JPH06203576A - センス回路 - Google Patents
センス回路Info
- Publication number
- JPH06203576A JPH06203576A JP4348695A JP34869592A JPH06203576A JP H06203576 A JPH06203576 A JP H06203576A JP 4348695 A JP4348695 A JP 4348695A JP 34869592 A JP34869592 A JP 34869592A JP H06203576 A JPH06203576 A JP H06203576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- threshold voltage
- sense circuit
- control electrode
- transistors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 増幅率が大きく、入力電位の変動に伴う増幅
率の変動が小さく且つ動作速度が速いセンス回路を提供
する。 【構成】 ソースが電源に接続され且つドレインとゲー
トとが接続されたpMOSTr11,17と、ソースが
電源に接続され且つゲートがそれぞれTr11,17の
ドレインと接続されたpMOSTr12,18と、ドレ
インがTr11,17のドレインと接続されたnMOS
Tr13,19と、ドレインがTr12,18のドレイ
ンと接続され且つソースがTr13,19のソースと接
続されたnMOSTr14,20と、Tr13,19の
ソースおよびTr14,20のソースとグランドとの間
に設けられた電流制御用Tr16,22とを備えたセン
ス回路において、Tr14,20のスレッショルド電圧
をTr13,19のスレッショルド電圧よりも高くす
る。
率の変動が小さく且つ動作速度が速いセンス回路を提供
する。 【構成】 ソースが電源に接続され且つドレインとゲー
トとが接続されたpMOSTr11,17と、ソースが
電源に接続され且つゲートがそれぞれTr11,17の
ドレインと接続されたpMOSTr12,18と、ドレ
インがTr11,17のドレインと接続されたnMOS
Tr13,19と、ドレインがTr12,18のドレイ
ンと接続され且つソースがTr13,19のソースと接
続されたnMOSTr14,20と、Tr13,19の
ソースおよびTr14,20のソースとグランドとの間
に設けられた電流制御用Tr16,22とを備えたセン
ス回路において、Tr14,20のスレッショルド電圧
をTr13,19のスレッショルド電圧よりも高くす
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体記憶装置
等に使用されるセンス回路に関する。
等に使用されるセンス回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のセンス回路について、SRAM
(Static Random Access Memory )に使用される場合を
例にとって説明する。
(Static Random Access Memory )に使用される場合を
例にとって説明する。
【0003】このようなセンス回路の一構成例を図6に
示す。同図において、pMOSトランジスタ51,52
およびpMOSトランジスタ57,58は、それぞれ、
カレントミラー回路を構成している。nMOSトランジ
スタ54,59のゲートはそれぞれSRAMの一方のビ
ット線から入力電位VinAを入力し、NMOSトランジ
スタ53,60のゲートはそれぞれSRAMの他方のビ
ット線から入力電位VinBを入力する。また、nMOS
トランジスタ55,61は、それぞれ、スイッチとして
使用される。nMOSトランジスタ56,62は、それ
ぞれ、トランジスタ51〜54,57〜60に流れる電
流を絞るために設けられている。
示す。同図において、pMOSトランジスタ51,52
およびpMOSトランジスタ57,58は、それぞれ、
カレントミラー回路を構成している。nMOSトランジ
スタ54,59のゲートはそれぞれSRAMの一方のビ
ット線から入力電位VinAを入力し、NMOSトランジ
スタ53,60のゲートはそれぞれSRAMの他方のビ
ット線から入力電位VinBを入力する。また、nMOS
トランジスタ55,61は、それぞれ、スイッチとして
使用される。nMOSトランジスタ56,62は、それ
ぞれ、トランジスタ51〜54,57〜60に流れる電
流を絞るために設けられている。
【0004】ここで、トランジスタ51,52,57,
58としては、それぞれ同一のpMOSトランジスタが
使用されている。また、トランジスタ53,54,5
9,60としては、それぞれ同一のnMOSトランジス
タが使用されている。
58としては、それぞれ同一のpMOSトランジスタが
使用されている。また、トランジスタ53,54,5
9,60としては、それぞれ同一のnMOSトランジス
タが使用されている。
【0005】なお、各トランジスタのチャネル長Lとチ
ャネル幅Wとの比W/Lは、pMOSトランジスタ5
1,52,57,58がそれぞれ10/0.9、nMO
Sトランジスタ53,54,59,60が15/0.
9、nMOSトランジスタ55,61が4/0.5、n
MOSトランジスタ56,62が2/2である。
ャネル幅Wとの比W/Lは、pMOSトランジスタ5
1,52,57,58がそれぞれ10/0.9、nMO
Sトランジスタ53,54,59,60が15/0.
9、nMOSトランジスタ55,61が4/0.5、n
MOSトランジスタ56,62が2/2である。
【0006】このような構成のセンス回路では、入力電
位VinA,VinBの電位差が増幅されて出力電位Vout
A,Vout Bとして出力される。入力電位VinA,Vin
Bと出力電位Vout A,Vout Bとの関係を図7に示
す。
位VinA,VinBの電位差が増幅されて出力電位Vout
A,Vout Bとして出力される。入力電位VinA,Vin
Bと出力電位Vout A,Vout Bとの関係を図7に示
す。
【0007】図7は、入力電位VinA,VinBを時間と
ともに上昇させていった場合の、出力電位Vout A,V
out Bの変化を示すグラフである。同図において、縦軸
は電位であり、横軸は時刻である。ここで、同図は入力
電位VinAをハイ、入力電位VinBをローとした場合を
示している。このとき出力電位Vout Aはロー、出力電
位Vout Bはハイとなる。
ともに上昇させていった場合の、出力電位Vout A,V
out Bの変化を示すグラフである。同図において、縦軸
は電位であり、横軸は時刻である。ここで、同図は入力
電位VinAをハイ、入力電位VinBをローとした場合を
示している。このとき出力電位Vout Aはロー、出力電
位Vout Bはハイとなる。
【0008】同図からわかるように、入力電位VinAお
よび入力電位VinBを、電位差を一定(50mV)に保
ちながら上昇させていくと、出力電位Vout Aは、Vin
A=0.38V付近で急激に低下した後、VinA,Vin
Bにほぼ比例して上昇する。また、出力電位Vout B
は、VinB=2.8V付近までは緩やかに低下し、Vin
B=2.8V以上では急激に低下する。したがって、V
inAが0.38Vよりも小さくなる場合およびVinBが
2.85Vよりも大きくなる場合には、出力電位Vout
A,Vout Bの電位差は非常に小さくなってしまう。こ
のため、従来は、入力電位VinA,VinBとして、両者
の中間付近となるような電位を使用していた。
よび入力電位VinBを、電位差を一定(50mV)に保
ちながら上昇させていくと、出力電位Vout Aは、Vin
A=0.38V付近で急激に低下した後、VinA,Vin
Bにほぼ比例して上昇する。また、出力電位Vout B
は、VinB=2.8V付近までは緩やかに低下し、Vin
B=2.8V以上では急激に低下する。したがって、V
inAが0.38Vよりも小さくなる場合およびVinBが
2.85Vよりも大きくなる場合には、出力電位Vout
A,Vout Bの電位差は非常に小さくなってしまう。こ
のため、従来は、入力電位VinA,VinBとして、両者
の中間付近となるような電位を使用していた。
【0009】なお、入力電位VinAをロー、入力電位V
inBをハイとした場合は、出力電位Vout Aは図7の出
力電位Vout Bと同じ特性を示し、出力電位Vout Bは
図7の出力電位Vout Aと同じ特性を示す。
inBをハイとした場合は、出力電位Vout Aは図7の出
力電位Vout Bと同じ特性を示し、出力電位Vout Bは
図7の出力電位Vout Aと同じ特性を示す。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】SRAMでは、一般
に、ビット線のプリチャージ電圧が高い方が安定性が向
上する。しかしながら、SRAMにこのようなセンス回
路を接続した場合、ビット線から供給される入力電位V
inA,VinBが高くなると増幅率が低下するため、ビッ
ト線のプリチャージ電圧を高くすることができなかっ
た。
に、ビット線のプリチャージ電圧が高い方が安定性が向
上する。しかしながら、SRAMにこのようなセンス回
路を接続した場合、ビット線から供給される入力電位V
inA,VinBが高くなると増幅率が低下するため、ビッ
ト線のプリチャージ電圧を高くすることができなかっ
た。
【0011】また、プリチャージ電圧を低く設定して
も、何らかの原因によりSRAMの電源電位VDD付近ま
で上昇してしまう場合があり、このような場合にもセン
ス回路での増幅率が低下してしまう。
も、何らかの原因によりSRAMの電源電位VDD付近ま
で上昇してしまう場合があり、このような場合にもセン
ス回路での増幅率が低下してしまう。
【0012】これに対して、pMOSトランジスタ5
2,58を大きくすることによって出力電位Vout Bの
特性を改善し、かかる欠点を緩和したセンス回路が知ら
れている。
2,58を大きくすることによって出力電位Vout Bの
特性を改善し、かかる欠点を緩和したセンス回路が知ら
れている。
【0013】pMOSトランジスタ52,58のチャネ
ル幅Wを2倍にした場合(すなわち、W/L=20/
0.9)における、入力電位VinA,VinBと出力電位
VoutA,Vout Bとの関係を図8に示す。同図からわ
かるように、pMOSトランジスタ52,58を大きく
した場合にはVout Bの低下が緩やかになり、その分、
増幅率の低下が抑えられる。
ル幅Wを2倍にした場合(すなわち、W/L=20/
0.9)における、入力電位VinA,VinBと出力電位
VoutA,Vout Bとの関係を図8に示す。同図からわ
かるように、pMOSトランジスタ52,58を大きく
した場合にはVout Bの低下が緩やかになり、その分、
増幅率の低下が抑えられる。
【0014】しかし、このようなセンス回路によって
も、Vout Bの低下量を低減させることはできるものの
Vout Aの上昇量を抑えることはできないため、出力電
位Vou t A,Vout Bの電位差を十分に大きくすること
(すなわち十分な増幅率を得ること)はできなかった。
も、Vout Bの低下量を低減させることはできるものの
Vout Aの上昇量を抑えることはできないため、出力電
位Vou t A,Vout Bの電位差を十分に大きくすること
(すなわち十分な増幅率を得ること)はできなかった。
【0015】また、pMOSトランジスタ52,58を
大きくすると、これらのトランジスタ52,58のドレ
インの接合容量が増加してしまうため、センス回路の動
作速度が遅くなってしまうという新たな欠点が生じた。
大きくすると、これらのトランジスタ52,58のドレ
インの接合容量が増加してしまうため、センス回路の動
作速度が遅くなってしまうという新たな欠点が生じた。
【0016】本発明は、このような従来技術の欠点に鑑
みてなされたものであり、増幅率が大きく、入力電位の
変動に伴う増幅率の変動が小さく且つ動作速度が速いセ
ンス回路を提供することを目的とする。
みてなされたものであり、増幅率が大きく、入力電位の
変動に伴う増幅率の変動が小さく且つ動作速度が速いセ
ンス回路を提供することを目的とする。
【0017】
(1) 第1の発明に係わるセンス回路は、一端が電源に接
続され且つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の
第1トランジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制
御電極が前記第1トランジスタの前記他端と接続された
第1導電型の第2トランジスタと、一端が前記第1トラ
ンジスタの他端と接続された第2導電型の第3トランジ
スタと、一端が前記第2トランジスタの前記他端と接続
され且つ他端が前記第3トランジスタの他端と接続され
た第2導電型の第4トランジスタと、前記第3トランジ
スタの前記他端および前記第4トランジスタの前記他端
とグランドとの間に設けられた第1電流制御用トランジ
スタとを備えた第1アンプと、一端が電源に接続され且
つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の第5トラ
ンジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制御電極が
前記第5トランジスタの前記他端と接続された第1導電
型の第6トランジスタと、一端が前記第5トランジスタ
の前記他端と接続され且つ制御電極が前記第4トランジ
スタの制御電極と接続された第2導電型の第7トランジ
スタと、一端が前記第6トランジスタの他端と接続され
他端が前記第7トランジスタの前記他端と接続され且つ
制御電極が前記第3トランジスタの制御電極と接続され
た第2導電型の第8トランジスタと、前記第7トランジ
スタの前記他端および前記第8トランジスタの前記他端
とグランドとの間に設けられた第2電流制御用トランジ
スタとを備えた第2アンプとを備え、前記第4トランジ
スタの前記制御電極と前記第7トランジスタの前記制御
電極との接続点を第1入力とし、前記第3トランジスタ
の前記制御電極と前記第8トランジスタの前記制御電極
との接続点を第2入力とし、前記第2トランジスタの前
記他端と前記第4トランジスタの前記一端との接続点を
第1出力とし、前記第6トランジスタの前記他端と前記
第8トランジスタの前記一端との接続点を第2出力とし
たセンス回路であって、前記第4,第8トランジスタの
スレッショルド電圧が前記第3,第7トランジスタのス
レッショルド電圧よりも高いことを特徴とする。 (2) 第2の発明に係わるセンス回路は、一端が電源に接
続され且つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の
第1トランジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制
御電極が前記第1トランジスタの前記他端と接続された
第1導電型の第2トランジスタと、一端が前記第1トラ
ンジスタの前記他端と接続された第2導電型の第3トラ
ンジスタと、一端が前記第2トランジスタの他端と接続
され且つ他端が前記第3トランジスタの前記他端と接続
された第2導電型の第4トランジスタと、前記第3トラ
ンジスタの前記他端および前記第4トランジスタの前記
他端とグランドとの間に設けられた電流制御用トランジ
スタとを備え、前記第3,第4トランジスタの前記制御
電極をそれぞれ入力とし且つ前記第2トランジスタの前
記他端と前記第4トランジスタの前記一端との接続点を
出力としたセンス回路であって、前記第4トランジスタ
のスレッショルド電圧が前記第3トランジスタのスレッ
ショルド電圧よりも高いことを特徴とする。
続され且つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の
第1トランジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制
御電極が前記第1トランジスタの前記他端と接続された
第1導電型の第2トランジスタと、一端が前記第1トラ
ンジスタの他端と接続された第2導電型の第3トランジ
スタと、一端が前記第2トランジスタの前記他端と接続
され且つ他端が前記第3トランジスタの他端と接続され
た第2導電型の第4トランジスタと、前記第3トランジ
スタの前記他端および前記第4トランジスタの前記他端
とグランドとの間に設けられた第1電流制御用トランジ
スタとを備えた第1アンプと、一端が電源に接続され且
つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の第5トラ
ンジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制御電極が
前記第5トランジスタの前記他端と接続された第1導電
型の第6トランジスタと、一端が前記第5トランジスタ
の前記他端と接続され且つ制御電極が前記第4トランジ
スタの制御電極と接続された第2導電型の第7トランジ
スタと、一端が前記第6トランジスタの他端と接続され
他端が前記第7トランジスタの前記他端と接続され且つ
制御電極が前記第3トランジスタの制御電極と接続され
た第2導電型の第8トランジスタと、前記第7トランジ
スタの前記他端および前記第8トランジスタの前記他端
とグランドとの間に設けられた第2電流制御用トランジ
スタとを備えた第2アンプとを備え、前記第4トランジ
スタの前記制御電極と前記第7トランジスタの前記制御
電極との接続点を第1入力とし、前記第3トランジスタ
の前記制御電極と前記第8トランジスタの前記制御電極
との接続点を第2入力とし、前記第2トランジスタの前
記他端と前記第4トランジスタの前記一端との接続点を
第1出力とし、前記第6トランジスタの前記他端と前記
第8トランジスタの前記一端との接続点を第2出力とし
たセンス回路であって、前記第4,第8トランジスタの
スレッショルド電圧が前記第3,第7トランジスタのス
レッショルド電圧よりも高いことを特徴とする。 (2) 第2の発明に係わるセンス回路は、一端が電源に接
続され且つ他端と制御電極とが接続された第1導電型の
第1トランジスタと、一端が前記電源に接続され且つ制
御電極が前記第1トランジスタの前記他端と接続された
第1導電型の第2トランジスタと、一端が前記第1トラ
ンジスタの前記他端と接続された第2導電型の第3トラ
ンジスタと、一端が前記第2トランジスタの他端と接続
され且つ他端が前記第3トランジスタの前記他端と接続
された第2導電型の第4トランジスタと、前記第3トラ
ンジスタの前記他端および前記第4トランジスタの前記
他端とグランドとの間に設けられた電流制御用トランジ
スタとを備え、前記第3,第4トランジスタの前記制御
電極をそれぞれ入力とし且つ前記第2トランジスタの前
記他端と前記第4トランジスタの前記一端との接続点を
出力としたセンス回路であって、前記第4トランジスタ
のスレッショルド電圧が前記第3トランジスタのスレッ
ショルド電圧よりも高いことを特徴とする。
【0018】
(1) 第1の発明においては、第4,第8トランジスタの
スレッショルド電圧を第3,第7トランジスタのスレッ
ショルド電圧よりも高くすることにより、第1,第2入
力から入力される電位が高いときの増幅率を大きくする
ことができるとともに、入力電位の変動に伴う増幅率の
変動を小さくすることができる。また、これにより、第
2,第6トランジスタを大きくする必要がなくなるの
で、動作速度を速くすることができる。 (2) 第2の発明においては、第4トランジスタのスレッ
ショルド電圧を第3トランジスタのスレッショルド電圧
よりも高くすることにより、第1,第2入力から入力さ
れる電位が高いときの増幅率を大きくすることができる
とともに、入力電位の変動に伴う増幅率の変動を小さく
することができる。また、これにより、第2トランジス
タを大きくする必要がなくなるので、動作速度を速くす
ることができる。
スレッショルド電圧を第3,第7トランジスタのスレッ
ショルド電圧よりも高くすることにより、第1,第2入
力から入力される電位が高いときの増幅率を大きくする
ことができるとともに、入力電位の変動に伴う増幅率の
変動を小さくすることができる。また、これにより、第
2,第6トランジスタを大きくする必要がなくなるの
で、動作速度を速くすることができる。 (2) 第2の発明においては、第4トランジスタのスレッ
ショルド電圧を第3トランジスタのスレッショルド電圧
よりも高くすることにより、第1,第2入力から入力さ
れる電位が高いときの増幅率を大きくすることができる
とともに、入力電位の変動に伴う増幅率の変動を小さく
することができる。また、これにより、第2トランジス
タを大きくする必要がなくなるので、動作速度を速くす
ることができる。
【0019】
(実施例1)まず、第1の発明の一実施例について、図
面を用いて説明する。
面を用いて説明する。
【0020】図1は、本実施例に係わるセンス回路の回
路構成を示す電気回路図である。同図において、第1ト
ランジスタとしてのpMOSトランジスタ11は、ソー
スが電源に接続され、ドレインとゲートとが接続されて
いる。第2トランジスタとしてのpMOSトランジスタ
12は、ソースが電源に接続され、ゲートがpMOSト
ランジスタ11のドレインに接続されている。第3トラ
ンジスタとしてのnMOSトランジスタ13は、ドレイ
ンがpMOSトランジスタ11のドレインと接続されて
いる。第4トランジスタとしてのnMOSトランジスタ
14は、ドレインがpMOSトランジスタ12のドレイ
ンと接続され、ソースがnMOSトランジスタ13のソ
ースと接続されて共通ノードを構成している。ここで、
このnMOSトランジスタ14としては、nMOSトラ
ンジスタ13よりもスレッショルド電圧Vthが高いトラ
ンジスタが使用されている。この共通ノードとグランド
との間には、スイッチ用のnMOSトランジスタ15と
電流制御用のnMOSトランジスタ16とが直列に接続
されている。
路構成を示す電気回路図である。同図において、第1ト
ランジスタとしてのpMOSトランジスタ11は、ソー
スが電源に接続され、ドレインとゲートとが接続されて
いる。第2トランジスタとしてのpMOSトランジスタ
12は、ソースが電源に接続され、ゲートがpMOSト
ランジスタ11のドレインに接続されている。第3トラ
ンジスタとしてのnMOSトランジスタ13は、ドレイ
ンがpMOSトランジスタ11のドレインと接続されて
いる。第4トランジスタとしてのnMOSトランジスタ
14は、ドレインがpMOSトランジスタ12のドレイ
ンと接続され、ソースがnMOSトランジスタ13のソ
ースと接続されて共通ノードを構成している。ここで、
このnMOSトランジスタ14としては、nMOSトラ
ンジスタ13よりもスレッショルド電圧Vthが高いトラ
ンジスタが使用されている。この共通ノードとグランド
との間には、スイッチ用のnMOSトランジスタ15と
電流制御用のnMOSトランジスタ16とが直列に接続
されている。
【0021】また、第5トランジスタとしてのpMOS
トランジスタ17は、ソースが電源に接続され、ドレイ
ンとゲートとが接続されている。第6トランジスタとし
てのpMOSトランジスタ18は、ソースが電源に接続
され、ゲートがpMOSトランジスタ17のドレインに
接続されている。第7トランジスタとしてのnMOSト
ランジスタ19は、ドレインがpMOSトランジスタ1
7のドレインと接続されている。第8トランジスタとし
てのnMOSトランジスタ20は、ドレインがpMOS
トランジスタ18のドレインと接続され、ソースがnM
OSトランジスタ19のソースと接続されて共通ノード
を構成している。ここで、このnMOSトランジスタ2
0としては、nMOSトランジスタ19よりもスレッシ
ョルド電圧Vthが高いトランジスタが使用されている。
この共通ノードとグランドとの間には、スイッチ用のn
MOSトランジスタ21よび電流制御用のnMOSトラ
ンジスタ22とが直列に接続されている。
トランジスタ17は、ソースが電源に接続され、ドレイ
ンとゲートとが接続されている。第6トランジスタとし
てのpMOSトランジスタ18は、ソースが電源に接続
され、ゲートがpMOSトランジスタ17のドレインに
接続されている。第7トランジスタとしてのnMOSト
ランジスタ19は、ドレインがpMOSトランジスタ1
7のドレインと接続されている。第8トランジスタとし
てのnMOSトランジスタ20は、ドレインがpMOS
トランジスタ18のドレインと接続され、ソースがnM
OSトランジスタ19のソースと接続されて共通ノード
を構成している。ここで、このnMOSトランジスタ2
0としては、nMOSトランジスタ19よりもスレッシ
ョルド電圧Vthが高いトランジスタが使用されている。
この共通ノードとグランドとの間には、スイッチ用のn
MOSトランジスタ21よび電流制御用のnMOSトラ
ンジスタ22とが直列に接続されている。
【0022】そして、nMOSトランジスタ14のゲー
ト電極およびnMOSトランジスタ19のゲート電極を
第1入力としてVinAを入力し、nMOSトランジスタ
13のゲート電極およびnMOSトランジスタ20のゲ
ート電極を第2入力としてVinBを入力する。さらに、
pMOSトランジスタ12とnMOSトランジスタ14
との接続点を第1出力としてVout Aを出力し、pMO
Sトランジスタ18とnMOSトランジスタ20との接
続点を第2出力としてVout Bを出力する。
ト電極およびnMOSトランジスタ19のゲート電極を
第1入力としてVinAを入力し、nMOSトランジスタ
13のゲート電極およびnMOSトランジスタ20のゲ
ート電極を第2入力としてVinBを入力する。さらに、
pMOSトランジスタ12とnMOSトランジスタ14
との接続点を第1出力としてVout Aを出力し、pMO
Sトランジスタ18とnMOSトランジスタ20との接
続点を第2出力としてVout Bを出力する。
【0023】なお、各トランジスタのチャネル長Lとチ
ャネル幅Wとの比W/Lは、それぞれ、従来のセンス回
路(図6参照)の対応するトランジスタと同一とした。
ャネル幅Wとの比W/Lは、それぞれ、従来のセンス回
路(図6参照)の対応するトランジスタと同一とした。
【0024】図2は、本実施例のセンス回路の入力電位
VinA,VinBと出力電位Vout A,Vout Bとの関係
を示すグラフである。なお、同図は、図7および図8と
同様、入力電位VinAをハイ、入力電位VinBをローと
した場合を示している。
VinA,VinBと出力電位Vout A,Vout Bとの関係
を示すグラフである。なお、同図は、図7および図8と
同様、入力電位VinAをハイ、入力電位VinBをローと
した場合を示している。
【0025】同図からわかるように、入力電位VinAお
よび入力電位VinBを、電位差を50mVに保ちながら
上昇させていくと、出力電位Vout AはVinA,VinB
が約0.69V〜1.00Vのときに急激に低下した
後、VinA,VinBにほぼ比例して上昇する。また、出
力電位Vout Bは、VinA,VinBが3.3V(SRA
Mの電源電圧VDD)を越えるまで緩やかに低下し、急激
な低下は生じない。
よび入力電位VinBを、電位差を50mVに保ちながら
上昇させていくと、出力電位Vout AはVinA,VinB
が約0.69V〜1.00Vのときに急激に低下した
後、VinA,VinBにほぼ比例して上昇する。また、出
力電位Vout Bは、VinA,VinBが3.3V(SRA
Mの電源電圧VDD)を越えるまで緩やかに低下し、急激
な低下は生じない。
【0026】このように、本実施例のセンス回路では、
図7および図8に示した特性と比較して、出力電位V
out A,Vout Bの出力曲線が、入力電位VinA,Vin
Bの高電位側(図2中右側)にシフトしている。
図7および図8に示した特性と比較して、出力電位V
out A,Vout Bの出力曲線が、入力電位VinA,Vin
Bの高電位側(図2中右側)にシフトしている。
【0027】図3は、従来のセンス回路の出力電位V
out Aの特性(図7、図8参照)と本実施例のセンス回
路の出力電位Vout Aの特性(図2参照)とを比較する
ためのグラフであり、縦軸は電位、横軸は時刻である。
同図において、Rは従来のセンス回路の出力電位Vout
Aを示し、また、R′は本実施例のセンス回路の出力電
位Vout Aを示している。このように、本実施例のセン
ス回路では、従来のセンス回路と比較して、出力電位V
out Aが小さくなる。したがって、本実施例のセンス回
路では出力電位の電位差Vout B−Vout Aを従来のセ
ンス回路よりも大きくすることができる。このように、
本実施例のセンス回路によれば、入力電位VinA,Vin
Bが高い場合の増幅率を高くすることができる。
out Aの特性(図7、図8参照)と本実施例のセンス回
路の出力電位Vout Aの特性(図2参照)とを比較する
ためのグラフであり、縦軸は電位、横軸は時刻である。
同図において、Rは従来のセンス回路の出力電位Vout
Aを示し、また、R′は本実施例のセンス回路の出力電
位Vout Aを示している。このように、本実施例のセン
ス回路では、従来のセンス回路と比較して、出力電位V
out Aが小さくなる。したがって、本実施例のセンス回
路では出力電位の電位差Vout B−Vout Aを従来のセ
ンス回路よりも大きくすることができる。このように、
本実施例のセンス回路によれば、入力電位VinA,Vin
Bが高い場合の増幅率を高くすることができる。
【0028】また、入力電位VinA,VinBが3.3V
を越えても出力電位Vout Bが急激に低下することがな
いので、入力電位VinA,VinBの変動に伴う増幅率の
変動を小さくすることができる。
を越えても出力電位Vout Bが急激に低下することがな
いので、入力電位VinA,VinBの変動に伴う増幅率の
変動を小さくすることができる。
【0029】さらに、これにより、pMOSトランジス
タ12,18を大きくする必要がなくなるので、動作速
度を速くすることができる。
タ12,18を大きくする必要がなくなるので、動作速
度を速くすることができる。
【0030】nMOSトランジスタ14,20のスレッ
ショルド電圧VthがnMOSトランジスタ13,19の
スレッショルド電圧よりも高くなるようにする方法とし
ては、例えば、nMOSトランジスタ14,20にイオ
ン注入を行ってチャネル濃度を高くする方法がある。
ショルド電圧VthがnMOSトランジスタ13,19の
スレッショルド電圧よりも高くなるようにする方法とし
ては、例えば、nMOSトランジスタ14,20にイオ
ン注入を行ってチャネル濃度を高くする方法がある。
【0031】また、nMOSトランジスタ14,20と
他のnMOSトランジスタとを異なるウェル内に形成
し、両ウェル内に異なる基板バイアスを印加することに
よっても、nMOSトランジスタ14,20のスレッシ
ョルド電圧を高くすることができる。
他のnMOSトランジスタとを異なるウェル内に形成
し、両ウェル内に異なる基板バイアスを印加することに
よっても、nMOSトランジスタ14,20のスレッシ
ョルド電圧を高くすることができる。
【0032】なお、nMOSトランジスタ14,20の
スレッショルド電圧VthをnMOSトランジスタ13,
19のスレッショルド電圧Vthよりも高くした場合につ
いて説明したが、これに加えて、nMOSトランジスタ
16,22のスレッシュホルド電圧VthもnMOSトラ
ンジスタ13,19のスレッショルド電圧Vthよりも高
くすれば、出力電位Vout A,Vout Bの出力曲線をさ
らに入力電位VinA,VinBの高電位側にシフトさせる
ことができ、増幅率をさらに向上させることが可能とな
る。
スレッショルド電圧VthをnMOSトランジスタ13,
19のスレッショルド電圧Vthよりも高くした場合につ
いて説明したが、これに加えて、nMOSトランジスタ
16,22のスレッシュホルド電圧VthもnMOSトラ
ンジスタ13,19のスレッショルド電圧Vthよりも高
くすれば、出力電位Vout A,Vout Bの出力曲線をさ
らに入力電位VinA,VinBの高電位側にシフトさせる
ことができ、増幅率をさらに向上させることが可能とな
る。
【0033】(実施例2)次に、第2の発明の一実施例
について説明する。
について説明する。
【0034】図4は、本実施例に係わるセンス回路の回
路構成を示す電気回路図である。同図において、第1ト
ランジスタとしてのpMOSトランジスタ41は、ソー
スが電源に接続され、ドレインとゲートとが接続されて
いる。第2トランジスタとしてのpMOSトランジスタ
42は、ソースが電源に接続され、ゲートがpMOSト
ランジスタ41のドレインに接続されている。第3トラ
ンジスタとしてのnMOSトランジスタ43は、ドレイ
ンがpMOSトランジスタ41のドレインと接続されて
いる。第4トランジスタとしてのnMOSトランジスタ
44は、ドレインがpMOSトランジスタ42のドレイ
ンと接続され、ソースがnMOSトランジスタ43のソ
ースと接続されて共通ノードを構成している。ここで、
このnMOSトランジスタ44としては、nMOSトラ
ンジスタ43よりもスレッショルド電圧Vthが高いトラ
ンジスタが使用されている。この共通ノードとグランド
との間には、スイッチ用のnMOSトランジスタ45お
よび電流制御用のnMOSトランジスタ46が直列に接
続されている。
路構成を示す電気回路図である。同図において、第1ト
ランジスタとしてのpMOSトランジスタ41は、ソー
スが電源に接続され、ドレインとゲートとが接続されて
いる。第2トランジスタとしてのpMOSトランジスタ
42は、ソースが電源に接続され、ゲートがpMOSト
ランジスタ41のドレインに接続されている。第3トラ
ンジスタとしてのnMOSトランジスタ43は、ドレイ
ンがpMOSトランジスタ41のドレインと接続されて
いる。第4トランジスタとしてのnMOSトランジスタ
44は、ドレインがpMOSトランジスタ42のドレイ
ンと接続され、ソースがnMOSトランジスタ43のソ
ースと接続されて共通ノードを構成している。ここで、
このnMOSトランジスタ44としては、nMOSトラ
ンジスタ43よりもスレッショルド電圧Vthが高いトラ
ンジスタが使用されている。この共通ノードとグランド
との間には、スイッチ用のnMOSトランジスタ45お
よび電流制御用のnMOSトランジスタ46が直列に接
続されている。
【0035】そして、nMOSトランジスタ43のゲー
トを第1入力としてVinAを入力し、nMOSトランジ
スタ44のゲートを第2入力としてVinBを入力し、p
MOSトランジスタ42とnMOSトランジスタ44と
の接続点を出力としてVoutを出力する。なお、本実施
例では、入力電位VinAをハイとし、VinBをローとす
る。
トを第1入力としてVinAを入力し、nMOSトランジ
スタ44のゲートを第2入力としてVinBを入力し、p
MOSトランジスタ42とnMOSトランジスタ44と
の接続点を出力としてVoutを出力する。なお、本実施
例では、入力電位VinAをハイとし、VinBをローとす
る。
【0036】図5は、入力電位VinA,VinBと出力電
位Vout との関係を示すグラフである。同図からわかる
ように、本実施例のセンス回路によれば、nMOSトラ
ンジスタ44のスレッシュホルド電圧VthをnMOSト
ランジスタ43のスレッショルド電圧Vthよりも高くし
たことにより、出力電位Vout の出力曲線を入力電位V
inの高電位側にシフトさせることができるので、増幅率
を向上させることが可能となる。
位Vout との関係を示すグラフである。同図からわかる
ように、本実施例のセンス回路によれば、nMOSトラ
ンジスタ44のスレッシュホルド電圧VthをnMOSト
ランジスタ43のスレッショルド電圧Vthよりも高くし
たことにより、出力電位Vout の出力曲線を入力電位V
inの高電位側にシフトさせることができるので、増幅率
を向上させることが可能となる。
【0037】なお、nMOSトランジスタ44のスレッ
ショルド電圧VthをnMOSトランジスタ43のスレッ
ショルド電圧Vthよりも高くなるようにする方法として
は、上述の実施例1と同様、例えば、nMOSトランジ
スタ44にイオン注入を行ってチャネル濃度を高くする
方法や、nMOSトランジスタ44と他のnMOSトラ
ンジスタとを異なるウェル内に形成して異なる基板バイ
アスを印加する方法等が使用できる。
ショルド電圧VthをnMOSトランジスタ43のスレッ
ショルド電圧Vthよりも高くなるようにする方法として
は、上述の実施例1と同様、例えば、nMOSトランジ
スタ44にイオン注入を行ってチャネル濃度を高くする
方法や、nMOSトランジスタ44と他のnMOSトラ
ンジスタとを異なるウェル内に形成して異なる基板バイ
アスを印加する方法等が使用できる。
【0038】また、本実施例のセンス回路においても、
nMOSトランジスタ46のスレッシュホルド電圧Vth
もnMOSトランジスタ43のスレッショルド電圧Vth
よりも高くすることにより、増幅率をさらに向上させる
ことができる。
nMOSトランジスタ46のスレッシュホルド電圧Vth
もnMOSトランジスタ43のスレッショルド電圧Vth
よりも高くすることにより、増幅率をさらに向上させる
ことができる。
【0039】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、増幅率が大きく、入力電位の変動に伴う増幅率の
変動が小さく且つ動作速度が速いセンス回路を提供する
ことができる。
れば、増幅率が大きく、入力電位の変動に伴う増幅率の
変動が小さく且つ動作速度が速いセンス回路を提供する
ことができる。
【図1】第1の発明の一実施例に係わるセンス回路を示
す電気回路図である。
す電気回路図である。
【図2】図1に示したセンス回路の各入力電位と各出力
電位との関係を示すグラフである。
電位との関係を示すグラフである。
【図3】従来のセンス回路の出力電位の特性と図1に示
したセンス回路の出力電位の特性とを比較するためのグ
ラフである。
したセンス回路の出力電位の特性とを比較するためのグ
ラフである。
【図4】第2の発明の一実施例に係わるセンス回路を示
す電気回路図である。
す電気回路図である。
【図5】図4に示したセンス回路の入力電位と出力電位
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
【図6】従来のセンス回路を示す電気回路図である。
【図7】図6に示したセンス回路の各入力電位と各出力
電位との関係を示すグラフである。
電位との関係を示すグラフである。
【図8】従来のセンス回路の各入力電位と各出力電位と
の関係の他の例を示すグラフである。
の関係の他の例を示すグラフである。
11,12,17,18 pMOSトランジスタ 13,19 スレッショルド電圧の低いnMOSトラン
ジスタ 14,20 スレッショルド電圧の高いnMOSトラン
ジスタ 15,21 スイッチ用nMOSトランジスタ 16,22 電流制御用nMOSトランジスタ 41,42 pMOSトランジスタ 43 スレッショルド電圧の低いnMOSトランジスタ 44 スレッショルド電圧の高いnMOSトランジスタ 45 スイッチ用nMOSトランジスタ 46 電流制御用nMOSトランジスタ
ジスタ 14,20 スレッショルド電圧の高いnMOSトラン
ジスタ 15,21 スイッチ用nMOSトランジスタ 16,22 電流制御用nMOSトランジスタ 41,42 pMOSトランジスタ 43 スレッショルド電圧の低いnMOSトランジスタ 44 スレッショルド電圧の高いnMOSトランジスタ 45 スイッチ用nMOSトランジスタ 46 電流制御用nMOSトランジスタ
Claims (8)
- 【請求項1】一端が電源に接続され且つ他端と制御電極
とが接続された第1導電型の第1トランジスタと、一端
が前記電源に接続され且つ制御電極が前記第1トランジ
スタの前記他端と接続された第1導電型の第2トランジ
スタと、一端が前記第1トランジスタの他端と接続され
た第2導電型の第3トランジスタと、一端が前記第2ト
ランジスタの前記他端と接続され且つ他端が前記第3ト
ランジスタの他端と接続された第2導電型の第4トラン
ジスタと、前記第3トランジスタの前記他端および前記
第4トランジスタの前記他端とグランドとの間に設けら
れた第1電流制御用トランジスタとを備えた第1アンプ
と、一端が電源に接続され且つ他端と制御電極とが接続
された第1導電型の第5トランジスタと、一端が前記電
源に接続され且つ制御電極が前記第5トランジスタの前
記他端と接続された第1導電型の第6トランジスタと、
一端が前記第5トランジスタの前記他端と接続され且つ
制御電極が前記第4トランジスタの制御電極と接続され
た第2導電型の第7トランジスタと、一端が前記第6ト
ランジスタの他端と接続され他端が前記第7トランジス
タの前記他端と接続され且つ制御電極が前記第3トラン
ジスタの制御電極と接続された第2導電型の第8トラン
ジスタと、前記第7トランジスタの前記他端および前記
第8トランジスタの前記他端とグランドとの間に設けら
れた第2電流制御用トランジスタとを備えた第2アンプ
とを備え、前記第4トランジスタの前記制御電極と前記
第7トランジスタの前記制御電極との接続点を第1入力
とし、前記第3トランジスタの前記制御電極と前記第8
トランジスタの前記制御電極との接続点を第2入力と
し、前記第2トランジスタの前記他端と前記第4トラン
ジスタの前記一端との接続点を第1出力とし、前記第6
トランジスタの前記他端と前記第8トランジスタの前記
一端との接続点を第2出力としたセンス回路であって、 前記第4,第8トランジスタのスレッショルド電圧が前
記第3,第7トランジスタのスレッショルド電圧よりも
高いことを特徴とするセンス回路。 - 【請求項2】前記第1,第2電流制御用トランジスタの
スレッショルド電圧が前記第3,第7トランジスタのス
レッショルド電圧よりも高いことを特徴とする請求項1
記載のセンス回路。 - 【請求項3】イオン注入を行ってチャネル濃度を変化さ
せることより、各トランジスタの前記スレッショルド電
圧を設定したことを特徴とする請求項1または2記載の
センス回路。 - 【請求項4】前記スレッショルド電圧を高く設定すべき
トランジスタと他のトランジスタとを異なるウェル内に
形成して異なる基板バイアスを印加することにより各ト
ランジスタの前記スレッショルド電圧を設定したことを
特徴とする請求項1または2記載のセンス回路。 - 【請求項5】一端が電源に接続され且つ他端と制御電極
とが接続された第1導電型の第1トランジスタと、一端
が前記電源に接続され且つ制御電極が前記第1トランジ
スタの前記他端と接続された第1導電型の第2トランジ
スタと、一端が前記第1トランジスタの前記他端と接続
された第2導電型の第3トランジスタと、一端が前記第
2トランジスタの他端と接続され且つ他端が前記第3ト
ランジスタの前記他端と接続された第2導電型の第4ト
ランジスタと、前記第3トランジスタの前記他端および
前記第4トランジスタの前記他端とグランドとの間に設
けられた電流制御用トランジスタとを備え、前記第3,
第4トランジスタの前記制御電極をそれぞれ入力とし且
つ前記第2トランジスタの前記他端と前記第4トランジ
スタの前記一端との接続点を出力としたセンス回路であ
って、 前記第4トランジスタのスレッショルド電圧が前記第3
トランジスタのスレッショルド電圧よりも高いことを特
徴とするセンス回路。 - 【請求項6】前記電流制御用トランジスタのスレッショ
ルド電圧が前記第3トランジスタのスレッショルド電圧
よりも高いことを特徴とする請求項5記載のセンス回
路。 - 【請求項7】イオン注入を行うことによってチャネル濃
度を変化させることより、各トランジスタの前記スレッ
ショルド電圧を設定したことを特徴とする請求項5また
は6記載のセンス回路。 - 【請求項8】前記スレッショルド電圧を高く設定すべき
トランジスタと他のトランジスタとを異なるウェル内に
形成して異なる基板バイアスを印加することにより各ト
ランジスタの前記スレッショルド電圧を設定したことを
特徴とする請求項5または6記載のセンス回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4348695A JPH06203576A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | センス回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4348695A JPH06203576A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | センス回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06203576A true JPH06203576A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=18398739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4348695A Withdrawn JPH06203576A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | センス回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06203576A (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6885610B2 (en) | 2003-04-11 | 2005-04-26 | Sun Microsystems, Inc. | Programmable delay for self-timed-margin |
US6999372B2 (en) | 2003-03-18 | 2006-02-14 | Sun Microsystems, Inc. | Multi-ported memory cell |
US9655729B2 (en) | 2011-11-18 | 2017-05-23 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US10188530B2 (en) | 2010-12-17 | 2019-01-29 | Zimmer, Inc. | Provisional tibial prosthesis system |
US10195041B2 (en) | 2010-07-24 | 2019-02-05 | Zimmer, Inc. | Asymmetric tibial components for a knee prosthesis |
US10265181B2 (en) | 2011-11-21 | 2019-04-23 | Zimmer, Inc. | Tibial baseplate with asymmetric placement of fixation structures |
US10278827B2 (en) | 2015-09-21 | 2019-05-07 | Zimmer, Inc. | Prosthesis system including tibial bearing component |
US10413415B2 (en) | 2010-09-10 | 2019-09-17 | Zimmer, Inc. | Motion facilitating tibial components for a knee prosthesis |
US10470889B2 (en) | 2010-07-24 | 2019-11-12 | Zimmer, Inc. | Asymmetric tibial components for a knee prosthesis |
US10543099B2 (en) | 2010-07-24 | 2020-01-28 | Zimmer, Inc. | Tibial prosthesis |
US10675153B2 (en) | 2017-03-10 | 2020-06-09 | Zimmer, Inc. | Tibial prosthesis with tibial bearing component securing feature |
US10835380B2 (en) | 2018-04-30 | 2020-11-17 | Zimmer, Inc. | Posterior stabilized prosthesis system |
US11324599B2 (en) | 2017-05-12 | 2022-05-10 | Zimmer, Inc. | Femoral prostheses with upsizing and downsizing capabilities |
US11324598B2 (en) | 2013-08-30 | 2022-05-10 | Zimmer, Inc. | Method for optimizing implant designs |
US11426282B2 (en) | 2017-11-16 | 2022-08-30 | Zimmer, Inc. | Implants for adding joint inclination to a knee arthroplasty |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP4348695A patent/JPH06203576A/ja not_active Withdrawn
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6999372B2 (en) | 2003-03-18 | 2006-02-14 | Sun Microsystems, Inc. | Multi-ported memory cell |
US6885610B2 (en) | 2003-04-11 | 2005-04-26 | Sun Microsystems, Inc. | Programmable delay for self-timed-margin |
US11224519B2 (en) | 2010-07-24 | 2022-01-18 | Zimmer, Inc. | Asymmetric tibial components for a knee prosthesis |
US10543099B2 (en) | 2010-07-24 | 2020-01-28 | Zimmer, Inc. | Tibial prosthesis |
US10470889B2 (en) | 2010-07-24 | 2019-11-12 | Zimmer, Inc. | Asymmetric tibial components for a knee prosthesis |
US10195041B2 (en) | 2010-07-24 | 2019-02-05 | Zimmer, Inc. | Asymmetric tibial components for a knee prosthesis |
US10413415B2 (en) | 2010-09-10 | 2019-09-17 | Zimmer, Inc. | Motion facilitating tibial components for a knee prosthesis |
US11471288B2 (en) | 2010-09-10 | 2022-10-18 | Zimmer, Inc. | Motion facilitating tibial components for a knee prosthesis |
US10188530B2 (en) | 2010-12-17 | 2019-01-29 | Zimmer, Inc. | Provisional tibial prosthesis system |
US10898337B2 (en) | 2011-11-18 | 2021-01-26 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US9925050B2 (en) | 2011-11-18 | 2018-03-27 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US9788954B2 (en) | 2011-11-18 | 2017-10-17 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US9655729B2 (en) | 2011-11-18 | 2017-05-23 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US9655728B2 (en) | 2011-11-18 | 2017-05-23 | Zimmer, Inc. | Tibial bearing component for a knee prosthesis with improved articular characteristics |
US10265181B2 (en) | 2011-11-21 | 2019-04-23 | Zimmer, Inc. | Tibial baseplate with asymmetric placement of fixation structures |
US11324598B2 (en) | 2013-08-30 | 2022-05-10 | Zimmer, Inc. | Method for optimizing implant designs |
US10278827B2 (en) | 2015-09-21 | 2019-05-07 | Zimmer, Inc. | Prosthesis system including tibial bearing component |
US11160659B2 (en) | 2015-09-21 | 2021-11-02 | Zimmer, Inc. | Prosthesis system including tibial bearing component |
US10675153B2 (en) | 2017-03-10 | 2020-06-09 | Zimmer, Inc. | Tibial prosthesis with tibial bearing component securing feature |
US11547571B2 (en) | 2017-03-10 | 2023-01-10 | Zimmer, Inc. | Tibial prosthesis with tibial bearing component securing feature |
US11324599B2 (en) | 2017-05-12 | 2022-05-10 | Zimmer, Inc. | Femoral prostheses with upsizing and downsizing capabilities |
US11426282B2 (en) | 2017-11-16 | 2022-08-30 | Zimmer, Inc. | Implants for adding joint inclination to a knee arthroplasty |
US10835380B2 (en) | 2018-04-30 | 2020-11-17 | Zimmer, Inc. | Posterior stabilized prosthesis system |
US11911279B2 (en) | 2018-04-30 | 2024-02-27 | Zimmer, Inc. | Posterior stabilized prosthesis system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5673230A (en) | Semiconductor memory device capable of operating at high speed and stably even under low power supply voltage | |
US4675561A (en) | FET output drive circuit with parasitic transistor inhibition | |
US6744305B2 (en) | Power supply circuit having value of output voltage adjusted | |
JPH06203576A (ja) | センス回路 | |
US20090134475A1 (en) | Transistor Providing Different Threshold Voltages and Method of Fabrication Thereof | |
US4714840A (en) | MOS transistor circuits having matched channel width and length dimensions | |
JP2001257275A (ja) | 非対称ramセル | |
JPH08195631A (ja) | センス増幅器 | |
JP2003229753A (ja) | 電圧供給回路 | |
US7276953B1 (en) | Level shifting input buffer circuit | |
US5075891A (en) | Memory with a variable impedance bit line load circuit | |
JPH01296491A (ja) | 基準電圧発生回路 | |
JPH0794988A (ja) | Mos型半導体クランプ回路 | |
JPH05250050A (ja) | 基準電圧発生回路 | |
US5886921A (en) | Static random access memory cell having graded channel metal oxide semiconductor transistors and method of operation | |
JPH06232642A (ja) | 増幅器装置 | |
JPH07153911A (ja) | しきい値規準電圧回路 | |
JPH06282991A (ja) | センスアンプ回路 | |
KR100365426B1 (ko) | 고이득 저전류 센스 증폭기 | |
JP2557279B2 (ja) | Sram用メモリセル回路 | |
JPH0143483B2 (ja) | ||
JPH0536935A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH03259496A (ja) | 出力回路 | |
JPH0155770B2 (ja) | ||
JPH07142942A (ja) | 差動増幅器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |