JPH0527263A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH0527263A
JPH0527263A JP18125791A JP18125791A JPH0527263A JP H0527263 A JPH0527263 A JP H0527263A JP 18125791 A JP18125791 A JP 18125791A JP 18125791 A JP18125791 A JP 18125791A JP H0527263 A JPH0527263 A JP H0527263A
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JP
Japan
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gate
liquid crystal
thin film
short
tft
Prior art date
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Application number
JP18125791A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Suzuki
幸治 鈴木
Kohei Suzuki
公平 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0527263A publication Critical patent/JPH0527263A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide the liquid crystal display device which enables both a static electricity countermeasure and array tester measurement. CONSTITUTION:This liquid crystal display device is equipped with picture element electrodes 24 which are arrayed in a matrix, thin film transistors 21 provided to the respective picture element electrodes 24, plural address lines 2 for controlling the thin film transistors 21 and plural data lines 3 which cross them at right angles, an outer peripheral electric conductor for short-circuit 1 which is connected to the address lines 2 and data lines 3 through parallel- connected thin film transistors 101a and 10b and provided outside a display area, and resistance bodies 9a and 9b and capacitors 10a and 10b which are connected in parallel between the thin film transistors 10a and 10b and the gate and address lines 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に係わり、
特にアレイ基板の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device,
Particularly, it relates to improvement of the array substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は薄型・軽量であり、低電
圧駆動が可能で更にカラー化も容易である等の特徴を有
し、近年、パーソナルコンピュータ,ワープロなどの表
示装置として利用されている。中でも各画素毎に、スイ
ッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を設け
たいわゆるアクディブマトリックス型液晶表示装置は、
多画素にしてもコントラスト,レスポンス等の劣化がな
く、更に、中間調表示も可能であることから、フルカラ
ーテレビや、OA用の表示装置として最適な方式であ
る。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is thin and lightweight, and can be driven at a low voltage and can be easily colored. In recent years, it has been used as a display device for personal computers, word processors and the like. .. Above all, a so-called active matrix type liquid crystal display device in which a thin film transistor (TFT) is provided as a switching element for each pixel is
Even if there are many pixels, there is no deterioration in contrast, response, etc., and since halftone display is possible, it is the most suitable system as a display device for full-color television and OA.

【0003】このアクディブマトリックス型液晶表示装
置は、2枚の平面ガラス基板(アレイ基板,対向基板)
と、これら基板間に挟まれた液晶層とからなる基本構成
をとっている。一方のガラス基板、即ち、対向基板上に
は、各画素に対応したカラーフィルター配列と、透明電
極(対向電極)とが形成されており、アレイ基板には、
マトリックス状に配列された透明電極からなる画素電極
と、各画素電極にそのソース電極が接続されたTFTが
設けられている。TFTのゲート電極は、X方向に設け
られたアドレス線に接続され、ドレイン電極はアドレス
線と直角方向に設けられたデータ線に接続されている。
This active matrix type liquid crystal display device has two flat glass substrates (array substrate and counter substrate).
And a liquid crystal layer sandwiched between these substrates. A color filter array corresponding to each pixel and a transparent electrode (counter electrode) are formed on one glass substrate, that is, a counter substrate.
Pixel electrodes composed of transparent electrodes arranged in a matrix and TFTs having source electrodes connected to each pixel electrode are provided. The gate electrode of the TFT is connected to the address line provided in the X direction, and the drain electrode is connected to the data line provided in the direction orthogonal to the address line.

【0004】このように構成された液晶表示装置では、
所定のタイミングでアドレス線,データ線にそれぞれア
ドレス信号,データ信号を印加することにより、各画素
電極に表示に対応した電圧を選択的に印加することがで
きる。液晶層の配向は、即ち、光透過率は、対向電極と
画素電極との電位差で制御でき、これにより任意の表示
が可能となる。詳細はT.P.Brodyらの文献(I
EEE Tvanson Elect.Deu.Vol
ED−20,Nov.1973,pp.995−10
01)に述べられている。
In the liquid crystal display device constructed as described above,
By applying the address signal and the data signal to the address line and the data line, respectively, at a predetermined timing, it is possible to selectively apply the voltage corresponding to the display to each pixel electrode. The orientation of the liquid crystal layer, that is, the light transmittance can be controlled by the potential difference between the counter electrode and the pixel electrode, which enables arbitrary display. For details, see T. P. Brody et al. (I
EEE Tvanson Select. Deu. Vol
ED-20, Nov. 1973, pp. 995-10
01).

【0005】表示特性はスイッチング素子として用いら
れているTFTの性能に大きく依存する。この性能は、
一般的に、電子移動度μn ,しきい値電圧Vth及びオフ
電流Ioff で代表される。いずれの特性も表示特性に対
して重要な因子となり、製造プロセスの管理により所望
の値が維持されている。ところで、TFTはSiICの
MOSトランジスタと同様に一般的に静電気に弱いた
め、静電気を逃がす工夫が液晶表示装置になされてい
る。例えば、製造工程中のTFTアレイ基板では、図9
に示すように、短絡用外周配線1を設けて静電気を逃が
すようにしている。
The display characteristics largely depend on the performance of the TFT used as a switching element. This performance is
Generally, it is represented by electron mobility μ n , threshold voltage V th, and off current I off . Both characteristics are important factors for the display characteristics, and the desired values are maintained by controlling the manufacturing process. By the way, since TFTs are generally weak to static electricity like the MOS transistors of SiIC, a liquid crystal display device is devised to release static electricity. For example, in the TFT array substrate during the manufacturing process, as shown in FIG.
As shown in (1), the short-circuiting outer peripheral wiring 1 is provided to release static electricity.

【0006】即ち、アドレス線2とデータ線3との交点
5にTFTと画素電極とからなる単位画素が設けられた
アレイ基板において、全てのアドレス線2及びデータ電
極線3をTFTアレイ領域の外側で短絡用外周配線1と
短絡し、これにより、製造工程中に発生した静電気を、
アドレス線2−外周短絡線1−データ線3を介して瞬時
に放電させることにより、単位画素中のTFTの特性劣
化を防止している。そして製造工程の終了後には、これ
ら外周短絡線1をスクライブによりアレイ基板から切り
離すことにより、各線1,2,3をそれぞれ電気的に分
離し、アドレス線2,データ線3に外部駆動信号をIC
から供給することにより液晶表示装置に信号を与える。
That is, in an array substrate in which a unit pixel composed of a TFT and a pixel electrode is provided at the intersection 5 of the address line 2 and the data line 3, all the address lines 2 and the data electrode lines 3 are outside the TFT array region. And short-circuiting with the peripheral wiring 1 for short circuit, and static electricity generated during the manufacturing process is
Instantaneous discharge via the address line 2-outer peripheral short-circuit line 1-data line 3 prevents the characteristic deterioration of the TFT in the unit pixel. After the manufacturing process is completed, the peripheral short circuit lines 1 are separated from the array substrate by scribing to electrically separate the lines 1, 2 and 3 from each other.
A signal is given to the liquid crystal display device by supplying from the.

【0007】ところで、液晶表示装置の製造工程は、大
きく分けて、アレイ基板を作成するアレイ工程,カラー
フィルタ層を形成する対向基板製造工程,両基板を組み
立てて、液晶層を注入するセル工程,そして、周辺駆動
回路を設けるモジュール工程とからなる。
By the way, the manufacturing process of the liquid crystal display device is roughly divided into an array process of forming an array substrate, a counter substrate manufacturing process of forming a color filter layer, a cell process of assembling both substrates and injecting a liquid crystal layer, Then, it comprises a module process of providing a peripheral drive circuit.

【0008】TFTを用いたアクティブマトリックス型
液晶表示装置では、各工程が長く、複雑なため、歩留は
TFTを用いない単純マトリックス型液晶表示装置より
も悪い。したがって、各工程で生じる不良品を次工程に
流さないことは、製造コストを下げるうえで極めて重要
である。
In the active matrix type liquid crystal display device using the TFT, the yield is worse than that of the simple matrix type liquid crystal display device which does not use the TFT because each process is long and complicated. Therefore, it is extremely important to prevent defective products generated in each process from flowing to the next process in order to reduce the manufacturing cost.

【0009】しかしながら、アレイ工程の不良、特に画
素単位の点欠陥不良を、アレイ工程終了後に検査するの
は困難であったため、セル工程終了後に初めてアレイ工
程の不具合が検出されていた。このため、対向基板を無
駄にするばかりでなく、不要なセル工程まで行なうこと
になる。
However, since it is difficult to inspect defects in the array process, particularly point defect defects on a pixel-by-pixel basis after the completion of the array process, defects in the array process were detected only after the completion of the cell process. Therefore, not only the counter substrate is wasted, but also an unnecessary cell process is performed.

【0010】この問題は、R.Wisniffらが考案
したアレイ基板テスター(109SID Digest
May,1990,pp.190−193)により解
決された。これは、アレイ基板を表示状態に近い駆動で
動作させ、各画素電極の電位を検出するため、点欠陥レ
ベルの不良をも検出することができる。
This problem is caused by R. Array substrate tester devised by Wisniff et al. (109 SID Digest
May, 1990, pp. 190-193). This is because the array substrate is driven by driving close to the display state and the potential of each pixel electrode is detected, so that a defect at the point defect level can also be detected.

【0011】しかしながら、微弱な信号を検出するた
め、検出回路の入力インピーダンスが比較的高いため、
上述したような静電気を放電させる短絡用外周配線1を
用いると、このアレイテスターでのアレイ基板のチェッ
クができないという問題があった。
However, since a weak signal is detected and the input impedance of the detection circuit is relatively high,
When the short-circuited outer peripheral wiring 1 for discharging static electricity as described above is used, there is a problem that the array substrate cannot be checked by this array tester.

【0012】一方、短絡用外周配線1を設けない場合に
は、アレイテスターにより、静電気によるTFTの特性
劣化を含む、アレイ工程中に発生した種々の欠陥を全て
検出でき、次のセル工程に良品のみを流品することは可
能である。
On the other hand, when the outer peripheral wiring 1 for short circuit is not provided, the array tester can detect all the various defects generated during the array process, including the deterioration of the TFT characteristics due to static electricity, and are good products for the next cell process. It is possible to disapprove only.

【0013】しかしながら、この場合、短絡用外周配線
1を設けていないため、アレイ工程及びこの後工程であ
るセル工程で静電気による不良が増加するため、歩留が
低下するという問題が生じる。
However, in this case, since the short-circuiting outer peripheral wiring 1 is not provided, defects due to static electricity increase in the array process and the cell process which is the subsequent process, which causes a problem that the yield decreases.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の液
晶表示装置においては、その製造工程で発生する静電気
によるTFT特性の劣化対策と、アレイ基板の欠陥検出
のためのアレイテスター測定とが両立しないという問題
があった。
As described above, in the conventional liquid crystal display device, both the measures against the deterioration of the TFT characteristics due to the static electricity generated in the manufacturing process and the array tester measurement for detecting the defect of the array substrate are compatible with each other. There was a problem not to do.

【0015】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、静電気対策とアレイテ
スター測定とが両立できる液晶表示装置を提供すること
にある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of both countermeasures against static electricity and array tester measurement.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、アドレ
ス線及びデータ線を放電回路を介して短絡用外周配線に
接続したことにある。
The gist of the present invention resides in that the address line and the data line are connected to the short-circuiting outer peripheral wiring through a discharge circuit.

【0017】即ち、上記の目的を達成するために、本発
明の液晶表示装置は、マトリクス配列された画素電極
と、各画素電極に設けられたスイッチング素子と、この
スイッチング素子を制御する複数本のアドレス線及びこ
れに直交する複数本のデータ線と、並列接続された薄膜
トランジスタを介して、前記アドレス線及び前記データ
線に接続された、表示領域外に設けられた短絡用外周配
線と、前記アドレス線に接続された前記並列接続された
薄膜トランジスタの一方のゲートと前記アドレス線との
間及び他方のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設
された並列接続された抵抗体と容量体と、前記データ線
に接続された前記並列接続された薄膜トランジスタの一
方のゲートと前記データ線との間及び他方のゲートと前
記短絡用外周配線との間に挿設された並列接続された抵
抗体と容量体とを備えたことを特徴とする。
In other words, in order to achieve the above object, the liquid crystal display device of the present invention has a matrix of pixel electrodes, switching elements provided on each pixel electrode, and a plurality of switching elements for controlling the switching elements. An address line and a plurality of data lines orthogonal to the address line, and a short-circuited outer peripheral wire provided outside the display area, connected to the address line and the data line through a thin film transistor connected in parallel, and the address. A parallel-connected resistor and capacitor inserted between one of the gates of the thin film transistors connected in parallel and the address line connected to each other and between the other gate and the outer peripheral wiring for short-circuiting. Between the one gate and the data line of the thin film transistors connected in parallel connected to the data line, and the other gate and the short-circuiting outer peripheral wiring. Characterized by comprising a inserted have been connected in parallel resistor and capacitor element between.

【0018】[0018]

【作用】本発明の液晶表示装置では、アドレス線及びデ
ータ線を並列接続された薄膜トランジスタを介して短絡
用外周配線に接続しているため、正負どちらの電荷がア
ドレス線,データ線に帯電しても、薄膜トランジスタの
ゲートに絶対値がしきい値電圧の電圧が印加されると、
薄膜トランジスタがオンになり、短絡用外周配線に電荷
を流し放電させることができる。
In the liquid crystal display device of the present invention, since the address line and the data line are connected to the short-circuiting outer peripheral wiring through the thin film transistor connected in parallel, either the positive or negative charge is charged on the address line and the data line. Also, when a voltage whose absolute value is a threshold voltage is applied to the gate of the thin film transistor,
The thin film transistor is turned on, and electric charges can be caused to flow in the short-circuiting outer peripheral wiring for discharging.

【0019】また、薄膜トランジスタの大きさ、例え
ば、チャネル長,チャネル幅を調整することで、薄膜ト
ランジスタの抵抗を、アレイテスター測定に影響を与え
ない値に設定でき、静電気によるスイッチング素子の特
性防止と両立できる。
Further, by adjusting the size of the thin film transistor, for example, the channel length and the channel width, the resistance of the thin film transistor can be set to a value that does not affect the array tester measurement, and it is compatible with the prevention of the characteristics of the switching element due to static electricity. it can.

【0020】また、薄膜トランジスタのゲートとアドレ
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に容
量体が挿設されているため、薄膜トランジスタのゲート
には、ゲート容量と容量体の容量とで分割された電圧が
印加され、大きな電圧が印加されても薄膜トランジスタ
が絶縁破壊されるという問題は生じない。
Further, since the capacitor is inserted between the gate of the thin film transistor and the address line and between the thin film transistor and the data line, the gate of the thin film transistor is divided into the gate capacitor and the capacitor of the capacitor. Voltage is applied, and the problem of dielectric breakdown of the thin film transistor does not occur even when a large voltage is applied.

【0021】また、薄膜トランジスタのゲートとアドレ
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に抵
抗体が挿設されているため、容量分割によるゲート電圧
がしきい値電圧より小さい場合でも、アドレス線又はデ
ータ線の電圧がしきい値電圧以上の場合には、その電圧
を抵抗体を介してゲートに印加でき、さらなる放電が期
待できる。
Further, since the resistor is inserted between the gate of the thin film transistor and the address line and between the thin film transistor and the data line, even if the gate voltage due to the capacitance division is smaller than the threshold voltage, the address line is Alternatively, when the voltage of the data line is equal to or higher than the threshold voltage, the voltage can be applied to the gate through the resistor, and further discharge can be expected.

【0022】[0022]

【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。
Embodiments will be described below with reference to the drawings.

【0023】図1は本発明の一実施例に係る液晶表示装
置のアレイ基板の概略構成図、図2は同アレイ基板の交
点5の画素回路を示す図、図3は同アレイ基板中の放電
回路7を示す図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an array substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a pixel circuit at an intersection 5 of the array substrate, and FIG. 3 is a discharge in the array substrate. It is a figure which shows the circuit 7.

【0024】ガラス等の透光性絶縁材料からなるアレイ
基板上には、複数本のアドレス線2とこれらに直交する
複数本のデータ線3とが設けられ、それぞれの交点5に
は図2に示される画素回路が設けられている。また、ア
レイ基板の周辺には、アルミニウムからなる短絡用外周
配線1が設けられており、各アドレス線2及びデータ線
3は、図3に示される放電回路7を介して、上記短絡用
外周配線1に接続されている。
A plurality of address lines 2 and a plurality of data lines 3 orthogonal to the address lines 2 are provided on an array substrate made of a translucent insulating material such as glass. The pixel circuit shown is provided. Further, a peripheral short-circuit wiring 1 made of aluminum is provided around the array substrate, and each address line 2 and data line 3 is connected to the short-circuit peripheral wiring via the discharge circuit 7 shown in FIG. It is connected to 1.

【0025】画素回路は、図2に示したように、活性層
にアモルファスシリコンを用いたnチャンネルのTFT
21と、このTFT21のドレインに接続された透明画
素電極24とで構成されている。TFT21のゲート,
ソースはそれぞれアドレス線2,データ線3に接続され
ている。
The pixel circuit is, as shown in FIG. 2, an n-channel TFT using amorphous silicon for the active layer.
21 and a transparent pixel electrode 24 connected to the drain of the TFT 21. The gate of the TFT 21,
The sources are connected to the address line 2 and the data line 3, respectively.

【0026】放電回路7は、図3に示したように、並列
接続された放電用のTFT10a,10bと、TFT1
0aのゲートとアドレス線2又はデータ線3との間に挿
設された並列接続されたキャパシタ8aと抵抗体9a
と、TFT10bのゲートと短絡用外周配線1との間に
挿設された並列接続されたキャパシタ8bと抵抗体9b
とで構成されている。
As shown in FIG. 3, the discharge circuit 7 includes discharge TFTs 10a and 10b connected in parallel and a TFT1.
0a of the gate and the address line 2 or the data line 3 are connected in parallel and the capacitor 8a and the resistor 9a.
And a parallel connected capacitor 8b and resistor 9b inserted between the gate of the TFT 10b and the short-circuiting outer peripheral wiring 1.
It consists of and.

【0027】上記アレイ基板は、これと対向するカラー
フィルター層が設けられた対向基板と共にツイストネマ
チックモードの液晶層22を狭持し、液晶表示パネルを
構成する。また、対向基板の表面には透明対向電極23
が設けられており、この透明対向電極23と透明画素電
極24との電位差により、液晶層22の光透過率を制御
できる。透明画素電極24の電位はTFT21により各
画素独立に制御できるため、任意の表示が可能となる。
なお、図1において6はスクライブラインである。図4
は短絡用外周配線1とデータ線3との間に設けられた、
放電回路7の具体的な構造を示す平面図であり、図5は
そのA−A´断面図である。
The array substrate constitutes a liquid crystal display panel by sandwiching the twisted nematic mode liquid crystal layer 22 together with the counter substrate provided with the color filter layer facing the array substrate. The transparent counter electrode 23 is formed on the surface of the counter substrate.
Is provided, and the light transmittance of the liquid crystal layer 22 can be controlled by the potential difference between the transparent counter electrode 23 and the transparent pixel electrode 24. Since the potential of the transparent pixel electrode 24 can be controlled independently by the TFT 21 for each pixel, any display is possible.
In FIG. 1, 6 is a scribe line. Figure 4
Is provided between the short-circuiting outer peripheral wiring 1 and the data line 3,
FIG. 6 is a plan view showing a specific structure of the discharge circuit 7, and FIG. 5 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG.

【0028】透光性の絶縁基板18上には、モリブデン
タンタルの合金からなるゲート電極14c,14dが設
けられ、これらゲート電極14c,14dは窒化シリコ
ン膜からなるゲート絶縁膜19で覆われている。ゲート
絶縁膜19にはコンタクトホール11c,11dが開孔
され、それぞれゲート電極14c,14dに接続する引
き出し電極17c,17dが設けられている。引き出し
電極17c,17dは、それぞれアモルファスシリコン
からなる抵抗体9c,9dに接続されている。ゲート電
極14c,14d上には、ゲート絶縁膜19を介してそ
れぞれアモルファスシリコンからなる活性層15c,1
5dが設けられている。活性層15c,15d上には、
それぞれ窒化シリコンからなるチャネル保護膜16c,
16dが設けられている。これらゲート電極14c,1
4d、ゲート絶縁膜19、活性層15c,15d、チャ
ネル保護膜16c,16dにより逆スタガー型のTFT
10c,10dが構成されている。また、短絡用外周配
線1とゲート絶縁膜19とゲート電極14cとでキャパ
シタ8cが構成され、データ線3とゲート絶縁膜19と
ゲート電極14dとでキャパシタ8dが構成されてい
る。なお、短絡用外周配線1とアドレス線2との間にも
全く同様の放電回路7を設けてある。このように構成さ
れたアレイ基板では次のようにして静電気によるTFT
21の低下が防止される。図6は上記アレイ基板からな
る液晶表示装置の模式的な等価回路図である。
Gate electrodes 14c and 14d made of an alloy of molybdenum tantalum are provided on a transparent insulating substrate 18, and these gate electrodes 14c and 14d are covered with a gate insulating film 19 made of a silicon nitride film. .. Contact holes 11c and 11d are opened in the gate insulating film 19, and lead electrodes 17c and 17d connected to the gate electrodes 14c and 14d, respectively, are provided. The extraction electrodes 17c and 17d are connected to resistors 9c and 9d made of amorphous silicon, respectively. Active layers 15c, 1 made of amorphous silicon are formed on the gate electrodes 14c, 14d with a gate insulating film 19 interposed therebetween.
5d is provided. On the active layers 15c and 15d,
Channel protection films 16c each made of silicon nitride,
16d is provided. These gate electrodes 14c, 1
4d, gate insulating film 19, active layers 15c and 15d, channel protection films 16c and 16d, and an inverted stagger type TFT.
10c and 10d are configured. Further, the short-circuiting outer peripheral wiring 1, the gate insulating film 19 and the gate electrode 14c constitute a capacitor 8c, and the data line 3, the gate insulating film 19 and the gate electrode 14d constitute a capacitor 8d. A completely similar discharge circuit 7 is provided between the short-circuiting outer peripheral wiring 1 and the address line 2. In the array substrate configured as described above, the TFT due to static electricity is
21 is prevented from decreasing. FIG. 6 is a schematic equivalent circuit diagram of a liquid crystal display device including the array substrate.

【0029】TFTアレイ基板の製造工程において、正
の静電気12がアドレス線2に帯電したとする。このと
き、アドレス線2とデータ線3との間には、静電気12
に対応した電圧Vc が印加された状態となっている。
It is assumed that the address line 2 is charged with positive static electricity 12 in the manufacturing process of the TFT array substrate. At this time, static electricity 12 is generated between the address line 2 and the data line 3.
The voltage V c corresponding to is applied.

【0030】上述したように、アドレス線2は放電用の
TFT10a,10bを介して短絡用外周配線1に接続
され、データ線3は放電用のTFT10c,10dを介
して短絡用外周配線1に接続されているため、アドレス
線2−短絡用外周配線1間,データ線3−短絡用外周配
線1間には、それぞれVc =Va +Vb の関係を満たす
電圧Va ,Vb が印加される。TFT10aのゲート電
極には、電圧Va を容量8a及びTFT10aのゲート容
量により分割された電圧が印加される。同様にTFT1
0b,10c,10dのゲート電極にも電圧が印加され
る。この結果、放電用のTFT10a〜10dのゲート
電極に、しきい値電圧Vth以上の電圧が印加されると、
TFT10a〜10dがオン状態となり電流が流れ、静
電気12は消滅し、スイッチングトランジスタとしての
TFT21の特性劣化を防止することができる。
As described above, the address line 2 is connected to the short-circuiting outer peripheral wiring 1 through the discharging TFTs 10a and 10b, and the data line 3 is connected to the short-circuiting outer peripheral wiring 1 through the discharging TFTs 10c and 10d. because it is, the address line 2 between short outer peripheral line 1, between the data line 3 short outer peripheral line 1, the voltage V a that satisfies the relationship of V c = V a + V b, respectively, V b is applied It The gate electrode of the TFT 10a, the voltage divided voltage V a by the gate capacitance of the capacitor 8a and TFT 10a is applied. Similarly TFT1
The voltage is also applied to the gate electrodes of 0b, 10c, and 10d. As a result, when a voltage equal to or higher than the threshold voltage V th is applied to the gate electrodes of the discharge TFTs 10a to 10d,
The TFTs 10a to 10d are turned on, a current flows, the static electricity 12 disappears, and the characteristic deterioration of the TFT 21 as a switching transistor can be prevented.

【0031】以上の説明では、正の静電気12がアドレ
ス線に帯電したとしたが、負の静電気の場合にも同様
に、TFT21の特性劣化を防止することができる。何
故なら、並列接続されたTFT10a,10b及びTF
T10c,10dは、図7に示すような双極性の電流I
−電圧V特性となるため、アドレス線2に帯電した静電
気の極性にかかわらずその静電気を放電できるからであ
る。
In the above description, it is assumed that the positive static electricity 12 is charged on the address line, but the characteristic deterioration of the TFT 21 can be prevented also in the case of the negative static electricity. Because the TFTs 10a, 10b and TF connected in parallel are
T10c and 10d are bipolar currents I as shown in FIG.
This is because the −voltage V characteristic results in that the static electricity can be discharged regardless of the polarity of the static electricity charged on the address line 2.

【0032】更に、上記電流Iは、ゲート電圧VG とし
きい値電圧Vthとの差の二乗に比例するため、静電気が
大きいほど、放電能力が高くなり、瞬時に静電気を放電
でき、TFT21の劣化を防止することができる。ま
た、キャパシタ8a〜8dは、静電気による電圧が著し
く高い場合でも、それぞれTFT10a〜10dのゲー
ト電極に印加される電圧を分割し、低減させる効果があ
るため、TFT10a〜10dのゲート絶縁膜破壊を防
止することができる。また、キャパシタ8a〜8dの値
は製造プロセス中に発生する最大静電気量に対して多少
の余裕をもたすように設定することにより、TFT10
a〜10dの絶縁破壊を確実に防止できる。また、抵抗
体9aは、アドレス線2,データ線3の電圧を容量分割
でなく、直接TFT10aのゲート電極に印加するため
に設けてある。
Further, since the current I is proportional to the square of the difference between the gate voltage V G and the threshold voltage V th , the larger the static electricity is, the higher the discharging capacity is, and the static electricity can be instantly discharged, and the TFT 21 is discharged. It is possible to prevent deterioration. Further, the capacitors 8a to 8d have the effect of dividing and reducing the voltage applied to the gate electrodes of the TFTs 10a to 10d, respectively, even when the voltage due to static electricity is extremely high, and therefore prevent the gate insulating film from being destroyed in the TFTs 10a to 10d. can do. In addition, the values of the capacitors 8a to 8d are set so as to have some margin with respect to the maximum static electricity amount generated during the manufacturing process, so that the TFT 10
The dielectric breakdown of a to 10d can be reliably prevented. Further, the resistor 9a is provided for directly applying the voltage of the address line 2 and the data line 3 to the gate electrode of the TFT 10a instead of the capacity division.

【0033】即ち、放電の初期では、過渡現象的に電圧
Vaが変化するため、抵抗体9aは無視でき、この結
果、TFT10aのゲート電極に印加される電圧は、キ
ャパシタ8aの容量とTFT10aのゲート容量とで分
割された電圧となる。このとき、ゲート電圧VG がしき
い値電圧Vthより小さくなると、TFT10aがオフと
なり、放電が終了する。
That is, in the initial stage of discharge, the voltage Va changes transiently, so that the resistor 9a can be ignored, and as a result, the voltage applied to the gate electrode of the TFT 10a is the capacitance of the capacitor 8a and the gate of the TFT 10a. The voltage is divided by the capacitance. At this time, when the gate voltage V G becomes lower than the threshold voltage V th , the TFT 10a is turned off and the discharge is completed.

【0034】しかしながら、ゲート電圧VG がしきい値
電圧Vthより小さくなっても、すぐにアドレス線2,デ
ータ線3の電圧がしきい値電圧Vthより小さくなるので
はなく、定常状態で且つアドレス線2,データ線3の電
圧がしきい値電圧Vth以上の期間がある。このとき、キ
ャパシタ8aは無視でき、抵抗体9aを介してしきい値
電圧Vth以上の電圧をゲート電極に印加でき、更に放電
を行なうことができる。この結果、アドレス線2,デー
タ線3の電圧をしきい値電圧Vthにまで下げることがで
き、TFT21の特性劣化を防止できる。なお、抵抗体
9b〜9dも同様な目的で設けてある。
However, even if the gate voltage V G becomes lower than the threshold voltage V th, the voltage of the address line 2 and the data line 3 does not become lower than the threshold voltage V th immediately but in a steady state. Moreover, there is a period in which the voltage of the address line 2 and the data line 3 is equal to or higher than the threshold voltage V th . At this time, the capacitor 8a can be disregarded, a voltage higher than the threshold voltage V th can be applied to the gate electrode through the resistor 9a, and further discharge can be performed. As a result, the voltage of the address line 2 and the data line 3 can be lowered to the threshold voltage V th , and the characteristic deterioration of the TFT 21 can be prevented. The resistors 9b to 9d are also provided for the same purpose.

【0035】また、アレイテスター測定は、アレイテス
ターによりアドレス線2又はデータ線3に印加される電
圧の範囲において、測定に影響を与えない程度の高抵抗
となるようにTFT10a〜10dの大きさを設定する
ことで行なうことができる。なお、高圧の静電気放電で
は十分低いインピーダンスとなるため、放電能力は十分
確保することができる。
In the array tester measurement, the sizes of the TFTs 10a to 10d are set so that the resistance is high enough not to affect the measurement in the range of the voltage applied to the address line 2 or the data line 3 by the array tester. It can be done by setting. In addition, since the electrostatic discharge of high voltage has a sufficiently low impedance, the discharge capacity can be sufficiently secured.

【0036】具体的には、TFT10c,10dに関し
ては、チャネル長を12μm,チャネル巾を500μm
とし、短絡用外周配線1とデータ線3との間に、例え
ば、20Vの電圧が印加されたとき、チャンネル抵抗が
ほぼ200kΩになるように設定する。また、キャパシ
タ8c,8dの容量を約1.5pFに設定し、TFT1
0c,10dのゲート電極に、データ線3に発生した静
電気の約半分程度の電圧が印加されるように設定する。
また、抵抗体9c,9dの抵抗は、約100MΩに設定
する。即ち、抵抗値が一本のデータ線3の抵抗値より高
く設定する。また、TFT10c,10d,キャパシタ
8c,8d,抵抗体9a,9dも同様に設定する。この
場合、抵抗体9a,9dの抵抗値が一本のアドレス線2
の抵抗値より高く設定する。
Specifically, regarding the TFTs 10c and 10d, the channel length is 12 μm and the channel width is 500 μm.
The channel resistance is set to be approximately 200 kΩ when a voltage of, for example, 20 V is applied between the short-circuiting outer peripheral wiring 1 and the data line 3. Further, the capacitance of the capacitors 8c and 8d is set to about 1.5 pF, and the TFT1
The gate electrodes of 0c and 10d are set so that about half the voltage of the static electricity generated in the data line 3 is applied.
The resistance of the resistors 9c and 9d is set to about 100 MΩ. That is, the resistance value is set higher than the resistance value of one data line 3. Further, the TFTs 10c and 10d, the capacitors 8c and 8d, and the resistors 9a and 9d are similarly set. In this case, the resistance values of the resistors 9a and 9d are one address line 2
Set higher than the resistance value of.

【0037】このように設定することで、アレイテスタ
ーにより、アドレス線2,データ線3の各電極パッド4
にプロービングしても、プローブから見た短絡用外周配
線1のインピーダンスが高いため、測定が可能となる。
また、アレイテスターから各電極パッド4に印加される
最大電圧は20Vであるため、このインピーダンスは最
少で約200kΩあり、測定には全く問題はなかった。
By setting in this way, each electrode pad 4 of the address line 2 and the data line 3 is set by the array tester.
Even if probing is performed, since the impedance of the short-circuiting outer peripheral wiring 1 seen from the probe is high, the measurement can be performed.
Further, since the maximum voltage applied from the array tester to each electrode pad 4 was 20 V, this impedance was about 200 kΩ at the minimum, and there was no problem in measurement.

【0038】また、液晶パネルの製造工程中で発生する
静電気は、最大で約500〜1000Vに達すると推定
されるが、1kVが印加されたとき、TFTのゲートに
は約500Vの電圧が瞬間的に加わる。しかしオン抵抗
は(20/500)2 ×200=160Ωとなり、静電
気は極めて短時間に放電される。なお、キャパシタ8
c,8dを設けなったところ、TFTのゲート電極には
直接1kVの電位が加わり、TFT10c又はTFT1
0dのゲート絶縁膜が破壊される場合もあった。しか
し、キャパシタ8c,8dを設けた場合には、絶縁破壊
を皆無にすることができた。
It is estimated that the static electricity generated in the manufacturing process of the liquid crystal panel reaches a maximum of about 500 to 1000 V, but when 1 kV is applied, a voltage of about 500 V is momentarily applied to the gate of the TFT. Join in. However, the on-resistance is (20/500) 2 × 200 = 160Ω, and static electricity is discharged in an extremely short time. The capacitor 8
When c and 8d are not provided, a potential of 1 kV is directly applied to the gate electrode of the TFT, and the TFT 10c or the TFT 1
In some cases, the 0d gate insulating film was destroyed. However, when the capacitors 8c and 8d are provided, the dielectric breakdown can be completely eliminated.

【0039】かくして本実施例によれば、静電気の放電
を確実に行なうことができ、且つアレイテスターによる
測定も支障なくできるアレイ基板を得ることができる。
しかも、放電用のTFT10は、放電回路7に高電圧が
印加されても、絶縁破壊されることはない。
Thus, according to this embodiment, it is possible to obtain an array substrate which can surely discharge static electricity and can be measured by an array tester without any trouble.
Moreover, the discharging TFT 10 is not broken down even if a high voltage is applied to the discharging circuit 7.

【0040】また、短絡用外周配線1,放電回路7は、
液晶パネルの完成後に切り離しても良いが、そのまま残
しても液晶表示装置を実現することも可能である。この
場合、電極パッド4に接続される周辺ドライバーICの
出力インピーダンスよりも十分高い抵抗となるように放
電用のTFT10の寸法を決めておけばよい。
The short-circuiting outer peripheral wiring 1 and the discharging circuit 7 are
The liquid crystal panel may be separated after it is completed, or it may be left as it is to realize a liquid crystal display device. In this case, the dimensions of the discharging TFT 10 may be determined so that the resistance becomes sufficiently higher than the output impedance of the peripheral driver IC connected to the electrode pad 4.

【0041】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。例えば、アドレス線2,信号線3の静
電気を更に完全に放電させるために、図8に示すよう
に、高抵抗13を設けた放電回路を用いても良い。この
場合、抵抗体9,13を介した放電は、TFT10を介
した放電よりも時間がかかるが、アドレス線2,データ
3の電圧が十分低いため、TFT21の特性が劣化する
問題は生じない。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in order to completely discharge the static electricity of the address line 2 and the signal line 3, as shown in FIG. 8, a discharge circuit provided with a high resistance 13 may be used. In this case, the discharge through the resistors 9 and 13 takes longer than the discharge through the TFT 10, but since the voltage of the address line 2 and the data 3 is sufficiently low, the characteristic of the TFT 21 does not deteriorate.

【0042】また、上記実施例では、短絡用外周配線1
をアレイ基板の外周に設けたが、TFTアレイ部の外周
に設けても良い。要は表示領域外であれば良い。また、
直列接続された複数個のキャパシターを用いても良い。
更にまた、薄膜トランジスタ以外のトランジスタを用い
ても良い。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、
種々変形して実施できる。
Further, in the above embodiment, the short-circuiting outer peripheral wiring 1
Although it is provided on the outer periphery of the array substrate, it may be provided on the outer periphery of the TFT array section. The point is that it may be outside the display area. Also,
A plurality of capacitors connected in series may be used.
Furthermore, transistors other than thin film transistors may be used. In addition, within the scope of the present invention,
Various modifications can be implemented.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ア
ドレス線及びデータ線を並列接続された薄膜トランジス
タからなる放電回路を介して短絡用外周配線に接続して
いるため、静電気によるスイッチング素子の特性劣化
と、アレイ基板の欠陥検出のためのアレイテスター測定
が両立できる。
As described above in detail, according to the present invention, the address line and the data line are connected to the short-circuiting outer peripheral wiring through the discharge circuit composed of the thin film transistors connected in parallel. It is possible to achieve both the characteristic deterioration and the array tester measurement for detecting the defect of the array substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る液晶表示装置のアレイ
基板の概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an array substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のアレイ基板の画素回路を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a pixel circuit of the array substrate of FIG.

【図3】図1のアレイ基板中の放電回路を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a discharge circuit in the array substrate of FIG.

【図4】放電回路の具体的な構造を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing a specific structure of a discharge circuit.

【図5】図4の平面図のA−A´断面図。5 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the plan view of FIG.

【図6】図1のアレイ基板からなる液晶表示装置の模式
的な等価回路図。
6 is a schematic equivalent circuit diagram of a liquid crystal display device including the array substrate of FIG.

【図7】放電回路のTFTの電流と電圧との関係を示す
特性図。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between the current and voltage of the TFT of the discharge circuit.

【図8】高抵抗体を設けた放電回路。FIG. 8 is a discharge circuit provided with a high resistance body.

【図9】従来の静電気防止策を説明するための図。FIG. 9 is a diagram for explaining a conventional antistatic measure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…短絡用外周配線、2…アドレス線、3…データ線、
4…電極パッド、6…スクライブライン、7…放電回
路、8a〜8d…キャパシタ、9a〜9d…抵抗体、1
0a〜10d,11c,11d…コンタクトホール、1
2…静電気、13…高抵抗体、14c,14d…ゲート
電極、15c,15d…活性層、16c,16d…チャ
ネル保護膜、17c,17d…取り出し電極、18…基
板、19…ゲート絶縁膜、21…TFT、22…液晶
層、23…透明対向電極、24…透明画素電極。
1 ... Short-circuited peripheral wiring, 2 ... Address line, 3 ... Data line,
4 ... Electrode pad, 6 ... Scribe line, 7 ... Discharge circuit, 8a-8d ... Capacitor, 9a-9d ... Resistor, 1
0a to 10d, 11c, 11d ... Contact hole, 1
2 ... Static electricity, 13 ... High resistance material, 14c, 14d ... Gate electrode, 15c, 15d ... Active layer, 16c, 16d ... Channel protective film, 17c, 17d ... Extraction electrode, 18 ... Substrate, 19 ... Gate insulating film, 21 ... TFT, 22 ... Liquid crystal layer, 23 ... Transparent counter electrode, 24 ... Transparent pixel electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】マトリクス配列された画素電極と、 各画素電極に設けられたスイッチング素子と、 このスイッチング素子を制御する複数本のアドレス線及
びこれに直交する複数本のデータ線と、 並列接続された薄膜トランジスタを介して、前記アドレ
ス線及び前記データ線に接続された、表示領域外に設け
られた短絡用外周配線と、 前記アドレス線に接続された前記並列接続された薄膜ト
ランジスタの一方のゲートと前記アドレス線との間及び
他方のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設された
並列接続された抵抗体と容量体と、 前記データ線に接続された前記並列接続された薄膜トラ
ンジスタの一方のゲートと前記データ線との間及び他方
のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設された並列
接続された抵抗体と容量体とを有することを特徴とする
液晶表示装置。
Claim: What is claimed is: 1. Pixel electrodes arranged in a matrix, switching elements provided on each pixel electrode, a plurality of address lines for controlling the switching elements, and a plurality of data orthogonal thereto. Line and a short-circuited peripheral wiring provided outside the display area, connected to the address line and the data line via a thin film transistor connected in parallel, and the thin film transistor connected in parallel connected to the address line. A resistor and a capacitor connected in parallel between one gate and the address line and between the other gate and the short-circuiting outer peripheral wiring; and the parallel connection connected to the data line. Resistors connected in parallel between one gate of the thin film transistor and the data line and between the other gate and the short-circuiting outer peripheral wiring. The liquid crystal display device characterized by having a capacitor body.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5606340A (en) * 1993-08-18 1997-02-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Thin film transistor protection circuit
WO1997013177A1 (en) * 1995-10-03 1997-04-10 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate
KR20060035118A (en) * 2004-10-21 2006-04-26 김종하 Variableness pressure control device of lpg vehicle lpli system
JP2008170920A (en) * 2007-01-15 2008-07-24 Samsung Sdi Co Ltd Organic light emitting diode display and fabricating method thereof
JPWO2007055047A1 (en) * 2005-11-10 2009-04-30 シャープ株式会社 Display device and electronic device including the same
JP2009187029A (en) * 1999-08-31 2009-08-20 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2010049149A (en) * 2008-08-25 2010-03-04 Mitsubishi Electric Corp Tft substrate and method for manufacturing the same
CN103176324A (en) * 2011-12-20 2013-06-26 株式会社日本显示器中部 Liquid crystal display device
WO2015029938A1 (en) 2013-08-30 2015-03-05 株式会社 東芝 Array substrate, radiation detector, and wiring substrate
JP2016072601A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 Manufacturing method of solar cell
CN112992999A (en) * 2021-02-10 2021-06-18 京东方科技集团股份有限公司 Display mother board and display panel

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5606340A (en) * 1993-08-18 1997-02-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Thin film transistor protection circuit
WO1997013177A1 (en) * 1995-10-03 1997-04-10 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate
US5930607A (en) * 1995-10-03 1999-07-27 Seiko Epson Corporation Method to prevent static destruction of an active element comprised in a liquid crystal display device
USRE38292E1 (en) 1995-10-03 2003-10-28 Seiko Epson Corporation Method to prevent static destruction of an active element comprised in a liquid crystal display device
USRE44267E1 (en) 1995-10-03 2013-06-04 Seiko Epson Corporation Method to prevent static destruction of an active element comprised in a liquid crystal display device
CN100414411C (en) * 1995-10-03 2008-08-27 精工爱普生株式会社 Method of manufacturing active matrix substrate and method for manufacturing film element
JP2009187029A (en) * 1999-08-31 2009-08-20 Sharp Corp Liquid crystal display device
KR20060035118A (en) * 2004-10-21 2006-04-26 김종하 Variableness pressure control device of lpg vehicle lpli system
JPWO2007055047A1 (en) * 2005-11-10 2009-04-30 シャープ株式会社 Display device and electronic device including the same
JP2008170920A (en) * 2007-01-15 2008-07-24 Samsung Sdi Co Ltd Organic light emitting diode display and fabricating method thereof
JP2010049149A (en) * 2008-08-25 2010-03-04 Mitsubishi Electric Corp Tft substrate and method for manufacturing the same
CN103176324A (en) * 2011-12-20 2013-06-26 株式会社日本显示器中部 Liquid crystal display device
JP2013130651A (en) * 2011-12-20 2013-07-04 Japan Display Central Co Ltd Liquid crystal display device
WO2015029938A1 (en) 2013-08-30 2015-03-05 株式会社 東芝 Array substrate, radiation detector, and wiring substrate
JP2016072601A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 Manufacturing method of solar cell
CN112992999A (en) * 2021-02-10 2021-06-18 京东方科技集团股份有限公司 Display mother board and display panel
CN112992999B (en) * 2021-02-10 2024-04-16 京东方科技集团股份有限公司 Display mother board and display panel

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