JPH0781817B2 - 位置測定装置 - Google Patents
位置測定装置Info
- Publication number
- JPH0781817B2 JPH0781817B2 JP2323360A JP32336090A JPH0781817B2 JP H0781817 B2 JPH0781817 B2 JP H0781817B2 JP 2323360 A JP2323360 A JP 2323360A JP 32336090 A JP32336090 A JP 32336090A JP H0781817 B2 JPH0781817 B2 JP H0781817B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- measuring device
- position measuring
- substrate
- light beam
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02049—Interferometers characterised by particular mechanical design details
- G01B9/02051—Integrated design, e.g. on-chip or monolithic
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02075—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
- G01B9/02078—Caused by ambiguity
- G01B9/02079—Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals
- G01B9/02081—Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals simultaneous quadrature detection, e.g. by spatial phase shifting
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/30—Grating as beam-splitter
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Vehicle Body Suspensions (AREA)
- Body Structure For Vehicles (AREA)
- Eye Examination Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、入射光束から少なくとも一つの測定光束お
よび基準光束を得る一つのビームスプリッタと、一つの
測定反射体と、前記測定光束および基準光束を合体させ
る一つの光学部材とを備え、特に干渉計型集積光学構造
様式の位置測定装置に関する。
よび基準光束を得る一つのビームスプリッタと、一つの
測定反射体と、前記測定光束および基準光束を合体させ
る一つの光学部材とを備え、特に干渉計型集積光学構造
様式の位置測定装置に関する。
集積光学構造様式の干渉計としての位置測定装置が知ら
れている。例として、ドイツ特許第3630887号明細書を
挙げることができる。この明細書には、測定ビーム用の
光導体がレーザーに接続する装置が基板の上に書き込ま
れている。この光導体の他端には、測定ビーム用の出射
回折格子または入射回折格子がある。結合器により、上
記測定光導体から基板の鏡面仕上げされた端部で終わ
る、所謂基準光導体が得られる。従って、前記端部は基
準光導体に対する鏡を形成する。この種の鏡またはブラ
ッグ反射体は集積光学系中に簡単に作製することができ
ない。レンズを必要とするこの系も製造や調整に問題が
ないわけではない。
れている。例として、ドイツ特許第3630887号明細書を
挙げることができる。この明細書には、測定ビーム用の
光導体がレーザーに接続する装置が基板の上に書き込ま
れている。この光導体の他端には、測定ビーム用の出射
回折格子または入射回折格子がある。結合器により、上
記測定光導体から基板の鏡面仕上げされた端部で終わ
る、所謂基準光導体が得られる。従って、前記端部は基
準光導体に対する鏡を形成する。この種の鏡またはブラ
ッグ反射体は集積光学系中に簡単に作製することができ
ない。レンズを必要とするこの系も製造や調整に問題が
ないわけではない。
この発明の課題は、例えば反射体やレンズを最小の大き
さでしか必要とせず、簡単に組み込め、僅かな調節経費
しか必要しなく、種々の要求に簡単に合わせることがで
き、更に誤動作しない、冒頭に述べた種類の位置測定装
置を提供することにある。
さでしか必要とせず、簡単に組み込め、僅かな調節経費
しか必要しなく、種々の要求に簡単に合わせることがで
き、更に誤動作しない、冒頭に述べた種類の位置測定装
置を提供することにある。
上記の課題は、この発明により、 一方の物体に固定された一つの基板1,21,31, 前記基板1,21,31に固定されているか、あるいは空間的
に分離している一つの光源4,24,34,および 基板1,21,31から出射された光束を逆方向に反射してこ
の基板に再び戻すため、他方の物体に固定された一つの
測定反射体6,26,36, を備えた、相対運動する二つの物体の間の相対位置を測
定する、特に干渉型集積光学構造様式の位置測定装置に
あって、 基板に入射する光束を前記相対位置に依存して可変する
通路を進む測定光束と、装置固有な一定長さの通路を進
む基準光束とに分離し、空間的に分離している、入射光
学部材2,22,32と出射光学部材3,23,33である少なくとも
二つの光学部材、 前記測定光束と基準光束が結合して前記相対位置に依存
する干渉縞を発生する結合部7,37,および、 干渉縞を検出し、互いに位相のずれ電気信号に変換する
光電検出器8a−c,28a−c,38a−c, が前記基板1,21,31に設けてあることによって解決され
ている。
に分離している一つの光源4,24,34,および 基板1,21,31から出射された光束を逆方向に反射してこ
の基板に再び戻すため、他方の物体に固定された一つの
測定反射体6,26,36, を備えた、相対運動する二つの物体の間の相対位置を測
定する、特に干渉型集積光学構造様式の位置測定装置に
あって、 基板に入射する光束を前記相対位置に依存して可変する
通路を進む測定光束と、装置固有な一定長さの通路を進
む基準光束とに分離し、空間的に分離している、入射光
学部材2,22,32と出射光学部材3,23,33である少なくとも
二つの光学部材、 前記測定光束と基準光束が結合して前記相対位置に依存
する干渉縞を発生する結合部7,37,および、 干渉縞を検出し、互いに位相のずれ電気信号に変換する
光電検出器8a−c,28a−c,38a−c, が前記基板1,21,31に設けてあることによって解決され
ている。
この発明による他の有利な構成は特許請求の範囲の従属
請求項に記載されている。
請求項に記載されている。
集積光学的に構成されたこの発明による有利な干渉計で
は、レーザーダイオードから出射した光束が第一の回折
格子に入射し、そこで0.と1.次の二つの分割光束に分割
される。そして、第1.次の光束は結合器に集束する基準
ビームとなり、0.次の光束は測定ビームを形成し、三重
プリズムを経由して、測定信号を結合器に集束させる第
二回折格子に入射する。結合器中では、0.と1.次の光束
が干渉し、干渉信号を発生する。これ等の信号は検出器
によって互いに位相のずれた電気信号に変換される。
は、レーザーダイオードから出射した光束が第一の回折
格子に入射し、そこで0.と1.次の二つの分割光束に分割
される。そして、第1.次の光束は結合器に集束する基準
ビームとなり、0.次の光束は測定ビームを形成し、三重
プリズムを経由して、測定信号を結合器に集束させる第
二回折格子に入射する。結合器中では、0.と1.次の光束
が干渉し、干渉信号を発生する。これ等の信号は検出器
によって互いに位相のずれた電気信号に変換される。
図面に基づき実施例の助けを借りてこの発明を更に詳し
く説明する。
く説明する。
集積光学系の図面で通常のように、実施例は主要部を明
確にすため、極度に模式化され、しばしば歪曲して図示
する必要がある。
確にすため、極度に模式化され、しばしば歪曲して図示
する必要がある。
第１図には、基板１が示してある。この基板の表面内ま
たはその上に、平面状の光導体1aが一部の領域に延びて
いる。
たはその上に、平面状の光導体1aが一部の領域に延びて
いる。
そこには、二つの円弧状回折格子２と３が配置されてい
る。レーザーダイオード４から基板１に入射する光束５
は円弧状回折格子２に当たる。この回折格子はここでは
ビームスプリッタとしても動作している。ほぼ垂直に入
射する光束５は0.次と1.次の分割光束に分離する。その
場合、0.次の分割光束はここで三重プリズム６として構
成されている測定反射体に当たる。1.次の成分を有する
分割光束は回折し、平面状の光導体1aに入射する。その
場合、前記分割光束1.は集積光学結合器７の入力単に集
束する。集積光学的な結合器７は種々の形状のものが知
られている。前記結合器７は３つの出力端を有し、これ
等の出力が検出器8a,8b,8cに入る。
る。レーザーダイオード４から基板１に入射する光束５
は円弧状回折格子２に当たる。この回折格子はここでは
ビームスプリッタとしても動作している。ほぼ垂直に入
射する光束５は0.次と1.次の分割光束に分離する。その
場合、0.次の分割光束はここで三重プリズム６として構
成されている測定反射体に当たる。1.次の成分を有する
分割光束は回折し、平面状の光導体1aに入射する。その
場合、前記分割光束1.は集積光学結合器７の入力単に集
束する。集積光学的な結合器７は種々の形状のものが知
られている。前記結合器７は３つの出力端を有し、これ
等の出力が検出器8a,8b,8cに入る。
円弧状回折格子２で回折する1.次の成分を有する分割光
束は結合器７を経由して検出器8a〜8cに導入され、干渉
計の基準アームを形成する。
束は結合器７を経由して検出器8a〜8cに導入され、干渉
計の基準アームを形成する。
測定反射体６を経由して導入される0.次の成分を有する
分割光束は円弧状回折格子３に入射する。この回折格子
から前記分割光束は結合器７の一方の分岐路に集束し、
この分岐路が検出器8a〜8cに入る。前記分岐路は干渉計
の測定アームを形成する。
分割光束は円弧状回折格子３に入射する。この回折格子
から前記分割光束は結合器７の一方の分岐路に集束し、
この分岐路が検出器8a〜8cに入る。前記分岐路は干渉計
の測定アームを形成する。
結合器７中では、測定アーム（0.次）と基準アーム（1.
次）の分割光束が干渉するので、この結合器７により検
出器8a,8b,8c中で互いに位相のずれた３つの信号が発生
する。
次）の分割光束が干渉するので、この結合器７により検
出器8a,8b,8c中で互いに位相のずれた３つの信号が発生
する。
第２図に、直接回折格子22と23が使用されている似たよ
うな干渉計を示す。基板21の中、あるいはその上には、
平面状の光導体21aが延びている。この光導体21aに垂直
に、またはほぼ垂直にレーザーダイオード24の光束25が
入射する。（この光束は、図示していないが、基板21に
平行に平面状の光導体21aに入射し、その時、測定アー
ムと基準アームに対する回折次数0.と1.の記号が変わ
る）。直線回折格子22では、入射した光束25が分割光束
に分割する。0.次の成分は三重プリズムとして形成され
た測定反射体26に入射する。この測定反射体は前記0.次
の成分を第二直線回折格子23の方に反射させ、前記0.次
の成分がこの回折格子により回折し、平面状の光導体21
aに入射する。
うな干渉計を示す。基板21の中、あるいはその上には、
平面状の光導体21aが延びている。この光導体21aに垂直
に、またはほぼ垂直にレーザーダイオード24の光束25が
入射する。（この光束は、図示していないが、基板21に
平行に平面状の光導体21aに入射し、その時、測定アー
ムと基準アームに対する回折次数0.と1.の記号が変わ
る）。直線回折格子22では、入射した光束25が分割光束
に分割する。0.次の成分は三重プリズムとして形成され
た測定反射体26に入射する。この測定反射体は前記0.次
の成分を第二直線回折格子23の方に反射させ、前記0.次
の成分がこの回折格子により回折し、平面状の光導体21
aに入射する。
そこで前記0.次の成分は1.次の成分と干渉し、この1.次
の成分が第二直線格子23を通過して干渉縞を形成した
後、検出器28a,28b,28cに入る。図示できないことは以
下のように説明できる。即ち、矢印で示す0.次と1.次の
分割光束は有限な広がりを有し、平面状光導体21aは有
限な厚さを有する。0.次と1.次の二つの平面波はこの層
の中で干渉して、干渉縞パターンを形成し、このパター
ンを検出器28a,28b,28cで検出する。第一回折格子に対
して第二の回折格子を僅かに傾けると、この効果が発生
する。他の可能性では、説明したように、第一回折格子
を直線回折格子22として形成するが、第二回折格子を例
えば緩やかな円弧状回折格子として構成する。何れの場
合でも、説明した方法の一つ（これに限定するものでな
い）で発生する干渉縞が検出器28a,28b,28cにより検出
され、互いに位相のずれた測定信号に変換される。
の成分が第二直線格子23を通過して干渉縞を形成した
後、検出器28a,28b,28cに入る。図示できないことは以
下のように説明できる。即ち、矢印で示す0.次と1.次の
分割光束は有限な広がりを有し、平面状光導体21aは有
限な厚さを有する。0.次と1.次の二つの平面波はこの層
の中で干渉して、干渉縞パターンを形成し、このパター
ンを検出器28a,28b,28cで検出する。第一回折格子に対
して第二の回折格子を僅かに傾けると、この効果が発生
する。他の可能性では、説明したように、第一回折格子
を直線回折格子22として形成するが、第二回折格子を例
えば緩やかな円弧状回折格子として構成する。何れの場
合でも、説明した方法の一つ（これに限定するものでな
い）で発生する干渉縞が検出器28a,28b,28cにより検出
され、互いに位相のずれた測定信号に変換される。
位相のずれた干渉信号を得るため、基準ビームの一部に
位相のずれる光学部材（図示せず）を入れることもでき
る。
位相のずれる光学部材（図示せず）を入れることもでき
る。
第３図による他の実施例では、レーザーダイオード34か
ら光導体31aに入射した光束35が円弧状回折格子32に導
入される。そこで、この光束35が測定反射体36の方向に
出射し、この反射体36から再び入射回折格子33に反射さ
れる。入射回折格子33に入る測定光束35はそこで偏向
し、円弧状（入射）回折格子33によって光導体31bに集
束する。この光導体31bは第一光導体31aの延長部であ
る。
ら光導体31aに入射した光束35が円弧状回折格子32に導
入される。そこで、この光束35が測定反射体36の方向に
出射し、この反射体36から再び入射回折格子33に反射さ
れる。入射回折格子33に入る測定光束35はそこで偏向
し、円弧状（入射）回折格子33によって光導体31bに集
束する。この光導体31bは第一光導体31aの延長部であ
る。
この実施例では、基準アームが分割光束35aで形成さ
れ、この分割光束35aが結合器37によって光導体31aから
取り出され、光導体31cを経由して結合器38に導入され
る。
れ、この分割光束35aが結合器37によって光導体31aから
取り出され、光導体31cを経由して結合器38に導入され
る。
結合器38中では、測定光束35の分割光束が基準光束35a
と周知の方法で干渉し、干渉信号を発生する。この干渉
信号は検出器38a,38b,38cで検出され、互いに位相のず
れた電気測定信号に変換される。
と周知の方法で干渉し、干渉信号を発生する。この干渉
信号は検出器38a,38b,38cで検出され、互いに位相のず
れた電気測定信号に変換される。
この発明による位相測定装置の利点は、受動的な光学部
材と照明部を一つの基板上で集積光学系の干渉計に最小
スペースにして組み込むことができる点にあり、チップ
上のどんなタイプの反射体やレンズも省略できる点にあ
る。
材と照明部を一つの基板上で集積光学系の干渉計に最小
スペースにして組み込むことができる点にあり、チップ
上のどんなタイプの反射体やレンズも省略できる点にあ
る。
この発明によれば、測定すべき対象物に装着された測定
反射体のみを必ず基板外に配置することによって位置を
測定できる。
反射体のみを必ず基板外に配置することによって位置を
測定できる。
第１図、入射および／または出射光学部材として円弧状
回折格子を用いるこの発明の干渉計の模式図。 第２図、入射および／または出射光学部材として直線回
折格子を用いるこの発明の干渉計の模式図。 第３図、切り離された基準チャンネルを有するこの発明
の干渉計の模式図。 図中参照符号： 1,21,……基板 2,3,32……円弧状回折格子 4,24,34……レーザーダイオード 5,25,35……入射光束 ６……三重プリズム 7,37……結合器 8a,8b,8c,28a,28b,28c,38a,38b,38c……検出器 21a……平面状光導体 22,23……直線回折格子 26……測定反射体 31a,31b……光導体 33……入射回折格子
回折格子を用いるこの発明の干渉計の模式図。 第２図、入射および／または出射光学部材として直線回
折格子を用いるこの発明の干渉計の模式図。 第３図、切り離された基準チャンネルを有するこの発明
の干渉計の模式図。 図中参照符号： 1,21,……基板 2,3,32……円弧状回折格子 4,24,34……レーザーダイオード 5,25,35……入射光束 ６……三重プリズム 7,37……結合器 8a,8b,8c,28a,28b,28c,38a,38b,38c……検出器 21a……平面状光導体 22,23……直線回折格子 26……測定反射体 31a,31b……光導体 33……入射回折格子
Claims (10)
- 【請求項１】一方の物体に固定された一つの基板（1,2
1,31）， 前記基板（1,21,31）に固定されているか、あるいは空
間的に分離している一つの光源（4,24,34），および 基板（1,21,31）から出射された光束を逆方向に反射し
てこの基板に再び戻すため、他方の物体に固定された一
つの測定反射体（6,26,36）， を備えた、相対運動する二つの物体の間の相対位置を測
定する、特に干渉型集積光学構造様式の位置測定装置に
おいて、 基板に入射する光束を前記相対位置に依存して可変する
通路を進む測定光束と、装置固有な一定長さの通路を進
む基準光束とに分離し、空間的に分離している、入射光
学部材（2,22,32）と出射光学部材（3,23,33）である少
なくとも二つの光学部材、 前記測定光束と基準光束が結合して前記相対位置に依存
する干渉縞を発生する結合部（7,37），および、 干渉縞を検出し、互いに位相のずれ電気信号に変換する
光電検出器（8a−c,28a−c,38a−ｃ）， が前記基板（1,21,31）に設けてあることを特徴とする
位置測定装置。 - 【請求項２】入射および／または出射光学部材は回折格
子（2,22,32;3,32,33）であることを特徴とする請求項
１に記載の位置測定装置。 - 【請求項３】回折格子は円弧状回折格子（2,3;32,33）
または直線回折格子（22,23）であることを特徴とする
請求項２に記載の位置測定装置。 - 【請求項４】一方の回折格子（2,22）はビームスプリッ
タとして使用され、入射光束（5,25）を測定光束（0.）
と基準光束（1.）に分割することを特徴とする請求項１
に記載の位置測定装置。 - 【請求項５】光源としてレーザーダイオード（4,24,3
4）を使用し、この光源の光束は90°から傾いた角度で
入射格子（2,22）に入射することを特徴とする請求項１
に記載の位置測定装置。 - 【請求項６】回折格子（2,22）の格子定数は垂直ビーム
入射に必要な格子定数とは異なることを特徴とする請求
項５に記載の位置測定装置。 - 【請求項７】測定信号に加えて、プッシュプル信号を測
定して、移動方向を検出する結合器（7,37）が装備され
ていることを特徴とする請求項１に記載の位置測定装
置。 - 【請求項８】互いに位相のずれた測定信号と基準信号を
発生させるため、位相をずらす光学部材が二つの直線回
折格子の間に配設されていることを特徴とする請求項１
に記載の位置測定装置。 - 【請求項９】互いに位相のずれた測定信号と基準信号を
発生させるため、第一直線回折格子に対して第二直線回
折格子が斜めの位置に配設されていることを特徴とする
請求項１に記載の位置測定装置。 - 【請求項１０】互いに位相のずれた測定信号と基準信号
を発生させるため、第一直線回折格子に対して第二円弧
状回折格子が配設されていることを特徴とする請求項１
に記載の位置測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP89123897.4 | 1989-12-23 | ||
| EP89123897A EP0434855B1 (de) | 1989-12-23 | 1989-12-23 | Positionsmesseinrichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200002A JPH03200002A (ja) | 1991-09-02 |
| JPH0781817B2 true JPH0781817B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=8202278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2323360A Expired - Lifetime JPH0781817B2 (ja) | 1989-12-23 | 1990-11-28 | 位置測定装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5187545A (ja) |
| EP (1) | EP0434855B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0781817B2 (ja) |
| AT (1) | ATE105402T1 (ja) |
| DE (2) | DE58907622D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE59102110D1 (en) * | 1990-02-09 | 1994-08-11 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferometer. |
| EP0625690B1 (de) * | 1993-05-21 | 1996-04-03 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Lichtelektrische Positionsmesseinrichtung |
| US6965709B1 (en) | 2003-05-14 | 2005-11-15 | Sandia Corporation | Fluorescent optical position sensor |
| DE102005025385B4 (de) * | 2005-04-20 | 2007-03-22 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage zur Beschichtung flächiger Substrate mit einer Messeinrichtung zur Transmissions- oder/und Reflexionsmessung |
| US7329857B1 (en) | 2006-03-01 | 2008-02-12 | Sandia Corporation | Side-emitting fiber optic position sensor |
| US7428055B2 (en) * | 2006-10-05 | 2008-09-23 | General Electric Company | Interferometer-based real time early fouling detection system and method |
| DE102013203211A1 (de) | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung |
| DE102017222864A1 (de) * | 2017-12-15 | 2019-06-19 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zur Ablenkung von Laserstrahlen |
| US11841223B2 (en) * | 2022-02-23 | 2023-12-12 | Lockheed Martin Corporation | Optical systems with controlled mirror arrangements |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2426922A1 (fr) * | 1978-05-26 | 1979-12-21 | Thomson Csf | Structure optique compacte a source integree |
| EP0242407A2 (de) * | 1986-03-26 | 1987-10-28 | Hommelwerke GmbH | Vorrichtung zur Messung kleiner Längen |
| DE3630887A1 (de) * | 1986-03-26 | 1987-10-08 | Hommelwerke Gmbh | Vorrichtung zur messung kleiner laengen |
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| DE3702314C1 (de) * | 1987-01-27 | 1988-01-14 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Lichtelektrische Messeinrichtung |
| FR2613826B1 (fr) * | 1987-04-07 | 1990-10-26 | Commissariat Energie Atomique | Capteur de deplacement en optique integree |
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