JPH037962Y2 - - Google Patents

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JPH037962Y2
JPH037962Y2 JP1985056826U JP5682685U JPH037962Y2 JP H037962 Y2 JPH037962 Y2 JP H037962Y2 JP 1985056826 U JP1985056826 U JP 1985056826U JP 5682685 U JP5682685 U JP 5682685U JP H037962 Y2 JPH037962 Y2 JP H037962Y2
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JP
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bit line
line
transfer gate
transistors
memory device
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、ビツト線からデータバスへの情報の
転送速度を早めることによつてアクセスタイムを
短縮したMIS形半導体記憶装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an MIS type semiconductor memory device that shortens access time by increasing the transfer speed of information from a bit line to a data bus.

〔技術の背景〕 一般に、MIS形半導体記憶装置においては、マ
トリクス状に配設されたメモリセルのうち行デコ
ーダによつて選択されたメモリセルが対応するビ
ツト線に接続され、かつ該ビツト線を列デコーダ
によつて制御されるトランスフアゲートを介して
データ線に接続し、該データ線から読み出しデー
タを取り出す。したがつて、該トランスフアゲー
トがオフからオンの状態になる場合の立上がり速
度等該トランスフアゲートの性能がアクセスタイ
ムに影響を与える。
[Technical background] Generally, in a MIS type semiconductor memory device, a memory cell selected by a row decoder among memory cells arranged in a matrix is connected to a corresponding bit line, and the memory cell selected by a row decoder is connected to a corresponding bit line. It is connected to a data line through a transfer gate controlled by a column decoder, and read data is taken out from the data line. Therefore, the performance of the transfer gate, such as the rise speed when the transfer gate changes from off to on, affects the access time.

〔従来技術および考案が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the prior art and the invention]

従来MIS形半導体記憶装置においては、ビツト
線とデータ線との間に設けられたトランスフアゲ
ートとして該記憶装置の他の回路部分と同じしき
い値を有するエンハンスメント形トランジスタを
使用していた。そのため、前記従来形において
は、トランスフアゲートを構成するトランジスタ
のしきい値が高く、したがつて該トランジスタの
ゲートソース間電圧が充分大きくならなければ該
トランジスタが導通せず、したがつて列デコーダ
から印加される列選択信号がかなり高レベルにな
るまで該トランジスタが導通しなかつた。そのた
め、ビツト線からデータ線への情報の転送速度が
遅くなり、したがつて半導体記憶装置のアクセス
タイムが長くなるという不都合があつた。
In a conventional MIS type semiconductor memory device, an enhancement type transistor having the same threshold voltage as other circuit parts of the memory device has been used as a transfer gate provided between a bit line and a data line. Therefore, in the conventional type, the threshold voltage of the transistor constituting the transfer gate is high, and therefore, unless the gate-source voltage of the transistor is sufficiently large, the transistor will not conduct. The transistor did not conduct until the applied column select signal was at a fairly high level. As a result, the transfer speed of information from the bit line to the data line becomes slow, resulting in an inconvenience that the access time of the semiconductor memory device becomes long.

本考案の目的は、前述の従来形における問題点
に鑑み、MIS形半導体記憶装置において、ビツト
線とデータ線との間に設けられたトランスフアゲ
ートをしきい値の低いエンハンスメント形トラン
ジスタを用いて構成するという構想に基づき、ビ
ツト線からデータ線への情報の転送速度を速く
し、記憶装置のアクセスタイムを短縮することに
ある。
The purpose of the present invention is to construct a transfer gate provided between a bit line and a data line in an MIS type semiconductor memory device using an enhancement type transistor with a low threshold value, in view of the problems with the conventional type mentioned above. Based on this idea, the aim is to increase the speed of information transfer from the bit line to the data line and shorten the access time of the storage device.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そしてこの目的は、本考案によれば、複数のビ
ツト線、複数のワード線、該ビツト線と該ワード
線との交点に配置されたフリツプフロツプ形のメ
モリセル、データバス線、および各該ビツト線と
該データバス線との間にそれぞれ接続されたトラ
ンスフアゲート用トランジスタを具備し、該トラ
ンスフアゲート用トランジスタをオンとすること
によつて該メモリセルからの情報信号を該ビツト
線を介して該データバス線に読み出すMIS形半導
体記憶装置において、該トランスフアゲート用ト
ランジスタを該記憶装置内の他の回路部分に使用
されるエンハンスメント形トランジスタより低い
しきい値を有するMIS形トランジスタで構成した
ことを特徴とするMIS形半導体記憶装置を提供す
ることによつて達成される。
And this purpose, according to the present invention, includes a plurality of bit lines, a plurality of word lines, flip-flop type memory cells arranged at the intersections of the bit lines and the word lines, a data bus line, and each of the bit lines. and the data bus line, and by turning on the transfer gate transistors, the information signal from the memory cell is transferred to the data via the bit line. An MIS type semiconductor memory device that reads data onto a bus line, characterized in that the transfer gate transistor is configured with an MIS type transistor having a lower threshold voltage than enhancement type transistors used in other circuit parts in the memory device. This is achieved by providing a MIS type semiconductor memory device that performs the following steps.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を用いて本考案の実施例を説明す
る。第1図は、本考案の1実施例に係るMIS形半
導体記憶装置の構成を部分的に示す。同図におい
て、BL,は1対のビツト線であり、該ビツト
線BLおよびはそれぞれ負荷トランジスタQ1
およびQ2を介して電源VCCに接線されている。ト
ランジスタQ3ないしQ6および抵抗R1およびR2
いわゆるフリツプフロツプ形のメモリセルを構成
し、トランジスタQ3およびQ4は該メモリセルと
ビツト線対BL,と接続するゲート回路を構成
している。該トランジスタQ3およびQ4はワード
WLに接続され、ワード線WLは行デコーダRDに
接続されている。また、ビツト線BLおよびは
それぞれトランスフアゲートを構成するトランジ
スタQ7およびQ8を介してデータ線対を構成する
各データ線DBおよびに接線されている。ト
ランジスタQ7およびQ8のゲートは共に列デコー
ダCDに接線されている。またトランジスタQ7
よびQ8のゲーートソース間電圧のしきい値は、
該半導体記憶装置の他の回路部分に用いられてい
るエンハンスメント形トランジスタのしきい値よ
り低くなつている。すなわち、一般に第1図に示
すような半導体記憶装置に使用されているエンハ
ンスメント形トランジスタのしきい値電圧は例え
ば0.7ないし0.9Vであるが、第1図の回路におけ
るトランジスタQ7およびQ8のしきい値はこの値
より低くまた0以上の値に設定されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 partially shows the configuration of an MIS type semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. In the figure, BL, is a pair of bit lines, and the bit lines BL and BL are connected to the load transistor Q 1 , respectively.
and is tangential to the power supply V CC through Q 2 . Transistors Q 3 to Q 6 and resistors R 1 and R 2 constitute a so-called flip-flop type memory cell, and transistors Q 3 and Q 4 constitute a gate circuit connecting the memory cell and the bit line pair BL. . The transistors Q 3 and Q 4 are word
WL, and word line WL is connected to row decoder RD. Further, the bit line BL is tangentially connected to each data line DB forming a data line pair via transistors Q7 and Q8 forming a transfer gate, respectively. The gates of transistors Q7 and Q8 are both tangential to the column decoder CD. Also, the gate-source voltage threshold of transistors Q7 and Q8 is
It is lower than the threshold voltage of enhancement mode transistors used in other circuit parts of the semiconductor memory device. That is, although the threshold voltage of an enhancement type transistor generally used in a semiconductor memory device as shown in FIG. 1 is, for example, 0.7 to 0.9V , The threshold value is set to a value lower than this value and greater than or equal to 0.

第1図の回路の動作を説明する。あるメモリセ
ルから情報を読み出す場合は対応する行デコーダ
RDによつてワード線WLを高レベルにしてメモ
リセルからの信号をトランジスタQ3およびQ4
介してビツト線BLおよびに取り出すととも
に、列デコーダCDによつてトランスフアゲート
を構成するトランジスタQ7およびQ8を導通させ
メモリセルからの情報をビツト線BLおよびか
らデータ線DBおよびに取り出し、図示しな
いセンスアンプを介して出力する。
The operation of the circuit shown in FIG. 1 will be explained. When reading information from a certain memory cell, the corresponding row decoder
The word line WL is set to high level by RD, and the signal from the memory cell is taken out to the bit lines BL and BL through transistors Q3 and Q4 , and the column decoder CD outputs the signals from transistors Q7 and composing the transfer gate. Q8 is made conductive and information from the memory cell is taken out from the bit line BL and data line DB and output via a sense amplifier (not shown).

この場合、例えば第2図aに示すように、従来
形においてはトランジスタQ7およびQ8のしきい
値が大きいので、行デコーダRDによつてメモリ
セルの電圧がビツト線BLおよびに取り出され
てビツト線BLおよびの電圧が交差した時点か
ら該ビツト線の電圧変化がデータ線DBおよび
DBに転送されてデータ線DBおよびの電圧が
交差する時点までの時間td1がかなり長くなる。
すなわち、列デコーダCDの出力電圧Yが上昇し
てビツト線BLの電圧との差がトランジスタQ7
よびQ8のゲートソース間電圧のしきい値を越え
た時に初めてトランジスタQ7およびQ8が導通し、
ビツト線の電圧がデータ線に転送されるが、トラ
ンジスタQ7およびQ8のゲートソース間電圧のし
きい値が大きいために列デコーダCDの出力電圧
とビツト線BLの電圧との差がかなり大きくなる
までトランジスタQ7およびQ8が導通しない。そ
のため、列デコーダCDの出力電圧Yが立上りは
じめてからかなりの時間を経過したのちに初めて
トランジスタQ7およびQ8が導通するためアクセ
スタイムがかなり長くなる。
In this case, as shown in FIG. 2a, for example, in the conventional type, the threshold voltages of transistors Q7 and Q8 are large, so the voltage of the memory cell is taken out by the row decoder RD to the bit lines BL and From the point at which the voltages on the bit lines BL and BL cross, the voltage change on the bit lines changes to the data lines DB and DB.
The time td 1 from when data is transferred to DB until the voltages of data lines DB and DB intersect is quite long.
That is, only when the output voltage Y of the column decoder CD rises and the difference with the voltage of the bit line BL exceeds the gate-source voltage threshold of transistors Q7 and Q8 , transistors Q7 and Q8 become conductive. death,
The voltage on the bit line is transferred to the data line, but because the gate-source voltage thresholds of transistors Q7 and Q8 are large, the difference between the output voltage of the column decoder CD and the voltage on the bit line BL is quite large. Transistors Q 7 and Q 8 do not conduct until Therefore, transistors Q 7 and Q 8 become conductive only after a considerable amount of time has elapsed since the output voltage Y of the column decoder CD began to rise, resulting in a considerably long access time.

これに対して本考案の実施例に係る半導体記憶
装置においては、トランジスタQ7およびQ8のし
きい値電圧を低くしてあるので、第2図bに示す
ように、列デコーダCDの出力電圧Yが立上り始
めてから短時間で該電圧Yとビツト線BLの電圧
との差がトランジスタQ7,Q8のしきい値電圧よ
り大きくなり、該トランジスタQ7,Q8が速やか
に導通を開始する。したがつて、ビツト線BLお
よびの電圧変化は急速にデータ線DBおよび
DBに転送され、ビツト線電圧の交点からデータ
線電圧の交点に至る時間td2が非常に小さくなる。
また、トランジスタQ7およびQ8のしきい値電圧
を小さくすることにより、同じゲートソース間電
圧の場合に従来形に比しトランジスタのgmを大
きくすることができるため、ビツト線からデータ
線への情報の転送速度をさらに速くすることがで
きる。なお、上述においてはMISスタチイツク形
ランダムアクセスメモリの例について説明した
が、本考案はこれに限らずビツト線とデータバス
との間にトランスフアゲート用のトランジスタを
具備するすべての記憶装置に適用できることは明
らかである。
On the other hand, in the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention, the threshold voltages of the transistors Q7 and Q8 are set low, so that the output voltage of the column decoder CD is reduced as shown in FIG. 2b. Within a short time after Y starts rising, the difference between the voltage Y and the voltage on the bit line BL becomes larger than the threshold voltage of the transistors Q 7 and Q 8 , and the transistors Q 7 and Q 8 immediately start conducting. . Therefore, the voltage change on bit line BL and data line DB and
The time td 2 from the bit line voltage intersection to the data line voltage intersection becomes very small.
In addition, by reducing the threshold voltages of transistors Q7 and Q8 , the gm of the transistor can be increased compared to the conventional type for the same gate-source voltage. Information transfer speed can be further increased. Although the above description has been given of an example of a MIS static random access memory, the present invention is not limited to this and can be applied to any memory device that includes a transfer gate transistor between a bit line and a data bus. it is obvious.

〔考案の効果〕[Effect of idea]

このように、本考案によれば、回路構成を全く
変更することなくビツト線からデータバスへの情
報の転送速度を上昇させることができ、半導体記
憶装置のアクセスタイムを短縮することができ
る。
As described above, according to the present invention, the transfer speed of information from the bit line to the data bus can be increased without changing the circuit configuration at all, and the access time of the semiconductor memory device can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本考案の1実施例に係るMIS形半導体
記憶装置の構成を示す部分的ブロツク回路図、第
2図aおよび第2図bはそれぞれ従来形および本
考案の実施例に係る半導体記憶装置の動作を説明
するための波形図である。 BL,……ビツト線、WL……ワード線、
DB,……データバス、Q1,Q2……負荷トラ
ンジスタ、Q3,Q4,Q5,Q6……メモリセル用ト
ランジスタ、Q7,Q8……トランスフアゲート用
トランジスタ、R1,R2……負荷抵抗、RD……行
デコーダ、CD……列デコーダ。
FIG. 1 is a partial block circuit diagram showing the configuration of an MIS type semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2a and 2b are semiconductor memories according to a conventional type and an embodiment of the present invention, respectively. FIG. 3 is a waveform diagram for explaining the operation of the device. BL,...Bit line, WL...Word line,
DB,...Data bus, Q1 , Q2 ...Load transistor, Q3 , Q4 , Q5 , Q6 ...Memory cell transistor, Q7 , Q8 ...Transfer gate transistor, R1 , R2 ...Load resistance, RD...Row decoder, CD...Column decoder.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 複数のビツト線、複数のワード線、該ビツト線
と該ワード線との交点に配設されたフリツプフロ
ツプ形のメモリセル、データバス線、および各該
ビツト線と該データバス線との間にそれぞれ接続
されたトランスフアゲート用トランジスタを具備
し、該トランスフアゲート用トランジスタをオン
とすることによつて該メモリセルからの情報信号
を該ビツト線を介して該データバス線に読み出す
MIS形半導体記憶装置において、該トランスフア
ゲート用トランジスタを該記憶装置内の他の回路
部分に使用されるエンハンスメント形トランジス
タより低いしきい値を有するMIS形トランジスタ
で構成したことを特徴とするMIS形半導体記憶装
置。
A plurality of bit lines, a plurality of word lines, a flip-flop type memory cell disposed at the intersection of the bit line and the word line, a data bus line, and a plurality of memory cells arranged between each bit line and the data bus line. A connected transfer gate transistor is provided, and by turning on the transfer gate transistor, an information signal from the memory cell is read out to the data bus line via the bit line.
An MIS type semiconductor memory device, characterized in that the transfer gate transistor is composed of an MIS type transistor having a lower threshold voltage than enhancement type transistors used in other circuit parts in the memory device. Storage device.
JP1985056826U 1985-04-18 1985-04-18 MIS type semiconductor memory device Granted JPS60181053U (en)

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JPS60181053U JPS60181053U (en) 1985-12-02
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