JPH0370698B2 - - Google Patents

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JPH0370698B2
JPH0370698B2 JP4118483A JP4118483A JPH0370698B2 JP H0370698 B2 JPH0370698 B2 JP H0370698B2 JP 4118483 A JP4118483 A JP 4118483A JP 4118483 A JP4118483 A JP 4118483A JP H0370698 B2 JPH0370698 B2 JP H0370698B2
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JP
Japan
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group
compound
acid
phenylcarbamoyl
general formula
Prior art date
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Expired
Application number
JP4118483A
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Japanese (ja)
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JPS59167564A (en
Inventor
Shoei Eda
Mikio Hori
Sanji Yasumoto
Naosuke Matsura
Ichiro Yamawaki
Shuichi Ueda
Yukio Tada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taiho Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Priority to AU25164/84A priority patent/AU548706B2/en
Priority to FR8403523A priority patent/FR2542312B1/en
Priority to ES530752A priority patent/ES8600737A1/en
Priority to IT67225/84A priority patent/IT1178872B/en
Priority to DE3408708A priority patent/DE3408708C2/en
Priority to CA000449311A priority patent/CA1307278C/en
Priority to CH1194/84A priority patent/CH659066A5/en
Priority to KR1019840001211A priority patent/KR910002892B1/en
Priority to NL8400785A priority patent/NL190844C/en
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Publication of JPH0370698B2 publication Critical patent/JPH0370698B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は新規なスルホニウム化合物に関する。 本発明のスルホニウム化合物は、下記一般式
()で表わされる。 (式中R1及びR2は同一又は相異なつて低級アル
キル基を、R3は水素原子、水酸基、低級アルコ
キシ基、低級アシルオキシ基、カルボキシエチル
カルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、アル
コキシカルボニルオキシ基又はフエノキシカルボ
ニルオキシ基を、R4は水素原子、水酸基、低級
アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、フエノ
キシ基、低級アシルオキシ基又はベンゾイルオキ
シ基を、nは1〜3の整数を、またYは酸残基を
それぞれ示す。) 上記一般式()中、R1及びR2で表わされる
低級アルキル基としては炭素数1〜6のアルキル
基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等を例示できる。 一般式()中、R3及びR4で表わされる低級
アルコキシ基としては炭素数1〜6のアルコキシ
基、例えばメトキシ、エトキシ、プロピルオキ
シ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、ヘキシロキ
シ基等を、またR3及びR4で表わされる低級アシ
ルオキシ基としては炭素数2〜6のアシルオキシ
基、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキ
シ、ブチリルオキシ、ピバロイルオキシ、カブロ
イルオキシ基等を、R3で表わされるアルコキシ
カルボニルオキシ基としては炭素数2〜5のアル
コキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカル
ボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロ
ピルオキシカルボニルオキシ、ブトキシカルボニ
ルオキシ基、イソブトキシカルボニルオキシ、t
−ブトキシカルボニルオキシ基等を、またR4
表わされるシクロアルキルオキシ基としては、例
えばシクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキ
シ、シクロヘプチルオキシ基等をそれぞれ例示す
ることができる。 一般式()中、Yで表わされる酸残基として
は、医薬品として使用できるものであれば良く、
具体的には次の無機酸残基及び有機酸残基を例示
できる。 無機酸残基……塩化水素、沃化水素、臭化水
素、四弗化硼素酸、過塩素酸、リン酸等の酸残
基。 有機酸残基……メタンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、カンフアースルホン酸、1,5−ナフ
タレンジスルホン酸等の有機スルホン酸残基及び
乳酸、マレイン酸、マロン酸等のカルボン酸残
基。 本発明の上記一般式()で表わされるスルホ
ニウム化合物は、抗アレルギー作用等を有し、医
薬品として有用である。 以下本発明化合物の製造法につき説明する。本
発明化合物は、例えば下記各種の方法により製造
できる。 〔製造法A〕 一般式 (式中R1,R3,R4及びnは前記と同一の意味を
示す。) で表わされるスルフアイド化合物と一般式 R2Y ……() (式中R2及びYは前記と同一の意味を示す。) で表をされる化合物とを反応させる。 本反応は溶媒中或いは無溶媒で、−30〜150℃、
好ましくは0〜100℃下、反応時間約0.5〜72時間
で行なわれる。化合物R2Yはスルフアイド化合物
()に対し、過剰量使用しても良いが好ましく
は論理量の約1〜4倍モル量使用するのが良い。
溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノ
ール等のアルコール類、アセトニトリル、ニトロ
メタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キサイド等の極性溶媒、メチレンクロライド、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチ
ルエーテル、プロピルエーテル等のエーテル類、
その他のアセトン、石油エーテル、酢酸エチル、
水、及びこれら溶媒の混合溶媒を使用できる。反
応は必要に応じて密封容器中で行なうことができ
る。 原料として用いられる一般式()で表わされ
るスルフアイド化合物は、例えば一般式 R1S(CH2)nCO−hal ……() (式中R1及びnは前記と同一の意味を示し、hal
はハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物と、
一般式 (式中R3及びR4は前記と同一の意味を示す。) で表わされる化合物とを、好ましくは塩基性化合
物、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属、これらの水素化物、これらの水酸化物又はこ
れらの炭酸塩或いはピリジン、モルホリン、ピペ
リジン、ピペラジン、トリエチルアミン等の存在
下、無溶媒又は適当な溶媒中0〜200℃程度の温
度下に反応させることにより合成される。該一般
式()のスルフアイド化合物の合成の詳細は、
後記参考例において記述する。 〔製造法B〕 一般式 (式中R1,R2,R3,R4及びnは前記と同一の意
味を示し、Xはハロゲン原子を示す。)で表わさ
れるスルホニウムハライドと、一般式 ZY1 ……() (式中Zは銀原子又はアルカル金属原子及びY1
はXで示されるハロゲン原子以外の酸残基を示
す。) で表わされる化合物とを反応させる。 本方法は、一般式()で表わされるスルホニ
ウムハライド(本発明の一般式()で表わされ
る化合物中Yがハロゲン化水素酸残基を示すも
の)の塩交換反応を利用するものであり、該原料
化合物は上記製造法Aに従い製造される。該スル
ホニウムハライド()は、反応系より単離する
ことなく、反応混合物の形態でも本反応に有利に
使用できる。勿論反応系より単離精製して用いる
こともできる。 一般式()で表わされる化合物としては、本
発明の一般式()中Yに対応する酸残基を提供
し得る各酸の銀塩又はアルカリ金属塩を使用でき
る。上記酸としては例えば塩化水素、臭化水素、
ヨウ化水素、過塩素酸、四弗化硼素酸等の無機酸
及びマレイン酸、マロン酸、乳酸、カンフアース
ルホン酸、メタンスルホン酸、トシル酸、ピクリ
ルスルホン酸、1,5−ナフタレンジスルホン酸
等の有機酸を例示できる。またアルカリ金属とし
ては例えばナトリウム、カリウム、リチウム等を
例示できる。 本塩交換反応は溶媒中、約−30〜150℃、好ま
しくは約0〜100℃で行われる。一般式()で
表わされる化合物はスルホニウムハライド()
に対し、好ましくは論理量の約1〜4倍量で使用
される。溶媒としては前記製造法Aの反応に使用
されると同一の各種の溶媒をいずれも使用でき
る。 〔製造法C〕 本方法も塩交換反応を利用するものであり、上
記一般式()で表わされるスルホニウムハライ
ドに、酸化銀と一般式 HY1 ……() (式中Y1は前記と同一の意味を示す。)で表わさ
れる化合物とを反応させる。 原料として用いられるスルホニウムハライド
は、製造法Bで示したものと同一であり、また
HY1で表わされる化合物は、本発明の一般式
()で表わされる化合物Yで示される酸残基を
提供し得る遊離形態の有機酸もしくは無機酸であ
る。その具体例は、上記製造法Bに示す通りであ
る。 本反応において酸化銀は、原料とするスルホニ
ウムハライド()に対して通常等モル以上、好
ましくは約1〜4倍モルの割合で用い得る。また
HY1で表わされる酸の使用割合は、原料とする
スルホニウムハライド()に対して等モル以
上、好ましくは約1〜4倍モル比とするのがよ
い。本反応は、通常溶媒中、約−30〜150℃、好
ましくは約0〜100℃で行なわれる。溶媒として
は前記製造法Aのそれと同一でよい。 上記製造法A〜Cに従い得られる本発明のスル
ホニウム化合物は、反応終了後通常の分離方法に
従つて単離できる。該分離方法としては、例えば
再結晶法、抽出法、濃縮法、カラムクロマトグラ
フイー等を採用できる。 本発明化合物は、抗アレルギー作用を有するほ
かにも生体の免疫能を亢進する作用;制癌作用;
免疫調節作用;消炎鎮痛作用;肝機能改善作用;
抗自己免疫作用;感染防御作用;副作用として免
疫抑制作用を有する例えばステロイド剤、制癌剤
等の有効成分化合物のこれら副作用防止作用;免
疫療法の補助作用;血小板凝集阻止作用;生物成
長調節作用等を有し、医薬品、農薬として有用で
ある。 本発明化合物は、これを医薬として用いるに当
つては、治療目的に応じて各種の投与形態を採用
可能である。該形態としては例えば、経口剤、注
射剤、直腸坐剤、吸入剤等のいずれも良く、之等
投与形態は、夫々当業者に公知慣用の製剤方法に
より製造できる。経口用固型製剤を調製する場合
は、本発明化合物に賦形剤、必要に応じて結合
剤、崩解剤、滑沢剤、着色剤、矯味剤、矯臭剤等
を加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤、顆粒
剤、散剤、カプセル剤等を製造することができ
る。経口液状製剤を調製する場合には、本発明化
合物に矯味剤、緩衝剤、安定化剤、矯臭剤等を加
えて常法により、内服液剤、シロツプ剤等を製造
することができる。注射剤を調製する場合は、本
発明化合物にPH調整剤、緩衝剤、安定化剤、等張
化剤、局所麻酔剤等を添加し、常法により、皮
下、筋肉内、静脈内用注射剤を製造することがで
きる。直腸坐剤を調製する場合には、本発明化合
物に賦形剤、更に必要に応じて界面活性剤等を加
えた後、常法により坐剤を製造することができ
る。吸入剤を調製する場合には、本発明化合物に
賦形剤、噴射剤等を必要に応じて添加し、常法に
より吸入剤を製造することができる。 上記の各投与単位形態中に配合されるべき本発
明化合物の量はこれを適用すべき患者の症状によ
り或いはその剤型等により一定でないが、一般に
投与単位形態当り経口剤では約5〜1000mg、注射
剤では約0.1〜500mg、坐剤では約5〜1000mg、吸
入剤では約1〜500mgとするのが望ましい。又、
上記投与形態を有する薬剤の1日当りの投与量も
症状等に応じ一概に決定できないが、通常約0.1
〜5000mgとするのが好ましい。 次に本発明を更に説明するため、参考例並びに
実施例を示す。 参考例 1 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロポ
キシ)フエニルカルバモイルメチルメチルスル
フアイドの合成 ジメチルホルムアミド4mlに、トリエチルアミ
ン2.00g及び4−(3−エトキシ−2−ハイドロ
キシプロポキシ)アニリン2.11gを溶解する。こ
れに氷冷下メチルメルカプトアセチルクロライド
1.25gを加える。室温で12時間撹拌後、反応液を
濃縮し、残渣をクロロホルム抽出する。クロロホ
ルム層を水洗した後、濃縮する。残渣をカラムク
ロマトグラフイー(シリカゲル、エタノール:ク
ロロホルム=1:5)にて精製し、4−(3−エ
トキシ−2−ハイドロキシプロポキシ)フエニル
カルバモイルメチルスルフアイド2.85g(収率
95.3%)を得る。 NMR(DMSO−d6、δ値、ppm) 1.15(3H、O2CH3BECH2O−)、2.19(3H、
CH3S−) 3.33(2H、−SCH2−)、 3.9−4.3(3H、
The present invention relates to novel sulfonium compounds. The sulfonium compound of the present invention is represented by the following general formula (). (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and represent a lower alkyl group, and R 3 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower acyloxy group, a carboxyethylcarbonyloxy group, a benzoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or phenoxycarbonyloxy group, R4 is a hydrogen atom, hydroxyl group, lower alkoxy group, cycloalkyloxy group, phenoxy group, lower acyloxy group, or benzoyloxy group, n is an integer of 1 to 3, and Y is an acid In the above general formula (), the lower alkyl group represented by R 1 and R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t Examples include -butyl, pentyl, hexyl, and the like. In the general formula (), the lower alkoxy group represented by R 3 and R 4 includes an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, hexyloxy group, etc. The lower acyloxy group represented by R 4 is an acyloxy group having 2 to 6 carbon atoms, such as acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, pivaloyloxy, cabroyloxy group, etc., and the alkoxycarbonyloxy group represented by R 3 is an acyloxy group having a carbon number of 2 to 6 carbon atoms. 2 to 5 alkoxycarbonyloxy groups, such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, propyloxycarbonyloxy, butoxycarbonyloxy, isobutoxycarbonyloxy, t
Examples of the -butoxycarbonyloxy group and the cycloalkyloxy group represented by R4 include cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, and cycloheptyloxy groups. In the general formula (), the acid residue represented by Y may be any one that can be used as a pharmaceutical;
Specifically, the following inorganic acid residues and organic acid residues can be exemplified. Inorganic acid residues: acid residues such as hydrogen chloride, hydrogen iodide, hydrogen bromide, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, phosphoric acid, etc. Organic acid residues: organic sulfonic acid residues such as methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, and 1,5-naphthalenedisulfonic acid, and carboxylic acid residues such as lactic acid, maleic acid, and malonic acid. The sulfonium compound of the present invention represented by the above general formula () has antiallergic effects and is useful as a pharmaceutical. The method for producing the compound of the present invention will be explained below. The compounds of the present invention can be produced, for example, by the following various methods. [Manufacturing method A] General formula (In the formula, R 1 , R 3 , R 4 and n have the same meanings as above.) A sulfide compound represented by the general formula R 2 Y ... () (In the formula, R 2 and Y have the same meanings as above) ) to react with the compounds shown in the table. This reaction is carried out in a solvent or without a solvent at -30 to 150°C.
The reaction is preferably carried out at a temperature of 0 to 100°C for a reaction time of about 0.5 to 72 hours. Compound R 2 Y may be used in an excess amount relative to the sulfide compound (), but preferably in an amount of about 1 to 4 times the theoretical amount.
Examples of solvents include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; polar solvents such as acetonitrile, nitromethane, dimethylformamide, and dimethyl sulfoxide; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; benzene;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ethers such as ethyl ether and propyl ether,
Other acetone, petroleum ether, ethyl acetate,
Water and mixed solvents of these solvents can be used. The reaction can be carried out in a sealed container if necessary. The sulfide compound represented by the general formula () used as a raw material is, for example, the general formula R 1 S (CH 2 ) nCO-hal ... () (wherein R 1 and n have the same meanings as above, hal
indicates a halogen atom. ) and a compound represented by
general formula (In the formula, R 3 and R 4 have the same meanings as above.) The compound represented by is preferably a basic compound, such as an alkali metal such as sodium or potassium, a hydride thereof, or a hydroxide thereof. Alternatively, it can be synthesized by reaction in the presence of these carbonates or pyridine, morpholine, piperidine, piperazine, triethylamine, etc., at a temperature of about 0 to 200° C. without a solvent or in a suitable solvent. Details of the synthesis of the sulfide compound of the general formula () are as follows:
This will be described in the reference example below. [Manufacturing method B] General formula (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and n have the same meanings as above, and X represents a halogen atom.) and the general formula ZY 1 ... () (Formula Z in the middle is a silver atom or an alkali metal atom and Y 1
represents an acid residue other than the halogen atom represented by X. ) is reacted with the compound represented by This method utilizes a salt exchange reaction of a sulfonium halide represented by the general formula () (in the compound represented by the general formula () of the present invention, Y represents a hydrohalic acid residue), and The raw material compound is produced according to Production Method A above. The sulfonium halide (2) can be advantageously used in the present reaction in the form of a reaction mixture without being isolated from the reaction system. Of course, it can also be used after being isolated and purified from the reaction system. As the compound represented by the general formula (), silver salts or alkali metal salts of acids capable of providing the acid residue corresponding to Y in the general formula () of the present invention can be used. Examples of the above acids include hydrogen chloride, hydrogen bromide,
Inorganic acids such as hydrogen iodide, perchloric acid, tetrafluoroboric acid, maleic acid, malonic acid, lactic acid, camphorsulfonic acid, methanesulfonic acid, tosylic acid, picrylsulfonic acid, 1,5-naphthalenedisulfonic acid For example, organic acids such as Examples of the alkali metals include sodium, potassium, and lithium. This salt exchange reaction is carried out in a solvent at about -30 to 150°C, preferably about 0 to 100°C. The compound represented by the general formula () is a sulfonium halide ()
However, it is preferably used in an amount of about 1 to 4 times the logical amount. As the solvent, any of the same various solvents used in the reaction of production method A above can be used. [Production method C] This method also utilizes a salt exchange reaction, in which the sulfonium halide represented by the above general formula () is combined with silver oxide and the general formula HY 1 ... () (wherein Y 1 is the same as above) ) is reacted with the compound represented by The sulfonium halide used as a raw material is the same as that shown in production method B, and
The compound represented by HY 1 is an organic or inorganic acid in a free form that can provide an acid residue represented by compound Y represented by the general formula () of the present invention. A specific example thereof is as shown in the manufacturing method B above. In this reaction, silver oxide can be used in a molar ratio of usually at least equimolar, preferably about 1 to 4 times, relative to the sulfonium halide () used as a raw material. Also
The proportion of the acid represented by HY 1 to be used is preferably at least equimolar, preferably about 1 to 4 times the molar ratio of the sulfonium halide () used as the raw material. This reaction is usually carried out in a solvent at about -30 to 150°C, preferably about 0 to 100°C. The solvent may be the same as that used in Production Method A above. The sulfonium compound of the present invention obtained according to the above production methods A to C can be isolated according to a conventional separation method after the reaction is completed. As the separation method, for example, a recrystallization method, an extraction method, a concentration method, a column chromatography, etc. can be adopted. The compound of the present invention not only has an anti-allergic effect, but also has an effect of enhancing the immune function of the living body; an anti-cancer effect;
Immunomodulatory effect; anti-inflammatory analgesic effect; liver function improvement effect;
Anti-autoimmune effect; infection prevention effect; side effect prevention of active ingredient compounds such as steroids and anticancer drugs that have immunosuppressive effects as side effects; auxiliary effect for immunotherapy; platelet aggregation inhibiting effect; biological growth regulating effect, etc. It is useful as a medicine and agrochemical. When the compound of the present invention is used as a medicine, various dosage forms can be adopted depending on the therapeutic purpose. Examples of such forms include oral preparations, injection preparations, rectal suppositories, and inhalation preparations, and these dosage forms can be manufactured by conventional formulation methods known to those skilled in the art. When preparing a solid preparation for oral use, after adding an excipient, if necessary, a binder, a disintegrant, a lubricant, a coloring agent, a flavoring agent, a flavoring agent, etc. to the compound of the present invention, Tablets, coated tablets, granules, powders, capsules, etc. can be produced by this method. When preparing oral liquid preparations, oral liquid preparations, syrups, etc. can be prepared by adding flavoring agents, buffering agents, stabilizers, flavoring agents, etc. to the compound of the present invention and using conventional methods. When preparing an injection, add a PH adjusting agent, a buffer, a stabilizer, a tonicity agent, a local anesthetic, etc. to the compound of the present invention, and prepare a subcutaneous, intramuscular, or intravenous injection using a conventional method. can be manufactured. When preparing rectal suppositories, the suppositories can be manufactured by a conventional method after adding an excipient and, if necessary, a surfactant and the like to the compound of the present invention. When preparing an inhalant, an excipient, a propellant, etc. may be added to the compound of the present invention as necessary, and the inhalant can be manufactured by a conventional method. The amount of the compound of the present invention to be incorporated into each of the above dosage unit forms varies depending on the symptoms of the patient to whom it is applied or the dosage form, but generally it is about 5 to 1000 mg per dosage unit form for oral preparations. Desirably, the amount is about 0.1 to 500 mg for injections, about 5 to 1000 mg for suppositories, and about 1 to 500 mg for inhalers. or,
The daily dosage of the drug having the above dosage form cannot be determined unconditionally depending on the symptoms, etc., but it is usually about 0.1
It is preferable to set it as 5000 mg. Next, in order to further explain the present invention, reference examples and examples will be shown. Reference Example 1 Synthesis of 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoylmethylmethyl sulfide 2.00 g of triethylamine and 2.11 g of 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)aniline were added to 4 ml of dimethylformamide. dissolve. Add methyl mercaptoacetyl chloride to this under ice cooling.
Add 1.25g. After stirring at room temperature for 12 hours, the reaction solution was concentrated and the residue was extracted with chloroform. After washing the chloroform layer with water, it is concentrated. The residue was purified by column chromatography (silica gel, ethanol:chloroform = 1:5) to obtain 2.85 g of 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoylmethylsulfide (yield
95.3%). NMR (DMSO−d 6 , δ value, ppm) 1.15 (3H, O 2 CH 3 BECH 2 O−), 2.19 (3H,
CH 3 S−) 3.33 (2H, −SCH 2 −), 3.9−4.3 (3H,

【式】、 6.89、7.46(4H、【formula】, 6.89, 7.46 (4H,

【式】、 8.30(1H、CONH) 参考例 2 2−{4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルメチ
ルスルフアイドの合成 ジメチルホルムアミド4mlにトリエチルアミン
1.46g及び4−(3−エトキシ−2−ハイドロキ
シプロポキシ)アニリン1.52gを溶解する。これ
に氷冷下3−メチルメルカプトプロピオニルクロ
ライド1.10gを加える。室温で12時間撹拌後、反
応液を濃縮し、残渣をクロロホルム抽出する。ク
ロロホルム層を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄後、濃縮する。残渣に
エーテルを加え、析出した結晶を取して、2−
{4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイル}エチルメチルスルフ
アイド1.52g(収率67.4%)を得る。mp79−81
℃ 実施例 1 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロポ
キシ)フエニルカルバモイルメチルジメチルス
ルホニウム p−トルエンスルホネート(化合
物1)の合成 4−(3−エトキシ−2−ハイドロキシプロポ
キシ)フエニルカルバモイルメチルスルフアイド
2.99gをメチレンクロライド20mlに溶解後、これ
にp−トルエンスルホン酸メチル5.50gを加え
て、室温で24時間撹拌する。反応液にエーテルを
加えて不溶部を取し、メチレンクロライド−エ
ーテルより再結晶して、4−(3−エトキシ−2
−ハイドロキシプロポキシ)フエニルカルバモイ
ルメチルジメチルスルホニウムp−トルエンスル
ホネート(化合物1)4.75g(収率97.7%)を得
る。 mp139−141℃ 実施例 2 実施例1と同様の操作により後記表1に示す化
合物8、12、16、27、28、32および34を合成し
た。 実施例 3 4−(2−アセトキシ−3−エトキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイルメチルジメチルスル
ホニウム p−トルエンスルホネート(化合物
2)の合成 4−(2−アセトキシ−3−エトキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイルメチルスルフアイド
3.41gにp−トルエンスルホン酸メチル7gを加
え、室温で8時間撹拌する。反応液にエーテルを
加え、不溶部を取し、エタノールエーテルより
再結晶して、4−(2−アセトキシ−3−エトキ
シプロポキシ)フエニルカルバモイルメチルジメ
チルスルホニウム p−トルエンスルホネート
(化合物2)5.10g(収率96.6%)を得る。 mp100−105℃ 実施例 4 実施例3と同様の操作により後記表1に示す化
合物5、6、17、18、19、21、22、25、26、29お
よび33を合成した。 実施例 5 2−{4−(2,3−ジハイドロキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイル}エチルジメチルス
ルホニウム アイオダイド(化合物3)の合成 2−{4−(2,3−ジハイドロキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイル}エチルメチルスルフ
アイド2.85gをジメチルホルムアミド5mlに溶解
する。これにメチルアイオダイド5.00gを加え、
室温で12時間撹拌する。反応液にエーテルを加
え、不溶部を取し、メタノール−エーテルより
再結晶して、2−{4−(2,3−ジハイドロキシ
プロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジメ
チルスルホニウム アイオダイド(化合物3)
4.05g(収率94.8%)を得る。 mp113−115℃ 実施例 6 実施例5と同様の操作により、後記表1に示す
化合物9、13、35および37を合成した。 実施例 7 2−{4−(2,3−ジハイドロキシプロポキ
シ)フエニルカルバモイル}エチルジメチルス
ルホニウム p−トルエンスルホネート(化合
物4)の合成 実施例5で合成した2−{4−(2,3−ジハイ
ドロキシプロポキシ)フエニルカルバモイル}エ
チルジメチルスルホニウム アイオダイド2.85g
をアセトニトリル20mlに溶解し、p−トルエンス
ルホン酸銀2.79gを加え、室温で1時間撹拌す
る。反応液を過し、液に硫化水素及び活性炭
を加えて過する。液を濃縮し、残渣をメチレ
ンクロライド−エーテルで精製し、2−{4−
(2,3−ジハイドロキシプロポキシ)フエニル
カルバモイル}エチルジメチルスルホニウムp−
トルエンスルホネート(化合物4)4.11g(収率
96.3%)を得る。 実施例 8 実施例7と同様の操作により後記表1に示す化
合物10、36および38を合成した。 実施例 9 2−{4−(3−ブトキシ−2−ハイドロキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル)エチルジメ
チルスルホニウムp−トルエンスルホネート
(化合物14)の合成 実施例6で合成した2−{4−(3−ブトキシ−
2−ハイドロキシプロポキシ)フエニルカルバモ
イル}エチルジメチルスルホニウム アイオダイ
ド4.83gをメタノール20mlに溶解し、これに酸化
銀2.31gを加えて、室温で1時間撹拌後過す
る。液に、メタノール5mlにp−トルエンスル
ホン酸3.44gを溶解した液を加えた後、濃縮す
る。残渣をアセトニトリル−エーテルで精製し、
2−{4−(3−ブトキシ−2−ハイドロキシプロ
ポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジメチル
スルホニウムp−トルエンスルネート(化合物
14)5.10g(収率96.6%)を得る。 実施例 10 2−{4−(2−ハイドロキシ−3−プロポキシ
プロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジ
メチルスルホニウム ピクリルスルホネート
(化合物11)の合成 実施例6で合成した2−{4(2−ハイドロキシ
−3−プロポキシプロポキシ)フエニルカルバモ
イル}エチルジメチルスルホニウム アイオダイ
ド4.69gを水5mlに溶解し、これにピクリルスル
ホン酸ナトリウム6gを水10mlに溶解した液を加
え、析出する結晶を取して、2−{4−(2−ハ
イドロキシ−3−プロポキシプロポキシ)フエニ
ルカルバモイル}エチルジメチルスルホニウム
ピクリルスルホネート(化合部11)6.11g(収率
96.2%)を得る。 mp117−119℃ 実施例 11 2−{4−(3−ブトキシ−2−ハイドロキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジメ
チルスルホニウム ピクリルスルホネート(化
合物15)の合成 実施例9で合成した2−{4−(3−ブトキシ−
2−ハイドロキシプロポキシ)フエニルカルバモ
イル}エチルジメチルスルホニウム p−トルエ
ンスルホネート5.28gを水5mlに溶解し、ピクリ
ルスルホン酸ナトリウム9gを水10mlに溶解した
液を加える。析出する結晶を取し、エタノール
より再結晶して、2−{4−(3−ブトキシ−2−
ハイドロキシプロポキシ)フエニルカルバモイ
ル}エチルジメチルスルホニウム ピクリルスル
ホネート(化合物15)6.50g(収率93.5%)を得
る。 mp106−108℃ 実施例 12 2−{4−(2−ハイドロキシ−3−メトキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジメ
チルスルホニウムp−トルエンスルホネート
(化合物7)の合成 2−{4−(2−ハイドロキシ−3−メトキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルメチル
スルフアイド2.99gのメチレンクロライド30ml溶
液にメチルアイオダイド4.00g、次いでp−トル
エンスルホン酸銀2.79gを加えて、室温で12時間
撹拌する。反応液を過し、液に硫化水素及び
活性炭を加えて過する。液を濃縮し、エタノ
ール−エーテルより再結晶して、2−{4−(2−
ハイドロキシ−3−メトキシプロポキシ)フエニ
ルカルバモイル}エチルジメチルスルホニウム
p−トルエンスルホネート(化合物7)4.71g
(収率96.9%)を得る。 mp144−146℃ 実施例 13 実施例12と同様にして後記表1に示す化合物
20、23、30、31、33及び39を合成した。 実施例 14 2−{3−(2−フエノキシカルボニルオキシ−
3−エトキシプロポキシ)フエニルカルバモイ
ル}エチルジメチルスルホニウム p−トルエ
ンスルホネート(化合物24)の合成 2−{3−(2−フエノキシカルボニルオキシ−
3−エトキシプロポキシ)フエニルカルバモイ
ル}エチルメチルスルフアイド4.34gをアセトニ
トリル10mlに溶解し、これにプロピルアイオダイ
ド5.00g、次いでp−トルエンスルホン酸銀2.79
gを加えて、室温で12時間撹拌する。反応液を
過後、実施例12と同様に処理して、2−{3−(2
−フエノキシカルボニルオキシ−3−エトキシプ
ロポキシ)フエニルカルバモイル}エチルジメチ
ルスルホニウム p−トルエンスルホネート(化
合物24)6.05g(収率93.4%)を得た。 上記各実施例で得られた化合物(化合物1〜
39)の構造と共に、各例における収率(%)並び
に各化合物のmp(℃)、元素分析値及び核磁気共
鳴スペクトル(NMR)分析結果(δ値、ppm)
を下記表1に示す。尚表1中元素分析値における
( )を付して示した数値は計算値(%)を、ま
た( )を付さないで示した数値は実測値(%)
を示すものとする。またNMRはDMSO−d6中、
TMSを内部標準物質として測定した値である。
[Formula], 8.30 (1H, CONH) Reference Example 2 Synthesis of 2-{4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethylmethylsulfide Add triethylamine to 4 ml of dimethylformamide
1.46 g and 1.52 g of 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)aniline are dissolved. Add 1.10 g of 3-methylmercaptopropionyl chloride to this under ice cooling. After stirring at room temperature for 12 hours, the reaction solution was concentrated and the residue was extracted with chloroform. The chloroform layer is washed with 1N hydrochloric acid, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and then water, and then concentrated. Ether was added to the residue, the precipitated crystals were collected, and 2-
1.52 g (yield 67.4%) of {4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethylmethylsulfide is obtained. mp79−81
°C Example 1 Synthesis of 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoylmethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 1) 4-(3-ethoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoylmethylsulfonate Eyed
After dissolving 2.99 g in 20 ml of methylene chloride, 5.50 g of methyl p-toluenesulfonate was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. Ether was added to the reaction solution to remove the insoluble portion, which was recrystallized from methylene chloride-ether to give 4-(3-ethoxy-2
-Hydroxypropoxy)phenylcarbamoylmethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (Compound 1) 4.75g (yield 97.7%) is obtained. mp139-141°C Example 2 Compounds 8, 12, 16, 27, 28, 32 and 34 shown in Table 1 below were synthesized in the same manner as in Example 1. Example 3 Synthesis of 4-(2-acetoxy-3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoylmethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 2) 4-(2-acetoxy-3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoylmethylsulfide
Add 7 g of methyl p-toluenesulfonate to 3.41 g and stir at room temperature for 8 hours. Ether was added to the reaction solution, the insoluble portion was removed, and recrystallized from ethanol ether to give 5.10 g of 4-(2-acetoxy-3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoylmethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (Compound 2) ( Yield: 96.6%). mp100-105°C Example 4 Compounds 5, 6, 17, 18, 19, 21, 22, 25, 26, 29 and 33 shown in Table 1 below were synthesized by the same operation as in Example 3. Example 5 Synthesis of 2-{4-(2,3-dihydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium iodide (compound 3) 2-{4-(2,3-dihydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyl Dissolve 2.85 g of methyl sulfide in 5 ml of dimethylformamide. Add 5.00g of methyl iodide to this,
Stir at room temperature for 12 hours. Add ether to the reaction solution, remove the insoluble part, recrystallize from methanol-ether, and obtain 2-{4-(2,3-dihydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium iodide (compound 3).
Obtain 4.05 g (94.8% yield). mp113-115°C Example 6 Compounds 9, 13, 35 and 37 shown in Table 1 below were synthesized by the same operation as in Example 5. Example 7 Synthesis of 2-{4-(2,3-dihydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 4) 2-{4-(2,3- Dihydroxypropoxy) phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium iodide 2.85g
was dissolved in 20 ml of acetonitrile, 2.79 g of silver p-toluenesulfonate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution is filtered, and hydrogen sulfide and activated carbon are added to the solution. The liquid was concentrated, the residue was purified with methylene chloride-ether, and 2-{4-
(2,3-dihydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-
Toluenesulfonate (compound 4) 4.11g (yield
96.3%). Example 8 Compounds 10, 36 and 38 shown in Table 1 below were synthesized in the same manner as in Example 7. Example 9 Synthesis of 2-{4-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl)ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 14) 2-{4-(3-butoxy) synthesized in Example 6 −
4.83 g of 2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium iodide is dissolved in 20 ml of methanol, 2.31 g of silver oxide is added thereto, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour and then filtered. A solution of 3.44 g of p-toluenesulfonic acid in 5 ml of methanol is added to the solution, and then concentrated. The residue was purified with acetonitrile-ether,
2-{4-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound
14) Obtain 5.10g (yield 96.6%). Example 10 Synthesis of 2-{4-(2-hydroxy-3-propoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium picrylsulfonate (compound 11) 2-{4(2-hydroxy-3) synthesized in Example 6 -Propoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium 4.69 g of iodide is dissolved in 5 ml of water, a solution of 6 g of sodium picrylsulfonate dissolved in 10 ml of water is added thereto, the precipitated crystals are collected, and 2-{ 4-(2-hydroxy-3-propoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium
Picryl sulfonate (compound part 11) 6.11g (yield
96.2%). mp117-119℃ Example 11 Synthesis of 2-{4-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium picrylsulfonate (compound 15) 2-{4-( 3-butoxy-
Dissolve 5.28 g of 2-hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate in 5 ml of water, and add a solution of 9 g of sodium picrylsulfonate in 10 ml of water. The precipitated crystals were collected and recrystallized from ethanol to give 2-{4-(3-butoxy-2-
6.50 g (yield 93.5%) of hydroxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium picrylsulfonate (compound 15) is obtained. mp106-108℃ Example 12 Synthesis of 2-{4-(2-hydroxy-3-methoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 7) 2-{4-(2-hydroxy-3 -Methoxypropoxy)phenylcarbamoyl}To a solution of 2.99 g of ethyl methyl sulfide in 30 ml of methylene chloride, 4.00 g of methyl iodide and then 2.79 g of silver p-toluenesulfonate are added, and the mixture is stirred at room temperature for 12 hours. The reaction solution is filtered, and hydrogen sulfide and activated carbon are added to the solution. The liquid was concentrated and recrystallized from ethanol-ether to give 2-{4-(2-
Hydroxy-3-methoxypropoxy) phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium
p-Toluenesulfonate (compound 7) 4.71g
(yield 96.9%). mp144-146℃ Example 13 Compounds shown in Table 1 below in the same manner as Example 12
20, 23, 30, 31, 33 and 39 were synthesized. Example 14 2-{3-(2-phenoxycarbonyloxy-
Synthesis of 3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (compound 24) 2-{3-(2-phenoxycarbonyloxy-
Dissolve 4.34 g of 3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethylmethylsulfide in 10 ml of acetonitrile, add 5.00 g of propyl iodide, and then add 2.79 g of silver p-toluenesulfonate.
g and stirred at room temperature for 12 hours. After the reaction solution was filtered, it was treated in the same manner as in Example 12 to give 2-{3-(2
-Phenoxycarbonyloxy-3-ethoxypropoxy)phenylcarbamoyl}ethyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate (Compound 24) 6.05g (yield 93.4%) was obtained. Compounds obtained in each of the above Examples (Compounds 1 to 1)
39) structure, yield (%), mp (℃) of each compound, elemental analysis value, and nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) analysis result (δ value, ppm) for each example
are shown in Table 1 below. In Table 1, the values shown in parentheses in the elemental analysis values are calculated values (%), and the values shown without parentheses are actually measured values (%).
shall be shown. In addition, NMR in DMSO−d 6
This is a value measured using TMS as an internal standard substance.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1及びR2は同一又は相異なつて低級アル
キル基を、R3は水素原子、水酸基、低級アルコ
キシ基、低級アシルオキシ基、カルボキシエチル
カルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、アル
コキシカルボニルオキシ基又はフエノキシカルボ
ニルオキシ基を、R4は水素原子、水酸基、低級
アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、フエノ
キシ基、低級アシルオキシ基又はベンゾイルオキ
シ基を、nは1〜3の整数を、またYは酸残基を
それぞれ示す。) で表わされるスルホニウム化合物。
[Claims] 1. General formula (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and represent a lower alkyl group, and R 3 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a lower acyloxy group, a carboxyethylcarbonyloxy group, a benzoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or phenoxycarbonyloxy group, R4 is a hydrogen atom, hydroxyl group, lower alkoxy group, cycloalkyloxy group, phenoxy group, lower acyloxy group, or benzoyloxy group, n is an integer of 1 to 3, and Y is an acid A sulfonium compound represented by (the residues are shown respectively).
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