JPH07111876B2 - Color picture tube - Google Patents

Color picture tube

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JPH07111876B2
JPH07111876B2 JP60002040A JP204085A JPH07111876B2 JP H07111876 B2 JPH07111876 B2 JP H07111876B2 JP 60002040 A JP60002040 A JP 60002040A JP 204085 A JP204085 A JP 204085A JP H07111876 B2 JPH07111876 B2 JP H07111876B2
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JP
Japan
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axis
curved surface
mask
picture tube
shadow mask
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雅及 井上
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はシヤドウマスク型カラー受像管に係り、特にシ
ヤドウマスクの曲面形状に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a shadow mask type color picture tube, and more particularly to a curved surface shape of a shadow mask.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

シヤドウマスク型カラー受像管に用いられているシヤド
ウマスクは色選択機能を有する重要な部材の一つであ
る。即ち、多色に発光する蛍光体の塗り分けられた曲面
状のパネル内面に対して一定の間隔を置いて、規則的に
配列された多数の開孔の穿設された有効曲面部からなる
シヤドウマスクが配置されている。そして管のネツク部
に配設された電子銃からの複数の電子ビームは集束、加
速され且つ偏向作用を受けて実質的に矩形状の領域を走
査し、シヤドウマスクの開孔を通過することによつて夫
々対応する蛍光体を射突発光せしめてカラー映像を現出
する。従つてシヤドウマスクの開孔群と対応する蛍光体
群との間にはいわゆるビームランデイングを正確ならし
めるために特定の相対的位置関係が必要であり、受像管
の動作中常にこの相対関係を一定に保たねばならない。
より具体的にはシヤドウマスクと蛍光面との間隔(以下
q値と略称する)が常に一定の許容範囲内になければな
らない。しかし乍らシヤドウマスク型カラー受像管はそ
の動作原理から、シヤドウマスクの開孔を通過する電子
ビーム量は1/3以下であり、残りの電子ビームはシヤド
ウマスクの非開孔部に射突する。射突した電子ビームは
熱エネルギーに変換されシヤドウマスクを加熱膨張させ
ることになる。この結果一般に鉄を主成分とする素材か
らなるシヤドウマスクは加熱膨張によりシヤドウマスク
の位置が変化し、q値が許容範囲外にまで変化するとビ
ームランデイング位置のずれにより色純度の劣化を生ず
ることになる。このようなシヤドウマスクの熱膨張によ
つて生ずるミスランデイングの大きさは画面上の画像の
パターン及びこのパターンの継続する時間によつても大
きく異なる。
The shadow mask used in the shadow mask type color picture tube is one of the important members having a color selection function. That is, a shadow mask consisting of an effective curved surface portion having a large number of apertures regularly arranged at regular intervals with respect to the curved inner surface of a panel in which phosphors emitting light of multiple colors are separately coated. Are arranged. Then, a plurality of electron beams from the electron gun arranged in the neck portion of the tube are focused, accelerated, and deflected to scan a substantially rectangular area and pass through the opening of the shadow mask. Then, the corresponding phosphors are made to project and emit a color image. Therefore, a certain relative positional relationship is required between the aperture group of the shear mask and the corresponding phosphor group in order to make the so-called beam landing accurate, and this relative relationship is always kept constant during the operation of the picture tube. I have to keep it.
More specifically, the distance between the shed mask and the phosphor screen (hereinafter abbreviated as q value) must always be within a certain allowable range. However, due to its operating principle, the sheer mask type color picture tube has an electron beam amount of less than 1/3 that passes through the opening of the sheer mask, and the remaining electron beams impinge on the non-rear portion of the sheer mask. The projected electron beam is converted into thermal energy and heats and expands the shear mask. As a result, in general, a shear mask made of a material containing iron as a main component changes the position of the shear mask due to thermal expansion, and when the q value changes outside the allowable range, the deviation of the beam landing position causes deterioration of color purity. The magnitude of mislanding caused by the thermal expansion of such a shed mask greatly differs depending on the pattern of the image on the screen and the duration of this pattern.

このうち長時間を要して生ずるミスランデイングは特公
昭44−3547号公報に示されているように、シヤドウマス
クを保持するマスクフレームに取り付けられたスプリン
グ支持構体にバイメタルを介在させることにより補正す
ることが可能である。従つて大きな問題となるのは短時
間のうちに生ずるミスランデイングである。
Of these, mislanding that takes a long time is corrected by interposing a bimetal in the spring support structure attached to the mask frame holding the shear mask, as shown in JP-B-44-3547. Is possible. Therefore, a big problem is mislanding that occurs in a short time.

短時間のうちに起こるミスランデイングについて、矩形
の窓状のパターンを発生させる信号器を使用し、窓状パ
ターンの形状や位置を変えてミスランデイングの大きさ
を測定すると、第3図のように画面(8)のほぼ全面に
わたつて窓状のパターン(7)がある場合は比較的ミス
ランデイングは小さい。しかし乍ら第4図に示すように
比較的細長い窓状パターン(7)が画面(8)の輪郭の
左右端からやや中央よりに偏在した場合に最も大きなミ
スランデイングを生ずる。この実験事実は次の理由から
容易に理解できる。
Regarding mislanding that occurs in a short time, using a signal device that generates a rectangular window-shaped pattern and measuring the size of the mislanding by changing the shape and position of the window-shaped pattern, as shown in Fig. 3. If there is a window-shaped pattern (7) across almost the entire screen (8), the mislanding is relatively small. However, as shown in FIG. 4, the largest mislanding occurs when the relatively elongated window-shaped pattern (7) is unevenly distributed from the left and right ends of the contour of the screen (8) to the center. This experimental fact can be easily understood for the following reason.

第1に、テレビジヨンセツトは受像管の平均陽極電流が
ある一定値をこえないように設計されているので、第3
図のように大きな窓状パターンではシヤドウマスクの単
位画積当りの電流が第4図の場合より小さく、従つて温
度上昇は小さい。
First, the television set is designed so that the average anode current of the picture tube does not exceed a certain value.
In the case of a large window-shaped pattern as shown in the figure, the current per unit area of the shadow mask is smaller than that in the case of FIG. 4, and therefore the temperature rise is small.

第2に、窓状パターンが画面の中央にある場合はシヤド
ウマスクが熱変形してもミスランデイングは生じ難い
が、中央から左右端に近づくにつれてシヤドウマスクの
熱変形が画面上のミスランデイングとして現れる度合が
大きくなる。しかし画面左右端の近くではシヤドウマス
クはマスクフレームに固定されているので変形そのもの
は小さくなる。従つて第4図に示すような窓状パターン
の場合に最も大きなミスランデイングを生ずる。
Secondly, if the window pattern is in the center of the screen, mislanding does not easily occur even if the shear mask thermally deforms. growing. However, since the shear mask is fixed to the mask frame near the left and right edges of the screen, the deformation itself is small. Therefore, the largest mislanding occurs in the case of the window pattern shown in FIG.

第5図は第4図に示すような窓状パターンのある場合の
ミスランデイングの状態を説明するための概略模式図で
ある。即ち、パネル(9)の内面(10)にスタツドピン
(11)、スプリング支持構体(12)及びマスクフレーム
(13)を介してシヤドウマスク(14)が対向配置されて
いる。今低輝度、即ち電子流密度の小さな状態で動作し
ている時のシヤドウマスク(14)は位置(a)にあり、
開孔(15)を通る電子ビーム(16)は対応する蛍光体
(17)に正しくランデイングしている。この状態から第
4図に示すような局所的に高輝度なパターンを映出する
時は、シヤドウマスク(14)は局部的に加熱膨張されて
位置(a′)に変位し、開孔(15)は位置(b)から
(b′)へ変位する結果、開孔(15)を通る電子ビーム
(16)は位置(c)から(c′)に変位して所定の蛍光
体に正しくランデイングしなくなる。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a mislanding state in the case where there is a window pattern as shown in FIG. That is, the shadow mask (14) is arranged opposite to the inner surface (10) of the panel (9) via the stud pin (11), the spring support structure (12) and the mask frame (13). The shadow mask (14) when it is operating at a low brightness, that is, a low electron flow density, is at the position (a),
The electron beam (16) passing through the aperture (15) is correctly landing on the corresponding phosphor (17). When a locally high-intensity pattern as shown in FIG. 4 is projected from this state, the shear mask (14) is locally heated and expanded to be displaced to the position (a ') and the opening (15). Is displaced from the position (b) to (b '), and as a result, the electron beam (16) passing through the aperture (15) is displaced from the position (c) to (c') and is not properly landed on the predetermined phosphor. .

このような短時間のシヤドウマスクの熱変形を防止する
ために、シヤドウマスクのマスクフレームへの固定部を
できるだけ柔軟にし、第6図(a)のようなドーム状の
変形から第6図(b)に示すようにシヤドウマスク(1
4)全体を管軸方向に平行移動させる方法も採用されて
いる。しかし乍らこのような対策は第3図(a)のよう
な全体的な熱膨張による変位には有効であつても、第4
図に示すような局所的な変位には殆んど効果がない。こ
の傾向は特に大画面を有する大型管ほど著しく、また同
じ大きさであつてもシヤドウマスクの曲率半径が大きい
ほど、即ち視感的に好ましいとされるより平坦化された
管ほど著しい。
In order to prevent such thermal deformation of the sheer dough mask in a short time, the fixing portion of the sheer dough mask to the mask frame is made as flexible as possible, and the dome-shaped deformation as shown in FIG. 6 (a) is changed to that shown in FIG. 6 (b). Shed mask (1
4) A method of translating the entire pipe in the axial direction is also adopted. However, even if such a measure is effective for the displacement due to the overall thermal expansion as shown in FIG.
The local displacement shown in the figure has almost no effect. This tendency is remarkable especially in a large-sized tube having a large screen, and also in a tube having the same size but a large radius of curvature of the shadow mask, that is, a flattened tube which is visually preferable.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、シヤドウマ
スクの局部的な熱膨張によつて生ずる色純度の劣化を抑
制することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to suppress the deterioration of the color purity caused by the local thermal expansion of the shear mask.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

実質的に矩形状の長辺方向の有効曲面部中心を通る軸を
X軸、短辺方向の有効曲面部中心を通る軸をY軸とし、
管軸と一致する軸をZ軸とする時、シャドウマスクの有
効曲面部とX軸及びZ軸を含む平面との断面が、X軸を
長軸、Z軸を短軸とし、X、Y、Z軸の原点を頂点とす
る実質的に楕円曲線の一部をなし、シャドウマスクの有
効曲面部とY軸及びZ軸を含む平面に平行な平面との断
面が、X軸近傍の曲率半径をRVOとし、長辺付近の曲率
半径をRVYとする時、RVO≦RVYとなるように構成する
ことにより局部ドーミングが最大となる領域付近での、
X軸近傍のY軸に平行方向の曲率半径を減少させ、この
領域での熱変形を小さくすることによつて色純度の劣化
を効果的に抑制するものである。
An axis passing through the center of the effective curved surface in the substantially long side direction of the substantially rectangular shape is defined as an X axis, and an axis passing through the center of the effective curved surface in the direction of the short side is defined as a Y axis.
When the axis coinciding with the tube axis is the Z axis, the cross section of the effective curved surface portion of the shadow mask and the plane including the X axis and the Z axis has the X axis as the major axis and the Z axis as the minor axis, and X, Y, The cross section of the effective curved surface of the shadow mask and the plane parallel to the plane including the Y axis and the Z axis forms a part of an elliptic curve with the origin of the Z axis as the apex, and the radius of curvature near the X axis is When RVO and the radius of curvature near the long side are RVY, by configuring so that RVO ≦ RVY, in the vicinity of the region where the local doming is maximum,
By reducing the radius of curvature in the direction parallel to the Y-axis near the X-axis and reducing the thermal deformation in this region, the deterioration of color purity is effectively suppressed.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下に本発明の実施例について詳細に説明する。第4図
に示すような窓状パターンを映出せしめた場合、当初の
2〜3分間の間は第7図に示すようにシヤドウマスク
(14)の電子ビームの射突する領域(18)のみが熱膨張
し局部的なミスランデイングを生ずる。この時のシヤド
ウマスク(14)の窓状パターン部の温度上昇を実測する
と、中心となるX軸上のM点は約70℃に上昇する条件で
は上下端のN点、即ち窓状パターンのY軸に平行なA−
A′軸の両端では約25℃に上昇する。このことから領域
(18)の中でもX軸近傍での熱膨張はX軸から離れた部
分の熱膨張より大きいことがわかる。換言すればX軸近
傍での変形を小さくすれば領域(18)全体の熱変形を小
さくできることになる。
Examples of the present invention will be described in detail below. When a window-like pattern as shown in FIG. 4 is projected, only the area (18) where the electron beam impinges on the shadow mask (14) is projected during the initial 2-3 minutes as shown in FIG. Thermal expansion causes local mislanding. When the temperature rise of the window-shaped pattern portion of the shadow mask (14) at this time is measured, the center point M on the X-axis rises to about 70 ° C. at the upper and lower points N, that is, the Y-axis of the window pattern. A-parallel to
The temperature rises to about 25 ° C at both ends of the A'axis. From this, it can be seen that, in the region (18), the thermal expansion in the vicinity of the X axis is larger than the thermal expansion in the portion away from the X axis. In other words, if the deformation near the X axis is reduced, the thermal deformation of the entire region (18) can be reduced.

シヤドウマスクの曲面形状は、従来は部分球面が使用さ
れている。しかしながらq値を最適にするために、 あるいは、 等のように表示される形状も用いられることができる。
As for the curved surface shape of the shear mask, a partial spherical surface is conventionally used. However, in order to optimize the q value, Alternatively, Shapes such as displayed may also be used.

但し、θ:Y軸に対する角度 RH:X軸上の円弧の半径 RVO:Y軸上の円弧の半径 A,B,C,k:定数 (1)式の表示では画面中心を通るシヤドウマスクの任
意の断面が、一つの円弧、(2)式の表示ではX軸、Y
軸及びY軸に平行方向の任意の断面が一つの円弧で表わ
されている。
However, θ: Angle with respect to Y-axis R H : Radius of arc on X-axis R VO : Radius of arc on Y-axis A, B, C, k: Constant In the expression of (1), the shadow mask passing through the center of the screen Arbitrary cross section is one arc, X axis, Y in the display of formula (2)
An arbitrary cross section parallel to the axis and the Y-axis is represented by one arc.

第1図は、本発明の一実施例を示すもので、第7図のX
軸上、B−B′に沿う断面を示す。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, and is indicated by X in FIG.
The cross section along the line BB 'is shown on the axis.

第1図においては、シャドウマスクの有効曲面部とX軸
及びZ軸を含む平面との断面(以下単にX軸断面ともい
う)は、(1)式及び(2)式で表わされる形状(1)
が一つの円弧より表わされるのに対して、本発明による
形状(2)はX軸を長軸、Z軸を短軸とする楕円曲線の
一部より構成されている。一方、シャドウマスク有効曲
面部とY軸及びZ軸を含む平面と平行な平面との断面
(以下、単にY軸に平行方向の断面ともいう)は、上記
実施例の形状及び(1)式及び(2)式で示される形状
共円弧になる。しかし、X軸断面の形状を変化させたこ
とにより実施例の形状では従来の円弧形状に対して曲率
半径が変化する。Y軸上及びY軸に平行な有効径最外部
分の断面を円弧とすれば、中間部のY軸に平行方向の断
面の曲率半径は、第2図に示すように実施例の形状
(6)の方が、従来の円弧形状(5)に比べて小さくな
る。特に第7図のM点近傍では、その差が大きくなる。
Y軸に平行方向の曲率半径がシヤドウマスクの熱変形に
大きな効果を与え、曲率半径が小さいほど局部的ミスラ
ンデイングが小さくなる。そのため熱膨張による局部的
ミスランデイングが最も大きいM点近傍のY軸に平行方
向の曲率半径が小さくなれば効果的に局部的ミスランデ
イングを補正することができる。従つて、本発明による
シヤドウマスク形状を用いれば、楕円曲線の長軸と短軸
の長さを変化させることにより、M点付近のY軸に平行
方向の曲率半径を調整し、最大のミスランデイング点で
最大の補正効果を持つことができる。すなわち、極めて
効果的に局部的ミスランデイングを抑制できる。
In FIG. 1, the cross section of the effective curved surface portion of the shadow mask and the plane including the X axis and the Z axis (hereinafter also simply referred to as the X axis cross section) has a shape (1) and (2). )
Is represented by one arc, the shape (2) according to the present invention is formed by a part of an elliptic curve having the X axis as the major axis and the Z axis as the minor axis. On the other hand, the cross section of the shadow mask effective curved surface portion and the plane parallel to the plane including the Y axis and the Z axis (hereinafter, also simply referred to as the cross section in the direction parallel to the Y axis) has the shape of the above embodiment and the equation (1) and The shape is represented by the formula (2) and the shape is a circular arc. However, by changing the shape of the X-axis cross section, the radius of curvature changes in the shape of the embodiment as compared with the conventional arc shape. If the cross section on the Y-axis and in the outermost portion of the effective diameter parallel to the Y-axis is an arc, the radius of curvature of the cross section in the direction parallel to the Y-axis of the intermediate portion is as shown in FIG. ) Is smaller than the conventional arc shape (5). In particular, the difference becomes large in the vicinity of point M in FIG.
The radius of curvature parallel to the Y-axis has a great effect on the thermal deformation of the shear mask, and the smaller the radius of curvature, the smaller the local mislanding. Therefore, the local mislanding can be effectively corrected if the radius of curvature in the direction parallel to the Y axis near the point M where the local mislanding due to thermal expansion is the largest becomes small. Therefore, by using the shadow mask shape according to the present invention, by changing the lengths of the major axis and the minor axis of the elliptic curve, the radius of curvature in the direction parallel to the Y axis near the point M is adjusted, and the maximum mislanding point is reached. Can have the maximum correction effect. That is, local mislanding can be suppressed very effectively.

例えば20吋型90゜偏向カラー受像管では、従来の(2)
式で表わされる形状でX軸の曲率半径がRH=1080mmのも
のに対し、本発明の実施例として例えば長軸Ra=241.68
mm、短軸Rb=46.53mmとした場合に、局部的ミスランデ
イングを20%改良することができた。
For example, in the 20-inch 90 ° deflection color picture tube, the conventional (2)
Whereas the shape represented by the formula and the radius of curvature of the X axis is R H = 1080 mm, as an embodiment of the present invention, for example, the long axis Ra = 241.68.
mm, short axis Rb = 46.53 mm, the local mislanding could be improved by 20%.

楕円においては、離心率εにより、長軸Raと短軸Rbの比
が変わり、εは0ε<1の範囲の値をとる。円ではε
=0となる。離心率εが0に近いほど円に近くなるた
め、シヤドウマスクのY軸に平行方向断面の曲率半径は
小さくならず、十分な局部的ミスランデイングの補正効
果を持つことができない。即ち実質的なεとしては0.5
以上は必要である。従つてεの範囲として、0.5ε<
1.0が適当である。
In the ellipse, the ratio of the major axis Ra and the minor axis Rb changes depending on the eccentricity ε, and ε takes a value in the range of 0ε <1. Ε for a circle
= 0. The closer the eccentricity ε is to 0, the closer it is to a circle. Therefore, the radius of curvature of the cross section of the shear mask in the direction parallel to the Y-axis does not become small, and it is not possible to have a sufficient correction effect for local mislanding. That is, 0.5
The above is necessary. Therefore, the range of ε is 0.5ε <
1.0 is appropriate.

またX軸に沿う楕円曲線は2つ以上の複数の曲率半径を
組み合わせて実質的に楕円曲線としてもよい。
The elliptic curve along the X axis may be a substantially elliptic curve by combining two or more radiuses of curvature.

以上の説明においてY軸に平行方向の断面は、一つの円
弧で表わされる場合をとりあげたが必ずしもこの必要は
ない。しかし、シヤドウマスクの熱膨張による局部的ミ
スランデイングには、X軸近傍のY軸に平行方向の曲率
半径が最も効果があり小さい方が良い。このためY軸に
平行方向の断面は、少く共一つの円弧あるいは、この断
面のX軸上の曲率半径をX軸から離れた部分、例えば長
辺付近の曲率半径より小さくしなければ、局部的ミスラ
ンデイングを効果的に補正することはできない。
In the above description, the cross section in the direction parallel to the Y-axis is represented by one arc, but this is not always necessary. However, for local mislanding due to thermal expansion of the shear mask, the radius of curvature in the direction parallel to the Y axis near the X axis is the most effective and the smaller the better. For this reason, the cross section in the direction parallel to the Y-axis has at least one arc, or unless the radius of curvature on the X-axis of this cross-section is made smaller than the radius apart from the X-axis, for example, the radius of curvature in the vicinity of the long side, it is localized. Mislanding cannot be effectively corrected.

尚、以上のような構造を有するシヤドウマスクでは、局
部的にq値が最適値からずれる場合があるが、その量が
許容値外となる場合は、パネルの内面形状をシヤドウマ
スクと相似にすれば特に問題は生じない。この場合に
は、ラスター歪特性等が変化するが変化量は小さくほと
んど問題とならない。前述の20吋型カラー受像管では目
視では簡単に判別できない程度であり実用上の問題とは
ならなかつた。
In the case of the sheer mask having the above structure, the q value may be locally deviated from the optimum value. However, if the amount is out of the allowable value, it is particularly preferable to make the inner surface shape of the panel similar to that of the sheer mask. There is no problem. In this case, the raster distortion characteristics and the like change, but the change amount is small and causes almost no problem. With the 20-inch color picture tube described above, it was not easy to discern visually, so it was not a practical problem.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、シヤドウマスクの構造を
大幅に変更することなく、曲面形状を部分的に変更する
のみで、局部的な熱変形による色純度の劣化を効果的に
抑制することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to effectively suppress the deterioration of the color purity due to local thermal deformation by only partially changing the curved surface shape without significantly changing the structure of the shear mask. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図及び第2図は本発明の実施例を示す模式図、第3
図及び第4図は映出パターンを示す模式図、第5図及び
第7図はシヤドウマスクの局部的熱変形を説明するため
の模式図、第6図(a)及び第6図(b)はシヤドウマ
スクの全体的熱変形を説明するための模式図である。 (1),(2)……シヤドウマスク断面 (5),(6)……シヤドウマスク断面 (7)……窓状パターン、(8)……画面の輪郭 (9)……パネル、(10)……パネル内面 (11)……スタツドピン、(12)……スプリング支持構
体 (13)……フレーム、(14)……シヤドウマスク (15)……開孔、(16)……電子ビーム (17)……蛍光体、(18)……電子ビーム射突領域
1 and 2 are schematic views showing an embodiment of the present invention, and FIG.
FIGS. 4 and 5 are schematic diagrams showing the projected pattern, FIGS. 5 and 7 are schematic diagrams for explaining local thermal deformation of the sheer dough mask, and FIGS. 6 (a) and 6 (b) are It is a schematic diagram for demonstrating the whole thermal deformation of a shear mask. (1), (2) …… Shadow mask cross section (5), (6) …… Shadow mask cross section (7) …… Window pattern, (8) …… Screen outline (9) …… Panel, (10)… … Inside panel (11) …… stud pin, (12) …… spring support structure (13) …… frame, (14) …… shadow mask (15) …… opening, (16) …… electron beam (17)… … Phosphor, (18) …… Electron beam impingement area

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内面に蛍光体群の形成された実質的に矩形
状のパネルと前記パネルに近接対向して配置され、実質
的に矩形状の有効曲面部と前記有効曲面部内の規則内に
配列された多数の開孔を有するシャドウマスクを備えた
カラー受像管において、前記実質的に矩形状の長辺方向
の有効曲面部中心を通る軸をX軸、短辺方向の有効曲面
部中心を通る軸をY軸とし、管軸と一致する軸をZ軸と
する時、前記シャドウマスクの有効曲面部とX軸及びZ
軸を含む平面との断面が、前記X軸を長軸、Z軸を短軸
とし、前記X、Y、Z軸の原点を頂点とする実質的に楕
円曲線の一部をなし、前記シャドウマスクの有効曲面部
とY軸及びZ軸を含む平面に平行な平面との断面が、X
軸近傍の曲率半径をRVOとし、長辺付近の曲率半径をR
VYとする時、RVO≦RVYであることを特徴とするカラー
受像管。
1. A substantially rectangular panel having a phosphor group formed on the inner surface thereof, and a substantially rectangular effective curved surface portion and a rule in the effective curved surface portion which are arranged in close proximity to the panel. In a color picture tube provided with a shadow mask having a large number of arranged apertures, an axis passing through the center of the effective curved surface portion of the substantially rectangular long side is defined as the X axis, and the center of the effective curved surface portion in the short side direction is defined as When the axis passing through is the Y axis and the axis coinciding with the tube axis is the Z axis, the effective curved surface portion of the shadow mask and the X axis and the Z axis.
The cross section with the plane including the axis is substantially a part of an elliptic curve having the X axis as a long axis, the Z axis as a short axis, and the origins of the X, Y, and Z axes as apexes, and the shadow mask The cross section of the effective curved surface part of X and the plane parallel to the plane including the Y axis and the Z axis is X.
Let RVO be the radius of curvature near the axis and R be the radius of curvature near the long side.
A color picture tube characterized in that when VY, RVO ≤ RVY.
【請求項2】前記楕円曲線の離心率が0.5以上1.0未満で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のカラ
ー受像管。
2. The color picture tube according to claim 1, wherein the eccentricity of the elliptic curve is 0.5 or more and less than 1.0.
【請求項3】前記楕円曲線が複数の異なる曲率半径から
合成された曲線からなることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のカラー受像管。
3. The color picture tube according to claim 1, wherein the elliptic curve is a curve composed of a plurality of different radii of curvature.
【請求項4】前記シャドウマスクの有効曲面部とY軸及
びZ軸を含む平面との断面が、1つまたは2つ以上の異
なる曲率半径からなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のカラー受像管。
4. The cross section between the effective curved surface portion of the shadow mask and the plane including the Y axis and the Z axis has one or two or more different radii of curvature. Color picture tube described.
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