JPH04372793A - Memory circuit - Google Patents
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- JPH04372793A JPH04372793A JP3150697A JP15069791A JPH04372793A JP H04372793 A JPH04372793 A JP H04372793A JP 3150697 A JP3150697 A JP 3150697A JP 15069791 A JP15069791 A JP 15069791A JP H04372793 A JPH04372793 A JP H04372793A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、スタティックRAMの
メモリセルとして用いられるメモリ回路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a memory circuit used as a static RAM memory cell.
【0002】0002
【従来の技術】図5は、CMOSのフリップフロップ回
路を用いた従来のスタティック型メモリセルの構成例を
示す図である。2. Description of the Related Art FIG. 5 is a diagram showing an example of the configuration of a conventional static memory cell using a CMOS flip-flop circuit.
【0003】図において、高電位直流定電圧源Vddと
低電位直流定電圧源Vccとの間に、pチャネルMOS
トランジスタ(以下、「pトランジスタ」という。)Q
1と、nチャネルMOSトランジスタ(以下、「nMO
S」という。)Q2とを接続したCMOSインバータと
、pトランジスタQ3とnトランジスタQ4とを接続し
たCMOSインバータの入出力端子を相互に接続してフ
リップフロップ回路が構成される。このフリップフロッ
プ回路の入出力端子NA,NBと、ビット線BL,BL
との間に接続されるnトランジスタT1,T2は、ワー
ド線WLによって駆動され、トランスファゲートとして
機能する。In the figure, a p-channel MOS is connected between a high potential DC constant voltage source Vdd and a low potential DC constant voltage source Vcc.
Transistor (hereinafter referred to as "p transistor")Q
1 and an n-channel MOS transistor (hereinafter referred to as “nMO
It's called "S". ) A flip-flop circuit is constructed by interconnecting the input/output terminals of a CMOS inverter connected to Q2 and a CMOS inverter connected to p transistor Q3 and n transistor Q4. The input/output terminals NA and NB of this flip-flop circuit and the bit lines BL and BL
The n-transistors T1 and T2 connected between the two transistors are driven by the word line WL and function as transfer gates.
【0004】このような構成のメモリセルでは、ワード
線WLが低電位になるとnトランジスタT1,T2がと
もに非導通となり、フリップフロップ回路に設定されて
いる情報(電位)が保持される。ここで、ワード線WL
を高電位にすることによりnトランジスタT1,T2が
ともに導通し、ビット線BL,BLからメモリセル内の
低電位直流定電圧源Vssに動作電流I0 が流れ、メ
モリセルが選択状態となって読み出しが行われる。In a memory cell having such a configuration, when the word line WL becomes a low potential, both n-transistors T1 and T2 become non-conductive, and the information (potential) set in the flip-flop circuit is held. Here, the word line WL
By raising the potential to a high potential, both n-transistors T1 and T2 become conductive, and an operating current I0 flows from the bit lines BL and BL to the low potential DC constant voltage source Vss in the memory cell, and the memory cell becomes selected and read. will be held.
【0005】また、メモリセルの情報を反転させる(書
き込む)ときには、ワード線WLを高電位にすることに
よりnトランジスタT1,T2をともに導通させ、ビッ
ト線BL,BLのいずれか一方だけを高電位とすること
により、フリップフロップ回路に設定されている情報を
反転させることができる。ここで、再びワード線WLを
低電位にしてnトランジスタT1,T2をともに非導通
とすることにより、ビット線BL,BLの状態に係わら
ず設定した情報を保持させることができる。Furthermore, when inverting (writing) information in a memory cell, by setting the word line WL to a high potential, both n-transistors T1 and T2 are made conductive, and only one of the bit lines BL and BL is set to a high potential. By doing so, the information set in the flip-flop circuit can be inverted. Here, by setting the word line WL to a low potential again and making both the n-transistors T1 and T2 non-conductive, the set information can be held regardless of the states of the bit lines BL and BL.
【0006】図6は、このようなメモリセルを行列状に
配置したメモリセルアレイの全体構成例を示すブロック
図である。図において、ワード線WL0 にはメモリセ
ルMS11〜MS1nが接続され、以下同様にワード線
WLm にはメモリセルMSm1〜MSmnが接続され
る。また、メモリセルMS11〜MSm1にはビット線
BL1 ,BL1 が接続され、以下同様にメモリセル
MS1n〜MSmnにはビット線BLn ,BLn が
接続される。なお、ビット線BL1 ,BL1は相補関
係になっている。ワード線駆動回路61は各ワード線を
制御し、ビット線制御回路62は各ビット線を制御する
。FIG. 6 is a block diagram showing an example of the overall configuration of a memory cell array in which such memory cells are arranged in rows and columns. In the figure, memory cells MS11 to MS1n are connected to word line WL0, and memory cells MSm1 to MSmn are similarly connected to word line WLm. Furthermore, bit lines BL1 and BL1 are connected to memory cells MS11 to MSm1, and bit lines BLn and BLn are similarly connected to memory cells MS1n to MSmn. Note that the bit lines BL1 and BL1 are in a complementary relationship. A word line drive circuit 61 controls each word line, and a bit line control circuit 62 controls each bit line.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、例えばワー
ド線WL0 が選択されて高電位になると、ワード線W
L0 に接続されるn個のメモリセルMS11〜MS1
nに電流が流れる。したがって、メモリセルアレイの消
費電流Iは、I=nI0 となり、1本のワード線に接
続されるメモリセルの数(列数n)の増加に伴って消費
電力の増大が避けられなかった。なお、1本のワード線
に接続されるメモリセルの中から1つのメモリセルを選
択するには、各ビット線の選択によって行われている。By the way, for example, when the word line WL0 is selected and becomes a high potential, the word line WL0
n memory cells MS11 to MS1 connected to L0
A current flows through n. Therefore, the current consumption I of the memory cell array becomes I=nI0, and as the number of memory cells (number of columns n) connected to one word line increases, the power consumption inevitably increases. Note that one memory cell is selected from among the memory cells connected to one word line by selecting each bit line.
【0008】本発明は、スタティックRAMを構成する
メモリセルの読み書き動作時の消費電力を低減させるこ
とができるメモリ回路を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a memory circuit that can reduce power consumption during read/write operations of memory cells constituting a static RAM.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明は
、ワード線によって駆動制御されるトランスファゲート
と、ビット線によって駆動制御されるトランスファゲー
トとを接続し、双方のトランスファゲートを介して選択
されたフリップフロップ回路にビット線が接続されたこ
とを特徴とする。Means for Solving the Problems The invention according to claim 1 connects a transfer gate driven and controlled by a word line and a transfer gate driven and controlled by a bit line, and connects a transfer gate driven and controlled by a word line to a transfer gate driven and controlled by a bit line. A feature is that a bit line is connected to the selected flip-flop circuit.
【0010】請求項2に記載の発明は、メモリ素子とな
るフリップフロップ回路と、ワード線によって前記フリ
ップフロップ回路とビット線との接続を制御する第1の
トランスファゲートとを備えたメモリ回路において、ゲ
ート端子が相互に反対側のビット線によって駆動制御さ
れ、前記第1のトランスファゲートにそれぞれ直列に接
続される第2のトランスファゲートを備えたことを特徴
とする。The invention according to claim 2 provides a memory circuit comprising a flip-flop circuit serving as a memory element, and a first transfer gate controlling connection between the flip-flop circuit and a bit line by a word line, The present invention is characterized in that it includes second transfer gates whose gate terminals are driven and controlled by mutually opposite bit lines and which are connected in series to the first transfer gates.
【0011】請求項3に記載の発明は、メモリ素子とな
るフリップフロップ回路と、前記フリップフロップ回路
とビット線との接続を制御する第1のトランスファゲー
トとを備えたメモリ回路において、ワード線によって駆
動制御される第2のトランスファゲートを備え、前記第
1のトランスファゲートがこの第2のトランスファゲー
トを介して相互に反対側のビット線によって駆動制御さ
れる構成であることを特徴とする。The invention according to claim 3 provides a memory circuit comprising a flip-flop circuit serving as a memory element and a first transfer gate controlling connection between the flip-flop circuit and a bit line. The present invention is characterized in that it includes a second transfer gate that is drive-controlled, and that the first transfer gate is drive-controlled by mutually opposite bit lines via the second transfer gate.
【0012】0012
【作用】請求項1に記載の発明は、ワード線とビット線
の双方によってメモリセルを選択することにより、ワー
ド線に接続される複数のメモリセルの1つのみを動作さ
せることができる。なお、選択時には、ビット線はメモ
リセル選択のための制御線として用いる。According to the first aspect of the invention, by selecting a memory cell using both a word line and a bit line, only one of the plurality of memory cells connected to the word line can be operated. Note that during selection, the bit line is used as a control line for memory cell selection.
【0013】請求項2に記載の発明は、第1のトランス
ファゲートのゲート端子をワード線に接続し、第2のト
ランスファゲートのゲート端子を相互に反対側のビット
線に接続することにより、ワード線とビット線の双方の
論理によってメモリセルを選択することができる。According to the second aspect of the invention, the gate terminal of the first transfer gate is connected to the word line, and the gate terminal of the second transfer gate is connected to the bit line on the opposite side. Memory cells can be selected by both line and bit line logic.
【0014】請求項3に記載の発明は、第1のトランス
ファゲートのゲート端子と相互に反対側のビット線との
間に、ゲート端子がワード線に接続された第2のトラン
スファゲートを接続することにより、ワード線とビット
線の双方の論理によってメモリセルを選択することがで
きる。According to the third aspect of the invention, a second transfer gate, the gate terminal of which is connected to the word line, is connected between the gate terminal of the first transfer gate and the mutually opposite bit line. This allows memory cells to be selected based on the logic of both word lines and bit lines.
【0015】[0015]
【実施例】図1は、請求項2に記載の発明の一実施例の
構成を示す図である。図において、ワード線WL、ビッ
ト線BL,BL、フリップフロップ回路を構成するpト
ランジスタQ1,Q3およびnトランジスタQ2,Q4
、トランスファゲートを構成するnトランジスタT1,
T2は、従来のメモリ回路と同様である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing the structure of an embodiment of the invention as set forth in claim 2. In the figure, a word line WL, bit lines BL, BL, p transistors Q1, Q3 and n transistors Q2, Q4 forming a flip-flop circuit are shown.
, n-transistor T1 constituting the transfer gate,
T2 is similar to a conventional memory circuit.
【0016】本実施例の特徴とするところは、ビット線
BLとnトランジスタT1との間にビット線BLによっ
て駆動制御されるnトランジスタT3を接続し、ビット
線BLとnトランジスタT2との間にビット線BLによ
って駆動制御されるnトランジスタT4を接続した構成
にある。すなわち、ワード線WLによって駆動制御され
るnトランジスタT1,T2を第1のトランスファゲー
トとし、ビット線BL,BLによって駆動制御されるn
トランジスタT3,T4を第2のトランスファゲートと
して構成し、ビット線BL,BLをメモリセルを選択す
る制御線として共用する。The feature of this embodiment is that an n-transistor T3 whose drive is controlled by the bit line BL is connected between the bit line BL and the n-transistor T1, and an n-transistor T3 whose drive is controlled by the bit line BL is connected between the bit line BL and the n-transistor T2. It has a configuration in which an n-transistor T4 whose drive is controlled by a bit line BL is connected. That is, the n-transistors T1 and T2 whose drive is controlled by the word line WL are used as the first transfer gates, and the n-transistors whose drive and control are controlled by the bit lines BL and BL are the first transfer gates.
Transistors T3 and T4 are configured as second transfer gates, and bit lines BL and BL are shared as control lines for selecting memory cells.
【0017】まず、本メモリセルの読み出し動作につい
て説明する。待機時には、ワード線WLを低電位とし、
ビット線BL,BLも共に低電位とすることにより、n
トランジスタT1,T2,T3,T4はすべて非導通状
態となってメモリセルには動作電流は流れない。また、
選択時には、ワード線WLを高電位とし、ビット線BL
,BLを共に高電位とすることにより、nトランジスタ
T1,T2,T3,T4はすべて導通状態となり、メモ
リセルに動作電流が流れる。First, the read operation of this memory cell will be explained. During standby, the word line WL is set to a low potential,
By setting both the bit lines BL and BL to a low potential, n
Transistors T1, T2, T3, and T4 are all rendered non-conductive, and no operating current flows through the memory cell. Also,
At the time of selection, the word line WL is set to a high potential, and the bit line BL is set to a high potential.
, BL are set to a high potential, all of the n-transistors T1, T2, T3, and T4 become conductive, and an operating current flows through the memory cell.
【0018】一方、選択するメモリセルと同一のワード
線WLに接続される他の列のメモリセルに対しては、ワ
ード線WLが高電位のためにnトランジスタT1,T2
が導通状態となるものの、ビット線BL,BLをともに
低電位に保つことにより、nトランジスタT3,T4は
非導通状態となってメモリセルには動作電流は流れない
。On the other hand, for memory cells in other columns connected to the same word line WL as the selected memory cell, n transistors T1 and T2 are connected to the word line WL at a high potential.
However, by keeping both bit lines BL and BL at a low potential, n-transistors T3 and T4 become non-conductive, and no operating current flows through the memory cell.
【0019】次に、本メモリセルの書き込み動作につい
て説明する。待機時には、同様にワード線WLを低電位
とし、ビット線BL,BLも共に低電位とすることによ
り、nトランジスタT1,T2,T3,T4はすべて非
導通状態となってメモリセルには動作電流は流れない。
また、選択時には、ワード線WLを高電位とすることに
より第1のトランスファゲートのnトランジスタT1,
T2が導通状態となり、さらにビット線BL,BLのい
ずれか一方(例えばBL)を高電位とすることにより、
低電位側のビット線(BL)に接続された第2のトラン
スファゲートのnトランジスタ(T4)が導通し、情報
の書き込みが行われる。Next, the write operation of this memory cell will be explained. During standby, the word line WL is similarly set to a low potential, and the bit lines BL and BL are also set to a low potential, so that all n-transistors T1, T2, T3, and T4 are rendered non-conductive, and no operating current flows into the memory cell. does not flow. In addition, at the time of selection, by setting the word line WL to a high potential, the n-transistor T1 of the first transfer gate,
By turning on T2 and setting one of the bit lines BL, BL (for example, BL) to a high potential,
The n-transistor (T4) of the second transfer gate connected to the bit line (BL) on the low potential side becomes conductive, and information is written.
【0020】一方、選択するメモリセルと同一のワード
線WLに接続される他の列のメモリセルに対しては、ワ
ード線WLが高電位になるが、ビット線BL,BLをと
もに低電位に保つことにより同様にメモリセルには動作
電流は流れない。On the other hand, for memory cells in other columns connected to the same word line WL as the selected memory cell, the word line WL is at a high potential, but both bit lines BL and BL are at a low potential. Similarly, no operating current flows through the memory cell.
【0021】このように、ワード線WLの電位を高電位
とし、さらにビット線BL,BLの少なくとも一方の電
位を高電位とするときだけメモリセルが選択され、ワー
ド線WLに接続される他のメモリセルに対してはビット
線BL,BLの電位を共に低電位とすることにより非動
作状態とすることができる。すなわち、読み出し動作時
あるいは書き込み動作時に、ビット線BL,BLをメモ
リセルの選択制御線として利用することにより、メモリ
セルアレイ全体の消費電力に抑えることができる。In this way, a memory cell is selected only when the potential of the word line WL is set to a high potential and the potential of at least one of the bit lines BL and BL is set to a high potential. The memory cell can be brought into a non-operating state by setting the potentials of both bit lines BL and BL to a low potential. That is, by using the bit lines BL and BL as memory cell selection control lines during a read operation or a write operation, the power consumption of the entire memory cell array can be suppressed.
【0022】なお、トランスファゲートを構成するnト
ランジスタT1,T2,T3,T4をpトランジスタで
構成することもできる。その場合には、ビット線BL,
BLの少なくとも一方の電位とワード線WLの電位を共
に低電位とするときだけメモリセルが選択され、同一の
ワード線WLに接続される他のメモリセルに対しては対
応するビット線を共に高電位とすることにより非動作状
態とすることができる。[0022] Note that the n-transistors T1, T2, T3, and T4 constituting the transfer gate can also be constructed of p-transistors. In that case, the bit lines BL,
A memory cell is selected only when the potential of at least one of BL and the potential of word line WL are both low, and for other memory cells connected to the same word line WL, the corresponding bit lines are both high. By setting it to a potential, it can be brought into a non-operating state.
【0023】図2は、1本のワード線WLに接続された
メモリセル数とメモリセルアレイ全体の消費電流の関係
を示す図である。図において、従来構成ではメモリセル
数の増加に比例して消費電流も増大していたが、本発明
構成によりその増加が抑えられていることがわかる。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the number of memory cells connected to one word line WL and the current consumption of the entire memory cell array. In the figure, it can be seen that in the conventional configuration, the current consumption increased in proportion to the increase in the number of memory cells, but the configuration of the present invention suppresses this increase.
【0024】図3は、請求項3に記載の発明の第一実施
例の構成を示す図である。図において、ワード線WL、
ビット線BL,BL、フリップフロップ回路を構成する
pトランジスタQ1,Q3およびnトランジスタQ2,
Q4、トランスファゲートを構成するnトランジスタT
1,T2は、従来のメモリ回路と同様である。FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a first embodiment of the invention according to claim 3. In the figure, word lines WL,
bit lines BL, BL, p transistors Q1, Q3 and n transistor Q2, which constitute a flip-flop circuit;
Q4, n-transistor T forming the transfer gate
1 and T2 are similar to conventional memory circuits.
【0025】本実施例の特徴とするところは、nトラン
ジスタT1のゲート端子とビット線BLとの間にワード
線WLによって駆動制御されるnトランジスタT3を接
続し、nトランジスタT2のゲート端子とビット線BL
との間にワード線WLによって駆動制御されるnトラン
ジスタT4を接続した構成にある。すなわち、第1のト
ランスファゲートを構成するnトランジスタT1,T2
が、ワード線WLによって駆動制御される第2のトラン
スファゲートのnトランジスタT3,T4を介してビッ
ト線BL,BLによって駆動制御され、ビット線BL,
BLをメモリセルを選択する制御線として共用する。The feature of this embodiment is that the n-transistor T3, which is driven and controlled by the word line WL, is connected between the gate terminal of the n-transistor T1 and the bit line BL, and the n-transistor T3 is connected between the gate terminal of the n-transistor T2 and the bit line BL. line BL
It has a configuration in which an n-transistor T4 whose drive is controlled by the word line WL is connected between the word line WL and the word line WL. That is, n-transistors T1 and T2 forming the first transfer gate
is driven and controlled by the bit lines BL, BL via the n-transistors T3, T4 of the second transfer gate, which is driven and controlled by the word line WL, and the bit lines BL,
BL is shared as a control line for selecting memory cells.
【0026】まず、本メモリセルの読み出し動作につい
て説明する。待機時には、ワード線WLを低電位とし、
ビット線BL,BLも共に低電位とすることにより、n
トランジスタT1,T2,T3,T4はすべて非導通状
態となってメモリセルには動作電流は流れない。また、
選択時には、ワード線WLを高電位とし、ビット線BL
,BLを共に高電位とすることにより、nトランジスタ
T1,T2,T3,T4はすべて導通状態となり、メモ
リセルに動作電流が流れる。First, the read operation of this memory cell will be explained. During standby, the word line WL is set to a low potential,
By setting both the bit lines BL and BL to a low potential, n
Transistors T1, T2, T3, and T4 are all rendered non-conductive, and no operating current flows through the memory cell. Also,
At the time of selection, the word line WL is set to a high potential, and the bit line BL is set to a high potential.
, BL are set to a high potential, all of the n-transistors T1, T2, T3, and T4 become conductive, and an operating current flows through the memory cell.
【0027】一方、選択するメモリセルと同一のワード
線WLに接続される他の列のメモリセルに対しては、ワ
ード線WLが高電位のためにnトランジスタT3,T4
が導通状態となるものの、ビット線BL,BLをともに
低電位に保つことにより、nトランジスタT1,T2は
非導通状態となってメモリセルには動作電流は流れない
。On the other hand, for memory cells in other columns connected to the same word line WL as the selected memory cell, n transistors T3 and T4 are connected because the word line WL is at a high potential.
However, by keeping both bit lines BL and BL at a low potential, n-transistors T1 and T2 become non-conductive and no operating current flows through the memory cell.
【0028】次に、本メモリセルの書き込み動作につい
て説明する。待機時には、同様にワード線WLを低電位
とし、ビット線BL,BLも共に低電位とすることによ
り、nトランジスタT1,T2,T3,T4はすべて非
導通状態となってメモリセルには動作電流は流れない。
また、選択時には、ワード線WLを高電位とすることに
より第2のトランスファゲートのnトランジスタT3,
T4が導通状態となり、さらにビット線BL,BLのい
ずれか一方(例えばBL)を高電位とすることにより、
低電位側のビット線(BL)に接続された第1のトラン
スファゲートのnトランジスタ(T2)が導通し、情報
の書き込みが行われる。Next, the write operation of this memory cell will be explained. During standby, the word line WL is similarly set to a low potential, and the bit lines BL and BL are also set to a low potential, so that all n-transistors T1, T2, T3, and T4 are rendered non-conductive, and no operating current flows into the memory cell. does not flow. In addition, at the time of selection, by setting the word line WL to a high potential, the n-transistor T3 of the second transfer gate,
By turning on T4 and setting one of the bit lines BL, BL (for example, BL) to a high potential,
The n-transistor (T2) of the first transfer gate connected to the bit line (BL) on the low potential side becomes conductive, and information is written.
【0029】一方、選択するメモリセルと同一のワード
線WLに接続される他の列のメモリセルに対しては、ワ
ード線WLが高電位になるが、ビット線BL,BLをと
もに低電位に保つことにより同様にメモリセルには動作
電流は流れない。On the other hand, for memory cells in other columns connected to the same word line WL as the selected memory cell, the word line WL is at a high potential, but both bit lines BL and BL are at a low potential. Similarly, no operating current flows through the memory cell.
【0030】このように、本実施例においても同様に、
ワード線WLの電位を高電位とし、さらにビット線BL
,BLの少なくとも一方の電位を高電位とするときだけ
メモリセルが選択され、ワード線WLに接続される他の
メモリセルに対してはビット線BL,BLの電位を共に
低電位とすることにより非動作状態とすることができる
。すなわち、読み出し動作時あるいは書き込み動作時に
、ビット線BL,BLをメモリセルの選択制御線として
利用することにより、メモリセルアレイ全体の消費電力
を抑えることができる。[0030] In this way, in this embodiment as well,
The potential of the word line WL is set to a high potential, and then the potential of the bit line BL is set to a high potential.
, BL is selected only when the potential of at least one of the bit lines BL and BL is set to a high potential, and for other memory cells connected to the word line WL, the potentials of both the bit lines BL and BL are set to a low potential. Can be inactive. That is, by using the bit lines BL and BL as memory cell selection control lines during a read operation or a write operation, the power consumption of the entire memory cell array can be suppressed.
【0031】なお、本実施例においても同様に、トラン
スファゲートを構成するnトランジスタT1,T2,T
3,T4をpトランジスタで構成することもできる。そ
の場合には、ビット線BL,BLの少なくとも一方の電
位とワード線WLの電位を共に低電位とするときだけメ
モリセルが選択され、同一のワード線WLに接続される
他のメモリセルに対しては対応するビット線を共に高電
位とすることにより非動作状態とすることができる。Note that in this embodiment as well, the n-transistors T1, T2, T
3. T4 can also be configured with a p-transistor. In that case, a memory cell is selected only when the potential of at least one of the bit lines BL, BL and the potential of the word line WL are both low potentials, and the memory cell is selected with respect to other memory cells connected to the same word line WL. In this case, the corresponding bit lines can be brought into a non-operating state by setting both the corresponding bit lines to a high potential.
【0032】図4は、請求項3に記載の発明の第二実施
例の構成を示す図である。図において、本実施例の構成
は、図3に示す第一実施例の構成に加えて、メモリセル
選択用の第1のトランスファゲートを構成するnトラン
ジスタT1,T2のゲート端子と低電位直流定電圧源V
ssとの間に、高抵抗器Z1,Z2を挿入接続する。し
たがって、nトランジスタT1,T2の待機時のゲート
電位を低電位に固定し、本メモリ回路の動作の安定性を
高めることができる。FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a second embodiment of the invention according to claim 3. In the figure, in addition to the configuration of the first embodiment shown in FIG. Voltage source V
High resistors Z1 and Z2 are inserted and connected between ss. Therefore, the gate potentials of the n-transistors T1 and T2 during standby can be fixed at a low potential, and the stability of the operation of the present memory circuit can be improved.
【0033】なお、高抵抗器Z1,Z2は、通常の抵抗
器に限らず、例えば逆方向接続のダイオードやMOSト
ランジスタその他を用いることもできる。本実施例の動
作は、第一実施例とまったく同様に説明される。また、
本実施例においても同様に、トランスファゲートを構成
するnトランジスタT1,T2,T3,T4をpトラン
ジスタで構成することもできる。なお、その場合には、
高抵抗器Z1,Z2に接続される電源は高電位直流定電
圧源Vddとなり、ビット線BL,BLの少なくとも一
方の電位とワード線WLの電位を共に低電位とするとき
だけメモリセルが選択され、同一のワード線WLに接続
される他のメモリセルに対しては対応するビット線を高
電位とすることにより非動作状態とすることができる。Note that the high resistors Z1 and Z2 are not limited to ordinary resistors, but may also be, for example, reversely connected diodes, MOS transistors, or the like. The operation of this embodiment will be explained in exactly the same way as the first embodiment. Also,
Similarly, in this embodiment, the n-transistors T1, T2, T3, and T4 constituting the transfer gate can also be configured with p-transistors. In that case,
The power supply connected to the high resistors Z1 and Z2 is a high potential DC constant voltage source Vdd, and a memory cell is selected only when the potential of at least one of the bit lines BL and BL and the potential of the word line WL are both low potentials. , other memory cells connected to the same word line WL can be brought into a non-operating state by setting the corresponding bit line to a high potential.
【0034】なお、本発明は1ポートセルのみならず、
2ポートセルその他のマルチポートセルに対しても適用
することができる。Note that the present invention is applicable not only to one-port cells but also to
It can also be applied to 2-port cells and other multi-port cells.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ワード線
によって駆動制御されるトランスファゲートと、ビット
線によって駆動制御されるトランスファゲートを用いる
ことにより、ワード線電位とビット線電位の両者によっ
てメモリセルの選択を行うことができる。したがって、
メモリセルアレイ中、電流を消費するメモリセルを唯1
つにすることができ、消費電力を大幅に低減することが
できる。As explained above, the present invention uses transfer gates driven and controlled by word lines and transfer gates driven and controlled by bit lines. Cell selection can be made. therefore,
In the memory cell array, there is only one memory cell that consumes current.
It is possible to significantly reduce power consumption.
【図1】請求項2に記載の発明の一実施例の構成を示す
図である。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the invention according to claim 2.
【図2】1本のワード線WLに接続されたメモリセル数
とメモリセルアレイ全体の消費電流の関係を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the number of memory cells connected to one word line WL and the current consumption of the entire memory cell array.
【図3】請求項3に記載の発明の第一実施例の構成を示
す図である。FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a first embodiment of the invention according to claim 3.
【図4】請求項3に記載の発明の第二実施例の構成を示
す図である。FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a second embodiment of the invention according to claim 3.
【図5】CMOSのフリップフロップ回路を用いた従来
のスタティック型メモリセルの構成例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of a conventional static memory cell using a CMOS flip-flop circuit.
【図6】メモリセルを行列状に配置したメモリセルアレ
イの全体構成例を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing an example of the overall configuration of a memory cell array in which memory cells are arranged in rows and columns.
Q1,Q3 pチャネルMOSトランジスタ(pトラ
ンジスタ)
Q2,Q4 nチャネルMOSトランジスタ(nトラ
ンジスタ)
T1,T2,T3,T4 nチャネルMOSトランジ
スタ(nトランジスタ)
Z1,Z2 高抵抗器
WL ワード線
BL,BL ビット線
MS メモリセル
61 ワード線駆動回路
62 ビット線制御回路Q1, Q3 p-channel MOS transistor (p transistor) Q2, Q4 n-channel MOS transistor (n transistor) T1, T2, T3, T4 n-channel MOS transistor (n transistor) Z1, Z2 High resistor WL Word line BL, BL Bit Line MS Memory cell 61 Word line drive circuit 62 Bit line control circuit
Claims (3)
ンスファゲートと、ビット線によって駆動制御されるト
ランスファゲートとを接続し、双方のトランスファゲー
トを介して選択されるフリップフロップ回路にビット線
が接続されたことを特徴とするメモリ回路。Claim 1: A transfer gate driven and controlled by a word line is connected to a transfer gate driven and controlled by a bit line, and the bit line is connected to a flip-flop circuit selected via both transfer gates. A memory circuit characterized by:
路と、ワード線によって前記フリップフロップ回路とビ
ット線との接続を制御する第1のトランスファゲートと
を備えたメモリ回路において、ゲート端子が相互に反対
側のビット線によって駆動制御され、前記第1のトラン
スファゲートにそれぞれ直列に接続される第2のトラン
スファゲートを備えたことを特徴とするメモリ回路。2. A memory circuit comprising a flip-flop circuit serving as a memory element and a first transfer gate controlling connection between the flip-flop circuit and a bit line by a word line, wherein the gate terminals are on opposite sides of each other. A memory circuit comprising second transfer gates each connected in series to the first transfer gate, each of which is driven and controlled by a bit line of the second transfer gate.
路と、前記フリップフロップ回路とビット線との接続を
制御する第1のトランスファゲートとを備えたメモリ回
路において、ワード線によって駆動制御される第2のト
ランスファゲートを備え、前記第1のトランスファゲー
トがこの第2のトランスファゲートを介して相互に反対
側のビット線によって駆動制御される構成であることを
特徴とするメモリ回路。3. In a memory circuit comprising a flip-flop circuit serving as a memory element and a first transfer gate controlling connection between the flip-flop circuit and a bit line, a second transfer gate whose drive is controlled by a word line is provided. 1. A memory circuit comprising a transfer gate, wherein the first transfer gate is driven and controlled by mutually opposite bit lines via the second transfer gate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3150697A JPH04372793A (en) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | Memory circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3150697A JPH04372793A (en) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | Memory circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04372793A true JPH04372793A (en) | 1992-12-25 |
Family
ID=15502455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3150697A Pending JPH04372793A (en) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | Memory circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04372793A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2510933A (en) * | 2013-02-13 | 2014-08-20 | Surecore Ltd | SRAM Cells |
-
1991
- 1991-06-21 JP JP3150697A patent/JPH04372793A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2510933A (en) * | 2013-02-13 | 2014-08-20 | Surecore Ltd | SRAM Cells |
GB2510828A (en) * | 2013-02-13 | 2014-08-20 | Surecore Ltd | Single wordline low-power SRAM cells |
GB2510828B (en) * | 2013-02-13 | 2015-06-03 | Surecore Ltd | Single wordline low-power SRAM cells |
CN104969295A (en) * | 2013-02-13 | 2015-10-07 | 苏尔格有限公司 | Sram cells |
EP2956942B1 (en) * | 2013-02-13 | 2017-03-01 | Surecore Limited | Sram cells |
US9627062B2 (en) | 2013-02-13 | 2017-04-18 | Surecore Limited | SRAM cells |
CN104969295B (en) * | 2013-02-13 | 2017-08-08 | 苏尔格有限公司 | Sram cell |
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