JPH0753725B2 - ４ｈ―１―ベンゾピラン―４―オン誘導体およびその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗炎症剤 - Google Patents

４ｈ―１―ベンゾピラン―４―オン誘導体およびその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗炎症剤

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JPH0753725B2 JP63250811A JP25081188A JPH0753725B2 JP H0753725 B2 JPH0753725 B2 JP H0753725B2 JP 63250811 A JP63250811 A JP 63250811A JP 25081188 A JP25081188 A JP 25081188A JP H0753725 B2 JPH0753725 B2 JP H0753725B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R4
は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
ルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルア
ミノメチリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル
基または置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
アルキルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、フェニルもしくは複素環式
基、または （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
ぞれ、示す。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
たはその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗
炎症剤に関する。
而して、本発明の目的は、優れた抗炎症作用、解熱鎮痛
作用、抗関節炎作用および抗アレルギー作用を有し、優
れた治療効果を発揮する新規な4H−１−ベンゾピラン−
４−オン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗
炎症剤を提供することにある。
［従来の技術］ 置換スルホンアミド系化合物は、たとえば、特開昭46-4
820号、同47-27961号、同55-20777号、同57-136560号、
同57-140712号、同57-203079号、同58-170748号、同59-
31755号、同60-199394号、同63-190869号、特公昭58-50
984号、同59-44311号などに記載されており、消炎鎮痛
作用を有することも知られている。しかし、4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン骨格を有する置換スルホンアミド
系化合物については全く知られていない。
［発明が解決しようとする課題］ 現在使用されている非ステロイド系酸性抗炎症剤の多く
は、その治療に必要な使用量と副作用、特に潰瘍誘発作
用を発現する使用量との間に大きな差がなく、治療係数
が低いため、より安全性の高い抗炎症剤の開発が望まれ
ていた。
［課題を解決するための手段］ このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を行
った結果、一般式［Ｉ］で表わされる新規な4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン誘導体またはその塩が、前記した
優れた治療効果を発揮し、かつ潰瘍誘発作用をほとんど
示さない安全性の高い化合物であることを見出し、本発
明を完成するに至った。
以下、本発明化合物について詳述する。
本明細書において各用語は、特にことわらない限り、以
下の意味を有する。
アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチ
ルなどのＣ１〜８アルキル基を；シクロアルキル基と
は、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルなどの
Ｃ３〜８シクロアルキル基を；低級アルキル基とは、た
とえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピ
ル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチルおよびペ
ンチルなどのＣ１〜５アルキル基を；低級アルケニル基
とは、たとえば、ビニル、アリル、１−プロペニルおよ
び１−ブテニルなどのＣ２〜５アルケニル基を；アルコ
キシ基とは、たとえば、−Ｏ−アルキル基（アルキル基
は、上記したＣ１〜８アルキル基を示す。）を；アシル
基とは、たとえば、ホルミル基またはアセチル、プロピ
オニルおよびブチル基などのＣ２〜８アルカノイル基ま
たはメトキサリルおよびエトキサリルなどのアルコキシ
オキサリル基、シクロヘキサンカルボニルなどのＣ
３〜８シクロアルキルカルボニル基またはベンゾイル基
などのアロイル基などを；アルコキシカルボニル基と
は、たとえば、−COOアルキル基（アルキル基は、上記
したＣ１〜８アルキル基を示す。）を；ハロゲン原子と
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子
などを；アルキルチオ基とは、たとえば、−Ｓ−アルキ
ル基（アルキル基は、上記したＣ１〜８アルキル基を示
す。）を；アルキルスルフィニル基とは、たとえば、メ
チルスルフィニルおよびエチルスルフィニルなどのＣ
１〜４アルキルスルフィニル基を；アルキルスルホニル
基とは、たとえば、メチルスルホニルおよびエチルスル
ホニルなどのＣ１〜４アルキルスルホニル基を；アリー
ル基とは、たとえば、フェニルおよびナフチルなどの基
を；アシルアミノ基とは、たとえば、−NH−アシル基
（アシル基は、上記したと同様の意味を有する。）を；
アルキルアミノ基とは、たとえば、−NH−アルキル基
（アルキル基は、上記したＣ１〜８アルキル基を示
す。）を；ジアルキルアミノ基とは、たとえば、 （アルキル基は、上記したＣ１〜８アルキル基を示
す。）を；ハロアルキル基とは、たとえば、クロロメチ
ル、フルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメ
チル、ジクロロエチルおよびトリクロロエチルなどのハ
ロ−Ｃ１〜８アルキル基を；アルキルスルホニルオキシ
基とは、たとえば、アルキルスルホニル−Ｏ−基（アル
キルスルホニル基は、上記したＣ１〜４アルキルスルホ
ニル基を示す。）を；アリールスルホニルオキシ基と
は、たとえば、フェニルスルホニルオキシおよびｐ−ト
ルエンスルホニルオキシなどの基を；低級アルキニル基
とは、たとえば、エチニルおよび２−プロピニルなどの
Ｃ２〜５アルキニル基を；複素環式基とは、たとえば、
チエニル、フリル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキ
サゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、1,2,3−
チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チア
ジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−トリア
ゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジ
ル、キノリル、イソキノリル、ピリミジニル、ピペラジ
ニル、ピラジニル、ピリダジニル、1,2,3,4−テトラヒ
ドロキノリル、1,2,4−トリアジニル、イミダゾ［1,2−
ｂ］［1,2,4］トノアジニル、ピロリジニル、モルホリ
ニルおよびキヌクリジニルなどの酸素原子、窒素原子お
よび硫黄原子から選ばれる少なくとも１つの異項原子を
含有する４〜６員または縮合複素環式基を示す。
一般式［Ｉ］において、Ｒ6およびＲ7が隣接する窒素原
子と一緒になって３〜７員環の複素環式基を形成する場
合、その複素環式基としては、たとえば、アゼチジン−
１−イル、ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イ
ルおよびピロール−１−イルなどの３〜７員環の含窒素
複素環式基が挙げられる。
また、Ｒ3におけるアルキル、アルコキシ、シクロアル
キル、カルバモイル、アミノおよびフェニル基;R4にお
けるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、低級アルケ
ニル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、フ
ェニルおよび複素環式基;R6におけるアルキル、シクロ
アルキル、フェニル、アシル、カルバモイルおよびアル
キルスルホニル基;R7におけるアルキル、アルコキシお
よび複素環式基;R6およびＲ7が隣接する窒素原子と一緒
になって形成される３〜７員環の複素環式基並びにＲ5
におけるフェニル、チエニルおよびピリジル基は、ハロ
ゲン原子、アルコキシ、アルキルチオ、フェノキシ、カ
ルボキシル、アシル、アルコキシカルボニル、カルバモ
イル、スルファモイル、シアノ、アルキルスルホニル、
ヒドロキシル、メルカプト、アシルアミノ、アルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、
オキソ、ニトロ、ハロアルキル、アミノ、フェニル、ア
ルコキシカルボニルアミノ、ヒドロキシイミノおよび複
素環式基から選ばれる一種以上の置換基で置換されてい
てもよい。
一般式［Ｉ］の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体
の塩としては、医薬として許容される塩、たとえば、ナ
トリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カ
ルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩；アンモニウム塩、トリエチルアミンおよびピリジ
ンなどの有機アミン類との塩；リジン、アルギニンおよ
びオルニチンなどのアミノ酸との塩；塩酸、臭化水素酸
および硫酸などの鉱酸との塩；フマル酸、マレイン酸、
リンゴ酸およびクエン酸などの有機カルボン酸との塩；
メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸およびナフ
タレンジスルホン酸などのスルホン酸との塩などが挙げ
られる。
本発明化合物は、さらに全ての異性体（幾何異性体、光
学異性体）、水和物、溶媒和物および結晶形を包含する
ものである。
一般式［Ｉ］の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体
またはその塩は、たとえば、つぎに示す方法によって製
造することができる。
「式中、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7
は前記した意味を有し、Ｒ8は低級アルキル基;R10は水
素原子、アルコキシ基または置換されていてもよいアシ
ル、アルキル、シクロアルキル、フェニルもしくはアル
コキシカルボニル基を;R11は水素原子またはクロロスル
ホニルまたはアルキル基を;R3aはＲ3で説明したと同様
の水素原子または置換されていてもよいアルキル、シク
ロアルキルもしくはフェニル基を;R3bはＲ3で説明した
と同様の置換されていてもよいフェニル基を;R3cはＲ3
で説明したと同様のヒドロキシルもしくはシアノ基また
は置換されていてもよいアルコキシもしくはアミノ基
を;R4aはＲ4で説明したと同様の水素原子、シアノ、ア
シルもしくはアルコキシカルボニル基または置換されて
いてもよいアルキルもしくはフェニル基または式 （Ｒ6およびＲ7は前記した意味を有する。）を;R6aはＲ
6で説明したと同様の置換されていてもよいアルキル、
シクロアルキルもしくはフェニル基を;R7aはＲ7で説明
したと同様の置換されていてもよいアルキル、アルコキ
シまたは複素環式基を;R5aは置換されていてもよいフェ
ニル、チエニルまたはピリジル基を;M1は水素原子、ナ
トリウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属原子、マ
グネシウムなどのアルカリ土類金属原子または銅（１
価）などの遷移金属原子を;Xはハロゲン原子を;Yはハロ
ゲン原子または水素原子を；〜は（Ｅ）異性体または
（Ｚ）異性体またはそれらの混合物であることを意味す
る。」 一般［Ｉ−１］〜［Ｉ−３］、［Ｉ−５］、［Ｉ−
８］、［Ｉ−12］〜［Ｉ−33］の化合物は塩としても得
ることもでき、それらの塩としては、一般式［Ｉ］の化
合物の塩と同様のものが挙げられる。
以下、各製造法について説明する。
（製造法１） （１） 一般式［３］の化合物を閉環反応に付すことに
よって一般式［Ｉ−２］の化合物を得ることができる。
この反応においては溶媒を用いてもよく、その溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定
されないが、たとえば、ベンゼン、キシレンなどを使用
することができる。しかしながら、この反応は溶媒の不
存在下に行うこともできる。
この閉環反応では縮合剤が使用され、その縮合剤として
は、五酸化リン、ポリリン酸、塩化亜鉛、濃硫酸、ハロ
ゲノスルホン酸、無水硫酸および濃硫酸−塩化アセチル
などが挙げられる。
これらの縮合剤の使用量は、一般式［３］の化合物に対
して、１〜50倍モルである。
この反応は通常０〜120℃で、30分〜24時間実施すれば
よい。
また、一般式［３］の化合物を塩化チオニルまたは五塩
化リンなどの酸ハロゲン化剤を使用して、カルボン酸ハ
ライドとした後、塩化アルミニウムなどのルイス酸を使
用してフリーデル・クラフト反応を行うことにより閉環
することもできる。
（２） 一般式［Ｉ−２］の化合物を脱水素化反応に付
すことにより、一般式［Ｉ−１］の化合物を得ることが
できる。
脱水素化反応は、たとえば、つぎのようなものが挙げら
れる。
（ｉ） 一般式［Ｉ−２］の化合物を脱水素化剤と反応
させることにより、一般式［Ｉ−１］の化合物を得るこ
とができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水；酢酸；無水酢酸；ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香続炭化水素類；ジオキサンなどのエーテル類な
どが挙げられる。
この反応に使用される脱水素化剤としては、たとえば、
2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン（D
DQ）、クロラニル、トリチルパークロレート、トリチル
フルオロボレート、二酸化セレン、パラジウム−炭素な
どが挙げられる。
この反応における脱水素化剤の使用量は、一般式［Ｉ−
２］の化合物に対して、0.5〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、30分〜72時間実施すれ
ばよい。
（ii） また、一般式［Ｉ−２］の化合物にハロゲン化
剤を反応させた後、塩基を作用させることによっても一
般式［Ｉ−１］の化合物を得ることができる。
ハロゲン化反応に使用される溶媒としては、反応に悪影
響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たと
えば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホ
ルムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類；酢酸エチルなどのエステル
類；酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸類などが挙げら
れ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用されるハロゲン化剤としては、たとえ
ば、塩素、臭素、塩化スルフリルなどが挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、一般式［Ｉ−２］の化合物に
対して、0.9〜1.1倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃、好ましくは10〜40℃で、3
0分〜３時間実施すればよい。
ついで、得られたハロゲン体に塩基を反応させる際、使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素類；メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類;N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ピ
リジンなどが挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合し
て用いてもよい。
この反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミ
ン、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデク−７−エン
（DBU）、ピリジンなどの有機塩基、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなどの炭酸アルカリなどが挙げられる。
塩基の使用量は、一般式［Ｉ−２］の化合物に対して、
１〜10倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
（製造法２） （１）（ｉ） 一般式［７］の化合物を閉環反応に付す
ことにより、一般式［Ｉ−３］の化合物を得ることがで
きる。
この反応においては、溶媒を用いてもよく、その溶媒と
しては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；クロロベンゼンなどのハロ
ゲン化芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの溶媒
は二種以上混合して用いてもよい。
この反応では縮合剤が使用され、その縮合剤としては、
たとえば、ハロゲノスルホン酸、無水硫酸、五酸化リ
ン、ポリリン酸、塩化亜鉛、濃硫酸、濃硫酸−塩化アセ
チルなどが挙げられる。
これらの縮合剤の使用量は、一般式［７］の化合物に対
して、１〜50倍モルである。
この反応は通常、０〜120℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
（ii） 一般式［７］の化合物を塩化チオニルまたは五
塩化リンなどの酸ハロゲン化剤を使用して、カルボン酸
ハライドとした後、塩化アルミニウムなどのルイス酸を
使用してフリーデル・グラフト反応を行うことにより閉
環することもできる。
（製造法３） （１） 一般式［11］の化合物を環形成化反応に付すこ
とによって一般式［Ｉ−１］の化合物を得ることができ
る。
環形成化反応は、たとえば、つぎのようなものが挙げら
れる。
（ｉ） 一般式［11］の化合物を塩基の存在下、一般式 Ｒ3COOR12 ［ａ］ （Ｒ3は、前記した意味を;R12は水素原子または低級ア
ルキル基などのカルボキシル基におけるエステル残基を
意味する。） の化合物と反応させて、β−ジケトンを得、ついで閉環
反応に付すことにより、一般式［Ｉ−１］の化合物を得
ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；メタノール、エタノールなどのアルコール類が挙げ
られ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
また、一般式［ａ］の化合物を溶媒として用いてもよ
い。
この反応に使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属；水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物；またはナトリウムアミド、カリウムアミドなどのア
ルカリ金属アミドなどが挙げられる。
塩基および一般式［ａ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ、１〜100倍モルで
ある。
この反応は通常、−20〜150℃で、30分〜48時間実施す
ればよい。
また、閉環反応では触媒を用いてもよく、その触媒とし
ては、たとえば、塩化水素、臭化水素などのハロゲン化
水素；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸；酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウムなどの酢酸アルカリ；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリなどが挙げられ
る。
閉環反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコール類；酢酸など
の有機カルボン酸類；水などが挙げられ、これらの溶媒
は二種以上混合して用いてもよい。
触媒の使用量は、一般式［11］の化合物に対して、0.1
〜５倍モルである。
この反応は通常、20〜100℃で、５分〜２時間実施すれ
ばよい。
場合によってはクライゼン縮合によって得られたα−ア
シル体またはケトエステル体を中間体として単離しても
よく、その場合、中間体を塩基または酸で処理すること
により、一般式［Ｉ−１］の目的化合物を得ることもで
きる。
（ii） 一般式［11］の化合物を一般式 （Ｒ3dCO）2Ｏ ［ｂ］ （Ｒ3dはＲ3で説明したと同様の置換されていてもよい
アルキルまたはフェニル基を意味する。）の化合物およ
び一般式 Ｒ3dCOOM2 ［ｃ］ （Ｒ3dは前記した意味を；およびＭ2はナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属原子を意味する。）の化合物
と反応させることにより、Ｒ3がＲ3dである一般式［Ｉ
−１］の化合物を得ることができる。
この反応は、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ
ー（J.Chem.Soc.）第125巻，第2192頁（1924年）などに
記載されているアラン−ロビンソン（Allan-Robinson）
縮合に準じて行うことができる。
一般式［ｂ］および［ｃ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ、１〜50倍モルおよ
び１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜200℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
なお、場合によっては、クライゼン縮合によって得られ
たたα−アシル体を中間体として単離してもよく、その
場合、中間体を塩基または酸で処理することにより、一
般式［Ｉ−１］の目的化合物を得ることもできる。
（iii） 一般式［11］の化合物を一般式 HXO4 ［ｄ］ （Ｘは前記した意味を有する。） の化合物および一般式 HC（OR17）3 ［ｅ］ （Ｒ17は低級アルキル基を意味する。） の化合物と反応させた後、加水分解反応に付すことによ
り、Ｒ3が水素原子である一般式［Ｉ−１］の化合物を
得ることができる。
この反応は、シャーナル・オブ・ケミカル・リサーチ
（Ｍ）［J.Chem.Research（Ｍ）］第864頁〜第872頁（1
978年）に記載の方法に準じて行うことができる。
（ａ） なお、この反応においては一般式［ｅ］の化合
物を溶媒として使用することもできる。
一般式［ｄ］および［ｅ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ１〜５倍モルおよび
５〜100倍モルである。
この反応は通常、０〜50℃で、10分〜12時間実施すれば
よい。
（ｂ） ついで、得られた化合物を加水分解することに
より、Ｒ3が水素原子である一般式［Ｉ−１］の化合物
を得ることができる。
（iv） Ｒ4が−COR4b（Ｒ4bはＲ4で説明したと同様の
水素原子または置換されていてもよいアルキル、シクロ
アルキル、フェニル、アルコキシもしくは複素環式基を
意味する。）またはニトロ基である一般式［11］の化合
物に一般式 （CH3）2NCH（OR17）2 ［ｆ］ （Ｒ17は前記した意味を有する。） の化合物を反応させることにより、Ｒ4が−COR4b（Ｒ4b
は前記した意味を有する。）またはニトロ基であり、Ｒ
3が水素原子である一般式［Ｉ−１］の化合物を得るこ
とができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチル
スルホキシドなどのスルホキシド類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類
などが挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用い
てもよい。
一般式［ｆ］の化合物の使用量は、一般式［11］の化合
物に対して、１〜５倍モルである。
この反応は通常０〜100℃で、30分間〜24時間実施すれ
ばよい。
また、Ｒ4が−COR4b（Ｒ4bは前記した意味を有する。）
またはニトロ基である一般式［11］の化合物に一般式
［ｅ］および一般式［ｂ］の化合物を反応させることに
より、Ｒ4が−COR4bまたはニトロ基であり、Ｒ3が水素
原子である一般式［Ｉ−１］の化合物を得ることができ
る。
この反応はケミカル・ファーマシュティカル・ブチレン
［Chem.Pharm.Bull.］、第22巻、第331頁〜第336頁（19
74年）に記載の方法に準じて行うことができる。
一般式［ｅ］および［ｂ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モルおよ
び１〜50倍モルである。
この反応は通常20〜150℃で、30分〜24時間実施すれば
よい。
さらにＲ4が−COR4b（Ｒ4bは前記した意味を有する。）
またはニトロ基である一般式［11］の化合物に一般式 （Ｒ17は前記した意味を有する。） および一般式 HCOOM2 ［ｈ］ （Ｍ2は前記した意味を有する。） の化合物を反応させることにより、Ｒ4が−COR4b（Ｒ4b
は前記した意味を有する。）またはニトロ基であり、Ｒ
3が水素原子である一般式［Ｉ−１］の化合物を得るこ
とができる。
この反応はケミカル・ファーマシュティカル・ブチレン
［Chem.Pharm.Bull.］、第22巻、第331頁〜第336頁（19
74年）に記載の方法に準じて行うことができる。
一般式［ｇ］および［ｈ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ、１〜100倍モルお
よび１〜50倍モルである。
この反応は通常０〜100℃で、30分〜24時間実施すれば
よい。
（ｖ） 一般式［11］の化合物を塩基の存在下、 一般式 （Ｒ17Ｏ）2CO ［ｉ］ （Ｒ17は前記した意味を有する。） の化合物と反応させることにより、Ｒ3がヒドロキシル
基である一般式［Ｉ−１］の化合物を得ることができ
る。
この反応においては溶媒を用いてもよく、その溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定
されないが、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
が挙げられる。しかしながら、この反応は溶媒の不存在
下に行うこともできる。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属；ナトリウ
ムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド；
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属
水素化物などが挙げられる。
塩基および一般式［ｉ］の化合物の使用量は、一般式
［11］の化合物に対して、それぞれ１〜10倍モルおよび
１〜100倍モルである。
この反応は通常20℃〜150℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
（製造法４） 一般式［16］の化合物を一般式［29］の化合物の反応性
誘導体と反応させることにより、一般式［Ｉ］の化合物
を得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
る。また、ピリジンなどの有機アミンを溶媒として使用
することもできる。
この反応は塩基の存在下に行うこともでき、その塩基と
しては、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアル
カリ金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムtert−ブトキシドなどのアルカリ
金属アルコキシド；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
のアルカリ金属炭酸塩；トリエチルアミン、ピリジンな
どの有機アミン類などが挙げられる。
一般式［29］の化合物の反応性誘導体としては、たとえ
ば、酸ハライド、酸無水物などが挙げられる。
塩基および一般式［29］の化合物の反応性誘導体の使用
量は、一般式［16］の化合物に対して、それぞれ、１〜
1.5倍モルである。
この反応は−30〜150℃で、30分〜24時間実施すればよ
い。
（製造法５） 一般式［41］の化合物を一般式［30］の化合物と反応さ
せることにより、一般式［Ｉ］の化合物を得ることがで
きる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類；アセトンなど
のケトン類；メタノール、エタノールなどのアルコール
類；コリジンなどが挙げられ、これらの溶媒は二種以上
混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムtert−ブトキシドなどのアルカ
リ金属アルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどのアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
一般式［30］の化合物および塩基の使用量は、一般式
［41］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モルおよ
び１〜３倍モルである。
また、この反応は触媒として一般式［41］の化合物に対
して0.01〜２倍モルの銅粉、酸化第一銅、塩化第一銅、
８−ヒドロキシキノリン−塩化第一銅などを用いて行う
ことができる。
また、４−ピリジルピリジウムクロリド塩酸塩またはジ
フェニルヨウドニウムブロミドを用いてＲ5がピリジル
またはフェニルである一般式［Ｉ］の化合物を得ること
ができる。
この反応は通常、−20〜160℃で、30分〜24時間実施す
ればよい。
（製造法６） 一般式［27］の化合物にアルカリ性過酸化水素を反応さ
せることにより、一般式［Ｉ−５］の化合物を得ること
ができる。
なお、この反応は薬学雑誌、第71巻，第1178頁〜第1183
頁（1951年）に記載されている方法に準じて行うことが
できる。
（製造法７） （１） 一般式［Ｉ−６］の化合物をハロゲン化剤と反
応させることにより、一般式［Ｉ−７］の化合物を得る
ことができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；酢酸エチルなどのエスチル類；
酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸類などが挙げられ、こ
れらの溶媒は、二種以上混合して用いてもよい この反応に使用されるハロゲン化剤としては、たとえ
ば、塩素、臭素、塩化スルフリルなどが挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、一般式［Ｉ−６］の化合物に
対して、0.9〜1.1倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃、好ましくは、10〜40℃
で、30分〜３時間実施すればよい。
（２） 一般式［Ｉ−７］の化合物をアジ化ナトリウム
もしくはアジ化カリウムなどのアジ化アルカリまたはア
ジ化アンモニウムと反応させることにより、一般式［Ｉ
−８］の化合物を得ることができる。
この反応はケミカル・アブストラクト（C.A.）第89巻、
43022pに記載の方法に準じて行うことができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類；スルホラン；アセトニトリルな
どのニトリル類；アセトンなどのケトン類；ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類；メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類などが挙げられ、これらの溶媒は
二種以上混合して用いてもよい。
アジ化アルカリまたはアジ化アンモニウムの使用量は、
一般式［Ｉ−７］の化合物に対して、それぞれ１〜５倍
モルである。
この反応は通常、室温〜100℃で、30分〜12時間実施す
ればよい。
（製造法８） （１） 一般式［Ｉ−８］の化合物またはその反応性誘
導体をアシル化反応に付すことにより、一般式［Ｉ−1
2］の化合物を得ることができる。
このアシル化は、たとえば、一般式［Ｉ−８］の化合物
またはその反応性誘導体に、一般式 Ｒ10COOH ［ｋ］ （Ｒ10は前記したと同様の意味を有する。） の化合物またはその反応性誘導体を反応させることによ
り行われる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；酢酸エチルなどのエステル類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類，アセトニトリルなどのニトリル類；
酢酸、ギ酸などの有機カルボン酸類などが挙げられ、こ
れらの溶媒は、二種以上混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩；トリエチル
アミン、ピリジンなどの有機塩基などが挙げられる。
一般式［Ｉ−８］の化合物の反応性誘導体としては、た
とえば、通常知られた有機シリル化剤で活性化されたも
のが挙げられる。
一般式［ｋ］の化合物の反応性誘導体としては、そのカ
ルボキシル基における反応性誘導体、たとえば、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性エステル、活
性アミドおよび一般式［ｋ］の化合物とビルスマイヤー
試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
一般式［ｋ］の化合物またはその塩を用いる場合は、通
常知られた縮合剤、たとえば、N,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドなどの存在下に反応させることもでき
る。
一般式［ｋ］の化合物またはその反応性誘導体または塩
基の使用量は、一般式［Ｉ−８］の化合物またはその反
応性誘導体に対して、それぞれ、１〜５倍モルである。
この反応は通常、−20〜100℃で、30分〜24時間実施す
ればよい。
また、Ｒ10が水素原子である一般式［Ｉ−12］の化合物
を得るホルミル化においては、通常のホルミル化試薬、
たとえば、ギ酸−無水酢酸、ギ酸エステルなどを使用す
ることもできる。
（２） 一般式［Ｉ−12］の化合物またはその反応性誘
導体を一般式［32］または［33］の化合物と反応させる
ことにより、一般式［Ｉ−13］の化合物を得ることがで
きる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチル
スルホキシドなどのスルホキシド類；アセトンなどのケ
トン類；メタノール、エタノールなどのアルコール類な
どが挙げられこれらの溶媒は二種以上混合して用いても
よい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム、tert−ブトキシドなどのアル
カリ金属アルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムなどのアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム、炭酸
ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ
る。
一般式［32］または［33］の化合物および塩基の使用量
は、一般式［Ｉ−12］の化合物またはその反応性誘導体
に対して、それぞれ、１〜５倍モルおよび１〜３倍モル
である。
この反応は通常、−20〜150℃で、30分〜24時間実施す
ればよい。
（３） 一般式［Ｉ−13］の化合物を脱アシル化反応に
付すことにより、一般式［Ｉ−14］の化合物を得ること
ができる。
脱アシル化反応としては、たとえば、加水分解反応が挙
げられる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類；スルホラン；アセトニトリルな
どのニトリル類；アセトンなどのケトン類；ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類；メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類などが挙げられ、これらの溶媒は
二種以上混合して用いてもよい。
この反応は酸の存在下に行うことが好ましく、使用され
る酸としては、たとえば、塩化水素、臭化水素などのハ
ロゲン化水素類；塩酸、臭化水素酸などの鉱酸;p−トル
エンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機酸などが
挙げられる。
酸の使用量は、一般式［Ｉ−13］の化合物に対して、0.
5〜50倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
なお、Ｒ10が式 （式中、ｍ個またはｎ個のＲ18は同一または異なって水
素原子または前述したＲ5の置換基として述べた基が挙
げられる。） で表わされる一般式［Ｉ−13］の化合物を、オーガニッ
ク・シンセシス（Organic Synthesis Col.）第５巻、第
944頁〜第946頁に記載の方法に準じて反応させることに
より、Ｒ6とＲ7が隣接する窒素原子と一緒になって置換
されていてもよい３〜７員環の複素環式基を形成する一
般式［Ｉ］の化合物に誘導することもできる。
（製造法９） 一般式［Ｉ−15］の化合物を一般式［34］または［35］
の化合物と反応させることにより、一般式［Ｉ−16］の
化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、水および製造法７
（１）に記載したと同様の溶媒が挙げられる。
一般式［34］および［35］の化合物の使用量は、一般式
［Ｉ−15］の化合物に対して、それぞれ、１〜５倍モル
である。
この反応は通常、−20〜150℃で、５分〜24時間実施す
ればよい。
なお、クロロスルホニルイソシアナートを用いる場合、
反応後、得られた化合物をさらに通常の酸で処理するこ
とにより、一般式［Ｉ−16］の目的化合物へ誘導するこ
とができる。
（製造法10） （１） 一般式［Ｉ−６］の化合物を一般式［Ｉ−６］
の化合物に対して２〜2.5倍モルのハロゲン剤と反応さ
せることにより、一般式［Ｉ−17］の化合物を得ること
ができる。
この反応は製造法７（１）で説明したと同様に実施する
ことができる。
（２） 一般式［Ｉ−17］の化合物を塩基と反応させる
ことにより、一般式［Ｉ−18］の化合物を得ることがで
きる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノールな
どのアルコール類；酢酸エチルなどのエステル類;N,N−
ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類；ピリジン;2,6−ルチジン
などが挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用い
てもよい。
この反応に使用される塩基としては、たとえば、トリエ
チルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、DBUなどの有機
塩基；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金
属炭酸塩などが挙げられる。
塩基の使用量は、一般式［Ｉ−17］の化合物に対して、
１〜５倍モルである。
この反応は通常、20〜150℃で、10分〜24時間実施すれ
ばよい。
（３） 一般式［Ｉ−18］の化合物を一般式［36］の化
合物と反応させることにより、一般式［Ｉ−19］の化合
物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンのようなエ
ーテル類；ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類；水などが挙げ
られ、これらの溶媒は二種以上混合しても用いてもよ
い。
一般式［36］の化合物の使用量は、一般式［Ｉ−18］の
化合物に対して、１〜50倍モルである。
この反応は通常、−20〜80℃、好ましくは、−10〜30℃
で、30分〜24時間実施すれはよい。
（４） Ｒ6が水素原子である一般式［Ｉ−19］の化合
物を製造法８（１）と同様の方法でアシル化することに
より、一般式［Ｉ−20］の化合物を得ることができる。
（製造法11） （１） 一般式［Ｉ−21］の化合物を、一般式［Ｉ−2
1］の化合物に対して、0.9〜1.5倍モルのハロゲン化剤
と製造法７（１）の方法と同様にして反応させることに
より、一般式［Ｉ−22］の化合物を得ることができる。
（２） 一般式［Ｉ−22］の化合物を製造法８（１）と
同様の方法でアシル化することにより、一般式［Ｉ−2
3］の化合物を得ることができる。
（３） 一般式［Ｉ−23］の化合物を一般式［37］の化
合物と反応させることにより、一般式［Ｉ−24］の化合
物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
メタノール、エタノールなどのアルコール類;N,N−ジメ
チルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシ
ドなどのスルホキシド類；テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類；水などが挙げられ、これらの溶
媒は二種以上混合して用いてもよい。
また、この反応においては、塩基を用いてもよく、その
塩基としては、たとえば、製造法10（２）で説明したと
同様の有機塩基が挙げれる。
一般式［37］の化合物および塩基の使用量は、一般式
［Ｉ−23］の化合物に対して、それぞれ、１〜３倍モル
である。
この反応は通常、−20〜150℃で、30分〜24時間実施す
ればよい。
一般式［37］の化合物は、系内で調製してもよい。
また、Ｒ3cがシアノ基である一般式［Ｉ−24］の化合物
は、通常知られている加水分解反応、エステル化反応な
どにより、Ｒ3cがカルバモイル、カルボキシルまたはア
ルコキシカルボニル基である一般式［Ｉ−24］の化合物
に誘導することができる。
また、Ｒ3cがアジド基である一般式［Ｉ−24］の化合物
は、接触還元または硫化水素−トリエチルアミンなどを
用いる通常の還元反応により、Ｒ3cがアミノ基である一
般式［Ｉ−24］の化合物に誘導することができる。
（製造法12） 一般式［Ｉ−８］の化合物を一般式［38］の化合物と反
応させることにより、一般式［Ｉ−25］の化合物を得る
ことができる。
この反応は、たとえば、オーガニック・シンセシス（Or
ganic Synthesis Col.）第５巻、第716頁〜第719頁に記
載の方法に準じて行うことができる。
（製造法13） 一般式［Ｉ−８］の化合物を一般式［39］の化合物と反
応させることにより、一般式［Ｉ−26］の化合物を得る
ことができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
製造法７（１）に記載したと同様の溶媒;N,N−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；
ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;1,2−ジエ
トキシエタンなどのエーテル類などが挙げられ、これら
の溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いてもよく、その塩基とし
ては、たとえば、トリエチルアミン、ピリジンなどの有
機塩基；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基
などが挙げられる。
一般式［39］の化合物および塩基の使用量は、一般式
［Ｉ−８］の化合物に対して、それぞれ、１〜10倍モル
および１〜２倍モルである。
この反応は通常、−20〜150℃で、30分〜10時間実施す
ればよい。
なお、Ｒ6aが置換されていてもよいフェニル基である一
般式［39］の化合物を用いる場合は、さらに、ヨウ化ナ
トリウム、ヨウ化カリウムなどのアルカリ金属ヨウ化
物；銅粉、酸化第１銅、塩化第１銅などの銅化合物を単
独または二種以上反応促進剤として添加してもよく、そ
の使用量は、一般式［Ｉ−８］の化合物に対して、それ
ぞれ、0.01〜２倍モルである。
この反応は通常、100〜200℃で、１〜15時間実施すれば
よい。
（製造法14） （１） 一般式［Ｉ−27］の化合物をニトロ化反応に付
すことにより、一般式［Ｉ−28］の化合物を得ることが
できる。
この反応に使用される溶媒としては、たとえば、酢酸、
無水酢酸などが挙げられる。
この反応に使用されるニトロ化剤としては、濃硝酸、発
煙硝酸などが用いられ、その使用量は、一般式［Ｉ−2
7］の化合物に対して、１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、10分間〜24時間実施す
ればよい。
（製造法15） 一般式［Ｉ−29］の化合物を還元することにより、一般
式［Ｉ−８］の化合物を得ることができる。
還元反応は、通常のニトロ基を還元する方法により行う
ことができる。
（製造法16） 一般式［Ｉ−30］の化合物またはその反応性誘導体に一
般式［36］の化合物を反応させることにより、一般式
［Ｉ−31］の化合物を得ることができる。
一般式［Ｉ−30］の化合物の反応性誘導体としては、た
とえば、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、活
性エステル、活性酸アミドおよび一般式［Ｉ−30］の化
合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げ
られる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であればとくに限定されないが、たとえ
ば、水；塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロ
ホルムなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類；ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類；アセトニトリルなどのニトリル類；酢酸エチルなど
のエステル類；ピリジン;2,6−ルチジンなどが挙げら
れ、これらの溶媒は、二種以上混合して用いてもよい。
この反応においては塩基を用いることができ、その塩基
としては、たとえば、トリエチルアミン、DBU、ピリジ
ンなどの有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などの水酸化アルカリ；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
などの炭酸アルカリなどが挙げられる。
さらには、一般式［36］の化合物を塩基として使用する
こともできる。
また、一般式［Ｉ−30］の化合物を遊離酸または含窒素
有機塩基との塩の状態で使用する場合は、適当な縮合剤
を用いることにより反応させることができる。
使用される縮合剤としては、たとえば、N,N′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドなどのN,N′−ジ置換カルボ
ジイミドが挙げられる。
一般式［36］の化合物の使用量は、一般式［Ｉ−30］の
化合物またはその反応性誘導体に対して、１〜50倍モル
である。
この反応は通常、−20〜150℃で、30分〜24時間実施す
ればよい。
（製造法17） 一般式［Ｉ−32］の化合物を酸で加水分解することによ
り、一般式［Ｉ−33］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水；ギ酸、酢酸などの有機カルボン酸類が挙げられ、こ
れら溶媒は２種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用される酸としては、塩酸、硫酸などの鉱
酸；塩化水素；臭化水素；ポリリン酸；ギ酸：三フッ化
ホウ素、四塩化チタンなどのルイス酸などが挙げられ
る。
酸の使用量は、一般式［Ｉ−32］の化合物に対して、５
倍〜100倍モルである。
この反応は通常、20〜150℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
なお、原料化合物および中間体を塩として用いる場合、
それらの塩としては、一般式［Ｉ］の化合物の塩と同様
のものが挙げられる。
つぎに、本発明の原料化合物は、たとえば、つぎの製造
法によって製造することができる。
「式中、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ3a、Ｒ3b、
Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ12、Ｘおよび〜は前記した意味を有し;R
13はハロゲン原子またはアルキルスルホニルオキシもし
くはアリールスルホニルオキシ基などの脱離基を;R14は
ヒドロキシル保護基を;R15はアシル基を;R16は水素原子
またはヒドロキシル保護基を意味する。」 ヒドロキシル保護基としては、たとえば、メチル、エチ
ルなどの低級アルキル基、ベンジルなどのアルアルキル
基が挙げられる。
なお、原料化合物および中間体も塩として用いることが
でき、これらの塩としては、一般式［Ｉ］の化合物の塩
と同様のものが挙げられる。
以下、各製造法について説明する。
（製造法Ａ） 一般式［１］の化合物を塩基の存在下、一般式［２］の
化合物と反応させることにより、一般式［３］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシドまたは水と有機溶媒（た
とえば、N,N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、メ
チノール、エタノールなど）との混合溶媒などが挙げら
れる。
この反応に使用される塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
tert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物などが挙げられる。
また、一般式［２］の化合物の代わりに、β−プロピオ
ラクトンまたはその誘導体を使用してもよい。
塩基および一般式［２］の化合物の使用量は、一般式
［１］の化合物に対して、それぞれ、１〜10倍モルおよ
び１〜５倍モルである。
この反応は通常、20〜100℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
４位にＲ5−Ｚ−基（式中、Ｒ5およびＺは前記した意味
を有する。）を有する３−ニトロフェノール（参照：特
開昭57-203079号）を、通常のニトロ基の還元並びに前
述した製造法４に記載のスルホニル化を行うことによ
り、原料である一般式［１］の化合物を得ることができ
る。
（製造法Ｂ） （１） 一般式［１］の化合物を塩基の存在下、一般式
［４］または［５］の化合物と反応させることにより、
一般式［６］の化合物を得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチル
スルホキシドなどのスルホキシド類;HMPA;塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素類などの溶媒が挙げられ、これらの溶媒は
二種以上混合して用いてもよい。
この反応に使用される塩基としては、金属ナトリウム、
金属カリウムのようなアルカリ金属；水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物；ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
tert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩；トリエチルアミン、DBU、ピリジンなどの有機アミ
ン類などが挙げられる。
一般式［４］または［５］の化合物および塩基の使用量
は、一般式［１］の化合物に対して、それぞれ、１〜５
倍モルである。
この反応は−20〜150℃で、30分〜24時間実施すればよ
い。
この反応で得られる一般式［６］の化合物は、シス体、
トランス体またはそれらの混合物を包含するが、これら
のシス体、トランス体またはそれらの混合物は、いずれ
もつぎの反応に使用することができる。
（２） さらに、一般式［６］の化合物を加水分解する
ことにより、一般式［７］の化合物を得ることができ
る。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水または水と有機溶媒（メタノール、エタノールなどの
アルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフランなどの
エーテル類など）の混合溶媒が挙げられる。
この加水分解反応は、通常、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基などを用いて行うことができ
る。
無機塩基の使用量は、一般式［６］の化合物に対して、
１〜50倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
なお、Ｒ4aがアルコキシカルボニル基である場合は、直
接一般式［６］の化合物を製造法２（１）で述べたと同
様の閉環反応に付すことにより、一般式［Ｉ−３］の化
合物を得ることができる。
（製造法Ｃ） 一般式［８］の化合物を塩化アルミニウム、三弗化ホウ
素などのルイス酸の存在下、一般式［９］の化合物と反
応させることにより、一般式［10］の化合物を得ること
ができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類；酢酸などの有機カルボン酸類；二硫化炭
素；ニトロベンゼンなどが挙げられ、これらの溶媒は二
種以上混合して用いてもよい。
一般式［９］の化合物およびルイス酸の使用量は、一般
式［８］の化合物に対して、それぞれ、１〜1.2倍モル
および１〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
さらに、一般式［10］の化合物を通常の脱保護反応に付
すことにより、一般式［11］の化合物を得ることができ
る。
なお、一般式［８］の化合物は、たとえば、４位にＲ5
−Ｚ−基（式中、Ｒ5およびＺは前記した意味を有す
る。）を有する３−ニトロアニソールを、通常のニトロ
基の還元、ついでスルホニル化反応に付することによ
り、製造することができる。［参照：ジャーナル・オブ
・ケミカル・ソサエティー［J.Chem.Soc］、第581頁〜
第588頁（1960年）；ヘルベチカ・シミカ・アクタ［Hel
v.Chim.Acta］、第61巻，第2452頁〜第2462頁（1978
年）；ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティー［J.
Chem.Soc］、第885頁〜第889頁（1959年）；ヘルベチカ
・シミカ・アクタ［Helv.Chim.Acta］、第48巻，第336
頁〜第347頁（1965年）；ケミカル・アブストラクツ［C
hemical Abstracts］第40巻、2806（３）（1946年）］ （製造法Ｄ） 一般式［12］の化合物を前記した製造法Ａおよび１の方
法に準じて、一般式［２］の化合物と反応させることに
より、一般式［13］の化合物を得、ついで、一般式［1
3］の化合物を閉環反応に付した後、得られた一般式［1
4］の化合物を脱水素化反応に付すことにより、一般式
［15］の化合物を得ることができる。
一般式［15］の化合物を酸触媒の存在下、脱アシル化反
応に付すことにより、一般式［16a］の化合物を製造す
ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、水および水と有機
溶媒（たとえば、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）との混合物が挙げられ
る。
この反応に使用される酸触媒としては、塩酸、硫酸など
の鉱酸またはパラトルエンスルホン酸などの有機酸など
が挙げられる。
酸触媒の使用量は、一般式［15］の化合物に対して、0.
1〜50倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
（製造法Ｅ） 一般式［17］の化合物を塩基の存在下、一般式［18］の
化合物と反応させることにより、一般式［19］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類;N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類が挙げられる。一
般式［18］の化合物を溶媒として用いることもできる。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、金属ナ
トリウム、金属カリウムなどのアルカリ金属；ナトリウ
ムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド；
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムtert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属
水素化物などが挙げられる。
塩基および一般式［18］の化合物の使用量は、一般式
［17］の化合物に対して、それぞれ、１〜10倍モルおよ
び１〜100倍モルである。
この反応は通常、20〜150℃で、30分間〜24時間実施す
ればよい。
また、Ｒ16がヒドロキシル保護基の場合は、一般式［1
7］の化合物を、上記と同様にして一般式［18］の化合
物と反応させた後、通常の保護基を脱離する反応に付す
ことにより一般式［19］の化合物を得ることができる。
なお、一般式［１］の化合物に三弗化ホウ素−酢酸また
は塩化アルミニウム−無水酢酸などを反応させることに
より、一般式［17］の化合物を得ることができる。
この反応は、フリース転位反応を応用するものであり、
ケミシェ・ベリヒテ（Chem.Ber.）第95巻、第1413頁（1
962年）；ホーメーション・オブ・シーシーボンド（For
mation of C-C Bonds）第III巻、第384頁〜第453頁；ジ
ーン・マシュー，ジーンワイル−レイナール（Jean Mat
hieu,Jean Weill-Raynal）著、1979年、ジョージ・シー
ム・パブリッシャーズ（Geoge Thieme Publishers）発
行などに記載の方法に準じて行うことができる。
（製造法Ｆ） （１） 一般式［20］の化合物を塩化アルミニウムまた
は三フッ化ホウ素などのルイス酸の存在下、一般式
［９］の化合物と反応させることにより、一般式［21］
の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類；二硫化炭素；ニトロベンゼンなどが挙げら
れ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよい。
一般式［９］の化合物およびルイス酸の使用量は、一般
式［20］の化合物に対して、それぞれ、２〜10倍および
２〜５倍モルである。
この反応は通常、０〜150℃で、30分間〜24時間実施す
ればよい。
一般式［21］の化合物を通常の脱保護反応に付すことに
より、一般式［22］の化合物を得ることができる。
（２） 一般式［22］の化合物を製造法３で説明したと
同様の方法により、一般式［23］の化合物を得ることが
できる。
一般式［23］の化合物を通常の加水分解反応に付すこと
により、一般式［24］の化合物を得ることができる。
なお、一般式［20］の化合物は、たとえば、４位にＨ−
Ｚ−基（式中、Ｚは前記した意味を有する。）を有する
３−ニトロアニソールを、通常のニトロ基の還元並びに
前述した製造法４に記載のスルホニル化反応に付すこと
により、製造することができる。
（製造法Ｇ） 一般式［25］の化合物を塩基の存在下、一般式［26］の
化合物と反応させることにより、一般式［27］の化合物
を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水；メタノール、エタノールなどのアルコール類などが
挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよ
い。
この反応で使用される塩基としては、たとえば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ；ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
tert−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなど
が挙げられる。
塩基および一般式［26］の化合物の使用量は、一般式
［25］の化合物に対して、それぞれ、１〜10倍モルおよ
び１〜100倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
（製造法Ｈ） 一般式［Ｉ−28］の化合物を水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの水酸化アルカリで加水分解することによ
り、一般式［28］の化合物を得ることができる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
水；メタノール、エタノールなどのアルコール類などが
挙げられ、これらの溶媒は二種以上混合して用いてもよ
い。
この反応に使用される水酸化アルカリの使用量は、一般
式［Ｉ−28］の化合物に対して、２〜50倍モルである。
この反応は通常、０〜100℃で、30分〜24時間実施すれ
ばよい。
以上、説明した製造法の他に、一般式［Ｉ−８］の化合
物に（ｉ）イミノ酢酸アルキルエステルもしくはイミノ
酢酸クロリド、（ii）シアナミドまたは（iii）アルキ
ルイソチオ尿素を、それぞれ以下の（ｉ）〜（iii）の
文献に記載の方法に準じて反応させることにより、一般
式［Ｉ］の化合物を得ることができる。
（ｉ） シンセティク オーガニック ケミストリー
（Synthetic Organic Chemistry）ジョン ウィリー
アンド サンズ社（John Wiley ＆ Sons,Inc.）1953年
度版、第634頁〜第639頁 （ii） アナーレン（Ann.）、第442巻、第144頁（1925
年） （iii） オーガニック シンセシス（Organic Synthes
is）Col.Vol.III、第440頁〜第442頁 さらに、本発明化合物および原料化合物は、たとえば、
通常知られている酸化、還元、脱水、加水分解、ハロゲ
ン化、アルキル化、アシル化、アミド化、ネアルキルス
ルホニル化、アルケニルスルホニル化、アリールスルホ
ニル化、エステル化、イミノ化、脱アルキル化、ヘテロ
環形成反応などを適宜組合わせることにより、他の目的
化合物または他の原料化合物に誘導することもできる。
また、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がホルミル、アシル、シア
ノ、カルバモイルもしくはカルボキシル基であるかまた
はこれらの官能基で置換された基である一般式［Ｉ］の
化合物は、他の目的化合物に誘導することができる。た
とえば、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がホルミル基またはホルミ
ルで置換された基である一般式［Ｉ］の化合物は、テト
ラヘドロン・レターズ［Tetrahedron.Lett.］第1187頁
〜第1190頁（1974年）；シンセティック・コミニュケー
ションズ［Synth.Comm.］第10巻、第889頁〜895頁（198
0年）、テトラヘドロン［Tetrahedron］第30巻、第3563
頁〜3568頁（1974年）、カレント・サイエンス［Curr.S
ci.］第49巻、第18頁〜第19頁（1980年）、テトラヘド
ロン・レターズ［Tetrahedron Lett.］第1955頁〜第199
8頁（1973年）、米国特許第4,196,128号および第3,906,
005号、オーストラリア特許第516,897号などに記載され
ている方法に準じてＲ3、Ｒ4およびＲ5がカルボキシ
ル、シアノ、ハロゲン、ニトロまたはヒドロキシル基で
あるかまたはこれらの基で置換された基である他の目的
化合物に変換することもできる。
また、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がアシル基またはアシル基で
置換された基である一般式［Ｉ］の化合物は、通常知ら
れている反応、たとえば、ウィテッヒ（Wittig）反応に
より、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がアルケニル基であるかまた
はアルケニル基で置換された基である目的化合物に誘導
することもできる。この反応は、オーガニック・リアク
ション［Organic Reaction］第14巻、第270頁〜第490頁
に記載されている方法に準じて行うことができる。
あるいはグリニャール（Grignard）反応によりアシル基
を、相当すアルコールに誘導することもできる。この反
応は、日本化学会編、実験化学講座、第18巻、有機化合
物の反応、第363頁〜第408頁（丸善）に記載されている
方法に準じて行うことができる。
また、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5がカルボキシル基またはカル
ボキシル基で置換された基である一般式［Ｉ］の化合物
は、クルチウス（Curtius）転移によりＲ3、Ｒ4および
Ｒ5がアミノもしくはアルコキシカルボニルアミノ基で
あるかまたはアミノもしくはアルコキシカルボニルアミ
ノ基で置換された基である目的化合物に誘導することも
できる。この反応はオーガニック・リアクション［Orga
nic Reaction］第３巻、第337頁〜第449頁に記載されて
いる方法に準じて行うことができる。
なお、原料化合物または目的化合物において、それらが
ヒドロキシル基、アミノ基またはカルボキシル基などを
有する場合、これらの基はたとえば、プロテクティブ・
グループス・イン・オーガニック・シンセシス［Protec
tive Groups in Organic Synthesis ティー・ダブリュ
ー・グリーン（T.W.Green）著、（1981年）ジョン・ウ
ィリー・アンド・サンズ社（John Wiley ＆ Sons,In
c.）］に記載の保護基で保護されていてもよく、必要に
応じて常法で該保護基を脱離することもできる。
一般式［Ｉ］の本発明化合物は、常法によりカプセル
剤、散剤、顆粒剤、丸剤、錠剤、懸濁剤、乳剤、液剤、
パップ剤、軟膏剤、注射剤、点眼剤、リニメント剤、シ
ロップ剤または坐剤として経口または非経口で投与する
ことができる。また、投与法、投与量および投与回数は
患者の年齢および症状に応じて適宜増減されるが、通常
成人に対して１日約5.0mg〜約1000mgを１回から数回に
分割して投与すればよい。
［発明の効果］ つぎに、本発明の代表的化合物を表−１に示し、つい
で、これらの薬理作用を説明する。
なお、表−１中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＺは
つぎの式の置換基を示す。
1.抗炎症作用 （１） カラゲニン足蹠浮腫抑制作用 抗炎症作用のカラゲニン足蹠浮腫抑制作用は、シー・エ
イ・ウィンター（C.A.Winter）らの方法［プロシーディ
ングズ・オブ・ザ・ソサエティー・フォア・エキスペリ
メンタル・バイオロジー・アンド・メディシン（Procee
dings of the Society for Experimental Biology and
Medicine）第111巻、第544頁（1962年）］に準じて試験
を行った。
一夜絶食した呑竜系雄性ラット（体重90〜120g）を一群
６〜７匹用い、0.5％カルボキシメチルセルロース水溶
液（W/V）に懸濁させた被検化合物を1ml/100g体重の割
合で経口投与した。１時間後、１％カラゲニンを左後肢
足蹠皮下に0.1ml注射した。起炎後、３時間目に後肢足
蹠腫脹容積を測定し、注射前の容積から浮腫率を求め、
下記の式により抑制率を求めた。
なお、結果は抑制率（ｘ％）により、つぎに記載の抑制
効果で表わした。
抑制率（ｘ％） −:x＜10, ±:10≦ｘ＜15 ＋:15≦ｘ＜20, ＋＋:20≦ｘ＜30 ＋＋＋:30≦ｘ＜40,＋＋＋＋:x≧40 その結果を表−２に示す。
（２） アジュバント関節炎抑制作用 アジュバント関節炎抑制作用はイー・エム・グレン（E.
M.Glenn）の方法［アメリカン・ジャーナル・オブ・ベ
タリナリー・リサーチ（American Journal of Veterina
ry Research）第27巻、第339頁（1966年）］に準じて試
験した。
ウィスタールイス系雄性ラット（体重190〜230g）を１
群５匹用い、アジュバントとして流動パラフィンに結核
菌（Mycobacterium tuberculosis）の乾燥死菌を6mg/ml
の割合で懸濁させたものを用い、尾根部皮内に0.1ml注
射した。アジュバント処理後18日目に両後肢腫脹容積に
より群分けし、１日１回連続７日間（表−３参照）、ま
たは４日間（表−４参照）、被検化合物を0.5％カルボ
キシメチルセルロース水溶液（W/V）に懸濁させたもの
を1ml/100g体重の割合で経口投与した。最終投与の翌日
に両後肢腫脹容積を測定し、（１）と同様にして抑制効
果を求めた。なお、結果は抑制率（ｘ％）により、つぎ
に記載の抑制効果で表わした。
抑制率（ｘ％） −:x＜10, ±:10≦ｘ＜15 ＋:15≦ｘ＜20, ＋＋:20≦ｘ＜30 ＋＋＋:30≦ｘ＜40,＋＋＋＋:x≧40 その結果を表−３および表−４に示す。
2.潰瘍誘発作用 １群７〜８匹のウィスター系雄性ラット（体重180〜230
g）を用い、24時間絶食（水は自由に摂取させる）後、
0.5％カルボキシメチルセルロース水溶液（W/V）に懸濁
させた被検化合物を1ml/100g体重の割合で経口投与し
た。絶食絶水下に24時間放置した後、頸椎脱臼により致
死させ、胃を摘出し、１％ホルマリン溶液（V/V）で30
分間固定した。この胃を大弯にそって切り開き、実体顕
微鏡下で胃粘膜上に発生したエロージョンおよび潰瘍の
長さ（mm）を測定し、その総和ｌ（mm）を求め、以下に
示す判定基準にしたがって潰瘍係数とした。
0:l＜0.5, 1:0.5≦ｌ＜1, 2:1≦ｌ＜2, 3:2≦ｌ＜3, 4:3≦ｌ＜5, 5:5≦ｌ＜7, 6:7≦ｌ＜10, 7:10≦ｌ＜15, 8:15≦ｌ＜25, 9:25≦ｌ＜40, 10:l≧40 ついで、各被検化合物について潰瘍係数５を誘発する用
量UD50（mg/kg）を求めた。
その結果を表−５に示す。
3.急性毒性 ４週令のICR系雄性マウス（体重約20〜25g,1群３匹）を
用いて経口急性毒性を求めた。被検化合物を0.5％カル
ボキシメチルセルロース水溶液（W/V）に懸濁させたも
のを0.2ml/10g体重の割合で経口投与した。投与後１週
間にわたり、一般症状を観察した。被検化合物No.1,34,
39,46,94および99の化合物はそれぞれ、500mg/kgの経口
投与によっても死亡例を認められず、また、異常行動も
認められなかった。
これら被検化合物のLD50は500mg/kg以上であった。
なお、インドメタシンのLD50は25mg/kgであった。
以上の結果から、本発明化合物は優れた薬理効果と高い
安全性を有し、インドメタシンに比べて極めて安全域の
広い化合物であることがわかる。
よって、本発明化合物は優れた薬理効果と高い安全性を
有することが明らかである。
［実施例］ つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、溶媒の混合比はすべて容量比であり、カラムクロ
マトグラフィーにおける担体はメルク社製のシリカゲル
［キーゼルゲル60、アート.7734（Kieselgel 60,Art.77
34）］を用いた。
また、以下に使用される略号はつぎの意味を有する。
Me;メチル、Et;エチル、ｉ−Pr;イソプロピル、Ac;アセ
チル、IPA;イソプロピルアルコール、IPE;ジイソプロピ
ルエーテル、ｔ−Bu;tert−ブチル、Bz;ベンゾイル、DM
F;N,N−ジメチルホルムアミド、DMSO;ジメチルスルホキ
シド、〜；（Ｅ）体、（Ｚ）体またはそれらの混合物 また表中の［ ］は再結晶溶媒を示す。
参考例１ （１） ３−ニトロ−４−フェノキシフェノール23.1g
にエタノール120mlおよび水120mlを加え、60℃で加熱溶
解させる。ついで、4N塩酸2.3mlを加え、反応温度を65
〜70℃に保ちながら鉄粉16.8gを20分間を要して分割添
加する。この混合物を同温度で30分間撹拌した後、反応
液を熱時過し、液に水50mlを加え、放冷した後、析
出晶を取すれば、融点156〜157℃を示す３−アミノ−
４−フェノキシフェノール16.5g（収率82.1％）を得
る。
IR（KBr）cm-1;3400,3320,1590,1453,1230 同様にして、表−６の化合物を得た。
（２） ３−アミノ−４−フェノキシフェノール20.1g
およびピリジン23.7gを塩化メチレン200mlに溶解させ
る。氷冷下メタンスルホニルクロリド12.6gを含む塩化
メチレン60ml溶液を30分間を要して滴下する。この混合
物を同温度で２時間反応させ、これに水200mlを加えた
後、4N塩酸でpH3に調整し、有機層を分取する。有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた
結晶をベンゼンから再結晶すれば、融点138〜140℃を示
す３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシフェノ
ール23.7g（収率84.9％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3440,3250,1318,1215,1150 同様にして、表−７の化合物を得た。
参考例２ ３−アミノ−４−フェノキシフェノール20.1gを酢酸60m
lに溶解させ、これに氷冷下、無水酢酸30mlを加えた
後、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた結晶をトルエンから再結晶すれ
ば、融点151〜153℃を示す３−アセチルアミノ−４−フ
ェノキシフェノール22.6g（収率93％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3440,3190,1665,1605,1540,1450,1238,1
215 参考例３ （１） ３−ニトロ−４−フェノキシアニソールを参考
例１（１）と同様に反応させて、つぎの化合物を得た。
３−アミノ−４−フェノキシアニソール 融点;111〜113℃（50％含水エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3455,3350,1618,1500,1475,1215,1160 NMR（CDCl3）δ値； 3.61（2H,bs）,3.77（3H,s）,6.12〜7.45（8H,m） （２） ３−アミノ−４−フェノキシアニソール21.5g
およびトリエチルアミン11.1gを塩化メチレン220mlに添
加し、この混合物を−40℃に冷却する。ついで、これに
トリフルオロメタンスルホン酸無水物31.0gを含む塩化
メチレン60ml溶液を30分間を要して滴下した後、この混
合部を−40℃で１時間撹拌する。これに水200mlを加
え、有機層を分取する。有機層を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶にｎ−ヘキサンを加え、結晶を
取すれば、４−フェノキシ−３−トリフルオロメチルス
ルホニルアミノアニソール25.8g（収率74.4％）を得
る。
融点;57〜58℃ IR（KBr）cm-1;3260,1500,1370,1235,1215,1190,1128 NMR（CDCl3）δ値； 3.79（3H,s）,6.58〜7.48（9H,m） （３） ４−フェノキシ−３−トリフルオロメチルスル
ホニルアミノアニソール34.7gおよびエタンチオール31g
を塩化メチレン350mlに溶解させた後、氷冷する。同温
度で塩化アルミニウム27gを30分間を要して添加し、こ
の混合物を５〜10℃で30分間撹拌する。ついで、反応液
を氷水300mlに注ぎ、有機層を分取する。有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。得られた結晶を
トルエンから再結晶すれば、融点97〜99℃を示す４−フ
ェノキシ−３−トリフルオロメチルスルホニルアミノフ
ェノール28.5g（収率85.6％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3500,3150,1500,1438,1360,1230,1200,1
135 NMR（CDCl3＋ｄ6-DMSO）δ値； 6.56〜7.53（8H,m）,9.03（1H,bs）， 10.3（1H,bs） 同様にして、つぎの化合物を得た。
４−フェノキシ−３−フェニルスルホニルアミノフ
ェノール 融点;182〜183℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;3425,3240,1500,1480,1305,1215,1160 （４） ３−アミノ−４−フェノキシアニソール10.0g
をピリジン50mlに溶解させる。この溶液に氷冷下、メタ
ンスルホニルクロリド5.59gを10分間を要して滴下す
る。この混合物を20〜25℃で１時間撹拌する。ついで、
反応液を酢酸エチル200mlおよび水100mlの混合液に導入
し、有機層を分取する。有機層を2N塩酸100mlずつで３
回洗浄した後、飽和食塩水で洗浄する。有機層を分取
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をイソプロピルアルコールから
再結晶すれば、融点109.5〜111℃を示す３−メチルスル
ホニルアミノ−４−フェノキシアニソール12.5g（収率9
1.9％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3250,1610,1585,1480,1320,1220,1150 NMR（CDCl3）δ値； 2.94（3H,s）,3.81（3H,s）,6.36〜7.43（9H,m） 参考例４ （１） ３−アミノ−４−フェニルアミノアニソール2
1.4gをピリジン210mlに溶解させ、氷冷する。これにメ
タンスルホニルクロリド12gを30分間を要して滴下す
る。この混合物を５〜10℃で２時間撹拌した後、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物に水500mlおよび酢
酸エチル300mlを加え、4N塩酸でpH4に調整した後、有機
層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物にトルエンを加え、結晶を
取すれば、融点109〜111℃を示す３−メチルスルホニ
ルアミノ−４−フェニルアミノアニソール23.9g（収率8
1.8％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3360,3230,1600,1490,1390,1330,1290,1
150 （２） ３−メチルスルホニルアミノ−４−フェニルア
ミノアニソール29.2g、エタンチオール18.6gおよび塩化
メチレン300mlを混合し、氷冷する。これに塩化アルミ
ニウム40gを20分間を要して加え、この混合物を５〜10
℃で３時間撹拌する。反応液を氷水500mlに導入し、有
機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物にエタノールを加え、結
晶を取すれば、融点184〜186℃を示す３−メチルスル
ホニルアミノ−４−フェニルアミノフェノール23.9g
（収率86％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3425,3380,3250,1600,1490,1310,1150 参考例５ （１） ４−メトキシ−２−ニトロフェノール20gをエ
タノール350mlに懸濁させ、これに５％パラジウム−炭
素550mgを加え、常圧下、20〜30℃で水素添加を行う。
反応終了後、触媒を去し、減圧下に液の溶媒を留去
する。得られた結晶をイソプロピルアルコールから再結
晶すれば、２−アミノ−４−メトキシフェノール15.3g
（収率93％）を得る。
（２） ２−アミノ−４−メトキシフェノール10gを塩
化メチレン100mlに溶解させ、これにピリジン17mlを加
え、５℃に冷却する。ついで、これにメタンスルホニル
クロリド9.1gを10分間を要して滴下し、この混合物を５
〜10℃で１時間撹拌する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物に酢酸エチル100mlおよび水50mlを加えた
後、混合物を4N塩酸でpH2に調整し、有機層を分取す
る。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をイソプロピルアルコールから再結
晶すれば、融点135〜136℃を示す４−メトキシ−２−メ
チルスルホニルアミノフェノール14.4g（収率92％）を
得る。
IR（KBr）cm-1;3275,1600,1500,1405,1325,1210,1150 参考例６ ４−（３−メチルフェノキシ）−３−ニトロアニソール
を参考例１（１）および（２）と同様に処理して、３−
メチルスルホニルアミノ−４−（３−メチルフェノキ
シ）アニソールを得る。
融点;87〜88℃（イソプロピルアルコールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3250,1480,1385,1335,1250,1210,1150,1
105 同様にして、表−８の化合物を得た。
参考例７ （１） ４−クロロ−３−ニトロアニソール20g、酢酸6
7mlおよび47％（W/W）臭化水素酸83mlを混合し、これに
無水酢酸50mlを加え、この混合物を8.5時間還流する。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に
酢酸エチル300mlおよび水500mlを加え、有機層を分取す
る。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をトル
エンから再結晶すれば、融点123.5〜125.5℃を示す４−
クロロ−３−ニトロフェノール15.5g（収率83.6％）を
得る。
IR（KBr）cm-1;3400,1510,1340,1280,1200 （２） ４−クロロ−３−ニトロフェノール2.0gをN,N
−ジメチルホルムアミド15mlに溶解させ、これに５〜10
℃で水素化ナトリウム（純度60％）490mgを10分間を要
して添加し、ついでこれにベンジルクロリド1.53gを10
分間を要して滴下する。この混合物を70℃で１時間撹拌
した後、反応液を氷水50mlおよび酢酸エチル50mlの混合
液に導入し、有機層を分取する。有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をｎ−ヘ
キサンで洗浄した後、ジイソプロピルエーテルおよびｎ
−ヘキサン混合液を加え、得られた結晶を取すれば、
融点50〜50.5℃を示す４−ベンジルオキシ−２−ニトロ
−クロロベンゼン1.8g（収率59.4％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1520,1475,1350,1300,1235,990 （３） ４−メトキシフェノール880mgをN,N−ジメチル
ホルムアミド10mlに溶解させ、これにカリウムtert−ブ
トキシド790mgを加える。ついで、これに４−ベンジル
オキシ−２−ニトロ−クロロベンゼン1.7gを加え、この
混合物を110〜120℃で１時間撹拌する。ついで、反応液
を氷水50mlおよび酢酸エチル50mlの混合液に導入し、有
機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液；トルエン）で精製すれば、５−ベンジル
オキシ−２−（４−メトキシフェノキシ）ニトロベンゼ
ン1.92gを得る。
融点;120〜120.5℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;1520,1485,1245,1225,1210,1195 同様にして、つぎの化合物を得た。
５−ベンジルオキシ−２−（２−メトキシフェノキ
シ）ニトロベンゼン 融点;80〜81℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;1525,1495,1350,1265,1235,1215,1005 （４） ５−ベンジルオキシ−２−（４−メトキシフェ
ノキシ）ニトロベンゼン1.8gを酢酸40mlに溶解させ、こ
れに５％パラジウム−炭素200mgを加え、常圧下、室温
で水素添加を行う。反応終了後、触媒を去し、減圧下
に溶媒を留去する。ついで、得られた残留物に塩化メチ
レン7mlおよびピリジン1.10mlを加えて溶解させ、これ
にメタンスルホニルクロリド400mgを５〜10℃で５分間
を要して滴下する。この混合物を同温度で１時間撹拌し
た後、水20mlおよびクロロホルム20mlを加え、有機層を
分取し、2N塩酸20mlおよび水200mlで順次洗浄する。有
機層に５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層を分取
する。水層を6N塩酸でpH2に調整し、酢酸エチル50mlを
加えて、有機層を分取する。得られた有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチ
ル＝10:1）で精製すれば、３−メチルスルホニルアミノ
−４−（４−メトキシフェノキシ）フェノール1.29g
（収率81.6％）を得る。
融点;109〜110.5℃（トルエンから再結晶） IR（KBr）cm-1;3470,1500,1315,1220,1150 同様にして、つぎの化合物を得た。
３−メチルスルホニルアミノ−４−（２−メトキシ
フェノキシ）フェノール 融点;114〜115℃（トルエンから再結晶） IR（KBr）cm-1;3480,3250,1495,1305,1275,1140 参考例８ （１） ３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシ
アニソール10gおよびアセチルクロリド2.81gを無水塩化
メチレン100mlに溶解させ、これに氷冷下、塩化アルミ
ニウム9.1gを５分間を要して添加する。この混合物を20
〜25℃で１時間撹拌した後、反応液を氷水100mlに導入
し、有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をイソプロピルアル
コールから再結晶すれば、融点108.5〜110℃を示すメチ
ル＝４−メチルスルホニルアミノ−２−メトキシ−５−
フェノキシフェニル＝ケトン9.83g（収率86％）を得
る。
IR（KBr）cm-1;3300,1640,1600,1490,1330,1210,1155 同様にして、表−９の化合物を得た。
（２） メチル＝４−メチルスルホニルアミノ−２−メ
トキシ−５−フェノキシフェニル＝ケトン10.0gを塩化
メチレン100mlに溶解させ、これに氷冷下、塩化アルミ
ニウム3.98gを30分間を要して分割添加する。この混合
物を20〜25℃で１時間撹拌した後、反応液を氷水100ml
に導入し、有機層を分取する。有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をイソプロピ
ルアルコールから再結晶すれば、融点151〜153℃を示す
メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル＝ケトン8.8g（収率91.9％）
を得る。
IR（KBr）cm-1;3230,1625,1590,1580,1560,1485 同様にして、表−10の化合物を得た。
参考例９ ３−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシフェノー
ル29.7gに40％三弗化ホウ素の酢酸溶液60mlを加え、こ
の混合物を70〜75℃で30分間撹拌する。ついで、反応液
を水500mlに導入し、析出結晶を取する。得られた結
晶をイソプロピルアルコールから再結晶すれば、融点15
1〜153℃を示すメチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルス
ルホニルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン2.85
g（収率88.8％）を得る。
同様にして、表−11の化合物を得た。
実施例１ （１） 水酸化ナトリウム4gを溶解させた水250mlに３
−メチルスルホニルアミノ−４−フェノキシフェノール
27.9gを溶解させる。これに３−クロロプロピオン酸10.
9gおよび水酸化ナトリウム4gを水30mlに溶解させた水溶
液を加え、この混合物を30分間還流する。反応液を水冷
した後、4N塩酸でpH8に調整する。これに酢酸エチル70m
lを加え、水層を分取する。水層を4N塩酸pH4に調整し、
酢酸エチル100mlで抽出する。抽出した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物にジエチルエーテルを加える。析出固体を取すれ
ば、融点145〜149℃を示す３−（３−メチルスルホニル
アミノ−４−フェノキシフェノキシ）プロピオン酸8.1g
（収率23.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3250,1705,1482,1325,1210,1145 （２） ３−（３−メチルスルホニルアミノ−４−フェ
ノキシフェノキシ）プロピオン酸3.51gおよびポリリン
酸70gを混合し、この混合物を65〜70℃で1.5時間撹拌す
る。反応液を氷水300mlに導入し、酢酸エチル200mlで２
回抽出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をメ
タノールから再結晶すれば、融点143〜144℃を示す2,3
−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン18.7g（収率56.
1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3120,1665,1610,1485,1440,1320,1265,1
215,1160,1135 NMR（CDCl3）δ値； 2.74（2H,t,J＝6Hz）,3.10（3H,s）， 4.53（2H,t,J＝6Hz）,6.91〜7.49（7H,m）， 7.40（1H,s） （３） 2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.
33gおよび2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾ
キノン3.40gをジオキサン60mlに加え、この混合物を12
時間還流する。水冷した後、析出物を去し、減圧下に
溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；トルエン；酢酸エチル＝5:1）で精製
すれば、７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン（化合物No.1）2.68
g（収率81％）を得る。
融点;216.7〜217.6℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3110,1620,1585,1560,1485,1465,1440,1
320,1140 NMR（CDCl3＋ｄ6−DMSO）δ値； 3.12（3H,s）,6.24（1H,d,J＝6Hz）， 6.98〜7.53（6H,m）,7.75（1H,s）， 7.90（1H,d,J＝6Hz）,9.20（1H,bs） 実施例２ （１） ３−ブロモ−2,3−ジヒドロ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン4.12g、四フッ化ホウ素酸銀9.37gおよびメタ
ノール100mlを混合し、この混合物を４時間還流する。
反応液を冷却した後、不溶物を去し、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝5:1）で精製すれ
ば、2,3−ジヒドロ−３−メトキシ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オン1.27g（収率35％）を得る。
融点;139〜141℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3230,1680,1610,1490,1450,1330,1260,1
210,1150 （２） 2,3−ジヒドロ−３−メトキシ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン3.63g、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−
1,4−ベンゾキノン3.41gおよびジオキサン150mlを混合
し、48時間還流する。反応液を冷却し、析出物を去し
た後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル
＝3:1）で精製すれば、３−メトキシ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン（化合物No.2）1.91g（収率52.9％）を得
る。
融点;164〜166℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;1610,1480,1460,1330,1260,1215,1175,1
140 （３） ３−メトキシ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを参
考例４（２）と同様に処理して、３−ヒドロキシ−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン（化合物No.3）を得る。
融点;170〜173℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;1610,1480,1470,1340,1265,1210,1150 実施例３ （１） ３−ブロモ−2,3−ジヒドロ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン2.06gおよびメチルメルカプタン480mgを塩化
メチレン50mlに溶解させ、これに０〜５℃でトリエチル
アミン2.02gを加え、この混合物を室温で１時間撹拌す
る。反応液を水30mlに導入し、有機層を分取する。有機
層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝5
0:1）で精製すれば、2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノキシ−4H−１
−ベンゾピラン−４−オン900mg（収率47.4％）を得
る。
融点;126〜128℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3250,1690,1610,1480,1440,1340,1260,1
220,1160,1140 （２） 2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−３−メチルチオ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピ
ラン−４−オン350mgおよび2,3−ジクロロ−5,6−ジシ
アノ−1,4−ベンゾキノン1.08gをジオキサン14ml中で９
時間還流する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエ
ン：酢酸エチル＝10:1）で精製すれば、７−メチルスル
ホニルアミノ−３−メチルチオ−６−フェノキシ−4H−
１−ベンゾピラン−４−オン（化合物No.4）160mg（収
率45.7％）を得る。
融点;175〜176℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3120,1600,1480,1420,1310,1210,1140 （３） ７−メチルスルホニルアミノ−３−メチルチオ
−６−フェノキシ−4H−１ベンゾピラン−４−オンを等
モルのｍ−クロロ過安息香酸と反応させ、３−メチルス
ルフィニル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン（化合物No.5）
を得る。
融点;250℃以上（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3100,1620,1490,1460,1340,1280,1220,1
160,1060 （４） ７−メチルスルホニルアミノ−３−メチルチオ
−６−フェノキシ−4H−１ベンゾピラン−４−オンを２
倍モルのｍ−クロロ過安息香酸と反応させ、７−メチル
スルホニルアミノ−３−メチルスルホニル−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン（化合物No.6）
を得る。
融点;250℃以上（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3280,1640,1620,1480,1460,1340,1310,1
290,1220,1160,1140 実施例４ 実施例１（３）、実施例２（２）または実施例３（２）
と同様にして、表−12〜20の化合物を得た。
実施例５ （１） ４−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−３−メ
チルスルホニルアミノフェノール3gをN,N−ジメチルホ
ルムアミド15mlに溶解させ、これに水素ナトリウム（純
度60％）420mgを加え、この混合物を20〜25℃で20分間
撹拌する。ついで、これにプロピオール滲出メチルエス
テル880mgを、反応温度が40℃を越えないように維持し
ながら、約５分間を要して滴下し、この混合物を30〜40
℃で30分間撹拌する。反応終了後、反応液に水50mlおよ
び酢酸エチル50mlを加え、4N塩酸でpH4に調整した後、
有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝20:1）で精製
すれば、トランス−３−［４−（2,4−ジフルオロフェ
ノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシ］ア
クリル酸メチルエステル1.2g（収率31.6％）を得る。
融点;98.5〜98.9℃（酢酸エチル−ジイソプロピルエー
テルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3180,1700,1645,1600,1485,1335 NMR（CDCl3）δ値； 3.07（3H,s）,3.73（3H,s）， 5.55（1H,d,J＝12Hz）,6.70〜7.40（7H,m）， 7.70（1H,d,J＝12Hz） 同様にして、表−21の化合物を得た。
（２） トランス−３−［４−（2,4−ジフルオロフェ
ノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシ］ア
クリル酸メチルエステル1.2gに1Nを水酸化ナトリウム水
溶液24mlを加え、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌す
る。ついで、これに酢酸エチル30mlを加えた後、4N塩酸
でpH4に調整し、有機層を分取する。有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去すれば、油状のトランス
−３−［４−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−３−メ
チルスルホニルアミノフェノキシ］アクリル酸1.0g（収
率87.0％）を得る。
IR（ニート）cm-1;3250,1690,1600,1485 NMR（CDCl3）δ値； 3.07（3H,s）,5.52（1H,d,J＝12Hz）， 6.70〜7.40（7H,m）,7.79（1H,d,J＝12Hz） 同様にして、表−22の化合物を得た。
（３） トランス−３−［４−（2,4−ジフルオロフェ
ノキシ）−３−メチルスルホニルアミノフェノキシ］ア
クリル酸1.0gにポリリン酸30gを加え、この混合物を55
〜65℃で１時間撹拌する。ついで、反応液を氷水200ml
に導入した後、これに酢酸エチル50mlを加え、有機層を
分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝5:1）で精製すれ
ば、６−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−７−メチル
スルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン0.
4g（収率42.0％）を得る。
融点;182.2〜182.8℃（酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3200,3090,1635,1500,1480 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.26（3H,s）,6.28（1H,d,J＝6Hz）， 7.18（1H,s）,7.20〜7.66（3H,m）， 7.71（1H,s）,8.25（1H,d,J＝6Hz）， 10.09（1H,bs） 実施例６ 実施例５（３）と同様にして、表23の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性（融点、IRおよびNMR）
は、実施例１〜４に記載の化合物の物性と一致した。
実施例７ メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル＝ケトン3.4gをトルエン70ml
に懸濁させる。これにギ酸エチル17mlを加え、ついで水
素化ナトリウム（純度60％）3.4gを20分間を要して分割
添加する。この混合物を５時間還流した後、反応液を氷
水300mlに導入し、水層を分取する。水層を4N塩酸でpH4
に調整した後、酢酸エチル100mlずつで２回抽出する。
抽出した有機層を合わせ、減圧下に溶媒を留去する。得
られた残留物を酢酸20mlに溶解させ、これに濃塩酸1ml
を加えた後、この混合物を50〜60℃で30分間加熱する。
これに水200mlを加え、酢酸エチル200mlで抽出した後、
抽出液を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をセアセトニトリルから再結晶すれば、融点21
6.7〜217.6℃を示す７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン2.28g
（収率65％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3110,1620,1585,1560,1485,1465,1440,1
320,1140 実施例８ メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル＝ケトン3.21g、無水酢酸5.4
5gおよび酢酸ナトリウム4.1gを混合し、この混合物を13
0〜140℃で1.5時間撹拌する。反応液を室温まで冷却
し、これに酢酸エチル200mlおよび水100mlを加え、有機
層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物を酢酸エチル−ジイソプロ
ピルエーテルから再結晶すれば、融点186.5〜187℃を示
す２−メチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン860mg（収率2
5％）を得る。
実施例９ メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル＝ケトン3.21gをオルトギ酸
エチル16mlに懸濁させ、これに氷冷下、70％過塩素酸水
2.15gを10分間を要して滴下する。この混合物を20〜25
℃で30分間撹拌した後、反応液にジエチルエーテル50ml
を加え、結晶を取する。取した結晶に水50mlを加
え、２分間還流した後、室温まで冷却する。結晶を取
し、アセトニトリルから再結晶すれば、７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン2.90g（収率87.6％）を得る。
この化合物の物性（融点、IRおよびNMR）は、実施例１
（３）で得られた化合物の物性と一致した。
実施例10 （１） メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニ
ルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン26.0gおよ
びギ酸エチル52mlをトルエン500mlに懸濁させる。これ
に50〜60℃で水素化ナトリウム（純度60％）16.3gを30
分間を要して分割添加した後、この混合物を２時間還流
する。反応液を氷水500mlに導入し、6N塩酸でpH2に調整
した後、有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られ油状物をカラムクロ
マトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝3:
1）で精製すれば、２−（２−ヒドロキシ−４−メチル
スルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセト
アルデヒド25g（収率88.7％）を得る。
融点;121〜123℃（酢酸エチルから再結晶） （２） ２−（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセトアルデヒド
25gをベンゼン260mlおよびN,N−ジメチルホルムアミド1
30mlに溶解させ、これにN,N−ジメチルホルムアミドジ
メチルアセタール26mlを加え、この混合物を室温で８時
間撹拌する。反応液を酢酸エチル200mlおよび水200mlの
混合液に導入し、有機層を分取する。有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた油状物をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチ
ル＝20:1）で精製すれば、３−ホルミル−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン13g（収率50.4％）を得る。
融点;210〜215℃（分解；トルエン−酢酸エチルから再
結晶） IR（KBr）cm-1;3125,3070,1685,1635,1615,1485,1455,1
340,1305,1210,1150 実施例11 （１） メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニ
ルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン50gをN,N−
ジメチルホルムアミド１に溶解させ、これに水素化ナ
トリウム（純度60％）13.7gを20〜40℃で30分間を要し
て分割添加した後、この混合物を30〜40℃で１時間撹拌
する。ついで、これにベンジルブロミド29.3gを10〜15
℃で１時間を要して分割添加した後、この混合物を20〜
25℃で１時間撹拌する。反応液に酢酸エチル500mlおよ
び水500mlを加え、水層を分取する。水層に酢酸エチル5
00mlを加え、濃塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取
する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去
し、得られ残留物をトルエンから再結晶すれば、融点13
2〜134℃を示すメチル＝２−ベンジルオキシ−４−メチ
ルスルホニルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン
32.4g（収率50.7％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3225,1660,1500,1420,1335,1215,1160 （２） メチル＝２−ベンジルオキシ−４−メチルスル
ホニルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン4.11
g、炭酸ジエチル20.6ml、N,N−ジメチルホルムアミド2
0.6mlおよび水素化ナトリム（純度60％）1.6gを混合
し、この混合物を90〜100℃で30分間撹拌する。反応液
を氷水200mlに導入し、ジエチルエーテル50mlで洗浄
し、水層を分取する。水層を4N塩酸pH5に調整した後、
酢酸エチル100mlずつで２回抽出する。抽出した有機層
を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；
トルエン：酢酸エチル＝3:1）で精製すれば、エチル＝
２−（２−ベンジルオキシ−４−メチルスルホニルアミ
ノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテート4.35g（収
率90％）を得る。
融点;85〜90℃（ジイソプロピルエーテルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3325,1740,1655,1605,1495,1425,1395,1
340,1200,1160,1120 （３） エチル＝２−（２−ベンジルオキシ−４−メチ
ルスルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセ
テート4.83gをエタノール50mlに溶解させ、これに５％
パラジウム−炭素200mgを添加し、常圧下、40℃で１時
間水素添加を行う。反応終了後、パラジウム−炭素を
去し、減圧下に液の溶媒を留去する。得られた残留物
にジイソプロピルエーテルを加え、結晶を取し、酢酸
エチルおよびジイソプロピルエーテルの混合溶媒から再
結晶すれば、融点111.5〜112.5℃を示すエチル＝２−
（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５−
フェノキシベンゾイル）アセテート3.46g（収率88％）
を得る。
IR（KBr）cm-1;3330,1740,1640,1490,1345,1210,1160,1
120 （４） エチル＝２−（２−ヒドロキシ−４−メチルス
ルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテー
ト3.93gをN,N−ジメチルホルムアミド40mlに溶解させ、
これにN,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール
2.60gを加え、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌す
る。反応液を水200mlに導入し、4N塩酸でpH5に調整した
後、酢酸エチル100mlで抽出する。抽出した有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をエタノールから再結晶すれば、融点167〜168℃を示
す３−エトキシカルボニル−７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン
3.55g（収率88.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3200,1745,1620,1450,1335,1310,1160,1
070 （５） ３−エトキシカルボニル−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４
−オン4.03gにジオキサン80mlおよび6N塩酸40mlを加
え、この混合物を30分間還流する。反応液を冷却し、こ
れに水200mlを加え、析出晶を取する。得られた結晶
を水洗した後、酢酸から再結晶すれば、融点250℃以上
を示す３−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.41
g（収率91％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3200,1730,1620,1460,1330,1150 実施例12 （１） エチル＝２−（２−ヒドロキシ−４−メチルス
ルホニルアミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテー
ト850mgおよび酢酸ナトリウム540mgに無水酢酸2.55mlを
加え、この混合物を110〜120℃で10分間撹拌する。つい
で、反応液を酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に導
入し、2N塩酸でpH2に調整した後、有機層を分取する。
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；ト
ルエン：酢酸エチル＝5:1）で精製すれば、７−（Ｎ−
アセチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−３−エトキ
シカルボニル−２−メチル−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オン550mg（収率55.6％）を得る。
融点;166〜167.5℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;1730,1705,1640,1615,1435,1340,1230,1
160,1155 （２） ７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスルホニルア
ミノ）−３−エトキシカルボニル−２−メチル−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン500mgにジ
オキサン10mlおよび6N塩酸10mlを加え、この混合物を20
分間還流する。反応液を５〜10℃に冷却し、これに水30
mlを加える。得られた結晶を取し、酢酸から再結晶す
れば、融点238〜241℃を示す３−カルボキシ−２−メチ
ル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H
−１−ベンゾピラン−４−オン400mg（収率95.2％）を
得る。
IR（KBr）cm-1;3250,1725,1620,1480,1450,1375,1330 実施例13 （１） メチル＝２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシフェニル＝ケトン3.21g、酢
酸エチル50mlおよび水素化ナトリウム（純度60％）3.2g
を混合し、この混合物を４時間還流する。反応液を氷水
200mlに導入し、水層を分取する。水層を4N塩酸でpH4に
調整した後、酢酸エチル50mlずつで２回抽出する。抽出
した有機層を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物にトルエンを加えて結晶を
取し、酢酸エチルおよびジイソプロピルエーテルの混合
溶媒から再結晶すれば、融点142〜143℃を示す２−（２
−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェ
ノキシベンゾイル）アセトン2.65g（収率73％）を得
る。
IR（KBr）cm-1;3230,1620,1580,1490,1345,1320,1250,1
220,1160,1130 （２） ２−（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセトン3.63gを
N,N−ジメチルホルムアミド18mlに溶解させ、これにN,N
−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール2.62gを加
え、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌する。ついで、
反応液を水100mlに導入し、4N塩酸でpH5に調整した後、
酢酸エチル100mlで抽出する。抽出した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
エタノールから再結晶すれば、融点175〜177℃を示す３
−アセチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン2.38g（収率64
％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3220,1680,1640,1620,1485,1450,1330,1
295,1210,1155 実施例14 メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ
−５−フェノキシフェニル＝ケトン5.0gをエタノール85
mlに懸濁させ、これにシュウ酸ジエチル4.5mlを加え
る。ついで、これに水素化ナトリウム（純度60％）3.1g
を10分間を要して分割添加し、この混合物を1.5時間還
流する。ついで、反応液を氷水300mlに導入し、4N塩酸
でpH2に調整し、析出する結晶を取する。得られた結
晶を酢酸50mlに懸濁させ、これに濃塩酸1mlを加え、こ
の混合物を80℃で10分間撹拌する。反応終了後、これに
水200mlおよび酢酸エチル200mlを加え、有機層を分取す
る。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去
し、酢酸エチルおよびジイソプロピルエーテルの混合溶
媒から再結晶すれば、融点155〜156℃を示す２−エトキ
シカルボニル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.5g（収率56
％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3235,1740,1645,1620,1485,1450,1360,1
250,1145 実施例15 メチル＝５−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−２−ヒ
ドロキシ−４−メチルスルホニルアミノフェニル＝ケト
ン2.0gおよび酢酸ナトリウム550mgに無水酢酸1.06mlを
加え、この混合物を１時間還流する。反応液を酢酸エチ
ル50mlおよび水50mlの混合液に導入し、有機層を分取す
る。有機層を水で洗浄した後、減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をエタノール20mlに溶解させ、これに1N
水酸化ナトリウム水溶液12mlを加え、この混合物を10分
間還流する。反応液を酢酸エチル50mlおよび水50mlの混
合液に導入し、4N塩酸でpH2.0に調整した後、有機層を
分取する。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢
酸エチル＝10:1）で精製すれば、６−（2,4−ジフルオ
ロフェノキシ）−２−メチル−７−メチルスルホニルア
ミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン300mg（収率14.
4％）を得る。
融点;180〜181℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;3100,1640,1605,1500,1460,1390,1360,1
160,1140 実施例16 メチル＝２−（２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル
アミノ−５−フェノキシベンゾイル）アセテート3.93g
をN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させ、これに
水素化ナトリウム（純度60％）880mgを加え、この混合
物を25〜30℃で30分間撹拌する。反応液を氷水100mlに
導入し、これにジエチルエーテル50mlを加え、水層を分
取する。水層を4N塩酸でpH5に調整し、酢酸エチル50ml
ずつ２回抽出する。ついで、抽出した有機層を合わせ、
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をアセトニトリルから再結晶すれば、融点250℃以
上を示す２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.
05g（収率87.9％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3530,3400,3300,1680,1620,1560,1480,1
330,1225,1140 実施例17 （１） メチル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニ
ルアミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン2.0gおよび
3,4−ジメトキシベンズアルデヒド1.03gをメタノール25
mlに懸濁させ、これに50％水酸化ナトリウム水溶液5ml
を加え、この混合物を室温で３時間撹拌する。反応液を
酢酸エチル20mlおよび水20mlの混合液に導入し、4N塩酸
でpH2.0に調整する。得られた結晶を取し、水および
酢酸エチルで順次洗浄した後、酢酸から再結晶すれば、
融点210〜212℃を示す２−（3,4−ジメトキシフェニ
ル）ビニル＝２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルア
ミノ−５−フェノキシフェニル＝ケトン2.2g（収率75.6
％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3520,3250,1625,1490,1340,1155,1120 （２） ２−（3,4−ジメトキシフェニル）ビニル＝２
−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミノ−５−フェ
ノキシフェニル＝ケトン2.0gをメタノール20mlに懸濁さ
せ、これに15％水酸化ナトリウム水溶液3.7mlを加えて
溶解させる。ついで、これに０〜５℃で15％過酸化水素
水2.5mlを10分間を要して滴下した後、この混合物を同
温度で10時間撹拌する。反応液を酢酸エチル50mlおよび
水50mlの混合液に導入し、有機層を分取する。有機層を
水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー（溶出液；クロロホルム：メタノール＝200:
1）で精製すれば、３−ヒドロキシ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−２−（3,4−ジメトキシフェニル）−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン220mg
（収率10.7％）を得る。
融点;222〜223.5℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3225,1630,1490,1320,1210,1160,1120 実施例18 （１） ２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１ベンゾピラン−４−オン3.47
gを酢酸50mlに懸濁させ、これに濃硝酸（比重1.38）1.6
7mlを加え、この混合物を100〜110℃で20分間撹拌す
る。反応液を氷水300mlに導入し、析出物を取する。
得られた結晶を水で洗浄した後、アセトニトリルから再
結晶すれば、融点228〜230℃（分解）を示す２−ヒドロ
キシ−７−メチルスルホニルアミノ−３−ニトロ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン800mg
（収率20.4％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3300,1755,1740,1620,1600,1535,1485,1
440,1390,1330,1205,1145 （２） ２−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−３−ニトロ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン3.92gに1N水酸化ナトリウム水溶液80mlを加
え、この混合物を20〜25℃で５時間撹拌する。ついで、
4N塩酸でpH5に調整した後、酢酸エチル50mlを加え、有
機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去する。得られる黄色固体をN,N−ジメチルホル
ムアミド50mlに溶解させ、これにN,N−ジメチルホルム
アミドジメチルアセタール2.62gを加え、この混合物を2
0〜25℃で１時間撹拌する。反応液を水300mlに導入し、
4N塩酸でpH2に調整する。析出物を取し、水で洗浄し
た後、アセトニトリルから再結晶すれば、融点225〜227
℃を示す７−メチルスルホニルアミノ−３−ニトロ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン1.54g
（収率41％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3170,3070,1670,1620,1480,1450,1330,1
300,1150 実施例19 実施例７〜18と同様にして、表−24の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例１〜４に記載の
化合物の物性と一致した。
実施例20 （１） 水酸化ナトリウム8.0gを水240mlに溶解させ、
これに３−アセチルアミノ−４−フェノキシフェノール
24.3gを溶解させる。ついで、これに３−クロロプロピ
オン酸10.9gを加え、この混合物を30分間還流する。反
応液を水冷し、析出晶を去した後、液を4N塩酸でpH
9に調整し、酢酸エチル50mlずつで２回洗浄する。水層
を分取し、4N塩酸でpH4に調整した後、酢酸エチル200ml
で抽出する。抽出液を水および飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶にジエチルエーテルを加え、析出
した結晶を取すれば、融点138〜140℃を示す３−（３
−アセチルアミノ−４−フェノキシフェノキシ）プロピ
オン酸10.0g（収率31.7％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3270,1730,1630,1590,1540,1475,1425,1
220 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 2.00（3H,s）,2.68（2H,t,J＝6Hz）， 4.14（2H,t,J＝6Hz）,6.50〜7.92（7H,m）， 7.67（1H,d,J＝2.4Hz）,9.22（1H,bs） （２） 実施例１（２）と同様にして、つぎの化合物を
得た。
７−アセチルアミノ−2,3−ジヒドロ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 融点;214〜215℃（アセトニトリル−酢酸エチルから再
結晶） IR（KBr）cm-1;3305,1700,1665,1615,1590,1520,1438,1
270,1245,1220 NMR（CDCl3＋ｄ6-DMSO）δ値； 2.16（3H,s）,2.69（2H,t,J＝6Hz）， 4.49（2H,t,J＝6Hz）,6.75〜7.54（5H,m）， 7.19（1H,s）,8.06（1H,s）,9.32（1H,bs） （３） 実施例１（３）と同様にして、つぎの化合物を
得た。
７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン 融点;233〜235℃（クロロホルム−エタノールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;3250,3060,1695,1635,1510,1435,1303,1
245,1210 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 2.22（3H,s）,6.24（1H,d,J＝6Hz）， 7.10〜7.63（6H,m）,8.21（1H,d,J＝6Hz）， 8.53（1H,s）,9.91（1H,bs） （４） ７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−4H−１
−ベンゾピラン−４−オン2.95gをN,N−ジメチルホルム
アミド30mlに溶解させる。これに氷冷下、水素化ナトリ
ウム（純度60％）440mgを添加する。この混合物を同温
度で水素ガスの発生が止むまで撹拌した後、これにメタ
ンスルホニルクロリド1.26gを滴下する。この混合物を2
0〜25℃で１時間撹拌した後、これに水200mlおよび酢酸
エチル200mlを加え、有機層を分取する。有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、結晶をエタノールか
ら再結晶すれば、融点168〜169℃を示す７−（Ｎ−アセ
チル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.22g（収率86.1
％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1700,1640,1620,1480,1445,1360,1295,1
155 NMR（CDCl3）δ値； 2.12（3H,s）,3.40（3H,s）， 6.30（1H,d,J＝6Hz）,7.11〜7.63（7H,m）， 7.86（1H,d,J＝6Hz） 実施例21 ７−アセチルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾ
ピラン−４−オン2.95gをN,N−ジメチルホルムアミド30
mlに溶解させる。これに氷冷下、カリウムtert−ブトキ
シド1.35gを加え、この混合物を同温度で30分間撹拌し
た後、これにエタンスルホニルクロリド1.55gを滴下す
る。この混合物を20〜25℃で１時間撹拌した後、これに
水200mlおよび酢酸エチル200mlを加え、有機層を分取す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶に1N水酸化ナ
トリウム水溶液20mlおよびエタノール10mlを加え、この
混合物を２時間還流する。これに水100mlおよび酢酸エ
チル100mlを加えた後、4N塩酸でpH4に調整し、有機層を
分取する。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝5:1）で精製
すれば、７−エチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン0.75g（収率21.7
％）を得る。
融点;216〜218℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3070,1620,1582,1490,1455,1335,1200,1
155,1138 NMR（CDCl3＋ｄ6-DMSO）δ値； 1.37（3H,t,J＝7.2Hz）,3.25（2H,q,J＝7.2Hz）， 6.22（1H,d,J＝6Hz）,7.01〜7.47（5H,m）， 7.68（1H,s）,7.76（1H,s）， 7.93（1H,d,J＝6Hz）,9.21（1H,bs） 参考例10 （１） ７−アセチルアミノ−2,3−ジヒドロ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−６−オン29.7g、エ
タノール30mlおよび6N塩酸300mlを混合し、この混合物
を１時間還流する。反応液を氷水3lに導入し、析出した
結晶を取した後、エタノールから再結晶すれば、融点
154〜155℃を示す７−アミノ−2,3−ジヒドロ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン23.5g（収
率92.2％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3470,3330,1655,1610,1570,1500,1460,1
320,1300,1255 （２） ７−アミノ−2,3−ジヒドロ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−６−オン25.5gをピリジン200
mlに溶解させ、これに20〜25℃に保ちながらメチルスル
ホニルクロリド12.6gを滴下する。この混合物を同温度
で12時間反応させた後、減圧下に反応液の溶媒を留去す
る。得られた残留物を酢酸エチル200mlに溶解させ、1N
水酸化ナトリウム水溶液500mlずつで２回抽出する。抽
出した水層を合わせ、4N塩酸でpH4に調整し、酢酸エチ
ル300mlずつで２回抽出する。抽出した有機層を合わ
せ、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た結晶をメタノールから再結晶すれば、2,3−ジヒドロ
−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−
１−ベンゾピラン−４−オン27.0g（収率81.1％）を得
る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、実施例１（２）
で得られた化合物の物性と一致した。
同様にして、表−25および26の化合物を得た。
実施例22 実施例20、実施例21および参考例10と同様にして、表27
の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性（融点、IRおよびNMR）
は、実施例１〜４に記載の化合物の物性と一致した。
実施例23 （１） ４−メトキシ−２−メチルスルホニルアミノフ
ェノール6.7gを塩化メチレン60mlに溶解させ、これに塩
化アセチル7.3gを加え、５℃に冷却する。これに塩化ア
ルミニウム16.5gを５〜10℃で30分を要して分割添加す
る。この混合物を５〜10℃で１時間、さらに20〜25℃で
１時間撹拌する。反応液を氷水200mlに導入し、析出す
る結晶を取する。得られた結晶をアセトニトリルから
再結晶すれば、融点205〜206.5℃を示すメチル＝５−ア
セトキシ−２−ヒドロキシ−４−メチルスルホニルアミ
ノフェニル＝ケトン3.6g（収率41％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3250,1760,1635,1580,1495,1365,1320,1
190 （２） メチル＝５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−４
−メチルスルホニルアミノフェニル＝ケトン2.0gをオル
トギ酸エチル14mlに懸濁させ、これに氷冷下、70％（W/
W）過塩素酸2.0gを10分間を要して滴下する。この混合
物を20〜25℃で1.5時間撹拌した後、反応液にゾイソプ
ロピルエーテル20mlを加え、析出した結晶を取する。
得られた結晶に水20mlに加え、この混合物を５分間還流
する。冷却した後、これに酢酸エチル50mlを加え、有機
層を分取する。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物を1N水酸化ナトリウム水溶液14
mlに溶解させ、この混合物を20〜25℃で30分間撹拌す
る。反応液を6N塩酸でpH2に調整し、析出した結晶を
取する。得られた結晶をN,N−ジメチルホルムアミドお
よび水の混合溶媒から再結晶すれば、融点250℃以上を
示す６−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ−4H
−１−ベンゾピラン−４−オン1.0g（収率59％）を得
る。
IR（KBr）cm-1;3300,3250,1620,1595,1460,1425,1400,1
330,1300,1255 （３） ６−ヒドロキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン200mgをN,N−ジメチ
ルホルムアミド2mlに溶解させ、これにブロモベンゼン3
90mg、炭酸カリウム113mgおよび銅粉52mgを加え、この
混合物を150℃で1.5時間撹拌する。反応液を氷水10mlに
導入し、4N塩酸でpH2に調整した後、これに酢酸エチル1
0mlを加え、有機層を分取する。有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をアセト
ニトリルから再結晶すれば、７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン
210mg（収率80％）を得る。
この化合物の物性（融点、IRおよびNMR）は、実施例１
（３）で得られた化合物の物性と一致した。
実施例24 実施例23（３）と同様にして、表−28の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例１〜４に記載の
化合物の物性と一致した。
実施例25 （１） 無水酢酸30.6gにギ酸27.6gを加え、この混合物
を40〜45℃で1.5時間撹拌する。この反応液を３−アミ
ノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H
−１−ベンゾピラン−４−オン34.6gの塩化メチレン400
ml溶液に滴下し、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌す
る。ついで、これにジイソプロピルエーテル400mlを加
え、析出晶を取した後、アセトニトリルから再結晶す
れば、融点236〜238℃を示す３−ホルミルアミノ−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン27.3g（収率73％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3340,3260,1680,1615,1600,1485,1460,1
340,1210,1150 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.24（3H,s）,7.09〜7.62（5H,m）， 7.35（1H,s）,7.72（1H,s）,8.36（1H,s）， 9.28（1H,s）,9.79（1H,s）,10.04（1H,s） （２） ３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルア
ミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ン37.4gN,N−ジメチルホルムアミド370mlに溶解させ、
これに氷冷下、水素化ナトリウム（純度60％）8.8gを30
分間を要して添加する。添加終了後、反応液を45℃まで
加温し、10分間撹拌する。ついで、これに反応温度を25
〜30℃に保ちながらヨウ化メチル15.6gを滴下し、この
混合物を同温度で30分間撹拌する。反応液を水2lに導入
し、ジエチルエーテル200mlで洗浄した後、4N塩酸でpH4
に調整し、酢酸エチル500mlずつで２回抽出する。抽出
した有機層を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶をアセトニトリルから再結晶すれ
ば、融点185〜186℃を示す３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メ
チルアミノ）−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン29.1g（収率7
5％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1655,1625,1610,1490,1330,1275,1160 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.04（3H,s）,3.24（3H,s）， 7.09〜7.62（5H,m）,7.34（1H,s）， 7.76（1H,s）,8.09（1H,s）， 8.63（1H,s）,10.07（1H,s） 同様にして、表−29の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（３） ３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミノ）−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オン3.88gをメタノール80mlに懸濁
させ、ついで、これに濃塩酸40mlを加え、この混合物を
40〜45℃で５時間撹拌する。減圧下に反応液の溶媒を留
去し、得られた残留物に酢酸エチル300mlおよび水200ml
を加え、この混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
pH4に調整した後、有機層を分取する。有機層を飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をエタノールから
再結晶すれば、融点192.5〜193℃を示す３−メチルアミ
ノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H
−１−ベンゾピラン−４−オン3.32g（収率92.2％）を
得る。
IR（KBr）cm-1;3350,3100,1600,1585,1560,1480,1415,1
330,1275,1210,1200,1140 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 2.62（3H,s）,3.20（3H,s）， 4.50〜5.20（1H,br）,7.07〜7.50（5H,m）， 7.34（1H,s）,7.63（1H,s）,7.67（1H,s）， 9.88（1H,s） 同様にして、つぎの化合物を得た。
３−エチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 融点;221〜222℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3340,3100,1580,1555,1480,1420,1215,1
140 NMR（CDCl3）δ値； 1.29（3H,t,J＝8.0Hz）,3.00（2H,q,J＝8.0Hz）， 3.11（3H,s）,6.70〜8.00（7H,m）， 7.35（1H,s）,7.64（1H,s）,7.70（1H,s） 実施例26 ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.46gを塩化メ
チレン70mlに加え、ついで、これにピリジン870mlを加
えた後、氷冷する。この溶液にクロロ炭酸メチル1.04g
の塩化メチレン30ml溶液を10分間を要して滴下する。こ
の混合物を20〜25℃で30分間撹拌した後、これに水50ml
を加え、4N塩酸でpH4に調整した後、有機層を分取す
る。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶をアセトニトリルから再結晶すれば、
融点233〜235℃を示す３−メトキシカルボニルアミノ−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１
−ベンゾピラン−４−オン2.95g（収率73％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3390,3330,1720,1620,1605,1525,1455,1
335,1210,1160 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.23（3H,s）,3.66（3H,s）， 7.09〜7.50（5H,m）,7.34（1H,s）， 7.72（1H,s）,8.34（1H,s）， 8.74（1H,s）,10.00（1H,s） 実施例27 （１） ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.46g
をクロロホルム100mlに溶解させ、これに25〜30℃で臭
素1.92gを滴下する。この混合物を同温度で２時間撹拌
した後、析出晶を取すれば、融点165℃（分解）を示
す３−アミノ−２−ブロモ−７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン
の臭化水素酸塩3.60g（収率71.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1620,1480,1450,1350,1260,1200,1150 （２） 無水酢酸3.06gにギ酸2.76gを加え、この混合物
を40〜45℃で1.5時間撹拌し、混合酸無水物を調製す
る。一方、３−アミノ−２−ブロモ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンの臭化水素酸塩5.06gを塩化メチレン100mlに懸
濁させ、これに氷冷下、トリエチルアミン1.06gを加
え、同温度で30分間撹拌する。これに上記混合酸無水物
を加え、この混合物を20〜25℃で１時間撹拌する。減圧
下に反応液の溶媒を留去し、得られた残留物に水200ml
を加える。得られた結晶を取し、酢酸エチル−ジイソ
プロピルエーテルから再結晶すれば、融点237〜238℃を
示す２−ブロモ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン4.15g（収率97.6％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3170,1670,1635,1610,1475,1440,1325,1
260,1200,1150 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.23（3H,s）,7.04〜7.63（5H,m）， 7.23（1H,s）,7.73（1H,s）,8.21（1H,s）， 9.63（1H,s）,10.17（1H,s） （３） メタノール60mlに金属ナトリウム510mgを加え
て溶解させた後、氷冷する。これに２−ブロモ−３−ホ
ルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン4.25gを加
え、この混合物を０〜５℃で２時間撹拌する。ついで、
これに水600mlを加え、酢酸エチル200mlで洗浄した後、
4N塩酸でpH4.0に調整し、酢酸エチル300mlずつで２回抽
出する。抽出した有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をアセトニトリルから再結晶す
れば、融点188℃（分解）を示す３−ホルミルアミノ−
２−メトキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン2.87g（収率7
1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1675,1610,1560,1450,1320,1260,1205,1
140 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.19（3H,s）,4.17（3H,s）， 7.04〜7.61（5H,m）,7.29（1H,s）， 7.77（1H,s）,8.16（1H,s）， 9.07（1H,s）,10.06（1H,s） （４） ２−ブロモ−３−ホルミルアミノ−７−メチル
スルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピ
ラン−４−オンに1N水酸化ナトリウム水溶液を反応させ
て、３−ホルミルアミノ−２−ヒドロキシ−７−メチル
スルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンソピ
ラン−４−オンを得る。
融点;250℃以上（分解；エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3350,3280,1695,1670,1620,1565,1370,1
340,1145 実施例28 （３） ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをN,N
−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールと反応さ
せ、３−（N,N−ジメチルアミノ）メチレンアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;103〜104℃（ジエチルエーテルから再結晶） IR（KBr）cm-1;1630,1580,1470,1430,1330,1190,1140 （２） ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを２−
アセトキシプロピオン酸クロリドと反応させた後、メタ
ノール中でナトリウムメトキシドで処理して、３−（２
−ヒドロキシプロピオニル）アミノ−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンを得る。
融点;219.5〜221.5℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3450,3350,3250,1680,1620,1590,1520,1
480,1460,1380,1340,1260,1220,1200,1160 （３） ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをジシ
クロヘキシルカルボジイミドの存在下、Ｎ−tert−ブト
キシカルボニルアラニンと反応させた後、この反応物を
トリフルオロ酢酸で処理して、３−（２−アミノプロピ
オニル）アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;111〜113℃（エタノールから再結晶）IR（KBr）cm
-1;3250,1680,1620,1500,1350,1210,1160 （４） ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをメタ
ンスルホニルクロリドと反応させて、3,7−ビス（メチ
ルスルホニルアミノ）−６−フェノキシ−4H−１−ベン
ゾピラン−４−オンを得る。
融点;199〜200℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3240,1640,1630,1500,1340,1330,1210,1
150 実施例29 ６−（２−メトキシフェノキシ）−７−メチルスルホニ
ルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを実施例37
（１）、37（２）および25と同様に処理して、３−ホル
ミルアミノ−６−（２−メトキシフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを得る。
融点;226.5〜227℃（酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3280,1685,1620,1600,1495,1460,1335,1
145 実施例30 実施例25（１）、26、27（２）または28と同様にして表
−30の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４で得られた化
合物の物性と一致した。
実施例31 ３−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.75gをN,N
−ジメチルホルムアミド75mlに懸濁させる。ついで、こ
れに−10〜−５℃でオキシ塩化リン4.6gを滴下する。こ
の混合物を同温度で３時間撹拌した後、反応液を10〜20
℃で濃アンモニア水40mlに滴下する。この混合物を同温
度で30分間撹拌した後、4N塩酸でpH4に調整する。析出
晶を取し、水洗した後、酢酸から再結晶すれば、融点
250℃以上を示す３−カルバモイル−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オン2.81g（収率75.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3350,1705,1620,1585,1485,1460,1340,1
160 実施例32 ３−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをN,N′−
ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下、５−アミノ
テトラゾールと反応させて、７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−３−［（1,2,3,4−テトラゾール
−５−イル）アミノカルボニル］−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オンを得る。
融点;250℃以上（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3350,1680,1620,1580,1495,1465,1310,1
220,1170 実施例33 実施例31または32と同様にして、表−31の化合物を得
た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
実施例34 ３−シアノ−６−（２−フルオロフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ン3.74gに濃塩酸30mlおよび酢酸60mlを加え、この混合
物を30分間還流する。反応終了後、減圧下に反応液の溶
媒を留去し、得られた残留物を水で洗浄した後、酢酸か
ら再結晶すれば、融点249〜251℃を示す３−カルバモイ
ル−６−（２−フルオロフェノキシ）−７−メチルスル
ホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン1.65g
（収率42.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3330,3260,3150,1695,1620,1490,1455,1
330,1280,1155 実施例35 ３−シアノ−６−（２−フルオロフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ン3.73gを塩化水素で飽和したギ酸100mlに溶解させ、こ
の混合物を25〜30℃で24時間撹拌する。ついで、減圧下
に反応液の溶媒を留去した後、水100mlを加える。結晶
を取し、酢酸から再結晶すれば、３−カルバモイル−
６−（２−フルオロフエノキシ）−７−メチルスルホニ
ルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン2.54g（収
率65％）を得る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、実施例４で得ら
れた化合物の物性と一致した。
実施例36 実施例34または35と同様にして、表−32の化合物を得
た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
参考例11 ６−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−７−メチルスル
ホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.67g
を酢酸60mlに懸濁させ、これに５％パラジウム−炭素40
0mgを加え、常圧下、40〜50℃で水素添加を行う。反応
終了後、触媒を去し、液を濃縮する。得られた結晶
をエタノールから再結晶すれば、融点163.5〜165℃を示
す６−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−2,3−ジヒドロ
−７−メチルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン3.16g（収率85.6％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3220,1665,1605,1575,1495,1420 同様にして、表−33の化合物を得た。
参考例12 （１） ３−（３−メチルスルホニルアミノ−４−フェ
ノキシフェノキシ）−３−メチルアクリル酸6.5gをエタ
ノール200mlに懸濁させ、ついで、これに10％パラジウ
ム−炭素1.3gを加え、常圧下、40〜50℃で水素添加を行
う。反応終了後、触媒を去し、減圧下に反応液の溶媒
を留去する。得られた結晶をトルエンから再結晶すれ
ば、融点121〜124℃を示す３−（３−メチルスルホニル
アミノ−４−フェノキシフェノキシ）−３−メチルプロ
ピオン酸5.69g（収率87％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3350,1710,1500,1335,1215,1155 （２） ３−（３−メチルスルホニルアミノ−４−フェ
ノキシフェノキシ）−３−メチルプロピオン酸5.69gに
ポリリン酸100gを加え、この混合物を65℃で１時間撹拌
する。ついで、反応液を氷水400mlに導入し、これに酢
酸エチル150mlを加えた後、有機層を分取する。減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物を1N水酸化ナトリウ
ム水溶液150mlに溶解させ、この溶液をジエチルエーテ
ルで洗浄した後、4N塩酸でpH4に調整し、これに酢酸エ
チル150mlを加え、有機層を分取する。有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エ
チル＝25:1）で精製した後、エタノールから再結晶すれ
ば、2,3−ジヒドロ−２−メチル−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４
−オン2.16g（収率40％）を得る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、参考例10で得ら
れた化合物の物性と一致した。
実施例37 （１） 2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3
3.3gをクロロホルム300mlに溶解させる。この溶液に反
応温度を25〜30℃に保ちながら、臭素16.3gを30分間を
要して滴下する。滴下終了後、この混合物を25〜30℃で
30分間撹拌し、これに水100mlを加えた後、有機層を分
取する。有機層を５％チオ硫酸ナトリウム水溶液、水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去すれば、３−ブロモ
−2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン40.1g
（収率97.3％）を得る。
融点;137〜140℃（トルエンから再結晶） IR（KBr）cm-1;3250,1680,1610,1485,1325,1260,1205 NMR（CDCl3）δ値； 3.14（3H,s）,4.54〜4.70（3H,m）， 6.91〜7.38（8H,m） （２） ３−ブロモ−2,3−ジヒドロ−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン40.1gをN,N−ジメチルホルムアミド280mlに
溶解させる。ついで、これにアジ化ナトリウム13.9gを
加え、この混合物を70〜75℃で１時間撹拌する。反応液
を水1.5lおよび酢酸エチル300mlの混合溶媒を導入し、
濃塩酸でpH0.1に調整した後、水層を分取する。水層を
酢酸エチル200mlで洗浄した後、10％水酸化ナトリウム
水溶液でpH4.0に調整し、酢酸エチル500mlずつで２回抽
出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をエタノールから
再結晶すれば、融点162〜163℃を示す３−アミノ−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン2.84g（収率82.1％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3440,3330,3180,1600,1580,1550,1480,1
465,1330,1205,1150 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.19（3H,s）,5.50〜7.00（2H,br）， 7.04〜7.49（5H,m）,7.35（1H,s）， 7.62（1H,s）,7.94（1H,s） 実施例38 実施例37（１）および（２）と同様にして、表−34の化
合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
実施例39 （１） 2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.
33gをクロロホルム50mlに溶解させ、これに35〜40℃で
臭素3.36gを20分間を要して滴下する。この混合物を同
温度で30分間撹拌した後、水50mlに導入し、有機層を分
取する。有機層を５％チオ硫酸ナトリウム水溶液、水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去すれば、3,3−ジブ
ロモ−2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン4.81
g（収率98％）を得る。
融点;169〜170℃（アセトニトリから再結晶） IR（KBr）cm-1;3330,1690,1610,1485,1325,1255 NMR（CDCl3）δ値； 3.15（3H,s）,4.70（2H,s）,6.91〜7.57（6H,m）,7.32
（1H,s）,7.40（1H,s） （２） 3,3−ジブロモ−2,3−ジヒドロ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン4.81gをピリジン20mlに溶解させ、この溶
液を20分間還流する。反応液を水200mlに導入し、濃塩
酸でpH4に調整した後、酢酸エチル100mlずつで２回抽出
する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去し、得られた結晶をアセトニトリルか
ら再結晶すれば、融点215〜216℃を示す３−ブロモ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オン3.30g（収率82％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3100,3080,1635,1620,1485,1455,1335,1
155 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.23（3H,s）,7.06〜7.66（5H,m）， 7.30（1H,s）,7.72（1H,s）,8.81（1H,s）， 10.07（1H,s） また、実施例39（１）および（２）と同様にして、つぎ
の化合物を得た。
３−クロロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 融点;200〜201℃（酢酸エチル−ジイソプロピルエーテ
ルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3220,3050,1645,1600,1560,1480,1450 （３） 25％メチルアミン水溶液50mlを氷冷し、これに
３−ブロモ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン4.1gを加え、こ
の混合物を０〜５℃で２時間撹拌する。ついで、これに
水100mlを加え、4N塩酸でpH4に調整した後、酢酸エチル
100mlで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出
液；トルエン：酢酸エチル＝5:1）で精製し、エタノー
ルから再結晶すれば、３−メチルアミノ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン400mg（収率11.1％）を得る。
この化合物の物性（融点、IRおよびNMR）は、実施例４
で得られた化合物の物性と一致した。
同様にして、表−35の化合物を得た。
なお、これらの化合物の物性は、実施例４に記載の化合
物の物性と一致した。
（４） 無水酢酸340mgとギ酸310mgを混合し、この混合
物を40〜45℃で1.5時間撹拌する。これに塩化メチレン1
0mlを加え、ついで、３−メチルアミノ−７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン400mgを加え、この混合物を25〜30℃で１
時間撹拌する。これにジイソプロピルエーテル10mlを加
え、析出晶を取した後、アセトニトリルから再結晶す
れば、３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミノ）−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オン330mg（収率76.7％）を得る。
この化合物の物性（融点、IRおよびNMR）は、実施例４
で得られた化合物の物性と一致した。
実施例40 ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン500mgを酢酸20m
lおよび水10mlに溶解させ、35℃に加温する。これにシ
アン酸ナトリウム190mgを水5mlに溶解させた溶液を５分
間を要して滴下する。この混合物を同温度で30分間撹拌
した後、これに水20mlを加え、析出晶を取する。析出
晶を酢酸から再結晶すれば、融点250℃以上を示す７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−３−ウレン
ド−4H−１−ベンゾピラン−４−オン350mg（収率62.3
％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3495,3340,3300,1680,1620,1590 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.21（3H,s）,6.34（2H,s）， 7.02〜7.55（6H,m）,7.69（1H,s）,8.02（1H,s） 9,09（1H,s）,9.90（1H,bs） 実施例41 ３−メチルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン500mgを
塩化メチレン10mlに溶解させ、これに０〜５℃でクロロ
スルホニルイソシアナート220mgを滴下する。この混合
物を同温度で10分間撹拌した後、これに水20mlを加え、
有機層を分取する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物にメタノール5mlおよび2N塩酸5mlを加え、この混合
物を20〜25℃で１時間撹拌する。反応液に塩化メチレン
20mlおよび水20mlを加え、有機層を分取する。有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：
酢酸エチル＝1:1）で精製すれば、７−メチルスルホニ
ルアミノ−３−（１−メチルウレイド）−６−フェノキ
シ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン220mg（収率35.1
％）を得る。
融点;145〜145.5℃ （エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3450,3350,1640,1620,1480,1450 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 2.95（3H,s）,3.20（3H,s）,5.85（2H,bs）， 7.06〜7.50（6H,m）,7.70（1H,s）， 8.43（1H,s）,10.00（1H,bs） 実施例42 ３−［Ｎ−（３−カルボキシプロピオニル）アミノ］−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１
−ベンゾピラン−４−オン400mgに無水酢酸4mlおよび酢
酸ナトリウム200mgを加え、この混合物を90〜100℃で30
分間撹拌した後、室温まで冷却する。これに水30mlおよ
び酢酸エチル30mlを加え、有機層を分取する。有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物を酢酸エチルで再結晶すれば、融点220〜221℃を示
す７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）
−６−フェノキシ−３−（１−スクシンイミノ）−4H−
１−ベンゾピラン−４−オン300mg（収率79％）を得
る。
IR（KBr）cm-1;3050,1780,1720,1650,1620,1575 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 2.13（3H,s）,2.88（4H,s）,3.59（3H,s）， 7.17〜7.56（6H,m）,8.27（1H,s）,8.63（1H,s） 実施例43 ３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メトキシカルボニルメチルア
ミノ）−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン4.46gを1N水酸化ナ
トリウム水溶液45mlに溶解させ、この溶液を25〜30℃で
1.5時間撹拌した後、4N塩酸でpH3に調整し、酢酸エチル
50mlずつで２回抽出する。抽出した有機層を合わせ、水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物にジエチルエーテルを加え、結晶を取すれば、融点
98〜100℃を示す３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−カルボキシ
メチルアミノ）−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.57g（収
率82.6％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3220,1730,1665,1610,1490,1445,1335,1
205,1160 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.22（3H,s）,4.25（2H,s）， 7.07〜7.65（5H,m）,7.32（1H,s）,7.76（1H,s） 8.19（1H,s）,8.56（1H,s）,10.00（1H,bs） 実施例44 ２−ブロモ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４
−オン4.25gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解さ
せ、これにシアン化第一銅1.97gを加え、この混合物を8
5〜90℃で２時間撹拌する。反応液を水300mlに導入し、
4N塩酸でpH4.0に調整した後、酢酸エチル200mlずつで２
回抽出する。抽出した有機層を合わせ、水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をアセトニ
トリルから再結晶すれば、融点229〜230℃を示す２−シ
アノ−３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン
2.05g（収率55.3％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3260,2225,1715,1610,1485,1460,1330,1
215,1150 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.28（3H,s）,7.07〜7.62（5H,m）， 7.27（1H,s）,7.76（1H,s）， 8.37（1H,d,J＝3.0Hz）， 10.22（1H,d,J＝3.0Hz）,10.22（1H,s） 実施例45 ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン500mgおよび2,5
−ジメトキシテトラヒドロフラン250mgを酢酸5mlに溶解
させ、この混合物を70〜80℃で30分間撹拌する。反応液
を室温まで冷却した後、水50mlを加え、析出晶を取す
る。この結晶を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルか
ら再結晶すれば、融点238.5〜240℃を示す７−メチルス
ルホニルアミノ−６−フェノキシ−３−（１−ピロリ
ル）−4H−１−ベンゾピラン−４−オン250mg（収率43.
7％）を得る。
IR（KBr）cm-1;1640,1615,1575,1475,1440,1425,1410 実施例46 ３−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.46gをN,N−ジ
メチルホルムアミド35mlに溶解させる。これにブロモベ
ンゼン7ml、ヨウ化カリウム1.66g、炭酸カリウム1.38g
および銅粉0.64gを加え、この混合物を６時間還流す
る。反応液を水300mlおよび酢酸エチル200mlの混合液に
導入し、不溶物を去した後、液を4N塩酸でpH4に調
整し、有機層を分取する。有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝20:1）
で精製し、アセトニトリルから再結晶すれば、融点212
〜213℃を示す７−メチルスルホニルアミノ−３−フェ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オン430mg（収率10.2％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3240,1645,1620,1580,1485,1455,1340,1
265,1160 NMR（ｄ6-DMSO）δ値； 3.22（3H,s）,6.92〜7.59（12H,m）， 7.76（1H,s）,8.58（1H,s）,10.01（1H,bs） 実施例47 （１） ２−エトキシカルボニル−７−メチルスルホニ
ルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４
−オン3.5gを酢酸30mlに懸濁させ、これに濃塩酸20mlを
加え、この混合物を１時間還流する。反応液に水100ml
を加え、析出する結晶を取する。得られた結晶をエタ
ノールから再結晶すれば、融点250℃以上を示す２−カ
ルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.0g（収率91％）
を得る。
IR（KBr）cm-1;3245,1730,1625,1590,1460,1335,1220,1
160 （２） ２−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.
0gを塩化メチレン30mlに懸濁させ、これに塩化チオニル
3.8gおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.1mlを加え、こ
の混合物を1.5時間還流する。反応終了後、減圧下に反
応液の溶媒を留去すれば、７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−
２−カルボン酸クロリド3.1g（収率98.4％）を得る。
IR（ニート）cm-1;1760 （３） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ク
ロリドをアンモニアと反応させて、２−カルバモイル−
７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１
−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;250℃以上（メタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3425,1700,1645,1625,1450,1325,1210,1
135 （４） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ク
ロリドを水素化ホウ素ナトリウムで還元して、２−ヒド
ロキシメチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;210〜215℃（分解；酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3375,3240,1630,1585,1480,1455,1395,1
370,1325,1260,1210 （５） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ク
ロリド3.1gを無水テトラヒドロフラン80mlに溶解させ
る。この溶液をアジ化ナトリウム1.26gを含む水溶液10m
lに５〜10℃で10分間を要して滴下した後、この混合物
を10〜20℃で1.5時間撹拌する。析出する結晶を取す
れば、融点146〜149℃（分解）を示す７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オン−２−カルボン酸アジド1.45g（収率46％）を
得る。
IR（KBr）cm-1;3200,2125,1700,1640,1610,1480,1440,1
320,1200,1130 （６） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ア
ジドをエタノール中で加熱反応させ、２−エトキシカル
ボニルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;207〜209℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3230,1740,1620,1535,1480,1450,1325,1
210,1140 （７） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ア
ジドをtert−ブタノール中で加熱反応させ、２−tert−
ブトキシカルボニルアミノ−７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン
を得る。
融点;147〜150℃（ベンゼンから再結晶） IR（KBr）cm-1;3250,1745,1620,1525,1490,1450,1360,1
330,1230,1140 （８） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ア
ジドをギ酸中で加熱反応させ、２−ホルミルアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;214〜216℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3225,3120,1710,1625,1610,1555,1450,1
215,1150,1145 （９） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オン−２−カルボン酸ア
ジドを酢酸中で加熱反応させ、２−アセチルアミノ−７
−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−
ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;236〜238℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3170,1700,1620,1600,1525,1450,1350,1
250,1240,1220,1145 （10） ２−tert−ブトキシカルボニルアミノ−７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベン
ゾピラン−４−オンをトリフルオロ酢酸と反応させ、２
−アミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;223〜225℃（エタノールから再結晶）IR（KBr）cm
-1;3225,1660,1615,1550,1480,1200,1145 実施例48 （１）３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを水素
化ホウ素ナトリウムで還元して、３−ヒドロキシメチル
−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−
１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;165〜166.5℃（酢酸エチル−ジエチルエーテルか
ら再結晶） IR（KBr）cm-1;3450,3250,1635,1605,1485,1460,1325,1
210,1150 （２） ３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを次
亜塩素酸ナトリウムと反応させて、３−クロロ−７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベン
ゾピラン−４−オンを得る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、実施例４で得ら
れた化合物の物性と一致した。
（３） ３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをカ
リウムtert−ブトキシドの存在下、ベンジルトリフェニ
ルホスホニウムブロミドと反応させて、７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−３−（２−フェニルビ
ニル）−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;174〜175℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3400,1630,1620,1480,1450,1330,1200,1
155 （４） ３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをメ
チルマグネシウムヨージドと反応させて、３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;136〜138℃（酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3325,3225,1615,1590,1480,1445,1325,1
205,1145 （５） ３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを2,
4−ジメトキシベンジルアミンと反応させる。この反応
物を水素化ホウ素ナトリウムで還元して、３−（2,4−
ジメトキシベンジルアミノ）メチル−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンを得る。
ついで、この化合物をメタノール中で無水酢酸と反応さ
せる。この反応物をトリフルオロ酢酸で処理して、３−
アセチルアミノメチル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得
る。
融点;240〜242℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;3350,3250,1680,1640,1600,1460,1340,1
215,1150 （６） ３−アセチルアミノメチル−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンを6N塩酸で処理して、３−アミノメチル−７−
メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オンを得る。
融点;190〜195℃（分解；酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3450,3070,1635,1580,1480,1455,1385,1
320,1275 実施例49 ３−アセチル−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを臭素と反応
させて、３−（２−ブロモアセチル）−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オンを得る。この反応物をチオホルムアミドと反
応させて、７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−３−（チアゾール−４−イル）−4H−１−ベンゾピ
ラン−４−オンを得る。
融点;250℃以上（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3260,1635,1620,1480,1450,1315,1200,1
150 実施例50 （１） ６−（２−メトキシカルボニルフェノキシ）−
７−メチルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンを実施例５（２）と同様に処理して、６−（２
−カルボキシフェノキシ）−７−メチルスルホニルアミ
ノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;243〜246℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3150,1720,1670,1640,1605,1480,1360,1
330,1260,1220,1160 （２） ６−（２−カルボキシフェノキシ）７−メチル
スルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを
実施例47（２）、47（５）、47（７）および47（10）と
同様に処理して６−（２−アミノフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを得る。
融点;238〜240℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3415,3300,3200,1635,1620,1455,1330,1
290,1155 （３） ６−（２−アミノフェノキシ）−７−メチルス
ルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを参
考例２と同様に処理して、６−（２−アセチルアミノフ
ェノキシ）−７−メチルスルホニルアミノ−4H−１−ベ
ンゾピラン−４−オンを得る。
融点;130〜132℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;3250,1620,1480,1450,1325,1290,1150 （４） ６−（２−アミノフェノキシ）−７−メチルス
ルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを実
施例25（１）と同様に処理して、６−（２−ホルミルア
ミノフェノキシ）−７−メチルスルホニルアミノ−4H−
１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;203〜204℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3220,1665,1620,1490,1450,1320,1295,1
150 実施例51 ６−（２−メトキシフェノキシ）７−メチルスルホニル
アミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを参考例８
（２）と同様に処理して、６−（２−ヒドロキシフェノ
キシ）−７−メチルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾ
ピラン−４−オンを得る。
融点;186.5〜187℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;3250,1620,1585,1480,1450,1320,1290,1
160,1140 実施例52 （１） ３−ホルミル−７−メチルスルホニルアミノ−
６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン4gを
N,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させ、これにヒ
ドロキシルアミン・塩酸塩850mgを加え、この混合物を2
0〜25℃で１時間撹拌する。反応液に酢酸エチル50mlお
よび水100mlを加え、有機層を分取する。有機層を水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶を
エタノールで再結晶すれば、融点199〜200℃を示す３−
ヒドロキシイミノメチル−７−メチルスルホニルアミノ
−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.
0g（収率72.3％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3250,1620,1495,1330,1210,1160 同様にして、表−36の化合物を得た。
（２） ３−ヒドロキシイミノメチル−７−メチルスル
ホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン3.0gを酢酸30mlに懸濁させる。これに酢酸ナ
トリウム900mgを加え、この混合物を３時間還流する。
反応終了後、減圧下に反応液の溶媒を留去し、酢酸エチ
ル50mlおよび水50mlを加え、有機層を分取する。有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた
結晶を酢酸エチルおよびエタノールの混合溶媒で再結晶
すれば、融点219.5〜220.5℃を示す３−シアノ−７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベン
ゾピラン−４−オン2.4g（収率83.9％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3140,2240,1650,1620,1485,1455,1330,1
155 同様にして、表−37の化合物を得た。
実施例53 ３−カルバモイル−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをN,N−
ジメチルホルムアミド中、塩化チオニルと反応させ、３
−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキ
シ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、実施例４で得ら
れた化合物の物性と一致した。
実施例54 （１） ６−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−７−メ
チルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン−４−オ
ンを参考例２と同様に処理して、６−（2,4−ジフルオ
ロフェノキシ）−７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスル
ホニルアミノ）−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得
る。
融点;176〜178℃（イソプロピルアルコールから再結
晶） IR（KBr）cm-1;1705,1640,1620,1440,1335,1295,1245,1
165 同様にして、つぎの化合物を得た。
６−（2,4−ジフルオロフェノキシ）−３−ホルミ
ルアミノ−７−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルスルホニル
アミノ）−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 融点;237〜239℃（アセトニトリルから再結晶） IR（KBr）cm-1;3320,1705,1685,1610,1520,1485,1440,1
345,1240,1215,1190,1160 （２） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを塩化アルミニウム
の存在下、ベンゾイルクロリドと反応させ、７−（Ｎ−
ベンゾイル−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−６−フェ
ノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;164〜165.5℃（酢酸エチルから再結晶） IR（KBr）cm-1;1685,1650,1610,1475,1435,1360,1285,1
260,1200,1160 （３） ７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを水素化ナトリウム
の存在下、ヨウ化メチルと反応させ、７−（Ｎ−メチル
−Ｎ−メチルスルホニルアミノ）−６−フェノキシ−4H
−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;187〜189℃（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;1630,1610,1480,1440,1340,1150 実施例55 ３−（４−クロロブチリルアミノ）−７−メチルスルホ
ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
４−オンをN,N−ジメチルホルムアミド中、水素化ナト
リウムと反応させ、７−メチルスルホニルアミノ−３−
（２−オキソピロリジン−１−イル）−６−フェノキシ
−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを得る。
融点;192〜193（エタノールから再結晶） IR（KBr）cm-1;1680,1635,1610,1485,1335,1280,1160 実施例56 ２−カルボキシ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンをN,N′−
ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下、５−アミノ
テトラゾールと反応させて、７−メチルスルホニルアミ
ノ−６−フェノキシ−２−［（1,2,3,4−テトラゾール
−５−イル）アミノカルボニル］−4H−１−ベンゾピラ
ン−４−オン 融点;250℃以上（エチレングリコールモノメチルエーテ
ルより再結晶） IR（KBr）cm-1;3210,1690,1630,1590,1570,1450,1370,1
325,1200,1140 実施例57 ３−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オンを塩化アルミニ
ウムの存在下、アジ化ナトリウムを反応させて、７−メ
チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−３−（1,2,3,
4−テトラゾール−５−イル）−4H−１−ベンゾピラン
−４−オンを得る。
融点;250℃以上（ジオキサン−ジイソプロピルエーテル
より再結晶） IR（KBr）cm-1;3370,3170,1630,1480,1460,1340,1295,1
160 実施例58 ３−シアノ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フェノ
キシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン3.56g、ヒドロ
キシルアミン・塩酸塩970mg、水1.5ml、N,N−ジチチル
ホルムアミド7mlおよびエタノール150mlを混合し、この
混合物を３時間還流する。反応液を冷却した後、析出晶
を取し、アセトニトリルから再結晶すれば、融点250
℃以上を示す２−アミノ−３−カルバモイル−７−メチ
ルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾ
ピラン−４−オン2.8g（収率72％）を得る。
IR（KBr）cm-1;3460,3380,3125,1640,1570,1545,1475,1
320,1220,1150 参考例13 2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−６−フ
ェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン1.00gを無
水テトラヒドロフラン−ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド（7:3）の混合液10mlに溶解させる。この溶液に
−78℃で1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン1.17gお
よびｎ−ブチルリチウム6.6ミリモルから調製した1,1,
1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン−リチウム塩のテト
ラヒドロフラン溶液10mlを加え、この混合物を40分間撹
拌した後、同温度でメタンチオールスルホン酸メチル50
0mgを加え、この混合物を15分間撹拌する。ついで、反
応液を室温まで昇温する。反応液を氷冷下、2N塩酸80ml
に導入し、この混合物を酢酸エチル40mlずつで２回抽出
する。抽出液を合わせ、水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた油状物をカラムクロマトグラフィ
ー（溶出液；トルエン：酢酸エチル＝50:1）で精製すれ
ば、2,3−ジヒドロ−７−メチルスルホニルアミノ−３
−メチルチオ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン480mg（収率39.6％）を得る。
この化合物の物性（融点およびIR）は、参考例10（２）
で得られた化合物の物性と一致した。
製剤例１ 以下の成分を用いて硬ゼラチンカプセルを調製する。
６−（２−フルオロフェノキシ）−３−ホルミルアミノ
−７−メチルスルホニルアミノ−4H−１−ベンゾピラン
−４−オン 50mg 乳糖 114.5mg コーンスターチ 20mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg 軽質無水ケイ酸 1.5mg カルボキシメチルセルロース 10mg カルシウム（ECG 505）ステアリン酸マグネシウム 2mg 計 200mg 以上を１カプセル分の材料として常法により硬カプセル
に充填する。
製剤例２ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 25mg 乳糖 49mg 微結晶セルロース 36mg ヒドロキシプロピルセルロース 1mg カルボキシメチルセルロース 6.6mg カルシウム（ECG 505） ステアリン酸マグネシウム 1.2mgタルク 1.2mg 計 100mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
製剤例３ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 50mg 乳糖 74mg 微結晶セルロース 55mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg カルボキシメチルセルロース 15mg カルシウム（ECG 505） ステアリン酸マグネシウム 2mgタルク 2mg 計 200mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
製剤例４ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−６
−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 100mg 乳糖 49mg 微結晶セルロース 55mg ヒドロキシプロピルセルロース 2mg カルボキシメチルセルロース 15mg カルシウム（ECG 505） ステアリン酸マグネシウム 2mgタルク 2mg 計 225mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
製剤例５ 以下の成分を用いて錠剤を調製する。
３−カルバモイル−７−メチルスルホニルアミノ−６−
フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４−オン 200mg 微結晶セルロース 100mg グリコール酸ナトリウムデンプン 30mgステアリン酸マグネシウム 3mg 計 333mg 以上を１錠分の材料として常法により錠剤とする。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/44 31/445 Ｃ０７Ｄ 311/24 311/26 311/30 311/36 311/54 311/56 405/04 ２０７ 405/12 ２１３ 409/12 ２５７ ３１１ 417/04 ３１１ (72)発明者 長木 秀嘉 富山県富山市奥田町24―８ (72)発明者 霜鳥 智也 富山県富山市小杉175―３ (72)発明者 牧野 伸治 富山県黒部市三日市3490 (56)参考文献 特開 昭57−203079（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−251679（ＪＰ，Ａ)

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
    素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
    ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
    換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
    キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R4
    は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
    ルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルア
    ミノメチリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル
    基または置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、フェニルもしくは複素環式
    基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
    いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
    よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
    ぞれ、示す。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩。
  2. 【請求項２】Ｚが、酸素原子または硫黄原子を;R5が、
    置換されていてもよいフェニルまたはピリジル基を;R1
    が、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル
    または低級アルケニル基を;R2が、水素原子またはアシ
    ル基を;R3およびＲ4が、同一または異なって、水素原
    子、カルバモイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基
    もしくはアルコキシカルボニル基または置換されていて
    もよいアルキル、アルコキシもしくはフェニル基である
    特許請求の範囲第（１）項記載の4H−１−ベンゾピラン
    −４−オン誘導体またはその塩。
  3. 【請求項３】Ｒ5が、置換されていてもよいフェニルま
    たはピリジル基を;Zが、酸素原子または硫黄原子を;R1
    が、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル
    または低級アルケニル基を;R2が、水素原子またはアシ
    ル基を;R4が、 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシルもしくはカル
    バモイル基を;R7は、水素原子または置換されていても
    よいアルキル基を示すかまたはＲ6およびＲ7が、隣接す
    る窒素原子と一緒になって置換されていてもよい４〜６
    員環の複素環式基を示す。）で表わされる基を;R3が、
    水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルバモイル基、
    カルボキシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカ
    ルボニル基または置換されていてもよいアルキル、アル
    コキシ、アミノもしくはフェニル基である特許請求の範
    囲第（１）項記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘
    導体またはその塩。
  4. 【請求項４】Ｚが、酸素原子である特許請求の範囲第
    （１）〜（３）項いずれかの項記載の4H−１−ベンゾピ
    ラン−４−オン誘導体またはその塩。
  5. 【請求項５】Ｒ1が、低級アルキル基である特許請求の
    範囲第（１）〜（４）項いずれかの項記載の4H−１−ベ
    ンゾピラン−４−オン誘導体またはその塩。
  6. 【請求項６】Ｒ2が、水素原子である特許請求の範囲第
    （１）〜（５）項いずれかの項記載の4H−１−ベンゾピ
    ラン−４−オン誘導体またはその塩。
  7. 【請求項７】Ｒ3が、水素原子またはアルキル基である
    特許請求の範囲第（１）〜（６）項いずれかの項記載の
    4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体またはその塩。
  8. 【請求項８】Ｒ4が、置換されていてもよいアルキルチ
    オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、また
    は 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシルカルボニル基または置換されていてもよいア
    ルキル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモ
    イルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原
    子、置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしく
    は複素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素
    原子と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい
    複素環式基を示す。）で表わされる基である特許請求の
    範囲第（１）項記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン
    誘導体またはその塩。
  9. 【請求項９】Ｒ4が、アルキルチオ、ホルミルアミノま
    たはカルバモイル基である特許請求の範囲第（１）項記
    載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体またはその
    塩。
  10. 【請求項１０】Ｒ5が、置換されていてもよいフェニル
    基である特許請求の範囲第（９）項記載の4H−１−ベン
    ゾピラン−４−オン誘導体またはその塩。
  11. 【請求項１１】Ｒ5が、ハロゲン原子、ヒドロキシル
    基、アミノ基、カルボキシル基、ハロアルキル基、アル
    キル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
    ルアミノ基およびカルバモイル基から選ばれる少なくて
    も１つの置換基で置換されていてもよいフェニル基であ
    る特許請求の範囲第（10）項記載の4H−１−ベンゾピラ
    ン−４−オン誘導体またはその塩。
  12. 【請求項１２】６−（２−フルオロフェノキシ）−３−
    ホルミルアミノ−７−メチルスルホニルアミノ−4H−１
    −ベンゾピラン−４−オンまたはその塩である特許請求
    の範囲第（１）項記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オ
    ン誘導体またはその塩。
  13. 【請求項１３】３−カルバモイル−２−メチル−７−メ
    チルスルホニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベン
    ゾピラン−４−オンまたはその塩である特許請求の範囲
    第（１）項記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導
    体またはその塩。
  14. 【請求項１４】３−ホルミルアミノ−７−メチルスルホ
    ニルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−
    ４−オンまたはその塩である特許請求の範囲第（１）項
    記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体またはそ
    の塩。
  15. 【請求項１５】３−カルバモイル−７−メチルスルホニ
    ルアミノ−６−フェノキシ−4H−１−ベンゾピラン−４
    −オンまたはその塩である特許請求の範囲第（１）項記
    載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体またはその
    塩。
  16. 【請求項１６】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
    素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
    ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
    換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
    キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R4
    は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
    ルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルア
    ミノメチリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル
    基または置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、フェニルもしくは複素環式
    基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
    いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
    よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
    ぞれ、示す。］ で表わされる化合物またはその塩を脱水素することを特
    徴とする一般式 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＺは、それぞ
    れ、前記した意味を有する。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を製造する方法。
  17. 【請求項１７】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R4は、水
    素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
    シル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルアミノメ
    チリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル基また
    は置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキ
    ルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニル、アル
    キルスルホニル、フェニルもしくは複素環式基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
    いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
    よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
    ぞれ、示す。］ で表わされる化合物またはその塩を環形成剤と反応させ
    ることを特徴とする一般式 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5およびＺは、それぞれ、前
    記した意味を有し;R3は、水素原子、ハロゲン原子、シ
    アノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基もしくはアル
    コキシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
    ル、アルコキシ、シクロアルキル、カルバモイル、アミ
    ノもしくはフェニル基を示す。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を製造する方法。
  18. 【請求項１８】一般式 ［式中、Ｒ2は、水素原子、アルキル基またはアシル基
    を;R3は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボ
    キシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカルボニ
    ル基または置換されていてもよいアルキル、アルコキ
    シ、シクロアルキル、カルバモイル、アミノもしくはフ
    ェニル基を;R4は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
    基、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシ
    ル基、ジメチルアミノメチリデンアミノ基もしくはアル
    コキシカルボニル基または置換されていてもよいアルキ
    ル、アルコキシ、アルキルチオ、低級アルケニル、アル
    キルスルフィニル、アルキルスルホニル、フェニルもし
    くは複素環式基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
    いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
    よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
    ぞれ、示す。］ で表わされる化合物またはその塩と一般式 Ｒ1SO3Ｈ ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を示
    す。］ で表わされる化合物の反応性誘導体を反応させることを
    特徴とする一般式 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＺは、それぞ
    れ、前記した意味を有する。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を製造する方法。
  19. 【請求項１９】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
    素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
    ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
    換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
    キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R4
    は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
    ルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルア
    ミノメチリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル
    基または置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、フェニルもしくは複素環式
    基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を；およびＺは、酸素
    原子、硫黄原子またはイミノ基を、それぞれ、示す。］
    で表わされる化合物またはその塩と一般式 Ｒ5Ｘ ［式中、Ｒ5は、置換されていてもよいフェニル、チエ
    ニルまたはピリジル基を；およびＸは、ハロゲン原子
    を、それぞれ、示す。］ で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
    式 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＺは、それぞ
    れ、前記した意味を有する。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を製造する方法。
  20. 【請求項２０】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
    素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
    ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
    換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
    キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R5
    は、置換されていてもよいフェニル、チエニルまたはピ
    リジル基を；およびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイ
    ミノ基を、それぞれ、示す。］ で表わされる化合物またはその塩と一般式 Ｒ10COOH ［式中、Ｒ10は、水素原子もしくはアルコキシ基または
    置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、アシ
    ル、アルコキシカルボニルもしくはフェニル基を示
    す。］ で表わされる化合物またはその反応性誘導体を反応させ
    ることを特徴とする一般式 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ10およびＺは、それぞ
    れ、前記した意味を有する。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を製造する方法。
  21. 【請求項２１】一般式 ［式中、Ｒ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい
    低級アルキル、低級アルケニルまたはフェニル基を;R2
    は、水素原子、アルキル基またはアシル基を;R3は、水
    素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒ
    ドロキシル基もしくはアルコキシカルボニル基または置
    換されていてもよいアルキル、アルコキシ、シクロアル
    キル、カルバモイル、アミノもしくはフェニル基を;R4
    は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カ
    ルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ジメチルア
    ミノメチリデンアミノ基もしくはアルコキシカルボニル
    基または置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、低級アルケニル、アルキルスルフィニ
    ル、アルキルスルホニル、フェニルもしくは複素環式
    基、または 式 （式中、Ｒ6は、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシル、カルバモイ
    ルもしくはアルキルスルホニル基を;R7は、水素原子、
    置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくは複
    素環式基を示すかまたはＲ6とＲ7が、隣接する窒素原子
    と一緒になって３〜７員環の置換されていてもよい複素
    環式基を示す。）で表わされる基を;R5は、置換されて
    いてもよいフェニル、チエニルまたはピリジル基を；お
    よびＺは、酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を、それ
    ぞれ、示す。］ で表わされる4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘導体ま
    たはその塩を含有する抗炎症剤。
  22. 【請求項２２】Ｚが、酸素原子または硫黄原子を;R
    5が、置換されていてもよいフェニルまたはピリジル基
    を;R1が、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級ア
    ルキルまたは低級アルケニル基を;R2が、水素原子また
    はアシル基を;R3およびＲ4が、同一または異なって、水
    素原子、カルバモイル基、カルボキシル基、ヒドロキシ
    ル基もしくはアルコキシカルボニル基または置換されて
    いてもよいアルキル、アルコキシもしくはフェニル基で
    ある特許請求の範囲第（21）項記載の4H−１−ベンゾピ
    ラン−４−オン誘導体またはその塩を含有する抗炎症
    剤。
  23. 【請求項２３】Ｒ5が、置換されていてもよいフェニル
    またはピリジル基を;Zが、酸素原子または硫黄原子を;R
    1が、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキ
    ルまたは低級アルケニル基を;R2が、水素原子またはア
    シル基を;R4が、 式 （式中、Ｒ6が、水素原子、ヒドロキシル基もしくはア
    ルコキシカルボニル基または置換されていてもよいアル
    キル、シクロアルキル、フェニル、アシルもしくはカル
    バモイル基を;R7が、水素原子または置換されていても
    よいアルキル基を示すかまたはＲ6およびＲ7が、隣接す
    る窒素原子と一緒になって置換されていてもよい４〜６
    員環の複素環式基を示す。）で表わされる基を;R3が、
    水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルバモイル基、
    カルボキシル基、ヒドロキシル基もしくはアルコキシカ
    ルボニル基または置換されていてもよいアルキル、アル
    コキシ、アミノもしくはフェニル基である特許請求の範
    囲第（21）項記載の4H−１−ベンゾピラン−４−オン誘
    導体またはその塩を含有する抗炎症剤。
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