting line, 1602 ... Analysis knowledge update support means, 18
00 ... Defect analysis system, 2900 ... Mounting defect countermeasure / correction instruction system, 2901 ... Defect result collection means, 290
2 ... correction work instruction means, 2903 ... defect analysis support means,
2904 ... Countermeasure work instruction means, 2905 ... Manufacturing record collecting means, 2910 ... Printed board mounting line, 3001 ... Magnetic disk device, 3002 ... Processing device, 3003 ... Floppy disk input device, 3004 ... Input / output device, 30
05 ... Printer, 3006 ... Central processing unit, 300
7 ... Main storage device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高田 雅人 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masato Takada 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefectural Manufacturing Company
Claims (17)
備え、製品の製造ラインにおいて発生する製品不良の解
析を行う製造不良解析支援システムであって、 上記情報処理装置は、 不良率管理期間と、該期間における上記不良の発生率で
ある不良率とを有する不良率管理データを一以上保持す
るための不良率管理データ記憶手段と、 上記製造ラインにおいて実行された対策の対策内容およ
び対策時刻を有する対策情報を一以上保持するための対
策実績記憶手段と、 対策実績記憶手段に保持された上記対策情報の少なくと
もいずれかについて、該対策情報に含まれる上記対策内
容、および、該対策情報に含まれる上記対策時刻の前後
の上記不良率を、上記出力装置に対応付けて出力する対
策状況出力処理を行う対策状況出力手段とを備えること
を特徴とする製造不良解析支援システム。1. A manufacturing defect analysis support system comprising an input device, an output device and an information processing device for analyzing a product defect occurring in a product manufacturing line, wherein the information processing device comprises a defect rate management period and A defect rate management data storage unit for holding at least one defect rate management data having a defect rate which is the defect occurrence rate in the period, and a countermeasure content and a countermeasure time of the countermeasure executed in the manufacturing line. Measure result storage means for holding one or more measure information that the user has, and at least one of the measure information held in the measure result storage means, the measure contents included in the measure information and the measure information included in the measure information. And a countermeasure situation output means for performing countermeasure situation output processing for outputting the defect rate before and after the countermeasure time taken in association with the output device. A manufacturing failure analysis support system characterized by:
らかじめ定められた条件を満たす該対策情報について、
上記対策状況出力処理を行うことを特徴とする製造不良
解析支援システム。2. The countermeasure status output means according to claim 1, wherein the countermeasure information satisfying a predetermined condition among the countermeasure information stored in the countermeasure result storage means,
A manufacturing failure analysis support system characterized by performing the above countermeasure status output processing.
登録されたものであること、 上記対策時刻の前後の上記不良率管理期間の不良率の変
化があらかじめ定められた値以上であること、および、 上記対策時刻の前後の上記不良率管理期間の不良率の変
化があらかじめ定められた値以下であること、の少なく
ともいずれかであることを特徴とする製造不良解析支援
システム。3. The method according to claim 2, wherein the predetermined condition is that the content of the countermeasure to be contained is first registered in the countermeasure result storage means, and the defect rate management before and after the countermeasure time. At least one of a change in the defect rate during the period is equal to or greater than a predetermined value, and a change in the defect rate during the defect rate management period before and after the countermeasure time is equal to or less than a predetermined value. A manufacturing failure analysis support system characterized by:
る製造不良解析支援システム。4. The manufacturing defect analysis support system according to claim 1, wherein the defect rate is output as a graph.
にあらかじめ定められた現象に該当する場合の推定され
る原因である不良発生原因候補とを有するチェック項目
レコードを保持するためのチェック項目データベース
と、 上記チェック項目データベース内で、発生した不良現象
が、上記チェック項目ごとにあらかじめ定められた現象
に該当する上記チェック項目レコードを検索し、該チェ
ック項目レコードが検出されると、該チェック項目レコ
ードに含まれている不良発生原因候補を、上記発生した
不良の原因と推定する解析処理手段とを、さらに備える
ことを特徴とする製造不良解析支援システム。5. The information processing apparatus according to claim 1, wherein the information processing apparatus has a check item for estimating a cause and a defect occurrence cause candidate that is an estimated cause when a phenomenon defined in advance for each check item is applicable. A check item database for holding a check item record having and, in the above check item database, a defect phenomenon that has occurred is searched for the above check item record corresponding to a predetermined phenomenon for each of the above check items, When the check item record is detected, an analysis processing unit that estimates the defect occurrence cause candidate included in the check item record as the cause of the defect that has occurred is further included in the manufacturing defect analysis. Support system.
る対策内容記憶手段を、さらに備え、 上記解析処理手段は、上記原因の候補のうちのいずれか
の選択を受け付けて、選択された原因に応じてあらかじ
め上記対策内容記憶手段に保持されている上記対策を示
す情報を出力することを特徴とする製造不良解析支援シ
ステム。6. The information processing apparatus according to claim 5, further comprising: a countermeasure content storage unit that stores in advance information indicating countermeasure content according to a cause, and the analysis processing unit is a candidate for the cause. A manufacturing failure analysis support system, which accepts any one of the above selections and outputs information indicating the countermeasure stored in advance in the countermeasure content storage means according to the selected cause.
造不良解析支援システム。7. The manufacturing failure analysis support system according to claim 6, further comprising a display device, wherein the output of the information indicating the countermeasure content is displayed on the display device.
する製造不良解析支援システム。8. The manufacturing failure analysis support system according to claim 6, wherein outputting the information indicating the countermeasure is outputting a signal instructing the countermeasure.
を保持するための得点格納領域をさらに備え、 上記チェック項目レコードは、 上記推定原因の確からしさの指標である相関値をさらに
有し、 上記解析処理手段は、 発生した不良現象が、上記チェック項目ごとにあらかじ
め定められた現象に該当する上記チェック項目レコード
を検索し、該チェック項目レコードが検出されると、該
チェック項目レコードに含まれている不良発生原因候補
に対応する上記得点格納領域の保持する値を、該チェッ
ク項目レコードに含まれている相関値分増加させる手段
を、さらに有し、 上記推定される原因候補は、上記得点格納領域の保持す
る値が、あらかじめ定められた値より大きいものである
ことを特徴とする製造不良解析支援システム。9. The claim 5 further comprises a score storage area for holding a score indicating the priority of the defect occurrence candidate for each defect occurrence cause candidate, wherein the check item record indicates the probability of the estimated cause. The analysis processing means further has a correlation value that is an index, and the analysis processing unit searches the check item record in which the defective phenomenon that corresponds to a predetermined phenomenon for each check item, and the check item record is detected. Then, the apparatus further comprises means for increasing the value held in the score storage area corresponding to the defect occurrence cause candidate included in the check item record by the correlation value included in the check item record, The presumed cause candidate is characterized in that the value held in the score storage area is larger than a predetermined value. Good analysis support system.
容記憶手段を、さらに備え、 上記解析処理手段は、上記原因の候補のうち、該原因候
補に対応する上記得点格納領域の保持する値が、最も大
きいものに応じてあらかじめ上記対策内容記憶手段に保
持されている上記対策を示す情報を出力することを特徴
とする製造不良解析支援システム。10. The information processing apparatus according to claim 9, further comprising: countermeasure content storage means for storing the countermeasure content in advance according to the cause, wherein the analysis processing means includes: Manufacturing defect analysis support characterized by outputting information indicating the countermeasure stored in advance in the countermeasure content storage means in accordance with the largest value stored in the score storage area corresponding to the cause candidate system.
造不良解析支援システム。11. The manufacturing defect analysis support system according to claim 10, further comprising a display device, wherein the output of the information indicating the countermeasure is displayed on the display device.
する製造不良解析支援システム。12. The manufacturing failure analysis support system according to claim 10, wherein outputting the information indicating the countermeasure is outputting a signal instructing the countermeasure.
る上記原因候補の入力を受け付ける手段と、 上記入力されたチェック項目および対応する上記原因候
補と、上記チェック項目データベースに既に保持されて
いるチェック項目レコードの内容とが矛盾するかどうか
判定する矛盾判定手段と、 矛盾しないと判定された場合に、上記入力されたチェッ
ク項目および対応する上記原因候補をもとに、チェック
項目レコードを作成して、上記チェック項目データベー
スに格納する手段とを、さらに備えることを特徴とする
製造不良解析支援システム。13. The method according to claim 5, wherein the analysis processing means receives the check item and the corresponding cause candidate input via the input device, the input check item and the corresponding cause. Contradiction determining means for determining whether or not the candidate and the contents of the check item record already held in the check item database are inconsistent, and when it is determined that there is no inconsistency, the input check item and the corresponding above A manufacturing defect analysis support system further comprising: means for creating a check item record based on a cause candidate and storing the check item record in the check item database.
か否かの選択を受け付けて、登録が選択されると、上記
入力されたチェック項目および対応する上記原因候補を
もとに、チェック項目レコードを作成して、上記チェッ
ク項目データベースに格納する手段を、さらに備えるこ
とを特徴とする製造不良解析支援システム。14. The method according to claim 13, wherein when the contradiction determining means determines that there is a contradiction, a selection as to whether or not to register is accepted, and when registration is selected, the input check item and the corresponding cause are registered. A manufacturing defect analysis support system further comprising means for creating a check item record based on a candidate and storing it in the check item database.
装置と、製造不良解析装置とを備える製造システムにお
いて、 上記製造ラインは、 製品の製造を行う手段と、 対策作業の指示を受け付けて、指示された対策作業を実
行する手段と、 検出された製品不良の内容を上記製造不良解析装置に通
知する手段と、 製造実績情報および対策実績情報を上記製造不良解析装
置に通知する手段とを有し、 上記製造不良解析装置は、 発生した不良の実績を示す不良実績データを一以上保持
するための不良実績記憶手段と、 上記製造ラインにおいて、実行された対策の対策内容と
対策時刻とを有する対策情報を一以上保持するための対
策実績記憶手段と、 上記製造ラインから通知された上記製品不良の内容をも
とに、不良実績データを作成し、上記不良実績記憶手段
に格納する不良実績収集手段と、 上記製造ラインから通知された上記製造実績情報および
上記対策実績情報をもとに、上記対策情報を作成して、
上記対策実績記憶手段に格納する手段と、 原因推定のためのチェック項目、および、該チェック項
目ごとにあらかじめ定められた現象に該当する場合の推
定される原因である不良発生原因候補とを有するチェッ
ク項目レコードを保持するためのチェック項目データベ
ースと、 原因に応じて対策内容をあらかじめ記憶している対策内
容記憶手段と、 上記チェック項目データベース内で、上記不良実績記憶
手段に保持された不良実績に含まれる不良現象が上記チ
ェック項目ごとにあらかじめ定められた現象に該当する
上記チェック項目レコードを検索し、該チェック項目レ
コードが検出されると、該チェック項目レコードに含ま
れている上記不良発生原因候補を、上記発生した不良の
原因と推定し、該推定された原因に応じてあらかじめ上
記対策内容記憶手段に保持されている上記対策を示す情
報を、対策作業の指示として、上記製造ラインに出力す
る手段を有することを特徴とする製造システム。15. A manufacturing system comprising a product manufacturing line, an input device, an output device, and a manufacturing defect analysis device, wherein the manufacturing line receives means for manufacturing the product and instructions for countermeasure work. A means for executing the instructed countermeasure work, a means for notifying the manufacturing defect analysis device of the detected product defect content, and a means for notifying the manufacturing defect analysis device of the manufacturing record information and the countermeasure record information. The manufacturing failure analysis apparatus has a failure result storage unit for holding at least one failure result data indicating a result of a failure that has occurred, a countermeasure content of a countermeasure executed in the manufacturing line, and a countermeasure time. Based on the countermeasure record storage means for holding one or more countermeasure information it has and the content of the product defect notified from the manufacturing line, defect record data is created and And bad result collection means for storing the actual storage unit, based on the notified the manufacturing performance information and the countermeasure performance information from the production line, to create the countermeasure information,
A check having a means for storing in the countermeasure result storage means, a check item for estimating a cause, and a defect occurrence cause candidate which is an estimated cause when the phenomenon corresponds to a predetermined phenomenon for each check item. A check item database for holding item records, a measure content storage unit that stores the measure contents in advance according to the cause, and a defect record held in the defect record storage unit in the check item database. When the check item record corresponding to the predetermined phenomenon for each check item is searched and the check item record is detected, the defect occurrence cause candidate included in the check item record is searched. , The cause of the above-mentioned defect is estimated, and the above-mentioned pairing is performed in advance according to the estimated cause. Manufacturing system, characterized in that the information indicating the measures stored in the content storage means, as an indication of countermeasure work, has a means for outputting to the production line.
行する手段を、さらに備え、 上記製造不良解析装置は、 上記製造ラインから通知された上記製品不良の内容をも
とに、修正作業の指示情報を作成し、上記製造ラインに
出力する手段をさらに有することを特徴とする製造シス
テム。16. The manufacturing line according to claim 15, further comprising means for receiving a correction work instruction and executing the instructed correction work, wherein the manufacturing defect analysis apparatus is notified from the manufacturing line. A manufacturing system further comprising means for creating instruction information for correction work based on the content of the product defect and outputting it to the manufacturing line.
不良の解析を行う製造不良解析支援システムにおいて、 上記製造ラインにおいて実行された対策の対策内容およ
び対策時刻を有する対策情報とをもとに、 上記対策情報の少なくともいずれかについて、該対策情
報に含まれる上記対策内容、および、該対策情報に含ま
れる上記対策時刻の前後の不良率管理期間における上記
製品不良の発生率である不良率と、該対策情報とを、対
応付けて出力することにより、製造不良解析を支援する
ことを特徴とする製造不良解析支援方法。17. A manufacturing defect analysis support system for analyzing a product defect occurring in a product manufacturing line, based on the countermeasure content of the countermeasure executed in the manufacturing line and the countermeasure information having the countermeasure time. For at least one of the countermeasure information, the countermeasure content included in the countermeasure information, and the defect rate that is the occurrence rate of the product defect in the defect rate management period before and after the countermeasure time included in the countermeasure information, and A manufacturing defect analysis support method for supporting manufacturing defect analysis by outputting the countermeasure information in association with each other.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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