JPH06196779A - Light generator - Google Patents
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- JPH06196779A JPH06196779A JP4343921A JP34392192A JPH06196779A JP H06196779 A JPH06196779 A JP H06196779A JP 4343921 A JP4343921 A JP 4343921A JP 34392192 A JP34392192 A JP 34392192A JP H06196779 A JPH06196779 A JP H06196779A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高密度光ディスクシス
テム等に使用する半導体レーザーや半導体レーザーを励
起光源とする固体レーザー及び短波長光源の高効率化及
び安定化に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser used in a high-density optical disk system, a solid-state laser using a semiconductor laser as an excitation light source, and a short-wavelength light source with high efficiency and stabilization.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体レーザーを励起光源として高効率
波長変換によりグリーン、ブルー光源を得ることが、光
ディスクの高密度記録や画像処理等で要求されている。
ここで得られる出力光は横モードがガウシアンで回折限
界近くまで集光でき、且つ出力が数mW程度で周波数的に
も時間的にも安定であることが必要である。2. Description of the Related Art Obtaining green and blue light sources by highly efficient wavelength conversion using a semiconductor laser as an excitation light source is required for high density recording on an optical disk, image processing and the like.
The output light obtained here is required to have a transverse mode of Gaussian and can be condensed to near the diffraction limit, and have an output of several mW and stable in frequency and time.
【0003】半導体レーザーを光源として数十mW以上の
高出力短波長光源を得るには、波長変換素子として擬位
相整合(以下、QPMと記す。)方式の分極反転導波路
(山本他、オプティクス・レターズ Optics Letters V
ol.16, No.15, 1156 (1991))を用いたり、単一縦モー
ドスペクトルの半導体レーザーを励起光源として固体レ
ーザーの共振器内部に波長変換素子を挿入して高調波を
得る内部共振器型が有力である。ここでは非線形光学結
晶としてQPM方式の分極反転導波路を例にとって説明
する。In order to obtain a high-power short-wavelength light source of several tens of mW or more using a semiconductor laser as a light source, a quasi-phase matching (hereinafter referred to as QPM) type polarization inversion waveguide (Yamamoto et al., Optics. Letters Optics Letters V
ol.16, No.15, 1156 (1991)) or using a semiconductor laser with a single longitudinal mode spectrum as an excitation light source to insert a wavelength conversion element inside the resonator to obtain harmonics. The type is influential. Here, a QPM type polarization inversion waveguide will be described as an example of the nonlinear optical crystal.
【0004】現在、QPM方式の分極反転導波路を用い
て、半導体レーザーの導波路内への入射光強度35mWに対
し1.1mWのブルー光が得られている。しかし、QPM分
極反転導波路素子は波長許容度が0.2nmしかなく、また
半導体レーザーの温度の変化に対する発振波長の揺らぎ
が0.2nm/℃あり、戻り光によるモードホップが1nm程度
あるため、出力は数秒しか安定しない。そのため、半導
体レーザーの波長安定化が不可欠となる。At present, 1.1 mW of blue light is obtained by using a polarization inversion waveguide of the QPM system for an incident light intensity of 35 mW into the waveguide of a semiconductor laser. However, the QPM polarization inversion waveguide device has a wavelength tolerance of only 0.2 nm, the oscillation wavelength fluctuation with respect to the temperature change of the semiconductor laser is 0.2 nm / ° C, and the mode hop due to the returning light is about 1 nm, so the output is Only stable for a few seconds. Therefore, wavelength stabilization of the semiconductor laser is indispensable.
【0005】また、固体レーザーの内部共振器型を用い
て、半導体レーザーのNd:YVO4への励起強度が50mWに対
し3mW程度のグリーン光を得ている。しかし、レーザー
材料の吸収スペクトルの半値幅はNd:YVO4の場合数nmで
あり、モードホップや縦モードのマルチ化は出力ノイズ
の原因となる。そのため、半導体レーザーの波長安定化
が不可欠となる。Further, by using an internal cavity type of a solid-state laser, green light having an excitation intensity of Nd: YVO 4 of a semiconductor laser of about 3 mW with respect to 50 mW is obtained. However, the full width at half maximum of the absorption spectrum of the laser material is several nm in the case of Nd: YVO 4 , and mode hops and multimodal longitudinal modes cause output noise. Therefore, wavelength stabilization of the semiconductor laser is indispensable.
【0006】このように縦モードがシングルモードの半
導体レーザーを励起光とした光発生装置においては、半
導体レーザーの出射側にグレーティングを設置した半導
体レーザーを励起光とした分極反転型導波路型短波長光
源(概略構成図を図5)や、内部共振器型固体レーザー
を用いた短波長光源(概略構成図を図6)が提案され
た。As described above, in a light generator using a semiconductor laser whose longitudinal mode is a single mode as excitation light, a polarization inversion type waveguide short wavelength using as excitation light a semiconductor laser having a grating on the emitting side of the semiconductor laser is used. A light source (schematic configuration diagram in FIG. 5) and a short wavelength light source using an internal cavity type solid-state laser (schematic configuration diagram in FIG. 6) have been proposed.
【0007】概略構成図5において501は0.83μm帯
の50mW級AlGaAs半導体レーザー、502はコリメートレ
ンズ、503はλ/2板、504はN.A.=0.6のフォーカ
シングレンズ、505は半導体レーザーの光軸に対して
θだけ傾斜して設置されたグレーティングである。グレ
ーティング505の形状は直線形状である。半導体レー
ザー501の後端面506には高反射率コートが施して
ある。グレーティングで反射した波長830nmのレーザー
光は、λ/2板503で偏向方向を回転させフォーカシ
ングレンズ504で導波路端面507に集光され、周期
3.7μmの分極反転層をもつ分極反転導波路508を伝ぱ
んした光は波長415nmに波長変換され、導波路端面50
9より出射される。In FIG. 5, 501 is a 0.83 μm band 50 mW class AlGaAs semiconductor laser, 502 is a collimating lens, 503 is a λ / 2 plate, 504 is a focusing lens with NA = 0.6, and 505 is the optical axis of the semiconductor laser. It is a grating installed with an inclination of θ. The grating 505 has a linear shape. The rear end surface 506 of the semiconductor laser 501 is provided with a high reflectance coat. The laser light with a wavelength of 830 nm reflected by the grating is rotated by the λ / 2 plate 503 in the deflection direction and is focused on the waveguide end face 507 by the focusing lens 504.
The light propagated through the polarization inversion waveguide 508 having a 3.7 μm polarization inversion layer is converted to a wavelength of 415 nm, and the waveguide end face 50
It is emitted from 9.
【0008】同様に概略構成図6において、601は80
9nm帯の60mW級AlGaAs半導体レーザー、602はコリメ
ートレンズ、603はf=12.5mmのフォーカシングレン
ズ、604は半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾斜
して設置されたグレーティングである。グレーティング
604の形状は直線形状である。入射角30゜に対し深さ
0.29μm、ピッチ0.83μmの時、回折効率は10%程度が得
られ、安定な単一モード発振が得られた。半導体レーザ
ーの端面605から放射された光はコリメートレンズ6
02により平行光にされグレーティング604により一
部が半導体レーザーの活性層606に帰還し、残りは反
射光(0次回折光)として、f=12.5mmのフォーカシング
レンズ603によりNd:YVO4607の端面608に集光
される。出力ミラー609とNd:YVO4の端面608で共
振した基本波は非線形光学結晶610により波長変換さ
れ出力ミラー609より出射される。Similarly, in FIG. 6, 601 is 80
A 9 nm band 60 mW class AlGaAs semiconductor laser, 602 is a collimating lens, 603 is a focusing lens of f = 12.5 mm, and 604 is a grating installed at an angle of θ with respect to the optical axis of the semiconductor laser. The grating 604 has a linear shape. Depth for incident angle 30 °
When the pitch was 0.29 μm and the pitch was 0.83 μm, the diffraction efficiency was about 10%, and stable single mode oscillation was obtained. The light emitted from the end face 605 of the semiconductor laser is collimated by the collimator lens 6
The light is collimated by 02 and part of it is returned to the active layer 606 of the semiconductor laser by the grating 604, and the rest is reflected light (0th-order diffracted light), and the end surface 608 of Nd: YVO 4 607 is reflected by the focusing lens 603 with f = 12.5 mm. Is focused on. The fundamental wave resonating at the output mirror 609 and the end surface 608 of Nd: YVO 4 is wavelength-converted by the nonlinear optical crystal 610 and emitted from the output mirror 609.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】現状では単一縦モード
で発振可能な半導体レーザーの出力は100mW程度で
あり、これらの半導体レーザーを励起光とした場合に得
られるグリーンやブルー光の出力は10mW以下であ
る。しかしながら、光ディスクの書き込み用光源などの
ように10mW以上のグリーン、ブルー光源も求められ
ている。At present, the output of a semiconductor laser capable of oscillating in a single longitudinal mode is about 100 mW, and the output of green or blue light obtained when these semiconductor lasers are used as excitation light is 10 mW. It is the following. However, green and blue light sources with a power of 10 mW or more, such as a light source for writing on an optical disk, are also required.
【0010】100mW以上の半導体レーザーは縦モー
ドスペクトルがマルチモードであり高効率でかつ安定な
出力を得ることが難しい。A semiconductor laser of 100 mW or more has a multimode longitudinal mode spectrum, and it is difficult to obtain a highly efficient and stable output.
【0011】本発明は以上示したような半導体レーザー
と分極反転型導波路や固体レーザーを組み合わせた短波
長光源の課題を克服し、高効率且つ安定な高調波出力を
提供することを目的とする。An object of the present invention is to overcome the problems of the short wavelength light source in which the semiconductor laser and the polarization inversion waveguide or the solid-state laser are combined as described above, and to provide a highly efficient and stable harmonic output. .
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は、 (1)縦モードスペクトルがマルチモードの半導体レー
ザーと、溝本数が1400本/mm以上2000本/m
m以下のフィードバック用グレーティングを備え、前記
グレーティングにより半導体レーザーの縦モードスペク
トルをロックし、前記グレーティングからの反射光を固
体レーザー結晶の励起光源として用いることで安定でか
つ高効率な光源を得ようとするものである。According to the present invention, (1) a semiconductor laser having a multimode longitudinal mode spectrum and a groove number of 1400 / mm or more and 2000 / m or more.
In order to obtain a stable and highly efficient light source, a feedback grating having a length of m or less is provided, the longitudinal mode spectrum of a semiconductor laser is locked by the grating, and the reflected light from the grating is used as an excitation light source for a solid-state laser crystal. To do.
【0013】また本発明は、 (2)縦モードスペクトルがマルチモードの半導体レー
ザーと、溝本数が1400本/mm以上2000本/m
m以下のフィードバック用グレーティングを備え、前記
グレーティングにより半導体レーザーの縦モードスペク
トルをロックし、前記グレーティングからの反射光を非
線形光学結晶の励起光源として用いることで安定でかつ
高効率な光源を得ようとするものである。The present invention also provides (2) a semiconductor laser having a multimode longitudinal mode spectrum and a groove number of 1400 / mm to 2000 / m.
In order to obtain a stable and highly efficient light source, a feedback grating having a length of m or less is provided, the longitudinal mode spectrum of a semiconductor laser is locked by the grating, and the reflected light from the grating is used as an excitation light source for a nonlinear optical crystal. To do.
【0014】[0014]
【作用】本発明は、縦モードがマルチモードの高出力
(100mW以上)半導体レーザーとグレーティングを
組み合わせ、グレーティングからの回折光を半導体レー
ザーに戻して半導体レーザから出射する光の波長を安定
化でき、また縦モードスペクトルを狭くできるため、安
定でかつ高効率なグリーンやブルーの高調波光が実現さ
れるものである。According to the present invention, a high output (100 mW or more) semiconductor laser having a multimode longitudinal mode is combined with a grating, and diffracted light from the grating can be returned to the semiconductor laser to stabilize the wavelength of light emitted from the semiconductor laser. Further, since the longitudinal mode spectrum can be narrowed, stable and highly efficient harmonic light of green or blue can be realized.
【0015】[0015]
【実施例】本発明のマルチモード半導体レーザーとグレ
ーティングフィードバックを備えた概略構成図を図1に
示す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a schematic configuration diagram including a multimode semiconductor laser of the present invention and a grating feedback.
【0016】図1は1は0.83μm帯の200mW級AlGaAs半導
体レーザー、2はN.A.=0.55のコリメートレンズ、3は
半導体レーザーの光軸に対してθだけ傾斜して設置され
たグレーティングである。In FIG. 1, 1 is a 0.83 μm band 200 mW class AlGaAs semiconductor laser, 2 is a collimating lens with NA = 0.55, and 3 is a grating installed at an angle of θ with respect to the optical axis of the semiconductor laser.
【0017】半導体レーザーの端面4から出射したレー
ザー光はN.A.=0.55のコリメートレンズ2により平行光
にされグレーティング3の波長分散効果によりある特定
の波長だけが半導体レーザーの端面4に集光され活性層
5に光帰還して半導体レーザーの波長が安定化する。グ
レーティング3は、次式ピッチdを持つ直線形状であ
る。The laser light emitted from the end face 4 of the semiconductor laser is collimated by the collimating lens 2 with NA = 0.55, and only a specific wavelength is condensed on the end face 4 of the semiconductor laser by the wavelength dispersion effect of the grating 3. The wavelength of the semiconductor laser is stabilized by optical feedback to 5. The grating 3 has a linear shape having the following formula pitch d.
【0018】d=λ/(2sinθ) (1) λはLDの発振波長、dはグレーティングのピッチ、θ
はレーザー光の光軸とグレーティングのなす角である。D = λ / (2sinθ) (1) λ is the oscillation wavelength of the LD, d is the pitch of the grating, and θ
Is the angle between the optical axis of the laser beam and the grating.
【0019】このときに重要なパラメータは (1)半導体レーザーの端面4の反射率 (2)半導体レーザーの活性層の厚みとグレーティングの
ピッチの関係 である。グレーティングによる半導体レーザーの活性層
へのフィードバック量を数%程度にしたとき、端面4の
反射率と相対雑音強度(RIN)の関係を図2に示す。
0.5%以下の反射率ではグレーティングによるフィー
ドバック量が小さいため発振しきい値が上がってしまう
ため高い出力が取り出せなかった。また、フィードバッ
ク量の変化に対する出力の変化が大きかった。0.5%
以上の反射率では容易に発振が起こり、出力も200m
W程度まで取り出すことが可能であり、そのときのRI
Nは-150dB/Hz以下であった。しかしながら端面4の反
射率が2.5%以上ではロックの状態が不安定となり、
5%以上ではロックがかからなくなった。このときのR
INは-115dB/Hz程度であった。この結果、半導体レー
ザーの出射端面4の反射率は0.5%以上2.5%以下
であることが最適であることがわかる。At this time, important parameters are (1) the reflectance of the end face 4 of the semiconductor laser, and (2) the relationship between the thickness of the active layer of the semiconductor laser and the pitch of the grating. FIG. 2 shows the relationship between the reflectance of the end face 4 and the relative noise intensity (RIN) when the amount of feedback of the semiconductor laser to the active layer by the grating is set to about several%.
At a reflectance of 0.5% or less, the amount of feedback due to the grating is small and the oscillation threshold value increases, so a high output cannot be obtained. Moreover, the change in the output was large with respect to the change in the feedback amount. 0.5%
With the above reflectance, oscillation easily occurs and the output is 200 m.
It is possible to take out up to about W and RI at that time
N was -150 dB / Hz or less. However, if the reflectance of the end face 4 is 2.5% or more, the locked state becomes unstable,
The lock disappeared at 5% or more. R at this time
IN was about -115 dB / Hz. As a result, it is found that the reflectance of the emitting end face 4 of the semiconductor laser is optimally 0.5% or more and 2.5% or less.
【0020】次に半導体レーザーの活性層の厚みとグレ
ーティングのピッチの関係を示す。半導体レーザーの活
性層の長さは600μm程度でありこのときの縦モード
間隔は0.2nm程度である。この0.2nmに対する
グレーティングの波長分散効果を(1)式を使って求め
る。結果を表1に示す。Next, the relationship between the thickness of the active layer of the semiconductor laser and the pitch of the grating will be shown. The length of the active layer of the semiconductor laser is about 600 μm, and the longitudinal mode interval at this time is about 0.2 nm. The wavelength dispersion effect of the grating with respect to 0.2 nm is obtained using the equation (1). The results are shown in Table 1.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】この結果から、N.A.=0.55のコリメートレ
ンズ用いたときの半導体レーザーの端面5上での集光位
置のとなりの縦モードとの距離を計算した。この結果も
表1に示す。半導体レーザーの活性層の厚みが1μm程
度であることを考慮して、実際に実験を行った。単一縦
モードにロックされたのは、ピッチが1400本/mm
以上2000本/mm以下であった。2000本/mm
以上のグレーティングでロックがかからなかったのは、
830nm程度の波長に対してほとんど回折効率が得ら
れないためであり、波長830nm帯のマルチモード半
導体レーザーをシングルモード化するためには、ピッチ
が1400本/mm以上2000本/mm以下のグレー
ティングを用いなければならない。From this result, the distance from the longitudinal mode next to the focusing position on the end face 5 of the semiconductor laser when using a collimating lens with NA = 0.55 was calculated. The results are also shown in Table 1. An experiment was actually conducted considering that the thickness of the active layer of the semiconductor laser is about 1 μm. Locked in single longitudinal mode, the pitch is 1400 lines / mm
The above was 2000 lines / mm or less. 2000 lines / mm
The reason that the above gratings did not lock was
This is because almost no diffraction efficiency is obtained for a wavelength of about 830 nm, and in order to make a multimode semiconductor laser in the wavelength of 830 nm a single mode, a grating with a pitch of 1400 lines / mm or more and 2000 lines / mm or less is used. Must be used.
【0023】ここでもう一つ重要なことは半導体レーザ
ーのグレーティングからの反射光が固体レーザー結晶上
や非線形光学結晶上に集光できることである。1W級の
マルチモードの半導体レーザーは活性層の幅が50μm
以上あり、たとえ縦モードスペクトルを単一化しても高
効率化が望めない。半導体レーザー励起固体レーザーに
おいてLD出力100mWに対して得られた出力と活性
層の幅の関係を図3に示す。活性層の幅が50μmの半
導体レーザーで励起したときに得られる出力強度は、シ
ングルモードレーザー(活性層幅、4μm)の約85%
程度が得られたが、活性層幅が100μmで励起した場
合には得られた出力の強度は30%程度しか得られなか
った。この結果、高効率な固体レーザーの発振が得られ
るためには活性層の幅が50μm以下であることが必要
である。Another important point here is that the reflected light from the grating of the semiconductor laser can be focused on the solid-state laser crystal or the nonlinear optical crystal. The width of the active layer of a 1 W class multimode semiconductor laser is 50 μm
As described above, even if the longitudinal mode spectrum is unified, high efficiency cannot be expected. The relationship between the output and the width of the active layer obtained for an LD output of 100 mW in the semiconductor laser pumped solid-state laser is shown in FIG. The output intensity obtained when excited by a semiconductor laser having an active layer width of 50 μm is about 85% of that of a single mode laser (active layer width, 4 μm).
However, when excited with an active layer width of 100 μm, the obtained output intensity was only about 30%. As a result, the width of the active layer must be 50 μm or less in order to obtain highly efficient solid-state laser oscillation.
【0024】半導体レーザー励起固体レーザにおいて、
最適にマルチモード半導体レーザーのロックしたとき、
LD出力と得られた固体レーザー出力の関係を図4に示
す。ロックされていない時と比べると2倍の出力が得ら
れることがわかる。In a semiconductor laser pumped solid-state laser,
Optimally when the multimode laser diode is locked,
The relationship between the LD output and the obtained solid state laser output is shown in FIG. It can be seen that twice the output is obtained compared to when it is not locked.
【0025】以上の実施例においては半導体レーザー励
起固体レーザーについて説明したが、QPM方式の分極
反転導波路のような非線形光学結晶による波長変換にお
いても、上記実施例に示すグレ−ティングフィードバッ
ク半導体レーザー用いると同じような効果が得られる。Although the semiconductor laser pumped solid-state laser has been described in the above embodiments, the grating feedback semiconductor laser shown in the above embodiments is also used in wavelength conversion by a nonlinear optical crystal such as a QPM type polarization inversion waveguide. The same effect as is obtained.
【0026】[0026]
【発明の効果】本発明は、マルチモードの半導体レーザ
ーとフィードバック用グレーティングを備えた光発生装
置を励起光源として、QPM分極反転導波路などの非線
形光学結晶及び固体レーザーにより安定で高出力のグリ
ーンやブルーの短波長光源が実現されるので、出力が低
ノイズで安定であることが必要とされる光ディスクや計
測用の光源を実現できその実用的効果は大きい。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention uses a light generation device equipped with a multimode semiconductor laser and a feedback grating as an excitation light source, and uses a nonlinear optical crystal such as a QPM polarization inversion waveguide and a solid-state laser to provide a stable and high-power green. Since a blue short-wavelength light source is realized, it is possible to realize a light source for an optical disk or a measurement that requires stable output with low noise, and its practical effect is great.
【図1】本発明のマルチモード半導体レーザーとフィー
ドバック用グレーティングを組み合せた光発生装置の概
略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a light generation device in which a multimode semiconductor laser of the present invention and a feedback grating are combined.
【図2】本発明の光発生装置の半導体レーザーの端面反
射率と相対雑音強度の関係図FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the end face reflectance and the relative noise intensity of the semiconductor laser of the light generator of the present invention.
【図3】本発明の光発生装置の半導体レーザーの活性層
の幅と出力強度の関係図FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the width of the active layer of the semiconductor laser of the light generator of the present invention and the output intensity.
【図4】励起用マルチモード半導体レーザーのフィード
バック用グレーティングが有る場合と無い場合の固体レ
ーザーから得られる出力強度を表す図FIG. 4 is a diagram showing an output intensity obtained from a solid-state laser with and without a feedback grating of a pumping multimode semiconductor laser.
【図5】従来のグレーティングフィードバックを用いた
半導体レーザーと分極反転型導波路の組み合わせによる
短波長光源の概略構成図FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a short wavelength light source using a combination of a conventional semiconductor laser using grating feedback and a polarization inversion waveguide.
【図6】従来のグレーティングフィードバックを用いた
半導体レーザーと内部共振器型固体レーザーの組み合わ
せによる短波長光源の概略構成図FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a short wavelength light source by combining a conventional semiconductor laser using grating feedback and an internal cavity type solid state laser.
1 半導体レーザ 2 コリメートレンズ 3 グレーティング 4 端面 5 活性層 501 半導体レーザー 502 コリメートレンズ 503 λ/2 504 フォーカシングレンズ 505 グレーティング 506 端面 507 端面 508 分極反転導波路 509 端面 601 半導体レーザー 602 コリメートレンズ 603 フォーカシングレンズ 604 グレーティング 605 端面 606 活性層 607 Nd:YVO4 608 端面 609 出力ミラー 610 非線形光学結晶1 semiconductor laser 2 collimating lens 3 grating 4 end face 5 active layer 501 semiconductor laser 502 collimating lens 503 λ / 2 504 focusing lens 505 grating 506 end face 507 end face 508 polarization reversal waveguide 509 end face 601 semiconductor laser 602 4 collimating lens 603 collimating lens 605 End face 606 Active layer 607 Nd: YVO 4 608 End face 609 Output mirror 610 Non-linear optical crystal
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/109 8934−4M 3/133 (72)発明者 加藤 誠 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number in the agency FI Technical indication H01S 3/109 8934-4M 3/133 (72) Inventor Makoto Kato 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Claims (4)
体レーザーと、溝本数が1400本/mm以上2000
本/mm以下のフィードバック用グレーティングを備
え、前記グレーティングにより半導体レーザーの縦モー
ドスペクトルをロックし、前記グレーティングからの反
射光を固体レーザー結晶の励起光源として用いる構成を
特徴とする光発生装置。1. A semiconductor laser having a multimode longitudinal mode spectrum and a groove number of 1400 / mm or more 2000
A light generating device comprising a feedback grating of not more than 1 / mm, locking the longitudinal mode spectrum of a semiconductor laser by the grating, and using reflected light from the grating as an excitation light source for a solid-state laser crystal.
体レーザーと、溝本数が1400本/mm以上2000
本/mm以下のフィードバック用グレーティングを備
え、前記グレーティングにより半導体レーザーの縦モー
ドスペクトルをロックし、前記グレーティングからの反
射光を非線形光学結晶の励起光源として用いる構成を特
徴とする光発生装置。2. A semiconductor laser having a multimode longitudinal mode spectrum and a groove number of 1400 / mm or more 2000
A light generating device comprising a feedback grating of not more than 1 / mm, locking the longitudinal mode spectrum of a semiconductor laser by the grating, and using the reflected light from the grating as an excitation light source for a nonlinear optical crystal.
反射率が0.5%以上2.5%以下であることを特徴と
する請求項1または2記載の光発生装置。3. The light generating device according to claim 1, wherein in the semiconductor laser, the reflectance of the emitting end face is 0.5% or more and 2.5% or less.
が50μm以下であることを特徴とする請求項1または
2記載の光発生装置。4. The light generating device according to claim 1, wherein in the semiconductor laser, the width of the active layer is 50 μm or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4343921A JPH06196779A (en) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | Light generator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4343921A JPH06196779A (en) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | Light generator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06196779A true JPH06196779A (en) | 1994-07-15 |
Family
ID=18365276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP4343921A Pending JPH06196779A (en) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | Light generator |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH06196779A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004100331A1 (en) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser device |
WO2005013446A1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser diode |
US7197058B2 (en) | 2003-12-24 | 2007-03-27 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser apparatus |
JP2009540582A (en) * | 2006-06-13 | 2009-11-19 | アー・ファウ・エル・リスト・ゲー・エム・ベー・ハー | Solid-state laser with monolithic resonator |
-
1992
- 1992-12-24 JP JP4343921A patent/JPH06196779A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7693206B2 (en) | 2003-05-09 | 2010-04-06 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser device including laser array or stack first collimator, path rotator, and an optical element |
US8477824B2 (en) | 2003-05-09 | 2013-07-02 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser apparatus having collimator lens and path rotator |
WO2005013446A1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser diode |
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