JPH0598252A - 重合可能な置換基を有するフオトクロミツク材料および高分子フオトクロミツク材料 - Google Patents
重合可能な置換基を有するフオトクロミツク材料および高分子フオトクロミツク材料Info
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- JPH0598252A JPH0598252A JP19962991A JP19962991A JPH0598252A JP H0598252 A JPH0598252 A JP H0598252A JP 19962991 A JP19962991 A JP 19962991A JP 19962991 A JP19962991 A JP 19962991A JP H0598252 A JPH0598252 A JP H0598252A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 次の一般式（Ｉ）
【化１】
で示される化合物からなることを特徴とする、重合可能
な置換基を有するフォトクロミック材料および、該一般
式（Ｉ）で示される化合物を含む組成物を重合してなる
高分子フォトクロミック材料。［式中、ＸはＮまたはＣ
−Ｒ5 を、ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。Ｒ1 、Ｒ
2 は、独立の場合には、水素、アルキル基などを表し、
非独立の場合には炭素数３〜３０の環を表す。ただし環
としてチッ素は含まない。α環は、炭素数３〜３０の環
を表す。ａ、ｂはそれぞれ０〜３０の整数を表す。
Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種は重合可能な置換基
を表し、残りのＲ3 、Ｒ4 は、水素、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基、アルキル基などを表す。］ 【効果】耐疲労性に優れ、かつ耐薬品性に優れ、なおか
つ黄色ないしオレンジ色に発色するものも得られるよう
な高分子フォトクロミック材料が得られる。
な置換基を有するフォトクロミック材料および、該一般
式（Ｉ）で示される化合物を含む組成物を重合してなる
高分子フォトクロミック材料。［式中、ＸはＮまたはＣ
−Ｒ5 を、ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。Ｒ1 、Ｒ
2 は、独立の場合には、水素、アルキル基などを表し、
非独立の場合には炭素数３〜３０の環を表す。ただし環
としてチッ素は含まない。α環は、炭素数３〜３０の環
を表す。ａ、ｂはそれぞれ０〜３０の整数を表す。
Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種は重合可能な置換基
を表し、残りのＲ3 、Ｒ4 は、水素、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基、アルキル基などを表す。］ 【効果】耐疲労性に優れ、かつ耐薬品性に優れ、なおか
つ黄色ないしオレンジ色に発色するものも得られるよう
な高分子フォトクロミック材料が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、重合可能な置換基を有
するフォトクロミック材料およびそのフォトクロミック
材料を単独で重合、あるいは他の重合性モノマーと共重
合して得られる高分子フォトクロミック材料に関するも
のであり、特に印刷、光学機器、記録材料、衣料、装飾
用の材料として好適に用いられる。
するフォトクロミック材料およびそのフォトクロミック
材料を単独で重合、あるいは他の重合性モノマーと共重
合して得られる高分子フォトクロミック材料に関するも
のであり、特に印刷、光学機器、記録材料、衣料、装飾
用の材料として好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトクロミック材料として、ピ
ラン部位またはオキサジン部位を有する一群の化合物が
知られている。例えば、ＵＳＰ ３，５６７，６０５に
は下記式（ＩＩ）
ラン部位またはオキサジン部位を有する一群の化合物が
知られている。例えば、ＵＳＰ ３，５６７，６０５に
は下記式（ＩＩ）
【０００３】
【化２】
【０００４】の化合物が、特開平３−１１０７５には下
記式（III ）
記式（III ）
【０００５】
【化３】
【０００６】の化合物が、特表平３−５０１６２５には
下記式（IV）
下記式（IV）
【０００７】
【化４】
【０００８】の化合物が、それぞれ示されている。
【０００９】これらの化合物からなるフォトクロミック
材料は、紫外線の照射によって、無色から、黄色ないし
オレンジ色に発色するものが得られ、なおかつ熱消色が
可能であるという特徴を有している。
材料は、紫外線の照射によって、無色から、黄色ないし
オレンジ色に発色するものが得られ、なおかつ熱消色が
可能であるという特徴を有している。
【００１０】また従来、フォトクロミック材料として、
重合可能な官能基を有するインドリン系スピロピラン化
合物、インドリン系スピロオキサジン化合物が知られて
いる。例えば、特開昭６１−７６４９０、特開昭６３−
２６７７８６に、そのような例が見られる。
重合可能な官能基を有するインドリン系スピロピラン化
合物、インドリン系スピロオキサジン化合物が知られて
いる。例えば、特開昭６１−７６４９０、特開昭６３−
２６７７８６に、そのような例が見られる。
【００１１】これらの化合物は単独で重合、あるいは他
の重合性モノマーと共重合すれば、高分子フォトクロミ
ック材料として用いることができる。
の重合性モノマーと共重合すれば、高分子フォトクロミ
ック材料として用いることができる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
の、ピラン部位またはオキサジン部位を有する一群の化
合物からなるフォトクロミック材料は、発消色の繰り返
し耐久性、紫外線に対する耐久性などの、耐疲労性が不
足していた。また、これらのフォトクロミック材料は、
基材中または高分子中に低分子のフォトクロミック化合
物を単純に分散して用いることしかできないため、その
相溶性の悪さからフォトクロミック化合物が析出した
り、高濃度に分散できない、さらには化学薬品によって
抽出されるなどという問題点があった。
の、ピラン部位またはオキサジン部位を有する一群の化
合物からなるフォトクロミック材料は、発消色の繰り返
し耐久性、紫外線に対する耐久性などの、耐疲労性が不
足していた。また、これらのフォトクロミック材料は、
基材中または高分子中に低分子のフォトクロミック化合
物を単純に分散して用いることしかできないため、その
相溶性の悪さからフォトクロミック化合物が析出した
り、高濃度に分散できない、さらには化学薬品によって
抽出されるなどという問題点があった。
【００１３】また、重合可能な官能基を有するインドリ
ン系スピロピラン化合物、インドリン系スピロオキサジ
ン化合物を単独で重合、あるいは他の重合性モノマーと
共重合した高分子フォトクロミック材料では、フォトク
ロミック化合物の析出、化学薬品による溶出などは起こ
らないが、これらの高分子フォトクロミック材料では、
黄色ないしオレンジ色に発色するものは知られていな
い。
ン系スピロピラン化合物、インドリン系スピロオキサジ
ン化合物を単独で重合、あるいは他の重合性モノマーと
共重合した高分子フォトクロミック材料では、フォトク
ロミック化合物の析出、化学薬品による溶出などは起こ
らないが、これらの高分子フォトクロミック材料では、
黄色ないしオレンジ色に発色するものは知られていな
い。
【００１４】本発明はかかる従来技術の欠点を解決しよ
うとするものであり、耐疲労性に優れ、かつ耐薬品性に
優れ、なおかつ黄色ないしオレンジ色に発色するものも
得られるような高分子フォトクロミック材料およびその
材料を得るのに適した、重合可能な置換基を有するフォ
トクロミック性を有する材料を提供することを目的とす
る。
うとするものであり、耐疲労性に優れ、かつ耐薬品性に
優れ、なおかつ黄色ないしオレンジ色に発色するものも
得られるような高分子フォトクロミック材料およびその
材料を得るのに適した、重合可能な置換基を有するフォ
トクロミック性を有する材料を提供することを目的とす
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに、本発明は、下記の構成を有する。
めに、本発明は、下記の構成を有する。
【００１６】「(1) 次の一般式（Ｉ）
【００１７】
【化５】
【００１８】で示される化合物からなることを特徴とす
る、重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料。
る、重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料。
【００１９】［式中、ＸはＮまたはＣ−Ｒ5 を表す。
【００２０】ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。
【００２１】Ｒ1 、Ｒ2 は、独立の場合には、水素、炭
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、非独立の場合には互いに結合し、スピロ炭素原
子も含めて、炭素数３〜３０の環を表す。ただし環を構
成する元素としてチッ素は含まない。
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、非独立の場合には互いに結合し、スピロ炭素原
子も含めて、炭素数３〜３０の環を表す。ただし環を構
成する元素としてチッ素は含まない。
【００２２】Ｒ3 は、Ｒ1 またはＲ2 上の置換基、ある
いはＲ1 とＲ2 が形成する環上の置換基を表す。
いはＲ1 とＲ2 が形成する環上の置換基を表す。
【００２３】α環は、炭素数３〜３０の環を表す。
【００２４】Ｒ4 は、α環上の置換基を表す。
【００２５】ａ、ｂはそれぞれ０〜３０の整数を表す。
【００２６】Ｒ3 〜Ｒ6 のうち、少なくとも１種は重合
可能な炭素数２〜３０の置換基を表し、残りのＲ3 〜Ｒ
6は、水素、ヒドロキシ基、炭素数０〜４０のアミノ
基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜１５の
アラルコキシ基、炭素数６〜１４のアリーロキシ基、炭
素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数２〜２
０のアルキニル基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭
素数６〜１４のアリール基、ハロゲノ基、シアノ基、カ
ルボン酸基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアシル基、炭
素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数８〜２
０のアラルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリ
ーロキシカルボニル基、炭素数１〜２０のカルバモイル
基、スルフォン酸基、炭素数１〜２０のアルコキシスル
フォニル基、炭素数７〜２０のアラルコキシスルフォニ
ル基、炭素数１〜２０のアリーロキシスルフォニル基、
炭素数０〜２０のスルファモイル基から選ばれた置換基
を表す。］ (2) 上記(1) 項の一般式（Ｉ）で示される化合物を含む
組成物を重合してなる高分子フォトクロミック材料。」
本発明の一般式（Ｉ）におけるＸはＮまたはＣ−Ｒ5 を
表し、ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。
可能な炭素数２〜３０の置換基を表し、残りのＲ3 〜Ｒ
6は、水素、ヒドロキシ基、炭素数０〜４０のアミノ
基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜１５の
アラルコキシ基、炭素数６〜１４のアリーロキシ基、炭
素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアル
キル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数２〜２
０のアルキニル基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭
素数６〜１４のアリール基、ハロゲノ基、シアノ基、カ
ルボン酸基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアシル基、炭
素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数８〜２
０のアラルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリ
ーロキシカルボニル基、炭素数１〜２０のカルバモイル
基、スルフォン酸基、炭素数１〜２０のアルコキシスル
フォニル基、炭素数７〜２０のアラルコキシスルフォニ
ル基、炭素数１〜２０のアリーロキシスルフォニル基、
炭素数０〜２０のスルファモイル基から選ばれた置換基
を表す。］ (2) 上記(1) 項の一般式（Ｉ）で示される化合物を含む
組成物を重合してなる高分子フォトクロミック材料。」
本発明の一般式（Ｉ）におけるＸはＮまたはＣ−Ｒ5 を
表し、ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。
【００２７】Ｒ1 、Ｒ2 は、独立の場合には、水素、炭
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、その好ましい具体例としては、メチル基、プロ
ピル基、ヘキシル基、オクタデシル基などの鎖状アルキ
ル基；ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基など
の分枝状アルキル基；シクロヘキシル基、ノルボルニル
基、アダマンチル基などのシクロアルキル基；ベンジル
基、フェネチル基、（２−ナフチル）メチル基などのア
ラルキル基；フェニル基、１−ナフチル基などのアリー
ル基などが挙げられる。またＲ1 、Ｒ2 は、非独立の場
合には互いに結合し、スピロ炭素原子も含めて、炭素数
３〜３０の環を表すが、その好ましい具体例としては、
アダマンタン環、ノルボルナン環、ビシクロ［３，３，
１］ノナン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、
シクロプロパン環などを挙げることができる。Ｒ1 また
はＲ2 上、あるいはＲ1 とＲ2 が形成する環上には、さ
らに置換基としてＲ3 が、０〜３０個存在してもよい。
ａが２以上の場合、それぞれの置換基は同種であって
も、異種であってもよい。
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、その好ましい具体例としては、メチル基、プロ
ピル基、ヘキシル基、オクタデシル基などの鎖状アルキ
ル基；ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基など
の分枝状アルキル基；シクロヘキシル基、ノルボルニル
基、アダマンチル基などのシクロアルキル基；ベンジル
基、フェネチル基、（２−ナフチル）メチル基などのア
ラルキル基；フェニル基、１−ナフチル基などのアリー
ル基などが挙げられる。またＲ1 、Ｒ2 は、非独立の場
合には互いに結合し、スピロ炭素原子も含めて、炭素数
３〜３０の環を表すが、その好ましい具体例としては、
アダマンタン環、ノルボルナン環、ビシクロ［３，３，
１］ノナン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環、
シクロプロパン環などを挙げることができる。Ｒ1 また
はＲ2 上、あるいはＲ1 とＲ2 が形成する環上には、さ
らに置換基としてＲ3 が、０〜３０個存在してもよい。
ａが２以上の場合、それぞれの置換基は同種であって
も、異種であってもよい。
【００２８】α環は、炭素数３〜３０の環を表すが、一
般式（Ｉ）において
般式（Ｉ）において
【００２９】
【化６】
【００３０】で表される環の例としては、下記のものが
挙げられる。
挙げられる。
【００３１】
【化７】
【００３２】
【化８】
【００３３】
【化９】
【００３４】α環上には、さらに置換基としてＲ4 が、
０〜３０個存在してもよい。ｂが２以上の場合、それぞ
れの置換基は同種であっても、異種であってもよい。
０〜３０個存在してもよい。ｂが２以上の場合、それぞ
れの置換基は同種であっても、異種であってもよい。
【００３５】Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種は重合
可能な炭素数２〜３０の置換基を表すが、その具体的な
例としては、メタクリロイルオキシ基、メタクリロイル
基、メタクリロイルアミノ基、メタクリロイルチオ基、
４−メタクリロイルオキシピペリジノ基、２−メタクリ
ロイルオキシエチル基、３−メタクリロイルオキシプロ
ピル基、４−メタクリロイルオキシブチル基、６−メタ
クリロイルオキシヘキシル基、８−メタクリロイルオキ
シオクチル基、１１−メタクリロイルオキシウンデシル
基、（２−メタクリロイルオキシエチル）オキシ基、
（２−メタクリロイルオキシエチル）チオ基、（２−メ
タクリロイルオキシエチル）アミノ基、Ｎ−（２−メタ
クリロイルオキシエチル）カルバモイル基、Ｎ−（２−
メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、
アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、アクリロイル
アミノ基、アクリロイルチオ基、４−アクリロイルオキ
シピペリジノ基、２−アクリロイルオキシエチル基、３
−アクリロイルオキシプロピル基、４−アクリロイルオ
キシブチル基、６−アクリロイルオキシヘキシル基、８
−アクリロイルオキシオクチル基、１１−アクリロイル
オキシウンデシル基、（２−アクリロイルオキシエチ
ル）オキシ基、（２−アクリロイルオキシエチル）チオ
基、（２−アクリロイルオキシエチル）アミノ基、Ｎ−
（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイル基、Ｎ
−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキ
シ基、ビニル基、ビニルオキシ基、ビニルオキシカルボ
ニル基、ビニルアミノ基、ビニルアミノカルボニル基、
アリル基、アリルオキシ基、アリルオキシカルボニル
基、アリルアミノ基、アリルアミノカルボニル基、４−
エテニルフェニル基、３−エテニルフェニル基、２−エ
テニルフェニル基、４−エテニルベンジル基、３−エテ
ニルベンジル基、２−エテニルベンジル基、グリシジル
基、グリシジルオキシ基、グリシジルオキシカルボニル
基、などを挙げることができる。これらのうちでも合成
の容易さ、重合反応性の高さという点で、アクリロイル
基またはメタクリロイル基を含有する置換基は、より好
ましい。
可能な炭素数２〜３０の置換基を表すが、その具体的な
例としては、メタクリロイルオキシ基、メタクリロイル
基、メタクリロイルアミノ基、メタクリロイルチオ基、
４−メタクリロイルオキシピペリジノ基、２−メタクリ
ロイルオキシエチル基、３−メタクリロイルオキシプロ
ピル基、４−メタクリロイルオキシブチル基、６−メタ
クリロイルオキシヘキシル基、８−メタクリロイルオキ
シオクチル基、１１−メタクリロイルオキシウンデシル
基、（２−メタクリロイルオキシエチル）オキシ基、
（２−メタクリロイルオキシエチル）チオ基、（２−メ
タクリロイルオキシエチル）アミノ基、Ｎ−（２−メタ
クリロイルオキシエチル）カルバモイル基、Ｎ−（２−
メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、
アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、アクリロイル
アミノ基、アクリロイルチオ基、４−アクリロイルオキ
シピペリジノ基、２−アクリロイルオキシエチル基、３
−アクリロイルオキシプロピル基、４−アクリロイルオ
キシブチル基、６−アクリロイルオキシヘキシル基、８
−アクリロイルオキシオクチル基、１１−アクリロイル
オキシウンデシル基、（２−アクリロイルオキシエチ
ル）オキシ基、（２−アクリロイルオキシエチル）チオ
基、（２−アクリロイルオキシエチル）アミノ基、Ｎ−
（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイル基、Ｎ
−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキ
シ基、ビニル基、ビニルオキシ基、ビニルオキシカルボ
ニル基、ビニルアミノ基、ビニルアミノカルボニル基、
アリル基、アリルオキシ基、アリルオキシカルボニル
基、アリルアミノ基、アリルアミノカルボニル基、４−
エテニルフェニル基、３−エテニルフェニル基、２−エ
テニルフェニル基、４−エテニルベンジル基、３−エテ
ニルベンジル基、２−エテニルベンジル基、グリシジル
基、グリシジルオキシ基、グリシジルオキシカルボニル
基、などを挙げることができる。これらのうちでも合成
の容易さ、重合反応性の高さという点で、アクリロイル
基またはメタクリロイル基を含有する置換基は、より好
ましい。
【００３６】残りのＲ3 、Ｒ4 は、水素、ヒドロキシ
基、炭素数０〜４０のアミノ基、炭素数１〜２０のアル
コキシ基、炭素数７〜１５のアラルコキシ基、炭素数６
〜１４のアリーロキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキ
シ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０の
アルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数
７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１４のアリール
基、ハロゲノ基、シアノ基、カルボン酸基、ニトロ基、
炭素数１〜２０のアシル基、炭素数２〜２０のアルコキ
シカルボニル基、炭素数８〜２０のアラルコキシカルボ
ニル基、炭素数７〜２０のアリーロキシカルボニル基、
炭素数１〜２０のカルバモイル基、スルフォン酸基、炭
素数１〜２０のアルコキシスルフォニル基、炭素数７〜
２０のアラルコキシスルフォニル基、炭素数１〜２０の
アリーロキシスルフォニル基、炭素数０〜２０のスルフ
ァモイル基から選ばれた置換基を表すが、これらの置換
基の具体的な例としては、水素；ヒドロキシ基；アミノ
基、ジエチルアミノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、
モルホリノ基などのアミノ基；メトキシ基、エトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基；ベンジ
ロキシ基、フェネチロキシ基などのアラルコキシ基；フ
ェノキシ基、２−ナフチロキシ基などのアリーロキシ
基；ホルミルオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイロキシ
基などのアシルオキシ基；メチル基、プロピル基、オク
タデシル基などの鎖状アルキル基；イソプロピル基、２
−エチルヘキシル基などの分枝状アルキル基；シクロヘ
キシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などのシク
ロアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基、１，３−ブタジエニル基などのアルケニル基；エチ
ニル基、２−プロピニル基などのアルキニル基；ベンジ
ル基、フェネチル基、（２−ナフチル）メチル基などの
アラルキル基；フェニル基、１−ナフチル基などのアリ
ール基；フルオロ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲ
ノ基；シアノ基；カルボン酸基、カルボン酸ソーダ基な
どのカルボン酸基；ニトロ基；ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基などのアシル基；エトキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）オキシカルボニル基な
どのアルコキシカルボニル基；ベンジロキシカルボニル
基、フェネチロキシカルボニル基などのアラルコキシカ
ルボニル基；フェノキシカルボニル基、２−ナフチロキ
シカルボニル基などのアリーロキシカルボニル基；カル
バモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイル基などのカルバモイル基；スルフォン酸
基、スルフォン酸ソーダ基などのスルフォン酸基；メト
キシスルフォニル基、エトキシスルフォニル基、プロポ
キシスルフォニル基などのアルコキシスルフォニル基；
ベンジロキシスルフォニル基、フェネチロキシスルフォ
ニル基などのアラルコキシスルフォニル基；フェノキシ
スルフォニル基、２−ナフチロキシスルフォニル基など
のアリーロキシスルフォニル基；スルファモイル基、Ｎ
−プロピルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモ
イル基などのスルファモイル基が挙げられる。
基、炭素数０〜４０のアミノ基、炭素数１〜２０のアル
コキシ基、炭素数７〜１５のアラルコキシ基、炭素数６
〜１４のアリーロキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキ
シ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０の
アルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数
７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１４のアリール
基、ハロゲノ基、シアノ基、カルボン酸基、ニトロ基、
炭素数１〜２０のアシル基、炭素数２〜２０のアルコキ
シカルボニル基、炭素数８〜２０のアラルコキシカルボ
ニル基、炭素数７〜２０のアリーロキシカルボニル基、
炭素数１〜２０のカルバモイル基、スルフォン酸基、炭
素数１〜２０のアルコキシスルフォニル基、炭素数７〜
２０のアラルコキシスルフォニル基、炭素数１〜２０の
アリーロキシスルフォニル基、炭素数０〜２０のスルフ
ァモイル基から選ばれた置換基を表すが、これらの置換
基の具体的な例としては、水素；ヒドロキシ基；アミノ
基、ジエチルアミノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、
モルホリノ基などのアミノ基；メトキシ基、エトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基；ベンジ
ロキシ基、フェネチロキシ基などのアラルコキシ基；フ
ェノキシ基、２−ナフチロキシ基などのアリーロキシ
基；ホルミルオキシ基、アセトキシ基、ベンゾイロキシ
基などのアシルオキシ基；メチル基、プロピル基、オク
タデシル基などの鎖状アルキル基；イソプロピル基、２
−エチルヘキシル基などの分枝状アルキル基；シクロヘ
キシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などのシク
ロアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基、１，３−ブタジエニル基などのアルケニル基；エチ
ニル基、２−プロピニル基などのアルキニル基；ベンジ
ル基、フェネチル基、（２−ナフチル）メチル基などの
アラルキル基；フェニル基、１−ナフチル基などのアリ
ール基；フルオロ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲ
ノ基；シアノ基；カルボン酸基、カルボン酸ソーダ基な
どのカルボン酸基；ニトロ基；ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基などのアシル基；エトキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）オキシカルボニル基な
どのアルコキシカルボニル基；ベンジロキシカルボニル
基、フェネチロキシカルボニル基などのアラルコキシカ
ルボニル基；フェノキシカルボニル基、２−ナフチロキ
シカルボニル基などのアリーロキシカルボニル基；カル
バモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイル基などのカルバモイル基；スルフォン酸
基、スルフォン酸ソーダ基などのスルフォン酸基；メト
キシスルフォニル基、エトキシスルフォニル基、プロポ
キシスルフォニル基などのアルコキシスルフォニル基；
ベンジロキシスルフォニル基、フェネチロキシスルフォ
ニル基などのアラルコキシスルフォニル基；フェノキシ
スルフォニル基、２−ナフチロキシスルフォニル基など
のアリーロキシスルフォニル基；スルファモイル基、Ｎ
−プロピルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモ
イル基などのスルファモイル基が挙げられる。
【００３７】本発明の一般式（Ｉ）で示される化合物の
製造方法としては、多くの方法が適用できるが、そのう
ちの１つとして下記一般式（Ｖ）
製造方法としては、多くの方法が適用できるが、そのう
ちの１つとして下記一般式（Ｖ）
【００３８】
【化１０】
【００３９】で表される化合物と、下記一般式（ＶＩ）
【００４０】
【化１１】
【００４１】で表される化合物とを、縮合剤の存在下に
反応させて、下記一般式（VII ）
反応させて、下記一般式（VII ）
【００４２】
【化１２】
【００４３】で表される化合物を得、ついでこの化合物
を還元後、脱水させて一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−
Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｈを表す。）で表される化合物を
得る方法が挙げられる。縮合剤としては、第１アミンま
たは第２アミンが好ましく用いられる。
を還元後、脱水させて一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−
Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｈを表す。）で表される化合物を
得る方法が挙げられる。縮合剤としては、第１アミンま
たは第２アミンが好ましく用いられる。
【００４４】また、別の方法として一般式（Ｖ）で表さ
れる化合物と、一般式（ＶＩ）で表される化合物とを、
第１アミンまたは第２アミンの存在下に反応させて、一
般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｒ
6 を表す。Ｒ6 は炭素数１〜４０のアミノ基を表す。）
で表される化合物を得る方法が挙げられる。
れる化合物と、一般式（ＶＩ）で表される化合物とを、
第１アミンまたは第２アミンの存在下に反応させて、一
般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｒ
6 を表す。Ｒ6 は炭素数１〜４０のアミノ基を表す。）
で表される化合物を得る方法が挙げられる。
【００４５】また一般式（VII ）で表される化合物に、
Ｒ6 を求核的に付加させて、下記一般式（VIII）
Ｒ6 を求核的に付加させて、下記一般式（VIII）
【００４６】
【化１３】
【００４７】で表される化合物を得、ついでこの化合物
を脱水させても、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5
を表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物が得
られる。Ｒ6 を付加させるのに用いられる試薬として
は、ハロゲン化アルキルマグネシム、アルキルリチウム
などの有機金属化合物；アルコール、フェノールなどの
水酸基含有化合物；チオール類；アミン類などが挙げら
れる。
を脱水させても、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5
を表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物が得
られる。Ｒ6 を付加させるのに用いられる試薬として
は、ハロゲン化アルキルマグネシム、アルキルリチウム
などの有機金属化合物；アルコール、フェノールなどの
水酸基含有化合物；チオール類；アミン類などが挙げら
れる。
【００４８】さらに、別の方法として下記一般式（Ｉ
Ｘ）
Ｘ）
【００４９】
【化１４】
【００５０】で表される化合物と、下記一般式（Ｘ）
【００５１】
【化１５】
【００５２】で表される化合物とを、適当な触媒の存在
下、反応させて一般式（Ｉ）（ただし、Ｘ、Ｙはともに
Ｃ−Ｈを表す。）で表される化合物を得る方法が挙げら
れる。触媒としては、アルミナなどが用いられる。
下、反応させて一般式（Ｉ）（ただし、Ｘ、Ｙはともに
Ｃ−Ｈを表す。）で表される化合物を得る方法が挙げら
れる。触媒としては、アルミナなどが用いられる。
【００５３】また、他の方法として下記一般式（ＸＩ）
【００５４】
【化１６】
【００５５】で表される化合物と、一般式（ＶＩ）で表
される化合物とを、酸性触媒の存在下反応させた後、ア
ルカリ水溶液で加水分解し、下記一般式（XII ）
される化合物とを、酸性触媒の存在下反応させた後、ア
ルカリ水溶液で加水分解し、下記一般式（XII ）
【００５６】
【化１７】
【００５７】で表される化合物を得、さらにこの化合物
に適当な試薬を反応させて、一般式（Ｉ）（ただし、Ｘ
はＮを表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物
を得る方法が挙げられる。酸性触媒としてはポリフォス
フェートエチルエステル、三ふっ化ほう素エーテル錯体
など種々のものが使用できる。適当な試薬としては、五
塩化りん、テトラキスジアルキルアミノチタン、酸化銀
／ハロゲン化アルキルなどが挙げられる。
に適当な試薬を反応させて、一般式（Ｉ）（ただし、Ｘ
はＮを表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物
を得る方法が挙げられる。酸性触媒としてはポリフォス
フェートエチルエステル、三ふっ化ほう素エーテル錯体
など種々のものが使用できる。適当な試薬としては、五
塩化りん、テトラキスジアルキルアミノチタン、酸化銀
／ハロゲン化アルキルなどが挙げられる。
【００５８】さらに、他の製造方法として、重合可能な
置換基を有さない一般式（Ｉ’）
置換基を有さない一般式（Ｉ’）
【００５９】
【化１８】
【００６０】［式中、ＸはＮまたはＣ−Ｒ5 を表す。
【００６１】ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表す。
【００６２】Ｒ1 、Ｒ2 は、独立の場合には、水素、炭
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、非独立の場合には互いに結合し、スピロ炭素原
子も含めて、炭素数３〜３０の環を表す。ただし、環を
構成する元素としてチッ素は含まない。
素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキ
ル基、炭素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基
を表し、非独立の場合には互いに結合し、スピロ炭素原
子も含めて、炭素数３〜３０の環を表す。ただし、環を
構成する元素としてチッ素は含まない。
【００６３】Ｒ3 は、Ｒ1 またはＲ2 上の置換基、ある
いはＲ1 とＲ2 が形成する環上の置換基を表す。
いはＲ1 とＲ2 が形成する環上の置換基を表す。
【００６４】α環は、炭素数３〜３０の環を表す。
【００６５】Ｒ4 は、α環上の置換基を表す。
【００６６】ａ、ｂはそれぞれ０〜３０の整数を表す。
【００６７】Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種以上
は、適当な試薬と反応させることによって、炭素数２〜
３０の重合可能な置換基に変換することが可能な置換基
を表し、残りのＲ3 、Ｒ4 は、水素、ヒドロキシ基、炭
素数０〜４０のアミノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ
基、炭素数７〜１５のアラルコキシ基、炭素数６〜１４
のアリーロキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、
炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケ
ニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数７〜１
５のアラルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、ハロ
ゲノ基、シアノ基、カルボン酸基、ニトロ基、炭素数１
〜２０のアシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数８〜２０のアラルコキシカルボニル基、
炭素数７〜２０のアリーロキシカルボニル基、炭素数１
〜２０のカルバモイル基、スルフォン酸基、炭素数１〜
２０のアルコキシスルフォニル基、炭素数７〜２０のア
ラルコキシスルフォニル基、炭素数１〜２０のアリーロ
キシスルフォニル基、炭素数０〜２０のスルファモイル
基から選ばれた置換基を表す。］で表される化合物を合
成した後、Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種を適当な
試薬と反応させることによって、炭素数２〜３０の重合
可能な置換基に変換する方法が挙げられる。
は、適当な試薬と反応させることによって、炭素数２〜
３０の重合可能な置換基に変換することが可能な置換基
を表し、残りのＲ3 、Ｒ4 は、水素、ヒドロキシ基、炭
素数０〜４０のアミノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ
基、炭素数７〜１５のアラルコキシ基、炭素数６〜１４
のアリーロキシ基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、
炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケ
ニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数７〜１
５のアラルキル基、炭素数６〜１４のアリール基、ハロ
ゲノ基、シアノ基、カルボン酸基、ニトロ基、炭素数１
〜２０のアシル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボ
ニル基、炭素数８〜２０のアラルコキシカルボニル基、
炭素数７〜２０のアリーロキシカルボニル基、炭素数１
〜２０のカルバモイル基、スルフォン酸基、炭素数１〜
２０のアルコキシスルフォニル基、炭素数７〜２０のア
ラルコキシスルフォニル基、炭素数１〜２０のアリーロ
キシスルフォニル基、炭素数０〜２０のスルファモイル
基から選ばれた置換基を表す。］で表される化合物を合
成した後、Ｒ3 、Ｒ4 のうち、少なくとも１種を適当な
試薬と反応させることによって、炭素数２〜３０の重合
可能な置換基に変換する方法が挙げられる。
【００６８】炭素数２〜３０の重合可能な置換基に変換
することが可能な置換基の具体例としては、水酸基、ア
ミノ基、メルカプト基、カルボキシ基、ハロゲノカルボ
ニル基、スルフォ基、ハロゲノスルフォニル基などを挙
げることができる。また、適当な試薬としては、アクリ
ル酸ハロゲン化物、メタクリル酸ハロゲン化物；クロロ
メチルオキシラン、ブロモメチルオキシランなどのハロ
ゲノメチルオキシラン；塩化アリルなどのハロゲン化ア
リル；クロロメチルスチレン；アリルアルコール、ビニ
ルアルコール、グリシジルアルコールなどを好適な例と
して挙げることができる。
することが可能な置換基の具体例としては、水酸基、ア
ミノ基、メルカプト基、カルボキシ基、ハロゲノカルボ
ニル基、スルフォ基、ハロゲノスルフォニル基などを挙
げることができる。また、適当な試薬としては、アクリ
ル酸ハロゲン化物、メタクリル酸ハロゲン化物；クロロ
メチルオキシラン、ブロモメチルオキシランなどのハロ
ゲノメチルオキシラン；塩化アリルなどのハロゲン化ア
リル；クロロメチルスチレン；アリルアルコール、ビニ
ルアルコール、グリシジルアルコールなどを好適な例と
して挙げることができる。
【００６９】また製造段階における精製方法としては、
各種溶媒による再結晶法、クロマトグラフィー法、溶媒
抽出法、あるいは活性炭処理法などが好適な例として挙
げることができる。
各種溶媒による再結晶法、クロマトグラフィー法、溶媒
抽出法、あるいは活性炭処理法などが好適な例として挙
げることができる。
【００７０】本発明の重合可能な置換基を有するフォト
クロミック材料は、単独で重合して、あるいは他の重合
性化合物と共重合して用いることが好ましい。生成する
高分子フォトクロミック材料の溶解性が大きい点、また
高重合度のポリマーが得られやすい点、重合可能な置換
基を有するフォトクロミック材料の使用量が少なくてす
む経済性から、他の重合性化合物と共重合して用いるこ
とがより好ましい。
クロミック材料は、単独で重合して、あるいは他の重合
性化合物と共重合して用いることが好ましい。生成する
高分子フォトクロミック材料の溶解性が大きい点、また
高重合度のポリマーが得られやすい点、重合可能な置換
基を有するフォトクロミック材料の使用量が少なくてす
む経済性から、他の重合性化合物と共重合して用いるこ
とがより好ましい。
【００７１】単独で重合、あるいは他のモノマーと共重
合した場合においては、光劣化に対する耐久性が非常に
向上する。
合した場合においては、光劣化に対する耐久性が非常に
向上する。
【００７２】本発明の重合可能な置換基を有するフォト
クロミック材料と共重合させる他の重合性化合物として
は、重合可能な置換基を有する化合物であればよく、ま
た多官能であってもよいが、その具体例としては、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、エチレングリコールジメタクリレートなどのアクリ
ル系モノマー；スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチ
ルスチレン、などのスチレン系モノマー；酢酸ビニル系
モノマー；エチレン、プロピレン、ブタジエン、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデンなどのオレフィン系モノマー；ビ
スフェノールＡのビスグリシジルエーテルなどのエポキ
シモノマー；有機重合性官能基を有するシラン系化合
物；有機重合性官能基を有するスピロオキサジン系化合
物；有機重合性官能基を有するスピロピラン系化合物な
どが挙げられる。
クロミック材料と共重合させる他の重合性化合物として
は、重合可能な置換基を有する化合物であればよく、ま
た多官能であってもよいが、その具体例としては、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、エチレングリコールジメタクリレートなどのアクリ
ル系モノマー；スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチ
ルスチレン、などのスチレン系モノマー；酢酸ビニル系
モノマー；エチレン、プロピレン、ブタジエン、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデンなどのオレフィン系モノマー；ビ
スフェノールＡのビスグリシジルエーテルなどのエポキ
シモノマー；有機重合性官能基を有するシラン系化合
物；有機重合性官能基を有するスピロオキサジン系化合
物；有機重合性官能基を有するスピロピラン系化合物な
どが挙げられる。
【００７３】本発明の重合可能な置換基を有するフォト
クロミック材料および他の重合性化合物は、それぞれ複
数種類をいっしょに共重合して用いても良い。またこれ
ら高分子フォトクロミック材料を複数種類混合して用い
ても良い。
クロミック材料および他の重合性化合物は、それぞれ複
数種類をいっしょに共重合して用いても良い。またこれ
ら高分子フォトクロミック材料を複数種類混合して用い
ても良い。
【００７４】他の重合性化合物と共重合する場合、本発
明のフォトクロミック材料の含有量は、目的および使用
方法などによって決められるべきものであるが、視覚に
対する感度という観点からは、他の樹脂重量の０．０１
〜２０重量％が好ましい。
明のフォトクロミック材料の含有量は、目的および使用
方法などによって決められるべきものであるが、視覚に
対する感度という観点からは、他の樹脂重量の０．０１
〜２０重量％が好ましい。
【００７５】本発明の高分子フォトクロミック材料は、
ポリマー溶液としてコーティング組成物として用いた
り、またエマルジョン化を行ってスクリーン印刷、グラ
ビア印刷などの各種印刷手法によって種々の基板に適用
可能である。またコーティング法としては種々の手法、
例えばディップコーティング、スピンコーティング、ロ
ールコーティングなどが採用できる。
ポリマー溶液としてコーティング組成物として用いた
り、またエマルジョン化を行ってスクリーン印刷、グラ
ビア印刷などの各種印刷手法によって種々の基板に適用
可能である。またコーティング法としては種々の手法、
例えばディップコーティング、スピンコーティング、ロ
ールコーティングなどが採用できる。
【００７６】また本発明のフォトクロミック材料の繰り
返し耐久性を向上させる見地から、使用時に酸素や水を
遮断することが特に有効である。更に、耐久性を向上さ
せる目的から公知の添加剤、例えばニッケル塩に代表さ
れる一重項酸素クエンチャー、ヒンダードアミン系化合
物またはそのポリマーで代表される酸化防止剤、紫外線
吸収剤、三重項消光剤などが使用可能である。また、こ
れらの添加剤が重合可能な置換基を有する場合は、本発
明の重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料お
よび他の重合成化合物と共重合すると、特に有効とな
る。
返し耐久性を向上させる見地から、使用時に酸素や水を
遮断することが特に有効である。更に、耐久性を向上さ
せる目的から公知の添加剤、例えばニッケル塩に代表さ
れる一重項酸素クエンチャー、ヒンダードアミン系化合
物またはそのポリマーで代表される酸化防止剤、紫外線
吸収剤、三重項消光剤などが使用可能である。また、こ
れらの添加剤が重合可能な置換基を有する場合は、本発
明の重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料お
よび他の重合成化合物と共重合すると、特に有効とな
る。
【００７７】本発明のフォトクロミック材料の用途とし
ては、特に、光による変色性を有する光学素子としての
使用が挙げられる。光学素子としてはサングラスレン
ズ、スキー用ゴーグル、保護メガネレンズ、視力矯正用
レンズ、さらにはカーテン、衣服、建築用窓材ガラス、
さらには、フロントガラス、サンルーフなどの自動車用
ウインドー、玩具、化粧品、筆記具などあるいは光吸収
λmax を２つ以上有することを応用した光記録材料など
への適用も好適な例として挙げられる。
ては、特に、光による変色性を有する光学素子としての
使用が挙げられる。光学素子としてはサングラスレン
ズ、スキー用ゴーグル、保護メガネレンズ、視力矯正用
レンズ、さらにはカーテン、衣服、建築用窓材ガラス、
さらには、フロントガラス、サンルーフなどの自動車用
ウインドー、玩具、化粧品、筆記具などあるいは光吸収
λmax を２つ以上有することを応用した光記録材料など
への適用も好適な例として挙げられる。
【００７８】
【実施例】次に実施例を挙げて説明するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
【００７９】実施例１ １−ヒドロキシ−２−アセトナフトン２０ｇと４−
ヒドロキシベンゾフェノン２３．８ｇとピロリジン２０
ｇとをトルエン５００ｍｌに溶解した後、Ｄｅａｎ−Ｓ
ｔａｒｋ法により、水を除去しながら、１０時間加熱還
流した。反応後、トルエンを減圧下除去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製した。この化合物
をメタノール３５０ｍｌに溶解し、水素化ほう素ナトリ
ウムを徐々に加えて還元した。得られた化合物を、窒素
気流中で無水硫酸銅１０ｇと共に１６０℃で１０分間加
熱した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製した。得られた化合物およびトリエチルアミン３０
ｇを塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜ
ているところへ、メタクリル酸クロライド１５ｇおよび
塩化メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴
下した。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続け
た。反応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、下記式（XIII）
ヒドロキシベンゾフェノン２３．８ｇとピロリジン２０
ｇとをトルエン５００ｍｌに溶解した後、Ｄｅａｎ−Ｓ
ｔａｒｋ法により、水を除去しながら、１０時間加熱還
流した。反応後、トルエンを減圧下除去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製した。この化合物
をメタノール３５０ｍｌに溶解し、水素化ほう素ナトリ
ウムを徐々に加えて還元した。得られた化合物を、窒素
気流中で無水硫酸銅１０ｇと共に１６０℃で１０分間加
熱した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製した。得られた化合物およびトリエチルアミン３０
ｇを塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜ
ているところへ、メタクリル酸クロライド１５ｇおよび
塩化メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴
下した。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続け
た。反応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、下記式（XIII）
【００８０】
【化１９】
【００８１】の化合物を得た。
【００８２】 分析結果 式（XIII）の化合物の分析結果を示す。
【００８３】元素分析値：（Ｃ29Ｈ22Ｏ3 として） 理論値：Ｃ（８３．２）、Ｈ（５．３）（％） 実測値：Ｃ（８３．３）、Ｈ（５．３）（％） 応用例 （イ） 式（XIII）の化合物１０重量部、メチルメタク
リレート２０重量部、ｎ−ブチルメタクリレート６０重
量部、アクリル酸２重量部、２−ヒドキシエチルメタク
リレート１０重量部を、２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）２重量部を開始剤とし、トル
エン１００重量部を溶媒として、窒素気流下、８０℃で
１０時間重合を行なった。重合後、再沈殿法によって精
製しフォトクロミックポリマーを得た。このフォトクロ
ミックポリマーをトルエンに溶かした５０重量％溶液３
００ｇを、さらにジメチルホルムアミドで２５重量％に
稀釈し、メラミン樹脂１５ｇを加えて、コーティング用
組成物とした。
リレート２０重量部、ｎ−ブチルメタクリレート６０重
量部、アクリル酸２重量部、２−ヒドキシエチルメタク
リレート１０重量部を、２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）２重量部を開始剤とし、トル
エン１００重量部を溶媒として、窒素気流下、８０℃で
１０時間重合を行なった。重合後、再沈殿法によって精
製しフォトクロミックポリマーを得た。このフォトクロ
ミックポリマーをトルエンに溶かした５０重量％溶液３
００ｇを、さらにジメチルホルムアミドで２５重量％に
稀釈し、メラミン樹脂１５ｇを加えて、コーティング用
組成物とした。
【００８４】（ロ） 前記（イ）で得られたコーティン
グ用組成物を、ＣＲ−３９（エチレングリコールビスア
リルカーボネート重合体）のレンズに、引上げ速度２０
ｃｍ／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布し、次いで８２℃
で、１２ｍｉｎの予備硬化を行ない、更に１００℃で４
ｈｒの乾燥を行なった。
グ用組成物を、ＣＲ−３９（エチレングリコールビスア
リルカーボネート重合体）のレンズに、引上げ速度２０
ｃｍ／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布し、次いで８２℃
で、１２ｍｉｎの予備硬化を行ない、更に１００℃で４
ｈｒの乾燥を行なった。
【００８５】（ハ） 回転子を備えた反応器中にγ−グ
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン２１４ｇを
仕込み、マグネチックスターラーを用いてかき混ぜなが
ら、０．０５規定塩酸水溶液３１ｇを、液温を１０℃に
保ちながら滴下し、滴下終了後更に３０分間かきまぜを
続けて、加水分解を行なった。得られた加水分解物に、
蒸留水２５５ｇ、シリコーン系界面活性剤１ｇを添加混
合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ（平均粒
子系１２±１μｍ、固形分３０％）５００ｇアルミニウ
ムアセチルアセトネート１５ｇを添加し、充分撹拌し
て、コーティング用組成物を得た。
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン２１４ｇを
仕込み、マグネチックスターラーを用いてかき混ぜなが
ら、０．０５規定塩酸水溶液３１ｇを、液温を１０℃に
保ちながら滴下し、滴下終了後更に３０分間かきまぜを
続けて、加水分解を行なった。得られた加水分解物に、
蒸留水２５５ｇ、シリコーン系界面活性剤１ｇを添加混
合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ（平均粒
子系１２±１μｍ、固形分３０％）５００ｇアルミニウ
ムアセチルアセトネート１５ｇを添加し、充分撹拌し
て、コーティング用組成物を得た。
【００８６】（ニ） 前記（ロ）で得られたフォトクロ
ミック被膜を有するＣＲ−３９レンズに、前記（ハ）で
得られたコーティング用組成物を、引上げ速度１０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布した。この時、前記
（ハ）で得られたコーティング用組成物中に、フォトク
ロミックな成分が溶出することは無かった。次いで１０
０℃で４ｈｒの乾燥を行なったところ、フォトクロミッ
ク被膜に対して良好な密着性を持つハードコート被膜が
得られた。
ミック被膜を有するＣＲ−３９レンズに、前記（ハ）で
得られたコーティング用組成物を、引上げ速度１０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布した。この時、前記
（ハ）で得られたコーティング用組成物中に、フォトク
ロミックな成分が溶出することは無かった。次いで１０
０℃で４ｈｒの乾燥を行なったところ、フォトクロミッ
ク被膜に対して良好な密着性を持つハードコート被膜が
得られた。
【００８７】（ホ） 前記（イ）〜（ニ）の操作によっ
て得られたフォトクロミック被膜とハードコート被膜を
有するＣＲ−３９レンズに紫外光を照射すると黄色に発
色し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返
し行えた。また該レンズは、室温暗所で１年間保存して
も外観に変化は無かった。
て得られたフォトクロミック被膜とハードコート被膜を
有するＣＲ−３９レンズに紫外光を照射すると黄色に発
色し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返
し行えた。また該レンズは、室温暗所で１年間保存して
も外観に変化は無かった。
【００８８】比較例１ （イ） メチルメタクリレート２０重量部、ｎ−ブチル
メタクリレート６０重量部、アクリル酸２重量部、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート１０重量部からなる共
重合体をトルエンに溶かした４５重量％溶液２８５ｇ
に、下記式（XIV ）
メタクリレート６０重量部、アクリル酸２重量部、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート１０重量部からなる共
重合体をトルエンに溶かした４５重量％溶液２８５ｇ
に、下記式（XIV ）
【００８９】
【化２０】
【００９０】の化合物１５ｇを加えて溶解した。さらに
ジメチルホルムアミドで２５重量％に稀釈し、メラミン
樹脂１５ｇを加えて、コーティング用組成物とした。
ジメチルホルムアミドで２５重量％に稀釈し、メラミン
樹脂１５ｇを加えて、コーティング用組成物とした。
【００９１】（ロ） 実施例１−（ロ）と同様の操作
を行なった。
を行なった。
【００９２】（ハ） 実施例１−（ハ）と同様の操作
を行なった。
を行なった。
【００９３】（ニ） 前記（ロ）で得られたフォトクロ
ミック被膜を有するＣＲ−３９レンズに、前記（ハ）で
得られたコーティング用組成物を、引上げ速度１０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布した。この時、前記
（ハ）で得られたコーティング用組成物中に、フォトク
ロミックな成分、すなわち式（XIV ）の化合物が溶出す
ることが観測された。次いで１００℃で４ｈｒの乾燥を
行なったが、得られたハードコート被膜のフォトクロミ
ック被膜に対する密着性は、実施例１−（ニ）で得ら
れたものと比較して悪かった。
ミック被膜を有するＣＲ−３９レンズに、前記（ハ）で
得られたコーティング用組成物を、引上げ速度１０ｃｍ
／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布した。この時、前記
（ハ）で得られたコーティング用組成物中に、フォトク
ロミックな成分、すなわち式（XIV ）の化合物が溶出す
ることが観測された。次いで１００℃で４ｈｒの乾燥を
行なったが、得られたハードコート被膜のフォトクロミ
ック被膜に対する密着性は、実施例１−（ニ）で得ら
れたものと比較して悪かった。
【００９４】実施例２ ２，７−ジヒドロキシナフタレン５ｇと２−フェニ
ル-3- ブチン-2- オール１５ｇを、トルエン２００ｍｌ
に溶解し、酸性アルミナ１５０ｇを加えた。混合物を１
００℃で１０分間加熱した後、ろ過し、ろ液から溶媒を
除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって
精製した。得られた化合物およびトリエチルアミン１５
ｇを塩化メチレン８０ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜて
いるところへ、アクリル酸クロライド８ｇおよび塩化メ
チレン２０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続けた。反
応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを行って精製し、下記式（ＸＶ）
ル-3- ブチン-2- オール１５ｇを、トルエン２００ｍｌ
に溶解し、酸性アルミナ１５０ｇを加えた。混合物を１
００℃で１０分間加熱した後、ろ過し、ろ液から溶媒を
除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって
精製した。得られた化合物およびトリエチルアミン１５
ｇを塩化メチレン８０ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜて
いるところへ、アクリル酸クロライド８ｇおよび塩化メ
チレン２０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続けた。反
応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを行って精製し、下記式（ＸＶ）
【００９５】
【化２１】
【００９６】の化合物を得た。
【００９７】 分析結果 式（ＸＶ）の化合物の分析結果を示す。
【００９８】元素分析値：（Ｃ23Ｈ18Ｏ3 として） 理論値：Ｃ（８０．７）、Ｈ（５．３）（％） 実測値：Ｃ（８０．７）、Ｈ（５．３）（％） 応用例 式（XIII）の化合物のかわりに式（ＸＶ）の化合物を用
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。
【００９９】実施例３ サリチルアミド１４ｇと４−ヒドロキシベンゾフェ
ノン１７ｇをクロロホルム１５０ｍｌに溶解した後、ポ
リホスフェートエチルエステル２５ｇを加え、５時間加
熱還流した。溶媒を減圧下除去し、１０％水酸化ナトリ
ウムを加えて５０℃で加水分解反応を行なった。生成物
はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行って精製し
た。得られた化合物を無水ベンゼン２００ｍｌに溶解
し、これをかき混ぜているところに五塩化りん１１ｇを
１０分間で滴下した。次いで８０℃で１５分間反応させ
た後、減圧下溶媒を除去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーを行って精製した。得られた化合物およびト
リエチルアミン１５ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解
し、室温でかき混ぜているところへ、メタクリル酸クロ
ライド８ｇおよび塩化メチレン２０ｍｌよりなる溶液を
２０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに３０分間
かき混ぜを続けた。反応終了後、溶媒を留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを行って精製し、下
記式（XVI ）
ノン１７ｇをクロロホルム１５０ｍｌに溶解した後、ポ
リホスフェートエチルエステル２５ｇを加え、５時間加
熱還流した。溶媒を減圧下除去し、１０％水酸化ナトリ
ウムを加えて５０℃で加水分解反応を行なった。生成物
はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行って精製し
た。得られた化合物を無水ベンゼン２００ｍｌに溶解
し、これをかき混ぜているところに五塩化りん１１ｇを
１０分間で滴下した。次いで８０℃で１５分間反応させ
た後、減圧下溶媒を除去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーを行って精製した。得られた化合物およびト
リエチルアミン１５ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解
し、室温でかき混ぜているところへ、メタクリル酸クロ
ライド８ｇおよび塩化メチレン２０ｍｌよりなる溶液を
２０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに３０分間
かき混ぜを続けた。反応終了後、溶媒を留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを行って精製し、下
記式（XVI ）
【０１００】
【化２２】
【０１０１】の化合物を得た。
【０１０２】 分析結果 式（XVI ）の化合物の分析結果を示す。
【０１０３】元素分析値：（Ｃ24Ｈ18ＮＯ3 Ｃｌとし
て） 理論値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．５）、Ｎ（３．５）
（％） 実測値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．４）、Ｎ（３．５）
（％） 応用例 式（XIII）の化合物のかわりに式（XVI ）の化合物を用
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。
て） 理論値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．５）、Ｎ（３．５）
（％） 実測値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．４）、Ｎ（３．５）
（％） 応用例 式（XIII）の化合物のかわりに式（XVI ）の化合物を用
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。
【０１０４】
【発明の効果】本発明の重合可能な置換基を有するフォ
トクロミック材料を用いれば、耐疲労性に優れ、かつ耐
薬品性に優れ、なおかつ黄色ないしオレンジ色に発色す
るものも得られるような高分子フォトクロミック材料を
得ることができた。
トクロミック材料を用いれば、耐疲労性に優れ、かつ耐
薬品性に優れ、なおかつ黄色ないしオレンジ色に発色す
るものも得られるような高分子フォトクロミック材料を
得ることができた。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１１月５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】の化合物が、特開平３−５０１６２５には
下記式 (IV)
下記式 (IV)
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】で表される化合物を得、ついでこの化合物
を還元後、脱水させて一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−
Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｈを表す。）で表される化合物を
得る方法が挙げられる。縮合剤としては、第１級アミン
または第２級アミンが好ましく用いられる。
を還元後、脱水させて一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−
Ｒ5 を表し、ＹはＣ−Ｈを表す。）で表される化合物を
得る方法が挙げられる。縮合剤としては、第１級アミン
または第２級アミンが好ましく用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４４】また、別の方法として一般式（Ｖ）で表さ
れる化合物と、一般式（ＶＩ）で表される化合物とを、
第１級アミンまたは第２級アミンの存在下に反応させ
て、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5 を表し、Ｙは
Ｃ−Ｒ6 を表す。Ｒ6 は炭素数１〜４０のアミノ基を表
す。）で表される化合物を得る方法が挙げられる。
れる化合物と、一般式（ＶＩ）で表される化合物とを、
第１級アミンまたは第２級アミンの存在下に反応させ
て、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5 を表し、Ｙは
Ｃ−Ｒ6 を表す。Ｒ6 は炭素数１〜４０のアミノ基を表
す。）で表される化合物を得る方法が挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４７】で表される化合物を得、ついでこの化合物
を脱水させても、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5
を表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物が得
られる。Ｒ6 を付加させるのに用いられる試薬として
は、ハロゲン化アルキルマグネシウム、アルキルリチウ
ムなどの有機金属化合物；アルコール、フェノールなど
の水酸基含有化合物；チオール類；アミン類などが挙げ
られる。
を脱水させても、一般式（Ｉ）（ただし、ＸはＣ−Ｒ5
を表し、ＹはＣ−Ｒ6 を表す。）で表される化合物が得
られる。Ｒ6 を付加させるのに用いられる試薬として
は、ハロゲン化アルキルマグネシウム、アルキルリチウ
ムなどの有機金属化合物；アルコール、フェノールなど
の水酸基含有化合物；チオール類；アミン類などが挙げ
られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７６】また本発明のフォトクロミック材料の繰り
返し耐久性を向上させる見地から、使用時に酸素や水を
遮断することが特に有効である。更に、耐久性を向上さ
せる目的から公知の添加剤、例えばニッケル塩に代表さ
れる一重項酸素クエンチャー、ヒンダードアミン系化合
物またはそのポリマーで代表される酸化防止剤、紫外線
吸収剤、三重項消光剤などが使用可能である。また、こ
れらの添加剤が重合可能な置換基を有する場合は、本発
明の重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料お
よび他の重合性化合物と共重合すると、特に有効とな
る。
返し耐久性を向上させる見地から、使用時に酸素や水を
遮断することが特に有効である。更に、耐久性を向上さ
せる目的から公知の添加剤、例えばニッケル塩に代表さ
れる一重項酸素クエンチャー、ヒンダードアミン系化合
物またはそのポリマーで代表される酸化防止剤、紫外線
吸収剤、三重項消光剤などが使用可能である。また、こ
れらの添加剤が重合可能な置換基を有する場合は、本発
明の重合可能な置換基を有するフォトクロミック材料お
よび他の重合性化合物と共重合すると、特に有効とな
る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００８４】（ロ） 前記（イ）で得られたコーティン
グ用組成物を、ＣＲ−３９（ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体）のレンズに、引上げ速度２
０ｃｍ／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布し、次いで８２℃
で、１２ｍｉｎの予備硬化を行ない、更に１００℃で４
ｈｒの乾燥を行なった。
グ用組成物を、ＣＲ−３９（ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体）のレンズに、引上げ速度２
０ｃｍ／ｍｉｎの条件で浸漬法で塗布し、次いで８２℃
で、１２ｍｉｎの予備硬化を行ない、更に１００℃で４
ｈｒの乾燥を行なった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００８５】（ハ） 回転子を備えた反応器中にγ−グ
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン２１４ｇを
仕込み、マグネチックスターラーを用いてかき混ぜなが
ら、０．０５規定塩酸水溶液３１ｇを、液温を１０℃に
保ちながら滴下し、滴下終了後更に３０分間かきまぜを
続けて、加水分解を行なった。得られた加水分解物に、
蒸留水２５５ｇ、シリコーン系界面活性剤１ｇを添加混
合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ（平均粒
子系１２±１ｍμ、固形分３０％）５００ｇアルミニウ
ムアセチルアセトネート１５ｇを添加し、充分撹拌し
て、コーティング用組成物を得た。
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン２１４ｇを
仕込み、マグネチックスターラーを用いてかき混ぜなが
ら、０．０５規定塩酸水溶液３１ｇを、液温を１０℃に
保ちながら滴下し、滴下終了後更に３０分間かきまぜを
続けて、加水分解を行なった。得られた加水分解物に、
蒸留水２５５ｇ、シリコーン系界面活性剤１ｇを添加混
合し、さらにメタノール分散コロイド状シリカ（平均粒
子系１２±１ｍμ、固形分３０％）５００ｇアルミニウ
ムアセチルアセトネート１５ｇを添加し、充分撹拌し
て、コーティング用組成物を得た。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１０３】元素分析値：（Ｃ24Ｈ18ＮＯ3 Ｃｌとし
て） 理論値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．５）、Ｎ（３．５）
（％） 実測値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．４）、Ｎ（３．５）
（％） 応用例 式（XIII）の化合物のかわりに式（XVI ）の化合物を用
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。実施例４ 式（XVII）の化合物２３ｇ、２−アダマンタノン１
５ｇ、およびピロリジン３０ｍｌとをトルエン５００ｍ
ｌに溶解した後、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ法により、水を
除去しながら、１０時間加熱還流した。その後、水３０
０ｍｌ、メタノール２００ｍｌ、および濃塩酸５ｍｌを
加え、激しくかき混ぜながら１．５時間加熱還流した。
トルエンを留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して式（XVIII ）の化合物を得た。こ
の化合物全量を２−プロパノール３５０ｍｌに溶解し、
水素化ほう素ナトリウム１５ｇを徐々に加えた後、２時
間還流した。２−プロパノールを留去した後、水２００
ｍｌを徐々に加えた。クロロホルムで抽出を行い、無水
硫酸ナトリウムを加え、２時間放置した。不溶物をろ過
によって除いた後、ろ液からクロロホルムを留去した。
得られた化合物に、酢酸を２００ｍｌ加え、窒素気流下
で３時間還流した。酢酸を留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、式（XIX ）の化合物を
得た。この化合物全量およびトリエチルアミン３０ｇを
塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜてい
るところへ、メタクリル酸クロライド２０ｇおよび塩化
メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続けた。反
応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを行って精製し、式（ＸＸ）の化合物を得
た。
て） 理論値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．５）、Ｎ（３．５）
（％） 実測値：Ｃ（７１．４）、Ｈ（４．４）、Ｎ（３．５）
（％） 応用例 式（XIII）の化合物のかわりに式（XVI ）の化合物を用
いる他は、実施例１−と同様に行なって、フォトクロ
ミック被膜とハードコート被膜を有するＣＲ−３９レン
ズを得た。該レンズに紫外光を照射すると黄色に発色
し、照射を止めると消色した。この変化は何度も繰返し
行えた。実施例４ 式（XVII）の化合物２３ｇ、２−アダマンタノン１
５ｇ、およびピロリジン３０ｍｌとをトルエン５００ｍ
ｌに溶解した後、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ法により、水を
除去しながら、１０時間加熱還流した。その後、水３０
０ｍｌ、メタノール２００ｍｌ、および濃塩酸５ｍｌを
加え、激しくかき混ぜながら１．５時間加熱還流した。
トルエンを留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して式（XVIII ）の化合物を得た。こ
の化合物全量を２−プロパノール３５０ｍｌに溶解し、
水素化ほう素ナトリウム１５ｇを徐々に加えた後、２時
間還流した。２−プロパノールを留去した後、水２００
ｍｌを徐々に加えた。クロロホルムで抽出を行い、無水
硫酸ナトリウムを加え、２時間放置した。不溶物をろ過
によって除いた後、ろ液からクロロホルムを留去した。
得られた化合物に、酢酸を２００ｍｌ加え、窒素気流下
で３時間還流した。酢酸を留去し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、式（XIX ）の化合物を
得た。この化合物全量およびトリエチルアミン３０ｇを
塩化メチレン２００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜてい
るところへ、メタクリル酸クロライド２０ｇおよび塩化
メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続けた。反
応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを行って精製し、式（ＸＸ）の化合物を得
た。
【化１】 分析結果 式（ＸＸ）の化合物の分析結果を示す。 元素分析値：（Ｃ28Ｈ30Ｏ3 として） 理論値：Ｃ（８１．１）、Ｈ（７．３）（％） 実測値：Ｃ（８１．１）、Ｈ（７．３）（％） 応用例 式（ＸＸ）の化合物３重量部、メチルメタクリレート２
７重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．２重量部、
トルエン７０重量部をガラス製のアンプルに入れ、凍結
脱気により溶存酸素を除いた。アンプルを封管後、８０
℃に加熱して、７時間重合させた。得られたフォトクロ
ミックポリマーの溶液をスライドガラス上に塗布した後
乾燥し、フィルムを得た。該フィルムに紫外光を照射す
ると黄色に発色し、照射を止めると消色した。この変化
は何度も繰返し行えた。 実施例５ ２，７−ジヒドロキシ−１−ニトロソナフタレン１
９ｇ、式（XXI ）の化合物２７ｇ、エタノール１００ｍ
ｌ、および氷酢酸数滴を混合し、１０時間加熱還流し
た。１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液２００ｍｌを加え、酢
酸エチルで抽出を行った。抽出液に無水硫酸ナトリウム
を加え、２時間放置した。不溶物をろ過によって除いた
後、ろ液から酢酸エチルを留去した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、式（XXII）の化合
物を得た。この化合物全量およびトリエチルアミン２０
ｇを塩化メチレン３００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜ
ているところへ、メタクリル酸クロライド２０ｇおよび
塩化メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴
下した。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続け
た。反応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、式（XXIII ）の化
合物を得た。
７重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．２重量部、
トルエン７０重量部をガラス製のアンプルに入れ、凍結
脱気により溶存酸素を除いた。アンプルを封管後、８０
℃に加熱して、７時間重合させた。得られたフォトクロ
ミックポリマーの溶液をスライドガラス上に塗布した後
乾燥し、フィルムを得た。該フィルムに紫外光を照射す
ると黄色に発色し、照射を止めると消色した。この変化
は何度も繰返し行えた。 実施例５ ２，７−ジヒドロキシ−１−ニトロソナフタレン１
９ｇ、式（XXI ）の化合物２７ｇ、エタノール１００ｍ
ｌ、および氷酢酸数滴を混合し、１０時間加熱還流し
た。１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液２００ｍｌを加え、酢
酸エチルで抽出を行った。抽出液に無水硫酸ナトリウム
を加え、２時間放置した。不溶物をろ過によって除いた
後、ろ液から酢酸エチルを留去した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、式（XXII）の化合
物を得た。この化合物全量およびトリエチルアミン２０
ｇを塩化メチレン３００ｍｌに溶解し、室温でかき混ぜ
ているところへ、メタクリル酸クロライド２０ｇおよび
塩化メチレン５０ｍｌよりなる溶液を２０分間かけて滴
下した。滴下終了後、さらに３０分間かき混ぜを続け
た。反応終了後、溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行って精製し、式（XXIII ）の化
合物を得た。
【化２】 分析結果 式（ＸＶ）の化合物の分析結果を示す。 元素分析値：（Ｃ32Ｈ31Ｎ3 Ｏ3 として） 理論値：Ｃ（７６．０）、Ｈ（６．２）（％），Ｎ
（８．３）（％） 実測値：Ｃ（７６．０）、Ｈ（６．２）（％），Ｎ
（８．３）（％） 応用例 式（XXIII ）の化合物１重量部、ブチルメタクリレート
５０重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．５重量
部、トルエン６０重量部をガラス製のアンプルに入れ、
凍結脱気により溶存酸素を除いた。アンプルを封管後、
８０℃に加熱して、７時間重合させた。得られたフォト
クロミックポリマーの溶液をスライドガラス上に塗布し
た後乾燥し、フィルムを得た。該フィルムに紫外光を照
射すると青色に発色し、照射を止めると消色した。この
変化は何度も繰返し行えた。
（８．３）（％） 実測値：Ｃ（７６．０）、Ｈ（６．２）（％），Ｎ
（８．３）（％） 応用例 式（XXIII ）の化合物１重量部、ブチルメタクリレート
５０重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．５重量
部、トルエン６０重量部をガラス製のアンプルに入れ、
凍結脱気により溶存酸素を除いた。アンプルを封管後、
８０℃に加熱して、７時間重合させた。得られたフォト
クロミックポリマーの溶液をスライドガラス上に塗布し
た後乾燥し、フィルムを得た。該フィルムに紫外光を照
射すると青色に発色し、照射を止めると消色した。この
変化は何度も繰返し行えた。
Claims (2)
- 【請求項１】 次の一般式（Ｉ） 【化１】 で示される化合物からなることを特徴とする、重合可能
な置換基を有するフォトクロミック材料。［式中、Ｘは
ＮまたはＣ−Ｒ5 を表す。ＹはＮまたはＣ−Ｒ6 を表
す。Ｒ1 、Ｒ2 は、独立の場合には、水素、炭素数１〜
２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭
素数６〜１９のアリール基から選ばれた置換基を表し、
非独立の場合には互いに結合し、スピロ炭素原子も含め
て、炭素数３〜３０の環を表す。ただし環を構成する元
素としてチッ素は含まない。Ｒ3 は、Ｒ1 またはＲ2 上
の置換基、あるいはＲ1 とＲ2 が形成する環上の置換基
を表す。α環は、炭素数３〜３０の環を表す。Ｒ4 は、
α環上の置換基を表す。ａ、ｂはそれぞれ０〜３０の整
数を表す。Ｒ3 〜Ｒ6 のうち、少なくとも１種は重合可
能な炭素数２〜３０の置換基を表し、残りのＲ3 〜Ｒ6
は、水素、ヒドロキシ基、炭素数０〜４０のアミノ基、
炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜１５のアラ
ルコキシ基、炭素数６〜１４のアリーロキシ基、炭素数
１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル
基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数２〜２０の
アルキニル基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数
６〜１４のアリール基、ハロゲノ基、シアノ基、カルボ
ン酸基、ニトロ基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数
２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数８〜２０の
アラルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリーロ
キシカルボニル基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、
スルフォン酸基、炭素数１〜２０のアルコキシスルフォ
ニル基、炭素数７〜２０のアラルコキシスルフォニル
基、炭素数１〜２０のアリーロキシスルフォニル基およ
び炭素数０〜２０のスルファモイル基から選ばれた置換
基を表す。］ - 【請求項２】請求項１の一般式（Ｉ）で示される化合物
を含む組成物を重合してなることを特徴とする高分子フ
ォトクロミック材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19962991A JPH0598252A (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 重合可能な置換基を有するフオトクロミツク材料および高分子フオトクロミツク材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19962991A JPH0598252A (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 重合可能な置換基を有するフオトクロミツク材料および高分子フオトクロミツク材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0598252A true JPH0598252A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=16411032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19962991A Pending JPH0598252A (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 重合可能な置換基を有するフオトクロミツク材料および高分子フオトクロミツク材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0598252A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995000500A1 (de) * | 1993-06-28 | 1995-01-05 | Optische Werke G. Rodenstock | Photochrome oxazineverbindungen |
| WO2000015629A1 (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable polyalkoxylated naphthopyrans |
| WO2003082849A1 (fr) * | 2002-04-01 | 2003-10-09 | Tokuyama Corporation | Compose de chromene |
| US7465415B2 (en) | 2004-07-30 | 2008-12-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photochromic materials derived from ring-opening monomers and photochromic initiators |
| WO2009151061A1 (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-17 | 三菱化学株式会社 | 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 |
-
1991
- 1991-08-08 JP JP19962991A patent/JPH0598252A/ja active Pending
Cited By (9)
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| JP2010018606A (ja) * | 2008-06-10 | 2010-01-28 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 |
| US20110092612A1 (en) * | 2008-06-10 | 2011-04-21 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photoreactive composition, optical material, composition for forming holographic recording layer, holographic recording material, and holographic recording medium |
| JP2013231043A (ja) * | 2008-06-10 | 2013-11-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 化合物、光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録材料、及びホログラム記録媒体 |
| US8758960B2 (en) * | 2008-06-10 | 2014-06-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photoreactive composition, optical material, composition for forming holographic recording layer, holographic recording material, and holographic recording medium |
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