JPH0332221B2 - - Google Patents

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JPH0332221B2
JPH0332221B2 JP62292526A JP29252687A JPH0332221B2 JP H0332221 B2 JPH0332221 B2 JP H0332221B2 JP 62292526 A JP62292526 A JP 62292526A JP 29252687 A JP29252687 A JP 29252687A JP H0332221 B2 JPH0332221 B2 JP H0332221B2
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JP
Japan
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adhesive tape
frame
semiconductor wafer
wafer
mounting frame
Prior art date
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JP62292526A
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Japanese (ja)
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JPH01134946A (en
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Matsuro Kanehara
Akira Ishihara
Toshuki Sekido
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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Publication of JPH0332221B2 publication Critical patent/JPH0332221B2/ja
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、半導体ウエハを粘着テープに貼り付
けるとともに、環状のマウント用フレームを前記
半導体ウエハの周囲にある粘着テープに貼り付け
て半導体ウエハを保持する半導体ウエハのマウン
ト装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention involves attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape and attaching an annular mounting frame to the adhesive tape around the semiconductor wafer. The present invention relates to a mounting device for holding semiconductor wafers.

<従来の技術> この種の半導体ウエハのマウント装置として
は、特願昭61−304777号に開示されているような
装置がある。以下、この装置の概略構成を第12
図および第13図を参照して説明する。
<Prior Art> As this type of semiconductor wafer mounting device, there is a device as disclosed in Japanese Patent Application No. 304777/1983. Below, the schematic configuration of this device will be explained in the 12th section.
This will be explained with reference to the figures and FIG.

第12図中のウエハローダ200から順に送り
出された半導体ウエハAは、第13図に示すよう
な搬送ベルト201に載つて、ウエハアライメン
ト機構202にまで搬送される。半導体ウエハA
がウエハアライメント機構202の所定位置にま
で達すると、回転テーブル203が上昇して、半
導体ウエハAがこの回転テーブル203に移載さ
れる。そして、上昇した回転テーブル203の両
側から一対の中心位置合わせ板204が半導体ウ
エハAを挟み込むように移動することによつて、
半導体ウエハAの中心を回転テーブル203の中
心に一致させる。
Semiconductor wafers A are sequentially sent out from the wafer loader 200 in FIG. 12 and are carried to a wafer alignment mechanism 202 on a conveyor belt 201 as shown in FIG. Semiconductor wafer A
When the wafer A reaches a predetermined position of the wafer alignment mechanism 202, the rotary table 203 is raised and the semiconductor wafer A is transferred onto the rotary table 203. Then, by moving the pair of center alignment plates 204 from both sides of the elevated rotary table 203 so as to sandwich the semiconductor wafer A,
The center of semiconductor wafer A is aligned with the center of rotary table 203.

半導体ウエハAの中心位置合わせが終わると、
回転テーブル203の吸着機構が作動して半導体
ウエハAを吸着保持した状態で、回転テーブル2
03が回転し、光学センサ205で半導体ウエハ
Aのオリエンテーシヨンフラツトを検出すること
によつて、オリエンテーシヨンフラツトが指定の
方向に向くように半導体ウエハAを位置合わせす
る。
When the center alignment of semiconductor wafer A is completed,
With the suction mechanism of the rotary table 203 operating and holding the semiconductor wafer A by suction, the rotary table 2
03 rotates and the optical sensor 205 detects the orientation flat of the semiconductor wafer A, thereby aligning the semiconductor wafer A so that the orientation flat faces in a specified direction.

位置合わせが終わると、先端部がUの字状の反
転フオーク206が、回転テーブル203上の半
導体ウエハAの裏側に侵入する。そして、回転テ
ーブル203が吸着を解除した状態で降下するこ
とにより、半導体ウエハAが反転フオーク206
に移載される。反転フオーク206は、半導体ウ
エハAを吸着保持した状態で反転することによつ
て、位置合わせされた半導体ウエハAを第12図
に示したウエハ貼り付けテーブル207上に移載
する。
When the alignment is completed, the reversing fork 206 having a U-shaped tip enters the back side of the semiconductor wafer A on the rotary table 203. Then, as the rotary table 203 descends with the suction released, the semiconductor wafer A is transferred to the inverted fork 206.
It will be transferred to. The reversing fork 206 holds the semiconductor wafer A by suction and inverts it, thereby transferring the aligned semiconductor wafer A onto the wafer pasting table 207 shown in FIG.

一方、マウント用フレームFは位置決めステー
ジ208で位置決めされた後、図示しない搬送機
構によつてウエハ貼り付けステージ207に搬送
され、その中心部に半導体ウエハAが位置するよ
うに、ウエハ貼り付けステージ207上に載置さ
れる。
On the other hand, after the mounting frame F is positioned on the positioning stage 208, it is transported to the wafer pasting stage 207 by a transport mechanism (not shown). placed on top.

このように半導体ウエハAとフレームFがセツ
トされた後、粘着テープBが巻回された貼り付け
ローラユニツト209と剥離ローラユニツト21
0とが一体的にウエハ貼り付けステージ207側
に移動することによつて粘着テープBを半導体ウ
エハAとフレームFに対して同時に貼り付ける。
After the semiconductor wafer A and the frame F are set in this way, the pasting roller unit 209 and the peeling roller unit 21 around which the adhesive tape B is wound are placed.
The adhesive tape B is attached to the semiconductor wafer A and the frame F at the same time by moving together with the wafer attachment stage 207 side.

次に、粘着テープ切断機構211が下降し、フ
レームFに貼り付けられた粘着テープBを円形状
に切断した後、剥離ローラユニツト210のみが
元の位置に戻り、これによつてフレームFから残
滓テープを剥離する。残滓テープが剥離されたマ
ウントフレームは、貼り付けステージ207から
払い出されて、アンローダ部212のカセツト内
に収納される。
Next, the adhesive tape cutting mechanism 211 descends and cuts the adhesive tape B stuck to the frame F into a circular shape, and then only the peeling roller unit 210 returns to its original position, thereby removing the residue from the frame F. Peel off the tape. The mount frame from which the residual tape has been peeled off is taken out from the pasting stage 207 and stored in the cassette of the unloader section 212.

<発明が解決しようとする課題> しかしながら、上述した従来装置には次のよう
な問題点がある。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the conventional device described above has the following problems.

即ち、従来の半導体ウエハのマウント装置は、
半導体ウエハAとマウント用フレームFとに粘着
テープBを同時に貼り付ける構成であるので、貼
り付けステージ上の半導体ウエハAとマウント用
フレームBの各上面の高さのバラツキによつて、
粘着テープを貼り付けた場合、半導体ウエハAと
粘着テープBと間や、マウント用フレームFと粘
着テープBとの間に、空気溜まりができやすいと
いう問題点がある。このような空気の入り込み
は、後のスクライブ工程において半導体ウエハA
をスクライブしたとき、切断分離されたチツプが
不測に離脱したり、スクライブ深さにバラツキが
生じるといつた不都合を招く。
In other words, the conventional semiconductor wafer mounting device is
Since the adhesive tape B is attached to the semiconductor wafer A and the mounting frame F at the same time, due to variations in the heights of the upper surfaces of the semiconductor wafer A and the mounting frame B on the attachment stage,
When adhesive tape is attached, there is a problem in that air pockets are likely to form between the semiconductor wafer A and the adhesive tape B, and between the mounting frame F and the adhesive tape B. This type of air entry may cause the semiconductor wafer A to be damaged in the subsequent scribing process.
When scribing, the cut and separated chips may come off unexpectedly, and the scribing depth may vary, causing inconveniences.

ところで、半導体ウエハの貼り付け仕様に関し
て、マウント用フレームの基準面に対する半導体
ウエハのオリエンテーシヨンフラツトの位置が指
定されることがある。例えば、オリエンテーシヨ
ンフラツトがマウント用フレームの基準面に対向
するように半導体ウエハを貼り付けたり、あるい
は、前記基準面とは反対の方向にオリエンテーシ
ヨンフラツトを位置させて半導体ウエハを貼り付
けたりするような指定がある。このように、オリ
エンテーシヨンフラツトの位置がどのように指定
された場合にでも、マウント用フレームと半導体
ウエハとの位置関係が一定になるように(例え
ば、マウント用フレームの中心と半導体ウエハの
中心とが一致するように)両者を位置合わせして
粘着テープに貼り付けることが望まれている。
By the way, regarding the attachment specifications of the semiconductor wafer, the position of the orientation flat of the semiconductor wafer with respect to the reference plane of the mounting frame may be specified. For example, the semiconductor wafer may be attached with the orientation flat facing the reference surface of the mounting frame, or the semiconductor wafer may be attached with the orientation flat positioned in the opposite direction to the reference surface. There is a designation such as adding. In this way, no matter how the position of the orientation flat is specified, the positional relationship between the mounting frame and the semiconductor wafer remains constant (for example, the center of the mounting frame and the semiconductor wafer are It is desirable to align the two (so that their centers match) and attach them to the adhesive tape.

因みに、上述した従来装置は、回転テーブル2
03上で一対の中心位置合わせ板204によつて
半導体ウエハAの中心の位置合わせを行つた後、
オリエンテーシヨンフラツトの位置合わせを行
い、その後、反転フオーク206によつて半導体
ウエハAを貼り付けステージ207に移載してい
るので、オリエンテーシヨンフラツトの位置にか
かわりなく、半導体ウエハAの中心が貼り付けス
テージ207の所定位置になるように半導体ウエ
ハAを移載することができ、したがつて、マウン
ト用フレームと半導体ウエハとの位置関係は一定
になる。
Incidentally, in the conventional device described above, the rotary table 2
After aligning the center of the semiconductor wafer A with a pair of center alignment plates 204 on 03,
Since the orientation flat is aligned and then the semiconductor wafer A is pasted and transferred to the stage 207 by the reversing fork 206, the position of the semiconductor wafer A is adjusted regardless of the orientation flat position. The semiconductor wafer A can be transferred so that the center is at a predetermined position on the attachment stage 207, and therefore the positional relationship between the mounting frame and the semiconductor wafer becomes constant.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたも
のであつて、半導体ウエハと粘着テープとの間
や、マウント用フレームと粘着テープとの間に空
気溜まりが発生しにくい半導体ウエハのマウント
装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a mounting device for semiconductor wafers that is less likely to cause air pockets between the semiconductor wafer and the adhesive tape or between the mounting frame and the adhesive tape. is intended to provide.

また、本発明の他の目的は、オリエンテーシヨ
ンフラツトの向きがどのように指定されても、半
導体ウエハとマウント用フレームとを正しい位置
関係で粘着テープに貼り付けることができる半導
体ウエハのマウント装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor wafer mount in which the semiconductor wafer and the mounting frame can be attached to an adhesive tape in the correct positional relationship, no matter how the direction of the orientation flat is specified. The goal is to provide equipment.

<課題を解決するための手段> 以下、第1図を参照して、本発明に係る半導体
ウエハのマウント装置の構成を説明する。但し、
第1図は本発明の構成を理解しやすいように具体
的に示したものであり、本発明が第1図示のもの
に限定されるわけではない。
<Means for Solving the Problems> The configuration of a semiconductor wafer mounting apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIG. however,
FIG. 1 specifically shows the configuration of the present invention for easy understanding, and the present invention is not limited to what is shown in FIG.

1は、オリエンテーシヨンフラツトOFが形成
された半導体ウエハAを、そのオリエンテーシヨ
ンフラツトOFが指定の方向になるように位置合
わせするウエハアライメント機構である。ウエハ
アライメント機構1は、例えば、吸着保持された
半導体ウエハAを回転駆動するパルスモータ1a
や、これに付設された光センサ1bなどで構成さ
れる。
Reference numeral 1 denotes a wafer alignment mechanism that aligns a semiconductor wafer A on which an orientation flat OF is formed so that the orientation flat OF is in a specified direction. The wafer alignment mechanism 1 includes, for example, a pulse motor 1a that rotationally drives the semiconductor wafer A held by suction.
and an optical sensor 1b attached thereto.

2は、帯状の粘着テープBを移送する粘着テー
プ移送機構である。粘着テープ移送機構2は、例
えば、粘着テープBを供給する供給リール2a、
残滓テープを巻き取る巻取りリール2b、および
前記巻取りリール2bを駆動するモータ2cなど
で構成される。
Reference numeral 2 denotes an adhesive tape transport mechanism that transports the band-shaped adhesive tape B. The adhesive tape transport mechanism 2 includes, for example, a supply reel 2a that supplies the adhesive tape B;
It is composed of a take-up reel 2b for winding up the residual tape, a motor 2c for driving the take-up reel 2b, and the like.

3は、ウエハアライメント機構1によつて位置
合わせされた半導体ウエハAを粘着テープBに貼
り付けるウエハ貼り付け機構である。ウエハ貼り
付け機構3は、例えば上下一対のローラ3a,3
bなどで構成される。
Reference numeral 3 denotes a wafer attaching mechanism that attaches the semiconductor wafer A aligned by the wafer alignment mechanism 1 to the adhesive tape B. The wafer pasting mechanism 3 includes, for example, a pair of upper and lower rollers 3a, 3.
It consists of b, etc.

4は、予め位置合わせされた環状のマウント用
フレームFを保持してフレーム貼り付け個所P1
にまで移送するフレーム移送機構である。
4 is a frame pasting point P1 that holds the annular mounting frame F that has been aligned in advance.
It is a frame transfer mechanism that transfers up to .

5は、粘着テープBに貼り付けられた状態で移
送されている半導体ウエハAの前端を検出するウ
エハ前端検出センサである。
Reference numeral 5 denotes a wafer front edge detection sensor that detects the front edge of the semiconductor wafer A that is being transferred while being attached to the adhesive tape B.

6は、前記ウエハ前端検出センサ5で検出され
た半導体ウエハAの位置を基準として、指定され
たオリエンテーシヨンフラツトOFの方向に応じ
た距離だけ粘着テープBを移送することにより、
半導体ウエハAの中心がフレーム貼り付け個所P
1の所定位置で停止するように前記粘着テープ移
送機構2を制御する粘着テープ移送機構制御手段
である。
6, by transporting the adhesive tape B by a distance according to the direction of the designated orientation flat OF with reference to the position of the semiconductor wafer A detected by the wafer front edge detection sensor 5,
The center of the semiconductor wafer A is the frame attachment point P
1 is an adhesive tape transport mechanism control means for controlling the adhesive tape transport mechanism 2 so as to stop at a predetermined position.

7は、前記フレーム貼り付け個所P1におい
て、マウント用フレームFを粘着テープBに貼り
付けるフレーム貼り付け機構である。フレーム貼
り付け機構7は、例えば、モータ7aに駆動され
て、粘着テープBを介してマウント用フレームF
の下面に当接して旋回するローラ7bなどで構成
される。
Reference numeral 7 denotes a frame pasting mechanism for pasting the mounting frame F onto the adhesive tape B at the frame pasting location P1. The frame pasting mechanism 7 is driven by a motor 7a, for example, and attaches the mounting frame F to the mounting frame F through the adhesive tape B.
It is composed of a roller 7b that rotates while contacting the lower surface of the roller.

8は、マウント用フレームFに貼り付いた粘着
テープBを円形状に切断する粘着テープ切断機構
である。粘着テープ切断機構8は、例えば、貼り
付け用ローラ7bと同期的に旋回駆動される回転
刃8aなどで構成されるが、フレーム貼り付け工
程とは別工程で切断するようにしてもよい。
8 is an adhesive tape cutting mechanism that cuts the adhesive tape B stuck to the mounting frame F into a circular shape. The adhesive tape cutting mechanism 8 is composed of, for example, a rotary blade 8a that is rotated synchronously with the pasting roller 7b, but the cutting may be performed in a separate process from the frame pasting process.

9は、粘着テープBの切断の後に、残滓テープ
B′をマウント用フレームFから剥離する粘着テ
ープ剥離機構である。粘着テープ剥離機構9は、
例えば、半導体ウエハAがマウントされた状態の
マウントフレームMFが、ローラ9aからローラ
9bに乗り移る際に、残滓テープB′を強制的に
下方に引き込むことによつて、残滓テープB′を
マウントフレームMFから剥離するように構成さ
れる。
9 is the residual tape after cutting the adhesive tape B.
This is an adhesive tape peeling mechanism that peels B' from the mounting frame F. The adhesive tape peeling mechanism 9 is
For example, when the mount frame MF on which the semiconductor wafer A is mounted transfers from the roller 9a to the roller 9b, the residual tape B' is forcibly drawn downward, thereby transferring the residual tape B' to the mount frame MF. Configured to be peeled off.

<作用> 本発明の構成による作用は、次のとおりであ
る。
<Function> The function of the configuration of the present invention is as follows.

ウエハアライメント機構1において、位置合わ
せされた半導体ウエハAは、ウエハ貼り付け機構
3において粘着テープBに貼り付けられ、その
後、フレーム貼り付け個所P1において、フレー
ムFが粘着テープBに貼り付けられる。粘着テー
プBに貼り付けられた半導体ウエハAが、フレー
ム貼り付け個所P1に移送されるとき、半導体ウ
エハAの前端が、ウエハ前端検出センサ5によつ
て検出され、オリエンテーシヨンフラツトOFの
指定方向に応じて、粘着テープ移送機構制御手段
6によつて、次のように粘着テープBの送り量が
制御される。以下、第2図を参照する。
In the wafer alignment mechanism 1, the aligned semiconductor wafer A is pasted on the adhesive tape B in the wafer pasting mechanism 3, and then the frame F is pasted on the adhesive tape B at the frame pasting location P1. When the semiconductor wafer A attached to the adhesive tape B is transferred to the frame attachment point P1, the front edge of the semiconductor wafer A is detected by the wafer front edge detection sensor 5, and the orientation flat OF is designated. Depending on the direction, the amount of feed of the adhesive tape B is controlled by the adhesive tape transport mechanism control means 6 as follows. Reference is made to FIG. 2 below.

オリエンテーシヨンフラツトOFの方向指定情
報を与えられた粘着テープ移送機構制御手段6
は、粘着テープB上の半導体ウエハAが、進行方
向に対して前側にオリエンテーシヨンフラツト
OFが位置しているタイプ(以下、先行タイプと
いう)A1か、あるいはオリエンテーシヨンフラ
ツトOFが半導体ウエハAの進行方向に対して
180゜または90゜の位置にあるタイプ(以下、総称
して非先行タイプという)A2かを判別し、先行
タイプA1、非先行タイプA2に応じてそれぞれ
補正移送量ΔXF,ΔXRを算出する。
Adhesive tape transport mechanism control means 6 given direction designation information of orientation flat OF
In this case, the semiconductor wafer A on the adhesive tape B has an orientation flat toward the front in the direction of travel.
Type A1 where OF is located (hereinafter referred to as leading type), or orientation flat OF with respect to the traveling direction of semiconductor wafer A.
Determine whether type A2 (hereinafter collectively referred to as non-preceding type) is located at the 180° or 90° position, and calculate the corrected transfer amounts ΔX F and ΔX R according to the preceding type A1 and non-preceding type A2, respectively. .

そして、粘着テープ移送機構2によつて粘着テ
ープBとともに移送される半導体ウエハAの前端
aがウエハ前端検出センサ5によつて検出された
ときの位置Q1から、粘着テープBを前記補正移
送量ΔXF,ΔXRだけ補正移送するように、粘着テ
ープ移送機構制御手段6が粘着テープ移送機構2
を制御する。
Then, the adhesive tape B is moved by the corrected transfer amount Δ The adhesive tape transport mechanism control means 6 controls the adhesive tape transport mechanism 2 so as to correct the transport by F , ΔX R.
control.

すなわち、先行タイプA1の場合は、第2図A
に示すように、位置Q1からΔXFだけ移送され、
その中心OA1がマウント用フレーム貼付けのため
の所定の基準位置Q2と一致した状態で停止す
る。また、非先行タイプA2の場合は、第2図B
に示すように、位置Q1からΔXRだけ移送され、
その中心OA2が所定の基準位置Q2と一致した状
態で停止する。
In other words, in the case of precedent type A1, Fig. 2A
As shown in , it is moved by ΔX F from position Q1,
It stops when its center O A1 coincides with a predetermined reference position Q2 for attaching the mounting frame. In addition, in the case of non-preceding type A2, Fig. 2B
As shown in , it is moved by ΔX R from position Q1,
It stops when its center O A2 coincides with a predetermined reference position Q2.

すなわち、半導体ウエハAを予め粘着テープB
に貼付けていて先行タイプA1か非先行タイプA
2かが前もつて確定しているにもかかわらず、い
ずれのタイプの半導体ウエハAであつても、それ
ぞれの中心OA1,OA2が所定の基準位置Q2にき
たときに停止する。
That is, a semiconductor wafer A is attached to an adhesive tape B in advance.
is pasted on the preceding type A1 or non-preceding type A.
Regardless of which type of semiconductor wafer A is, it will stop when its respective centers O A1 and O A2 come to a predetermined reference position Q2.

<実施例> 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第3図は本発明の実施例に係る半導体ウエハの
マウント装置の概略的な平面図、第4図はその正
面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view of a semiconductor wafer mounting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a front view thereof.

第3図、第4図において、11はウエハロー
ダ、12はウエハ縦移送部、13はウエハ横移送
部、14はウエハアライメント部(第1図のウエ
ハアライメント機構1に相当する)、15はウエ
ハ貼付け部(第1図のウエハ貼り付け機構3に相
当する)、16はマウント用フレーム貼付け部
(第1図のフレーム貼り付け機構7に相当する)、
17はマウント用フレームローダ、18はマウン
ト用フレームアライメント部、19はマウントフ
レーム送出し部である。
In FIGS. 3 and 4, 11 is a wafer loader, 12 is a wafer vertical transfer section, 13 is a wafer horizontal transfer section, 14 is a wafer alignment section (corresponding to the wafer alignment mechanism 1 in FIG. 1), and 15 is a wafer pasting section. (corresponds to the wafer pasting mechanism 3 in FIG. 1); 16 is a mounting frame pasting part (corresponds to the frame pasting mechanism 7 in FIG. 1);
17 is a mounting frame loader, 18 is a mounting frame alignment section, and 19 is a mounting frame delivery section.

ウエハローダ11は、半導体ウエハAを多段に
収納したマガジンをセツトし、そこから1つずつ
半導体ウエハAを送り出すものであり、その構造
は従来のものと変わりないので説明を省略する。
ウエハ縦移送部12は、ウエハローダ11から送
り出された半導体ウエハAをウエハ横移送部13
に向けて送り出すものであり、ウエハ横移送部1
3への受け渡しのために昇降自在となつており、
その構造も従来のものと変わりないので説明を省
略する。ウエハローダ11およびウエハ縦移送部
12はそれぞれ2つずつ設けられている。マウン
ト用フレームローダ17は、マウント用フレーム
Fを多段に収納しており、そこから1つずつマウ
ント用フレームFを取り出すものであり、その構
造は従来のものと変わりないので説明を省略す
る。
The wafer loader 11 sets a magazine in which semiconductor wafers A are stored in multiple stages, and feeds out the semiconductor wafers A one by one from there, and its structure is the same as the conventional one, so a description thereof will be omitted.
The wafer vertical transfer section 12 transfers the semiconductor wafer A sent out from the wafer loader 11 to the wafer horizontal transfer section 13.
The wafer is sent to the wafer horizontal transfer section 1.
It can be raised and lowered freely for delivery to 3.
Its structure is also the same as the conventional one, so its explanation will be omitted. Two wafer loaders 11 and two wafer vertical transfer sections 12 are provided. The mounting frame loader 17 stores mounting frames F in multiple stages, from which the mounting frames F are taken out one by one, and its structure is the same as the conventional one, so a description thereof will be omitted.

ウエハ横移送部13は、第5図の平面図、第6
図の正面図に示すように、ICパターンを形成し
た表面を上面とする状態で半導体ウエハAを載置
して移送する移送ベルト20と、移送ベルト20
を掛張するプーリー21と、プーリー21を駆動
回転するウエハ移送用モータ22(第4図参照)
とを備えている。ウエハアライメント部14に臨
むウエハ横移送部13の終端部分は、傾動型に構
成されている。すなわち、プーリー21aの支軸
まわりに揺動する揺動枠23にプーリー21bと
移送ベルト20aとが設けられ、固定ベース24
に取り付けられた傾動用エアシリンダ25のピス
トンロツドが揺動枠23の下部に固定されてい
る。
The wafer lateral transfer section 13 is shown in the plan view of FIG.
As shown in the front view of the figure, there is a transfer belt 20 on which a semiconductor wafer A is placed and transferred with the surface on which an IC pattern is formed facing upward;
a pulley 21 that hangs the wafer, and a wafer transfer motor 22 that drives and rotates the pulley 21 (see Fig. 4).
It is equipped with The end portion of the wafer lateral transfer section 13 facing the wafer alignment section 14 is configured to be tiltable. That is, the pulley 21b and the transfer belt 20a are provided on the swing frame 23 that swings around the spindle of the pulley 21a, and the fixed base 24
A piston rod of a tilting air cylinder 25 attached to the swing frame 23 is fixed to the lower part of the swing frame 23.

ウエハアライメント部14は、昇降用エアシリ
ンダ26と、このエアシリンダ26によつて昇降
されるアライメント用のパルスモータ27と、こ
のパルスモータ27の出力軸に取り付けられたア
ライメントテーブル28と、ウエハ到着検出セン
サ29と、オリエンテーシヨンフラツト検出セン
サ(以下、OF検出センサと記載する)30とを
備えている。
The wafer alignment unit 14 includes an air cylinder 26 for lifting and lowering, a pulse motor 27 for alignment that is moved up and down by the air cylinder 26, an alignment table 28 attached to the output shaft of the pulse motor 27, and a wafer arrival detection unit. It includes a sensor 29 and an orientation flat detection sensor (hereinafter referred to as an OF detection sensor) 30.

次に、ウエハ貼付け部15の関連構造につい
て、第7図(正面図)と第8図(背面図)に基づ
いて説明する。
Next, the related structure of the wafer pasting section 15 will be explained based on FIG. 7 (front view) and FIG. 8 (rear view).

固定ベース24に連設された下部機枠31に
は、第1図に示した粘着テープ移送機構2に相当
する機構として、粘着テープ供給リール32、セ
パレータ巻取リール33、粘着テープガイドロー
ラ34、残滓テープガイドローラ35、残滓テー
プ巻取リール36が回転自在に装着されていると
ともに、セパレータ巻取リール33を駆動回転す
るモータ37、残滓テープ巻取リール36を駆動
回転するモータ38が取り付けられている。固定
ベース24の上面に取り付けられたブラケツト3
9に貼付けローラ40が軸支され、この貼付けロ
ーラ40を駆動するモータ41が固定ベース24
に取り付けられている。
The lower machine frame 31 connected to the fixed base 24 has an adhesive tape supply reel 32, a separator take-up reel 33, an adhesive tape guide roller 34, and a mechanism corresponding to the adhesive tape transport mechanism 2 shown in FIG. A residue tape guide roller 35 and a residue tape take-up reel 36 are rotatably mounted, and a motor 37 that drives and rotates the separator take-up reel 33 and a motor 38 that drives and rotates the residue tape take-up reel 36 are attached. There is. Bracket 3 attached to the top surface of fixed base 24
A pasting roller 40 is pivotally supported on the fixed base 24, and a motor 41 that drives this pasting roller 40 is attached to the fixed base 24.
is attached to.

固定ベース24に立設された取付枠42に、剥
離ローラ43、残滓テープガイドローラ44が回
転自在に装着されているとともに、固定ベース2
4に立設された別の取付枠45に粘着テープ移送
用のパルスモータ46と、このパルスモータ46
の出力軸に取り付けられた粘着テープ移送用ロー
ラ47とが設けられているとともに、移送用ロー
ラ47に対接するローラ48が設けられている。
A peeling roller 43 and a residue tape guide roller 44 are rotatably mounted on a mounting frame 42 erected on the fixed base 24 .
A pulse motor 46 for transferring the adhesive tape is mounted on another mounting frame 45 erected in 4, and this pulse motor 46
An adhesive tape transporting roller 47 attached to the output shaft of is provided, and a roller 48 opposing the transporting roller 47 is also provided.

粘着テープBはセパレータSと重ね合わされた
状態で粘着テープ供給リール32にセツトされて
いる。モータ37,38が同期して駆動される
と、セパレータ巻取リール33と残滓テープ巻取
リール36とが駆動回転される。そして、粘着テ
ープ供給リール32も同期して回転され、粘着テ
ープBとセパレータSとが分離され、セパレータ
Sはセパレータ巻取リール33によつて巻き取ら
れる。分離された粘着テープBは、粘着テープガ
イドローラ34、貼付けローラ40、剥離ローラ
43、残滓テープガイドローラ44、移送用ロー
ラ47、対接ローラ48、残滓テープガイドロー
ラ35を介して残滓テープ巻取リール36に巻き
取られるように構成されている。
The adhesive tape B is set on the adhesive tape supply reel 32 in a state where it is overlapped with the separator S. When the motors 37 and 38 are driven synchronously, the separator take-up reel 33 and the residue tape take-up reel 36 are driven to rotate. Then, the adhesive tape supply reel 32 is also rotated in synchronization, the adhesive tape B and the separator S are separated, and the separator S is wound up by the separator take-up reel 33. The separated adhesive tape B is wound up as a residual tape via an adhesive tape guide roller 34, a pasting roller 40, a peeling roller 43, a residual tape guide roller 44, a transfer roller 47, a contact roller 48, and a residual tape guide roller 35. It is configured to be wound onto a reel 36.

ウエハ貼付け部15は、次のように構成されて
いる。貼付けローラ40の直上においてこの貼付
けローラ40と平行な姿勢で配置された押付けロ
ーラ49は、固定ベース24に連設の上部機枠3
1aに揺動自在に軸支された揺動アーム50の遊
端側に回転自在に取り付けられ、これによつて、
押付けローラ49は貼付けローラ40の直上にお
いて上下動自在となつている。この押付けローラ
49は、半導体ウエハAの表面(上面)を保護す
るための保護フイルムCを巻き付けている。
The wafer pasting section 15 is configured as follows. A pressing roller 49 disposed directly above the pasting roller 40 and parallel to the pasting roller 40 is connected to the upper machine frame 3 connected to the fixed base 24.
It is rotatably attached to the free end side of the swing arm 50 that is swingably supported by the swing arm 1a, and thereby,
The pressing roller 49 is vertically movable directly above the pasting roller 40. This pressing roller 49 is wrapped with a protective film C for protecting the surface (upper surface) of the semiconductor wafer A.

第8図に示すように、上部機枠31aの背面に
突出する状態で上部機枠31aに筒軸51が回転
自在に外嵌されている。この筒軸51のフランジ
部分に揺動アーム50が固着されている。
As shown in FIG. 8, a cylindrical shaft 51 is rotatably fitted onto the upper machine frame 31a so as to protrude from the rear surface of the upper machine frame 31a. A swing arm 50 is fixed to a flange portion of this cylinder shaft 51.

揺動アーム50の遊端側に押付けローラ49が
回転自在に軸支され、押付けローラ49はその自
重により揺動アーム50の軸心である支点50a
まわりにモーメントM1で貼付けローラ40を押
し付ける。このモーメントM1に拮抗して押付け
ローラ49を貼付けローラ40から離間させる方
向のモーメントM2を揺動アーム50に与えるバ
ランスウエイト52が揺動アーム50から突設さ
れたロツド53のネジ部53aに螺合され、ロツ
クナツト54によつて止め付けられている。
A pressing roller 49 is rotatably supported on the free end side of the swinging arm 50, and the pressing roller 49 is rotated by its own weight to a fulcrum 50a, which is the axis of the swinging arm 50.
A pasting roller 40 is pressed around with a moment M 1 . A balance weight 52 that counteracts this moment M 1 and applies a moment M 2 to the swinging arm 50 in the direction of separating the pressing roller 49 from the pasting roller 40 is attached to the threaded portion 53 a of the rod 53 that projects from the swinging arm 50 . They are screwed together and secured by a lock nut 54.

また、前記の両モーメントM1,M2の拮抗状態
をわずかに崩して貼付けローラ40に対する押付
けローラ49の実質的な押付け力を揺動アーム5
0に与える引張バネ55が揺動アーム50の突片
50bに螺合のネジ棒56とバネ受け板57との
間に張設されている。58はロツクナツトであ
る。バネ受け板57は、上部機枠31aの背面に
水平姿勢で固定された複動式のエアシリンダ59
のピストンロツドの先端に取り付けられている。
In addition, by slightly breaking the antagonistic state of the two moments M 1 and M 2 mentioned above, the substantial pressing force of the pressing roller 49 against the pasting roller 40 is reduced to the swing arm 5.
A tension spring 55 giving a tension of 0 is tensioned between a threaded rod 56 screwed into the protrusion 50b of the swing arm 50 and a spring receiving plate 57. 58 is a lock nut. The spring receiving plate 57 is connected to a double-acting air cylinder 59 fixed in a horizontal position to the back of the upper machine frame 31a.
It is attached to the tip of the piston rod.

第7図に示すように、上部機枠31aには、ま
た、保護フイルム供給リール60、保護フイルム
ガイドローラ61,62,63、保護フイルム巻
取リール64が回転自在に装着されているととも
に、保護フイルム巻取リール64を駆動回転する
モータ65が取り付けられている。
As shown in FIG. 7, a protective film supply reel 60, protective film guide rollers 61, 62, 63, and a protective film take-up reel 64 are rotatably attached to the upper machine frame 31a. A motor 65 is attached to drive and rotate the film take-up reel 64.

保護フイルムCは保護フイルム供給リール60
にセツトされているとともに、保護フイルム供給
リール60から保護フイルムガイドローラ61、
押付けローラ49、保護フイルムガイドローラ6
2,63の順に巻回され、保護フイルム巻取リー
ル64に巻き取られるように構成されている。
Protective film C is a protective film supply reel 60
At the same time, the protective film guide roller 61,
Pressing roller 49, protective film guide roller 6
The film is wound in the order of numbers 2 and 63, and is wound on a protective film take-up reel 64.

なお、貼付けローラ40と剥離ローラ43との
間の部分が、半導体ウエハAの貼付けの終了した
粘着テープBに対して環状のマウント用フレーム
Fを貼付けるマウント用フレーム貼付け箇所P1
である。
Note that the part between the pasting roller 40 and the peeling roller 43 is a mounting frame pasting point P1 where the annular mounting frame F is pasted to the adhesive tape B on which the semiconductor wafer A has been pasted.
It is.

第9図はマウント用フレーム貼付け部16の正
面図、第10図はその平面図である。
FIG. 9 is a front view of the mounting frame pasting section 16, and FIG. 10 is a plan view thereof.

まず、第7図に示したウエハ前端検出センサ5
に相当する、半導体ウエハAの前端aの検出機構
66について説明する。
First, the wafer front edge detection sensor 5 shown in FIG.
The detection mechanism 66 for the front end a of the semiconductor wafer A, which corresponds to the above, will be explained.

固定ベース24に立設されたステー67に前端
検出用エアモータ68が取り付けられ、この前端
検出用エアモータ68の回転軸に取り付けられた
揺動アーム69にフオトセンサの投光器70が2
個取り付けられている。
A front end detection air motor 68 is attached to a stay 67 erected on the fixed base 24, and a photo sensor floodlight 70 is attached to a swing arm 69 attached to the rotating shaft of the front end detection air motor 68.
pcs installed.

揺動アーム69は、前端検出用エアモータ68
の回転によつて、投光器70が半導体ウエハAの
移送経路の直上にくる検出姿勢(鎖線参照)と退
避姿勢(実線参照)とに切り換えられるように構
成されている。
The swinging arm 69 is connected to a front end detection air motor 68.
The projector 70 is configured to be switched between a detection position (see chain line) in which the projector 70 is located directly above the transfer path of the semiconductor wafer A and a retracted position (see solid line) by the rotation of .

一方、固定ベース24上にH型鋼からなる支持
部材71を介して水平に取り付けられた第1固定
機枠72には検出姿勢にある投光器70と上下方
向で対向する位置において、フオトセンサの受光
器72が取り付けられている(第4図参照)。
On the other hand, a first fixed frame 72 horizontally attached to the fixed base 24 via a support member 71 made of H-shaped steel has a light receiver 72 of a photo sensor at a position vertically facing the projector 70 in the detection posture. is attached (see Figure 4).

第1固定機枠72に支柱(図示せず)を介して
水平な第2固定機枠74が固定されている。第1
固定機枠72の四隅にクランプ用エアシリンダ7
5が立設され、そのピストンロツドが第2固定機
枠74を上下方向に貫通し、その上端に上下可動
枠76が取り付けられている。
A horizontal second fixture frame 74 is fixed to the first fixture frame 72 via a support (not shown). 1st
Air cylinders 7 for clamping are installed at the four corners of the fixed machine frame 72.
5 is erected, its piston rod vertically passes through the second fixed machine frame 74, and a vertically movable frame 76 is attached to its upper end.

上下可動枠76は第1クランプ部材(図示せ
ず)を有し、第2固定機枠74は第2クランプ部
材(図示せず)を有している。第1クランプ部材
および第2クランプ部材が半導体ウエハAを予め
貼付けて水平姿勢に敷設されている粘着テープB
におけるフレーム粘着相当箇所の周囲の環状領域
において粘着テープBをその表裏両側からクラン
プする。
The vertically movable frame 76 has a first clamp member (not shown), and the second stationary frame 74 has a second clamp member (not shown). Adhesive tape B to which the first clamp member and the second clamp member are laid in a horizontal position with the semiconductor wafer A attached in advance
Adhesive tape B is clamped from both the front and back sides in the annular region around the frame adhesive portion.

第1固定機枠72の四隅でクランプ用エアシリ
ンダ75の内側にテンシヨン用エアシリンダ77
が立設され、そのピストンロツドの上端にテンシ
ヨン付与円筒78が取り付けられている。
Tension air cylinders 77 are installed inside the clamp air cylinders 75 at the four corners of the first fixing machine frame 72.
is erected, and a tensioning cylinder 78 is attached to the upper end of the piston rod.

固定ベース24と第1固定機枠72との間に粘
着テープBの移送方向であるX方向に沿つて移動
するXテーブル79と、粘着テープBの幅方向で
あるY方向に沿つて移動するYテーブル80が配
置されている。81はX方向レール、82は固定
ベース24の下面に取り付けられたXテーブル駆
動パルスモータ、83はY方向レールである。
Between the fixed base 24 and the first fixing machine frame 72, there is an X table 79 that moves along the X direction, which is the transfer direction of the adhesive tape B, and a Y table that moves along the Y direction, which is the width direction of the adhesive tape B. A table 80 is arranged. 81 is an X-direction rail, 82 is an X-table drive pulse motor attached to the lower surface of the fixed base 24, and 83 is a Y-direction rail.

Xテーブル79の上面の端部にYテーブル駆動
パルスモータ84が取り付けられているとともに
軸受85が取り付けられている。軸受85にはス
クリユー軸86が軸支され、スクリユー軸86の
一端はYテーブル駆動パルスモータ84の出力軸
に連結されている。スクリユー軸86とともにボ
ールネジを構成するナツト(図示せず)を保持し
たナツトケーシング87がYテーブル80の上面
に取り付けられている。図示は省略したが、スク
リユー軸86、ナツトケーシング87と同様のも
のが、Xテーブル79にも設けられている。
A Y-table drive pulse motor 84 and a bearing 85 are attached to the end of the upper surface of the X-table 79. A screw shaft 86 is rotatably supported by the bearing 85, and one end of the screw shaft 86 is connected to the output shaft of the Y-table drive pulse motor 84. A nut casing 87 holding a nut (not shown) that constitutes a ball screw together with the screw shaft 86 is attached to the upper surface of the Y table 80. Although not shown, the screw shaft 86 and the nut casing 87 are also provided on the X table 79.

次に、第1図に示したフレーム移送機構4に相
当する、マウント用フレームFを吸着保持するフ
レームチヤツクテーブル88の昇降機構89、旋
回機構99、θ回動機構102についてそれぞれ
説明する。
Next, the elevating mechanism 89, the turning mechanism 99, and the .theta. rotating mechanism 102 of the frame chuck table 88 which suctions and holds the mounting frame F, which correspond to the frame transfer mechanism 4 shown in FIG. 1, will be explained.

まず、昇降機構89について説明する。 First, the elevating mechanism 89 will be explained.

Yテーブル80の下面にはフレームチヤツクテ
ーブル88を昇降するためのフレームチヤツクテ
ーブル昇降モータ90が取り付けられ、このモー
タ90は、Xテーブル79および固定ベース24
に形成された貫通孔を通して固定ベース24の下
方に突出している。Yテーブル80の上面に支柱
91が立設され、この支柱91の上端板と下端板
とに縦方向のスクリユー軸92が軸支され、この
スクリユー軸92の下端がフレームチヤツクテー
ブル昇降モータ90の出力軸に連結されている。
スクリユー軸92とともにボールネジを構成する
ナツト(図示せず)を保持したナツトケーシング
93に支持部材94が連設され、支持部材94に
軸支された回転軸95に回動部材96が固着連設
されている。
A frame chuck table lifting motor 90 for raising and lowering the frame chuck table 88 is attached to the lower surface of the Y table 80.
The fixing base 24 protrudes downward through a through hole formed in the fixing base 24 . A column 91 is erected on the upper surface of the Y table 80 , and a vertical screw shaft 92 is supported by the upper and lower end plates of the column 91 . Connected to the output shaft.
A support member 94 is connected to a nut casing 93 that holds a nut (not shown) that constitutes a ball screw together with a screw shaft 92, and a rotating member 96 is fixedly connected to a rotating shaft 95 that is pivotally supported by the support member 94. ing.

この回動部材96に揺動環状枠97が固定さ
れ、揺動環状枠97の下半部分に回動自在に嵌合
された環状板98にフレームチヤツクテーブル8
8が固定されている。フレームチヤツクテーブル
88には複数の真空吸引口(図示せず)が形成さ
れている。
A swinging annular frame 97 is fixed to this rotating member 96, and a frame chuck table 8 is attached to an annular plate 98 rotatably fitted to the lower half of the swinging annular frame 97.
8 is fixed. A plurality of vacuum suction ports (not shown) are formed in the frame chuck table 88.

次に、フレームチヤツクテーブル88の旋回機
構99について説明すると、支持部材94の上面
に旋回用エアモータ100が取り付けられてい
る。同じ支持部材94に軸支された回転軸95が
カツプリング101を介して旋回用エアモータ1
00の出力軸に連結されている。
Next, the rotating mechanism 99 of the frame chuck table 88 will be explained. A rotating air motor 100 is attached to the upper surface of the support member 94. A rotating shaft 95 pivotally supported by the same support member 94 connects to the turning air motor 1 via a coupling 101.
It is connected to the output shaft of 00.

次に、フレームチヤツクテーブル88のθ回動
機構102について説明する。
Next, the θ rotation mechanism 102 of the frame chuck table 88 will be explained.

揺動環状枠97の上半部分にはマイクロスコー
プの回動のための回動ステージ台103が回動自
在に嵌合されている。第10図に示すように、環
状板98と回動部材96との間に、環状板98を
その中心まわりに回動するθ回動機構102が介
在されている。このθ回動機構102は、回動部
材96に縦軸まわりに揺動自在に取り付けた揺動
板104と、揺動板104に軸支されたスクリユ
ー軸105と、揺動板104に取り付けられスク
リユー軸105を回転するθパルスモータ106
と、スクリユー軸105に螺合されたナツト10
7と、このナツト107を環状板98に連結する
連結板108とから構成されている。回動ステー
ジ台103には支柱109を介してマイクロスコ
ープステージ台110が連設され、このマイクロ
スコープステージ台110に2つのマイクロスコ
ープ111が取り付けられている。
A rotating stage base 103 for rotating the microscope is rotatably fitted into the upper half of the swinging annular frame 97. As shown in FIG. 10, a θ rotation mechanism 102 for rotating the annular plate 98 around its center is interposed between the annular plate 98 and the rotating member 96. The θ rotation mechanism 102 includes a swing plate 104 attached to the rotation member 96 so as to be swingable around a vertical axis, a screw shaft 105 pivotally supported by the swing plate 104, and a screw shaft 105 attached to the swing plate 104. θ pulse motor 106 that rotates the screw shaft 105
and a nut 10 screwed onto the screw shaft 105.
7 and a connecting plate 108 that connects the nut 107 to the annular plate 98. A microscope stage stand 110 is connected to the rotating stage stand 103 via a support 109, and two microscopes 111 are attached to this microscope stage stand 110.

次に、マウント用フレームアライメント部18
について説明する。
Next, the mounting frame alignment section 18
I will explain about it.

固定ベース24にH型鋼112、支持筒11
3、皿状部材114を介してフレームアライメン
トテーブル115が取り付けられている。フレー
ムアライメントテーブル115の内側部分には、
大径フレームのVノツチを係止して大径フレーム
を位置決めする2つのピン116と、小径フレー
ムのVノツチを係止する状態と係止しない状態と
に切り換え自在なピン117を先端に形成したピ
ストンロツドをもつエアシリンダ118とが設け
られている。フレームアライメントテーブル11
5の外側部分には、2つの切欠き119が内側に
向かつて切り込まれている。そして、フレームア
ライメントテーブル115の下面に保持されたフ
レーム位置決め用エアシリンダ120のピストン
ロツドが押し込みピン支持部材121に連結さ
れ、各切欠き119内に下側から挿入された2つ
のフレーム押し込みピン122が押し込みピン支
持部材121に取り付けられている。115aは
位置決め基準用のマークであり、フレームアライ
メントテーブル115に形成されている。
Fixed base 24, H-shaped steel 112, support tube 11
3. A frame alignment table 115 is attached via a dish-shaped member 114. In the inner part of the frame alignment table 115,
Two pins 116 that lock the V-notch of the large-diameter frame to position the large-diameter frame, and a pin 117 that can be freely switched between locking and not locking the V-notch of the small-diameter frame are formed at the tip. An air cylinder 118 with a piston rod is provided. Frame alignment table 11
Two notches 119 are cut into the outer part of 5 towards the inside. Then, the piston rod of the frame positioning air cylinder 120 held on the lower surface of the frame alignment table 115 is connected to the push pin support member 121, and the two frame push pins 122 inserted from below into each notch 119 are pushed in. It is attached to the pin support member 121. 115a is a mark for positioning reference, which is formed on the frame alignment table 115.

テンシヨン付与円筒78の内側位置には、テン
シヨン付与円筒78とは切り離された状態で、第
1図のフレーム貼り付け機構7に相当する貼付け
ローラ123を保持して昇降と回転とを行う水平
姿勢の昇降回転枠124が配置されている。昇降
回転枠124には、第1図の粘着テープ切断機構
8に相当する円板カツタ125が回転自在に軸支
されている。円板カツタ125は貼付けローラ1
23と同時に同方向に縦軸まわりに回転するとと
もに、貼付けローラ123に対して独立して昇降
するように構成されている。126はYテーブル
80の上面に取り付けられたローラ/カツタ昇降
用エアシリンダ、127はローラ/カツタ回転モ
ータである。
A pasting roller 123, which corresponds to the frame pasting mechanism 7 in FIG. An elevating and rotating frame 124 is arranged. A disc cutter 125, which corresponds to the adhesive tape cutting mechanism 8 of FIG. 1, is rotatably supported on the lift-and-lower rotation frame 124. The disc cutter 125 is the pasting roller 1
It is configured to rotate around the vertical axis in the same direction as 23 and to move up and down independently with respect to the pasting roller 123. 126 is a roller/cutter lifting air cylinder attached to the upper surface of the Y table 80, and 127 is a roller/cutter rotating motor.

次に、この実施例の動作を説明する。 Next, the operation of this embodiment will be explained.

予め、第8図に示すエアシリンダ59を伸長
させておく。これによつて、バネ受け板57が
後退し引張バネ55を介して突片50bを引き
寄せるため、筒軸51ぎ支点50aまわりに回
転し、これに伴つて揺動アーム50が下動し押
付けローラ49が貼付けローラ40に接触す
る。
The air cylinder 59 shown in FIG. 8 is extended in advance. As a result, the spring receiving plate 57 retreats and pulls the protruding piece 50b through the tension spring 55, so that the cylindrical shaft 51 rotates around the fulcrum 50a, and the swinging arm 50 moves downward and the pressing roller 49 contacts the pasting roller 40.

その結果、貼付けローラ40に対して押付け
ローラ49がその自重によつて与える押付け力
(モーメントM1)と、バランスウエイト52お
よび引張バネ55が押付けローラ49に与える
離間力(モーメントM2)とがほぼ拮抗するこ
ととなり、半導体ウエハAが送り込まれてこな
い状態では、押付ローラ49は貼付けローラ4
0に対して軽く接触することになる。
As a result, the pressing force (moment M 1 ) that the pressing roller 49 exerts on the pasting roller 40 due to its own weight and the separating force (moment M 2 ) that the balance weight 52 and the tension spring 55 exert on the pressing roller 49 are reduced. When the semiconductor wafer A is not fed in, the pressing roller 49 is almost equal to the pasting roller 4.
It will lightly touch 0.

ウエハローダ11に、半導体ウエハAを多段
に収納したマガジンをセツトし、ウエハ縦移送
部12を駆動すると、ウエハローダ11から半
導体ウエハAが1つずつ送り出されていく。半
導体ウエハAがウエハ縦移送部12とウエハ横
移送部13との交点にくると、ウエハ縦移送部
12が下降するため、ウエハ縦移送部12上の
半導体ウエハAはウエハ横移送部13へ受け渡
される。ウエハ横移送部13におけるウエハ移
送用モータ22を駆動すると、半導体ウエハA
を載せた移送ベルト20が回動し半導体ウエハ
Aをウエハアライメント部14に送り込む。
When a magazine storing semiconductor wafers A in multiple stages is set in the wafer loader 11 and the wafer vertical transfer section 12 is driven, the semiconductor wafers A are fed out from the wafer loader 11 one by one. When the semiconductor wafer A comes to the intersection of the wafer vertical transfer section 12 and the wafer horizontal transfer section 13, the wafer vertical transfer section 12 descends, so that the semiconductor wafer A on the wafer vertical transfer section 12 is received by the wafer horizontal transfer section 13. passed on. When the wafer transfer motor 22 in the wafer lateral transfer section 13 is driven, the semiconductor wafer A
The transfer belt 20 carrying the semiconductor wafer A rotates and sends the semiconductor wafer A to the wafer alignment section 14.

一方、マウント用フレームローダ17に積層
されているマウント用フレームFが1つずつ図
示しないトラバーサによつてマウント用フレー
ムアライメント部18のフレームアライメント
テーブル115上に移載される。フレーム位置
決め用エアシリンダ120が収縮してフレーム
押し込みピン122がフレームFを内側に移動
させ、そのVノツチを大径フレームか小径フレ
ームかに応じてピン116または117に係止
されるまでフレームFを押し込む。
On the other hand, the mounting frames F stacked on the mounting frame loader 17 are transferred one by one onto the frame alignment table 115 of the mounting frame alignment section 18 by a traverser (not shown). The frame positioning air cylinder 120 contracts and the frame push pin 122 moves the frame F inward until its V-notch is locked with the pin 116 or 117 depending on whether it is a large or small diameter frame. Push it in.

この間にフレームチヤツクテーブル88がフ
レームアライメントテーブル115上に移動し
ている。すなわち、旋回機構99における旋回
用エアモータ100が駆動され、回転軸95が
回転されるため、フレームチヤツクテーブル8
8とマイクロスコープ111とが一体的に旋回
されて、フレームアライメントテーブル115
上に停止する。
During this time, the frame chuck table 88 is moving onto the frame alignment table 115. That is, since the turning air motor 100 in the turning mechanism 99 is driven and the rotating shaft 95 is rotated, the frame chuck table 8
8 and the microscope 111 are rotated together, and the frame alignment table 115
stop on top.

次いで、マイクロスコープ111によつてマ
ーク115aを観察させ、マウント用フレーム
Fとフレームチヤツクテーブル88との相対位
置関係を所定通りに正確なものとするために、
X方向でのずれが生じている場合には、Xテー
ブル駆動パルスモータ82を駆動してXテーブ
ル79をずれ方向とは逆方向にずれ量と同量だ
け移動させてX方向でのずれを解消する。Y方
向でのずれが生じている場合には、Yテーブル
駆動パルスモータ84を駆動してYテーブル8
0をずれ方向とは逆方向にずれ量と同量だけ移
動させてY方向でのずれを解消し、θ方向での
ずれが生じている場合には、θ回動機構102
におけるθパルスモータ106を駆動してずれ
方向とは逆方向にずれ量と同量だけ移動させて
θ方向でのずれを解消する。
Next, the mark 115a is observed using the microscope 111, and in order to make the relative positional relationship between the mounting frame F and the frame chuck table 88 accurate as specified,
If a deviation occurs in the X direction, drive the X table drive pulse motor 82 to move the X table 79 in the opposite direction to the deviation direction by the same amount as the deviation amount to eliminate the deviation in the X direction. do. If a shift occurs in the Y direction, drive the Y table drive pulse motor 84 to move the Y table 8.
0 in the opposite direction to the deviation direction to eliminate the deviation in the Y direction, and if deviation occurs in the θ direction, the θ rotation mechanism 102
The θ pulse motor 106 in is driven to move the θ pulse motor 106 by the same amount as the shift amount in the opposite direction to the shift direction, thereby eliminating the shift in the θ direction.

次いで、昇降機構89におけるフレームチヤ
ツクテーブル昇降モータ90を駆動してフレー
ムチヤツクテーブル88を下降させ、フレーム
アライメントテーブル115上で位置決めされ
たマウント用フレームFの上にフレームチヤツ
クテーブル88を載せる。
Next, the frame chuck table elevating motor 90 in the elevating mechanism 89 is driven to lower the frame chuck table 88, and the frame chuck table 88 is placed on the mounting frame F positioned on the frame alignment table 115.

そして、フレームチヤツクテーブル88に形
成されている真空吸引口に真空吸引をかけてマ
ウント用フレームFをフレームチヤツクテーブ
ル88に吸着保持させる。
Then, a vacuum suction is applied to the vacuum suction port formed in the frame chuck table 88 to hold the mounting frame F on the frame chuck table 88 by suction.

ウエハアライメント部14におけるウエハ到
着検出センサ29が半導体ウエハAの到着を検
出すると、ウエハ移送用モータ22が停止さ
れ、半導体ウエハAはアライメントテーブル2
8の直上において停止する。次いで、昇降用エ
アシリンダ26を伸長してアライメントテーブ
ル28を移送ベルト20aよりも上方に移動さ
せる。その結果、移送ベルト20a上で停止し
ている半導体ウエハAがアライメントテーブル
28上に移載される。次いで、アライメントテ
ーブル28の真空チヤツクを動作させてアライ
メントテーブル28に半導体ウエハAを吸着保
持させる。そして、アライメント用のパルスモ
ータ27の駆動とOF検出センサ30の検出動
作との協働によつてオリエンテーシヨンフラツ
トOFの向きが所定の向きと一致するように制
御する。すなわち、パルスモータ27を反時計
方向に回転させ、OF検出センサ30によりオ
リエンテーシヨンフラツトOFが検出された時
点でパルスモータ27を停止する。次に、パル
スモータ27を時計方向に回転させ、同様に
OF検出センサ30によりオリエンテーシヨン
フラツトOFが検出された時点でパルスモータ
27を停止する。そして、この時計方向での回
転角度θを求めた後、今度は、反時計方向にパ
ルスモータ27をθ/2だけ回転させる。以上
によつて、半導体ウエハAは、オリエンテーシ
ヨンフラツトOFが移送方向Xの前進側に向い
た先行タイプA1となる。また、さらに、パル
スモータ27を180度回転させると、半導体ウ
エハAは、オリエンテーシヨンフラツトOFが
移送方向Xの前進側とは反対側に向いた非先行
(後行)タイプA2となる。いずれの場合も、
オリエンテーシヨンフラツトOFの方向は移送
方向Xに対して直交している。なお、非先行タ
イプA2としては、移送方向Xに対して直交し
ている場合だけでなく、移送方向Xに対して平
行となつているものの他、先行タイプA1以外
のものを含む。
When the wafer arrival detection sensor 29 in the wafer alignment section 14 detects the arrival of the semiconductor wafer A, the wafer transfer motor 22 is stopped, and the semiconductor wafer A is moved to the alignment table 2.
It stops just above 8. Next, the lifting air cylinder 26 is extended to move the alignment table 28 above the transfer belt 20a. As a result, the semiconductor wafer A stopped on the transfer belt 20a is transferred onto the alignment table 28. Next, the vacuum chuck of the alignment table 28 is operated to attract and hold the semiconductor wafer A on the alignment table 28. The direction of the orientation flat OF is controlled to match a predetermined direction by the cooperation of the drive of the pulse motor 27 for alignment and the detection operation of the OF detection sensor 30. That is, the pulse motor 27 is rotated counterclockwise, and the pulse motor 27 is stopped when the orientation flat OF is detected by the OF detection sensor 30. Next, rotate the pulse motor 27 clockwise and do the same.
The pulse motor 27 is stopped when the orientation flat OF is detected by the OF detection sensor 30. After determining this clockwise rotation angle θ, the pulse motor 27 is then rotated counterclockwise by θ/2. As a result of the above, the semiconductor wafer A becomes the advance type A1 in which the orientation flat OF faces forward in the transfer direction X. When the pulse motor 27 is further rotated by 180 degrees, the semiconductor wafer A becomes a non-leading (following) type A2 in which the orientation flat OF faces opposite to the forward side in the transfer direction X. In either case,
The direction of the orientation flat OF is perpendicular to the transport direction X. Note that the non-preceding type A2 includes not only those perpendicular to the transfer direction X, but also those parallel to the transfer direction X, as well as those other than the preceding type A1.

オリエンテーシヨンフラツトOFの方向が決
定されると、ウエハアライメント部14におい
ては半導体ウエハAの送り出しの指令が与えら
れ、ウエハ貼付け部15に対しては半導体ウエ
ハAの受け入れ指令が与えられる。すると、ウ
エハアライメント部14における傾動用エアシ
リンダ25が収縮されて最端部のプーリー21
bが下降するとともに、ウエハ移送用モータ2
2が再度駆動され、半導体ウエハAが貼付けロ
ーラ40に向けて送り出される。一方、ウエハ
貼付け部15におけるセパレータ巻取リール3
3の駆動モータ37、残滓テープ巻取リール3
6の駆動モータ38、パルスモータ46、保護
フイルム巻取リール64の駆動モータ65を駆
動する。
Once the direction of the orientation flat OF is determined, the wafer alignment section 14 is given a command to send out the semiconductor wafer A, and the wafer pasting section 15 is given a command to accept the semiconductor wafer A. Then, the tilting air cylinder 25 in the wafer alignment section 14 is contracted and the pulley 21 at the end
As b descends, the wafer transfer motor 2
2 is driven again, and the semiconductor wafer A is sent out toward the pasting roller 40. On the other hand, the separator take-up reel 3 in the wafer pasting section 15
3 drive motor 37, residue tape take-up reel 3
The drive motor 38 of No. 6, the pulse motor 46, and the drive motor 65 of the protective film take-up reel 64 are driven.

モータ37の駆動に伴うセパレータ巻取リー
ル33の回転によつて、粘着テープ供給リール
32に巻回されている粘着テープBとセパレー
タSとの重なりが分離され、セパレータSはセ
パレータ巻取リール33に巻き取られ、粘着テ
ープBは貼付けローラ40に供給される。貼付
けローラ40はモータ41の回転によつて一定
速度で回転するから、粘着テープBを一定速度
で送り出す。また、パルスモータ46の駆動に
よつて粘着テープBを強制的に移送する。
As the separator take-up reel 33 rotates as the motor 37 is driven, the adhesive tape B wound on the adhesive tape supply reel 32 and the separator S are separated from each other, and the separator S is placed on the separator take-up reel 33. After being wound up, the adhesive tape B is supplied to the application roller 40. Since the pasting roller 40 is rotated at a constant speed by the rotation of the motor 41, the adhesive tape B is sent out at a constant speed. Further, the adhesive tape B is forcibly transferred by driving the pulse motor 46.

半導体ウエハAは移送ベルト20aから一旦
貼付けローラ40上に載せられ、その先端部分
が粘着テープBに接着されるので、貼付けロー
ラ40と押付けローラ49との間に送り込まれ
る。すると、半導体ウエハAの先端は貼付けロ
ーラ40によつて送り出される粘着テープBに
強力に接着される。
The semiconductor wafer A is once placed on the pasting roller 40 from the transfer belt 20a, and its leading end is adhered to the adhesive tape B, so that it is fed between the pasting roller 40 and the pressing roller 49. Then, the leading end of the semiconductor wafer A is strongly adhered to the adhesive tape B fed out by the pasting roller 40.

その直後から、半導体ウエハAは、貼付けロ
ーラ40によつて送られる粘着テープBによつ
て引き込まれ、貼付けローラ40上の粘着テー
プBと押付けローラ49上の保護フイルムCと
の間に進入していく。この半導体ウエハAの進
入によつて押付けローラ49が半導体ウエハA
の厚み分だけ持ち上げられる。押付けローラ4
9の自重による押付け力とバランスウエイト5
2および引張バネ55による離間力とがほぼ拮
抗しているので、その持ち上げは容易に行われ
る。したがつて、貼付けローラ40と押付けロ
ーラ49との間への半導体ウエハAの進入も容
易に行われる。
Immediately after that, the semiconductor wafer A is drawn in by the adhesive tape B sent by the pasting roller 40 and enters between the adhesive tape B on the pasting roller 40 and the protective film C on the pressing roller 49. go. This approach of the semiconductor wafer A causes the pressing roller 49 to press the semiconductor wafer A.
can be lifted by the thickness of Pressing roller 4
9 Pressing force due to own weight and balance weight 5
2 and the separation force by the tension spring 55 are almost equal to each other, so that lifting is easily performed. Therefore, the semiconductor wafer A can easily enter between the pasting roller 40 and the pressing roller 49.

押付けローラ49が半導体ウエハAの厚み分
だけ持ち上げられたことの反作用として押付け
ローラ49は保護フイルムCを介して半導体ウ
エハAを、貼付けローラ40に支持されている
粘着テープBに対して押し付ける。このような
押し付け状態で、半導体ウエハAが貼付けロー
ラ40と押付けローラ49との間を通過してい
く。そして、半導体ウエハAの裏面(下面)は
貼付けローラ40の回転に伴つて送られる粘着
テープBに貼付けられるとともに、半導体ウエ
ハAの表面(上面)は押付けローラ49によつ
て案内される保護フイルムCによつて保護され
る。
As a reaction to the pressing roller 49 being lifted by the thickness of the semiconductor wafer A, the pressing roller 49 presses the semiconductor wafer A through the protective film C against the adhesive tape B supported by the pasting roller 40. In this pressed state, the semiconductor wafer A passes between the pasting roller 40 and the pressing roller 49. The back surface (lower surface) of the semiconductor wafer A is pasted on the adhesive tape B that is fed as the pasting roller 40 rotates, and the front surface (top surface) of the semiconductor wafer A is pasted on the protective film C that is guided by the pressing roller 49. protected by

また、従来例のようにフレームFの同時貼付
けを行わないので、押付けローラ49が半導体
ウエハAを粘着テープBに対して押し付ける力
は一定に保たれることとなり、半導体ウエハA
と粘着テープBとの間への空気の入り込みが回
避される。
Further, since the frames F are not attached simultaneously as in the conventional example, the force with which the pressing roller 49 presses the semiconductor wafer A against the adhesive tape B is kept constant, and the semiconductor wafer A
This prevents air from entering between the tape and the adhesive tape B.

半導体ウエハAが粘着テープBに貼付けら
れ、半導体ウエハAの全体が貼付けローラ40
と押付けローラ49との間から出てマウント用
フレーム貼付け箇所P1に到達すると、モータ
41,46,37,38,65の駆動が停止さ
れる。
Semiconductor wafer A is pasted on adhesive tape B, and the entire semiconductor wafer A is pasted on the pasting roller 40.
When it comes out from between the mount frame and the pressing roller 49 and reaches the mounting frame pasting location P1, the driving of the motors 41, 46, 37, 38, and 65 is stopped.

この間、粘着テープBは連続的に送られて、
貼付けローラ40の箇所から剥離ローラ43、
残滓テープガイドローラ44、移送用ローラ4
7、対接ローラ48、残滓テープガイドローラ
35を経て残滓テープ巻取リール36に巻き取
られる。
During this time, adhesive tape B is continuously fed,
A peeling roller 43 from the pasting roller 40,
Residue tape guide roller 44, transfer roller 4
7. The residue tape is wound onto a take-up reel 36 via a contact roller 48 and a residue tape guide roller 35.

一方、保護フイルムCは連続的に送られて、
押付けローラ49の箇所から保護フイルムガイ
ドローラ62,63を経て保護フイルム巻取リ
ール64に巻き取られる。
On the other hand, the protective film C is continuously fed,
The protective film is wound from the pressing roller 49 onto the protective film take-up reel 64 via the protective film guide rollers 62 and 63.

一方、ウエハ貼付け部15に対する受け入れ
指令によつて、ウエハ前端検出機構66におけ
る前端検出用エアモータ68を駆動して揺動ア
ーム67を回転させて投光器70を受光器73
の直上位置で対向させる。
On the other hand, in response to an acceptance command to the wafer pasting section 15, the front edge detection air motor 68 in the wafer front edge detection mechanism 66 is driven to rotate the swing arm 67, so that the emitter 70 is connected to the light receiver 73.
Directly above and facing each other.

半導体ウエハAを貼付けた粘着テープBが移
送用ローラ47の回転によつてウエハ貼付け部
15に送られてくると、投光器70と受光器7
3とで構成されたウエハ前端検出機構66が半
導体ウエハAの前端aを検出し、移送用ローラ
47のパルスモータ46、その他のモータ3
7,38,41,65を停止する。
When the adhesive tape B to which the semiconductor wafer A is attached is sent to the wafer attaching section 15 by the rotation of the transfer roller 47, the light emitter 70 and the light receiver 7
A wafer front end detection mechanism 66 consisting of
7, 38, 41, 65 are stopped.

次いで、第2図で説明したのと同様の制御に
よつて、先行タイプA1か非先行タイプA2か
の判別を行い、それに対応させて補正移送量
ΔXF,ΔXRを算出し、その補正移送量ΔXF
ΔXRだけ粘着テープBひいては半導体ウエハA
を移送方向Xにさらに送り出すような移送用ロ
ーラ47のパルスモータ46を駆動する。
Next, by the same control as explained in FIG. 2, it is determined whether it is the preceding type A1 or the non-preceding type A2, and correspondingly the corrected transfer amounts ΔX F and ΔX R are calculated, and the corrected transfer amounts ΔX F and ΔX R are calculated accordingly. Quantity ΔX F ,
ΔX R only adhesive tape B and semiconductor wafer A
The pulse motor 46 of the transfer roller 47 is driven to further send out the image in the transfer direction X.

以下、このの動作を第11図に示すフロー
チヤートに基づいて説明する。
Hereinafter, this operation will be explained based on the flowchart shown in FIG.

半導体ウエハAの受け入れ指令信号によつて
ステツプS1からの動作がスタートする。ステ
ツプS1でパルスモータ46を駆動してマウン
ト用フレーム貼付け箇所P1に対する半導体ウ
エハAの送り込みを開始する。ステツプS2だ
ウエハ前端検出機構66における前端検出用エ
アモータ68を駆動し揺動アーム69を揺動さ
せて投光器70を受光器73に対向する検出姿
勢に切り換える。ステツプS3で半導体ウエハ
Aの前端aが受光器73によつて検出されるの
を持ち、検出されるとステツプS4に進んでパ
ルスモータ46を停止し、半導体ウエハAの送
り込みを一旦停止する。次いで、ステツプS5
で半導体ウエハAがそのオリエンテーシヨンフ
ラツトOFについて先行タイプA1か非先行タ
イプA2かを判断する。先行タイプA1のとき
は、ステツプS6に進み、カウンタレジスタR
に補正移送量ΔXFに相当するパルス数nFをセツ
トする。次いで、ステツプS7で再びパルスモ
ータ46を駆動して半導体ウエハAを前進させ
る。ステツプS8でカウンタレジスタRから1
パルスだけカウントダウンし、ステツプS9で
カウンタレジスタRの内容が“0”になつたか
どうか判断する。“0”に達していない間はス
テツプS7にリターンして半導体ウエハAの前
進を継続する。カウンタレジスタRの内容が
“0”になつたとき、ステツプS10に進んで
パルスモータ46を停止する。これによつて、
先行タイプA1の半導体ウエハAの中心OA1
所定の基準位置Q2と一致した状態で停止され
る。ステツプS11で前端検出用エアモータ6
8を逆転して投光器70を有する揺動アーム6
9を原点位置に復帰させる。
The operation starts from step S1 in response to a command signal for accepting the semiconductor wafer A. In step S1, the pulse motor 46 is driven to start feeding the semiconductor wafer A to the mounting frame attachment location P1. In step S2, the front end detection air motor 68 in the wafer front end detection mechanism 66 is driven to swing the swinging arm 69 to switch the light projector 70 to a detection posture facing the light receiver 73. In step S3, the front end a of the semiconductor wafer A is detected by the light receiver 73, and when detected, the process proceeds to step S4, where the pulse motor 46 is stopped and the feeding of the semiconductor wafer A is temporarily stopped. Next, step S5
Then, it is determined whether the semiconductor wafer A is a leading type A1 or a non-leading type A2 with respect to its orientation flat OF. If it is the preceding type A1, the process advances to step S6 and the counter register R is
The number of pulses n F corresponding to the corrected transfer amount ΔX F is set. Next, in step S7, the pulse motor 46 is driven again to advance the semiconductor wafer A. 1 from counter register R in step S8
The pulse count is counted down, and it is determined in step S9 whether the contents of the counter register R have reached "0". While the value does not reach "0", the process returns to step S7 and the semiconductor wafer A continues to advance. When the contents of the counter register R reach "0", the process advances to step S10 and the pulse motor 46 is stopped. By this,
The semiconductor wafer A of the preceding type A1 is stopped with its center O A1 aligned with a predetermined reference position Q2. In step S11, the front end detection air motor 6
Swinging arm 6 having a floodlight 70 by reversing 8
9 to return to the home position.

ステツプS5でオリエンテーシヨンフラツト
OFが非先行タイプA2であると判断したとき
は、ステツプS12に進んでカウンタレジスタ
Rに補正移送量ΔXRに相当するパルス数nRをセ
ツトする。続く動作はステツプS7〜S11で
前回と同様である。その結果、非先行タイプA
2の半導体ウエハAの中心OA2も所定の基準位
置Q2と一致した状態で停止される。
Orientation flat at step S5
When it is determined that OF is of the non-preceding type A2, the process proceeds to step S12, where the number of pulses nR corresponding to the corrected transfer amount ΔXR is set in the counter register R. The subsequent operations are the same as the previous one at steps S7 to S11. As a result, non-preceding type A
The center O A2 of the second semiconductor wafer A is also stopped at a predetermined reference position Q2.

なお、揺動アーム69を原点位置に復帰させ
て退避姿勢とするのは、マウント用フレームF
を吸着保持しているフレームチヤツクテーブル
88の下降の妨げとならないようにするためで
ある。
Note that it is the mounting frame F that returns the swinging arm 69 to its original position and assumes the retracted position.
This is to prevent the lowering of the frame chuck table 88, which holds the frame chuck by suction, from becoming obstructed.

マウント用フレーム貼付け箇所P1における
所定の基準位置Q2に対して半導体ウエハAの
中心OAが一致した後、クランプ用エアシリン
ダ75を収縮させると、上下可動枠76が下動
し、これに伴つて、上下可動枠76における第
1のクランプ部材と第2固定機枠74における
第2のクランプ部材とによつて粘着テープBを
強力にクランプする。
After the center O A of the semiconductor wafer A coincides with the predetermined reference position Q2 at the mounting frame attachment point P1, when the clamp air cylinder 75 is contracted, the vertically movable frame 76 moves downward, and accordingly , the adhesive tape B is strongly clamped by the first clamp member in the vertically movable frame 76 and the second clamp member in the second fixed machine frame 74.

テンシヨン用エアシリンダ77を伸長させて
テンシヨン付与円筒78を上昇させると、粘着
テープBのクランプ部分の内側直近の円周領域
において、粘着テープBをそのテープ面に垂直
の方向(上方)に向けて突き出し、その粘着テ
ープBにテンシヨンを与える。
When the tensioning air cylinder 77 is extended and the tensioning cylinder 78 is raised, the adhesive tape B is directed in a direction perpendicular to the tape surface (upward) in the circumferential area immediately inside the clamp portion of the adhesive tape B. Push it out and apply tension to the adhesive tape B.

この間、フレームチヤツクテーブル昇降モー
タ90を逆方向に駆動してフレームチヤツクテ
ーブル88を上昇させる。そして、旋回機構9
9における旋回用エアモータ100が逆方向に
駆動され、回転軸95が逆転されるため、フレ
ームチヤツクテーブル88とマイクロスコープ
111とが一体的に旋回されて、マウント用フ
レーム貼付け箇所P1のほぼ上方位置に吸着さ
れたマウント用フレームFが位置する。
During this time, the frame chuck table lifting motor 90 is driven in the opposite direction to raise the frame chuck table 88. And the turning mechanism 9
Since the turning air motor 100 at 9 is driven in the opposite direction and the rotating shaft 95 is reversed, the frame chuck table 88 and the microscope 111 are turned integrally to a position almost above the mounting frame attachment point P1. The mounting frame F that has been adsorbed is located.

次いで、マイクロスコープ111によつて半
導体ウエハAのICパターンを観察させ、粘着
テープB上の半導体ウエハAのICパターンと
フレームチヤツクテーブル88との相対位置関
係を所定通りに正確なものとするために、X方
向でのずれ、Y方向でのずれ、あるいはθ方向
でのずれを解消するように前述と同様にしてX
テーブル駆動パルスモータ82、Yテーブル駆
動パルスモータ84、あるいはθパルスモータ
10を制御する。
Next, the IC pattern of the semiconductor wafer A is observed using the microscope 111, and the relative positional relationship between the IC pattern of the semiconductor wafer A on the adhesive tape B and the frame chuck table 88 is made accurate as specified. In order to eliminate the deviation in the X direction, the Y direction, or the θ direction,
The table drive pulse motor 82, the Y table drive pulse motor 84, or the θ pulse motor 10 is controlled.

フレームチヤツクテーブル昇降モータ99を
駆動してフレームチヤツクテーブル88を下降
させ、吸着保持されているマウント用フレーム
Fの下面が、テンシヨン付与円筒78によつて
テンシヨンを与えられた粘着テープB上の半導
体ウエハAの上面からわずかな寸法(例えば、
0.5mm程度)だけ上方に離れた位置でフレーム
チヤツクテーブル88の下降を停止する。
The frame chuck table elevating motor 99 is driven to lower the frame chuck table 88, and the lower surface of the mounting frame F, which is being held by suction, is placed on the adhesive tape B which is tensioned by the tensioning cylinder 78. A slight dimension from the top surface of semiconductor wafer A (for example,
The lowering of the frame chuck table 88 is stopped at a position separated upward by about 0.5 mm).

ローラ/カツタ昇降用エアシリンダ126を
駆動すると、昇降回転枠124を介して貼付け
ローラ123が粘着テープBの下面に当接し、
フレームチヤツクテーブル88に吸着保持され
ているマウント用フレームFの下面に粘着テー
プBを押し付ける。なお、円板カツタ125は
粘着テープBの下面から離れている。
When the roller/cutter lifting air cylinder 126 is driven, the pasting roller 123 comes into contact with the lower surface of the adhesive tape B via the lifting rotation frame 124.
Adhesive tape B is pressed against the lower surface of the mounting frame F, which is held by suction on the frame chuck table 88. Note that the disc cutter 125 is separated from the lower surface of the adhesive tape B.

次いで、ローラ/カツタ回転モータ127を
駆動して、マウント用フレームFに粘着テープ
Bを押圧している貼付けローラ123を回転す
る。これによつて、第1クランプ部材と第2ク
ランプ部材とによつてクランプされ、テンシヨ
ン付与円筒78によつて強力かつ全周にわたつ
て均一なテンシヨンが与えられた粘着テープB
が貼付けローラ123によつてしごかれながら
マウント用フレームFに貼付けられていく。カ
ツタ昇降シリンダ128が駆動されて円板カツ
タ125が、貼付けローラ123によつてすで
にマウント用フレームFに貼付けられた粘着テ
ープBに当接し、フレームチヤツクテーブル8
8に吸着保持されているマウント用フレームF
をカツタの下敷きとする状態で、貼付け済みの
粘着テープBの部分を切断していく。
Next, the roller/cutter rotation motor 127 is driven to rotate the pasting roller 123 pressing the adhesive tape B against the mounting frame F. As a result, the adhesive tape B is clamped by the first clamp member and the second clamp member, and is given a strong and uniform tension over the entire circumference by the tension applying cylinder 78.
is pasted onto the mounting frame F while being squeezed by the pasting roller 123. The cutter lifting cylinder 128 is driven, and the disc cutter 125 comes into contact with the adhesive tape B already pasted on the mounting frame F by the pasting roller 123, and the frame chuck table 8
Mounting frame F held by suction on 8
Cut the adhesive tape B that has already been applied while placing it under the cutter.

昇降回転枠124の2回転完了に伴うロー
ラ/カツタ回転モータ127の停止とともに、
ローラ/カツタ昇降用エアシリンダ126が収
縮されると同時にカツタ昇降シリンダ128も
収縮される。これによつて、貼付けローラ12
3がマウント用フレームFから離間するととも
に円板カツタ125がマウント用フレームFか
ら離間する。
Along with the stop of the roller/cutter rotation motor 127 upon completion of two rotations of the vertical rotation frame 124,
At the same time as the roller/cutter lifting air cylinder 126 is contracted, the cutter lifting cylinder 128 is also contracted. As a result, the pasting roller 12
3 separates from the mounting frame F, and the disc cutter 125 separates from the mounting frame F.

テンシヨン用エアシリンダ77が収縮し、テ
ンシヨン付与円筒78が下降する。そして、ク
ランプ用エアシリンダ75が収縮し、第1のク
ランプ部材が上昇して第2のクランプ部材から
離間する。
The tensioning air cylinder 77 contracts, and the tensioning cylinder 78 descends. Then, the clamping air cylinder 75 contracts, and the first clamping member rises and separates from the second clamping member.

次いで、再び、各モータ41,46,37,
38,65が駆動され、半導体ウエハAおよび
フレームFを貼付けた粘着テープBが残滓テー
プとともに送り出され、残滓テープが剥離ロー
ラ43から残滓テープガイドローラ44へとS
の字状に大きく曲がつて返曲されるため、残滓
テーブルがフレームFから強制的に剥離される
(第1図の粘着テープ剥離機構9の動作に相当
する)。これによつて、マウントフレームMF
が作られる。
Next, each motor 41, 46, 37,
38 and 65 are driven, and the adhesive tape B to which the semiconductor wafer A and frame F are attached is sent out together with the residual tape, and the residual tape is transferred from the peeling roller 43 to the residual tape guide roller S
Since it is bent back in a large square shape, the residue table is forcibly peeled off from the frame F (corresponding to the operation of the adhesive tape peeling mechanism 9 in FIG. 1). This allows the mount frame MF
is made.

なお、剥離ローラ44から離れつつあるマウ
ントフレームMFは、下手側のマウントフレー
ム送出し部19のベルト129によつて受け止
められ、残滓テープにより下方へ引き込まれる
のを阻止される。
The mount frame MF, which is separating from the peeling roller 44, is received by the belt 129 of the mount frame delivery section 19 on the lower side, and is prevented from being drawn downward by the residual tape.

なお、先に述べたとおり、補正移送量ΔXF
ΔXRとしては、マウント用フレーム貼付け箇所
P1に向けて粘着テープBを移送してきた方向
Xと同一方向に送るものであつてもよいし、そ
れとは逆方向に送るものであつてもよい。さら
に、補正移送量ΔXF,ΔXRのうち、いずれか一
方が“0”であつてもよい。また、上記実施例
では、半導体ウエハの前端検出センサである受
光器73が動作したときに、半導体ウエハAの
移送を一旦停止させたが、この一旦停止をなく
し、連続的に移送してもよい。
As mentioned earlier, the corrected transfer amount ΔX F ,
ΔX R may be one that sends the adhesive tape B in the same direction as the direction X in which it was transferred toward the mounting frame attachment location P1, or may send it in the opposite direction. Furthermore, either one of the corrected transfer amounts ΔX F and ΔX R may be “0”. Further, in the above embodiment, the transfer of the semiconductor wafer A is temporarily stopped when the light receiver 73, which is a sensor for detecting the front end of the semiconductor wafer, is operated, but this temporary stop may be eliminated and the transfer may be continued. .

<発明の効果> 本発明によれば、次の効果が発揮される。<Effects of the invention> According to the present invention, the following effects are achieved.

すなわち、本発明に係る半導体ウエハのマウン
ト装置は、オリエンテーシヨンフラツトが指定の
方向になるように位置合わせされた半導体ウエハ
を、上下一対のローラで構成されたウエハ貼り付
け機構の間を通過させることによつて半導体ウエ
ハを帯状粘着テープに貼り付け、この状態で半導
体ウエハをフレーム貼り付け個所の所定位置にま
で移送し、一方、予め位置決めされたマウント用
フレームをフレーム貼り付け個所にある半導体ウ
エハに近接状態に保持し、マウント用フレームに
対向している粘着テープ部分を回転ローラで押し
上げつつ、この回転ローラを旋回させることによ
つて、マウント用フレームを粘着テープに貼り付
けている。このように、半導体ウエハとマウント
用フレームを個別に粘着テープに貼り付けている
ので、半導体ウエハとマウント用フレームとの厚
みが異なつていても、従来装置のように半導体ウ
エハと粘着テープとの間や、マウント用フレーム
と粘着テープとの間に空気溜まりが生じるという
不都合を招くことがなく、後のスクライブ工程に
おいて、チツプの離脱がなく、また、スクライブ
深さを均一にすることができるなど、従来装置で
は得られない顕著な効果を奏する。
That is, the semiconductor wafer mounting device according to the present invention passes a semiconductor wafer aligned so that the orientation flat is in a specified direction between a wafer sticking mechanism composed of a pair of upper and lower rollers. The semiconductor wafer is affixed to the strip-shaped adhesive tape by affixing the semiconductor wafer to the strip-shaped adhesive tape, and in this state, the semiconductor wafer is transferred to a predetermined position at the frame affixing point, while the mounting frame, which has been positioned in advance, is attached to the semiconductor wafer at the frame affixing point. The mounting frame is attached to the adhesive tape by holding it close to the wafer and pushing up the portion of the adhesive tape facing the mounting frame with a rotating roller and rotating the rotating roller. In this way, since the semiconductor wafer and the mounting frame are individually attached to the adhesive tape, even if the thickness of the semiconductor wafer and the mounting frame are different, the semiconductor wafer and the adhesive tape can be attached like in conventional equipment. This eliminates the inconvenience of air pockets between the mounting frame and the adhesive tape, prevents chips from falling off during the subsequent scribing process, and allows for uniform scribing depth. This provides remarkable effects that cannot be obtained with conventional devices.

しかも、本発明に係る半導体ウエハのマウント
装置によれば、帯状粘着テープに貼り付けられた
状態で移送されてくる半導体ウエハの前端を検出
し、その位置を基準として、半導体ウエハのオリ
エンテーシヨンフラツトの指定方向に応じて、粘
着テープの移送量を制御しているので、オリエン
テーシヨンフラツトがどのような位置に指定され
た半導体ウエハであつても、各半導体ウエハの中
心をフレーム貼り付け個所の所定位置に揃えるこ
とができる。その結果、前記フレーム貼り付け個
所に保持されるマウント用フレームと、粘着テー
プに貼り付けられた半導体ウエハとを常に一定の
位置関係になるように貼り付けることができるの
で、この種のマウント装置の汎用性を高めること
ができる。
Moreover, according to the semiconductor wafer mounting device of the present invention, the front end of the semiconductor wafer transferred while attached to the strip-shaped adhesive tape is detected, and the orientation flag of the semiconductor wafer is adjusted based on that position. The transfer amount of the adhesive tape is controlled according to the specified direction of the orientation flat, so no matter what position the semiconductor wafer is placed on the orientation flat, the center of each semiconductor wafer can be attached to the frame. It can be aligned at a predetermined position. As a result, the mounting frame held at the frame attachment point and the semiconductor wafer attached to the adhesive tape can be attached so that they always have a constant positional relationship, so this type of mounting device Versatility can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の構成の一例を示す概略図、第
2図A,Bはその作用の説明図である。第3図な
いし第11図は本発明の半導体ウエハのマウント
装置の一実施例に係り、第3図は全体の概略的な
平面図、第4図はその正面図、第5図はウエハ横
移送部およびウエハアライメント部を示す平面
図、第6図はその正面図、第7図はウエハ貼付け
部の正面図、第8図はその背面図、第9図はフレ
ーム貼付け部の正面図、第10図はその平面図、
第11図は動作説明に供するフローチヤートであ
る。また、第12図は従来の半導体ウエハのマウ
ント装置の概略構成を示した斜視図、第13図は
第12図示の従来装置におけるウエハ位置合わせ
部の概略構成を示した斜視図である。 A……半導体ウエハ、A1……先行タイプの半
導体ウエハ、A2……非先行タイプの半導体ウエ
ハ、a……半導体ウエハの前端、B……粘着テー
プ、F……マウント用フレーム、OF……オリエ
ンテーシヨンフラツト、MF……マウントフレー
ム、X……移送方向、1……ウエハアライメント
機構、2……粘着テープ移送機構、3……ウエハ
貼り付け機構、4……フレーム移送機構、5……
ウエハ前端検出センサ、6……粘着テープ移送機
構制御手段、7……フレーム貼り付け機構、8…
…粘着テープ切断機構、9……粘着テープ剥離機
構。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the present invention, and FIGS. 2A and 2B are explanatory diagrams of its operation. 3 to 11 relate to an embodiment of the semiconductor wafer mounting device of the present invention, in which FIG. 3 is a schematic plan view of the whole, FIG. 4 is a front view thereof, and FIG. 5 is a wafer lateral transfer. 6 is a front view thereof, FIG. 7 is a front view of the wafer attachment section, FIG. 8 is a rear view thereof, FIG. 9 is a front view of the frame attachment section, and FIG. The figure is the plan view,
FIG. 11 is a flowchart for explaining the operation. Further, FIG. 12 is a perspective view showing a schematic structure of a conventional semiconductor wafer mounting device, and FIG. 13 is a perspective view showing a schematic structure of a wafer positioning section in the conventional device shown in FIG. A...Semiconductor wafer, A1...Advanced type semiconductor wafer, A2...Non-advanced type semiconductor wafer, a...Front end of semiconductor wafer, B...Adhesive tape, F...Mounting frame, OF...Orient Station flat, MF...Mount frame, X...Transfer direction, 1...Wafer alignment mechanism, 2...Adhesive tape transfer mechanism, 3...Wafer pasting mechanism, 4...Frame transfer mechanism, 5...
Wafer front edge detection sensor, 6...Adhesive tape transfer mechanism control means, 7...Frame pasting mechanism, 8...
...Adhesive tape cutting mechanism, 9...Adhesive tape peeling mechanism.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ウエハローダから送り出された半導体ウエハ
を、オリエンテーシヨンフラツトの方向指定情報
によつて指定された方向に位置合わせするウエハ
アライメント機構と、 帯状の粘着テープを移送する粘着テープ移送機
構と、 前記粘着テープを介して上下に当接状態に配設
された一対のローラからなり、前記ウエハアライ
メント機構から払い出された半導体ウエハを、前
記一対のローラ間を通過させることによつて、半
導体ウエハの裏面を帯状粘着テープに貼り付ける
ウエハ貼り付け機構と、 前記ウエハ貼り付け機構から帯状粘着テープに
貼り付けられた状態で移送されてくる半導体ウエ
ハの前端を検出するウエハ前端検出センサと、 前記ウエハ前端検出センサで検出された半導体
ウエハの位置を基準として、前記オリエンテーシ
ヨンフラツトの方向指定情報に応じた距離だけ帯
状粘着テープを移送させることにより、半導体ウ
エハの中心がフレーム貼り付け個所の所定位置で
停止するように前記粘着テープ移送機構を制御す
る粘着テープ移送機構制御手段と、 予め位置決めされた環状のマウント用フレーム
を保持して前記フレーム貼り付け個所にまで移送
し、前記フレーム貼り付け個所で粘着テープに貼
り付けられた状態で停止している半導体ウエハに
近接した上方位置でマウント用フレームを保持す
るフレーム移送機構と、 前記フレーム貼り付け個所において、マウント
用フレームに近接状態で対向している粘着テープ
部分を、回転ローラで押し上げつつ、前記回転ロ
ーラを旋回させることによつて、マウント用フレ
ームを粘着テープに貼り付けるフレーム貼り付け
機構と、 マウント用フレームに貼り付けた粘着テープを
マウント用フレームの周縁よりも内側で円形状に
切断する粘着テープ切断機構と、 前記粘着テープの切断の後、残滓テープをマウ
ント用フレームから剥離する粘着テープ剥離機構
と、 を備えたことを特徴とする半導体ウエハのマウン
ト装置。
[Claims] 1. A wafer alignment mechanism that aligns a semiconductor wafer sent out from a wafer loader in a direction specified by orientation flat direction designation information, and an adhesive tape that transports a strip-shaped adhesive tape. It consists of a transfer mechanism and a pair of rollers arranged vertically in contact with each other via the adhesive tape, and the semiconductor wafer discharged from the wafer alignment mechanism is passed between the pair of rollers. a wafer sticking mechanism that sticks the back side of a semiconductor wafer to a band-shaped adhesive tape; and a wafer leading edge detection sensor that detects the front end of the semiconductor wafer transferred from the wafer sticking mechanism while being stuck to the band-shaped adhesive tape. The center of the semiconductor wafer is aligned with the frame by moving the strip-shaped adhesive tape a distance according to the direction designation information of the orientation flat based on the position of the semiconductor wafer detected by the wafer leading edge detection sensor. Adhesive tape transport mechanism control means for controlling the adhesive tape transport mechanism so as to stop at a predetermined position of the attachment point; holding a previously positioned annular mounting frame and transporting it to the frame attachment point; a frame transfer mechanism that holds a mounting frame in an upper position close to a semiconductor wafer stopped and stuck to an adhesive tape at a frame attachment point; and a frame transfer mechanism in a position close to the mounting frame at the frame attachment point. a frame pasting mechanism for pasting a mounting frame onto the adhesive tape by rotating the rotating roller while pushing up opposing parts of the adhesive tape with a rotating roller; An adhesive tape cutting mechanism that cuts the tape into a circular shape inside the periphery of the mounting frame; and an adhesive tape peeling mechanism that peels off the residual tape from the mounting frame after cutting the adhesive tape. Features of semiconductor wafer mounting equipment.
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