JPH0384976A - Excimer laser device - Google Patents
Excimer laser deviceInfo
- Publication number
- JPH0384976A JPH0384976A JP1220245A JP22024589A JPH0384976A JP H0384976 A JPH0384976 A JP H0384976A JP 1220245 A JP1220245 A JP 1220245A JP 22024589 A JP22024589 A JP 22024589A JP H0384976 A JPH0384976 A JP H0384976A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- output
- reflective surface
- reflector
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 7
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば、露光装置の露光光源に応用されて好
適な、出力断面におけるレーザ光束密度を平均化させる
機構を備えたエキシマレーザ装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an excimer laser device equipped with a mechanism for averaging laser beam density in an output cross section, which is suitable for application as an exposure light source of an exposure apparatus, for example. .
[従来の技術]
高解像度な露光装置に搭載される露光光源として期待さ
れて開発改良の進むエキシマレーザ装置では、しばしば
出力断面におけるレーザ光束密度分布のばらつき、すな
わち出力強度の偏在が問題とされる。露光光源としては
一般に、出力口径が十分に大きくかつ出力断面における
光束密度分布が均一であることが要求されるが、例えば
放電型エキシマレーザ装置においては、レーザ光軸およ
び放電と垂直な方向で出力密度が著しく中央に偏ること
が問題とされている。[Prior art] Excimer laser devices, which are expected to be used as exposure light sources installed in high-resolution exposure equipment and are being developed and improved, often have problems with variations in the laser beam density distribution in the output cross section, that is, uneven distribution of output intensity. . Exposure light sources are generally required to have a sufficiently large output aperture and a uniform luminous flux density distribution in the output cross section. The problem is that the density is significantly biased toward the center.
第4図は、一般的な放電型エキシマレーザ装置の概略な
構造を示す。主放電電極1.2で形成される励起領域を
通してレーザ光軸6方向に対向する出力側ミラー3と全
反射ミラー4とによりレーザ共振器が構成されている。FIG. 4 shows a schematic structure of a general discharge type excimer laser device. A laser resonator is constituted by an output side mirror 3 and a total reflection mirror 4 which face each other in the laser optical axis 6 direction through an excitation region formed by the main discharge electrode 1.2.
ここで、ハロゲンガスを含むレーザガス中で主放電電極
1.2の間に十数n5ecの高電圧パルスを印加してパ
ルス放電を発生し、毎回のパルス放電ごとに放電光をレ
ーザ共振器中でレーザ共振させ、その一部が出力側ミラ
ー3からレーザ光軸6の延長方向にレーザ出力光として
取出される。Here, a pulse discharge is generated by applying a high voltage pulse of more than ten n5ec between the main discharge electrodes 1.2 in a laser gas containing halogen gas, and discharge light is emitted into the laser resonator for each pulse discharge. The laser is caused to resonate, and a part of it is extracted from the output side mirror 3 in the extending direction of the laser optical axis 6 as laser output light.
第5図(b)は、このときのレーザ共振器断面における
レーザ発振光の強度分布を示す。また、第5図(a)は
、第4図(b)におけるXおよびY方向を説明するため
のものである。FIG. 5(b) shows the intensity distribution of the laser oscillation light in the cross section of the laser resonator at this time. Further, FIG. 5(a) is for explaining the X and Y directions in FIG. 4(b).
第5図(a)で対向する主放電電極1.2の方向をYl
これと直角な方向をXとし、紙面に垂直なレーザ光軸方
向をZとする。このときレーザ発振光の強度分布は第5
図(b)に示されるように、Y方向の幅広い中央部分で
−様な強度Iを有するものの、X方向ではレーザ光軸と
交差する部分できわめて狭い強度Iのピークを形成する
、ガウス分布曲線に似た強度分布を有している。従って
、出力側よラー3から取出されるレーザ出力光もこれを
反映して、Y方向に細長いピークを持つ、X方向に関し
てきわめて不均一な光束密度分布を有するものとなる。In FIG. 5(a), the direction of the main discharge electrodes 1.2 facing each other is Yl.
The direction perpendicular to this is designated as X, and the direction of the laser optical axis perpendicular to the plane of the paper is designated as Z. At this time, the intensity distribution of the laser oscillation light is
As shown in Figure (b), the Gaussian distribution curve has a −-like intensity I in the wide central part in the Y direction, but forms an extremely narrow peak of intensity I in the part that intersects with the laser optical axis in the X direction. It has an intensity distribution similar to . Therefore, the laser output light extracted from the output side mirror 3 also reflects this and has a very non-uniform luminous flux density distribution in the X direction, with an elongated peak in the Y direction.
一方、上述したように、いくつかの用途においては、十
分に大きな出力断面を持ちしかも光束密度分布が均一で
あることが要求されるから、例えば露光光源等の用途に
おいては、レーザ出力光の走査機構を設けて各パルス出
力毎のレーザ出力光照射位置を少しずつずらせる、また
はシリンドリカルなレンズを用いてX方向にレーザ出力
光を拡張させる等の照射領域拡大に係る工夫が試みられ
ている。On the other hand, as mentioned above, some applications require a sufficiently large output cross section and a uniform luminous flux density distribution. For example, in applications such as exposure light sources, scanning of laser output light is Attempts have been made to expand the irradiation area, such as providing a mechanism to gradually shift the irradiation position of the laser output light for each pulse output, or using a cylindrical lens to expand the laser output light in the X direction.
[発明が解決しようとする課題]
従来の放電型エキシマレーザ装置では、レーザ出力光が
その断面で細長く偏った強度分布となるため、そのまま
露光装置等に応用することは困難である。また、レーザ
出力光のピークをずらせるために設けた走査機構は装置
の光学系を複雑化して組立てや調整の阻害となり、レー
ザ出力光を拡弓長させるために設けたレンズ等はスペッ
クルパターンを発生する専断たな問題を発生させて結局
装置を複雑化することとなった。[Problems to be Solved by the Invention] In conventional discharge-type excimer laser devices, the laser output light has an elongated and biased intensity distribution in its cross section, so it is difficult to apply it as is to an exposure device or the like. Additionally, the scanning mechanism provided to shift the peak of the laser output light complicates the optical system of the device and hinders assembly and adjustment, and the lenses provided to widen the laser output light create a speckle pattern. This resulted in arbitrary problems occurring and ultimately made the device more complex.
本発明はこれらの問題点を鑑みてなされたもので、簡単
な機構によりレーザ出力光の断面における強度分布の偏
りを分散させて、エキシマレーザ装置の実用性を高める
ことを目的とする。The present invention has been made in view of these problems, and it is an object of the present invention to improve the practicality of an excimer laser device by dispersing the bias in the intensity distribution in the cross section of laser output light using a simple mechanism.
[課題を解決するための手段]
本発明の請求項(1)に係るエキシマレーザ装置は、放
電領域で発生した放電光をレーザ光軸の両端に配置され
た一対のミラー間で共振させてレーザ光軸に沿うレーザ
光束を形成するエキシマレーザ装置において、レーザ光
束を反射してレーザ光軸を折り曲げたものとするように
一方のよラーと放電領域との間に配置した互いに平行な
半透過反射面とその後方の反射面とを備え、半透過反射
面と反射面とにおけるレーザ光束の反射により放電領域
を貫くレーザ光束を平行に分散させるものである。[Means for Solving the Problems] An excimer laser device according to claim (1) of the present invention generates a laser beam by resonating discharge light generated in a discharge region between a pair of mirrors disposed at both ends of a laser optical axis. In an excimer laser device that forms a laser beam along the optical axis, a mutually parallel semi-transmissive reflector is placed between one mirror and the discharge area so that the laser beam is reflected and the laser optical axis is bent. The device includes a surface and a reflective surface behind the surface, and the laser beam penetrating the discharge region is dispersed in parallel by reflection of the laser beam by the semi-transparent reflective surface and the reflective surface.
次に、本発明の請求項(2)に係るエキシマレーザ装置
は、レーザ共振に係る一対のくラーの出力側ミラーから
レーザ出力光軸に沿うレーザ出力光束を取り出すエキシ
マレーザ装置において、レーザ出力光束を反射してレー
ザ出力光軸を折曲げたものとするように出力側よラーの
出射側に配置された互いに平行な出力半透過反射面とそ
の後方の出力反射面とを備え、出力半透過反射面と出力
反射面とにおける出力レーザ光束の反射によりレーザ出
力光束を平行に分散させるものである。Next, the excimer laser device according to claim (2) of the present invention is an excimer laser device that extracts a laser output beam along a laser output optical axis from a pair of mirrors on the output side of a pair of mirrors related to laser resonance. The output side mirror has a parallel output semi-transmissive reflecting surface arranged on the output side of the output side and an output reflecting surface behind it so as to bend the laser output optical axis by reflecting the output beam. The laser output beam is dispersed in parallel by reflection of the output laser beam on the reflecting surface and the output reflecting surface.
[作用コ
本発明の請求項(1)に係るエキシマレーザ装置におい
てレーザ発振に係る一対のミラーを貫くレーザ光軸は、
平行な半透過反射面と反射面とからなる反射器に斜め入
射して反射されることにより折曲げられる。すなわち、
放電領域を光学的にはさんで対向する一対のミラーから
なるレーザ共振器中に反射器が設けられていて、レーザ
共振に係るレーザ光束は、一対のミラー間を一往復する
過程で必ず1回この反射器C斜めに入射して反射される
とともに、平行に分散されて出力断面におけるその密度
分布を平均化する。反射器に斜め入射したレーザ光束は
、半透過反射面で一部分が反射され、一部分がこれを透
過する。透過したレーザ光束は後方の反射面で反射され
て半透過反射面の裏面に斜め入射するが、これを透過し
たレーザ光束は、先に半透過反射面で反射したレーザ光
束に対し、半透過反射面と反射面との間の距離や入射角
度等に応じた距離だけ平行移動した光路を進行する。ま
た、半透過反射面の裏面で反射されたレーザ光束は、再
度後方の反射面を往復することにより同様な平行移動を
生じる。これらの平行移動によりレーザ共振器中でのレ
ーザ光束の分散が行われて断面における高強度な部分の
面積が拡大するから、レーザ出力光の断面強度分布も平
均化されるのである。[Function] In the excimer laser device according to claim (1) of the present invention, the laser optical axis passing through the pair of mirrors related to laser oscillation is
The light is obliquely incident on a reflector consisting of a parallel transflective surface and a reflective surface, and is reflected and bent. That is,
A reflector is installed in a laser resonator consisting of a pair of mirrors facing each other with a discharge region optically sandwiched between them, and the laser beam associated with laser resonance always travels once in the process of going back and forth between the pair of mirrors. The light enters the reflector C obliquely and is reflected, and is also dispersed in parallel to average the density distribution in the output cross section. A portion of the laser beam obliquely incident on the reflector is reflected by the transflective surface, and a portion thereof is transmitted. The transmitted laser beam is reflected by the rear reflective surface and obliquely enters the back surface of the semi-transparent reflective surface. The light travels along an optical path that is translated by a distance depending on the distance between the surface and the reflecting surface, the angle of incidence, etc. Further, the laser beam reflected on the back surface of the semi-transmissive reflective surface causes a similar parallel movement by reciprocating on the rear reflective surface again. Due to these parallel movements, the laser beam in the laser resonator is dispersed and the area of the high-intensity portion in the cross section is expanded, so that the cross-sectional intensity distribution of the laser output light is also averaged.
次心、本発明の請求項(2)に係るエキシマレーザ装置
においては、レーザ共振器自体は従来と同様に構成され
ているから、レーザ共振器中のレーザ共振は従来と同様
に行われ、出力側ミラーからも従来と同様なレーザ出力
光がレーザ出力光軸に沿ったレーザ光束として取出され
る。すなわち、レーザ共振器断面におけるレーザ光束分
布は偏在し、出力側ミラーから出射したレーザ出力光は
これを反映した狭い面積の出力強度ピークを有している
。一方、出力半透過反射面と出力反射面とからなる出力
反射器がレーザ共振器の外側に設けられていて、出力側
ミラーから取出されたレーザ出力光束はこの出力反射器
に斜めに入射して反射されるとともに、平行に分散され
て出力断面におけるその密度分布を平均化する。出力反
射器に斜め入射したレーザ光束は、請求項(1)の反射
器の場合と同様な過程を経て平行に分散するから、レー
ザ出力光断面における高強度な部分の面積が拡大して強
度分布も平均化されるのである。Second, in the excimer laser device according to claim (2) of the present invention, since the laser resonator itself is configured in the same manner as before, the laser resonance in the laser resonator is performed in the same manner as before, and the output Laser output light similar to the conventional one is also extracted from the side mirrors as a laser beam along the laser output optical axis. That is, the laser beam distribution in the cross section of the laser resonator is unevenly distributed, and the laser output light emitted from the output side mirror has an output intensity peak in a narrow area reflecting this. On the other hand, an output reflector consisting of an output semi-transmissive reflective surface and an output reflective surface is provided outside the laser resonator, and the laser output beam extracted from the output side mirror enters this output reflector obliquely. It is reflected and distributed in parallel to average its density distribution in the output cross section. Since the laser beam obliquely incident on the output reflector is dispersed in parallel through the same process as in the case of the reflector according to claim (1), the area of the high-intensity portion in the cross section of the laser output beam is expanded and the intensity distribution is are also averaged.
[発明の実施例] 本発明の実施例を図面を参照して説明する。[Embodiments of the invention] Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は、本発明の第1実施例に係るエキシマレーザ装
置の概略な構成を示す。この第1本実施例は、レーザ共
振器中に反射器5を設けることによりレーザ共振に係る
レーザ光束の平行分散を行わせるもので、互いに直交す
る3木の軸をX軸、Y軸、Z軸とした場合に、X軸に平
行にかっZ軸をはさんで対向配置した一対の主成電電8
i1.2と、Z軸の一方の端定垂直に配置した出力側ミ
ラー3と、その反射面に立てた法線7とZ軸とのなす平
面がX軸とZ軸とのなす平面内にあるとともに法線7と
2軸とのなす角度が90度以下となるようにZ軸の他方
の端に配置した反射器5と、Z軸上を進むレーザ光の反
射器5による反射光の光軸6bに対して垂直に配置した
全反射ミラー4とからなり、反射器5は互いに平行な出
力側ミラー3に近い側の第1反射面と遠い側の第2反射
面とを持つとともに第1反射面の反射率が第2反射面の
反射率よりも小さいことを特徴とするエキシマレーザ装
置である。FIG. 1 shows a schematic configuration of an excimer laser device according to a first embodiment of the present invention. In this first embodiment, a reflector 5 is provided in the laser resonator to perform parallel dispersion of the laser beam related to laser resonance. When used as an axis, a pair of main power generators 8 are arranged parallel to the X axis and facing each other across the Z axis.
The plane formed by i1.2, the output side mirror 3 placed perpendicular to one end of the Z axis, the normal line 7 erected to its reflecting surface, and the Z axis is within the plane formed by the X axis and the Z axis. A reflector 5 is placed at the other end of the Z-axis so that the angle between the normal 7 and the two axes is 90 degrees or less, and the laser beam traveling on the Z-axis is reflected by the reflector 5. The reflector 5 includes a total reflection mirror 4 disposed perpendicularly to the axis 6b, and the reflector 5 has a first reflection surface on the side closer to the output side mirror 3 and a second reflection surface on the far side, which are parallel to each other. The excimer laser device is characterized in that the reflectance of the reflective surface is smaller than the reflectance of the second reflective surface.
第1実施例において、レーザ共振器を形成する主放電電
極1.2と出力側ミラー3と全反射ミラー4とは、第4
図の従来例のものと同じ構成と機能とを有するが、全反
射ミラー4は、反射器5を介して光学的に出力側ミラー
3と対向する構成である。また、反射器5は、1枚の合
成石英板の両面に金属と誘電体の積層薄膜を形成して上
述の反射率を与えたものである。In the first embodiment, the main discharge electrode 1.2, the output side mirror 3, and the total reflection mirror 4 forming the laser resonator are the fourth
Although it has the same configuration and function as the conventional example shown in the figure, the total reflection mirror 4 is configured to optically face the output side mirror 3 via a reflector 5. Further, the reflector 5 has the above-mentioned reflectance by forming laminated thin films of metal and dielectric on both sides of a single synthetic quartz plate.
第1実施例のエキシマレーザ装置においても主放電電極
1.2の間では、Y方向でこそ比較的広い幅で均一なレ
ーザ増幅を示すものの、X方向では著しく中央に偏った
狭い部分で強いレーザ増幅が行われ、その外側では増幅
度が急減する。しかし、中央部分で強いレーザ増幅が行
われたレーザ光束は、反射器5で反射するたびにX方向
に平行に分散するのでレーザ共振器断面における光束密
度分布の偏りが緩和され、出力側ミラー3から取出され
るレーザ出力光断面の強度分布もより好ましいものとな
る。In the excimer laser device of the first embodiment, even though the laser amplification is relatively wide and uniform in the Y direction between the main discharge electrodes 1.2, in the Amplification occurs, and the degree of amplification decreases rapidly outside the amplification. However, the laser beam that has been strongly amplified at the center is dispersed in parallel to the X direction every time it is reflected by the reflector 5, so the bias in the beam density distribution in the cross section of the laser resonator is alleviated, and the output side mirror 3 The intensity distribution of the cross section of the laser output light extracted from the laser beam also becomes more preferable.
第2図は、第1実施例の反射器5におけるレーザ光束の
分散を説明するためのものである。ここで、反射器5は
、第1反射面5aと第2反射面5bとを有し、第1反射
面5aを透過したレーザ光束は、第1反射面5aの裏面
と第2反射面5bとの間で反射を繰返しながら各矢印の
方向に分散される。FIG. 2 is for explaining the dispersion of the laser beam in the reflector 5 of the first embodiment. Here, the reflector 5 has a first reflective surface 5a and a second reflective surface 5b, and the laser beam transmitted through the first reflective surface 5a is transmitted to the back surface of the first reflective surface 5a and the second reflective surface 5b. It is dispersed in the direction of each arrow while repeating reflection between the two.
第1実施例において、反射器5の法M7とZ@とがつく
る角度は、45度付近が実装上好ましいが、第1反射面
5aと第2反射面5bそれぞれの反射率や要求されるレ
ーザ出力光の分散幅に応じて選択する必要がある。また
、反射器5は反射面を形成した1枚の合成石英板とした
が、平行な反射面を有する2枚以上の適当な透明板で構
成しても良い。さらに、反射器5は、出力側ミラー3と
主放電電極1.2との間に配置して、ここでレーザ光軸
6a、6bを折曲げる構成としても同様なレーザ光束の
分散が行われる。In the first embodiment, the angle formed by the modulus M7 and Z@ of the reflector 5 is preferably around 45 degrees from the viewpoint of implementation, but the angle may vary depending on the reflectivity of the first reflecting surface 5a and the second reflecting surface 5b and the required laser beam. It is necessary to select it according to the dispersion width of the output light. Further, although the reflector 5 is made of one synthetic quartz plate having a reflective surface, it may be composed of two or more suitable transparent plates having parallel reflective surfaces. Furthermore, the reflector 5 may be disposed between the output side mirror 3 and the main discharge electrode 1.2, and the laser beam axes 6a, 6b may be bent here to achieve similar dispersion of the laser beam.
第3図は、第1実施例のエキシマレーザ装置のレーザ共
振器断面におけるレーザ発振光の強度分布を示す。反射
器5によりレーザ光束はX方向に分散されるので、従来
同様なY方向の強度分布を保ったまま、X方向における
ピーク幅が拡大されている。FIG. 3 shows the intensity distribution of laser oscillation light in the cross section of the laser resonator of the excimer laser device of the first embodiment. Since the laser beam is dispersed in the X direction by the reflector 5, the peak width in the X direction is expanded while maintaining the same intensity distribution in the Y direction as in the conventional case.
次に、レーザ共振器の外側に第1実施例と同様な反用器
を設けた第2実施例を説明する。第2実施例は、出力側
ミラーから取出されたレーザ出力光束を反射器により反
射するとともに平行に分散させてレーザ出力断面におけ
る出力のピーク幅を拡大させるもので、互いに直交する
3木の軸をX軸、Y軸、Z軸として、X軸に平行にかっ
Z軸をはさんで対向配置した一対の主放電電極と、Z軸
の一方の端に垂直に配置した出力側くラーと、z軸の他
方の端に垂直に配置した全反射ミラーと、その反射面に
立てた法線とZ軸とのなす平面がX軸とZ@どのなす平
面内にあるとともにこの法線とZ軸とのなす角度が90
度以下となるように出力側ミラーの外に配置された反射
器とからなり、反射器は互いに平行な出力側ミラーに近
い側の第1反射面と遠い側の第2反射面とを持つととも
に′s1反射面の反射率が第2反射面の反射率よりも小
さいことを特徴とするエキシマレーザ装置である。Next, a second embodiment will be described in which a repulser similar to the first embodiment is provided outside the laser resonator. In the second embodiment, the laser output beam taken out from the output side mirror is reflected by a reflector and dispersed in parallel to expand the output peak width in the laser output cross section. The X, Y, and Z axes include a pair of main discharge electrodes arranged parallel to the A total reflection mirror placed perpendicularly to the other end of the axis, and the plane formed by the normal to the reflection surface and the Z-axis are within the plane formed by the X-axis and Z@, and this normal and the Z-axis The angle formed is 90
The reflector has a first reflecting surface on the side nearer to the output side mirror and a second reflecting surface on the far side, which are parallel to each other. This excimer laser device is characterized in that the reflectance of the 's1 reflecting surface is smaller than the reflectance of the second reflecting surface.
第2実施例では反射器に入射するレーザ光は一方通行と
なるので、レーザ共振とともにこれが両側通行となる第
1実施例の場合のような左右対象な(主放電電極対向方
向を対象軸とする)レーザ光束の分散は行われない。し
かし、第1反射面と第2反射面それぞれの反射率および
反射器の設置角度(反射器の法線とZ軸とのなす角度)
を選択して第1実施例と同様に、必要な幅の強度のピー
クを持ったレーザ出力光を得られる。In the second embodiment, the laser light incident on the reflector is unidirectional, so it is symmetrical (the axis of symmetry is the direction facing the main discharge electrodes) as in the first embodiment, where the laser beam passes in both directions along with the laser resonance. ) No dispersion of the laser beam takes place. However, the reflectance of each of the first reflecting surface and the second reflecting surface and the installation angle of the reflector (the angle between the normal line of the reflector and the Z axis)
By selecting , it is possible to obtain a laser output light having an intensity peak with a required width, as in the first embodiment.
[発明の効果]
本発明の請求項(1)に係るエキシマレーザ装置では、
レーザ発振に係るレーザ光束を平行に分散させてレーザ
共振器断面におけるレーザ光束密度分布の偏りを緩和す
る。これにより、レーザ出力光の断面強度分布も平均化
される。[Effect of the invention] In the excimer laser device according to claim (1) of the present invention,
The laser beam related to laser oscillation is dispersed in parallel to alleviate the bias in the laser beam density distribution in the cross section of the laser resonator. Thereby, the cross-sectional intensity distribution of the laser output light is also averaged.
次に、本発明の請求項(2)に係るエキシマレーザ装置
では、レーザ共振器から取出されたレーザ光束を平行に
分散させてレーザ出力光断面(おけるレーザ光束密度分
布の偏りを緩和してレーザ出力光の断面強度分布を平均
化する。Next, in the excimer laser device according to claim (2) of the present invention, the laser beam extracted from the laser resonator is dispersed in parallel to alleviate the bias in the laser beam density distribution in the laser output beam cross section ( Averages the cross-sectional intensity distribution of the output light.
すなわち、本発明のエキシマレーザ装置では従来の構成
部品の多くをそのまま共用して、従来よりも強度のピー
ク幅の広いレーザ出力光が得られる。従って、従来必要
とされた走査機構等の照射領域拡大に係る機構が不要、
または大幅に簡略化することが可能となる。また、レー
ザ光束の分散に係る2重の反射面は、信頼性の高いもの
が比較的容易に製作または入手でき、実装も比較的容易
であるからエキシマレーザ装置を含むシステム全体の構
造が簡略化される。That is, in the excimer laser device of the present invention, many of the conventional components can be used as they are, and laser output light with a wider peak intensity width than the conventional device can be obtained. Therefore, there is no need for mechanisms related to expanding the irradiation area, such as scanning mechanisms that were previously required.
Or it can be significantly simplified. In addition, highly reliable double reflective surfaces for dispersing the laser beam can be manufactured or obtained relatively easily, and implementation is also relatively easy, which simplifies the structure of the entire system including the excimer laser device. be done.
第1図は、本発明の第1実施例に係るエキシマレーザ装
置の概略な構成を示す模式図である。
第2図は、本発明の第1実施例の反射器5におけるレー
ザ光束の分散を説明するための模式図である。
第3図は、本発明の第1実施例のエキシマレーザ装置の
レーザ共振器断面におけるレーザ光束密度分布を示す線
図である。
第4図は、従来例のエキシマレーザ装置の概略な構成を
示す模式図である。
第5図(a)は、従来例のエキシマレーザ装置における
空間座標の配置を説明するための模式図であり、第5図
(b)は、従来例のエキシマレーザ装置のレーザ共振器
断面におけるレーザ光束密度分布を示す線図である。
[主要部分の符号の説明コ
1.2・・・主放電電極 3・・・出力側ミラー4・
・・全反射ミラー 5・・・反射器6a、6b・・
・レーザ光軸FIG. 1 is a schematic diagram showing the general configuration of an excimer laser device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the dispersion of the laser beam in the reflector 5 of the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram showing the laser beam density distribution in the cross section of the laser resonator of the excimer laser device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a schematic diagram showing the general configuration of a conventional excimer laser device. FIG. 5(a) is a schematic diagram for explaining the arrangement of spatial coordinates in a conventional excimer laser device, and FIG. 5(b) is a schematic diagram for explaining the arrangement of spatial coordinates in a conventional excimer laser device. FIG. 3 is a diagram showing a luminous flux density distribution. [Explanation of symbols of main parts 1.2... Main discharge electrode 3... Output side mirror 4.
...Total reflection mirror 5...Reflectors 6a, 6b...
・Laser optical axis
Claims (2)
配置された一対のミラー間で共振させて、前記レーザ光
軸に沿うレーザ光束を形成するエキシマレーザ装置にお
いて、 前記レーザ光束を反射して前記レーザ光軸を折り曲げた
ものとするように、一方の前記ミラーと前記放電領域と
の間に配置された、互いに平行な半透過反射面とその後
方の反射面とを備え、前記半透過反射面と前記反射面と
における前記レーザ光束の反射により、放電領域を貫く
前記レーザ光束を平行に分散させることを特徴とするエ
キシマレーザ装置。(1) In an excimer laser device that causes discharge light generated in a discharge region to resonate between a pair of mirrors disposed at both ends of a laser optical axis to form a laser beam along the laser optical axis, the laser beam is reflected. and a semi-transmissive reflective surface arranged parallel to one another and a reflective surface behind the semi-transparent reflective surface disposed between one of the mirrors and the discharge area so that the laser optical axis is bent. An excimer laser device characterized in that the laser beam passing through a discharge region is dispersed in parallel by reflection of the laser beam on a transmissive reflective surface and the reflective surface.
らレーザ出力光軸に沿うレーザ出力光束を取出すエキシ
マレーザ装置において、 前記レーザ出力光束を反射して前記レーザ出力光軸を折
曲げたものとするように、前記出力側ミラーの出射側に
配置された、互いに平行な出力半透過反射面とその後方
の出力反射面とを備え、前記出力半透過反射面と前記出
力反射面とにおける前記出力レーザ光束の反射により、
前記レーザ出力光束を平行に分散させることを特徴とす
るエキシマレーザ装置。(2) In an excimer laser device that extracts a laser output beam along a laser output optical axis from an output side mirror of a pair of mirrors related to laser resonance, the laser output optical axis is bent by reflecting the laser output beam. The output side mirror includes an output semi-transmissive reflective surface and an output reflective surface behind the parallel output side disposed on the output side of the output side mirror, and the output at the output semi-transmissive reflective surface and the output reflective surface is Due to the reflection of the laser beam,
An excimer laser device characterized in that the laser output beam is dispersed in parallel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1220245A JPH0384976A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Excimer laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1220245A JPH0384976A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Excimer laser device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0384976A true JPH0384976A (en) | 1991-04-10 |
Family
ID=16748168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1220245A Pending JPH0384976A (en) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | Excimer laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0384976A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996020520A1 (en) * | 1994-12-24 | 1996-07-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Laser resonators |
WO1996034440A1 (en) * | 1995-04-26 | 1996-10-31 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Process and device for forming and guiding the radiation field of one or several gas lasers |
-
1989
- 1989-08-29 JP JP1220245A patent/JPH0384976A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996020520A1 (en) * | 1994-12-24 | 1996-07-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Laser resonators |
WO1996034440A1 (en) * | 1995-04-26 | 1996-10-31 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Process and device for forming and guiding the radiation field of one or several gas lasers |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0458576B1 (en) | Laser apparatus | |
US5245618A (en) | Laser beam generating apparatus | |
US5125001A (en) | Solid laser device | |
US4292602A (en) | Laser resonator | |
JPH0384976A (en) | Excimer laser device | |
US3435371A (en) | Laser mode selection apparatus | |
US4941147A (en) | Ring resonators with intracavity grazing incidence telescopes | |
US20040247001A1 (en) | Laser configuration with resonator internal frequency conversion | |
US3366892A (en) | Solid state laser mode selection means | |
US3482186A (en) | Laser oscillator with single transverse mode output | |
CN115513759B (en) | Laser device | |
JPH0795614B2 (en) | Double frequency laser | |
JPH05283773A (en) | Laser oscillation device | |
JP2733768B2 (en) | Laser equipment | |
JP2550693B2 (en) | Solid-state laser device | |
JP3031740B2 (en) | Harmonic generator | |
KR100812582B1 (en) | Aperture stop assembly for high power laser beams | |
JPH065962A (en) | Laser light generator | |
JPH0366185A (en) | Slab type laser oscillator | |
JPS62132384A (en) | Open type resonator for laser | |
JPH01173680A (en) | Excimer laser apparatus | |
JPH02150084A (en) | Laser device | |
JPH06334244A (en) | Excimer laser oscillator | |
GB1590621A (en) | Laser | |
JPH11274609A (en) | Gas laser device |